JP4627625B2 - Method for producing N-acetylcytidines - Google Patents

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Description

本発明はN−アセチルシチジン類の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing N-acetylcytidines.

N−アセチルシチジン類はDNAオリゴマーを合成する際の合成中間体として用いられ、遺伝子研究用途でのDNAプライマ−やDNAプローブ、またはアンチセンスに代表されるDNA医薬での需要が期待されている.そのため、実用的な合成方法の開発が求められている。   N-acetylcytidines are used as synthesis intermediates in the synthesis of DNA oligomers, and demand is expected for DNA primers and DNA probes for gene research, or DNA drugs represented by antisense. Therefore, development of a practical synthesis method is demanded.

N−アセチルシチジン類のひとつであるN4−アセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジンはオリゴヌクレオチド合成の中間体として用いられ、2’−デオキシシチジンをアセチル化した後に5’位をトリチル化する方法で合成されている(非特許文献1および非特許文献2)。   N4-acetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxycytidine, which is one of N-acetylcytidines, is used as an intermediate for oligonucleotide synthesis. It has been synthesized by a method of tritylating the 5 ′ position after acetylation (Non-patent Document 1 and Non-patent Document 2).

シチジン類のN4位は通常のアミノ基と異なり求核性に乏しいため、水酸基へのアセチル化と競合して反応が起こる。副成物を低減するためには水酸基に対してN4位へのアセチル化を選択的に行う必要があった。従来の方法ではN4位と水酸基との間の選択性の制御は困難だったため、N4位と水酸基の全てをアセチル化した後で酵素を用いて水酸基上のアセチル基のみを選択的に脱アセチル化する方法や、マイクロ波を用いて選択的にN4位にアセチル化する方法が開発された(非特許文献3および非特許文献4)。   Since the N4 position of cytidines is poor in nucleophilicity unlike a normal amino group, the reaction occurs in competition with acetylation to a hydroxyl group. In order to reduce by-products, it was necessary to selectively acetylate the hydroxyl group to the N4 position. Since it was difficult to control the selectivity between the N4 position and the hydroxyl group by the conventional method, only the acetyl group on the hydroxyl group was selectively deacetylated using an enzyme after acetylating all of the N4 position and the hydroxyl group. And a method of selectively acetylating to the N4 position using a microwave have been developed (Non-patent Documents 3 and 4).

また、過剰量の無水酢酸を用いてアルコール中で加熱する方法が報告されている(非特許文献5)。加熱時間を1時間に短縮することで収率が安定したが、薄層クロマトグラフィーで分析した結果、変換率は90%程度であったことが報告されている。同様に無水酢酸を用いてDMF中で反応を行う方法が報告されており、DMFを濃縮した後にジエチルエーテルに添加して晶析している(非特許文献6)。
Tetrahedron Lett.1994,35,p4311;1996,37,p8691. Tetrahedron Lett.1996,37,p8691. Biosci.Biotechnol.Biochem.2000,64,p363. Tetrahedron Lett.1997,38,p7253. Tetrahedron,1975,31,p2423. Nucleosides&Nucleotides,1989,8,p179.
Moreover, the method of heating in alcohol using excess acetic anhydride has been reported (nonpatent literature 5). Although the yield was stabilized by shortening the heating time to 1 hour, it was reported that the conversion rate was about 90% as a result of analysis by thin layer chromatography. Similarly, a method of carrying out a reaction in DMF using acetic anhydride has been reported, and DMF is concentrated and then added to diethyl ether for crystallization (Non-patent Document 6).
Tetrahedron Lett. 1994, 35, p4311; 1996, 37, p8691. Tetrahedron Lett. 1996, 37, p8691. Biosci. Biotechnol. Biochem. 2000, 64, p363. Tetrahedron Lett. 1997, 38, p7253. Tetrahedron, 1975, 31, p2423. Nucleosides & Nucleotides, 1989, 8, p179.

しかしながら、非特許文献3に記載された方法では予め全ての水酸基やアミノ基をアセチル化しておく必要があり、工程数が長い。非特許文献4に記載された方法ではマイクロ波を発する大型の装置が必要である。また、非特許文献5に記載の方法では、過剰量の無水酢酸が必要となるため、残留する無水酢酸や酢酸といった高沸点試薬を濃縮除去する必要がある。さらに、また、非特許文献6に記載の方法では、N4位への選択性が低いために収率が低下する問題がある(本明細書中の比較例1および2を参照。)。こういった従来の問題点を鑑み、本発明は、シチジン類からN4−アセチルシチジン類を高収率かつ高い選択性で製造する方法を提供することを目的とする。   However, in the method described in Non-Patent Document 3, it is necessary to acetylate all hydroxyl groups and amino groups in advance, and the number of steps is long. The method described in Non-Patent Document 4 requires a large apparatus that emits microwaves. Further, in the method described in Non-Patent Document 5, an excessive amount of acetic anhydride is required. Therefore, it is necessary to concentrate and remove the remaining high boiling point reagents such as acetic anhydride and acetic acid. Furthermore, in the method described in Non-Patent Document 6, there is a problem that the yield decreases due to low selectivity to the N4 position (see Comparative Examples 1 and 2 in the present specification). In view of these conventional problems, an object of the present invention is to provide a method for producing N4-acetylcytidines from cytidines with high yield and high selectivity.

本発明者らは上記課題について鋭意検討した結果、シチジン類と無水酢酸を酸の存在下で反応させることにより、N4位に選択的にアセチル化できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、一般式(1)(化1)
As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that the acetylation can be selectively carried out at the N4 position by reacting cytidines with acetic anhydride in the presence of an acid, thereby completing the present invention.
That is, the present invention relates to the general formula (1)

(式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、水酸基または保護されたヒドロキシル基を表す。)で表される化合物(A)と無水酢酸(B)を、ジクロロ酢酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩、前記一般式(1)で表される化合物の塩酸塩、p−トルエンスルホン酸、及びメタンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも1種の(C)の存在下で反応させる、
一般式(2)(化2)
(Wherein R1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, and R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group) and a compound (A) represented by acetic anhydride (B) . At least selected from the group consisting of dichloroacetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, diisopropylamine hydrochloride, hydrochloride of the compound represented by the general formula (1), p-toluenesulfonic acid, and methanesulfonic acid Reacting in the presence of one acid (C) ,
General formula (2)

(式中、R1およびR2は前記一般式(1)中のR1およびR2と同義である。)で表される化合物の製造方法に関するものである。 (Wherein R1 and R2 have the same meanings as R1 and R2 in the general formula (1)).

本発明により、シチジン類からN4−アセチルシチジン類を高収率かつ高い選択性で製造することができる。 According to the present invention, N 4 -acetylcytidines can be produced from cytidines with high yield and high selectivity.

以下、本発明を詳細に説明する。     Hereinafter, the present invention will be described in detail.

一般式(1)および一般式(2)で表される化合物において、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、水酸基または保護されたヒドロキシル基を表す。   In the compounds represented by the general formulas (1) and (2), R1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, and R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group.

一般式(1)および一般式(2)で表される化合物におけるR1中の水酸基の保護基としては、加水素分解、加水分解、光分解のような化学的方法によって除去可能な保護基であればよく、このような保護基としては、例えば、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、トリアルキルシリル基、トリアルコキシシリル基、アルコキシアルキル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、オルトエステル基、トリチル基などが挙げられる。好ましくは、トリアルキルシリル基、トリアルコキシシリル基またはトリチル基である。トリアルキルシリル基としては、たとえばトリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基などがあげられる。トリアルコキシシリル基としては、たとえばビス(トリメチルシロキシ)ジフェニルメトキシシリル基、ビス(トリメチルシロキシ)シクロドデシルオキシシリル基などがあげられる。トリチル基としては、たとえばトリチル基、4−メトキシトリチル基、4,4’−ジメトキシトリチル基などがあげられる。   The protecting group for the hydroxyl group in R1 in the compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2) may be a protecting group that can be removed by a chemical method such as hydrogenolysis, hydrolysis, or photolysis. Examples of such protective groups include aliphatic acyl groups, aromatic acyl groups, trialkylsilyl groups, trialkoxysilyl groups, alkoxyalkyl groups, alkoxyalkyl groups substituted with silyl groups, and alkyl halides. Group, aralkyl group, alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, orthoester group, trityl group and the like. A trialkylsilyl group, a trialkoxysilyl group, or a trityl group is preferable. Examples of the trialkylsilyl group include a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a t-butyldimethylsilyl group. Examples of trialkoxysilyl groups include bis (trimethylsiloxy) diphenylmethoxysilyl group and bis (trimethylsiloxy) cyclododecyloxysilyl group. Examples of the trityl group include a trityl group, a 4-methoxytrityl group, and a 4,4'-dimethoxytrityl group.

水酸基の保護基のなかでも、ビス(トリメチルシロキシ)ジフェニルメトキシシリル基、ビス(トリメチルシロキシ)シクロドデシルオキシシリル基または4,4’−ジメトキシトリチル基は特に好ましい。   Among the hydroxyl protecting groups, bis (trimethylsiloxy) diphenylmethoxysilyl group, bis (trimethylsiloxy) cyclododecyloxysilyl group or 4,4'-dimethoxytrityl group is particularly preferable.

一般式(1)および一般式(2)で表される化合物におけるR2中の保護されたヒドロキシル基の保護基としては、加水素分解、加水分解、光分解のような化学的方法によって除去可能な保護基であればよく、このような保護基としては、例えば、ホルミル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基、シリルオキシメチル基、アルコキシアルキル基、アシロキシ基で置換されたアルコキシアルキル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキル基などが挙げられる。好ましくは、シリル基、シリルオキシメチル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、オルトエステル基、アルキル基、アルコキシアルキル基である。シリル基としては、たとえばトリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基などがあげられる。シリルオキシメチル基としては、たとえばトリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、t−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などがあげられる。シリル基で置換されたアルコキシアルキル基とは、たとえば2−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などがあげられる。アシロキシ基で置換されたアルコキシアルキル基とは、たとえばビス(2−アセトキシエチルオキシ)メチル基、2−アセトキシエチルオキシメチル基、ビス(2−ベンゾイルオキシエチルオキシ)メチル基、2−ベンゾイルオキシエチルオキシメチル基などがあげられる。アルキル基としては、たとえばメチル基、エチル基、n−プロピル基、アリル基などがあげられる。アルコキシアルキル基としては、たとえばメトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシエトキシメチル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基などがあげられる。   The protecting group for the protected hydroxyl group in R2 in the compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2) can be removed by a chemical method such as hydrogenolysis, hydrolysis, or photolysis. Any protecting group may be used, and examples of such protecting groups include formyl group, aliphatic acyl group, aromatic acyl group, silyl group, silyloxymethyl group, alkoxyalkyl group, and alkoxyalkyl substituted with acyloxy group. Groups, alkoxyalkyl groups substituted with silyl groups, halogenated alkyl groups, aralkyl groups, alkoxycarbonyl groups, aralkyloxycarbonyl groups, alkyl groups and the like. Preferred are a silyl group, a silyloxymethyl group, an alkoxyalkyl group substituted with a silyl group, an orthoester group, an alkyl group, and an alkoxyalkyl group. Examples of the silyl group include a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and the like. Examples of the silyloxymethyl group include a trimethylsilyloxymethyl group, a triethylsilyloxymethyl group, a triisopropylsilyloxymethyl group, a t-butyldimethylsilyloxymethyl group, and the like. Examples of the alkoxyalkyl group substituted with a silyl group include a 2-trimethylsilylethyloxymethyl group. Examples of the alkoxyalkyl group substituted with an acyloxy group include bis (2-acetoxyethyloxy) methyl group, 2-acetoxyethyloxymethyl group, bis (2-benzoyloxyethyloxy) methyl group, and 2-benzoyloxyethyloxy. Examples thereof include a methyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an allyl group. Examples of the alkoxyalkyl group include a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, a methoxyethoxymethyl group, a dimethoxymethyl group, and a diethoxymethyl group.

保護基で置換されたヒドロキシル基のなかでも、アルコキシアルキルオキシ基、アシロキシ基で置換されたアルコキシアルキルオキシ基、シリル基で置換されたアルコキシアルキルオキシ基、アルキルオキシ基が好ましく、メトキシ基、メトキシエトキシ基およびビス(2−アセトキシエチルオキシ)メチルオキシ基は特に好ましい。   Among the hydroxyl groups substituted with a protecting group, an alkoxyalkyloxy group, an alkoxyalkyloxy group substituted with an acyloxy group, an alkoxyalkyloxy group substituted with a silyl group, and an alkyloxy group are preferred. The group and the bis (2-acetoxyethyloxy) methyloxy group are particularly preferred.

一般式(1)および一般式(2)で表される化合物として、一般式(1)および(2)におけるR1が水素原子、4,4’−ジメトキシトリチル基またはトリアルコキシシリル基であり、R2が水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メトキシ基、メトキシエトキシ基またはビス(2−アセトキシエチル)メチルオキシ基である化合物は、本発明の製造方法を適用するのに好ましい。   In the compounds represented by the general formulas (1) and (2), R1 in the general formulas (1) and (2) is a hydrogen atom, a 4,4′-dimethoxytrityl group or a trialkoxysilyl group, and R2 A compound in which is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, a methoxyethoxy group or a bis (2-acetoxyethyl) methyloxy group is preferable for applying the production method of the present invention.

一般式(1)で表される化合物は、公知の方法、例えば、J.Am.Chem.Soc.1998,120,p.12395−12401.およびJ.Org.Chem.1999,64,p.6087−6089.に記載された方法に準拠して製造することができるが、2’−デオキシシチジンは市販品を入手することもできる。   The compound represented by the general formula (1) can be prepared by a known method such as J.I. Am. Chem. Soc. 1998, 120, p. 12395-12401. And J.A. Org. Chem. 1999, 64, p. 6087-6089. 2'-deoxycytidine can also be obtained commercially.

一般式(1)で表される化合物と無水酢酸を、酸の存在下で反応させることにより、一般式(2)で表される化合物を製造することができる。   The compound represented by the general formula (2) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (1) with acetic anhydride in the presence of an acid.

無水酢酸の使用量は、0.8から3モル当量の範囲で使用可能だが、1から1.5モル当量の範囲で行うのが好ましい。   The amount of acetic anhydride used can be in the range of 0.8 to 3 molar equivalents, but is preferably in the range of 1 to 1.5 molar equivalents.

反応には、酸自体またはこの酸と塩基とが形成する塩を酸として用いることができる。   In the reaction, the acid itself or a salt formed by the acid and the base can be used as the acid.

酸としては、その0.1M水溶液のpHが酢酸のpH2.9以下である酸、またはこの酸と塩基とが形成する塩の水溶液が酸性を示す塩(以下、「酸性塩」と略記する。)であれば制限されない。   As the acid, an acid whose pH of the 0.1 M aqueous solution is pH 2.9 or less of acetic acid, or a salt in which an aqueous solution of a salt formed by this acid and a base is acidic (hereinafter abbreviated as “acid salt”). ) Is not limited.

その水溶液のpHが酢酸のpH以下である酸としては、例えば、酢酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、2−クロロ安息香酸、3−クロロ安息香酸、フェノキシ酢酸、フルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸またはメタンスルホン酸などがあげられる。   Examples of the acid whose pH of the aqueous solution is lower than that of acetic acid include acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, 2-chlorobenzoic acid, 3-chlorobenzoic acid, phenoxyacetic acid, and fluoroacetic acid. , P-toluenesulfonic acid or methanesulfonic acid.

これらの酸は単独で用いることもできるが、2種以上を併用することもできる。   These acids can be used alone or in combination of two or more.

酸性塩としては、例えば、前記の酸と、アルキルアミンなどの有機塩基または一般式(1)で表される化合物とが形成する塩があげられる。   Examples of the acid salt include a salt formed by the acid and an organic base such as an alkylamine or a compound represented by the general formula (1).

酸性塩を形成するアルキルアミンとしては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、トリブチルアミンなどのトリアルキルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなどのジアルキルアミン、イソプロピルアミン、シクロヘキシルアミンなどのモノアルキルアミンなどがあげられる。   Examples of alkylamines that form acid salts include trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, ethyldiisopropylamine, and tributylamine, dialkylamines such as diethylamine, diisopropylamine, dibutylamine, and dicyclohexylamine, isopropylamine, and cyclohexylamine. And monoalkylamine.

前記のその水溶液のpHが酢酸のpH以下である酸のなかでも、水中での酸解離定数(pKa値)が4以下あるいはジメチルホルムアミド(以下、「DMF」と略記する。)中での酸解離定数(pKa値)が10以下の酸は好ましい。前者として、具体的には塩酸(−3.7)、硫酸(−3)、トリフルオロ酢酸(0.5)、クロロ酢酸(2.87)、ジクロロ酢酸(1.26)、2−クロロ安息香酸(2.88)、3−クロロ安息香酸(3.83)、フェノキシ酢酸(3.17)、フルオロ酢酸(2.59)があげられ、後者として、具体的にはp−トルエンスルホン酸(2.6)、メタンスルホン酸(3.0)があげられる。   Among the acids whose pH of the aqueous solution is lower than that of acetic acid, acid dissociation constant (pKa value) in water is 4 or less, or acid dissociation in dimethylformamide (hereinafter abbreviated as “DMF”). An acid having a constant (pKa value) of 10 or less is preferred. Specifically, as the former, hydrochloric acid (-3.7), sulfuric acid (-3), trifluoroacetic acid (0.5), chloroacetic acid (2.87), dichloroacetic acid (1.26), 2-chlorobenzoic acid Acid (2.88), 3-chlorobenzoic acid (3.83), phenoxyacetic acid (3.17), and fluoroacetic acid (2.59). Specific examples of the latter include p-toluenesulfonic acid ( 2.6) and methanesulfonic acid (3.0).

その水溶液のpHが酢酸のpH以下である酸のなかでも、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩、一般式(1)で表される化合物の塩酸塩、p−トルエンスルホン酸またはメタンスルホン酸は好ましい。   Among acids whose pH is lower than that of acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, diisopropylamine hydrochloride, hydrochloride of the compound represented by the general formula (1), p-toluenesulfonic acid or methane Sulfonic acids are preferred.

前記の酸性塩のなかでも、ジイソプロピルアミン塩酸塩、ジシクロヘキシルアミン塩酸塩、ジイソプロピルアミン硫酸塩、ジシクロヘキシルアミン硫酸塩、一般式(1)で表される化合物の塩酸塩または硫酸塩は好ましい。   Among the above acid salts, diisopropylamine hydrochloride, dicyclohexylamine hydrochloride, diisopropylamine sulfate, dicyclohexylamine sulfate, and hydrochloride or sulfate of the compound represented by the general formula (1) are preferable.

酸のなかでも、特に、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩、一般式(1)で表される化合物の塩酸塩、p−トルエンスルホン酸またはメタンスルホン酸は好ましい。   Among the acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, diisopropylamine hydrochloride, hydrochloride of the compound represented by the general formula (1), p-toluenesulfonic acid or methanesulfonic acid is particularly preferable.

前記の酸は単独で用いることもできるが、2種以上を併用することもできる。   Although the said acid can also be used independently, 2 or more types can also be used together.

酸の使用量は、反応を阻害せず、化合物を分解しない限り特に限定されないが、一般式(1)で表される化合物に対して0.01モル%以上40モル%以下が好ましく、特に好ましくは0.1モル%以上20モル%以下である。   The amount of the acid used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and does not decompose the compound, but it is preferably 0.01 mol% or more and 40 mol% or less, particularly preferably based on the compound represented by the general formula (1). Is 0.1 mol% or more and 20 mol% or less.

反応には溶媒を使用する。溶媒としては、反応を阻害しない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましい。非プロトン性の溶媒としては、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、DMF、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンがあげられるが、なかでもDMFは好ましい。   A solvent is used for the reaction. The solvent is not limited as long as the reaction is not inhibited, but an aprotic solvent is preferable. Examples of the aprotic solvent include acetonitrile, dichloromethane, DMF, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. Among them, DMF is preferable.

反応温度は、−10℃から使用する溶媒の沸点の範囲から選択可能だが、特に10℃から40℃の範囲が好ましい。   The reaction temperature can be selected from the range of −10 ° C. to the boiling point of the solvent to be used, but the range of 10 ° C. to 40 ° C. is particularly preferable.

本発明の製造方法の好ましい実施方法を例示するとすれば、一般式(1)で表される化合物、酸および非プロトン性の溶媒の混合物に無水酢酸を添加する方法があげられる。   If the preferable implementation method of the manufacturing method of this invention is illustrated, the method of adding acetic anhydride to the mixture of the compound represented with General formula (1), an acid, and an aprotic solvent will be mention | raise | lifted.

前記の反応で得られる一般式(2)で表される化合物は、公知の方法、例えば、特開平6−189753号公報に記載された方法を用いて反応混合物から分離し、回収することができる。   The compound represented by the general formula (2) obtained by the above reaction can be separated from the reaction mixture and recovered using a known method, for example, a method described in JP-A-6-189753. .

以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下の実験に使用した2’−デオキシシチジンは和光純薬工業株式会社製のものを使用した。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, 2'-deoxycytidine used for the following experiments was manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

実施例1
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
2’−デオキシシチジン2.0g(8.8mmol)とトリフルオロ酢酸30mg(0.26mmol)のDMF20g溶液に室温で無水酢酸0.94g(9.2mmol)を添加し、同温条件下に24時間攪拌した。反応終了後に反応液を液体クロマトグラフィー(以下、「HPLC」と略記する。)分析したところ、表題化合物 96.7%、2’−デオキシシチジン(以下、「出発原料」と略記する。)2.5%,N4,5’−O−ジアセチル−2’−デオキシシチジン(以下、「副成物1」と略記する。)0.3%、N4,3’−O−ジアセチル−2’−デオキシシチジン(以下、「副成物2」と略記する。)0%であった。N4−アセチルシトシンは観察されなかった。
HPLC分析条件:カラム,Develosil PRAQUEOUS 4.6×250mm(野村化学);移動相,水−CH3CN(9:1);流速,1ml/min;カラム温度,40℃;保持時間(min),表題化合物5.3、出発原料3.4,(副成物1)21.8、(副成物2)21.0。
Example 1
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine Acetic anhydride (0.94 g, 9.2 mmol) was added to a solution of 2′-deoxycytidine (2.0 g, 8.8 mmol) and trifluoroacetic acid (30 mg, 0.26 mmol) in DMF (20 g) at room temperature. ) Was added and stirred for 24 hours under the same temperature conditions. After completion of the reaction, the reaction solution was analyzed by liquid chromatography (hereinafter abbreviated as “HPLC”). As a result, the title compound was 96.7%, 2′-deoxycytidine (hereinafter abbreviated as “starting material”). 5%, N 4 , 5′-O-diacetyl-2′-deoxycytidine (hereinafter abbreviated as “By-product 1”) 0.3%, N 4 , 3′-O-diacetyl-2′- Deoxycytidine (hereinafter abbreviated as “By-product 2”) was 0%. N 4 -acetylcytosine was not observed.
HPLC analysis conditions: column, Develosil PRAQUEOUS 4.6 × 250 mm (Nomura Chemical); mobile phase, water-CH 3 CN (9: 1); flow rate, 1 ml / min; column temperature, 40 ° C .; retention time (min), title compound 5.3, starting material 3.4, (byproduct 1) 21.8, (byproduct 2) 21.0.

比較例1
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
実施例1と同様の手順でトリフルオロ酢酸を添加せずに反応を行った。反応終了後に反応液をHPLC分析したところ、表題化合物94.7%、出発原料2.2%,(副成物1)2.1%、(副成物2)0.6%であった。
Comparative Example 1
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine The reaction was performed in the same procedure as in Example 1 without adding trifluoroacetic acid. HPLC analysis of the reaction mixture after completion of the reaction revealed that the title compound was 94.7%, starting material 2.2%, (side product 1) 2.1%, and (side product 2) 0.6%.

参考例1
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
実施例1と同様の手順でトリフルオロ酢酸の代わりに酢酸10mol%を添加して反応を行った。反応終了後に反応液をHPLC分析したところ、表題化合物96.4%、出発原料1.7%,(副成物1)1.3%、(副成物2)0.3%であった。N4−アセチルシトシンは観察されなかった。
Reference example 1
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine The reaction was carried out by adding 10 mol% of acetic acid instead of trifluoroacetic acid in the same procedure as in Example 1. HPLC analysis of the reaction mixture after completion of the reaction revealed that the title compound was 96.4%, starting material 1.7%, (side product 1) 1.3%, and (side product 2) 0.3%. N 4 -acetylcytosine was not observed.

参考例2
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
実施例1と同様の手順でトリフルオロ酢酸の代わりに酢酸100mol%を添加して反応を行った。反応終了後に反応液をHPLC分析したところ、表題化合物95.2%、出発原料0.9%,(副成物1)3.0%、(副成物2)0.3%であった。N4−アセチルシトシンは観察されなかった。
Reference example 2
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine The reaction was performed by adding 100 mol% of acetic acid instead of trifluoroacetic acid in the same procedure as in Example 1. HPLC analysis of the reaction mixture after completion of the reaction showed that the title compound was 95.2%, starting material 0.9%, (Sub-product 1) 3.0%, and (Sub-product 2) 0.3%. N 4 -acetylcytosine was not observed.

実施例
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
実施例1と同様の手順でトリフルオロ酢酸の代わりにジクロロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩、N4−アセチル−2’−デオキシシチジン塩酸塩を添加して反応を行った結果を表1に示す。
Examples 2-8
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine In the same procedure as in Example 1, dichloroacetic acid, diisopropylamine hydrochloride and N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine hydrochloride were added instead of trifluoroacetic acid. The results of the reaction are shown in Table 1.

参考例
4−アセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジンの合成
実施例で得たDMF溶液11.7g(N4−アセチル−2’−デオキシシチジン1.30g,4.84mmolを含む)にジイソプロピルアミン490mg(4.84mmol)を室温で加えた後に氷冷下でピリジン766mg(9.68mmol)を添加した。さらに4,4’−ジメトキシトリチルクロリド1.64g(4.84mmol)を加えて一晩攪拌した。反応終了後にHPLC分析を行ったところ、表題化合物91.8%、5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジン(以下、「副成物3」と略記する。)0.17%、N4,3’−O−ジアセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジン(以下、「副成物4」と略記する。)0.56%であった。
HPLC分析条件:カラム,Develosil PRAQUEOUS 4.6×250mm(野村化学);移動相,水−CH3CN−10mM NaH2PO4(pH7)(65:35);流速,1ml/min(0〜15min),1.5ml/min(15.1〜45min);カラム温度,40℃;保持時間(min),表題化合物5.4、(副成物3)4.3、(副成物4)38。
Reference example 3
Synthesis of N 4 -acetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxycytidine 11.7 g of DMF solution obtained in Example 8 (N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine 1 Diisopropylamine (490 mg, 4.84 mmol) was added to room temperature at room temperature, and then 766 mg (9.68 mmol) of pyridine was added under ice cooling. Further, 1.64 g (4.84 mmol) of 4,4′-dimethoxytrityl chloride was added and stirred overnight. When the HPLC analysis was conducted after completion of the reaction, the title compound was abbreviated as 91.8%, 5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxycytidine (hereinafter, “byproduct 3”). ) 0.17%, N 4 , 3′-O-diacetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxycytidine (hereinafter abbreviated as “byproduct 4”) It was 0.56%.
HPLC analysis conditions: column, Develosil PRAQUEOUS 4.6 × 250 mm (Nomura Chemical); mobile phase, water—CH 3 CN-10 mM NaH 2 PO 4 (pH 7) (65:35); flow rate, 1 ml / min (0-15 min), 1.5 ml / min (15.1-45 min); column temperature, 40 ° C .; retention time (min), title compound 5.4, (byproduct 3) 4.3, (byproduct 4) 38.

参考例
4−アセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジンの合成
比較例1で得たDMF溶液を参考例と同様の処理(但しジイソプロピルアミンの代わりにピリジンを用いた)を行って得た反応液をHPLC分析したところ、表題化合物84.2%、(副成物3)0.83%、(副成物4)2.6%であった。
Reference example 4
Synthesis of N 4 -acetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxycytidine The DMF solution obtained in Comparative Example 1 was treated in the same manner as in Reference Example 3 (in place of diisopropylamine). The reaction mixture obtained by using pyridine was analyzed by HPLC. As a result, the title compound was found to be 84.2%, (byproduct 3) 0.83%, and (byproduct 4) 2.6%.

実施例
4−アセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシ−2’−フルオロシチジンの合成
5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシ−2’−フルオロシチジン1.2g(2.2mmol)とトリフルオロ酢酸7.4mg(0.65mmol)のDMF12mL溶液に室温で無水酢酸0.23g(2.3mmol)を添加し、同温条件下に24時間攪拌した。反応終了後に反応液をHPLC分析したところ、表題化合物94.2%、5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシ−2’−フルオロシチジン(出発原料)2.2%,N4,3’−O−ジアセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシ−2’−フルオロシチジン(以下、「副成物5」と略記する。)2.7%であった。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した後、水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して表題化合物1.3g(収率95%)を無色粉体として得た。
HPLC分析条件:カラム,Develosil PRAQUEOUS 4.6×250mm(野村化学);移動相,水−CH3CN(9:1);流速,1ml/min;カラム温度,40℃;保持時間(min),表題化合物6.6、出発原料5.0、(副成物5)10.5。
Example 9
Synthesis of N 4 -acetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxy-2′-fluorocytidine 5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′- 0.23 g (2.3 mmol) of acetic anhydride was added to a 12 mL DMF solution of 1.2 g (2.2 mmol) of deoxy-2′-fluorocytidine and 7.4 mg (0.65 mmol) of trifluoroacetic acid at the same temperature. Stir below for 24 hours. HPLC analysis of the reaction mixture after completion of the reaction revealed that the title compound was 94.2%, 5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxy-2′-fluorocytidine (starting material) 2.2. %, N 4 , 3′-O-diacetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxy-2′-fluorocytidine (hereinafter abbreviated as “byproduct 5”). ) 2.7%. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate, and washed with water and saturated brine. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to give 1.3 g (yield 95%) of the title compound as a colorless powder.
HPLC analysis conditions: column, Develosil PRAQUEOUS 4.6 × 250 mm (Nomura Chemical); mobile phase, water-CH 3 CN (9: 1); flow rate, 1 ml / min; column temperature, 40 ° C .; retention time (min), title compound 6.6, starting material 5.0, (byproduct 5) 10.5.

実施例10、11および比較例2
4−アセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシ−2’−フルオロシチジンの合成
実施例と同様の手順でトリフルオロ酢酸(3mol%)の代わりにトリフルオロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩を添加して反応を行った結果および酸を加えないで行った結果(比較例2)を表2〔表2〕に示す。
Examples 10 and 11 and Comparative Example 2
Synthesis of N 4 -acetyl-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -2′-deoxy-2′-fluorocytidine In the same procedure as in Example 9 , instead of trifluoroacetic acid (3 mol%) Table 2 [Table 2] shows the results of the reaction with addition of trifluoroacetic acid and diisopropylamine hydrochloride and the results of the comparison without addition of acid (Comparative Example 2).

比較例3
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
2’−デオキシシチジン1.0g(4.4mmol)のメタノール54g溶液に加熱還流下で無水酢酸6.26g(61.3mmol)を30分間かけて添加し、さらに30分間加熱還流した。反応終了後に反応液をHPLC分析したところ、表題化合物85.7%、2’−デオキシシチジン2.4%、(副成物1および2)1.1%、N4−アセチルシトシン(以下、「副成物6」と略記する。)10.8%であった。
Comparative Example 3
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine 6.26 g (61.3 mmol) of acetic anhydride was added over 30 minutes to a solution of 1.0 g (4.4 mmol) of 2′-deoxycytidine in 54 g of methanol under heating and reflux. The mixture was further heated to reflux for 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction mixture was subjected to HPLC analysis. As a result, the title compound was 85.7%, 2′-deoxycytidine 2.4%, (by-products 1 and 2) 1.1%, N 4 -acetylcytosine (hereinafter referred to as “ Abbreviated as “by-product 6”.) 10.8%.

比較例4
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
比較例3と同様の手順でメタノールの代わりにエタノールを用いて反応を行ったところ、表題化合物80.6%、2’−デオキシシチジン0.73%、(副成物1および2)1.3%、(副成物6)17.4%であった。
Comparative Example 4
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine The reaction was carried out using ethanol instead of methanol in the same procedure as in Comparative Example 3, and the title compound was 80.6%, 2′-deoxycytidine 0.73% (By-product 1 and 2) 1.3% and (by-product 6) 17.4%.

比較例5
4−アセチル−2’−デオキシシチジンの合成
比較例3と同様の手順でメタノールの代わりに2−プロパノールを用いて反応を行ったところ、表題化合物84.5%、2’−デオキシシチジン0.35%、(副成物1および2)1.9%、(副成物6)13.3%であった。
Comparative Example 5
Synthesis of N 4 -acetyl-2′-deoxycytidine The reaction was carried out using 2-propanol instead of methanol in the same procedure as in Comparative Example 3. As a result, 84.5% of the title compound, 2′-deoxycytidine 0. 35%, (by-products 1 and 2) 1.9%, and (by-product 6) 13.3%.

Claims (4)

一般式(1)(化1)

(式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、水酸基または保護されたヒドロキシル基を表す。)で表される化合物(A)と無水酢酸(B)を、ジクロロ酢酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩、前記一般式(1)で表される化合物の塩酸塩、p−トルエンスルホン酸、及びメタンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも1種の酸(C)の存在下で反応させる、一般式(2)(化2)

(式中、R1およびR2は前記一般式(1)中のR1およびR2と同義である。)で表される化合物の製造方法。
General formula (1)

(Wherein R1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, and R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group) and a compound (A) represented by acetic anhydride (B). At least selected from the group consisting of dichloroacetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, diisopropylamine hydrochloride, hydrochloride of the compound represented by the general formula (1), p-toluenesulfonic acid, and methanesulfonic acid The reaction is carried out in the presence of one kind of acid (C).

(Wherein R1 and R2 have the same meanings as R1 and R2 in the general formula (1)).
請求項1記載の酸(C)が塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、ジイソプロピルアミン塩酸塩、一般式(1)(化3)

(式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、水酸基または保護されたヒドロキシル基を表す。)で表される化合物の塩酸塩、p−トルエンスルホン酸またはメタンスルホン酸である、請求項1に記載の製造方法。
The acid (C) according to claim 1 is hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, diisopropylamine hydrochloride, general formula (1) (chemical formula 3)

(Wherein R1 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group, and R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group), a hydrochloride of the compound represented by the formula: The manufacturing method of Claim 1 which is methanesulfonic acid.
記酸(C)の添加量が20モル%以下である、請求項1または請求項2に記載の製造方法。 Before the addition of hexane (C) is less than 20 mol%, the production method according to claim 1 or claim 2. 請求項1記載の一般式(1)におけるR1が水素原子、4,4’−ジメトキシトリチル基またはトリアルコキシシリル基であり、請求項1記載の一般式(2)におけるR1が水素原子、4,4’−ジメトキシトリチル基またはトリアルコキシシリル基であり、請求項1記載の一般式(1)におけるR2が水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メトキシ基、メトキシエトキシ基またはビス(2−アセトキシエチル)メチルオキシ基であり、請求項1記載の一般式(2)におけるR2が水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メトキシ基、メトキシエトキシ基またはビス(2−アセトキシエチル)メチルオキシ基である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の製造方法。
R1 in the general formula (1) according to claim 1 is a hydrogen atom, a 4,4'-dimethoxytrityl group or a trialkoxysilyl group, R1 in the general formula (2) according to claim 1 is a hydrogen atom, It is a 4′-dimethoxytrityl group or a trialkoxysilyl group, and R2 in the general formula (1) according to claim 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, a methoxyethoxy group or bis (2-acetoxyethyl) methyl. It is an oxy group, and R2 in the general formula (2) according to claim 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, a methoxyethoxy group or a bis (2-acetoxyethyl) methyloxy group. The manufacturing method as described in any one of Claim 3.
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