JP2007137843A - Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound - Google Patents

Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound Download PDF

Info

Publication number
JP2007137843A
JP2007137843A JP2005336371A JP2005336371A JP2007137843A JP 2007137843 A JP2007137843 A JP 2007137843A JP 2005336371 A JP2005336371 A JP 2005336371A JP 2005336371 A JP2005336371 A JP 2005336371A JP 2007137843 A JP2007137843 A JP 2007137843A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
substituent
general formula
compound represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005336371A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taketo Hayashi
健人 林
Takehiko Kawakami
武彦 川上
Yoshihiko Iwanaga
義彦 岩永
Ge Li
リ ゲ
Rujian Ma
ルジャン マ
Jiyou Xu
ジヨウ ク
Wei Zhu
ウエイ ズ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2005336371A priority Critical patent/JP2007137843A/en
Publication of JP2007137843A publication Critical patent/JP2007137843A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an industrially suitable method more efficiently producing a purine nucleoside compound useful as a synthetic intermediate for medicines. <P>SOLUTION: The method for producing a purine nucleoside compound comprises reacting D-xylose (II) with a compound (III) in the presence of an acid, subjecting the reaction product to acid hydrolysis to give a compound (IV), selectively protecting the OH group at the 5-position to give a compound (V), oxidizing the OH group at the 3-position to give a compound (VI), reducing the C=O at the 3-position to give a compound (VII), reacting the compound with a compound (VIII) to give a compound (IX), subjecting the compound to an acid hydrolyzed reaction to give a compound (X), acylating the compound to give a compound (I), reacting the compound with a compound (XI) in a nitrile-based solvent or an ester-based solvent in the presence of a silylating agent and a Lewis acid and deacylating the 2' position to give a compound (XII). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、リボフラノース化合物およびプリンヌクレオシド化合物の新規製造方法、ならびに新規なリボフラノース化合物およびプリンヌクレオシド化合物に関する。   The present invention relates to a novel method for producing a ribofuranose compound and a purine nucleoside compound, and to a novel ribofuranose compound and a purine nucleoside compound.

式(XVII):   Formula (XVII):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、DMTはジメトキシトリチル基を示す。)で表されるプリンヌクレオシド化合物は、アンチセンス医薬の原料化合物として有用である(非特許文献1参照)。上記化合物は、非特許文献1では2,6−ジアミノプリンリボシドから合成されているが、反応の選択性が悪く、また酵素反応を要する等、工業的に適した方法とはいえず、より効率的な製造法の開発が望まれている。 A purine nucleoside compound represented by the formula (wherein DMT represents a dimethoxytrityl group) is useful as a raw material compound for antisense medicine (see Non-Patent Document 1). Although the above compound is synthesized from 2,6-diaminopurine riboside in Non-Patent Document 1, it is not an industrially suitable method such as poor reaction selectivity and requiring an enzyme reaction. Development of an efficient manufacturing method is desired.

また、特許文献1には、リボフラノース化合物からプリンヌクレオシド化合物を製造する方法が開示されているが、リボフラノース化合物についての具体的な製造方法は開示されていないし、また、プリンヌクレオシド化合物については、本発明のような製造方法は開示されていない。
特開2005−132767号公報 Nucleosides, Nucleotides & Nucleic Acids (2003), 22(5-8), 1327-1330.
Patent Document 1 discloses a method for producing a purine nucleoside compound from a ribofuranose compound, but does not disclose a specific method for producing a ribofuranose compound. Further, for a purine nucleoside compound, A manufacturing method like the present invention is not disclosed.
JP 2005-132767 A Nucleosides, Nucleotides & Nucleic Acids (2003), 22 (5-8), 1327-1330.

本発明は、医薬品の合成中間体として有用なプリンヌクレオシド化合物のより効率のよい、工業的に適した製造方法を提供することである。   The present invention is to provide a more efficient and industrially suitable production method for purine nucleoside compounds useful as synthetic intermediates for pharmaceuticals.

本発明者らは、上記化合物の効率のよい製造方法を鋭意検討した結果、新規なリボフラノース化合物を中間体とした合成ルートを採用することにより、反応の選択性に問題がなく、さらに酵素反応を要せずして、目的のプリンヌクレオシド化合物を製造できることを見出した。さらに、中間体として種々の新規プリンヌクレオシド化合物を見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は以下のとおりである。   As a result of intensive studies on an efficient production method of the above compound, the present inventors have adopted a synthetic route using a novel ribofuranose compound as an intermediate, so that there is no problem in the selectivity of the reaction, and further an enzyme reaction It was found that the desired purine nucleoside compound can be produced without requiring Furthermore, various novel purine nucleoside compounds have been found as intermediates, and the present invention has been completed. That is, the present invention is as follows.

[1]下記工程(a)ないし(g)を包含することを特徴とする、一般式(I): [1] General formula (I) characterized by including the following steps (a) to (g):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、Rは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアシル基を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基ORの立体配置が何ら限定されないことを示す。)(以下、化合物(I)ともいう。)で表される化合物の製造方法:
(a)式(II):
(Wherein, R 3 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aralkyl group or an optionally substituted heteroarylalkyl group, R 4 Represents an acyl group which may have a substituent, and the wavy line indicates that the configuration of the substituent OR 4 of the anomeric carbon atom is not limited at all.) (Hereinafter also referred to as compound (I)) Method for producing the represented compound:
(A) Formula (II):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表されるD−キシロースを、酸の存在下で一般式(III): (Wherein the wavy line indicates that the configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited at all). D-xylose represented by the general formula (III) in the presence of an acid:

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。)で表される化合物(以下、化合物(III)ともいう。)と反応させた後、酸加水分解して、一般式(IV): (In the formula, R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.) After reacting with a compound represented by the following formula (hereinafter also referred to as compound (III)), acid hydrolysis And general formula (IV):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IV)ともいう。)を得る工程;
(b)化合物(IV)の5位のヒドロキシ基を選択的に保護して、一般式(V):
(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (IV));
(B) The hydroxy group at the 5-position of compound (IV) is selectively protected to give a compound represented by the general formula (V):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、Pは置換基を有していてもよいベンゾイル基を示し、他の記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(V)ともいう。)を得る工程;
(c)化合物(V)の3位のヒドロキシ基を酸化して、一般式(VI):
(Wherein P 1 represents a benzoyl group which may have a substituent, and other symbols have the same meanings as described above) (hereinafter, also referred to as compound (V)). Process;
(C) The hydroxy group at the 3-position of compound (V) is oxidized to give a general formula (VI):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VI)ともいう。)を得る工程;
(d)化合物(VI)の3位のカルボニル基を還元して、一般式(VII):
(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (VI));
(D) The carbonyl group at the 3-position of compound (VI) is reduced to give the general formula (VII):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VII)ともいう。)を得る工程;
(e)化合物(VII)の保護基Pを除去した後、塩基の存在下で一般式(VIII):
(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (VII));
(E) After removing the protecting group P 1 of the compound (VII), in the presence of a base, the general formula (VIII):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、Xは、ハロゲン原子、メシルオキシ基またはトシルオキシ基を示し、Rは前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VIII)ともいう。)を反応させて、一般式(IX): (Wherein, X 1 represents a halogen atom, a mesyloxy group or a tosyloxy group, and R 3 has the same meaning as described above), and a compound (hereinafter also referred to as compound (VIII)) is reacted; Formula (IX):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IX)ともいう。)を得る工程;
(f)化合物(IX)を酸加水分解反応に付して、一般式(X):
(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (IX));
(F) Compound (IX) is subjected to an acid hydrolysis reaction to give a general formula (X):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、Rは前記と同義を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物(以下、化合物(X)ともいう。)を得る工程;および
(g)化合物(X)の1位および2位のヒドロキシ基をアシル化して、化合物(I)を得る工程。
(Wherein R 3 has the same meaning as described above, and the wavy line indicates that the configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited at all) (hereinafter also referred to as compound (X)). And (g) a step of acylating the 1-position and 2-position hydroxy groups of compound (X) to obtain compound (I).

[2]化合物(IX)を酸加水分解反応に付すことを特徴とする、化合物(X)の製造方法。
[3]化合物(X)の1位および2位のヒドロキシ基をアシル化することを特徴とする、化合物(I)の製造方法。
[2] A method for producing compound (X), wherein compound (IX) is subjected to an acid hydrolysis reaction.
[3] A method for producing compound (I), wherein the hydroxy groups at the 1-position and 2-position of compound (X) are acylated.

[4]化合物(I)と、一般式(XI): [4] Compound (I) and general formula (XI):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、YおよびYは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいヒドロキシ基または置換基を有していてもよいアミノ基を示す。)で表される化合物またはその塩(以下、化合物(XI)ともいう。)を、ニトリル系溶媒またはエステル系溶媒中、シリル化剤およびルイス酸の存在下で反応させた後、2’位を脱アシル化することを特徴とする、一般式(XII): (Wherein Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted hydroxy group or an optionally substituted amino group). The compound represented by the formula or a salt thereof (hereinafter also referred to as compound (XI)) is reacted in the presence of a silylating agent and a Lewis acid in a nitrile solvent or an ester solvent, and then deacylated at the 2 ′ position. General formula (XII) characterized in that

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩(以下、化合物(XII)ともいう。)の製造方法。 (Wherein each symbol is as defined above) or a salt thereof (hereinafter also referred to as compound (XII)).

[5]Rが炭素数7〜21のアラルキル基である、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]Rがベンジル基である、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[7]Rが炭素数1〜8のアシル基である、上記[1]、[3]および[4]のいずれかに記載の製造方法。
[8]Rがアセチル基である、上記[1]、[3]および[4]のいずれかに記載の製造方法。
[9]Yが、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいヒドロキシ基である、上記[4]記載の製造方法。
[10]Yがハロゲン原子である、上記[4]記載の製造方法。
[11]Yが、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアミノ基である、上記[4]記載の製造方法。
[12]Yがアミノ基である、上記[4]記載の製造方法。
[5] The production method according to any one of the above [1] to [4], wherein R 3 is an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms.
[6] The production method according to any one of [1] to [4], wherein R 3 is a benzyl group.
[7] The production method according to any one of [1], [3] and [4] above, wherein R 4 is an acyl group having 1 to 8 carbon atoms.
[8] The production method according to any one of [1], [3] and [4] above, wherein R 4 is an acetyl group.
[9] The production method of the above-mentioned [4], wherein Y 1 is a halogen atom or a hydroxy group which may have a substituent.
[10] The production method of the above-mentioned [4], wherein Y 1 is a halogen atom.
[11] The production method of the above-mentioned [4], wherein Y 2 is a halogen atom or an amino group which may have a substituent.
[12] The production method of the above-mentioned [4], wherein Y 2 is an amino group.

[13]化合物(X)。
[14]Rが炭素数7〜21のアラルキル基である、上記[13]記載の化合物。
[15]Rがベンジル基である、上記[13]記載の化合物。
[13] Compound (X).
[14] The compound according to [13] above, wherein R 3 is an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms.
[15] The compound of the above-mentioned [13], wherein R 3 is a benzyl group.

[16]一般式(XVIII): [16] General formula (XVIII):

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、Y1’およびY2’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいヒドロキシ基または置換基を有していてもよいアミノ基を示し、Rは、水素原子、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を表し、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を表す。)で示される化合物またはその塩(但し、2−アミノ−6−クロロ−9β―(2’−O−アセチル−3’,5’−ジ−O−ベンジル)−D−リボフラノシルプリンを除く。)(以下、化合物(XVIII)ともいう。)。 (In the formula, Y 1 ′ and Y 2 ′ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted hydroxy group or an optionally substituted amino group, R 5 has a hydrogen atom, an acyl group that may have a substituent, an alkyl group that may have a substituent, an aralkyl group that may have a substituent, or a substituent. R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted acyl group, an optionally substituted alkyl group, or a substituent. A aralkyl group optionally having a substituent or a heteroarylalkyl group optionally having a substituent) or a salt thereof (provided that 2-amino-6-chloro-9β- (2 ′ -O-acetyl-3 ', 5'-di-O-benzi ) Except for the -D- ribofuranosyl pudding.) (Hereinafter also referred to as compound (XVIII).).

[17]Y1’が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいヒドロキシ基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[18]Y1’が、塩素原子、ベンジルオキシ基またはヒドロキシ基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[19]Y2’が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアミノ基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[20]Y2’が、アミノ基またはイソブチリルアミノ基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[21]Rが、水素原子、炭素数1〜10のアシル基または置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[22]Rが、水素原子、アセチル基または2−メトキシエチル基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[23]RおよびRが、それぞれ独立して、水素原子、炭素数7〜21のアラルキル基または炭素数1〜10のアシル基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[24]RおよびRが、それぞれ独立して、水素原子、ベンジル基またはアセチル基である、上記[16]記載の化合物またはその塩。
[17] The compound or a salt thereof according to the above [16], wherein Y 1 ′ is a halogen atom or a hydroxy group which may have a substituent.
[18] The compound of the above-mentioned [16] or a salt thereof, wherein Y 1 ′ is a chlorine atom, a benzyloxy group or a hydroxy group.
[19] The compound or a salt thereof according to the above [16], wherein Y 2 ′ is a halogen atom or an amino group which may have a substituent.
[20] The compound or a salt thereof according to the above [16], wherein Y 2 ′ is an amino group or an isobutyrylamino group.
[21] The compound of the above-mentioned [16] or a salt thereof, wherein R 5 is a hydrogen atom, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
[22] The compound of the above-mentioned [16] or a salt thereof, wherein R 5 is a hydrogen atom, an acetyl group or a 2-methoxyethyl group.
[23] The compound or a salt thereof according to the above [16], wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, or an acyl group having 1 to 10 carbon atoms.
[24] The compound or a salt thereof according to the above [16], wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a benzyl group or an acetyl group.

本発明の方法は、酵素反応等を必要とせず、高選択的かつ高収率で医薬中間体として有用なプリンヌクレオシド化合物を製造できるので、工業的に有用な方法である。また、本発明により見出された新規リボフラノース化合物および新規プリンヌクレオオシド化合物は、医薬品の合成中間体として有用である。   The method of the present invention is an industrially useful method because a purine nucleoside compound useful as a pharmaceutical intermediate can be produced with high selectivity and high yield without requiring an enzyme reaction or the like. Moreover, the novel ribofuranose compound and novel purine nucleoside compound found by the present invention are useful as synthetic intermediates for pharmaceuticals.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明で用いられている各記号の定義は以下のとおりである。
The present invention will be described in detail below.
The definition of each symbol used in the present invention is as follows.

、Y、Y、Y1’またはY2’で示される「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。Xとしては、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等である。Y、Y、Y1’またはY2’としては、それぞれ好ましくはフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等である。 The “halogen atom” represented by X 1 , Y 1 , Y 2 , Y 1 ′ or Y 2 ′ is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. X 1 is preferably a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or the like. Y 1 , Y 2 , Y 1 ′ or Y 2 ′ is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, an iodine atom or the like.

またはRで示される「アルキル基」としては、それぞれ炭素数1〜12の直鎖または分枝のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、2−エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜5の直鎖または分枝のアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、イソブチル等である。 The “alkyl group” represented by R 1 or R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert -Butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, 2-ethylbutyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl and the like, preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, for example, Methyl, ethyl, isopropyl, isobutyl and the like.

、R、RまたはRで示される「置換基を有していてもよいアルキル基」の「アルキル基」としては、上記で定義された「アルキル基」と同義であり、好ましくは炭素数1〜5の直鎖または分枝のアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、イソブチル等である。当該アルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、C1−6アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ等)、ヒドロキシ基、オキソ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、C1−6アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、0〜3個が好ましく、当該置換基は同一でも異なっていてもよい。 The “alkyl group” of the “alkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 3 , R 5 , R 6 or R 7 has the same meaning as the “alkyl group” defined above, preferably Is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as methyl, ethyl, isopropyl, isobutyl and the like. The alkyl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of the substituent include a halogen atom, a C 1-6 alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, etc.), hydroxy group, oxo group, amino group, nitro group, cyano group, carboxyl group, C 1-6 alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.) and the like. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 0 to 3, and the substituents may be the same or different.

、R、RまたはRで示される「置換基を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」は、上記で定義された「アルキル基」の任意の位置にアリール基(好ましくは炭素数6〜12のアリール基)が置換して形成される総炭素数7〜21のアラルキル基であり、例えば、ベンジル、1−または2−フェニルエチル、1−、2−または3−フェニルプロピル、1−または2−ナフチルメチル、1−または2−(1−ナフチル)エチル、1−または2−(2−ナフチル)エチル、ベンズヒドリル、トリチル等が挙げられ、好ましくはベンジル、トリチル等である。当該アラルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子、C1−6アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソブチル等)、C1−6アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ等)、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、C1−6アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、C6−12アリール基(例、フェニル基、ナフチル基等)等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、0〜3個が好ましく、当該置換基は同一でも異なっていてもよい。 The “aralkyl group” of the “aralkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 3 , R 5 , R 6 or R 7 is an aryl group at any position of the “alkyl group” defined above. (Preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms) is an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms formed by substitution, such as benzyl, 1- or 2-phenylethyl, 1-, 2- or 3 -Phenylpropyl, 1- or 2-naphthylmethyl, 1- or 2- (1-naphthyl) ethyl, 1- or 2- (2-naphthyl) ethyl, benzhydryl, trityl and the like can be mentioned, preferably benzyl, trityl and the like It is. The aralkyl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of such a substituent include a halogen atom, a C 1-6 alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, isobutyl). Etc.), C 1-6 alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, isobutoxy etc.), hydroxy group, amino group, nitro group, cyano group, carboxyl group, C 1-6 alkoxycarbonyl group (eg, Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), C 6-12 aryl groups (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.) and the like. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 0 to 3, and the substituents may be the same or different.

、R、RまたはRで示される「置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基」の「ヘテロアリールアルキル基」は、上記で定義された「アルキル基」の任意の位置にヘテロアリール基が置換して形成されるヘテロアリールアルキル基であり、例えば、2−または3−チエニルメチル、2−または3−フリルメチル、1−、2−または3−ピロリルメチル、1−、2−、4−または5−イミダゾリルメチル、2−、4−または5−オキサゾリルメチル、2−、4−または5−チアゾリルメチル、1−、3−、4−または5−ピラゾリルメチル、3−、4−または5−イソオキサゾリルメチル、3−、4−または5−イソチアゾリルメチル、1,2,4−トリアゾール−1−、3−、4−または5−イルメチル、1,2,3−トリアゾール−1−、2−または4−イルメチル、1H−テトラゾール−1−または5−イルメチル、2H−テトラゾール−2−または5−イルメチル、2−、3−または4−ピリジルメチル、2−、4−または5−ピリミジニルメチル、1−、2−、3−、4−、5−、6−または7−インドリルメチル、2−、3−、4−、5−、6−または7−ベンゾフリルメチル、2−、3−、4−、5−、6−または7−ベンゾチエニルメチル、1−、2−、4−、5−、6−または7−ベンズイミダゾリルメチル、2−、3−、4−、5−、6−、7−または8−キノリルメチル、1−、3−、4−、5−、6−、7−または8−イソキノリルメチル、1−または2−(2−または3−チエニル)エチル、1−または2−(2−または3−フリル)エチル、1−または2−(1−、2−または3−ピロリル)エチル、1−または2−(1−、2−、4−または5−イミダゾリル)エチル、1−または2−(2−、4−または5−オキサゾリル)エチル、1−または2−(2−、4−または5−チアゾリル)エチル、1−または2−(1−、3−、4−または5−ピラゾリル)エチル、1−または2−(3−、4−または5−イソオキサゾリル)エチル、1−または2−(3−、4−または5−イソチアゾリル)エチル、1−または2−(1,2,4−トリアゾール−1−、3−、4−または5−イル)エチル、1−または2−(1,2,3−トリアゾール−1−、2−または4−イル)エチル、1−または2−(1H−テトラゾール−1−または5−イル)エチル、1−または2−(2H−テトラゾール−2−または5−イル)エチル、1−または2−(2−、3−または4−ピリジル)エチル、1−または2−(2−、4−または5−ピリミジニル)エチル、1−または2−(1−、2−、3−、4−、5−、6−または7−インドリル)エチル、1−または2−(2−、3−、4−、5−、6−または7−ベンゾフリル)エチル、1−または2−(2−、3−、4−、5−、6−または7−ベンゾチエニル)エチル、1−または2−(1−、2−、4−、5−、6−または7−ベンズイミダゾリル)エチル、1−または2−(2−、3−、4−、5−、6−、7−または8−キノリル)エチル、1−または2−(1−、3−、4−、5−、6−、7−または8−イソキノリル)エチル等が挙げられる。当該ヘテロアリールアルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアラルキル基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、0〜3個が好ましく、当該置換基は同一でも異なっていてもよい。 The “heteroarylalkyl group” of the “optionally substituted heteroarylalkyl group” represented by R 3 , R 5 , R 6 or R 7 is any of the “alkyl groups” defined above. A heteroarylalkyl group formed by substituting a heteroaryl group at the position, for example, 2- or 3-thienylmethyl, 2- or 3-furylmethyl, 1-, 2- or 3-pyrrolylmethyl, 1-, 2-, 4- or 5-imidazolylmethyl, 2-, 4- or 5-oxazolylmethyl, 2-, 4- or 5-thiazolylmethyl, 1-, 3-, 4- or 5-pyrazolylmethyl, 3- 4-, 5-isoxazolylmethyl, 3-, 4- or 5-isothiazolylmethyl, 1,2,4-triazol-1-, 3-, 4- or 5-ylmethyl, 1,2, -Triazol-1-, 2- or 4-ylmethyl, 1H-tetrazol-1- or 5-ylmethyl, 2H-tetrazol-2- or 5-ylmethyl, 2-, 3- or 4-pyridylmethyl, 2-4 -Or 5-pyrimidinylmethyl, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-indolylmethyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzofuryl Methyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzothienylmethyl, 1-, 2-, 4-, 5-, 6- or 7-benzimidazolylmethyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-quinolylmethyl, 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-isoquinolylmethyl, 1- or 2- (2- or 3-thienyl) ethyl, 1- or 2- (2- or 3-phenyl) L) ethyl, 1- or 2- (1-, 2- or 3-pyrrolyl) ethyl, 1- or 2- (1-, 2-, 4- or 5-imidazolyl) ethyl, 1- or 2- (2 -, 4- or 5-oxazolyl) ethyl, 1- or 2- (2-, 4- or 5-thiazolyl) ethyl, 1- or 2- (1-, 3-, 4- or 5-pyrazolyl) ethyl, 1- or 2- (3-, 4- or 5-isoxazolyl) ethyl, 1- or 2- (3-, 4- or 5-isothiazolyl) ethyl, 1- or 2- (1,2,4-triazole- 1-, 3-, 4- or 5-yl) ethyl, 1- or 2- (1,2,3-triazol-1-, 2- or 4-yl) ethyl, 1- or 2- (1H-tetrazole) -1- or 5-yl) ethyl, 1- or 2- ( 2H-tetrazol-2- or 5-yl) ethyl, 1- or 2- (2-, 3- or 4-pyridyl) ethyl, 1- or 2- (2-, 4- or 5-pyrimidinyl) ethyl, 1 -Or 2- (1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-indolyl) ethyl, 1- or 2- (2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzofuryl) ethyl, 1- or 2- (2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzothienyl) ethyl, 1- or 2- (1-, 2-, 4-, 5 -, 6- or 7-benzimidazolyl) ethyl, 1- or 2- (2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-quinolyl) ethyl, 1- or 2- (1- , 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-isoquinolyl) ethyl and the like. The heteroarylalkyl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of such a substituent include the substituents exemplified in the above-mentioned “aralkyl group optionally having substituent (s)”. The same substituents can be mentioned. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 0 to 3, and the substituents may be the same or different.

、R、RまたはRで示される「置換基を有していてもよいアシル基」の「アシル基」としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、イソヘキサノイル等の脂肪族アシル基;ベンゾイル、1−または2−ナフトイル等の芳香族アシル基が挙げられ、好ましくは炭素数1〜10のアシル基であり、より好ましくは炭素数1〜8のアシル基であり、好ましくはアセチル、ベンゾイル等である。
当該アシル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアラルキル基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、0〜3個が好ましく、当該置換基は同一でも異なっていてもよい。
Examples of the “acyl group” of the “optionally substituted acyl group” represented by R 4 , R 5 , R 6 or R 7 include, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl Aliphatic acyl groups such as pivaloyl, hexanoyl, isohexanoyl; aromatic acyl groups such as benzoyl, 1- or 2-naphthoyl, preferably acyl groups having 1 to 10 carbon atoms, more preferably carbon An acyl group of 1 to 8 and preferably acetyl, benzoyl and the like.
The acyl group may have a substituent at a substitutable position, and as such a substituent, the same substituent as the substituent exemplified in the above-mentioned “aralkyl group optionally having substituent” is used. Groups. The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 0 to 3, and the substituents may be the same or different.

で示される「置換基を有していてもよいベンゾイル基」における置換基は、上記「置換基を有していてもよいアシル基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、0〜3個が好ましく、当該置換基は同一でも異なっていてもよい。 Examples of the substituent in the “benzoyl group optionally having substituent (s)” represented by P 1 include the same substituents as those exemplified in the above “acyl group optionally having substituent (s)”. . The number of the substituents is not particularly limited and is preferably 0 to 3, and the substituents may be the same or different.

、Y、Y1’またはY2’で示される「置換基を有していてもよいヒドロキシ基」および「置換基を有していてもよいアミノ基」における置換基としては、上記で定義された「置換基を有していてもよいアルキル基」、「置換基を有していてもよいアラルキル基」、「置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基」、「置換基を有していてもよいアシル基」等が挙げられ、メチル、ベンジル、アセチル、イソブチリル等が好ましい。 As the substituent in the “optionally substituted hydroxy group” and the “optionally substituted amino group” represented by Y 1 , Y 2 , Y 1 ′ or Y 2 ′ , Defined as “an optionally substituted alkyl group”, “an optionally substituted aralkyl group”, “an optionally substituted heteroarylalkyl group”, “substituted” An acyl group optionally having a group "and the like, and methyl, benzyl, acetyl, isobutyryl and the like are preferable.

本明細書で定義される化合物は、塩の形態であってもよい。そのような塩としては、例えば、無機酸塩(例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等);有機酸塩(例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンスルホン酸塩、4−トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等);アルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等);アルカリ土類金属塩(例えば、カルシウム塩、マグネシウム塩等);有機塩基塩(例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩等)等が挙げられる。   The compounds defined herein may be in the form of a salt. Examples of such salts include inorganic acid salts (eg, hydrochloride, sulfate, nitrate, phosphate, etc.); organic acid salts (eg, acetate, propionate, methanesulfonate, 4-toluene) Sulfonates, oxalates, maleates, etc.); alkali metal salts (eg, sodium salts, potassium salts, etc.); alkaline earth metal salts (eg, calcium salts, magnesium salts, etc.); organic base salts (eg, Trimethylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt, picoline salt, dicyclohexylamine salt, etc.).

およびRとしては、それぞれ独立して、アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
としては、置換基を有していてもよいアラルキル基が好ましく、炭素数7〜21のアラルキル基がより好ましく、ベンジル基がさらに好ましい。
としては、置換基を有していてもよいアシル基が好ましく、炭素数1〜8のアシル基がより好ましく、アセチル基がさらに好ましい。
としては、水素原子、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、水素原子、炭素数1〜10のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基がより好ましく、水素原子、アセチル基、2−メトキシエチル基がさらに好ましい。
およびRとしては、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアシル基が好ましく、水素原子、炭素数7〜21のアラルキル基、炭素数1〜10のアシル基がより好ましく、水素原子、ベンジル基、アセチル基がさらに好ましい。
The R 1 and R 2, each independently, an alkyl group, more preferably a methyl group.
R 3 is preferably an aralkyl group which may have a substituent, more preferably an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, and even more preferably a benzyl group.
R 4 is preferably an acyl group which may have a substituent, more preferably an acyl group having 1 to 8 carbon atoms, and still more preferably an acetyl group.
R 5 is preferably a hydrogen atom, an optionally substituted acyl group, or an optionally substituted alkyl group, having a hydrogen atom, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituent. An optionally substituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is more preferred, and a hydrogen atom, an acetyl group, and a 2-methoxyethyl group are more preferred.
R 6 and R 7 are each independently preferably a hydrogen atom, an aralkyl group which may have a substituent, or an acyl group which may have a substituent, a hydrogen atom or a carbon number of 7 to 21 Are more preferable, and a hydrogen atom, a benzyl group, and an acetyl group are more preferable.

としては、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいヒドロキシ基が好ましく、ハロゲン原子がより好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
1’としては、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいヒドロキシ基が好ましく、塩素原子、ベンジルオキシ基、ヒドロキシ基がより好ましい。
としては、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基が好ましく、アミノ基がより好ましい。
2’としては、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基が好ましく、アミノ基、イソブチリルアミノ基がより好ましい。
Y 1 is preferably a halogen atom or a hydroxy group which may have a substituent, more preferably a halogen atom, and even more preferably a chlorine atom.
Y 1 ′ is preferably a halogen atom or an optionally substituted hydroxy group, more preferably a chlorine atom, a benzyloxy group or a hydroxy group.
Y 2 is preferably a halogen atom or an amino group which may have a substituent, and more preferably an amino group.
Y 2 ′ is preferably a halogen atom or an optionally substituted amino group, more preferably an amino group or an isobutyrylamino group.

としては、ベンゾイル基、p−トルオイル基、p−クロロベンゾイル基が好ましい。 P 1 is preferably a benzoyl group, a p-toluoyl group, or a p-chlorobenzoyl group.

本発明の反応スキームを以下に示す。   The reaction scheme of the present invention is shown below.

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
以下に、各工程について詳細に説明する。
以下の各工程で得られる化合物は、常法によって単離(例えば、中和、抽出、濃縮、晶析等)または精製(例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー等)をすることができる。また、特に単離または精製することなく次工程に付することもできる。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
Below, each process is demonstrated in detail.
The compounds obtained in the following steps should be isolated (eg, neutralized, extracted, concentrated, crystallized, etc.) or purified (eg, recrystallized, column chromatography, thin layer chromatography, etc.) by conventional methods. Can do. Moreover, it can also attach | subject to a next process, without isolating or refine | purifying in particular.

工程(a)
工程(a)では、D−キシロースを酸の存在下で化合物(III)と反応させて、下式(II’)で表される化合物(以下、化合物(II’)ともいう)を得、次いで、当該化合物を酸加水分解して3位および5位のヒドロキシ基を選択的に脱保護することにより、1位および2位のヒドロキシ基のみを保護した化合物(IV)を製造することができる。
Step (a)
In step (a), D-xylose is reacted with compound (III) in the presence of an acid to obtain a compound represented by the following formula (II ′) (hereinafter also referred to as compound (II ′)), The compound (IV) in which only the 1-position and 2-position hydroxy groups are protected can be produced by acid-hydrolyzing the compound and selectively deprotecting the 3-position and 5-position hydroxy groups.

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
第1工程
第1工程は、具体的には、D−キシロース、化合物(III)および酸を混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
First Step The first step is specifically carried out by mixing D-xylose, compound (III) and an acid, but the mixing order thereof is not particularly limited.

使用される酸としては、特に限定はなく、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸;酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸が挙げられ、中でも、無機酸が好ましく、硫酸、塩酸がより好ましい。酸の使用量は、D−キシロースに対して、通常0.1当量〜10当量であり、好ましくは0.5当量〜2当量である。   The acid used is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; acetic acid, trifluoroacetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, Examples include organic acids such as trifluoromethanesulfonic acid, among which inorganic acids are preferable, and sulfuric acid and hydrochloric acid are more preferable. The usage-amount of an acid is 0.1 equivalent-10 equivalent normally with respect to D-xylose, Preferably it is 0.5 equivalent-2 equivalent.

化合物(III)の使用量は、D−キシロースに対して、通常1当量〜100当量であり、好ましくは10当量〜50当量である。   The usage-amount of compound (III) is 1 equivalent-100 equivalent normally with respect to D-xylose, Preferably it is 10 equivalent-50 equivalent.

この工程は、脱水剤の存在下で実施することが好ましい。脱水剤としては、無水硫酸銅(II)、無水硫酸マグネシウム等が挙げられ、中でも、無水硫酸銅(II)が好ましい。脱水剤の使用量は、D−キシロースに対して、通常0.1重量倍〜10重量倍であり、好ましくは1重量倍〜5重量倍である。   This step is preferably carried out in the presence of a dehydrating agent. Examples of the dehydrating agent include anhydrous copper sulfate (II) and anhydrous magnesium sulfate. Among them, anhydrous copper sulfate (II) is preferable. The usage-amount of a dehydrating agent is 0.1 weight times-10 weight times normally with respect to D-xylose, Preferably it is 1 weight times-5 weight times.

この工程では、化合物(III)を大過剰用いる場合には、溶媒を兼ねてもよく、あるいは別途溶媒を使用してよい。溶媒としては、例えば、トルエン、酢酸エチル等が挙げられる。   In this step, when compound (III) is used in a large excess, it may also serve as a solvent, or a separate solvent may be used. Examples of the solvent include toluene, ethyl acetate and the like.

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

得られる化合物(II’)は、アンモニア、炭酸水素アンモニウム等で中和後、抽出、濾過、濃縮等の常法により、単離することができる。   The resulting compound (II ′) can be isolated by a conventional method such as extraction, filtration, concentration, etc. after neutralization with ammonia, ammonium hydrogen carbonate or the like.

第2工程
第2工程は、化合物(II’)を酸で処理することにより実施される。
Second Step The second step is carried out by treating compound (II ′) with an acid.

使用される酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸;酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸が挙げられ、中でも、無機酸が好ましく、塩酸がより好ましい。酸の使用量は、反応溶液のpHが1〜2となるように添加すればよい。pHがこの範囲より低いと1位および2位のヒドロキシ基も脱保護されやすくなり、逆に、この範囲より高いと3位および5位のヒドロキシ基を脱保護できなくなるので、好ましくない。   Examples of the acid used include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; organic acids such as acetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid. Among these, inorganic acids are preferable, and hydrochloric acid is more preferable. What is necessary is just to add the usage-amount of an acid so that the pH of a reaction solution may be 1-2. If the pH is lower than this range, the 1-position and 2-position hydroxy groups are also easily deprotected. Conversely, if the pH is higher than this range, the 3-position and 5-position hydroxy groups cannot be deprotected.

この工程では、酸を大過剰用いた場合には、溶媒を兼ねてもよく、あるいは別途溶媒を使用してよい。使用される溶媒としては、例えば、水、水とアルコール類(例、メタノール、エタノール等)との混合溶媒等が挙げられ、中でも、水が好ましい。   In this step, when a large excess of acid is used, it may serve as a solvent or a separate solvent may be used. Examples of the solvent to be used include water, a mixed solvent of water and alcohols (eg, methanol, ethanol, etc.), and the like, among which water is preferable.

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(b)
工程(b)では、化合物(IV)の5位のヒドロキシ基を選択的に保護することにより、化合物(V)を製造することができる。
工程(b)では、置換基を有していてもよいベンゾイル基(例、ベンゾイル、トルオイル、p−クロロベンゾイル等)のように立体的に比較的嵩高い保護基を用いることによって、5位のヒドロキシ基のみを選択的に保護することができる。
Step (b)
In step (b), compound (V) can be produced by selectively protecting the hydroxy group at the 5-position of compound (IV).
In the step (b), by using a sterically relatively bulky protective group such as a benzoyl group (eg, benzoyl, toluoyl, p-chlorobenzoyl etc.) which may have a substituent, the 5-position Only the hydroxy group can be selectively protected.

具体的には、化合物(IV)、対応するハロゲン化ベンゾイルおよび塩基を溶媒中で混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。   Specifically, it is carried out by mixing compound (IV), the corresponding benzoyl halide and base in a solvent, but the mixing order is not particularly limited.

使用されるハロゲン化ベンゾイルとしては、例えば、塩化ベンゾイル、塩化p−トルオイル、塩化p−クロロベンゾイル等が挙げられる。ハロゲン化ベンゾイルの使用量は、化合物(IV)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜2当量である。   Examples of the benzoyl halide used include benzoyl chloride, p-toluoyl chloride, and p-chlorobenzoyl chloride. The amount of the benzoyl halide to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 2 equivalents, relative to compound (IV).

使用される塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、2以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。中でも、ピリジン、トリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、化合物(IV)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜3当量である。   Examples of the base used include pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine and the like, and two or more bases may be used in combination. Of these, pyridine and triethylamine are preferable. The amount of the base to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 3 equivalents, relative to compound (IV).

使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば、トルエン、酢酸エチル等を単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量としては、化合物(IV)に対して、通常1重量倍〜100重量倍であり、好ましくは5重量倍〜20重量倍である。   Any solvent may be used as long as it does not inhibit the reaction. For example, toluene, ethyl acetate and the like can be used alone or in combination. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 100 times by weight, preferably 5 to 20 times by weight, relative to compound (IV).

反応温度は、通常−10℃〜100℃、好ましくは0℃〜10℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of −10 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 10 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(c)
工程(c)では、化合物(V)の3位のヒドロキシ基を酸化することにより、化合物(VI)を製造することができる。酸化方法としては、公知の様々な方法(例えば、Pfitzner−Moffatt酸化、スワン酸化、デスマーチン酸化等)が挙げられる。以下、Pfitzner−Moffatt酸化について説明するが、これに限定されるものではない。
Step (c)
In step (c), compound (VI) can be produced by oxidizing the hydroxy group at the 3-position of compound (V). Examples of the oxidation method include various known methods (for example, Pfitzner-Moffatt oxidation, swan oxidation, desmartin oxidation, etc.). Hereinafter, although Pfitzner-Moffatt oxidation is demonstrated, it is not limited to this.

Pfitzner−Moffatt酸化は、具体的には、化合物(V)、ジメチルスルホキシド、カルボジイミド系縮合剤および酸を溶媒中で混合させることにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。   Specifically, the Pfitzner-Moffatt oxidation is carried out by mixing the compound (V), dimethyl sulfoxide, a carbodiimide condensing agent and an acid in a solvent, but the mixing order is not particularly limited.

使用される溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタン等を単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量は、化合物(V)に対して、通常1重量倍〜10重量倍であり、好ましくは5重量倍〜20重倍である。   Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction. For example, toluene, chloroform, dichloromethane or the like can be used alone or in combination. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 10 times, preferably 5 to 20 times the compound (V).

ジメチルスルホキシドの使用量は、化合物(V)に対して、通常1当量〜20当量であり、好ましくは2当量〜10当量である。   The amount of dimethyl sulfoxide to be used is generally 1 equivalent to 20 equivalents, preferably 2 equivalents to 10 equivalents, relative to compound (V).

カルボジイミド系縮合剤としては、例えば、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド塩酸塩(EDC)等が挙げられ、中でも、DCCが好ましい。カルボジイミド系縮合剤の使用量は、化合物(V)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1.1当量〜1.5当量である。   Examples of the carbodiimide condensing agent include N, N′-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), N- (3-dimethylaminopropyl) -N′-ethylcarbodiimide hydrochloride (EDC), and among them, DCC is preferable. . The amount of the carbodiimide condensing agent to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1.1 equivalent to 1.5 equivalents, relative to compound (V).

酸としては、例えば、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸等が挙げられ、中でも、トリフルオロ酢酸が好ましい。酸の使用量は、化合物(V)に対して、通常0.01当量〜1当量であり、好ましくは0.05当量〜0.2当量である。   Examples of the acid include trifluoroacetic acid and chloroacetic acid. Among them, trifluoroacetic acid is preferable. The usage-amount of an acid is 0.01 equivalent-1 equivalent normally with respect to compound (V), Preferably it is 0.05 equivalent-0.2 equivalent.

当該酸化反応は、塩基の存在下で実施することが好ましい。当該塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、中でも、ピリジン、トリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、化合物(V)に対して、通常0.01当量〜1当量であり、好ましくは0.05当量〜0.5当量である。   The oxidation reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of the base include pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine, and among them, pyridine and triethylamine are preferable. The usage-amount of a base is 0.01 equivalent-1 equivalent normally with respect to compound (V), Preferably it is 0.05 equivalent-0.5 equivalent.

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(d)
工程(d)では、化合物(VI)の3位のカルボニル基を還元することにより、化合物(VII)を製造することができる。工程(c)および(d)の酸化・還元反応により、3位のヒドロキシ基がα位に反転して、リボフラノース誘導体とすることができる。
Step (d)
In step (d), compound (VII) can be produced by reducing the carbonyl group at the 3-position of compound (VI). By the oxidation / reduction reaction in steps (c) and (d), the hydroxy group at the 3-position can be inverted to the α-position to obtain a ribofuranose derivative.

工程(d)は、具体的には、化合物(VI)および還元剤を溶媒中で混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム等が挙げられ、中でも、水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。還元剤の使用量は、化合物(VI)に対して、通常0.5当量〜5当量であり、好ましくは1当量〜1.5当量である。
Step (d) is specifically carried out by mixing compound (VI) and a reducing agent in a solvent, but the order of mixing is not particularly limited.
Examples of the reducing agent include sodium borohydride and lithium borohydride, among which sodium borohydride is preferable. The amount of the reducing agent to be used is generally 0.5 equivalent to 5 equivalents, preferably 1 equivalent to 1.5 equivalents, relative to compound (VI).

使用される溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、アルコールと水の混合溶媒等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物(VI)に対して、通常1重量倍〜100重量倍であり、好ましくは5重量倍〜20重量倍である。   The solvent used may be any solvent as long as it does not inhibit this reaction, and examples thereof include alcohols such as methanol and ethanol, mixed solvents of alcohol and water, and the like. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 100 times by weight, preferably 5 to 20 times by weight, relative to compound (VI).

反応温度は、通常−50℃〜100℃、好ましくは−10℃〜20℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of −50 ° C. to 100 ° C., preferably −10 ° C. to 20 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(e)
工程(e)では、化合物(VII)の保護基Pを除去した後、塩基の存在下で化合物(VIII)を反応させることにより、化合物(IX)を製造することができる。
塩基の種類によっては、工程(e)は、化合物(VII)、化合物(VIII)および塩基を溶媒中で混合することにより、保護基Pの除去も同時に実施できる。なお、それらの混合順序は特に制限されない。
Step (e)
In the step (e), the compound (IX) can be produced by removing the protecting group P 1 from the compound (VII) and then reacting the compound (VIII) in the presence of a base.
Depending on the type of base, in step (e), compound (VII), compound (VIII) and a base can be mixed in a solvent to simultaneously remove the protecting group P 1 . The order of mixing them is not particularly limited.

使用される化合物(VIII)としては、臭化ベンジル、塩化ベンジル等が好ましい。化合物(VIII)の使用量は、化合物(VII)に対して、通常2当量〜20当量であり、好ましくは2当量〜25当量である。   As the compound (VIII) used, benzyl bromide, benzyl chloride and the like are preferable. The amount of compound (VIII) to be used is generally 2 to 20 equivalents, preferably 2 to 25 equivalents, relative to compound (VII).

使用される塩基としては、保護基Pの除去も同時に実施できる点から、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類等が好ましく、中でも、水素化ナトリウムがより好ましい。塩基の使用量は、化合物(VII)に対して、通常2当量〜20当量であり、好ましくは2当量〜3当量である。 As the base to be used, alkali metal hydrides such as sodium hydride, lithium hydride, potassium hydride and the like are preferable since the removal of the protecting group P 1 can be simultaneously performed. . The amount of the base to be used is generally 2 equivalents to 20 equivalents, preferably 2 equivalents to 3 equivalents, relative to compound (VII).

使用される溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、トルエン等を単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量は、化合物(VII)に対して、通常2重量倍〜20重量倍であり、好ましくは5重量倍〜10重量倍である。   Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction. For example, tetrahydrofuran, toluene and the like can be used alone or in combination. The amount of the solvent to be used is generally 2 to 20 times by weight, preferably 5 to 10 times by weight, relative to compound (VII).

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは20℃〜80℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 20 ° C to 80 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(f)
工程(f)では、化合物(IX)を酸加水分解して、1および2位のヒドロキシ基を脱保護することにより、化合物(X)を製造することができる。この化合物(X)は新規化合物であり、アンチセンス医薬等の中間体として有用である。
工程(f)は、具体的には、化合物(IX)と酸を溶媒中で混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
Step (f)
In step (f), compound (IX) can be produced by acid hydrolysis of compound (IX) to deprotect the 1- and 2-position hydroxy groups. This compound (X) is a novel compound and is useful as an intermediate for antisense drugs and the like.
Step (f) is specifically carried out by mixing compound (IX) and an acid in a solvent, but the mixing order is not particularly limited.

使用される酸としては、特に限定はなく、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸;酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸が挙げられ、中でも、有機酸が好ましく、トリフルオロ酢酸がより好ましい。酸の使用量は、化合物(IX)に対して、通常10当量〜100当量であり、好ましくは20当量〜50当量である。   The acid used is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; acetic acid, trifluoroacetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, Examples include organic acids such as trifluoromethanesulfonic acid, among which organic acids are preferable, and trifluoroacetic acid is more preferable. The amount of the acid to be used is generally 10 equivalents to 100 equivalents, preferably 20 equivalents to 50 equivalents, relative to compound (IX).

使用される溶媒としては、例えば、水、水とアルコール類(例、メタノール、エタノール等)との混合溶媒等が挙げられ、水が好ましい。溶媒の使用量としては、化合物(IX)に対して、通常1重量倍〜10重量倍であり、より好ましくは2重量倍〜10重量倍である。   Examples of the solvent used include water, a mixed solvent of water and alcohols (eg, methanol, ethanol and the like), and the like, and water is preferable. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 10 times by weight, more preferably 2 to 10 times by weight, relative to compound (IX).

反応温度は、通常−10℃〜100℃、好ましくは−5℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of -10 ° C to 100 ° C, preferably -5 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

なお、得られた化合物(X)のアノマー炭素原子の置換基OHは、α位でもβ位でもどちらの立体配置も自由に取ることができる。従って、化合物(X)のアノマー炭素原子の置換基OHの立体配置は何ら限定されず、立体配置がα位であるもの、β位であるものおよびそれらの混合のいずれでもよく、具体的には、置換基OHの立体配置がα位であるものとβ位であるものとの比率が、0:100〜100:0まで任意の割合となる。   In addition, the substituent OH of the anomeric carbon atom of the obtained compound (X) can take any configuration at the α-position or β-position. Therefore, the steric configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom of the compound (X) is not limited at all, and any of those in which the steric configuration is α-position, β-position and a mixture thereof may be used. The ratio of the steric configuration of the substituent OH to the α-position and the β-position is any ratio from 0: 100 to 100: 0.

工程(g)
工程(g)では、化合物(X)の1および2位のヒドロキシ基をアシル化することにより、化合物(I)を製造することができる。この化合物(I)は、アンチセンス医薬等の中間体として有用である。
工程(g)は、具体的には、溶媒中、化合物(X)、アシル化剤および塩基を混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
Step (g)
In step (g), compound (I) can be produced by acylating the 1- and 2-position hydroxy groups of compound (X). This compound (I) is useful as an intermediate for antisense drugs and the like.
The step (g) is specifically carried out by mixing the compound (X), the acylating agent and the base in a solvent, but the mixing order is not particularly limited.

使用されるアシル化剤としては、Rで表される「置換基を有していてもよいアシル基」に対応する酸無水物またはアシルハライド等が挙げられ、中でも、無水酢酸、アセチルクロリド等が好ましく、無水酢酸がより好ましい。アシル化剤の使用量は、化合物(X)に対して、通常2当量〜20当量であり、好ましくは2当量〜10当量である。 The acylating agent to be used, acid anhydride corresponding to the "optionally substituted acyl group" represented by R 4 or an acyl halide, and the like. Among these, acetic anhydride, acetyl chloride, etc. Is preferred, and acetic anhydride is more preferred. The amount of the acylating agent to be used is generally 2 equivalents to 20 equivalents, preferably 2 equivalents to 10 equivalents, relative to compound (X).

使用される塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、2以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。中でも、ピリジンとジメチルアミノピリジンの組み合わせが好ましい。塩基の使用量は、化合物(X)に対して、通常0.01当量〜2当量であり、好ましくは0.1当量〜1当量である。   Examples of the base used include pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine and the like, and two or more bases may be used in combination. Among these, a combination of pyridine and dimethylaminopyridine is preferable. The usage-amount of a base is 0.01 equivalent-2 equivalent normally with respect to compound (X), Preferably it is 0.1 equivalent-1 equivalent.

使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル等を単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量としては、化合物(X)に対して、通常1重量倍〜20重量倍であり、より好ましくは5重量倍〜10重量倍である。   Any solvent may be used as long as it does not inhibit the reaction. For example, tetrahydrofuran, toluene, ethyl acetate and the like can be used alone or in combination. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 20 times by weight, more preferably 5 to 10 times by weight, relative to compound (X).

反応温度は、通常−10℃〜100℃、好ましくは0℃〜10℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of −10 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 10 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

なお、得られた化合物(I)のアノマー炭素原子の置換基OHは、化合物(X)の場合と同様に、α位でもβ位でもどちらの立体配置も自由に取ることができる。従って、化合物(X)のアノマー炭素原子の置換基OHの立体配置は何ら限定されず、立体配置がα位であるもの、β位であるものおよびそれらの混合のいずれでもよく、具体的には、置換基OHの立体配置がα位であるものとβ位であるものとの比率が、0:100〜100:0まで任意の割合となる。   In addition, the substituent OH of the anomeric carbon atom of the obtained compound (I) can freely adopt either steric configuration at the α-position or the β-position as in the case of the compound (X). Therefore, the steric configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom of the compound (X) is not limited at all, and any of those in which the steric configuration is α-position, β-position and a mixture thereof may be used. The ratio of the steric configuration of the substituent OH to the α-position and the β-position is any ratio from 0: 100 to 100: 0.

このようにして得られたリボフラノース化合物である化合物(I)は、以下の工程(h)により、プリンヌクレオシド化合物へと導かれる。   The compound (I) which is the ribofuranose compound thus obtained is led to a purine nucleoside compound by the following step (h).

工程(h)
工程(h)では、化合物(I)と化合物(XI)をニトリル系溶媒またはエステル系溶媒中、シリル化剤およびルイス酸の存在下で反応させることにより、下式(XII”)で表される化合物(以下、化合物(XII”)ともいう)を得、次いで、化合物(XII”)の2’位を脱アシル化することにより、化合物(XII)を製造することができる。
Step (h)
In the step (h), the compound (I) and the compound (XI) are reacted in a nitrile solvent or an ester solvent in the presence of a silylating agent and a Lewis acid, thereby being represented by the following formula (XII ″). Compound (XII) can be produced by obtaining a compound (hereinafter also referred to as compound (XII ″)) and then deacylating the 2 ′ position of compound (XII ″).

Figure 2007137843
Figure 2007137843

第1工程
工程(h)の第1工程は、具体的には、通常、化合物(I)、化合物(XI)、シリル化剤およびルイス酸を溶媒中で混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されず、例えば、化合物(I)、化合物(XI)、シリル化剤、ルイス酸および溶媒を一括混合してもよいし、化合物(XI)、シリル化剤および溶媒を混合した後、化合物(I)およびルイス酸を加えてもよい。また、化合物(I)、化合物(XI)、シリル化剤および溶媒を混合した後、ルイス酸を加えてもよいし、化合物(XI)、シリル化剤、ルイス酸および溶媒を混合した後、化合物(I)を加えてもよい。収率および化合物(I)の安定性の点で、化合物(XI)、シリル化剤および溶媒を混合した後、化合物(I)およびルイス酸を加えることが好ましい。
The first step of the first step step (h), specifically, usually, Compound (I), the compound (XI), but silylating agent and a Lewis acid is carried out by mixing in a solvent, they The order of mixing is not particularly limited. For example, compound (I), compound (XI), silylating agent, Lewis acid and solvent may be mixed together, or compound (XI), silylating agent and solvent may be mixed. Thereafter, compound (I) and Lewis acid may be added. Further, after mixing compound (I), compound (XI), silylating agent and solvent, Lewis acid may be added, or after mixing compound (XI), silylating agent, Lewis acid and solvent, compound (I) may be added. In terms of yield and stability of compound (I), it is preferable to add compound (I) and Lewis acid after mixing compound (XI), silylating agent and solvent.

化合物(XI)としては、例えば、6−フルオロプリン、6−クロロプリン、2,6−ジクロロプリン、2−アミノ−6−クロロプリン、2−アミノ−6−ヨードプリン等が挙げられ、中でも、2−アミノ−6−クロロプリンが好ましい。化合物(XI)は、市販されているものを用いてもよいし、例えば、特開平5−170766号公報、特開平6−157530号公報、特開平11−60575号公報、特開2002−88082号公報等の公知の方法に準じて製造したものを用いてもよい。化合物(XI)の使用量は、化合物(I)に対して、通常0.1〜1当量であり、好ましくは0.2〜1当量である。   Examples of the compound (XI) include 6-fluoropurine, 6-chloropurine, 2,6-dichloropurine, 2-amino-6-chloropurine, 2-amino-6-iodopurine and the like. 2-Amino-6-chloropurine is preferred. Compound (XI) may be a commercially available one, for example, JP-A-5-170766, JP-A-6-157530, JP-A-11-60575, JP-A-2002-88082. You may use what was manufactured according to well-known methods, such as a gazette. The amount of compound (XI) to be used is generally 0.1 to 1 equivalent, preferably 0.2 to 1 equivalent, relative to compound (I).

シリル化剤としては、例えば、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルシリルクロリド等の単独または混合物が挙げられ、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミドが好ましい。かかるシリル化剤の使用量は、化合物(XI)に対して、通常0.8当量〜5当量である。   Examples of the silylating agent include N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide, hexamethyldisilazane, trimethylsilyl chloride and the like, and N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide is preferable. The amount of the silylating agent to be used is generally 0.8 equivalent to 5 equivalents relative to compound (XI).

ルイス酸としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、トリメチルシリルヨーダイド等が挙げられ、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルが好ましい。かかるルイス酸は、通常市販されているものが用いられ、その使用量は、あまり多すぎると、不純物の副生が増加するため、化合物(I)および化合物(XI)のうちの使用量の少ない方に対して、通常0.005当量〜1当量、好ましくは0.01当量〜0.5当量である。   Examples of the Lewis acid include trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate and trimethylsilyl iodide, and trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate is preferable. As such Lewis acid, a commercially available product is usually used. If the amount used is too large, by-product formation of impurities increases, so that the amount used of compound (I) and compound (XI) is small. The amount is usually 0.005 to 1 equivalent, preferably 0.01 to 0.5 equivalent.

ニトリル系溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等の親水性ニトリル系溶媒が挙げられ、エステル系溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル等が挙げられる。反応後の処理が容易で、目的とする化合物(XII”)を結晶として取り出しやすいという点で、親水性ニトリル系溶媒が好ましく、中でも、アセトニトリルが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XI)に対して、通常1重量倍〜20重量倍である。   Examples of the nitrile solvent include hydrophilic nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, and examples of the ester solvent include ethyl acetate and propyl acetate. A hydrophilic nitrile solvent is preferable in that the treatment after the reaction is easy and the target compound (XII ″) can be easily taken out as crystals, and among them, acetonitrile is preferable. The amount of the solvent used is the compound (XI). On the other hand, it is usually 1 to 20 times by weight.

この反応は、常圧条件下で実施してもよいし、加圧条件下で実施してもよい。また、シリル化剤等の分解を抑えるため、例えば、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。
反応温度は、通常0〜150℃、好ましくは50〜150℃である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。
This reaction may be carried out under normal pressure conditions or under pressurized conditions. Moreover, in order to suppress decomposition | disassembly of a silylating agent etc., it is preferable to implement in inert gas atmosphere, such as nitrogen gas, for example.
The reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

反応終了後、必要に応じて、アンモニア水、炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液にて中和後、抽出、濃縮等の常法により、単離することができる。なお、例えば、アセトニトリル等の親水性ニトリル系溶媒を用いた場合には、中和後、水を混合することにより、化合物(XII”)が結晶として析出するため、濾過等の手段により、容易に単離することができる。   After completion of the reaction, it can be isolated by a conventional method such as extraction or concentration after neutralization with an aqueous alkaline solution such as aqueous ammonia or aqueous sodium hydrogen carbonate solution, if necessary. For example, when a hydrophilic nitrile solvent such as acetonitrile is used, compound (XII ″) is precipitated as crystals by mixing water after neutralization. Can be isolated.

第2工程
工程(h)の第2工程では、化合物(XII”)の2’位を脱アシル化することにより、化合物(XII)を製造することができる。脱アシル化反応としては、加水分解またはアルコール分解等が挙げられる。具体的には、化合物(XII”)を溶媒中で酸または塩基と処理することにより実施される。
In the second step of the second step step (h), the compound (XII) can be produced by deacylating the 2 ′ position of the compound (XII ″). The deacylation reaction includes hydrolysis. Or alcohol decomposition etc. Specifically, it implements by processing a compound (XII ") with an acid or a base in a solvent.

使用される酸としては、例えば、塩酸、硫酸等が挙げられ、塩基としては、アンモニア、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられ、アンモニア、水酸化ナトリウムが好ましい。
酸または塩基の使用量は、化合物(I)に対し、通常0.1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜5当量である。
Examples of the acid used include hydrochloric acid and sulfuric acid, and examples of the base include ammonia, sodium hydroxide, sodium carbonate and the like, and ammonia and sodium hydroxide are preferable.
The amount of the acid or base to be used is generally 0.1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 5 equivalents, relative to compound (I).

使用される溶媒としては、例えば、水、アルコール(例、メタノール、エタノール等)または水とアルコール類との混合溶媒等が挙げられ、メタノールが好ましい。溶媒の使用量としては、化合物(I)に対して、通常1重量倍〜20重量倍である。   Examples of the solvent used include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, etc.) or a mixed solvent of water and alcohol, and methanol is preferable. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 20 times by weight with respect to compound (I).

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

化合物(XII)において、Rがベンジル基であり、Yが塩素原子であり、かつYがアミノ基である化合物(XII’)は、下記反応スキームで示される工程(i)ないし(m)により、アンチセンス医薬の合成中間体として有用な化合物(XVII)に導くことができる。 In compound (XII), compound (XII ′) in which R 3 is a benzyl group, Y 1 is a chlorine atom, and Y 2 is an amino group is represented by steps (i) to (m) shown in the following reaction scheme. ) Can lead to a compound (XVII) that is useful as a synthetic intermediate for antisense drugs.

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、Bnはベンジル基を示し、DMTはジメトキシトリチル基を示す。)
以下、工程(i)ないし(m)について詳細に説明する。
(In the formula, Bn represents a benzyl group, and DMT represents a dimethoxytrityl group.)
Hereinafter, the steps (i) to (m) will be described in detail.

工程(i)
工程(i)では、化合物(XII’)の6位の塩素原子をベンジルオキシ化することにより、化合物(XIII)を製造することができる。工程(i)は、具体的には、ベンジルアルコールを塩基と反応させてベンジルアルコキシドとした後、化合物(XII’)を添加することにより実施することができる。
Step (i)
In step (i), compound (XIII) can be produced by benzyloxylating the 6-position chlorine atom of compound (XII ′). Specifically, the step (i) can be performed by reacting benzyl alcohol with a base to form a benzyl alkoxide, and then adding the compound (XII ′).

ベンジルアルコールの使用量は、化合物(XII’)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜5当量である。   The amount of benzyl alcohol to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 5 equivalents, relative to compound (XII ′).

使用される塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類;水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類等が挙げられ、好ましくは水酸化ナトリウムである。塩基の使用量は、ベンジルアルコールに対して、通常0.5当量〜2当量であり、好ましくは0.8当量〜1.5当量である。   Examples of the base used include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, lithium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal hydrides such as sodium hydride, lithium hydride and potassium hydride; Is sodium hydroxide. The usage-amount of a base is 0.5 equivalent-2 equivalent normally with respect to benzyl alcohol, Preferably it is 0.8 equivalent-1.5 equivalent.

ベンジルアルコキシド生成反応は、溶媒中で行ってもよいが、無溶媒で行ってもよい。溶媒を用いる場合は、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル等が用いられる。   The benzyl alkoxide production reaction may be performed in a solvent, or may be performed without a solvent. When a solvent is used, for example, toluene, xylene, ethyl acetate or the like is used.

ベンジルアルコキシド生成の反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは50℃〜100℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature for producing benzylalkoxide is usually in the range of 0 to 100 ° C, preferably 50 to 100 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

次いで、ベンジルアルコキシドを含む反応混合物に化合物(XII’)を添加し、通常0℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲で反応させる。反応時間は、通常1時間〜24時間である。   Subsequently, compound (XII ') is added to the reaction mixture containing benzyl alkoxide, and the reaction is usually carried out in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 0 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours.

工程(j)
工程(j)では、化合物(XIII)の2’位のヒドロキシ基をメトキシエチル化することにより、化合物(XIV)を製造することができる。工程(j)は、具体的には、化合物(XIII)、メトキシエチルハライドおよび塩基を溶媒中で混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
Step (j)
In step (j), compound (XIV) can be produced by methoxyethylating the 2′-position hydroxy group of compound (XIII). Step (j) is specifically carried out by mixing compound (XIII), methoxyethyl halide and a base in a solvent, but the mixing order is not particularly limited.

メトキシエチルハライドとしては、例えば、2−ブロモエチルメチルエーテルが好ましい。メトキシエチルハライドの使用量は、化合物(XIII)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜5当量である。
また、メトキシエチルハライドを活性化するため、テトラブチルアンモニウムヨージド等のヨウ化物を添加してもよい。ヨウ化物の使用量は、メトキシエチルハライドに対して、通常0.01当量〜1当量であり、好ましくは0.05当量〜0.2当量である。
As the methoxyethyl halide, for example, 2-bromoethyl methyl ether is preferable. The amount of methoxyethyl halide to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 5 equivalents, relative to compound (XIII).
In order to activate methoxyethyl halide, an iodide such as tetrabutylammonium iodide may be added. The usage-amount of iodide is 0.01 equivalent-1 equivalent normally with respect to a methoxyethyl halide, Preferably it is 0.05 equivalent-0.2 equivalent.

使用される塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類が挙げられ、水素化ナトリウムが好ましい。塩基の使用量は、化合物(XIII)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜5当量である。   Examples of the base to be used include alkali metal hydrides such as sodium hydride, lithium hydride and potassium hydride, and sodium hydride is preferable. The amount of the base to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 5 equivalents, relative to compound (XIII).

使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル等を単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量としては、化合物(XIII)に対して、通常1重量倍〜20重量倍であり、より好ましくは3重量倍〜10重量倍である。   Any solvent may be used as long as it does not inhibit the reaction. For example, tetrahydrofuran, toluene, ethyl acetate and the like can be used alone or in combination. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 20 times by weight, more preferably 3 to 10 times by weight, relative to compound (XIII).

工程(j)では、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミドのような強塩基をさらに使用するのが好ましい。かかる強塩基の使用量は、化合物(XIII)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜5当量である。   In step (j), it is preferable to further use a strong base such as lithium hexamethyldisilazide or lithium diisopropylamide. The amount of the strong base to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 5 equivalents, relative to compound (XIII).

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(k)
工程(k)では、化合物(XIV)の2位のアミノ基をイソブチリル化することにより、化合物(XV)が製造される。工程(k)は、具体的には、化合物(XIV)、イソブチリルクロリドおよび塩基を混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
Step (k)
In step (k), compound (XV) is produced by isobutyrylating the amino group at the 2-position of compound (XIV). Step (k) is specifically carried out by mixing compound (XIV), isobutyryl chloride and a base, but the mixing order thereof is not particularly limited.

イソブチリルクロリドの使用量は、化合物(XIV)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは1当量〜2当量である。   The amount of isobutyryl chloride to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 1 equivalent to 2 equivalents, relative to compound (XIV).

使用される塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、2以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。中でも、ピリジン、トルエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、化合物(XIV)に対して、通常1当量〜100当量であり、好ましくは1当量〜50当量である。   Examples of the base used include pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine and the like, and two or more bases may be used in combination. Of these, pyridine and toluethylamine are preferable. The amount of the base to be used is generally 1 equivalent to 100 equivalents, preferably 1 equivalent to 50 equivalents, relative to compound (XIV).

工程(k)は、溶媒中で行ってもよいが、無溶媒で行ってもよい。溶媒を用いる場合は、例えば、トルエン、酢酸エチル等が用いられる。   The step (k) may be performed in a solvent, but may be performed without a solvent. When a solvent is used, for example, toluene, ethyl acetate or the like is used.

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(l)
工程(l)では、化合物(XV)の5’位を脱ベンジル化することにより、化合物(XVI)を製造することができる。この時、6位および3’位も同時に脱ベンジル化される。脱ベンジル化反応としては、加水素分解反応が好ましい。以下、加水素分解反応について説明するが、工程(l)はこれに限定されない。
Step (l)
In step (l), compound (XVI) can be produced by debenzylation of the 5 ′ position of compound (XV). At this time, the 6-position and the 3′-position are simultaneously debenzylated. As the debenzylation reaction, a hydrogenolysis reaction is preferable. Hereinafter, although hydrogenolysis reaction is demonstrated, process (l) is not limited to this.

加水素分解反応は、具体的には、溶媒中、化合物(XV)を触媒存在下、水素雰囲気中で攪拌することにより実施される。   Specifically, the hydrogenolysis reaction is carried out by stirring the compound (XV) in a solvent in the presence of a catalyst in a hydrogen atmosphere.

使用される触媒としては、パラジウム炭素、展開ニッケル等が挙げられ、なかでも、パラジウム炭素が好ましい。触媒の使用量は、化合物(XV)に対して、通常0.01重量倍〜10重量倍であり、より好ましくは0.1重量倍〜1重量倍である。   Examples of the catalyst used include palladium carbon and expanded nickel, and among them, palladium carbon is preferable. The usage-amount of a catalyst is 0.01 weight times-10 weight times normally with respect to compound (XV), More preferably, they are 0.1 weight times-1 weight times.

使用される溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、水等を単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量としては、化合物(XV)に対して、通常5重量倍〜100重量倍であり、より好ましくは10重量倍〜50重量倍である。   As the solvent to be used, for example, alcohols such as methanol and ethanol, tetrahydrofuran, water and the like can be used alone or in combination. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 100 times by weight, more preferably 10 to 50 times by weight, relative to compound (XV).

反応系中の水素圧は、特に限定されず、加圧しても常圧でもよく、常圧がさらに好ましい。   The hydrogen pressure in the reaction system is not particularly limited, and may be pressurized or normal pressure, and normal pressure is more preferable.

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

工程(m)
工程(m)では、化合物(XVI)の5’位のヒドロキシ基をジメチルトリチル化することにより、化合物(XVII)を製造することができる。工程(m)は、具体的には、化合物(XVI)、ジメチルトリチルクロリドおよび塩基を混合することにより実施されるが、それらの混合順序は特に制限されない。
Process (m)
In step (m), compound (XVII) can be produced by dimethyltritylation of the 5′-position hydroxy group of compound (XVI). The step (m) is specifically carried out by mixing the compound (XVI), dimethyltrityl chloride and a base, but the mixing order is not particularly limited.

ジメチルトリチルクロリドの使用量は、化合物(XVI)に対して、通常1当量〜5当量であり、好ましくは1当量〜2当量である。   The amount of dimethyltrityl chloride to be used is generally 1 equivalent to 5 equivalents, preferably 1 equivalent to 2 equivalents, relative to compound (XVI).

塩基としては、例えば、ピリジン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、2以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。中でも、2,6−ルチジン、ピリジンが好ましい。塩基の使用量は、化合物(XVI)に対して、通常1当量〜10当量であり、好ましくは2当量〜5当量である。   Examples of the base include pyridine, picoline, lutidine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine and the like, and two or more bases may be used in combination. Of these, 2,6-lutidine and pyridine are preferable. The amount of the base to be used is generally 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 2 equivalents to 5 equivalents, relative to compound (XVI).

工程(m)は、溶媒中で行ってもよいが、無溶媒で行ってもよい。溶媒を用いる場合は、例えば、トルエン、酢酸エチル等が用いられる。   The step (m) may be performed in a solvent, but may be performed without a solvent. When a solvent is used, for example, toluene, ethyl acetate or the like is used.

反応温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃の範囲である。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature is usually in the range of 0 ° C to 100 ° C, preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

以上の方法により製造することができる一般式(XVIII):   General formula (XVIII) that can be produced by the above method:

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表されるプリンリボヌクレオシド化合物(2−アミノ−6−クロロ−9β―(2’−O−アセチル−3’,5’−ジ−O−ベンジル)−D−リボフラノシルプリンを除く。)は、新規化合物であり、アンチセンス医薬の合成中間体として有用である。 (In the formula, each symbol is as defined above.) Purine ribonucleoside compound (2-amino-6-chloro-9β- (2′-O-acetyl-3 ′, 5′-di-O) -Benzyl) -D-ribofuranosylpurine is a novel compound and is useful as a synthetic intermediate for antisense drugs.

化合物(XVIII)において、Rが、水素原子、炭素数1〜10のアシル基または置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基であり、RおよびRが、それぞれ独立して、水素原子、炭素数7〜21のアラルキル基または炭素数1〜10のアシル基であり、Y1’が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいヒドロキシ基であり、かつY2’が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアミノ基である化合物が好ましく、中でも、Rが、水素原子、アセチル基または2−メトキシエチル基であり、RおよびRが、それぞれ独立して、水素原子、ベンジル基またはアセチル基であり、Y1’が、塩素原子、ベンジルオキシ基またはヒドロキシ基であり、かつY2’が、アミノ基またはイソブチリルアミノ基である化合物が特に好ましい。 In the compound (XVIII), R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon acyl group or carbon may have a substituent group having 1 to 10 carbon atoms, R 6 and R 7 are each Independently, it is a hydrogen atom, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms or an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, Y 1 ′ is a halogen atom or a hydroxy group which may have a substituent, and A compound in which Y 2 ′ is a halogen atom or an amino group which may have a substituent is preferable, and among them, R 5 is a hydrogen atom, an acetyl group or a 2-methoxyethyl group, and R 6 and R 7 but each independently a hydrogen atom, a benzyl group or acetyl group, Y 1 'is a chlorine atom, a benzyloxy group or a hydroxy group, and Y 2' is an amino group or isobutyrylamino Compounds is particularly preferred.

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

実施例1 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−キシロフラノースExample 1 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-xylofuranose

Figure 2007137843
Figure 2007137843

D−キシロース(30.0g)および無水硫酸銅(II)(40.0g)のアセトン(400ml)懸濁液に98%硫酸(10.0g)を加え、室温で7時間撹拌した。TLCにより反応が終了していることを確認したのち、その反応混合物を濾過した。得られたろ液に28%アンモニア水を加えて中和し、析出した結晶を濾過した。ろ液を濃縮し、残渣に水(150ml)を加えた。その溶液を0℃に冷却した後、35%塩酸を加え、pHが1以下になるようにした。室温で4時間撹拌し、TLCにより反応が終了していることを確認したのち、重炭酸ナトリウムで中和した。得られた溶液からトルエン(100ml)で3回抽出し、得られたトルエン溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、表題化合物(36g)を得た。収率95%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.32 (3H, s), 1.49 (3H, s), 4.07 (2H, m), 4.18 (1H, m), 4.33 (1H, d), 4.53 (1H, d), 5.98 (1H, d).
13C-NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 25.2, 25.8, 51.8, 60.1, 77.8, 84.6, 103.8, 110.7.
MS (CI, 70eV) m/z 191 (M++H, 100), 173 (20), 133(53).
98% sulfuric acid (10.0 g) was added to a suspension of D-xylose (30.0 g) and anhydrous copper sulfate (II) (40.0 g) in acetone (400 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. After confirming the completion of the reaction by TLC, the reaction mixture was filtered. The obtained filtrate was neutralized by adding 28% aqueous ammonia, and the precipitated crystals were filtered. The filtrate was concentrated and water (150 ml) was added to the residue. The solution was cooled to 0 ° C., and 35% hydrochloric acid was added to adjust the pH to 1 or less. After stirring at room temperature for 4 hours and confirming that the reaction was complete by TLC, it was neutralized with sodium bicarbonate. The obtained solution was extracted three times with toluene (100 ml), and the obtained toluene solution was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to obtain the title compound (36 g). Yield 95%
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.32 (3H, s), 1.49 (3H, s), 4.07 (2H, m), 4.18 (1H, m), 4.33 (1H, d), 4.53 (1H, d), 5.98 (1H, d).
13 C-NMR (CDCl 3 , 100 MHz) δ (ppm) 25.2, 25.8, 51.8, 60.1, 77.8, 84.6, 103.8, 110.7.
MS (CI, 70eV) m / z 191 (M + + H, 100), 173 (20), 133 (53).

実施例2−1 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−キシロフラノース 5−ベンゾエートExample 2-1 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-xylofuranose 5-benzoate

Figure 2007137843
Figure 2007137843

1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−キシロフラノース(3.99g)のトルエン(30ml)溶液にピリジン(1.56g)を加え、0℃に冷却し、塩化ベンゾイル(2.95g)を滴下した。TLCにより原料が消失していることを確認したのち、反応混合物をろ過した。ろ液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、表題化合物(4.53g)を得た。収率77%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.32 (3H, s), 1.51 (3H, s), 3.42 (1H, d), 4.20 (1H, m), 4.40 (2H, m), 4.59 (1H, d), 4.78 (1H, m), 5.97 (1H, d), 7.45 (2H, m), 7.59 (1H, m), 8.05 (2H, t).
13C-NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 26.2, 26.8, 61.4, 74.4, 78.5, 85.0, 104.7, 111.8, 128.4, 129.2, 129.8, 133.4, 167.2.
MS (CI, 70eV) m/z 294 (M+, 100), 236 (24).
Pyridine (1.56 g) is added to a toluene (30 ml) solution of 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-xylofuranose (3.99 g), cooled to 0 ° C., and benzoyl chloride (2 .95 g) was added dropwise. After confirming the disappearance of the raw material by TLC, the reaction mixture was filtered. The filtrate was concentrated and purified by silica gel column chromatography to give the title compound (4.53 g). Yield 77%
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.32 (3H, s), 1.51 (3H, s), 3.42 (1H, d), 4.20 (1H, m), 4.40 (2H, m), 4.59 (1H, d), 4.78 (1H, m), 5.97 (1H, d), 7.45 (2H, m), 7.59 (1H, m), 8.05 (2H, t).
13 C-NMR (CDCl 3, 100MHz) δ (ppm) 26.2, 26.8, 61.4, 74.4, 78.5, 85.0, 104.7, 111.8, 128.4, 129.2, 129.8, 133.4, 167.2.
MS (CI, 70eV) m / z 294 (M + , 100), 236 (24).

実施例2−2 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−キシロフラノース 5−(4’−メチルベンゾエート)
実施例2−1において、ピリジンの代わりにトリエチルアミンを、塩化ベンゾイルの代わりに塩化p−トルオイルをそれぞれ使用し、ジメチルアミノピリジンを追加したこと以外は実施例2−1と同様に行い、表題化合物を得た。収率73%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.32 (3H, s), 1.51 (3H, s), 2.42 (3H, s), 3.41 (1H, d), 4.17 (1H, m), 4.40 (2H, m), 4.59 (1H, d), 4.78 (1H, m), 5.96 (1H, d), 7.25 (2H, d), 7.94 (2H, d).
MS (CI, 70eV) m/z 309 (M+, 100), 251 (27).
Example 2-2 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-xylofuranose 5- (4′-methylbenzoate)
The same procedure as in Example 2-1 was performed except that triethylamine was used instead of pyridine, p-toluoyl chloride was used instead of benzoyl chloride, and dimethylaminopyridine was added. Obtained. Yield 73%
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.32 (3H, s), 1.51 (3H, s), 2.42 (3H, s), 3.41 (1H, d), 4.17 (1H, m), 4.40 (2H, m), 4.59 (1H, d), 4.78 (1H, m), 5.96 (1H, d), 7.25 (2H, d), 7.94 (2H, d).
MS (CI, 70eV) m / z 309 (M + , 100), 251 (27).

実施例2−3 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−キシロフラノース 5−(4’−クロロベンゾエート)
実施例2−1において、ピリジンの代わりにトリエチルアミンを、塩化ベンゾイルの代わりに塩化4−クロロベンゾイルをそれぞれ使用し、ジメチルアミノピリジンを追加したこと以外は実施例2−1と同様に行い、表題化合物を得た。収率48%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.32 (3H, s), 1.51 (3H, s), 2.42 (3H, s), 3.41 (1H, d), 4.17 (1H, m), 4.40 (2H, m), 4.59 (1H, d), 4.78 (1H, m), 5.96 (1H, d), 7.25 (2H, d), 7.94 (2H, d).
Example 2-3 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-xylofuranose 5- (4′-chlorobenzoate)
The title compound was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that triethylamine was used instead of pyridine, 4-chlorobenzoyl chloride was used instead of benzoyl chloride, and dimethylaminopyridine was added. Got. Yield 48%
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.32 (3H, s), 1.51 (3H, s), 2.42 (3H, s), 3.41 (1H, d), 4.17 (1H, m), 4.40 (2H, m), 4.59 (1H, d), 4.78 (1H, m), 5.96 (1H, d), 7.25 (2H, d), 7.94 (2H, d).

実施例3 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−エリスロペンタフラノ−3−ロース 5−ベンゾエートExample 3 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-erythropentafurano-3-rose 5-benzoate

Figure 2007137843
Figure 2007137843

1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−キシロフラノース 5−ベンゾエート(3.1g)のトルエン(30ml)溶液を0℃に冷却し、DMSO(3ml)、ピリジン(0.3ml)、トリフルオロ酢酸(0.1ml)およびN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(2.9g)を加え、室温で18時間反応させた。酢酸エチル(30ml)を加え、ろ過した後、ろ液を水(10ml)で洗浄した。有機層を濃縮し、表題化合物(2.63g)を得た。収率85%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.36 (3H, s), 1.44 (3H, s), 4.36 (1H, d), 4.40 (1H, d), 4.61 (2H, m), 6.06 (1H, t), 7.36 (2H, m), 7.56 (1H, m), 8.06 (2H, d).
13C-NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 27.1, 27.4, 63.4, 76.1, 103.0, 114.3, 128.4, 129.2, 129.6, 133.2, 165.6, 207.4.
A toluene (30 ml) solution of 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-xylofuranose 5-benzoate (3.1 g) was cooled to 0 ° C., DMSO (3 ml), pyridine (0.3 ml) ), Trifluoroacetic acid (0.1 ml) and N, N′-dicyclohexylcarbodiimide (2.9 g) were added and reacted at room temperature for 18 hours. After adding ethyl acetate (30 ml) and filtering, the filtrate was washed with water (10 ml). The organic layer was concentrated to give the title compound (2.63 g). Yield 85%
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.36 (3H, s), 1.44 (3H, s), 4.36 (1H, d), 4.40 (1H, d), 4.61 (2H, m), 6.06 (1H, t), 7.36 (2H, m), 7.56 (1H, m), 8.06 (2H, d).
13 C-NMR (CDCl 3 , 100 MHz) δ (ppm) 27.1, 27.4, 63.4, 76.1, 103.0, 114.3, 128.4, 129.2, 129.6, 133.2, 165.6, 207.4.

実施例4 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−リボフラノース 5−ベンゾエートExample 4 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-ribofuranose 5-benzoate

Figure 2007137843
Figure 2007137843

1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−エリスロペンタフラノ−3−ロース 5−ベンゾエート(5.32g)の90%メタノール(61ml)水溶液に水素化ホウ素ナトリウム(0.73g)を徐々に加え、0℃で5時間撹拌した。反応が終了した後、5%塩化アンモニウム水溶液(20ml)を加え、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを除いた。反応液を濃縮し、アセトニトリル(20ml)で3回抽出し、有機層を濃縮して、表題化合物(5.0g)を得た。収率94%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.39 (3H, s), 1.59 (3H, s), 3.92 (1H, dd), 4.09 (1H, d), 4.47 (1H, m), 4.61 (2H, m), 4.68 (1H, m), 4.73 (1H, d), 5.86 (1H, d), 7.44-7.56 (3H, m), 8.06 (2H, d).
13C-NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 25.6, 62.4, 71.1, 77.3, 77.5, 103.1, 111.8, 127.3, 128.7, 132.1, 165.4.
MS (CI, 70eV) m/z 295 (M++1, 14), 237 (100), 123 (16).
1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-erythropentafurano-3-rose 5-benzoate (5.32 g) in 90% aqueous methanol (61 ml) in sodium borohydride (0.73 g) Was gradually added and stirred at 0 ° C. for 5 hours. After the reaction was completed, 5% aqueous ammonium chloride solution (20 ml) was added to remove excess sodium borohydride. The reaction mixture was concentrated, extracted three times with acetonitrile (20 ml), and the organic layer was concentrated to give the title compound (5.0 g). Yield 94%
1 H-NMR (CDCl 3, 400MHz) δ (ppm) 1.39 (3H, s), 1.59 (3H, s), 3.92 (1H, dd), 4.09 (1H, d), 4.47 (1H, m), 4.61 (2H, m), 4.68 (1H, m), 4.73 (1H, d), 5.86 (1H, d), 7.44-7.56 (3H, m), 8.06 (2H, d).
13 C-NMR (CDCl 3 , 100 MHz) δ (ppm) 25.6, 62.4, 71.1, 77.3, 77.5, 103.1, 111.8, 127.3, 128.7, 132.1, 165.4.
MS (CI, 70eV) m / z 295 (M + +1, 14), 237 (100), 123 (16).

実施例5 1,2−O−(1−メチルエチリデン)−3,5−ジ−O−ベンジル−α−D−リボフラノースExample 5 1,2-O- (1-methylethylidene) -3,5-di-O-benzyl-α-D-ribofuranose

Figure 2007137843
Figure 2007137843

60%水素化ナトリウム(2.58g)のTHF(100ml)溶液に、1,2−O−(1−メチルエチリデン)−α−D−リボフラノース 5−ベンゾエート(8.00g)および臭化ベンジル(9.57g)を加え、還流下(65℃)、4時間反応させた。反応溶液を室温に冷却した後、メタノール及び水を加え、アセトニトリルにより抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、表題化合物(7.00g)を得た。収率70%
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.36 (3H, s), 1.59 (3H, s), 3.57 (1H, dd), 3.76 (1H, d), 3.86 (1H, m), 4.17 (1H, m), 4.48-4.58 (3H, m), 4.73 (1H, d), 5.75 (1H, d), 7.27-7.34 (10H, m).
13C NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 14.2, 22.7, 26.6, 26.8, 29.0, 31.9, 68.0, 72.2, 73.5, 78.0, 104.1, 112.8, 127.5, 127.6, 127.9, 127.9, 128.2, 128.3, 137.6, 138.0
MS (CI, 70eV) m/z 371 (M++1, 13), 313 (100), 205 (60), 147(41), 133 (24).
To a solution of 60% sodium hydride (2.58 g) in THF (100 ml) was added 1,2-O- (1-methylethylidene) -α-D-ribofuranose 5-benzoate (8.00 g) and benzyl bromide ( 9.57 g) was added, and the mixture was reacted at reflux (65 ° C.) for 4 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, methanol and water were added, and the mixture was extracted with acetonitrile. The organic layer was concentrated and purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (7.00 g). Yield 70%
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.36 (3H, s), 1.59 (3H, s), 3.57 (1H, dd), 3.76 (1H, d), 3.86 (1H, m), 4.17 (1H, m), 4.48-4.58 (3H, m), 4.73 (1H, d), 5.75 (1H, d), 7.27-7.34 (10H, m).
13 C NMR (CDCl 3 , 100 MHz) δ (ppm) 14.2, 22.7, 26.6, 26.8, 29.0, 31.9, 68.0, 72.2, 73.5, 78.0, 104.1, 112.8, 127.5, 127.6, 127.9, 127.9, 128.2, 128.3, 137.6 , 138.0
MS (CI, 70eV) m / z 371 (M + +1, 13), 313 (100), 205 (60), 147 (41), 133 (24).

実施例6 1,2−ジ−O−アセチル−3,5−ジ−O−ベンジル−D−リボフラノースExample 6 1,2-Di-O-acetyl-3,5-di-O-benzyl-D-ribofuranose

Figure 2007137843
Figure 2007137843

(a)3,5−ジ−O−ベンジル−D−リボフラノース
1,2−O−(1−メチルエチリデン)−3,5−ジ−O−ベンジル−α−D−リボフラノース(7.20g)の70%トリフルオロ酢酸(100g)水溶液を0℃で1時間、その後室温で2時間撹拌した。その反応液を38%重炭酸カリウム水溶液(163g)に滴下した後、酢酸エチル(100ml)で3回抽出し、有機層を濃縮して、3,5−ジ−O−ベンジル−D−リボフラノースを得た。
1H-NMR (DMSO-d6, 400MHz) δ(ppm) 3.47 (1H, m), 3.55(1H, m), 3.84 (1H, dd), 3.76 (1H, d), 3.84 (1H, m), 4.01 (1H, m), 4.41-4.50 (4H, m), 4.62 (2H, d), 4.98 (2H, dd), 6.33 (1H, d), 7.26-7.33 (10H, m).
13C-NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 70.9, 72.1, 72.3, 73.0, 78.8, 102.0, 127.3, 127.4, 128.0, 128.0, 138.3.
(A) 3,5-Di-O-benzyl-D-ribofuranose 1,2-O- (1-methylethylidene) -3,5-di-O-benzyl-α-D-ribofuranose (7.20 g) ) In 70% trifluoroacetic acid (100 g) was stirred at 0 ° C. for 1 hour and then at room temperature for 2 hours. The reaction solution was added dropwise to 38% aqueous potassium bicarbonate solution (163 g), extracted three times with ethyl acetate (100 ml), the organic layer was concentrated, and 3,5-di-O-benzyl-D-ribofuranose was concentrated. Got.
1 H-NMR (DMSO-d 6, 400MHz) δ (ppm) 3.47 (1H, m), 3.55 (1H, m), 3.84 (1H, dd), 3.76 (1H, d), 3.84 (1H, m) , 4.01 (1H, m), 4.41-4.50 (4H, m), 4.62 (2H, d), 4.98 (2H, dd), 6.33 (1H, d), 7.26-7.33 (10H, m).
13 C-NMR (CDCl 3 , 100 MHz) δ (ppm) 70.9, 72.1, 72.3, 73.0, 78.8, 102.0, 127.3, 127.4, 128.0, 128.0, 138.3.

(b)1,2−ジ−O−アセチル−3,5−ジ−O−ベンジル−D−リボフラノース
(a)で得られた3,5−ジ−O−ベンジル−D−リボフラノースをTHF(63ml)に加え、ピリジン(9.5ml)およびジメチルアミノピリジン(0.30g)を加えた。0℃に冷却した後、無水酢酸(7.4ml)を滴下し、3時間反応させた。酢酸エチルで希釈し、1N塩酸(60ml)、10%重炭酸カリウム水溶液(60ml)及び飽和食塩水(60ml)で洗浄した。有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、表題化合物(6.92g)を得た。収率86%(1,2−O−(1−メチルエチリデン)−3,5−ジ−O−ベンジル−α−D−リボフラノースからの収率)
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ(ppm) 1.92 (3H, s), 2.12 (3H, s), 3.55 (1H, dd), 3.68 (1H, dd), 4.23 (1H, m), 4.30 (1H, m), 4.44.63-4.58 (4H, m), 5.30 (1H, d), 6.12 (1H, d), 7.27-7.33 (10H, m).
13C-NMR (CDCl3, 100MHz) δ(ppm) 20.8, 21.0, 69.2, 73.2, 73.6, 76.4, 81.4, 98.5, 101.5, 127.4, 127.5, 127.9, 128.2, 128.4, 137.3, 138.0, 169.1, 169.8.
MS (CI, 70eV) m/z 415 (M++1, 1.3), 355 (100), 205 (25), 147(54), 139 (54).
(B) 1,2-di-O-acetyl-3,5-di-O-benzyl-D-ribofuranose 3,5-di-O-benzyl-D-ribofuranose obtained in (a) (63 ml) plus pyridine (9.5 ml) and dimethylaminopyridine (0.30 g). After cooling to 0 ° C., acetic anhydride (7.4 ml) was added dropwise and allowed to react for 3 hours. Dilute with ethyl acetate and wash with 1N hydrochloric acid (60 ml), 10% aqueous potassium bicarbonate (60 ml) and saturated brine (60 ml). The organic layer was concentrated and purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (6.92 g). Yield 86% (yield from 1,2-O- (1-methylethylidene) -3,5-di-O-benzyl-α-D-ribofuranose)
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ (ppm) 1.92 (3H, s), 2.12 (3H, s), 3.55 (1H, dd), 3.68 (1H, dd), 4.23 (1H, m), 4.30 (1H, m), 4.44.63-4.58 (4H, m), 5.30 (1H, d), 6.12 (1H, d), 7.27-7.33 (10H, m).
13 C-NMR (CDCl 3 , 100 MHz) δ (ppm) 20.8, 21.0, 69.2, 73.2, 73.6, 76.4, 81.4, 98.5, 101.5, 127.4, 127.5, 127.9, 128.2, 128.4, 137.3, 138.0, 169.1, 169.8.
MS (CI, 70eV) m / z 415 (M + +1, 1.3), 355 (100), 205 (25), 147 (54), 139 (54).

実施例7 2−アミノ−6−クロロ−3’,5’−ジ−O−ベンジルプリンリボシドExample 7 2-Amino-6-chloro-3 ', 5'-di-O-benzylpurine riboside

Figure 2007137843
Figure 2007137843

アセトニトリル(12ml)、2−アミノ−6−クロロプリン(1.0g,5.90mmol)およびN,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(2.47g,12.1mmol)の混合物を50℃で2時間撹拌した。その後、1,2−ジ−O−アセチル−3,5−ジ−O−ベンジル−D−リボフラノース(2.44g,5.90mmol)およびトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル(0.12g,0.54mmol)を加え、還流下(85℃)で2時間反応した。室温まで冷却し、水(10ml)を加え、28%アンモニア水により中和した。酢酸エチル(10ml)で3回抽出し、有機層を濃縮した。残渣に1Nアンモニアメタノール液(10ml)を加え、20時間撹拌した。反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン=1:1)により精製して、表題化合物(2.70g)を得た(収率96%)。   A mixture of acetonitrile (12 ml), 2-amino-6-chloropurine (1.0 g, 5.90 mmol) and N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide (2.47 g, 12.1 mmol) was stirred at 50 ° C. for 2 hours. did. Then 1,2-di-O-acetyl-3,5-di-O-benzyl-D-ribofuranose (2.44 g, 5.90 mmol) and trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate (0.12 g, 0.54 mmol) And reacted under reflux (85 ° C.) for 2 hours. After cooling to room temperature, water (10 ml) was added and neutralized with 28% aqueous ammonia. Extracted with ethyl acetate (10 ml) three times, and the organic layer was concentrated. 1N ammonia methanol solution (10 ml) was added to the residue and stirred for 20 hours. The reaction solution was concentrated and purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / heptane = 1: 1) to obtain the title compound (2.70 g) (yield 96%).

実施例8 6−O−ベンジル−3’,5’−ジ−O−ベンジルグアノシンExample 8 6-O-benzyl-3 ', 5'-di-O-benzylguanosine

Figure 2007137843
Figure 2007137843

ベンジルアルコール(13.5g)および水酸化ナトリウム(0.50g,12.5mmol)の混合物を80℃で2時間撹拌した。その後、2−アミノ−6−クロロ−3’,5’−ジ−O−ベンジルプリンリボシド(2.70g,5.61mmol)を加え、室温で20時間反応した。1%苛性水(20g)およびMTBE(メチルt-ブチルエーテル)(20g)を加え、分液した。有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン=1:4)により精製して、表題化合物(1.94g)を得た。収率67%   A mixture of benzyl alcohol (13.5 g) and sodium hydroxide (0.50 g, 12.5 mmol) was stirred at 80 ° C. for 2 hours. Then, 2-amino-6-chloro-3 ', 5'-di-O-benzylpurine riboside (2.70 g, 5.61 mmol) was added and reacted at room temperature for 20 hours. 1% caustic water (20 g) and MTBE (methyl t-butyl ether) (20 g) were added and the layers were separated. The organic layer was concentrated and purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / heptane = 1: 4) to obtain the title compound (1.94 g). Yield 67%

実施例9 6−O−ベンジル−2’−O−(2−メトキシエチル)−3’,5’−ジ−O−ベンジルグアノシンExample 9 6-O-benzyl-2'-O- (2-methoxyethyl) -3 ', 5'-di-O-benzylguanosine

Figure 2007137843
Figure 2007137843

リチウムヘキサメチルジシラジドのTHF溶液(10.5g)、水素化ナトリウム(60% in oil,0.42g,10.5mmol)、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(0.38g,1.03mmol)、6−O−ベンジル−3’,5’−ジ−O−ベンジルグアノシン(1.94g,3.51mmol)および2−ブロモエチルメチルエーテル(1.46g,10.5mmol)の混合物を30℃で5時間撹拌した。その後、反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン=5:1)により精製し、表題化合物(1.42g)を得た。収率66.3%   Lithium hexamethyldisilazide in THF (10.5 g), sodium hydride (60% in oil, 0.42 g, 10.5 mmol), tetrabutylammonium iodide (0.38 g, 1.03 mmol), 6- A mixture of O-benzyl-3 ′, 5′-di-O-benzylguanosine (1.94 g, 3.51 mmol) and 2-bromoethyl methyl ether (1.46 g, 10.5 mmol) was stirred at 30 ° C. for 5 hours. did. The reaction mixture was then concentrated and purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / heptane = 5: 1) to obtain the title compound (1.42 g). Yield 66.3%

実施例10−1 6−O−ベンジル−2−N−(2−メチル−1−オキソプロピル)−3’,5’−ジ−O−ベンジル−2’−O−(2−メトキシエチル)グアノシンExample 10-1 6-O-benzyl-2-N- (2-methyl-1-oxopropyl) -3 ', 5'-di-O-benzyl-2'-O- (2-methoxyethyl) guanosine

Figure 2007137843
Figure 2007137843

ピリジン(7.0g)、6−O−ベンジル−2’−O−(2−メトキシエチル)−3’,5’−ジ−O−ベンジルグアノシン(1.42g,2.32mmol)およびイソブチリルクロリド(0.30g,2.81mmol)の混合物を室温で11時間反応した。その後、メタノール(10ml)、水(10ml)および酢酸エチル(10ml)を加えて分液し、有機層を濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン=2:1)により精製して、表題化合物(1.07g)を得た。収率64%   Pyridine (7.0 g), 6-O-benzyl-2′-O- (2-methoxyethyl) -3 ′, 5′-di-O-benzylguanosine (1.42 g, 2.32 mmol) and isobutyryl A mixture of chloride (0.30 g, 2.81 mmol) was reacted at room temperature for 11 hours. Thereafter, methanol (10 ml), water (10 ml) and ethyl acetate (10 ml) were added for liquid separation, and the organic layer was concentrated. Purification by silica gel column chromatography (ethyl acetate / heptane = 2: 1) gave the title compound (1.07 g). Yield 64%

実施例10−2 6−クロロ−2−(2−メチル−1−オキソプロピル)アミノ−2’−O−アセチル−3’,5’−ジ−O−ベンジルプリンリボシド
実施例10−1において、6−O−ベンジル−2’−O−(2−メトキシエチル)−3’,5’−ジ−O−ベンジルグアノシンの代わりに2−アミノ−6−クロロ−2’−O−アセチル−3’,5’−ジ−O−ベンジルプリンリボシドを使用したこと以外は実施例10−1と同様に行い、表題化合物を得た。収率57.1%
Example 10-2 6-Chloro-2- (2-methyl-1-oxopropyl) amino-2′-O-acetyl-3 ′, 5′-di-O-benzylpurine riboside In Example 10-1 , 6-O-benzyl-2'-O- (2-methoxyethyl) -3 ', 5'-di-O-benzylguanosine instead of 2-amino-6-chloro-2'-O-acetyl-3 The title compound was obtained in the same manner as in Example 10-1, except that ', 5'-di-O-benzylpurine riboside was used. Yield 57.1%

実施例10−3 6−クロロ−2−(2−メチル−1−オキソプロピル)アミノ−2’,3’,5’−トリ−O−アセチルプリンリボシド
実施例10−1において、6−O−ベンジル−2’−O−(2−メトキシエチル)−3’,5’−ジ−O−ベンジルグアノシンの代わりに2−アミノ−6−クロロ−2’,3’,5’−トリ−O−アセチルプリンリボシドを使用したこと以外は実施例10−1と同様に行い、表題化合物を得た。収率57.1%
Example 10-3 6-chloro-2- (2-methyl-1-oxopropyl) amino-2 ′, 3 ′, 5′-tri-O-acetylpurine riboside In Example 10-1, 6-O 2-benzyl-6'-chloro-2 ', 3', 5'-tri-O instead of -benzyl-2'-O- (2-methoxyethyl) -3 ', 5'-di-O-benzylguanosine -The title compound was obtained in the same manner as in Example 10-1, except that acetylpurine riboside was used. Yield 57.1%

実施例11 2’−O−(2−メトキシエチル)−2−N−(2−メチル−1−オキソプロピル)グアノシンExample 11 2'-O- (2-methoxyethyl) -2-N- (2-methyl-1-oxopropyl) guanosine

Figure 2007137843
Figure 2007137843

メタノール(25ml)、6−O−ベンジル−2−N−(2−メチル−1−オキソプロピル)−3’,5’−ジ−O−ベンジル−2’−O−(2−メトキシエチル)グアノシン(0.8g,1.17mmol)および10%Pd/C(50%wet,0.80g)を入れた反応容器を水素に置換し、常圧、40℃で混合物を22時間撹拌した。その後窒素に置換し、Pd/Cを濾過した。反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン/メタノール=1:3:6)により精製して、表題化合物(0.38g)を得た。収率80%   Methanol (25 ml), 6-O-benzyl-2-N- (2-methyl-1-oxopropyl) -3 ′, 5′-di-O-benzyl-2′-O- (2-methoxyethyl) guanosine The reaction vessel containing (0.8 g, 1.17 mmol) and 10% Pd / C (50% wet, 0.80 g) was replaced with hydrogen, and the mixture was stirred at normal pressure and 40 ° C. for 22 hours. Thereafter, it was replaced with nitrogen, and Pd / C was filtered. The reaction mixture was concentrated and purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / heptane / methanol = 1: 3: 6) to give the title compound (0.38 g). Yield 80%

実施例12 5’−O−ジメトキシトリチル−2’−O−(2−メトキシエチル)−2−N−(2−メチル−1−オキソプロピル)グアノシンExample 12 5'-O-dimethoxytrityl-2'-O- (2-methoxyethyl) -2-N- (2-methyl-1-oxopropyl) guanosine

Figure 2007137843
Figure 2007137843

2’−O−(2−メトキシエチル)−2−N−(2−メチル−1−オキソプロピル)グアノシン(100mg,0.24mmol)、2,6−ルチジン(100mg,0.93mmol)およびジメトキシトリチルクロリド(80mg,0.24mmol)の混合物を40℃で10時間反応した。混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン/メタノール=1:3:6)により精製して、表題化合物(0.14g)を得た。収率83%   2′-O- (2-methoxyethyl) -2-N- (2-methyl-1-oxopropyl) guanosine (100 mg, 0.24 mmol), 2,6-lutidine (100 mg, 0.93 mmol) and dimethoxytrityl A mixture of chloride (80 mg, 0.24 mmol) was reacted at 40 ° C. for 10 hours. The mixture was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / heptane / methanol = 1: 3: 6) to give the title compound (0.14 g). Yield 83%

本発明によれば、医薬品の合成中間体として有用なプリンヌクレオシド化合物のより効率のよい、工業的に適した製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the more efficient and industrially suitable manufacturing method of the purine nucleoside compound useful as a synthetic intermediate of a pharmaceutical can be provided.

Claims (24)

下記工程(a)ないし(g)を包含することを特徴とする、一般式(I):
Figure 2007137843

(式中、Rは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアシル基を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基ORの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物の製造方法:
(a)式(II):
Figure 2007137843

(式中、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表されるD−キシロースを、酸の存在下で一般式(III):
Figure 2007137843

(式中、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。)で表される化合物と反応させた後、酸加水分解して、一般式(IV):
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得る工程;
(b)一般式(IV)で表される化合物の5位のヒドロキシ基を選択的に保護して、一般式(V):
Figure 2007137843

(式中、Pは置換基を有していてもよいベンゾイル基を示し、他の記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得る工程;
(c)一般式(V)で表される化合物の3位のヒドロキシ基を酸化して、一般式(VI):
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得る工程;
(d)一般式(VI)で表される化合物の3位のカルボニル基を還元して、一般式(VII):
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得る工程;
(e)一般式(VII)で表される化合物の保護基Pを除去した後、塩基の存在下で一般式(VIII):
Figure 2007137843

(式中、Xは、ハロゲン原子、メシルオキシ基またはトシルオキシ基を示し、Rは前記と同義を示す。)で表される化合物を反応させて、一般式(IX):
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得る工程;
(f)一般式(IX)で表される化合物を酸加水分解反応に付して、一般式(X):
Figure 2007137843

(式中、Rは前記と同義を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物を得る工程;および
(g)一般式(X)で表される化合物の1位および2位のヒドロキシ基をアシル化して、一般式(I)で表される化合物を得る工程。
General formula (I), characterized in that it comprises the following steps (a) to (g):
Figure 2007137843

(Wherein, R 3 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aralkyl group or an optionally substituted heteroarylalkyl group, R 4 Represents an acyl group which may have a substituent, and the wavy line indicates that the configuration of the substituent OR 4 of the anomeric carbon atom is not limited.)
(A) Formula (II):
Figure 2007137843

(Wherein the wavy line indicates that the configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited at all). D-xylose represented by the general formula (III) in the presence of an acid:
Figure 2007137843

(In the formula, R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.) After reacting with the compound represented by the formula (IV):
Figure 2007137843

(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by:
(B) The hydroxy group at the 5-position of the compound represented by the general formula (IV) is selectively protected, and the general formula (V):
Figure 2007137843

(Wherein P 1 represents a benzoyl group which may have a substituent, and other symbols have the same meanings as described above) to obtain a compound represented by:
(C) The hydroxy group at the 3-position of the compound represented by the general formula (V) is oxidized to give the general formula (VI):
Figure 2007137843

(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by:
(D) A carbonyl group at the 3-position of the compound represented by the general formula (VI) is reduced to give a general formula (VII):
Figure 2007137843

(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by:
(E) After removing the protecting group P 1 from the compound represented by the general formula (VII), the general formula (VIII):
Figure 2007137843

(Wherein X 1 represents a halogen atom, a mesyloxy group or a tosyloxy group, and R 3 has the same meaning as described above), and a compound represented by the general formula (IX):
Figure 2007137843

(Wherein each symbol is as defined above), a step of obtaining a compound represented by:
(F) A compound represented by the general formula (IX) is subjected to an acid hydrolysis reaction to give a general formula (X):
Figure 2007137843

(Wherein R 3 is as defined above, and the wavy line indicates that the configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited at all); and (g) a general formula A step of obtaining a compound represented by the general formula (I) by acylating the 1-position and 2-position hydroxy groups of the compound represented by (X).
一般式(IX):
Figure 2007137843

(式中、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示し、Rは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示す。)で表される化合物を酸加水分解反応に付すことを特徴とする、一般式(X):
Figure 2007137843

(式中、Rは前記と同義を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (IX):
Figure 2007137843

(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 represents an alkyl group which may have a substituent or an aralkyl which may have a substituent. A heteroarylalkyl group which may have a group or a substituent.) A compound represented by the general formula (X):
Figure 2007137843

(Wherein R 3 has the same meaning as described above, and the wavy line indicates that the steric configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited in any way).
一般式(X):
Figure 2007137843

(式中、Rは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物の1位および2位のヒドロキシ基をアシル化することを特徴とする、一般式(I):
Figure 2007137843

(式中、Rは前記と同義を示し、Rは置換基を有していてもよいアシル基を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基ORの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (X):
Figure 2007137843

(In the formula, R 3 represents an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a heteroarylalkyl group which may have a substituent; , The steric configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited at all.) The hydroxy group at the 1-position and 2-position of the compound represented by the general formula (I):
Figure 2007137843

(Wherein R 3 has the same meaning as described above, R 4 represents an acyl group which may have a substituent, and the wavy line indicates that the configuration of the substituent OR 4 of the anomeric carbon atom is not limited in any way. The manufacturing method of the compound represented by this.
一般式(I):
Figure 2007137843

(式中、Rは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアシル基を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基ORの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物と、一般式(XI):
Figure 2007137843

(式中、YおよびYは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいヒドロキシ基または置換基を有していてもよいアミノ基を示す。)で表される化合物またはその塩を、ニトリル系溶媒またはエステル系溶媒中、シリル化剤およびルイス酸の存在下で反応させた後、2’位を脱アシル化することを特徴とする、一般式(XII):
Figure 2007137843

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
Formula (I):
Figure 2007137843

(Wherein, R 3 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aralkyl group or an optionally substituted heteroarylalkyl group, R 4 Represents an acyl group which may have a substituent, and the wavy line indicates that the configuration of the substituent OR 4 of the anomeric carbon atom is not limited at all.) And a compound represented by the general formula (XI) :
Figure 2007137843

(Wherein Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted hydroxy group or an optionally substituted amino group). A compound represented by the general formula (2), wherein the compound or a salt thereof is reacted in a nitrile solvent or an ester solvent in the presence of a silylating agent and a Lewis acid, and then deacylated at the 2′-position. XII):
Figure 2007137843

(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing a salt thereof.
が炭素数7〜21のアラルキル基である、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method in any one of Claims 1-4 whose R < 3 > is a C7-C21 aralkyl group. がベンジル基である、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method in any one of Claims 1-4 whose R < 3 > is a benzyl group. が炭素数1〜8のアシル基である、請求項1、3および4のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method in any one of Claim 1, 3 and 4 whose R < 4 > is a C1-C8 acyl group. がアセチル基である、請求項1、3および4のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein R 4 is an acetyl group. が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいヒドロキシ基である、請求項4記載の製造方法。 Y 1 is, have a halogen atom or a substituent is also optionally hydroxy group, The method according to claim 4, wherein. がハロゲン原子である、請求項4記載の製造方法。 The production method according to claim 4, wherein Y 1 is a halogen atom. が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアミノ基である、請求項4記載の製造方法。 The production method according to claim 4, wherein Y 2 is a halogen atom or an amino group which may have a substituent. がアミノ基である、請求項4記載の製造方法。 Y 2 is an amino group, a manufacturing method of claim 4 wherein. 一般式(X):
Figure 2007137843

(式中、Rは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、波線は、アノマー炭素原子の置換基OHの立体配置が何ら限定されないことを示す。)で表される化合物。
Formula (X):
Figure 2007137843

(In the formula, R 3 represents an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a heteroarylalkyl group which may have a substituent; And the steric configuration of the substituent OH of the anomeric carbon atom is not limited at all.)
が炭素数7〜21のアラルキル基である、請求項13記載の化合物。 The compound according to claim 13, wherein R 3 is an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms. がベンジル基である、請求項13記載の化合物。 R 3 is a benzyl group, according to claim 13 A compound according. 一般式(XVIII):
Figure 2007137843

(式中、Y1’およびY2’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいヒドロキシ基または置換基を有していてもよいアミノ基を示し、Rは、水素原子、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を表し、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を表す。)で示される化合物またはその塩(但し、2−アミノ−6−クロロ−9β―(2’−O−アセチル−3’,5’−ジ−O−ベンジル)−D−リボフラノシルプリンを除く。)。
Formula (XVIII):
Figure 2007137843

(In the formula, Y 1 ′ and Y 2 ′ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted hydroxy group or an optionally substituted amino group, R 5 has a hydrogen atom, an acyl group that may have a substituent, an alkyl group that may have a substituent, an aralkyl group that may have a substituent, or a substituent. R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted acyl group, an optionally substituted alkyl group, or a substituent. A aralkyl group optionally having a substituent or a heteroarylalkyl group optionally having a substituent) or a salt thereof (provided that 2-amino-6-chloro-9β- (2 ′ -O-acetyl-3 ', 5'-di-O-benzi ) Except for the -D- ribofuranosyl pudding.).
1’が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいヒドロキシ基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or a salt thereof according to claim 16, wherein Y 1 ' is a halogen atom or a hydroxy group which may have a substituent. 1’が、塩素原子、ベンジルオキシ基またはヒドロキシ基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or a salt thereof according to claim 16, wherein Y 1 ' is a chlorine atom, a benzyloxy group or a hydroxy group. 2’が、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアミノ基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or its salt of Claim 16 whose Y2 ' is a halogen atom or the amino group which may have a substituent. 2’が、アミノ基またはイソブチリルアミノ基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or a salt thereof according to claim 16, wherein Y 2 ' is an amino group or an isobutyrylamino group. が、水素原子、炭素数1〜10のアシル基または置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having an acyl group or substituent 1 to 5 carbon atoms which may have a 1 to 10 carbon atoms, or a salt thereof according to claim 16, wherein. が、水素原子、アセチル基または2−メトキシエチル基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or a salt thereof according to claim 16, wherein R 5 is a hydrogen atom, an acetyl group or a 2-methoxyethyl group. およびRが、それぞれ独立して、水素原子、炭素数7〜21のアラルキル基または炭素数1〜10のアシル基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or salt thereof according to claim 16, wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, or an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. およびRが、それぞれ独立して、水素原子、ベンジル基またはアセチル基である、請求項16記載の化合物またはその塩。 The compound or a salt thereof according to claim 16, wherein R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a benzyl group or an acetyl group.
JP2005336371A 2005-11-21 2005-11-21 Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound Pending JP2007137843A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005336371A JP2007137843A (en) 2005-11-21 2005-11-21 Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005336371A JP2007137843A (en) 2005-11-21 2005-11-21 Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007137843A true JP2007137843A (en) 2007-06-07

Family

ID=38201153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005336371A Pending JP2007137843A (en) 2005-11-21 2005-11-21 Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007137843A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9227992B2 (en) * 2008-11-17 2016-01-05 Anadys Pharmaceuticals, Inc. Method of preparing deoxyribofuranose compounds

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9227992B2 (en) * 2008-11-17 2016-01-05 Anadys Pharmaceuticals, Inc. Method of preparing deoxyribofuranose compounds

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012097095A (en) Process for fluorocytidine derivative
US8193354B2 (en) Process for preparation of Gemcitabine hydrochloride
JP3653292B2 (en) Mass production of 2 &#39;, 3&#39;-didehydro-3&#39;-deoxythymidine (d4T) using 5-methyluridine
JP2008515968A (en) Method for producing 2&#39;-deoxy-2 &#39;, 2&#39;-difluorocytidine
JP3042073B2 (en) Nucleoside derivative and method for producing the same
CA2254065A1 (en) Nucleoside derivatives with photoliable protective groups
JP7025064B2 (en) Stereoselective synthesis of 4&#39;-substituted nucleoside derivatives
JP4885963B2 (en) Selective O-acylation of nucleosides
JP2007137843A (en) Method for producing ribofuranose compound and purine nucleoside compound
EP0350292B1 (en) Process for preparing 2&#39;-deoxy-beta-adenosine
EP0653437A1 (en) Process for preparing AZT and derivatives thereof
KR101259648B1 (en) A manufacturing process of 2′,2′-difluoronucloside and intermediate
JPH06135988A (en) Nucleotide derivative
CN113999270B (en) Method for synthesizing cytidine diphosphate
AU2004296242A1 (en) Improved synthesis of 2-substituted adenosines
JP7298866B2 (en) Solid phase carrier for nucleic acid synthesis and method for producing nucleic acid using the same
WO2004065403A1 (en) Processes for production of nucleosides
JPH07165785A (en) Preparation of 3&#39;-fluoropyrimidine nucleoside
JP5192807B2 (en) Stable crystals of protected pseudouridine
CN115073475A (en) Synthetic method of ibrutinib
CN117858884A (en) Process for producing 2&#39; -modified guanosine compound
JP2002293792A (en) Method for producing nucleoside or fluorinated sugar derivative
KR101259637B1 (en) A process of 1-(2´-Deoxy-2´,2´-difluoro-D-ribofuranosyl)-4-aminopyrimidin-2-on or thereof HCl salt
JP4627625B2 (en) Method for producing N-acetylcytidines
WO1999038879A1 (en) Process for producing nucleoside derivatives