JP4624387B2 - Resist coated substrate manufacturing method and resist coated substrate manufactured by the manufacturing method - Google Patents

Resist coated substrate manufacturing method and resist coated substrate manufactured by the manufacturing method Download PDF

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本発明は、例えば、電子回路用基板、ICカード、液晶表示用基板といった各種電子部材として使用される単層又は積層のプリント配線基板に、絶縁塗料や感光塗料といった各種塗料(レジスト)が塗布されたレジスト塗布基板の製造方法と、その製造方法で製造されたレジスト塗布基板に関するものである。   In the present invention, for example, various types of paints (resist) such as insulating paints and photosensitive paints are applied to single-layer or multi-layer printed wiring boards used as various electronic members such as electronic circuit boards, IC cards, and liquid crystal display boards. The present invention relates to a method for manufacturing a resist-coated substrate and a resist-coated substrate manufactured by the manufacturing method.

電子部材としての単層又は積層のプリント配線基板(以下「基板」とする。)に絶縁塗料や感光塗料といったレジストを塗布して塗膜を形成する方法として、従来は以下に示すような方法があった。
(1)基板の一面又は両面にロールコーターによって塗料(レジスト)を塗布し、そのレジストを完全乾燥させてレジスト塗布基板を製造する方法。
(2)レジストを塗布して乾燥させ、レジスト塗布面に保護フィルムを貼付したドライフィルムのレジスト塗布面側の保護フィルムを剥がして、ドライフィルムのレジスト塗布面側を基板の一面又は両面に重ねて加熱加圧してそのレジスト塗布面を基板の重ねた面に貼付ける(ホットラミネートする)方法。
As a method for forming a coating film by applying a resist such as an insulating paint or a photosensitive paint on a single-layer or multilayer printed wiring board (hereinafter referred to as “substrate”) as an electronic member, conventionally, the following methods have been used. there were.
(1) A method of manufacturing a resist-coated substrate by applying a paint (resist) on one or both sides of a substrate with a roll coater and completely drying the resist.
(2) Applying and drying a resist, peeling off the protective film on the resist-coated surface side of the dry film with the protective film applied to the resist-coated surface, and overlaying the resist-coated surface side of the dry film on one or both sides of the substrate A method of applying pressure (hot laminating) to the surface on which the resist is applied by applying heat and pressure.

前記(1)の方法では次のような課題があった。
(a)基板にレジストを塗布してからレジストを乾燥させるため、乾燥までに手間や時間が掛かり、作業性が悪い。
(b)基板にレジストを塗って乾燥させるだけではレジスト表面が波打って凹凸になり易く、平滑性に欠ける。
(c)基板に有底ホールやスルーホールがある場合、それらの内部までレジストが確実に充填されにくい。
The method (1) has the following problems.
(A) Since the resist is dried after the resist is applied to the substrate, it takes time and effort to dry, and workability is poor.
(B) By simply applying a resist to the substrate and drying it, the resist surface tends to wave and become uneven, and lacks smoothness.
(C) When the substrate has a bottomed hole or a through hole, it is difficult to reliably fill the resist into the inside.

前記(2)の方法では次のような課題があった。
(a)ドライフィルムのレジストを加熱して溶融させる加熱工程が必要であるため、加熱に手間や時間がかかり、作業性が悪い。
(b)乾燥しているレジストを溶融させるためには高熱が必要になり、その高熱でフィルム又は基板が変質したり、歪んだり、伸縮したりするおそれがある。
(c)ドライフィルムのレジストの上に保護フィルムを重ねるため、二種類のフィルムが必要となり、作業性が悪く、コスト高の一因となる。
(d)基板表面のレジストの平滑性に難点がある。
(e)基板のホール内までレジストが充填しにくく、絶縁不良の原因となることがある。
The method (2) has the following problems.
(A) Since a heating process for heating and melting the resist of the dry film is necessary, heating takes time and effort, and workability is poor.
(B) High heat is required to melt the dried resist, and the high heat may cause the film or substrate to be altered, distorted, or stretched.
(C) Since a protective film is stacked on the resist of the dry film, two types of films are necessary, workability is poor, and this contributes to high cost.
(D) There is a difficulty in the smoothness of the resist on the substrate surface.
(E) It is difficult to fill the resist into the hole of the substrate, which may cause insulation failure.

本件出願の請求項1記載のレジスト塗布基板製造方法は、プリント配線基板にレジストを塗布してレジスト塗布基板を製造するレジスト塗布基板製造方法において、走行中の単葉或は連続のプリント配線基板又はフィルムに、それらの走行方向に間隔をあけてレジストを塗布し、塗布されたレジストを乾燥装置で半乾燥状態にし、プリント配線基板の半乾燥状態のレジスト塗布面にはフィルムを、フィルムの半乾燥状態のレジスト塗布面にはプリント配線基板を貼り合わせてプリント配線基板にレジストを塗布し、貼り合わせたプリント配線基板とフィルムを加圧密着させ、前記レジスト塗布、レジストの半乾燥、プリント配線基板とフィルムの貼り合わせ、プリント配線基板とフィルムの加圧密着をプリント配線基板又は/及びフィルムの搬送中に連続作業する方法である。なお、前記半乾燥状態とは、前記貼り合わせ又は加圧密着を行うときレジストが平滑となり、かつレジストがプリント配線基板の有底ホールやスルーホール内に充填可能な程度まで乾燥させた状態である。 The resist coated substrate manufacturing method according to claim 1 of the present application is a resist coated substrate manufacturing method for manufacturing a resist coated substrate by applying a resist to a printed wiring substrate. In addition, the resist is applied at intervals in the running direction, and the applied resist is made into a semi-dry state with a drying device, and the film is applied to the semi-dry resist application surface of the printed wiring board, and the film is in a semi-dry state. A printed wiring board is bonded to the resist coating surface of the substrate, a resist is applied to the printed wiring board, the bonded printed wiring board and the film are pressed and adhered, the resist coating, the resist semi-drying, the printed wiring board and the film are applied. bonding, the printed wiring board and the film pressure compaction bonding the printed wiring board or / and films It is a method of continuous work in transmission. The state wherein the semi-dry state, where Ri resist Do and a smoothing when performing the bonding, or pressure compaction adhesion, and resist was dried to the extent possible filling to the printed wiring bottomed holes and the through hole of the substrate It is.

本件出願の請求項2記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、移行ロールと塗布ロールを回転接触させて塗布ロールの外周面の一部に移行ロールからレジストを移行させ、その塗布ロールを走行中のフィルム又は単葉或は連続のプリント配線基板に回転接触させて、そのフィルム又はプリント配線基板の走行方向に間隔をあけてレジストを塗布する方法である。   In the resist coated substrate manufacturing method according to claim 2 of the present application, in the resist coated substrate manufacturing method, the transfer roll and the coating roll are rotationally contacted to transfer the resist from the transition roll to a part of the outer peripheral surface of the coating roll, In this method, the coating roll is rotated and brought into contact with a running film or a single-piece or continuous printed wiring board, and a resist is applied at intervals in the running direction of the film or the printed wiring board.

本件出願の請求項3記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、ロール外周面の一部にその外周面よりも突出した又は窪んだレジスト塗布部が形成された塗布ロールを、プリント配線基板又はフィルムに回転接触させて、そのレジスト塗布部によりプリント配線基板又はフィルムに、それらの走行方向に間隔をあけてレジストを塗布する方法である。   In the resist-coated substrate manufacturing method according to claim 3 of the present application, in the resist-coated substrate manufacturing method, a coating roll in which a resist coating portion protruding or recessed from the outer peripheral surface is formed on a part of the outer peripheral surface of the roll. In this method, the printed wiring board or film is rotated and brought into contact with the resist, and the resist is applied to the printed wiring board or film at intervals in the running direction thereof.

本件出願の請求項4記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、プリント配線基板又はフィルムに間隔をあけて塗布されたレジストの塗布形状を方形とする方法である。   The resist-coated substrate manufacturing method according to claim 4 of the present application is a method in which, in the resist-coated substrate manufacturing method, a coated shape of the resist applied at intervals to the printed wiring board or the film is square.

本件出願の請求項5記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、ロール外周面の一部にその外周面よりも方形に突出した又は方形に窪んだレジスト塗布部が形成された塗布ロールを、プリント配線基板又はフィルムに回転接触させて、その方形のレジスト塗布部によりプリント配線基板又はフィルムにレジストを方形に塗布する方法である。   In the resist-coated substrate manufacturing method according to claim 5 of the present application, in the resist-coated substrate manufacturing method, a resist coating portion that protrudes in a square shape or is recessed in a square shape from the outer peripheral surface is formed on a part of the outer peripheral surface of the roll. The coating roll is rotated and brought into contact with the printed wiring board or film, and the resist is squarely applied to the printed wiring board or film by the square resist coating portion.

本件出願の請求項6記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、移行ロール又は/及び塗布ロールの外周面の一部にその外周面よりも方形に突出した又は方形に窪んだレジスト塗布部が形成され、それら移行ロールと塗布ロールを回転接触させて塗布ロールの外周面のレジスト塗布部に移行ロールからレジストを移行させる方法である。   The resist-coated substrate manufacturing method according to claim 6 of the present application is the resist-coated substrate manufacturing method, wherein a part of the outer peripheral surface of the transfer roll or / and the coating roll protrudes in a square shape from the outer peripheral surface or is recessed in a square shape. This is a method in which a resist coating portion is formed, and the transfer roll and the coating roll are brought into rotational contact to transfer the resist from the transition roll to the resist coating portion on the outer peripheral surface of the coating roll.

本件出願の請求項7記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のレジスト塗布基板製造方法において、プリント配線基板とフィルムの貼り合わせ及び加圧密着を真空貼付式とする方法である。   The resist coated substrate manufacturing method according to claim 7 of the present application is the resist coated substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 6, wherein the printed wiring board and the film are bonded. This is a method in which the bonding and pressure contact are made by vacuum attachment.

本件出願の請求項8記載のレジスト塗布基板製造方法は、前記レジスト塗布基板製造方法において、プリント配線基板とフィルムの加圧密着後に、レジスト塗布基板のレジストを乾燥装置で完全乾燥させる方法である。   The resist-coated substrate manufacturing method according to claim 8 of the present application is a method in which, in the resist-coated substrate manufacturing method, the resist on the resist-coated substrate is completely dried with a drying apparatus after the printed wiring board and the film are pressed and adhered.

本件出願のレジスト塗布基板は、前記レジスト塗布基板製造方法により製造されたことを特徴とする方法である。   The resist-coated substrate of the present application is a method characterized by being manufactured by the resist-coated substrate manufacturing method.

本件出願のレジスト塗布基板製造方法は、次のような効果がある。
(1)プリント配線基板に塗布されたレジストが半乾燥の状態で、そのプリント配線基板のレジスト塗布面にフィルムを貼り付けるので、フィルムをプリント配線基板に貼り付け易く、プリント配線基板のレジストの接着性も良く、プリント配線基板に塗布されたレジストが平滑になる。
(2)プリント配線基板に貼付されるのは一層のフィルムのみであるため、プリント配線基板にドライフィルムと保護フィルムの双方を貼付する従来のドライフィルム方式に比してフィルムの枚数が少なくなり、コストが低減する。
(3)レジストの塗布、レジストの半乾燥、フィルムの貼り付けまでを、プリント配線基板の走行中に自動的に連続して行うことができるため作業性が良い。
The resist coated substrate manufacturing method of the present application has the following effects.
(1) Since the resist applied to the printed wiring board is semi-dried, the film is attached to the resist coating surface of the printed wiring board, so that the film can be easily attached to the printed wiring board, and the resist of the printed wiring board is adhered. The resist applied to the printed wiring board is smooth.
(2) Since only one layer of film is attached to the printed wiring board, the number of films is reduced compared to the conventional dry film method in which both the dry film and the protective film are attached to the printed wiring board. Cost is reduced.
(3) Since the application of resist, semi-drying of resist, and film application can be performed automatically and continuously while the printed wiring board is running, workability is good.

本件出願のレジスト塗布基板製造方法は、次のような効果がある。
(1)レジスト塗布部が形成された塗布ロールを用いた場合は、フィルム及びプリント配線基板のうち、レジスト塗布を必要とする箇所にのみレジストを塗布することができるためレジストの無駄が無い。また、レジストの塗布を必要としない箇所がレジストで汚れることも無い。
(2)レジスト塗布部が形成されていない塗布ロールを用いた場合は、フィルム及びプリント配線基板の全面にレジストを塗布することができる。
(3)フィルムに塗布されたレジスト、又はプリント配線基板に塗布されたレジストが半乾燥状態のうちにフィルムをプリント配線基板に貼り付けるので、フィルムをプリント配線基板に貼り付け易く、プリント配線基板のレジストの接着性も良く、プリント配線基板に塗布されたレジストが平滑になる。
(4)プリント配線基板に貼付されるのは一層のフィルムのみであるため、プリント配線基板にドライフィルムと保護フィルムとの双方を貼付する従来のドライフィルム方式に比してフィルムの枚数が少なくなり、コストを低減する。
(5)レジスト塗布、レジストの半乾燥、フィルムの貼り付けまでを、プリント配線基板の走行中に自動的に連続して行うことができるため、作業性が良い。
The resist coated substrate manufacturing method of the present application has the following effects.
(1) When a coating roll on which a resist coating portion is formed is used, the resist can be applied only to the portions of the film and the printed wiring board that require resist coating, so there is no waste of resist. In addition, the resist does not become dirty at locations that do not require resist application.
(2) When an application roll having no resist application part is used, the resist can be applied to the entire surface of the film and the printed wiring board.
(3) Since the resist applied to the film or the resist applied to the printed wiring board is affixed to the printed wiring board in a semi-dry state, the film can be easily attached to the printed wiring board. The adhesion of the resist is good, and the resist applied to the printed wiring board becomes smooth.
(4) Since only one layer of film is attached to the printed wiring board, the number of films is reduced compared to the conventional dry film method in which both the dry film and the protective film are attached to the printed wiring board. , Reduce costs.
(5) Since the process from resist application, resist semi-drying, and film application can be performed automatically and continuously while the printed wiring board is running, workability is good.

本件出願のレジスト塗布基板製造方法は、次のような効果がある。
(1)レジスト塗布部が形成された移行ロールを用いた場合、フィルム及びプリント配線基板のうち、レジスト塗布の必要な箇所にのみレジストを塗布することができ、レジストの無駄が無い。また、レジスト塗布を必要としない箇所がレジストで汚れることも無い。
(2)レジスト塗布部が形成されていない移行ロールを用いた場合、フィルム及びプリント配線基板の全面にレジストを塗布することができる。
(3)フィルムに塗布されたレジスト、又はプリント配線基板に塗布されたレジストが半乾燥状態のうちに、フィルムとプリント配線基板を貼り付けるので、フィルムとプリント配線基板を貼り付け易く、プリント配線基板へのレジストの接着性も良く、プリント配線基板に塗布されたレジストが平滑になる。
(4)プリント配線基板に貼付されるのは保護フィルム層だけであるため、プリント配線基板にドライフィルムと保護フィルムとの双方を貼付する従来のドライフィルム方式に比してフィルムの枚数が少なくなり、コストが低減する。
(5)レジスト塗布、レジストの半乾燥、フィルムの貼り付けまでを、プリント配線基板の走行中に自動的に連続して行うことができるため、作業性が良い。
The resist coated substrate manufacturing method of the present application has the following effects.
(1) When the transfer roll formed with the resist coating portion is used, the resist can be applied only to a portion where the resist coating is necessary in the film and the printed wiring board, and there is no waste of the resist. In addition, a portion that does not require resist coating is not stained with the resist.
(2) When the transfer roll in which the resist application part is not formed is used, the resist can be applied to the entire surface of the film and the printed wiring board.
(3) Since the film and the printed wiring board are attached while the resist applied to the film or the resist applied to the printed wiring board is semi-dried, the film and the printed wiring board can be easily attached. The adhesion of the resist to the substrate is good, and the resist applied to the printed wiring board becomes smooth.
(4) Since only the protective film layer is affixed to the printed wiring board, the number of films is reduced compared to the conventional dry film method in which both the dry film and the protective film are affixed to the printed wiring board. , Cost is reduced.
(5) Since the process from resist application, resist semi-drying, and film application can be performed automatically and continuously while the printed wiring board is running, workability is good.

本件出願のレジスト塗布基板製造方法は、上記各効果に加えて、次のような効果がある。
(1)プリント配線基板とフィルムの貼り付けを真空貼付式とするため、貼り付けが確実になり、フィルムからプリント配線基板へのレジストの塗布も、プリント配線基板へのレジストの塗布も確実になる。
(2)フィルムやプリント配線基板に塗布されているレジスト内の空気、プリント配線基板とフィルムの間の空気、プリント配線基板の有底ホールやスルーホール内の空気が、プリント配線基板とフィルムの貼り付け時に外部に排出されるので、プリント配線基板に塗布されるレジストに気泡やピンホールが発生することもない。
(3)レジストをプリント配線基板の有底ホールやスルーホール内に確実に充填することができる。
The resist coated substrate manufacturing method of the present application has the following effects in addition to the above effects.
(1) Since the attachment of the printed wiring board and the film is a vacuum application type, the attachment is reliable, and the application of the resist from the film to the printed wiring board and the application of the resist to the printed wiring board are ensured. .
(2) The air in the resist applied to the film or the printed wiring board, the air between the printed wiring board and the film, the air in the bottomed hole or through hole of the printed wiring board is stuck between the printed wiring board and the film. Since it is discharged to the outside at the time of attachment, bubbles and pinholes are not generated in the resist applied to the printed wiring board.
(3) The resist can be reliably filled into the bottomed hole or through hole of the printed wiring board.

本件出願のレジスト移行ロールは、ロール外周面の一部にレジスト塗布部が形成され、塗布ロールと回転接触させることによりレジスト塗布部のレジストを塗布ロールの一部に移行させることができるものであるため、その塗布ロールをフィルム又はプリント配線基板に接触させることによりフィルム又はプリント配線基板の所望箇所にのみ所望形状、パターンのレジストを塗布することができ、レジストが無駄なくフィルム又はプリント配線基板に塗布される。又、塗布ロールの汚れもなくなる。   The resist transfer roll of the present application is such that a resist coating part is formed on a part of the outer peripheral surface of the roll, and the resist of the resist coating part can be transferred to a part of the coating roll by rotating contact with the coating roll. Therefore, by bringing the coating roll into contact with the film or the printed wiring board, a resist having a desired shape and pattern can be applied only to a desired portion of the film or the printed wiring board, and the resist is applied to the film or the printed wiring board without waste. Is done. In addition, the coating roll is not soiled.

本件出願のレジスト塗布ロールは、ロール外周面の一部にレジスト塗布部が形成され、フィルム又はプリント配線基板と回転接触させることによりレジスト塗布部のレジストをフィルム又はプリント配線基板の一部に直接塗布できるため、フィルム又はプリント配線基板の所望箇所にのみ確実に所望形状、パターンのレジストを塗布することができる。   The resist coating roll of the present application has a resist coating part formed on a part of the outer peripheral surface of the roll, and the resist of the resist coating part is directly applied to a part of the film or the printed wiring board by rotating contact with the film or the printed wiring board. Therefore, a resist having a desired shape and pattern can be reliably applied only to a desired portion of the film or printed wiring board.

本件出願のレジスト塗布ドライフィルムは、フィルムに間隔をあけて部分的にレジストが塗布され、そのレジストが前記フィルムの全面又は一部に重ね合わせた保護フィルムで被覆され、レジストが乾燥しているので従来のレジスト塗布用ドライフィルムと同様に使用して、プリント配線基板の必要箇所にのみレジストを塗布することができる。レジストがフィルムのうちプリント配線基板への塗布に必要な箇所にしか塗布されていないため、フィルム全般にレジストが塗布されている場合よりもレジストの溶融に必要な熱量が少なくて済み、レジストの無駄もなく経済的である。   In the resist-coated dry film of the present application, the resist is partially applied at intervals to the film, and the resist is covered with a protective film superimposed on the entire surface or a part of the film, and the resist is dry. The resist can be applied only to a necessary portion of the printed wiring board by using it in the same manner as a conventional dry film for resist application. Since the resist is only applied to the part of the film that is necessary for application to the printed circuit board, less heat is required to melt the resist than when the resist is applied to the entire film, and the resist is wasted. It is economical.

本件出願のレジスト塗布基板は、プリント配線基板の全面又は一部にレジストが塗布され、そのレジストがプリント配線基板に重ね合わせた保護フィルムで被覆されているので、プリント配線基板を後処理するまでにレジストが剥がれたり、欠けたりすることがない。   In the resist-coated substrate of the present application, a resist is applied to the entire surface or a part of the printed wiring board, and the resist is covered with a protective film superimposed on the printed wiring board. The resist is not peeled off or chipped.

(レジスト塗布基板製造方法の実施形態1)
本発明のレジスト塗布基板製造方法の実施形態の一例を図1に基づいて説明する。この実施形態は、ロール状に巻かれているフィルム1を引き出し、そのフィルム1の走行中にその片面の一部にレジストを塗布し、そのフィルム1をそのまま走行させて半乾燥室(図示しない)内に引き入れ、その中でフィルム1に塗布されているレジストを半乾燥状態(生乾燥)に乾燥させ、そのフィルム1を半乾燥室から引き出し、そのフィルム1のレジスト塗布面を図示しないプリント配線基板(以下「基板」とする。)に貼り付けて、その後に基板のレジストを乾燥させてレジスト塗布基板を製造する方法である。
(Embodiment 1 of resist-coated substrate manufacturing method)
An example of an embodiment of the resist coated substrate manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the film 1 wound in a roll shape is pulled out, a resist is applied to a part of one side of the film 1 while the film 1 is traveling, and the film 1 is allowed to travel as it is to be semi-drying chamber (not shown). The resist coated on the film 1 is drawn into the semi-dry state (raw dry), the film 1 is pulled out from the semi-dry chamber, and the resist coated surface of the film 1 is not shown in the printed wiring board. (Hereinafter referred to as “substrate”), and then the resist of the substrate is dried to manufacture a resist-coated substrate.

フィルム1へのレジストの塗布は、図1に示す、塗布ロール2の外周面の一部を窪ませて(外周面よりも低くして)形成されたレジスト塗布部3(図5)にレジストを溜め、その塗布ロール2を走行中のフィルム1に回転接触させて、フィルム1の一部にレジストを塗布する方法によって行う。図1では、フィルム1の両面にレジストを塗布しているが、この実施形態のレジスト塗布基板製造方法では、フィルム1を基板に貼付するため、フィルム1の片面だけにレジストを塗布すればよい。その場合、塗布ロール2はフィルム1の片面側にのみ設ければよい。   The resist is applied to the film 1 by applying a resist to the resist coating portion 3 (FIG. 5) formed by recessing a part of the outer peripheral surface of the coating roll 2 (lower than the outer peripheral surface) shown in FIG. The coating roll 2 is rotated and brought into contact with the traveling film 1 to apply a resist to a part of the film 1. In FIG. 1, a resist is applied to both surfaces of the film 1. However, in the resist-coated substrate manufacturing method of this embodiment, the film 1 is affixed to the substrate. In that case, the application roll 2 may be provided only on one side of the film 1.

前記塗布ロール2は、図5に示すように、フィルム1の一部にレジストを塗布するロール状部材であって、外周面にはレジスト塗布部3が形成されている。塗布ロール2のレジスト塗布部3は塗布ロール2の外周面よりも一段低く窪ませてある。このレジスト塗布部3にはレジスト供給部4(図1)から供給されるレジストRがその部分に溜まり、そのレジストRがフィルム1に図6のように塗布される。レジスト塗布部3は塗布ロール2の周方向二箇所以上に離して形成することもできる。図5のレジスト塗布部3は長方形であるが、他の形状やパターンとすることもできる。前記レジスト塗布部3は塗布ロール2の外周面よりも一段高くすることもできる。この場合は、レジスト供給部4から供給されるレジストRがそのレジスト塗布部3に付着し、そのレジストRが接触する走行中のフィルム1に塗布される。また、塗布ロール2にはゴム製、樹脂製、金属製、セラミックス製といった任意の材質製のロールを使用することができる。   As shown in FIG. 5, the coating roll 2 is a roll-shaped member that applies a resist to a part of the film 1, and a resist coating portion 3 is formed on the outer peripheral surface. The resist coating portion 3 of the coating roll 2 is recessed one step lower than the outer peripheral surface of the coating roll 2. The resist R supplied from the resist supply unit 4 (FIG. 1) accumulates in the resist coating unit 3 and the resist R is applied to the film 1 as shown in FIG. The resist coating part 3 can also be formed separately at two or more locations in the circumferential direction of the coating roll 2. Although the resist coating portion 3 in FIG. 5 is rectangular, other shapes and patterns may be used. The resist coating unit 3 can be made one step higher than the outer peripheral surface of the coating roll 2. In this case, the resist R supplied from the resist supply unit 4 adheres to the resist coating unit 3 and is applied to the traveling film 1 in contact with the resist R. The coating roll 2 can be a roll made of any material such as rubber, resin, metal, or ceramic.

フィルム1の材質は任意に選択することができる。また、フィルム1は一枚ずつ分離した単葉のものであっても、連続したものであってもよい。また、フィルム1に塗布されたレジストRも均一厚であるのがのぞましく、そのために、レジストの塗布されたフィルム1にスキージ9の接触面9aを当てて均一に均すのが好ましく、均一厚に均すためには接触面9aは幅の広いものが好ましい。   The material of the film 1 can be arbitrarily selected. The film 1 may be a single leaf separated from each other or may be continuous. In addition, it is preferable that the resist R applied to the film 1 has a uniform thickness. For this reason, it is preferable that the contact surface 9a of the squeegee 9 is applied to the film 1 applied with the resist so as to be uniform. In order to equalize the thickness uniformly, the contact surface 9a is preferably wide.

塗布ロール2へレジストを供給するレジスト供給部4は、レジスト貯留槽とかレジストを大量に含んだ回転ロール等とすることができる。いずれのレジスト供給部4からレジストを塗布ロール2に供給する場合も、塗布ロール2に塗布されたレジストが均一厚になるようにするのがよく、そのためには、例えば、塗布ロール2の外周面にスキージをあてがってレジストを均一厚に均すなどすることが好ましい。   The resist supply unit 4 that supplies the resist to the coating roll 2 can be a resist storage tank or a rotating roll containing a large amount of resist. In any case where the resist is supplied from any resist supply unit 4 to the coating roll 2, it is preferable that the resist applied to the coating roll 2 has a uniform thickness. For this purpose, for example, the outer peripheral surface of the coating roll 2 It is preferable to apply a squeegee to level the resist to a uniform thickness.

前記のようにしてレジストを塗布したフィルム1をそのまま走行させて半乾燥室内に引き入れ、その中でフィルム1に塗布されているレジストを半乾燥状態(生乾燥)に乾燥させ、そのフィルム1を半乾燥室から引き出し、半乾燥状態のうちにそのフィルム1のレジスト塗布面を基板に貼り付ける。フィルム1のレジストの半乾燥は、半乾燥室に搬入することに限らず、任意の方法によって行うことができる。また、フィルム1の貼り付け方法も適宜方法で行なうことができるが、真空貼付式で貼り付ければ、基板へのフィルム1の貼り付け及び基板へのレジストの塗布も確実になる。また、フィルム1に塗布されているレジスト中の空気、基板とフィルム1の間の空気、基板の有底ホールやスルーホール内の空気が貼り付け時に外部に排出されるので、基板に塗布されるレジストに気泡やピンホールが発生することもない。更には、レジストを基板の有底ホールやスルーホール内に充填することもできる。   The film 1 coated with the resist as described above is run as it is and drawn into the semi-drying chamber, in which the resist coated on the film 1 is dried in a semi-dry state (raw dry), and the film 1 is semi-dried. It is pulled out from the drying chamber, and the resist-coated surface of the film 1 is attached to the substrate in a semi-dry state. The semi-drying of the resist of the film 1 is not limited to being carried into the semi-drying chamber, and can be performed by any method. Further, the film 1 can be attached by any appropriate method, but if the film 1 is attached by a vacuum attachment method, the attachment of the film 1 to the substrate and the application of the resist to the substrate can be ensured. In addition, air in the resist applied to the film 1, air between the substrate and the film 1, air in the bottomed hole or through hole of the substrate is discharged to the outside at the time of pasting, and is thus applied to the substrate No bubbles or pinholes are generated in the resist. Furthermore, the resist can be filled into a bottomed hole or a through hole of the substrate.

基板にフィルム1を貼り付けた後は、貼り付けられたフィルム1及び基板をそのまま走行させ、乾燥室等に送り込んで基板のレジストを完全乾燥させる。レジストの乾燥は乾燥室に搬入することに限らず、任意の方法によって行うことができる。レジストを乾燥させたフィルム1及び基板はそのまま走行させ、走行中に、或は一時停止させて、フィルム1を基板の外径寸法に合わせて切断して、基板を一枚ずつ分離して、レジスト塗布基板とする。基板が連続するものの場合は、フィルム1と同時に基板をも切断して、フィルム1が貼り付けられた基板を一枚ずつに分離して、レジスト塗布基板とする。   After the film 1 is attached to the substrate, the attached film 1 and the substrate are run as they are and sent to a drying chamber or the like to completely dry the resist on the substrate. The drying of the resist is not limited to being carried into the drying chamber, and can be performed by any method. The film 1 and the substrate on which the resist is dried are run as they are, and while running or temporarily stopped, the film 1 is cut according to the outer diameter of the substrate, and the substrates are separated one by one. A coated substrate is used. In the case where the substrates are continuous, the substrate is cut at the same time as the film 1, and the substrates to which the film 1 is attached are separated one by one to obtain a resist-coated substrate.

本実施形態のレジスト塗布基板製造方法におけるフィルム1の走行は、送りローラや送りベルト等の回転送り体を回転させ、その回転中に、それに取付けられている突起をフィルム1の幅方向両端に開口されている送り孔11(図6参照。)に差し込むことによりフィルム1を自動送りして行なうことができる。送り孔11は走行中のフィルム1に開口し、開口後に、その送り孔11を使用して前記のように送ることもできる。   In the resist coated substrate manufacturing method of the present embodiment, the film 1 travels by rotating a rotary feed body such as a feed roller or a feed belt, and during the rotation, protrusions attached thereto are opened at both ends in the width direction of the film 1. The film 1 can be automatically fed by being inserted into the feed hole 11 (see FIG. 6). The feed hole 11 can be opened in the running film 1, and after the opening, the feed hole 11 can be used to feed the film as described above.

前記基板の材質は任意に選択することができる。また、基板は、単葉のものでも、連続したものであっても良い。また、基板は単層のものでも積層のものでもよく、硬質のものでも軟質のものでも、リジッドなものでもフレキシブルなものでもそうでないものでも使用できる。   The material of the substrate can be arbitrarily selected. The substrate may be a single leaf or a continuous substrate. The substrate may be a single layer or a laminate, and may be a hard substrate, a soft substrate, a rigid substrate, a flexible substrate, or a substrate that is not.

(レジスト塗布基板製造方法の実施形態2)
本発明のレジスト塗布基板製造方法の実施形態の他の一例を図2に基づいて説明する。この実施形態のレジスト塗布基板製造方法も、フィルム1の走行中に、そのフィルム1の一部にレジストを塗布し、そのフィルム1を半乾燥状態(生乾燥)に乾燥させ、そのフィルム1のレジスト塗布面を基板(図示しない)に貼り付けて、その後に基板のレジストを乾燥させてレジスト塗布基板を製造する方法である点においては前記実施形態1の方法と共通するが、フィルム1へのレジストの塗布方法において前記実施形態1の方法とは異なる。
(Embodiment 2 of resist-coated substrate manufacturing method)
Another example of the embodiment of the resist coated substrate manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. The resist-coated substrate manufacturing method of this embodiment also applies a resist to a part of the film 1 while the film 1 is running, and dries the film 1 in a semi-dry state (raw dry). Although it is common to the method of the first embodiment in that the coated surface is attached to a substrate (not shown) and then the resist of the substrate is dried to manufacture the resist coated substrate, the resist to the film 1 is used. This coating method is different from the method of the first embodiment.

本実施形態では、フィルム1へのレジストの塗布は、図2に示す、塗布ロール2と移行ロール5を接触させて、移行ロール5のレジスト塗布部6に塗布或は貯留されているレジストを塗布ロール2に塗布(転写)し、塗布ロール2のレジストを走行中のフィルム1に回転接触させて、フィルム1(又は単葉或は連続の基板)にレジストRを塗布する方法によって行う。図2では、フィルム1の両面にレジストを塗布しているが、この実施形態のレジスト塗布基板製造方法でも、フィルム1を基板に貼付するため、フィルム1の片面だけにレジストを塗布すればよい。この場合、塗布ロール2、移行ロール5はフィルム1の片面側にのみ設ければよい。   In the present embodiment, the resist is applied to the film 1 by applying the resist applied or stored in the resist application part 6 of the transfer roll 5 by bringing the application roll 2 and the transfer roll 5 into contact with each other as shown in FIG. Coating (transferring) is performed on the roll 2, and the resist of the coating roll 2 is rotated and brought into contact with the running film 1 to apply the resist R to the film 1 (or a single substrate or a continuous substrate). In FIG. 2, the resist is applied to both surfaces of the film 1. However, in the resist-coated substrate manufacturing method of this embodiment, the film 1 is applied to the substrate, and therefore, the resist may be applied to only one surface of the film 1. In this case, the application roll 2 and the transfer roll 5 need only be provided on one side of the film 1.

前記塗布ロール2、移行ロール5にはゴム製、樹脂製、金属製、セラミックス製といった任意の材質製のロールのものを使用することができる。この移行ロール5は前記実施形態1記載の塗布ロール2と同じものであっても、異なるものであってもよい。   The coating roll 2 and the transfer roll 5 can be made of any material such as rubber, resin, metal, or ceramic. The transfer roll 5 may be the same as or different from the application roll 2 described in the first embodiment.

図2のレジスト供給部4はレジスト貯留槽にし、その中のレジストRを転写ロール7に付着させ、転写ロール7を移行ロール5と回転接触させることにより、そのレジストRを移行ロール5に付着させ、移行ロール5が塗布ロール2と回転接触することにより、移行ロール5のレジストRが塗布ロール2に塗布され、そのレジストRが走行中のフィルム1に塗布されるようにしてある。この実施形態でも、移行ロール5のレジスト塗布部6に移行されたレジストが均一厚になって、塗布ロール2に移行されるレジスト厚が均一になるようにするのがよく、そのためには、例えば、移行ロール5の外周面にスキージ8をあてがってレジストを均一厚に均すなどするのが好ましい。   The resist supply unit 4 in FIG. 2 serves as a resist storage tank, the resist R therein is attached to the transfer roll 7, and the transfer roll 7 is brought into rotational contact with the transfer roll 5, thereby attaching the resist R to the transfer roll 5. When the transfer roll 5 is in rotational contact with the application roll 2, the resist R of the transfer roll 5 is applied to the application roll 2, and the resist R is applied to the traveling film 1. Also in this embodiment, it is preferable that the resist transferred to the resist coating portion 6 of the transfer roll 5 has a uniform thickness so that the resist thickness transferred to the coating roll 2 becomes uniform. It is preferable to apply a squeegee 8 to the outer peripheral surface of the transfer roll 5 to equalize the resist to a uniform thickness.

実施形態2の場合も、フィルム及び基板は実施形態1記載のものと同じものを使用することができる。また、実施形態2でも、レジストの塗布されたフィルム1にスキージ9の接触面9aを当てて均一に均すのがよい。   Also in the second embodiment, the same film and substrate as those described in the first embodiment can be used. Also in the second embodiment, it is preferable that the contact surface 9a of the squeegee 9 is applied to the film 1 coated with a resist so as to be even.

(レジスト塗布基板製造方法の実施形態3)
本発明のレジスト塗布基板製造方法の実施形態の他の一例を説明する。本発明のレジスト塗布基板製造方法は、前記各実施形態のようにフィルム1にレジストを塗布して、そのフィルム1を半乾燥状態として基板20に貼り付ける方法には限られず、図3に示すように、基板20の走行中に、その基板20の一部にレジストを塗布し、その基板20を半乾燥室21内で半乾燥状態(生乾燥)に乾燥させ、その基板20のレジスト塗布面にフィルム1を貼り付けて、その後に基板20のレジストを乾燥させてレジスト塗布基板を製造する方法とすることもできる。基板20へのレジストの塗布は、図3に示すような、前記図1と同様の塗布ロール2を回転接触させて行う方法と、図2に示すような、塗布ロール2と移行ロール5を接触させて、移行ロール5のレジスト塗布部6に塗布或は貯留されているレジストを塗布ロール2に塗布(転写)し、塗布ロール2のレジストを走行中の基板20に回転接触させて行う方法のいずれによっても行うことができる。
(Embodiment 3 of resist-coated substrate manufacturing method)
Another example of the embodiment of the resist coated substrate manufacturing method of the present invention will be described. The method for producing a resist-coated substrate of the present invention is not limited to a method of applying a resist to the film 1 and attaching the film 1 to the substrate 20 in a semi-dry state as in the above embodiments, as shown in FIG. Further, while the substrate 20 is running, a resist is applied to a part of the substrate 20, the substrate 20 is dried in a semi-dry state (raw dry) in the semi-drying chamber 21, and the resist application surface of the substrate 20 is applied. A method of manufacturing a resist-coated substrate by attaching the film 1 and then drying the resist of the substrate 20 may be employed. The resist is applied to the substrate 20 by rotating the application roll 2 similar to that shown in FIG. 1 as shown in FIG. 3 and the application roll 2 and the transfer roll 5 as shown in FIG. Then, the resist applied or stored in the resist application part 6 of the transfer roll 5 is applied (transferred) to the application roll 2 and the resist of the application roll 2 is rotated and brought into contact with the traveling substrate 20. Either can be performed.

本発明のレジスト塗布基板製造方法においては、基板20は、その表裏面を上下方向に向けた状態(基板を寝かせた状態)で水平方向に走行させられるようにしてある。本実施形態における基板20の走行は、前記各実施形態と同様に、基板20の幅方向両端に送り孔を開口し、外周に突起が備えられた送りローラや送りベルト等の回転送り体を回転させ、その回転中に前記突起を送り孔に差し込むことにより基板20を自動送りして行なうことができる。送り孔は、走行中の基板20に開口し、開口後に、その送り孔を使用して前記のように送ることもできる。   In the resist-coated substrate manufacturing method of the present invention, the substrate 20 is allowed to run in the horizontal direction with its front and back surfaces oriented in the vertical direction (the state in which the substrate is laid down). In the present embodiment, the substrate 20 travels in the same manner as in each of the embodiments described above, in which feed holes are opened at both ends in the width direction of the substrate 20 and rotating feed bodies such as feed rollers and feed belts provided with protrusions on the outer periphery are rotated. The substrate 20 can be automatically fed by inserting the projection into the feed hole during the rotation. The feed hole can be opened in the traveling substrate 20, and after the opening, the feed hole can be used for feeding as described above.

前記レジストを塗布する基板20は、図3に示すような連続のものでも、単葉のものであっても良い。また、基板20の材質は任意に選択することができる。基板20は単層のものでも積層のものでもよく、硬質のものでも軟質のものでも、リジッドなものでもフレキシブルなものでもそうでないものでも使用できる。また、基板20に塗布されたレジストRも均一厚であるのがのぞましく、そのために、レジストの塗布されたフィルム1にスキージ9の接触面9aを当てて均一に均すのが好ましく、均一厚に均すためには接触面9aは幅の広いものが好ましい(図1、図2参照。)。   The substrate 20 to which the resist is applied may be continuous as shown in FIG. Further, the material of the substrate 20 can be arbitrarily selected. The substrate 20 may be a single layer or a laminate, and may be a hard one, a soft one, a rigid one, a flexible one, or another one. In addition, it is preferable that the resist R applied to the substrate 20 has a uniform thickness. For this reason, it is preferable that the contact surface 9a of the squeegee 9 is applied to the film 1 applied with the resist so that the resist R is evenly uniform. In order to equalize the thickness uniformly, the contact surface 9a is preferably wide (see FIGS. 1 and 2).

基板に貼り付けるフィルムの材質も任意に選択することができ、又フィルムは一枚ずつ分離した単葉のものであっても、連続したものであってもよい。   The material of the film to be attached to the substrate can be arbitrarily selected, and the film may be a single leaf separated from each other or continuous.

(レジスト塗布基板製造方法のその他の実施形態)
本発明のレジスト塗布基板製造方法においては、フィルム又は基板へのレジスト塗布方法は、前記図1〜図3に示したものには限られず、任意の方法によることができる。従って、例えば、図4に示すように、塗布ロール2と移行ロール5を接触させて備え、移行ロール5にレジスト供給部4内のレジストRを直接付着させ、移行ロール5のレジスト塗布部6に塗布或は貯留されているレジストを塗布ロール2に塗布(転写)し、塗布ロール2のレジストを走行中のフィルム1又は基板に回転接触させて行う方法とすることもできる。また、備えるロールの本数も、前記図1〜図4に示すものには限られず、任意の本数とすることもできる。
(Other Embodiments of Resist Coated Substrate Manufacturing Method)
In the method for producing a resist-coated substrate of the present invention, the method for applying a resist to a film or a substrate is not limited to that shown in FIGS. 1 to 3, and any method can be used. Therefore, for example, as shown in FIG. 4, the application roll 2 and the transfer roll 5 are provided in contact with each other, the resist R in the resist supply unit 4 is directly attached to the transfer roll 5, and the resist application unit 6 of the transfer roll 5 is attached. It is also possible to apply (transfer) the resist that has been applied or stored on the application roll 2 and rotate the resist on the application roll 2 to the traveling film 1 or substrate. Also, the number of rolls provided is not limited to that shown in FIGS. 1 to 4 and may be any number.

本発明のレジスト塗布基板製造方法においては、レジスト塗布部が形成されていない塗布ロールや移行ロールを用いて、フィルム又は基板の全面にレジストを塗布することもできる。その場合、基板の全面にレジストが塗布されているレジスト塗布基板を製造することができる。   In the resist coated substrate manufacturing method of the present invention, the resist can be coated on the entire surface of the film or substrate using a coating roll or a transfer roll in which a resist coating portion is not formed. In that case, a resist coated substrate in which a resist is coated on the entire surface of the substrate can be manufactured.

本発明のレジスト塗布基板製造方法においては、基板の両面にフィルムを貼り付けることも、片面のみにフィルムを貼り付けることもできる。また、基板の両面にフィルムを貼り付ける場合には、基板の両面に同時にフィルムを貼り付けることも、片面ずつ時間差を設けて貼り付けることもできる。   In the resist coated substrate manufacturing method of the present invention, a film can be attached to both surfaces of the substrate, or a film can be attached to only one surface. In addition, when a film is attached to both sides of the substrate, the film can be attached to both sides of the substrate at the same time, or can be attached with a time difference for each side.

また、フィルム又は基板の走行方向は、前記図1、図2に示すような垂直方向に上向きには限られず、任意の方向に走行させることができる。従って、例えば基板を垂直方向に下向きに走行させたり、斜方に走行させたりすることもできる。また、図3に示すような、基板の表裏面を上下方向に向けた状態(基板を寝かせた状態)で水平方向に走行させたり、基板の表裏面を側方に向けた状態(基板を立てた状態)で水平方向に走行させることもできる。また、フィルム1又は基板の幅方向一端を高くして、フィルム1又は基板を斜めに傾けて塗布ロール2へ搬入することもできる。   Further, the traveling direction of the film or the substrate is not limited to the upward direction in the vertical direction as shown in FIGS. 1 and 2, and can be traveled in an arbitrary direction. Therefore, for example, the substrate can be run vertically downward or obliquely. Further, as shown in FIG. 3, the substrate is run in the horizontal direction with the front and back surfaces of the substrate facing up and down (the substrate is laid down), or the front and back surfaces of the substrate are directed sideways (the substrate is erected). In the horizontal direction). Moreover, the width direction end of the film 1 or a board | substrate can be made high, and the film 1 or a board | substrate can be inclined and can be carried in to the application | coating roll 2.

また、フィルム又は基板の走行方法は、前記各実施形態のような、フィルム又は基板の幅方向両端に送り孔を開口し、外周に突起が備えられた送りローラや送りベルト等の回転送り体を回転させ、その回転中に前記突起を送り孔に差し込むことによりフィルム又は基板を自動送りして行なう方法には限られず、任意の方法で走行させることができる。従って、例えば、フィルム又は基板に送り孔を開口せずに、チャッキングチェーン、チャッキングコンベアによって、フィルム又は基板の幅方向両端部を把持して走行させたり、ベルトコンベアやローラーコンベア等の搬送体上に載せるなどして走行させることもできる。   In addition, the traveling method of the film or substrate is the same as that of each of the embodiments described above. The method is not limited to the method in which the film or the substrate is automatically fed by rotating and inserting the projection into the feed hole during the rotation, and the film can be run by any method. Therefore, for example, without opening a feed hole in the film or substrate, the chucking chain or chucking conveyor grips and runs both ends of the film or substrate in the width direction, or a conveyor such as a belt conveyor or a roller conveyor. It can also be run by placing it on top.

(レジスト塗布ロールの実施形態1)
図1の塗布ロール2はゴム製、樹脂製、金属製、セラミック製といった各種材質製のロールの外周面の一部にレジスト塗布部3(図5)が形成されているものである。レジスト塗布部3はロールの外周面よりも一段窪ませて(低くして)、フィルムや基板に塗布するレジストを溜めることができるようにしてある。レジスト塗布部3は回路パターンとか正方形、細長方形、丸形といった所望形状とすることができる。レジスト塗布部3はロールの外周面の一箇所或は二箇所以上に形成することができる。二箇所以上に形成する場合は外周面の周方向に間隔をあけて形成する。二箇所以上に形成するレジスト塗布部3の形状は同じものでも異なるものでもよい。レジスト塗布部3はロールの幅方向中央部に形成するのが好ましい。
(Embodiment 1 of resist coating roll)
The coating roll 2 in FIG. 1 has a resist coating portion 3 (FIG. 5) formed on a part of the outer peripheral surface of a roll made of various materials such as rubber, resin, metal, and ceramic. The resist coating section 3 is recessed (lowered) by one step from the outer peripheral surface of the roll so that the resist to be applied to the film or substrate can be collected. The resist coating portion 3 can be formed in a desired shape such as a circuit pattern, square, thin rectangle, or round shape. The resist coating part 3 can be formed at one place or two or more places on the outer peripheral surface of the roll. When forming in two or more places, it forms in the circumferential direction of an outer peripheral surface at intervals. The shape of the resist coating part 3 formed in two or more places may be the same or different. The resist coating part 3 is preferably formed at the center in the width direction of the roll.

(レジスト塗布ロールの実施形態2)
図2の塗布ロール2は、ゴム製、樹脂製といった各種材質製であり、従来からのこの種の塗布ロール2と同じものである。この塗布ロール2には外周面に溝が切られている塗布ロール(本件出願人が先に開発して特許済の塗布ロール:特許第3253273号)とか、他の構造のもの等を使用することができる。
(Embodiment 2 of resist coating roll)
The application roll 2 of FIG. 2 is made of various materials such as rubber and resin, and is the same as the conventional application roll 2 of this type. For this coating roll 2, use a coating roll having a groove formed on the outer peripheral surface (a coating roll previously developed and patented by the applicant of the present application: Japanese Patent No. 3253273) or other structure. Can do.

(レジスト移行ロールの実施形態)
図2は塗布ロールとは別に移行ロール5を使用する。移行ロール5は図1の塗布ロール2と同様に、ゴム製、樹脂製、金属製、セラミック製といった各種材質製のロールの外周面の一部にレジスト塗布部6(図5)が形成されている。この移行ロール5も外周面にレジストを溜めたり塗布したりするレジスト塗布部6が形成されており、そのレジスト塗布部6のレジストを図2の塗布ロール2に移行させ、その塗布ロール2をフィルムや基板に回転接触させることにより塗布ロール2に移行したレジストをフィルムや基板に塗布するようにしてある。図2の移行ロール5のレジスト塗布部6も図5のようにロールの外周面よりも一段窪ませて(低くして)、フィルムや基板に塗布するレジストを溜めることができるようにしてある。レジスト塗布部6は回路パターンとか正方形、細長方形、丸形といった所望形状とすることもできる。レジスト塗布部6はロール5の外周面の一箇所或は二箇所以上に形成することができる。二箇所以上に形成する場合は外周面の周方向に間隔をあけて形成する。二箇所以上に形成するレジスト塗布部6の形状は同じものでも異なるものでもよい。レジスト塗布部6はロールの幅方向中央部に形成するのが好ましい。
(Embodiment of resist transfer roll)
In FIG. 2, a transfer roll 5 is used separately from the coating roll. The transfer roll 5 has a resist coating portion 6 (FIG. 5) formed on a part of the outer peripheral surface of a roll made of various materials such as rubber, resin, metal, and ceramic, similarly to the application roll 2 of FIG. Yes. This transfer roll 5 is also formed with a resist coating portion 6 for storing or coating resist on the outer peripheral surface. The resist of the resist coating portion 6 is transferred to the coating roll 2 in FIG. In addition, the resist transferred to the coating roll 2 by being brought into rotational contact with the substrate is applied to the film or the substrate. The resist coating portion 6 of the transfer roll 5 in FIG. 2 is also recessed (lowered) by one step from the outer peripheral surface of the roll as shown in FIG. 5 so that the resist applied to the film or substrate can be stored. The resist coating portion 6 may be a circuit pattern or a desired shape such as a square, a thin rectangle, or a round shape. The resist application part 6 can be formed at one place or two or more places on the outer peripheral surface of the roll 5. When forming in two or more places, it forms in the circumferential direction of an outer peripheral surface at intervals. The shape of the resist coating portion 6 formed at two or more locations may be the same or different. The resist coating portion 6 is preferably formed at the center in the width direction of the roll.

(レジスト塗布ドライフィルムの実施形態1)
本件発明のレジスト塗布ドライフィルムは、図6のように、フィルム1の長手方向に間隔をあけて部分的にレジストRが塗布され、そのレジストRがフィルム1の全面又は一部に被せた保護フィルムで被覆されている。このレジスト塗布ドライフィルムのフィルム1に塗布されたレジストは乾燥しており、保護フィルムを剥離してフィルム1のレジスト塗布面を基板に貼り付けて加熱加圧することによりレジスト塗布面のレジストを基板に塗布できるようにしてある。フィルム1の材質はナイロン、ポリエステル、その他の所望のものとすることができる。レジストRに被せる保護フィルムの材質も任意に選択することができる。保護フィルムはフィルム1と同じ幅のものをレジストRの上からフィルム1の全面に重ねてレジストRを被覆することも、レジストRと同じ広さのもの或はそれよりも多少幅の広いものをレジストRの上に重ねてレジストRの部分のみを被覆することもできる。フィルム1への保護フィルムの被覆は、レジストRが乾燥する前、半乾燥状態の時、完全乾燥後のいずれの時点で行うこともできる。いずれの状態で貼り付けた場合も、貼り付け後は完全乾燥(既存のドライフィルムと同じ乾燥状態)にする。また、保護フィルムを貼り付ける前にフィルム1に塗布されたレジストRにスキージとかブレード等をあててレジストRを均一厚に均すのが好ましい。積層されたフィルム1と保護フィルムの幅方向両端部には送り孔11をフィルム1の長手方向に間隔をあけて開口しておくこともできるが、必ずしも予め開けておく必要はなく、本発明のレジスト塗布ドライフィルムを使用してそのフィルム1のレジストRを基板に塗布するときに開けることもできる。
(Embodiment 1 of resist-coated dry film)
As shown in FIG. 6, the resist-coated dry film of the present invention is a protective film in which a resist R is partially applied at intervals in the longitudinal direction of the film 1, and the resist R covers the entire surface or part of the film 1. It is covered with. The resist applied to the film 1 of this resist-coated dry film is dry, the protective film is peeled off, the resist-coated surface of the film 1 is attached to the substrate and heated and pressed to apply the resist on the resist-coated surface to the substrate. It can be applied. The material of the film 1 can be nylon, polyester, or any other desired material. The material of the protective film that covers the resist R can also be arbitrarily selected. The protective film has the same width as film 1 and is overlaid on the entire surface of resist 1 to cover resist R, or the same width as resist R or a little wider than that. It is also possible to cover only the portion of the resist R so as to overlap the resist R. The film 1 can be covered with the protective film before the resist R dries, when it is in a semi-dry state, or after the complete drying. When pasted in any state, after pasting, it is completely dried (the same dry state as an existing dry film). In addition, it is preferable to apply a squeegee or a blade to the resist R applied to the film 1 and apply the resist R to a uniform thickness before applying the protective film. Although the feed holes 11 can be opened at intervals in the longitudinal direction of the film 1 at both ends in the width direction of the laminated film 1 and the protective film, it is not always necessary to open them in advance. It can also be opened when the resist R of the film 1 is applied to a substrate using a resist-coated dry film.

(レジスト塗布基板の実施形態1)
本件発明のレジスト塗布基板は、前記各レジスト塗布基板製造方法によって製造されたものであって、基板の両面の一部にレジストが塗布され、そのレジストが基板に重ね合わせたフィルム1で被覆されているものである。本発明のレジスト塗布基板は、基板の片面にのみレジストを塗布してフィルム1を貼り付けることもできる。また、基板の両面又は片面の全面にレジストを塗布することもできる。
(Embodiment 1 of resist-coated substrate)
The resist-coated substrate of the present invention is manufactured by each of the resist-coated substrate manufacturing methods, wherein a resist is applied to a part of both surfaces of the substrate, and the resist is covered with a film 1 superimposed on the substrate. It is what. In the resist-coated substrate of the present invention, the film 1 can be attached by applying a resist only to one side of the substrate. Moreover, a resist can also be apply | coated to the both surfaces of a board | substrate, or the whole surface of one side.

本発明のレジスト塗布基板製造方法におけるフィルムへのレジスト塗布の一例を示す説明図。Explanatory drawing which shows an example of the resist application to the film in the resist coating substrate manufacturing method of this invention. 本発明のレジスト塗布基板製造方法におけるフィルムへのレジスト塗布の他の一例を示す説明図。Explanatory drawing which shows another example of the resist application to the film in the resist coating substrate manufacturing method of this invention. 本発明のレジスト塗布基板製造方法の実施形態の他の一例を示す説明図。Explanatory drawing which shows another example of embodiment of the resist coated substrate manufacturing method of this invention. 本発明のレジスト塗布基板製造方法におけるフィルムへのレジスト塗布の他の一例を示す説明図。Explanatory drawing which shows another example of the resist application to the film in the resist coating substrate manufacturing method of this invention. (a)は本発明のレジスト塗布基板製造方法に使用されるレジスト塗布ロール、レジスト移行ロールの一例を示す斜視図、(b)は(a)のA−A断面図。(A) is a perspective view which shows an example of the resist application roll used for the resist coating substrate manufacturing method of this invention, and a resist transfer roll, (b) is AA sectional drawing of (a). (a)は本発明のレジスト塗布基板製造方法におけるフィルムへのレジスト塗布によりレジスト塗布されたフィルムの一例を示す正面図、(b)は同フィルムの側面図。(A) is a front view which shows an example of the film by which resist application was carried out by the resist application | coating to the film in the resist coating substrate manufacturing method of this invention, (b) is a side view of the film.

1 フィルム
2 塗布ロール
3 塗布ロールのレジスト塗布部
4 レジスト供給部
5 移行ロール
6 移行ロールのレジスト塗布部
7 転写ロール
8、9 スキージ
11 送り孔
20 基板
21 半乾燥室
R レジスト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film 2 Application | coating roll 3 Resist application part of application roll 4 Resist supply part 5 Transfer roll 6 Resist application part of transfer roll 7 Transfer roll 8, 9 Squeegee 11 Feed hole 20 Substrate 21 Semi-drying chamber R Resist

Claims (9)

プリント配線基板にレジストを塗布してレジスト塗布基板を製造するレジスト塗布基板製造方法において、
走行中の単葉或は連続のプリント配線基板又はフィルムにレジストを塗布し、
塗布されたレジストを乾燥装置で半乾燥状態にし、
プリント配線基板の半乾燥状態のレジスト塗布面にはフィルムを、フィルムの半乾燥状態のレジスト塗布面にはプリント配線基板を貼り合わせてプリント配線基板にレジストを塗布し、
貼り合わせたプリント配線基板とフィルムを加圧密着させ、
前記したレジスト塗布、レジストの半乾燥、プリント配線基板とフィルムの貼り合わせ、プリント配線基板とフィルムの加圧密着を、プリント配線基板又は/及びフィルムの搬送中に連続作業し、
前記半乾燥状態とは、前記貼り合わせ又は加圧密着を行うとレジストが平滑となり、かつレジストがプリント配線基板の有底ホールやスルーホール内に充填可能な程度まで乾燥させた状態であることを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In a resist coated substrate manufacturing method for manufacturing a resist coated substrate by applying a resist to a printed wiring board,
Apply a resist to a running single-leaf or continuous printed wiring board or film,
Put the applied resist in a semi-dry state with a dryer,
A film is applied to the semi-dried resist-coated surface of the printed wiring board, and a printed wiring board is bonded to the semi-dried resist-coated surface of the film .
The printed wiring board and the film that are bonded together are pressed and adhered,
The resist coated, semi-dry resist, bonding of the printed wiring board and the film, the pressure compaction bonding of the printed wiring board and the film, and continuous operation during conveyance of the printed circuit board and / or film,
The semi-dry state, when the bonding or pressure compaction bonding resist Ri is Do smooth, and the resist is in a state of being dried to the extent possible fill the bottomed holes and the through hole of the printed wiring board A method for producing a resist-coated substrate, comprising:
請求項1記載のレジスト塗布基板製造方法において、
移行ロールと塗布ロールを回転接触させて塗布ロールの外周面の一部に移行ロールからレジストを移行させ、
その塗布ロールを走行中のフィルム又は単葉或は連続のプリント配線基板に回転接触させて、
そのフィルム又はプリント配線基板にレジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method according to claim 1,
The transfer roll and the application roll are brought into rotational contact to transfer the resist from the transfer roll to a part of the outer peripheral surface of the application roll,
The coating roll is brought into rotational contact with the running film or single leaf or continuous printed wiring board,
A method for producing a resist-coated substrate, comprising: applying a resist to the film or printed wiring board.
請求項1又は請求項2記載のレジスト塗布基板製造方法において、
ロール外周面の一部にその外周面よりも突出した又は窪んだレジスト塗布部が形成された塗布ロールを、プリント配線基板又はフィルムに回転接触させて、
そのレジスト塗布部によりプリント配線基板又はフィルムに、それらの走行方向に間隔をあけてレジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method according to claim 1 or 2,
A rotating roll is applied to a printed wiring board or a film on which a resist coating portion protruding or recessed from the outer circumferential surface is formed on a part of the outer circumferential surface of the roll,
A method for producing a resist-coated substrate, comprising: applying a resist to a printed wiring board or film at an interval in a running direction by the resist coating unit.
請求項3記載のレジスト塗布基板製造方法において、
プリント配線基板又はフィルムに間隔をあけて塗布されたレジストの塗布形状が方形であることを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method according to claim 3,
A method for producing a resist coated substrate, wherein a coated shape of a resist coated on a printed wiring board or film with a space is square.
請求項4記載のレジスト塗布基板製造方法において、
ロール外周面の一部にその外周面よりも方形に突出した又は方形に窪んだレジスト塗布部が形成された塗布ロールを、プリント配線基板又はフィルムに回転接触させて、
その方形のレジスト塗布部によりプリント配線基板又はフィルムにレジストを方形に塗布することを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method according to claim 4,
A rotating roll is applied to a printed wiring board or a film on a part of the outer peripheral surface of the roll.
A method for producing a resist coated substrate, comprising: applying a resist to a printed wiring board or a film in a square shape by the square resist coating portion.
請求項4又は請求項5記載のレジスト塗布基板製造方法において、
移行ロール又は/及び塗布ロールの外周面の一部にその外周面よりも方形に突出した又は方形に窪んだレジスト塗布部が形成され、
それら移行ロールと塗布ロールを回転接触させて塗布ロールの外周面のレジスト塗布部に移行ロールからレジストを移行させることを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method according to claim 4 or 5,
A resist coating portion that protrudes in a square shape or is recessed in a rectangular shape from the outer peripheral surface is formed on a part of the outer peripheral surface of the transfer roll or / and the application roll,
A method for producing a resist-coated substrate, wherein the transfer roll and the application roll are brought into rotational contact to transfer the resist from the transfer roll to a resist application portion on the outer peripheral surface of the application roll.
請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のレジスト塗布基板製造方法において、
プリント配線基板とフィルムの貼り合わせ及び加圧密着を真空貼付式とすることを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method in any one of Claims 1 thru | or 6,
A method for producing a resist-coated substrate, characterized in that a printed wiring board and a film are bonded to each other and the pressure contact is made by vacuum bonding.
請求項1乃至請求項7のいずれかに記載のレジスト塗布基板製造方法において、
プリント配線基板とフィルムの加圧密着後に、レジスト塗布基板のレジストを乾燥装置で完全乾燥させたことを特徴とするレジスト塗布基板製造方法。
In the resist coated substrate manufacturing method in any one of Claims 1 thru | or 7,
A method for producing a resist-coated substrate, wherein the resist on the resist-coated substrate is completely dried with a drying apparatus after the printed wiring board and the film are pressed and adhered.
請求項1乃至請求項8のいずれかに記載のレジスト塗布基板製造方法により製造されたことを特徴とするレジスト塗布基板。   A resist-coated substrate produced by the method for producing a resist-coated substrate according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5265314B2 (en) * 2008-11-21 2013-08-14 株式会社都ローラー工業 Method of applying resist to printed wiring board
US9190796B2 (en) 2012-08-09 2015-11-17 Dwfritz Automation Inc. Apparatus for precision insertion
TW201524288A (en) * 2013-12-11 2015-06-16 Microcosm Technology Co Ltd Coating device and coating method
JP6441036B2 (en) * 2014-11-13 2018-12-19 旭化成株式会社 Transfer method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61127193A (en) * 1984-11-26 1986-06-14 松下電工株式会社 Printed wiring sheet and making thereof
JPH04115929A (en) * 1990-09-06 1992-04-16 Yokohama Rubber Co Ltd:The Lamination of film for cover lay
JPH08309250A (en) * 1995-03-13 1996-11-26 Fujitsu Ltd Double side coating method for coating material, double side coating device as well as double side drying method and double side drying machine
JP2003048249A (en) * 2001-08-08 2003-02-18 Mikado Technos Kk Sealing structure for vacuum evacuation continuous laminating apparatus for film, sheet or the like and continuously laminating apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61127193A (en) * 1984-11-26 1986-06-14 松下電工株式会社 Printed wiring sheet and making thereof
JPH04115929A (en) * 1990-09-06 1992-04-16 Yokohama Rubber Co Ltd:The Lamination of film for cover lay
JPH08309250A (en) * 1995-03-13 1996-11-26 Fujitsu Ltd Double side coating method for coating material, double side coating device as well as double side drying method and double side drying machine
JP2003048249A (en) * 2001-08-08 2003-02-18 Mikado Technos Kk Sealing structure for vacuum evacuation continuous laminating apparatus for film, sheet or the like and continuously laminating apparatus

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