JP4605795B2 - Silica glass body manufacturing method and silica glass body manufacturing apparatus - Google Patents

Silica glass body manufacturing method and silica glass body manufacturing apparatus Download PDF

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    • C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz

Description

本発明は、シリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置に関し、特にシリカガラス体の艶出しを効率的に行なうことができるシリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置に関する。   The present invention relates to a silica glass body manufacturing method and a silica glass body manufacturing apparatus, and more particularly, to a silica glass body manufacturing method and a silica glass body manufacturing apparatus capable of efficiently polishing a silica glass body.

シリカガラス体は、種々の分野において用いられている。例えば、半導体製造分野においては、半導体ウエハを載置する保持具、反応炉（チャンバ）、ヒータの基体等、あるいは露光用マスク材等の各種部材に用いられている。そして、シリカガラス体を製造する場合は、例えば、特許文献１に示されるように、まずシリカガラス体を研削加工し、所定形状になす。このとき、研削によりシリカガラス体の表面は粗面化状態となるため、シリカガラス体の表面を加熱し透明化する、いわゆる艶出しという作業がなされる。
この艶出し処理は、一般的に、酸水素バーナを用い１７００℃〜１８００℃で加熱処理するものであって、この艶出し処理によってシリカガラス体は透明化し、光透過率を高く維持することができる。 Silica glass bodies are used in various fields. For example, in the semiconductor manufacturing field, it is used for various members such as a holder for mounting a semiconductor wafer, a reaction furnace (chamber), a heater base, or an exposure mask material. And when manufacturing a silica glass body, as shown, for example in patent document 1, a silica glass body is first ground and made into a predetermined shape. At this time, since the surface of the silica glass body is roughened by grinding, a so-called glazing operation is performed to heat the surface of the silica glass body to make it transparent.
This glazing treatment is generally performed by heat treatment at 1700 ° C. to 1800 ° C. using an oxyhydrogen burner. The glazing treatment makes the silica glass body transparent and maintains a high light transmittance. it can.

ところで、前記酸水素バーナで、シリカガラス体表面を加熱、溶融すると、シリカガラスが蒸発し、白色のシリカ粒子が溶融部の近傍に付着する。このシリカ粒子はシリカガラス体表面に付着状態にあるため、実際に半導体製造分野で使用すると、表面から剥がれ落ち、パーティクルとなる。このようにパーティクルが剥がれ落ち、ウエハ上に付着すると、半導体製造歩留まりの低下、あるいはシリカガラスマスク等の場合、露光不足、パターン不良の原因となるため、好ましくない。
これを解決するため、前記艶出し後にシリカ粒子を除去するために、シリカガラス体表面を再び加熱する、いわゆるシリカ粒子除去処理が行われる。 By the way, when the surface of the silica glass body is heated and melted with the oxyhydrogen burner, the silica glass evaporates and white silica particles adhere to the vicinity of the melted portion. Since the silica particles are attached to the surface of the silica glass body, when they are actually used in the semiconductor manufacturing field, they are peeled off from the surface and become particles. If particles are peeled off and deposited on the wafer in this way, it is not preferable because the semiconductor manufacturing yield is reduced, or in the case of a silica glass mask or the like, it causes insufficient exposure and pattern defects.
In order to solve this, in order to remove the silica particles after the polishing, a so-called silica particle removal treatment is performed in which the surface of the silica glass body is heated again.

この従来の艶出し処理をついて、円板状シリカガラス体を用いた場合について図４に基づいて更に詳述すると、まず、円板状のシリカガラス体を回転テーブル上に載置する。そして、前記シリカガラス体の外周側から中心に向かって、１本の酸水素バーナを移動させ、前記シリカガラス体を１７００℃〜１８００℃で加熱する。このＴ１時間〜Ｔ２時間の加熱により、シリカガラス体の表面は溶融し、透明化する。   The case where a disk-shaped silica glass body is used with this conventional glazing treatment will be described in more detail with reference to FIG. 4. First, the disk-shaped silica glass body is placed on a rotary table. Then, one oxyhydrogen burner is moved from the outer peripheral side of the silica glass body toward the center, and the silica glass body is heated at 1700 ° C. to 1800 ° C. By heating for T1 to T2 hours, the surface of the silica glass body melts and becomes transparent.

このとき、前記回転テーブルの回転速度は、前記バーナが中心部に行くに従って早くなる（回転速度がω１からω２に変化する）。これは、シリカガラス体に対するバーナの線速度を一定にするものであり、シリカガラス体の表面を一定に溶融するためである。
その後、シリカガラス体の中心に移動したバーナは、再びシリカガラス体の外周部に移動する。このとき適切な回転テーブルの回転速度は急激に減速され、即ち、初期の回転速度ω１まで減速される。そして、バーナの外周部から中心部に向かう移動にともなって、再び回転テーブルの回転速度はω１からω２へと速められる。
特開２００２−６１２５号公報 At this time, the rotational speed of the rotary table increases as the burner goes to the center (the rotational speed changes from ω1 to ω2). This is to make the linear velocity of the burner relative to the silica glass body constant, and to melt the surface of the silica glass body uniformly.
Thereafter, the burner that has moved to the center of the silica glass body again moves to the outer periphery of the silica glass body. At this time, the rotation speed of the appropriate rotary table is rapidly reduced, that is, reduced to the initial rotation speed ω1. As the burner moves from the outer periphery to the center, the rotation speed of the rotary table is increased again from ω1 to ω2.
JP 2002-6125 A

上記したように従来のシリカガラス体製造装置にあっては、１本のバーナを用いてシリカガラス体の外周部から中心へ移動させながら加熱処理（艶出し処理）し、その後中心から外周部に戻して、再び外周部から中心に向けて移動しながら加熱処理（シリカ粒子除去処理）を行っている。そのため、これら加熱処理について、より効率的に、より短時間でなさるよう望まれていた。
しかも、中心から外周部にバーナを移動させる際、回転テーブルの回転を急激に低下させなけれならず、バーナの移動制御、回転テーブルの回転速度制御を困難にしていた。 As described above, in the conventional silica glass body manufacturing apparatus, heat treatment (glazing treatment) is performed while moving from the outer peripheral portion of the silica glass body to the center using a single burner, and then from the center to the outer peripheral portion. The heat treatment (silica particle removal treatment) is performed again while moving from the outer peripheral portion toward the center. Therefore, it has been desired to perform these heat treatments more efficiently and in a shorter time.
In addition, when the burner is moved from the center to the outer peripheral portion, the rotation of the rotary table must be drastically reduced, making it difficult to control the movement of the burner and the rotational speed of the rotary table.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、バーナの移動制御、回転テーブルの回転速度制御を容易になすと共に、より効率的に、より短時間で加熱処理ができるシリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and makes it easy to perform burner movement control and rotation speed control of the rotary table, and more efficiently, and manufacture a silica glass body that can be heat-treated in a shorter time. It is an object to provide a method and an apparatus for producing a silica glass body.

本発明は上記目的を達成するためになされたものであり、本発明にかかるシリカガラス体の製造装置は、シリカガラス体が載置される回転テーブルと、前記回転テーブルを駆動制御する回転テーブル駆動制御部と、前記シリカガラス体の外周部から中心に向かって加熱しながら移動する第１、第２のバーナと、前記第１、第２のバーナを駆動制御するバーナ駆動制御部とを備え、前記第１のバーナが、シリカガラス体の外周側から中心に向けて加熱しながら移動し、第１のバーナがシリカガラス体の中心に到達する前に、第２のバーナがシリカガラス体の外周側から加熱を開始し、シリカガラス体の中心に向けて加熱しながら移動するように、前記第１、第２のバーナがバーナ駆動制御部によって駆動制御されることを特徴としている。   The present invention has been made to achieve the above object, and a silica glass body manufacturing apparatus according to the present invention includes a rotary table on which a silica glass body is placed, and a rotary table drive that drives and controls the rotary table. A control unit, a first and second burner that moves while heating from the outer periphery of the silica glass body toward the center, and a burner drive control unit that drives and controls the first and second burners, The first burner moves while heating from the outer peripheral side of the silica glass body toward the center, and before the first burner reaches the center of the silica glass body, the second burner moves to the outer periphery of the silica glass body. The first and second burners are driven and controlled by a burner drive control unit so as to start heating from the side and move while heating toward the center of the silica glass body.

このように、第１のバーナがシリカガラス体の中心に到達する前に、第２のバーナがシリカガラス体に対して加熱を開始し、加熱移動するように構成されているため、二度の加熱処理をより効率的に、より短時間に行なうことができる。   In this manner, the second burner is configured to start heating and move with respect to the silica glass body before the first burner reaches the center of the silica glass body. Heat treatment can be performed more efficiently and in a shorter time.

ここで、前記回転テーブルの回転速度は、前記第１のバーナの線速度が一定になるように制御され、前記第１のバーナがシリカガラス体の中央に位置した後は、前記第１のバーナを基準として定められた回転速度曲線の延長曲線に基づいて制御されることが望ましい。
このように、第１のバーナがシリカガラス体の中央に位置した後は、前記第１のバーナを基準として定められた回転速度曲線の延長曲線に基づいて制御されるため、回転テーブルの回転速度制御を容易になすことができる。 Here, the rotational speed of the rotary table is controlled so that the linear speed of the first burner is constant, and after the first burner is located at the center of the silica glass body, the first burner is controlled. It is desirable to control based on the extension curve of the rotational speed curve determined with reference to.
As described above, after the first burner is positioned at the center of the silica glass body, the rotation speed of the rotary table is controlled because the control is performed based on the extension curve of the rotation speed curve determined based on the first burner. Control can be made easily.

また、本発明は上記目的を達成するためになされたものであり、本発明にかかるシリカガラス体の製造方法は、シリカガラス体を回転テーブルに載置し、第１のバーナをシリカガラス体の外周側から中心に向かて移動させると共に、回転テーブルの回転速度を第１のバーナの線速度が一定になるように制御しつつ、第１のバーナによってシリカガラス体の表面を加熱する工程と、前記第１のバーナの移動後、第１のバーナのシリカガラス体の中心に到達前に、第２のバーナをシリカガラス体の外周側から中心に向かって移動し、前記第１のバーナによって加熱処理されたシリカガラス体の表面を第２のバーナによって、前記第１のバーナの線速度より速い線速度で再加熱する工程とを含むことを特徴としている。   Moreover, this invention was made | formed in order to achieve the said objective, and the manufacturing method of the silica glass body concerning this invention places a silica glass body on a turntable, and makes a 1st burner a silica glass body. A step of heating the surface of the silica glass body by the first burner while controlling the rotation speed of the rotary table so that the linear velocity of the first burner is constant while moving from the outer peripheral side toward the center; After the movement of the first burner, before reaching the center of the silica glass body of the first burner, the second burner is moved from the outer peripheral side of the silica glass body toward the center, and the first burner And reheating the surface of the heat-treated silica glass body with a second burner at a linear velocity higher than the linear velocity of the first burner.

このように、第１のバーナがシリカガラス体の中心に到達する前に、第２のバーナがシリカガラス体に対して加熱を開始し、第１のバーナの線速度より速い線速度で再加熱するように構成されているため、シリカガラス体の各部において１回目より受ける熱量が少ない２回目加熱でシリカ粒子の除去が確実に行なうことができ、艶出し工程をより効率的に、より短時間にシリカガラス全体の艶出しを行なうことができる。   Thus, before the first burner reaches the center of the silica glass body, the second burner starts heating the silica glass body and reheats at a linear velocity faster than the linear velocity of the first burner. Therefore, the silica particles can be reliably removed by the second heating with less heat received from the first in each part of the silica glass body, and the glazing process can be performed more efficiently and in a shorter time. The entire silica glass can be polished.

本発明によれば、バーナの移動制御、回転テーブルの回転速度制御を容易になすと共に、より効率的に、より短時間で加熱処理ができるシリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置を得ることができる。   According to the present invention, there is provided a silica glass body manufacturing method and a silica glass body manufacturing apparatus capable of easily performing a burner movement control and a rotation speed control of a rotary table, and performing heat treatment more efficiently and in a shorter time. Obtainable.

本発明にかかるシリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置の一実施形態を図１乃至図３に基づいて説明する。なお、以下の説明では、シリカガラス体としてシリカガラス体を例にとって説明する。
図１、図２において、符号１はシリカガラス体Ｗが載置される回転テーブルであり、この回転テーブル１はモータ２によって速度を可変して回転駆動されるように構成されている。また、符号４，５は、シリカガラス体Ｗを加熱処理する、第１のバーナ及び第２のバーナであって、従来同様に酸水素バーナが用いられている。この第１のバーナ及び第２のバーナは、図示しない駆動手段により、ガイドレール６上を速度可変してシリカガラス体Ｗの外周側から中心に向けて移動するように構成されている。
そして、第１のバーナ４及び第２のバーナ５が、シリカガラス体の外周部から中心に向かうにつれて、回転テーブル１は、前記モータ２及び制御部３によって回転速度が徐々に速くなるように駆動制御され、また第１のバーナ４及び第２のバーナ５も、図示しないモータ及び制御部によって移動速度が徐々に速くなるように駆動制御される。 An embodiment of a method for producing a silica glass body and an apparatus for producing a silica glass body according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the following description, a silica glass body will be described as an example of the silica glass body.
1 and 2, reference numeral 1 denotes a rotary table on which a silica glass body W is placed. The rotary table 1 is configured to be rotationally driven by a motor 2 at a variable speed. Moreover, the code | symbols 4 and 5 are the 1st burner and the 2nd burner which heat-process the silica glass body W, Comprising: The oxyhydrogen burner is used similarly to the past. The first burner and the second burner are configured to move from the outer peripheral side of the silica glass body W toward the center by varying the speed on the guide rail 6 by a driving means (not shown).
Then, as the first burner 4 and the second burner 5 move from the outer peripheral portion of the silica glass body toward the center, the rotary table 1 is driven by the motor 2 and the control unit 3 so that the rotational speed is gradually increased. The first burner 4 and the second burner 5 are also driven and controlled by a motor and a control unit (not shown) so that the moving speed is gradually increased.

この艶出し処理をついて、円板状シリカガラス体を用いた場合について図３に基づいて更に詳述すると、まず、円板状のシリカガラス体Ｗを回転テーブル１上に載置する。そして、前記シリカガラス体Ｗの外周側から中心に向かって、ｔ１時間に第１のバーナ４の移動を開始する。このときの回転テーブル１の回転速度Ω１であり、第１のバーナ４の移動と共に徐々に回転速度を速める。
この回転速度の変化は、回転するシリカガラス体Ｗに対する第１のバーナ４の線速度を一定になすためになされ、これによりシリカガラス体の表面全域にわたって、第１のバーナ４が一定の溶融をなすことができる。尚、第１のバーナ４によるシリカガラス体の加熱は、１９００℃〜２０００℃でなされ、この加熱（艶出し処理）により、シリカガラス体の表面は溶融し透明化する。 The case where a disk-shaped silica glass body is used with this glazing treatment will be described in more detail with reference to FIG. 3. First, the disk-shaped silica glass body W is placed on the turntable 1. Then, the movement of the first burner 4 starts at time t1 from the outer peripheral side of the silica glass body W toward the center. The rotational speed Ω1 of the turntable 1 at this time is gradually increased with the movement of the first burner 4.
This change in the rotational speed is made in order to make the linear velocity of the first burner 4 relative to the rotating silica glass body W constant, so that the first burner 4 has a constant melting over the entire surface of the silica glass body. Can be made. The silica glass body is heated by the first burner 4 at 1900 ° C. to 2000 ° C., and by this heating (glazing treatment), the surface of the silica glass body is melted and transparentized.

そして、ｔ２時間に達したとき、第２のバーナ５を点火し、前記シリカガラス体Ｗの外周側から中心に向かって、第１のバーナ４の後を追って移動を開始する。このときの回転速度はΩ２であり、回転速度Ω１よりも速い回転速度である。
尚、第２のバーナ４によるシリカガラス体の加熱は、第１のバーナの温度よりも低く、１６００℃〜１８００℃でなされ、この加熱により、シリカガラス体の表面のシリカ粒子は除去される。 Then, when the time t2 is reached, the second burner 5 is ignited, and movement is started after the first burner 4 from the outer peripheral side of the silica glass body W toward the center. At this time, the rotational speed is Ω2, which is faster than the rotational speed Ω1.
The silica glass body is heated by the second burner 4 at a temperature lower than the temperature of the first burner at 1600 ° C. to 1800 ° C. The silica particles on the surface of the silica glass body are removed by this heating.

その後、前記回転テーブルの回転速度は速められ、第１のバーナ４が中心まで移動すると（ｔ３時間に達すると）、第１のバーナ４は消火される。
更に、その後も前記回転テーブル１の回転速度は速められ、第２のバーナ５による加熱によりシリカ粒子除去がなされ、第２のバーナ５が中心まで移動すると（ｔ４時間に達すると）、第２のバーナ５は消火される。
尚、第１のバーナ４が中心に位置した後は、回転テーブル１の回転速度は、前記第１のバーナの線速度を一定にする回転速度曲線を延長した曲線に基づいて変化する。 Thereafter, the rotation speed of the rotary table is increased, and when the first burner 4 moves to the center (when t3 time is reached), the first burner 4 is extinguished.
Further, after that, the rotational speed of the turntable 1 is increased, the silica particles are removed by heating by the second burner 5, and when the second burner 5 moves to the center (when t4 time is reached), the second The burner 5 is extinguished.
After the first burner 4 is located at the center, the rotation speed of the turntable 1 changes based on a curve obtained by extending a rotation speed curve that makes the linear speed of the first burner constant.

このように、本発明によれば、モータ２の回転制御は、図３に示すように、第１のバーナ４の移動開始時から第２のバーナ５のシリカガラス体の中心部到達時まで、徐々に速度が増すように制御されるため、回転テーブルの回転速度制御を容易になすことができる。
また、第１のバーナがシリカガラス体の中心に到達する前に、第２のバーナがシリカガラス体に対して加熱を開始し、第１のバーナの線速度より速い線速度で再加熱するように構成されているため、シリカガラス体の各部において１回目より受ける熱量が少ない２回目加熱でシリカ粒子の除去が確実に行なうことができ、艶出し工程をより効率的に、より短時間にシリカガラス全体の艶出しを行なうことができる。
具体的には、図４に示された方法による場合に比べて、図３に示すｔ３−ｔ２時間の短縮を図ることができる。 Thus, according to the present invention, the rotation control of the motor 2 is performed from the start of movement of the first burner 4 until the center of the silica glass body of the second burner 5 reaches, as shown in FIG. Since the speed is controlled so as to increase gradually, the rotational speed of the rotary table can be easily controlled.
Further, before the first burner reaches the center of the silica glass body, the second burner starts heating the silica glass body and reheats at a linear velocity higher than the linear velocity of the first burner. Therefore, the silica particles can be reliably removed by the second heating with less heat received from the first in each part of the silica glass body, and the glazing process can be performed more efficiently and in a shorter time. The entire glass can be polished.
Specifically, the time t3-t2 shown in FIG. 3 can be shortened compared to the case of the method shown in FIG.

次に、直径５００ｍｍ、肉厚１３ｍｍのシリカガラス体を、図２に示した製造装置を用いて加熱処理し、検証を行った。
焦点距離１１０ｍｍ、焦点での艶出し範囲４０ｍｍの第１、第２バーナ４，５を、焦点の間隔が約６０ｍｍになるようにセットする。内周側の第１のバーナ４は水素１８ｍ3／ｈｒ、酸素５．５ｍ3／ｈｒとした。外周側の第２のバーナ５は、水素１２ｍ3／ｈｒ、酸素４ｍ3／ｈｒとした。
そして、図３に示すように、シリカガラス体を回転テーブルで回転させ、第１のバーナ４の線速度が１ｍ／ｍｉｎになるように回転制御（回転速度アップ）した。また、第１のバーナ４は、半径方向の各部位が同等の熱量を受けるように、中心方向に移動速度が速くなるように制御した。 Next, a silica glass body having a diameter of 500 mm and a thickness of 13 mm was subjected to heat treatment using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 and verified.
First and second burners 4 and 5 having a focal length of 110 mm and a gloss range of 40 mm at the focal point are set so that the focal interval is about 60 mm. The first burner 4 on the inner peripheral side was set to hydrogen 18 m 3 / hr and oxygen 5.5 m 3 / hr. The second burner 5 on the outer peripheral side was hydrogen 12 m 3 / hr and oxygen 4 m 3 / hr.
And as shown in FIG. 3, the silica glass body was rotated with the rotary table, and rotation control (rotational speed up) was performed so that the linear velocity of the 1st burner 4 might be set to 1 m / min. Further, the first burner 4 was controlled so that the moving speed was increased in the central direction so that each portion in the radial direction received an equivalent amount of heat.

そして、回転テーブルが３回目の回転が始まる時点で、第２のバーナ５に点火し、シリカガラス体の外周側から中心に向けて移動を開始した。また、第２のバーナ５は、第１のバーナと同様に制御した（実際は連動するように移動制御した）。
前記回転テーブルは、第１のバーナ４の線速度が１ｍ／ｍｉｎになるように回転制御し続け、第１のバーナ４はシリカガラス体の中心に到達した時点で消火した。
その後の回転テーブルの回転速度は、前記第１のバーナを基準として定めた回転速度曲線の延長曲線に基づいて制御した。そして、第２のバーナ５がシリカガラス体の中心に到達した際、消火した。この加熱処理時間は１２分であった。 And when the rotation table started the 3rd rotation, the 2nd burner 5 was ignited and the movement was started toward the center from the outer peripheral side of the silica glass body. Further, the second burner 5 was controlled in the same manner as the first burner (actually, the movement was controlled so as to be interlocked).
The rotary table continued to be controlled so that the linear velocity of the first burner 4 was 1 m / min, and the first burner 4 was extinguished when it reached the center of the silica glass body.
Thereafter, the rotation speed of the turntable was controlled based on an extension curve of a rotation speed curve determined with the first burner as a reference. When the second burner 5 reached the center of the silica glass body, the fire was extinguished. This heat treatment time was 12 minutes.

このようにして、加熱処理したシリカガラス体表面を目視観察したところ、透明で（白濁はなく）、シリカ微粒子が残存していないことが認められた。   Thus, when the heat-treated silica glass body surface was visually observed, it was confirmed that it was transparent (no cloudiness) and no silica fine particles remained.

次に、直径５００ｍｍ、肉厚１３ｍｍのシリカガラス体を、図４に示した加熱処理方法（従来の加熱方法）を行い、上記実施例との処理時間の比較を行った。
この比較例では、１本のバーナを用い、バーナの移動速度を上記実施例１と同一にした。また、回転テーブルの回転速度を、バーナの線速度が１ｍ／ｍｉｎになるように回転制御した。また、バーナがシリカガラス体の中心から外周部に戻る際には、バーナの線速度２ｍｍ／ｍｉｎとした。更に、バーナの移動の際、回転テーブルは、前記場合と同様にバーナの線速度が１ｍ／ｍｉｎになるように回転制御した。このような条件下で処理に要した時間は２０分であった。
したがって、実施例では、この比較例よりも８分の時間の短縮が認められた。 Next, the silica glass body having a diameter of 500 mm and a wall thickness of 13 mm was subjected to the heat treatment method (conventional heat method) shown in FIG. 4, and the treatment time was compared with the above examples.
In this comparative example, one burner was used, and the moving speed of the burner was the same as that of the first embodiment. The rotation speed of the rotary table was controlled so that the linear velocity of the burner was 1 m / min. Moreover, when the burner returned from the center of the silica glass body to the outer peripheral portion, the linear velocity of the burner was set to 2 mm / min. Further, during the movement of the burner, the rotation table was controlled to rotate so that the linear velocity of the burner was 1 m / min as in the above case. The time required for the treatment under such conditions was 20 minutes.
Therefore, in the example, a time reduction of 8 minutes was recognized as compared with this comparative example.

本発明は、シリカガラス体の製造分野において、広く用いることができる。   The present invention can be widely used in the field of producing a silica glass body.

図１は、本発明にかかるシリカガラス体の製造装置の概略平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view of an apparatus for producing a silica glass body according to the present invention. 図２は、本発明にかかるシリカガラス体の製造装置の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the apparatus for producing a silica glass body according to the present invention. 図３は、本発明にかかるシリカガラス体の製造方法を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method for producing a silica glass body according to the present invention. 図４は、従来のシリカガラス体の製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a conventional method for producing a silica glass body.

符号の説明Explanation of symbols

１ 回転テーブル
２ モータ
３ 制御部
４ 第１のバーナ
５ 第２のバーナ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rotary table 2 Motor 3 Control part 4 1st burner 5 2nd burner

Claims (3)

シリカガラス体が載置される回転テーブルと、前記回転テーブルを駆動制御する回転テーブル駆動制御部と、前記シリカガラス体の外周部から中心に向かって加熱しながら移動する第１、第２のバーナと、前記第１、第２のバーナを駆動制御するバーナ駆動制御部とを備え、
前記第１のバーナが、シリカガラス体の外周側から中心に向けて加熱しながら移動し、第１のバーナがシリカガラス体の中心に到達する前に、第２のバーナがシリカガラス体の外周側から加熱を開始し、シリカガラス体の中心に向けて加熱しながら移動するように、
前記第１、第２のバーナがバーナ駆動制御部によって駆動制御されることを特徴とするシリカガラス体製造装置。 A rotary table on which the silica glass body is mounted, a rotary table drive control unit that drives and controls the rotary table, and first and second burners that move while heating from the outer peripheral portion of the silica glass body toward the center. And a burner drive control unit that drives and controls the first and second burners,
The first burner moves while heating from the outer peripheral side of the silica glass body toward the center, and before the first burner reaches the center of the silica glass body, the second burner moves to the outer periphery of the silica glass body. Start heating from the side and move while heating toward the center of the silica glass body,
The silica glass body manufacturing apparatus, wherein the first and second burners are driven and controlled by a burner drive control unit. 前記回転テーブルの回転速度は、前記第１のバーナの線速度が一定になるように制御され、前記第１のバーナがシリカガラス体の中央に位置した後は、前記第１のバーナを基準として定められた回転速度曲線の延長曲線に基づいて制御されることを特徴とする請求項１記載のシリカガラス体の製造装置。   The rotational speed of the rotary table is controlled so that the linear speed of the first burner is constant, and after the first burner is positioned at the center of the silica glass body, the first burner is used as a reference. 2. The apparatus for producing a silica glass body according to claim 1, wherein the apparatus is controlled based on an extension curve of a predetermined rotational speed curve. シリカガラス体を回転テーブルに載置し、第１のバーナをシリカガラス体の外周側から中心に向かて移動させると共に、回転テーブルの回転速度を第１のバーナの線速度が一定になるように制御しつつ、第１のバーナによってシリカガラス体の表面を加熱する工程と、
前記第１のバーナの移動後、第１のバーナのシリカガラス体の中心に到達前に、第２のバーナをシリカガラス体の外周側から中心に向かって移動し、前記第１のバーナによって加熱処理されたシリカガラス体の表面を第２のバーナによって、前記第１のバーナの線速度より速い線速度で再加熱する工程とを含むことを特徴とするシリカガラス体の製造方法。 The silica glass body is placed on the rotary table, the first burner is moved from the outer peripheral side of the silica glass body toward the center, and the linear velocity of the first burner is made constant. A step of heating the surface of the silica glass body with the first burner,
After the movement of the first burner, before reaching the center of the silica glass body of the first burner, the second burner is moved from the outer peripheral side of the silica glass body toward the center and heated by the first burner. And reheating the surface of the treated silica glass body with a second burner at a linear velocity higher than the linear velocity of the first burner.
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