JP4574602B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、DRAMを含む複合型メモリ半導体装置に関し、更にはDRAMのリフレッシュ方法に関する。 The present invention relates to a composite memory semiconductor device including a DRAM, and further relates to a refresh method for the DRAM.
この明細書で参照される文献のリストは以下の通りであり、文献の参照は文献番号をもってすることとする。[文献1]:LRS1337 Stacked Chip 32M Flash Memory and 4M SRAM Data Sheet([平成12年4月21日検索]、インターネット<URL:http://www.sharpsma.com/index.html>)、[文献2]: 特開平11-219984号公報、[文献3]:特開平5-299616号公報(対応欧州特許公開公報566,306号、1993年10月20日)、[文献4]:特開平8-305680号公報、[文献5]:特開平11-204721号公報、[文献6]: 特開平10-11348号公報。 The list of documents referred to in this specification is as follows, and the documents are referred to by document numbers. [Reference 1]: LRS1337 Stacked Chip 32M Flash Memory and 4M SRAM Data Sheet ([Search April 21, 2000], Internet <URL: http://www.sharpsma.com/index.html>), [Reference 2]: Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-219984, [Document 3]: Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-996616 (corresponding European Patent Publication No. 566,306, October 20, 1993), [Reference 4]: -305680, [Document 5]: JP-A-11-204721, [Document 6]: JP-A-10-11348.
[文献1]には、フラッシュメモリとSRAMとがスタックチップでBGA型パッケージに一体封止された複合型半導体メモリが記載される。フラッシュメモリとSRAMとはFBGA型パッケージの入出力電極に対してアドレス入力端子とデータ入出力端子が共通化されているが、各々の制御端子はそれぞれ独立とされている。 [Document 1] describes a composite semiconductor memory in which a flash memory and an SRAM are integrally sealed in a BGA type package with a stack chip. In the flash memory and the SRAM, the address input terminal and the data input / output terminal are made common to the input / output electrodes of the FBGA type package, but each control terminal is independent.
[文献2]には、フラッシュメモリとSRAMとがBGA型パッケージに一体封止された複合型半導体メモリが記載される。フラッシュメモリはBGAパッケージの回路基板に対して半田バンプを介して信号パッドがフェースダウンボンデイングされる。フラッシュメモリの上に搭載されたSRAMはワイヤボンディングにより基板に信号パッドが接続される。 [Document 2] describes a composite semiconductor memory in which a flash memory and an SRAM are integrally sealed in a BGA type package. In the flash memory, signal pads are face-down bonded to the circuit board of the BGA package via solder bumps. In the SRAM mounted on the flash memory, signal pads are connected to the substrate by wire bonding.
[文献3]の図17には、フラッシュメモリチップとDRAMチップとがリードフレーム型パッケージに一体封止された複合型半導体メモリが記載される。また、図1にはフラッシュメモリとDRAMとはパッケージの入出力電極に対してアドレス入力端子、データ入出力端子、及び制御端子が共通化されて入出力されるものが記載されている。 FIG. 17 of [Document 3] describes a composite semiconductor memory in which a flash memory chip and a DRAM chip are integrally sealed in a lead frame type package. FIG. 1 shows a flash memory and a DRAM in which address input terminals, data input / output terminals, and control terminals are input / output in common with respect to input / output electrodes of a package.
[文献4]には、ダイパッド上にSRAMチップが搭載され、そのSRAMチップ上にバンプ電極を介して接続されたフラッシュメモリチップとマイコンチップとが搭載され、それらのチップがリード端子型のパッケージに一体封止された半導体装置が記載される。 In [Document 4], an SRAM chip is mounted on a die pad, a flash memory chip connected to the SRAM chip via a bump electrode, and a microcomputer chip are mounted, and these chips form a lead terminal type package. An integrally sealed semiconductor device is described.
[文献5]の図15には、1つの大型チップの裏面に絶縁プレートを介してそれよりも小型の2個のチップ搭載された、リードフレーム型のパッケージに一体封止された半導体装置が記載されている。搭載しうるチップの組合せとしてフラッシュメモリチップ、DRAMチップ、及びASIC(Application Specific IC)があり、これによりメモリ−ロジック混載LSIが1つのパッケージで実現されると記載される。 FIG. 15 of [Document 5] describes a semiconductor device that is integrally sealed in a lead frame type package in which two smaller chips are mounted on the back surface of one large chip via an insulating plate. Has been. As a combination of chips that can be mounted, there are a flash memory chip, a DRAM chip, and an application specific IC (ASIC), and it is described that a memory-logic mixed LSI is realized in one package.
[文献6]には、2つのDRAMブロックを有し、同じデータを2重化して記憶し、2つのDRAMブロック間でリフレッシュタイミングをずらし、外部からのアクセスとDRAMのリフレッシュの衝突を回避する技術が記載される。この制御はDRAMコントローラによって行われるが、このDRAMコントローラは2つのDRAMブロックに対して物理的に各々独立したアドレス信号や制御信号が発する。 [Document 6] is a technology that has two DRAM blocks, stores the same data in duplicate, shifts the refresh timing between the two DRAM blocks, and avoids collision between external access and DRAM refresh. Is described. This control is performed by a DRAM controller, and this DRAM controller generates physically independent address signals and control signals for two DRAM blocks.
本願発明者等は、本願に先立って携帯電話及びそれに使用されるフラッシュメモリとSRAMが1パッケージに実装された複合型メモリについて検討を行った。フラッシュメモリには携帯電話システムのOS(オペレーションシステム)の他、通信やアプリケーションのプログラムが格納されている。一方、SRAMには電話番号、住所録、着信音等が記憶されているほか、アプリケーションの実行時に一時的に使用されるワークエリアが確保されている。 Prior to the present application, the inventors of the present application examined a mobile phone and a composite memory in which a flash memory and an SRAM used for the mobile phone were mounted in one package. In addition to the OS (operation system) of the mobile phone system, the flash memory stores communication and application programs. On the other hand, the telephone number, address book, ringtone, etc. are stored in the SRAM, and a work area temporarily used when executing the application is secured.
電話番号や住所録等、記憶しておくべきデータを保持するため、携帯電話の電源がオフになっている場合でもSRAMにはデータを保持するための電源が接続されている。長期にわたってデータを保持するためにはSRAMのデータ保持電流が小さい事が望ましい。しかしながら、アプリケーションが使用するワークエリアは携帯電話に付加される機能(音楽やゲーム等配信等)が増えるにつれて大きくなり、より大きな記憶容量のSRAMが必要となることが予想される。特に最近の携帯電話は高機能化が目覚しく、SRAMの大容量化で対応することがしだいに困難になってくることが判明した。即ちSRAMの大容量化には以下のような課題がある。大容量SRAMの課題は、記憶容量の増大分だけ、データ保持電流が増加してしまう他に、ゲートリーク電流の増大によるデータ保持電流が増加する点にある。これは大容量SRAMを実現するために微細加工を導入してMOSトランジスタの酸化絶縁膜を薄膜化するとゲートから基盤へトンネル電流が流れてしまいデータ保持電流が増えてしまうという理由による。 In order to hold data to be stored, such as a telephone number and an address book, a power source for holding data is connected to the SRAM even when the power of the mobile phone is turned off. In order to retain data over a long period of time, it is desirable that the data retention current of the SRAM be small. However, it is expected that the work area used by the application will increase as the functions added to the mobile phone (distribution of music, games, etc.) increase, and an SRAM with a larger storage capacity will be required. In particular, recent mobile phones have been remarkably advanced, and it has been found that it will become increasingly difficult to cope with the increased capacity of SRAM. That is, there are the following problems in increasing the capacity of SRAM. The problem with large-capacity SRAMs is that the data retention current increases as the storage capacity increases, and the data retention current increases due to the increase in gate leakage current. This is because if a microfabrication is introduced to realize a large-capacity SRAM and the oxide insulating film of the MOS transistor is thinned, a tunnel current flows from the gate to the substrate and the data holding current increases.
そこで本願発明の目的の一つは、記憶容量が大きくかつデータ保持電流の少ないメモリを実現にある。 Accordingly, one of the objects of the present invention is to realize a memory having a large storage capacity and a small data holding current.
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。 The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。 The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
本発明の代表的な手段を示せば以下の通りである。フラッシュメモリと、スタティック・ランダム・アクセスメモリ(SRAM)と、複数のメモリバンクから構成される、クロックに同期したコマンドにより読出し/書込みを行うダイナミック・ランダムアクセス・メモリ(DRAM)を一つの封止体に実装し、封止体に半導体チップとの配線を行うための電極と封止体と封止体外部との接続を行うための電極を設ける。 Representative means of the present invention are as follows. One encapsulated flash memory, a static random access memory (SRAM), and a dynamic random access memory (DRAM) that is composed of a plurality of memory banks and that reads / writes by a command synchronized with a clock And an electrode for connecting the semiconductor chip to the sealing body and an electrode for connecting the sealing body and the outside of the sealing body are provided.
この際に、半導体装置外からDRAMのリフレッシュを隠蔽するために、2つ以上のバンクを1チップに含むDRAMにメモリコントローラを接続してDRAMへのメモリアクセスを制御させる。前記メモリコントローラによって第1の期間にメモリアクセスが行われた場合には第1のバンクへアクセスを行い第2の期間にメモリアクセスが行われた場合には第2のバンクへアクセスを行うとよい。 At this time, in order to conceal the refresh of the DRAM from outside the semiconductor device, a memory controller is connected to the DRAM including two or more banks in one chip to control the memory access to the DRAM. When memory access is performed by the memory controller during the first period, the first bank is accessed, and when memory access is performed during the second period, the second bank is accessed. .
更に、複数のメモリバンクから構成される、クロックに同期したコマンドにより読出し/書込みを行うダイナミック・ランダムアクセス・メモリ(DRAM)を使用して、複数のメモリバンクを同じメモリ容量を持つ第1メモリブロックと第2メモリブロックとに割り当てて、メモリへのアクセスを第1期間と第2期間が交互に行う。前記第1期間では、前記DRAMに対する読み出し/書き込みコマンドは前記第1メモリブロックに対して実行し、前記第2メモリブロックはリフレッシュを優先して実行する。また、前記第2期間において、前記DRAMに対する読み出し/書き込みコマンドは前記第2メモリブロックに対して実行するとともに、前記第1メモリブロックはリフレッシュを優先して実行すると良い。 Further, a first memory block having a plurality of memory banks having the same memory capacity by using a dynamic random access memory (DRAM) which is constituted by a plurality of memory banks and performs reading / writing by a command synchronized with a clock. And the second memory block, the memory is accessed alternately in the first period and the second period. In the first period, a read / write command for the DRAM is executed for the first memory block, and the second memory block is executed with priority on refresh. In the second period, it is preferable that a read / write command for the DRAM is executed for the second memory block, and the first memory block is executed with priority on refresh.
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。 The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
すなわち、本発明によって得られる効果は以下の通りである。第一にDRAMへのアクセスをコントローラで制御することによって外部からリフレッシュを行う必要の無い大容量メモリが実現される。第二にデータ保持領域とワークエリアを設定してそれぞれ電源制御を行うことによってデータ保持電流の少ないメモリモジュールが実現される。第三に複数の半導体チップを一つの封止体に実装することによって実装面積の小さなメモリモジュールを提供できる。 That is, the effects obtained by the present invention are as follows. First, by controlling access to the DRAM by the controller, a large-capacity memory that does not need to be refreshed from the outside is realized. Secondly, a memory module with a small data holding current is realized by setting a data holding area and a work area and performing power control respectively. Thirdly, a memory module with a small mounting area can be provided by mounting a plurality of semiconductor chips on one sealing body.
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。実施例の各ブロックを構成する回路素子は、特に制限されないが、公知のCMOS(相補型MOSトランジスタ)等の集積回路技術によって、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上に形成される。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The circuit elements constituting each block of the embodiment are not particularly limited, but are formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known integrated circuit technology such as CMOS (complementary MOS transistor).
<実施例1>
図1は本発明を適用した半導体集積回路装置の一例であるメモリモジュールの第一の実施例を示したものである。本メモリモジュールは3つのチップによって構成されている。以下に夫々のチップについて説明する。
<Example 1>
FIG. 1 shows a first embodiment of a memory module as an example of a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied. This memory module is composed of three chips. Each chip will be described below.
まず、CHIP1(FLASH) は不揮発性メモリである。不揮発性メモリにはROM(リードオンリーメモリ)、EEPROM(エレクトリカリイレーサブルアンドプログラマブルROM)、フラッシュメモリ等を用いることが出来る。本実施例ではフラッシュメモリを例に説明する。CHIP2(SRAM+CTL_LOGIC)にはスタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)と制御回路(CTL_LOGIC)が集積されている。制御回路はCHIP2に集積されたSRAMとCHIP3の制御を行う。CHIP3(DRAM)はダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)である。DRAMは内部構成やインターフェイスの違いからEDO、SDRAM、DDR等様々な種類がある。本メモリモジュールにはいずれのDRAMでも用いることが出来るが、本実施例ではSDRAMを例に説明する。 First, CHIP1 (FLASH) is a nonvolatile memory. As the nonvolatile memory, ROM (read only memory), EEPROM (electrically erasable and programmable ROM), flash memory, or the like can be used. In this embodiment, a flash memory will be described as an example. In CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC), a static random access memory (SRAM) and a control circuit (CTL_LOGIC) are integrated. The control circuit controls the SRAM and CHIP3 integrated in CHIP2. CHIP3 (DRAM) is a dynamic random access memory (DRAM). There are various types of DRAM such as EDO, SDRAM, and DDR due to differences in internal configuration and interface. Although any DRAM can be used for this memory module, this embodiment will be described using SDRAM as an example.
このメモリモジュールには外部からアドレス(A0〜A20)とコマンド信号(S-/CE1, S-CE2, S-/OE, S-/WE, S-/LB, S-/UB, F-/WE, F-/RP, F-/WP, F-RDY/BUSY, F-/CE, F-/OE)が入力される。電源はS-VCC, S-VSS, F-VCC, F-VSS, L-VCC, L-VSSを通して供給され、データの入出力にはI/O0〜I/O15が用いられる。アドレス信号線及びデータ入出力線はCHIP1(FLASH)とCHIP2(SRAM)に共通して接続される。CHIP2はCHIP3の動作に必要となるクロック(D-CLK)、アドレス(D-A0〜D-A13)、コマンド(D-CKE, D-/CS, D-/RAS, D-/CAS, D-/WE, D-DQMU/DQML)、DRAM用データ(D-DQ0〜D-DQ15)、電源(D-VCC, D-VSS, D-VCCQ, D-VSSQ)を供給する。このメモリモジュールと外部との入手力ノードはDRAMのインタフェースのための信号端子は直接には見えなくしているところが特徴の一つである。従って、後の実施例の図16等で本発明のBGA(ボールグリッドアレイ)型パッケージについて説明するが、このパッケージで外部端子として利用される端子には、DRAMを制御するための信号端子は通常設けられない。これにより、ユーザはDRAMの存在が外部からはリフレッシュ隠蔽され記憶容量の増大のメリットを享受できるようになる。もっとも、BGA型パッケージの信号端子数が非常に多く余裕がある場合には、主に製造業者の製造時のテストの目的のためDRAMの制御端子を並列して外部に引き出すようにしてもよい。こうすることにより、製造業者は不良解析等が迅速に行えるようになる。もちろんこの機能は、通常はユーザには開放されない。 This memory module has external addresses (A0 to A20) and command signals (S- / CE1, S-CE2, S- / OE, S- / WE, S- / LB, S- / UB, F- / WE , F- / RP, F- / WP, F-RDY / BUSY, F- / CE, F- / OE). Power is supplied through S-VCC, S-VSS, F-VCC, F-VSS, L-VCC, and L-VSS, and I / O0 to I / O15 are used for data input / output. The address signal line and the data input / output line are commonly connected to CHIP1 (FLASH) and CHIP2 (SRAM). CHIP2 is the clock (D-CLK), address (D-A0 to D-A13), command (D-CKE, D- / CS, D- / RAS, D- / CAS, D-) required for CHIP3 operation. / WE, D-DQMU / DQML), DRAM data (D-DQ0 to D-DQ15), power supply (D-VCC, D-VSS, D-VCCQ, D-VSSQ). One of the features of this memory node and the external availability node is that signal terminals for DRAM interface are not directly visible. Accordingly, the BGA (ball grid array) type package of the present invention will be described with reference to FIG. 16 and the like in the later embodiment. As a terminal used as an external terminal in this package, a signal terminal for controlling the DRAM is usually used It is not provided. As a result, the user can enjoy the merit of increasing the storage capacity since the presence of DRAM is refreshed from the outside. Of course, when the number of signal terminals of the BGA type package is very large and there is a margin, the control terminals of the DRAM may be led out in parallel mainly for the purpose of testing at the time of manufacture by the manufacturer. By doing so, the manufacturer can quickly perform defect analysis and the like. Of course, this function is not normally open to the user.
ここで各コマンド信号について簡単に説明する。 CHIP2に入力されるS-/CE1, S-CE2はチップイネーブル信号、 S-/OEはアウトプットイネーブル信号、 S-/WEはライトイネーブル信号、 S-/LBはロアーバイト選択信号、S-/UBはアッパーバイト選択信号である。CHIP1に入力されるF-/WEはライトイネーブル信号、F-/RPはリセット/ディープパワーダウン信号、F-/WPはライトプロテクト信号、F-RDY/BUSYはレディ/ビジィアウトプット信号、F-/CEチップイネーブル信号、F-/OEはアウトプットイネーブル信号でフラッシュメモリの制御に用いられる。 Here, each command signal will be briefly described. S- / CE1 and S-CE2 input to CHIP2 are chip enable signals, S- / OE is output enable signals, S- / WE is write enable signals, S- / LB is lower byte selection signals, S- / UB is an upper byte selection signal. F- / WE input to CHIP1 is a write enable signal, F- / RP is a reset / deep power down signal, F- / WP is a write protect signal, F-RDY / BUSY is a ready / busy output signal, F- / The / CE chip enable signal, F- / OE, is an output enable signal and is used to control the flash memory.
本メモリモジュールは共通したアドレス線(A0〜A20)、データ入出力線(I/O0〜I/O15)を用いてフラッシュメモリ、SRAM、DRAMへアクセスすることが出来る。 This memory module can access flash memory, SRAM, and DRAM using common address lines (A0 to A20) and data input / output lines (I / O0 to I / O15).
フラッシュメモリ(CHIP1)へアクセスする場合はアドレス線(A0〜A20)の他、コマンド信号F-/WE, F-/RP, F-/WP, F-RDY/BUSY, F-/CE, F-/OEのうち必要な信号をアクティブにする。SRAM(CHIP2)又はDRAM(CHIP3)へアクセスする場合はアドレス線(A0〜A20)の他、コマンド信号S-/CE1, S-CE2, S-/OE, S-/WE, S-/LB, S-/UBのうち必要な信号をアクティブにする。いずれのアクセスもいわゆるSRAMインターフェイス方式によって行われる。 When accessing the flash memory (CHIP1), in addition to the address lines (A0 to A20), command signals F- / WE, F- / RP, F- / WP, F-RDY / BUSY, F- / CE, F- Activate the required signal in / OE. When accessing SRAM (CHIP2) or DRAM (CHIP3), in addition to the address lines (A0 to A20), command signals S- / CE1, S-CE2, S- / OE, S- / WE, S- / LB, Activate the necessary signals in S- / UB. Any access is performed by a so-called SRAM interface method.
SRAMへのアクセスとDRAMへのアクセスは入力されるアドレスの値によって区別される、入力されたアドレスの値によって制御回路(CTL_LOGIC)がアクセス先を判定する。SRAMへのアクセスとなるアドレスの範囲とDRAMへのアクセスとなるアドレスの範囲は制御回路(CTL_LOGIC)に設けられたレジスタにあらかじめ値を設定しておくことによって決められる。 Access to the SRAM and access to the DRAM are distinguished by the input address value. The control circuit (CTL_LOGIC) determines the access destination based on the input address value. The range of addresses for accessing SRAM and the range of addresses for accessing DRAM are determined by setting values in registers provided in the control circuit (CTL_LOGIC) in advance.
DRAMへアクセスする場合にはDRAMへのアクセスに必要なアドレス信号やコマンド信号類を制御回路(CTL_LOGIC)が生成し、DRAMへのアクセスを行う。リードアクセスの場合にはDRAMからの読み出しデータはDRAM用データI/O(D-DQ0〜D-DQ15)から一旦制御回路(CTL_LOGIC)に読み出され、その後メモリモジュールのデータ入出力線(I/O0〜I/O15)へ出力される。ライトアクセスの場合は書込みデータはメモリモジュールのデータ入出力線(I/O0〜I/O15)から入力され、その後DRAM用データI/O(D-DQ0〜D-DQ15)を通してDRAMに入力される。 When accessing the DRAM, the control circuit (CTL_LOGIC) generates address signals and command signals necessary for accessing the DRAM, and accesses the DRAM. In the case of read access, the read data from the DRAM is once read from the DRAM data I / O (D-DQ0 to D-DQ15) to the control circuit (CTL_LOGIC) and then the data input / output line (I / O) of the memory module. O0 to I / O15). In the case of write access, the write data is input from the data input / output lines (I / O0 to I / O15) of the memory module, and then input to the DRAM through the DRAM data I / O (D-DQ0 to D-DQ15). .
DRAMへの電源はL-VCC、L-VSSから供給され、制御回路(CTL_LOGIC)を通してD-VCC, D-VSS, D-VCCQ, D-VSSQへ接続される。DRAMへの電源供給はコマンド信号PSによって制御され、必要に応じて切断することが出来る。切断したDRAMの電源を再投入する場合にはDRAMの初期化を行う必要がある。DRAMの初期化に必要な信号生成やタイミング制御は制御回路(CTL_LOGIC)が行う。 Power to the DRAM is supplied from L-VCC and L-VSS, and connected to D-VCC, D-VSS, D-VCCQ, and D-VSSQ through a control circuit (CTL_LOGIC). The power supply to the DRAM is controlled by the command signal PS and can be cut off as necessary. It is necessary to initialize the DRAM when powering off the disconnected DRAM. The control circuit (CTL_LOGIC) performs signal generation and timing control necessary for DRAM initialization.
また、DRAMのリフレッシュを行う場合には制御回路(CTL_LOGIC)が定期的にリフレッシュコマンドを投入して行うことが出来る。一般にDRAMのリフレッシュ特性は高温時に悪化するが、制御回路(CTL_LOGIC)に温度計を設けて高温時にリフレッシュコマンドの投入間隔を狭めることによってDRAMをより広い温度範囲で使用することが出来る。 Further, when refreshing the DRAM, the control circuit (CTL_LOGIC) can periodically perform a refresh command. In general, the refresh characteristics of DRAM deteriorate at high temperatures, but DRAM can be used in a wider temperature range by providing a thermometer in the control circuit (CTL_LOGIC) and reducing the refresh command input interval at high temperatures.
さらに、制御回路(CTL_LOGIC)によって1つのデータをDRAMの異なった2個所のアドレスに保持させた上で、リフレッシュを行うタイミングを調整することによってメモリモジュール外部からはリフレッシュ動作によってアクセスに制限が生じないようリフレッシュを隠蔽する。 In addition, the control circuit (CTL_LOGIC) holds one data at two different addresses in the DRAM and adjusts the refresh timing so that the access is not restricted by the refresh operation from the outside of the memory module. So as to conceal the refresh.
以上説明した実施例によれば、SRAMインターフェイス方式を踏襲しながら安価な汎用DRAMを用いた大容量メモリモジュールが実現出来る。本発明によるメモリモジュールではDRAMが使用されているがDRAMに必要なリフレッシュはモジュール内部で実行されるためSRAMと同様にリフレッシュを考慮せずに使用することが出来る。また、モジュール内部で実行されるリフレッシュの間隔を温度によって変えることによってDRAMの使用温度範囲を広げることが可能となり、使用温度範囲の広い大容量メモリモジュールが実現できる。 According to the embodiment described above, a large-capacity memory module using an inexpensive general-purpose DRAM can be realized while following the SRAM interface method. Although the DRAM is used in the memory module according to the present invention, the refresh necessary for the DRAM is executed inside the module, so that it can be used without considering the refresh like the SRAM. Also, by changing the refresh interval executed inside the module depending on the temperature, it is possible to extend the operating temperature range of the DRAM, and a large-capacity memory module with a wide operating temperature range can be realized.
さらに、DRAMにおけるデータ保持の二重化とリフレッシュを行うタイミングを調整することによりDRAMのリフレッシュをメモリモジュール外部から隠蔽することが出来るため、本メモリモジュールにアクセスする場合にリフレッシュを考慮してタイミングを調整する必要は無い。従って従来のSRAMだけを用いたメモリモジュールと同様に使用することが出来るため、従来システムを変更せずに大容量メモリモジュールを使用することが出来る。 In addition, the DRAM refresh can be hidden from the outside of the memory module by adjusting the data retention duplex and refresh timing in the DRAM. Therefore, when accessing this memory module, adjust the timing in consideration of the refresh. There is no need. Therefore, since it can be used in the same manner as a memory module using only a conventional SRAM, a large-capacity memory module can be used without changing the conventional system.
本発明の別の目的はデータ保持電流の少ないメモリモジュールを実現することである。この目的のためにはDRAMへ供給する電源を切断し、SRAMに記憶されたデータだけを保持すればよい。保持すべきデータだけをSRAMに記憶して、保持する必要の無いデータが記憶されたメモリへの電源供給を停止することによって最小限のデータ保持電流で必要なデータだけを保持することが可能である。 Another object of the present invention is to realize a memory module with a small data holding current. For this purpose, it is only necessary to cut off the power supplied to the DRAM and retain only the data stored in the SRAM. By storing only the data to be retained in the SRAM and stopping the power supply to the memory where the data that does not need to be retained is stored, it is possible to retain only the necessary data with the minimum data retention current. is there.
図2はCHIP2(SRAM+CTL_LOGIC)を示したものである。CHIP2(SRAM+CTL_LOGIC)はSRAMと制御回路(CTL_LOGIC)から構成されており、集積されるSRAMは従来より一般的に使用されている非同期SRAMである。制御回路(CTL_LOGIC)はCHIP2のSRAM以外の部分で、図2では破線に囲まれた領域として示されており、AS、MMU、ATD、DTD、FIFO、R/W BUFFER、A_CONT、INT、TMP、RC、PM、CLK_GEN、COM_GENによって構成される。 FIG. 2 shows CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC). CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC) is composed of an SRAM and a control circuit (CTL_LOGIC), and the integrated SRAM is an asynchronous SRAM that is generally used conventionally. The control circuit (CTL_LOGIC) is the part other than the SRAM of CHIP2 and is shown as the area surrounded by the broken line in Fig. 2, AS, MMU, ATD, DTD, FIFO, R / W BUFFER, A_CONT, INT, TMP, Consists of RC, PM, CLK_GEN, and COM_GEN.
外部よりアドレスが入力されるとメモリマネージメントユニットMMUは設定された値に従って入力されたアドレスを変換し、アクセスを行うメモリを選択する。SRAMが選択された場合にはアクセススイッチ(AS)によってSRAMへコマンド信号が送られ、SRAMへのアクセスが行われる。アドレストランジションディテクタ回路(ATD)はアドレス信号とコマンド信号の変化を検出してパルスを出力する。データトランジションディテクタ回路(DTD)はデータ信号とコマンド信号の変化を検出してパルスを出力する。R/W BUFFERはDRAMの読み出し、書込みの為にデータを一時的に保持する。ファーストインファーストアウトメモリFIFOは先入れ先出しのバッファ回路でDRAMへ書込みデータとそのアドレスを一時的に保持する。初期化回路INTはDRAMへの電源供給開始時にDRAMの初期化を行う。温度計測モジュール(TMP)は温度を検出し、検出した温度に応じた信号をRCとA_CONTに出力する。RCはリフレッシュカウンタで、DRAMのリフレッシュ間隔にあわせてリフレッシュを行うアドレスを生成する。また、温度計測モジュール(TMP)の出力信号によって温度に応じたリフレッシュ間隔の変更を行う。パワーモジュール(PM)はCHIP2の制御回路(CTL_LOGIC)と DRAMへの電源供給及び電源の制御を行う。クロックジェネレータ(CLK_GEN)はクロックを生成し、DRAMと制御回路(CTL_LOGIC)へ供給する。コマンドジェネレータ(COM_GEN)はDRAMへのアクセスに必要なコマンドを生成する。アクセスコントローラ(A_CONT)はCHIP2 (SRAM+CTL_LOGIC)全体動作の制御と、DRAMへアクセスを行うためのアドレスを発生する。 When an address is input from the outside, the memory management unit MMU converts the input address according to a set value and selects a memory to be accessed. When SRAM is selected, a command signal is sent to the SRAM by the access switch (AS), and the SRAM is accessed. The address transition detector circuit (ATD) detects a change in the address signal and the command signal and outputs a pulse. The data transition detector circuit (DTD) detects changes in the data signal and the command signal and outputs a pulse. R / W BUFFER temporarily holds data for DRAM read / write. The first-in first-out memory FIFO is a first-in first-out buffer circuit that temporarily holds data written to the DRAM and its address. The initialization circuit INT initializes the DRAM when power supply to the DRAM is started. The temperature measurement module (TMP) detects the temperature and outputs a signal corresponding to the detected temperature to RC and A_CONT. RC is a refresh counter that generates an address to be refreshed in accordance with the DRAM refresh interval. Also, the refresh interval is changed according to the temperature by the output signal of the temperature measurement module (TMP). The power module (PM) supplies power to the CHIP2 control circuit (CTL_LOGIC) and DRAM and controls power. The clock generator (CLK_GEN) generates a clock and supplies it to the DRAM and the control circuit (CTL_LOGIC). The command generator (COM_GEN) generates commands necessary for accessing DRAM. The access controller (A_CONT) controls the overall operation of CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC) and generates an address for accessing the DRAM.
CHIP2(SRAM+CTL_LOGIC)へメモリアクセスを行うには従来より一般に使用されている非同期SRAM方式でインターフェイスする。外部からアドレス(A0〜A21)がCHIP2 (SRAM+CTL_LOGIC)に入力されるとまずMMUによってアドレスの値が変換される。変換のパターンはあらかじめMMU内部のレジスタに入力した値によって決められる。変換されたアドレスによってアクセス先がSRAMなのかDRAMなのかが決定する。 In order to perform memory access to CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC), an interface is used in the conventional asynchronous SRAM method. When an address (A0 to A21) is input to CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC) from the outside, the address value is first converted by the MMU. The conversion pattern is determined by the value previously input to the register in the MMU. Whether the access destination is SRAM or DRAM is determined by the converted address.
SRAMへアクセスが行われる場合にはMMUは変換したアドレスをSRAMへ送ると同時に、アドレスアクセススイッチ(AS)にコマンド転送を指示する。アドレスアクセススイッチ(AS)はコマンドをSRAMへ転送し、SRAMへのアクセスが開始される。これ以降の動作はいわゆる非同期SRAMへのアクセスが行われる。 When accessing the SRAM, the MMU sends the converted address to the SRAM and at the same time instructs the address access switch (AS) to transfer the command. The address access switch (AS) transfers the command to the SRAM, and access to the SRAM is started. In subsequent operations, access to a so-called asynchronous SRAM is performed.
DRAMへリードアクセスを行う場合について制御回路の各ブロックの動作を以下に説明する。まず、外部から入力されてMMUによって変換されたアドレスとATDで検知されたコマンドがA_CONTに送られる。A_CONTは送られたアドレスとコマンドからDRAMへのアクセスの実行を判断し、COM_GENにDRAMへのコマンド発行を指示する。また、 A_CONTはMMUから受け取ったアドレスをDRAM用に変換してDRAMへ出力する。 COM_GENはCLK_GENが生成したクロックに同期してDRAMにコマンドを発行する。コマンドとアドレスを受け取ったDRAMはデータを出力し、出力されたデータはR/W BUFFERを介してI/O0〜I/O15へ転送されてリードアクセスが終了する。 The operation of each block of the control circuit in the case of performing read access to the DRAM will be described below. First, an address input from the outside and converted by the MMU and a command detected by the ATD are sent to A_CONT. A_CONT judges execution of access to DRAM from the address and command sent, and instructs COM_GEN to issue a command to DRAM. A_CONT converts the address received from the MMU for DRAM and outputs it to DRAM. COM_GEN issues a command to the DRAM in synchronization with the clock generated by CLK_GEN. The DRAM receiving the command and address outputs data, and the output data is transferred to I / O0 to I / O15 via the R / W BUFFER, and the read access is completed.
DRAMへライトアクセスを行う場合は、外部から入力されMMUによって変換されたアドレスとATDで検知されたコマンド及びDTDで検知されたコマンドとデータがA_CONTに送られる。 A_CONTは送られたアドレスとコマンドからDRAMへのアクセスの実行を判断し、COM_GENにDRAMへのコマンド発行を指示する。また、 A_CONTはMMUから受け取ったアドレスをDRAM用に変換してDRAMへ出力する。 COM_GENはCLK_GENが生成したクロックに同期してDRAMにコマンドを発行する。書込まれるデータはI/O0〜I/O15から入力されR/W BUFFERに一旦保持された後、DRAMに送られて書込みが行われる。この他、このように書込みが行われたデータとアドレスはFIFOにも保持され、後でDRAMの別のバンクにも書込みが行われる。 When performing write access to the DRAM, an address input from the outside and converted by the MMU, a command detected by the ATD, and a command and data detected by the DTD are sent to the A_CONT. A_CONT judges execution of access to DRAM from the address and command sent, and instructs COM_GEN to issue a command to DRAM. A_CONT converts the address received from the MMU for DRAM and outputs it to DRAM. COM_GEN issues a command to the DRAM in synchronization with the clock generated by CLK_GEN. Data to be written is input from I / O0 to I / O15, temporarily held in the R / W BUFFER, and then sent to the DRAM for writing. In addition, the data and address written in this way are also held in the FIFO, and are also written into another bank of the DRAM later.
DRAMへ供給される電源はパワーモジュール(PM)によって制御される。メモリモジュールが実装された機器は動作状態に応じて消費電流を削減したい場合がある。そのような場合にはパワーモジュールは、例えばコマンド信号PSに従ってリフレッシュカウンタが行うリフレッシュを停止させてDRAMのリフレッシュに必要な電力を削減することが出来る。さらに消費電力を削減したい場合にはメモリモジュール内部においてDRAMへ供給する電源を切断すればよい。この場合にはパワーモジュールは機器が出力するコマンド信号PSにしたがってDRAMへ供給されるD-VCCへの電力供給を停止する。 The power supplied to the DRAM is controlled by a power module (PM). In some cases, a device in which a memory module is mounted may want to reduce current consumption according to the operating state. In such a case, for example, the power module can stop the refresh performed by the refresh counter in accordance with the command signal PS to reduce the power required for refreshing the DRAM. In order to further reduce power consumption, the power supplied to the DRAM may be cut off in the memory module. In this case, the power module stops power supply to the D-VCC supplied to the DRAM according to the command signal PS output from the device.
この上、一段と消費電力を削減したい場合はパワーモジュールがコマンド信号PSにしたがってCHIP2(SRAM+CTL_LOGIC)のうちDRAMへのメモリアクセスに関与する部分への電源供給を停止すれば良い。この状態では例えばCHIP2(SRAM+CTL_LOGIC)のうちSRAMの他にはMMUとASだけに電源を接続して動作状態とし、SRAMへのアクセスだけを実行するモードとすることが可能である。 In addition, if it is desired to further reduce power consumption, the power module may stop supplying power to the portion of CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC) involved in memory access to the DRAM according to the command signal PS. In this state, for example, in CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC), in addition to the SRAM, it is possible to connect the power supply only to the MMU and AS to be in the operating state, and to set the mode in which only the SRAM is accessed.
さらにコマンドPSによってSRAMのデータ保持だけを行う動作状態とすることも可能である。この様な場合にはSRAMへ接続される電源(S-VCC, S-VSS)以外を切断し、メモリへのアクセスは禁止される。この状態でメモリモジュールはSRAMに記憶されたデータの保持を行う。 Further, it is possible to set the operation state in which only the SRAM data is held by the command PS. In such a case, the power supply other than the power supply (S-VCC, S-VSS) connected to the SRAM is disconnected and access to the memory is prohibited. In this state, the memory module holds the data stored in the SRAM.
一旦電源供給を停止して動作を停止したDRAMを再び動作させるためには電源供給の再開の他、DRAMの初期化を行う必要がある。初期化方法は一般的なものだが本メモリモジュールではイニシャル回路(INT)が初期化の手順をアクセスコントローラ(A_CONT)に指示して初期化が実行される。 In order to restart the DRAM once the power supply is stopped and the operation is stopped, it is necessary to initialize the DRAM in addition to restarting the power supply. Although the initialization method is general, in this memory module, the initial circuit (INT) instructs the access controller (A_CONT) the initialization procedure and the initialization is executed.
なお、DRAMのリフレッシュを停止した場合にもDRAMを再び動作させるためにはDRAMの初期化が必要であるが、やはりイニシャル回路(INT)が初期化の手順をアクセスコントローラ(A_CONT)に指示して初期化が実行される。 Note that even if DRAM refresh is stopped, DRAM initialization is required to operate the DRAM again, but the initial circuit (INT) also instructs the access controller (A_CONT) the initialization procedure. Initialization is performed.
リフレッシュカウンタRCはDRAMのリフレッシュ間隔に従ってリフレッシュ用アドレスを出力し、アクセスコントローラにリフレッシュの実行を要求する。アクセスコントローラはリフレッシュカウンタの要求に従って、外部から行われるDRAMへのアクセスと調停を取りながらリフレッシュコマンドを発行し、DRAMのリフレッシュを行う。 The refresh counter RC outputs a refresh address according to the DRAM refresh interval, and requests the access controller to execute refresh. The access controller issues a refresh command and refreshes the DRAM in accordance with a request from the refresh counter while accessing and arbitrating the DRAM from the outside.
メモリーモジュールを高温で使用する場合にはDRAMのリフレッシュ間隔を短くして頻繁にリフレッシュを行うことが必要となる。この様な場合には温度計測モジュール(TMP)が温度を検出してリフレッシュカウンタとアクセスコントローラに通知する。高温になればリフレッシュカウンタはリフレッシュ間隔を短く変更してリフレッシュ用アドレスを出力する。 When the memory module is used at a high temperature, it is necessary to refresh frequently by shortening the DRAM refresh interval. In such a case, the temperature measurement module (TMP) detects the temperature and notifies the refresh counter and the access controller. When the temperature becomes high, the refresh counter changes the refresh interval short and outputs a refresh address.
DRAMの動作に必要なクロック(D-CLK)はクロックジェネレータ(CLK_GEN)で生成される。クロックジェネレータはDRAMの他、制御回路内の各ブロックにクロックを供給する。DRAMがクロックに同期して動作する場合はコマンドジェネレータ(COM_GEN)のコマンド発行はクロックに同期して行われる。 A clock (D-CLK) required for DRAM operation is generated by a clock generator (CLK_GEN). The clock generator supplies a clock to each block in the control circuit in addition to the DRAM. When the DRAM operates in synchronization with the clock, the command generator (COM_GEN) issues a command in synchronization with the clock.
DRAMのリフレッシュを停止することによって消費電力を削減することが出来る。DRAMの電源を遮断しSRAMだけにアクセスをおこなった場合には小記憶容量ながらより低電力で動作をおこなうことが可能である。この場合にはさらにDRAMへのアクセスに必要な制御回路への電源供給も停止し、より低電力で動作させることも出来る。さらにSRAMだけに電力を供給してSRAMに記憶されたデータだけを保持することによってより低消費電力なデータ保持モードが実現できる。DRAMに電源を再投入する場合にもDRAMの初期化を制御回路によっておこなえるため、外部からモジュールに対して初期化のための手続きを実行する必要は無い。従って簡易に消費電力を削減するメモリモジュールが実現出来る。 Power consumption can be reduced by stopping the refresh of DRAM. When the DRAM power is shut off and only the SRAM is accessed, it is possible to operate with lower power with a small storage capacity. In this case, the power supply to the control circuit necessary for accessing the DRAM can also be stopped, and the operation can be performed with lower power. Furthermore, a data holding mode with lower power consumption can be realized by supplying power only to the SRAM and holding only the data stored in the SRAM. Even when the power is reapplied to the DRAM, the initialization of the DRAM can be performed by the control circuit, so there is no need to execute the initialization procedure for the module from the outside. Therefore, a memory module that easily reduces power consumption can be realized.
図3はMMUによって変換されるメモリマップの一例を示したものである。本実施例では特に限定されないが、不揮発メモリの記憶領域が32Mb、SRAMによるデータ保持領域が2Mb、DRAMの記憶領域が32Mbあるメモリモジュールを例に説明する。外部から入力されたアドレスA0〜A20はフラッシュメモリ(CHIP1)とCHIP2で共用されている。アクセス先の選択にはチップ選択のための信号S-CS,F-CSを使用する。F-CSがアクティブとなった場合はCHIP1が選択されてアクセスが行われ、S-CSがアクティブとなった場合はCHIP2が選択されてアクセスが行われる。F-CSはCHIP1のアクセスに使用するコマンド信号F-/WE, F-/RP, F-/WP, F-RDY/BUSY, F-/CE, F-/OEの総称であり、S-CSはCHIP2のアクセスに使用するコマンド信号S-/CE1, S-CE2, S-/OE, S-/WE, S-/LB, S-/UBの総称である。アクセス先にCHIP2が選択された場合はMMUがアドレスに応じてアクセスするメモリを選択する。 FIG. 3 shows an example of a memory map converted by the MMU. Although not particularly limited in the present embodiment, an example of a memory module having a nonvolatile memory storage area of 32 Mb, an SRAM data holding area of 2 Mb, and a DRAM storage area of 32 Mb will be described. Addresses A0 to A20 input from the outside are shared by the flash memory (CHIP1) and CHIP2. For selection of the access destination, signals S-CS and F-CS for chip selection are used. When F-CS becomes active, CHIP1 is selected and accessed, and when S-CS becomes active, CHIP2 is selected and accessed. F-CS is a general term for command signals F- / WE, F- / RP, F- / WP, F-RDY / BUSY, F- / CE, F- / OE used for CHIP1 access. Is a generic term for command signals S- / CE1, S-CE2, S- / OE, S- / WE, S- / LB, and S- / UB used for CHIP2 access. When CHIP2 is selected as the access destination, the MMU selects the memory to be accessed according to the address.
図3(A)に示したメモリマップの例ではアドレス空間の一部に集中してSRAM領域が設定されている。SRAMのアドレス空間はDRAMのアドレス空間に重なっており、重なったアドレス空間へのアクセスはSRAMに対して行われる。同じアドレス空間にあるDRAMはシャドー領域となりアクセスが行われない。 In the example of the memory map shown in FIG. 3A, the SRAM area is set in a concentrated manner in a part of the address space. The SRAM address space overlaps the DRAM address space, and access to the overlapped address space is performed on the SRAM. DRAM in the same address space becomes a shadow area and is not accessed.
これに対して、図3(B)に示したメモリマップの例では複数のアドレス空間に分散してSRAM領域が設定されている。やはりSRAMのアドレス空間はDRAMのアドレス空間に重なっており、重なったアドレス空間へのアクセスはSRAMに対して行われる。この例ではSRAM領域が512Kb単位で設定してあるが、これはFLASHメモリの書込み消去単位に合わせており、アドレス空間の管理単位をFLASHメモリとそろえておくことによってOSやプログラムによって扱いやすくするためである。 On the other hand, in the example of the memory map shown in FIG. 3B, the SRAM areas are set in a distributed manner in a plurality of address spaces. Again, the SRAM address space overlaps the DRAM address space, and access to the overlapped address space is made to the SRAM. In this example, the SRAM area is set in units of 512Kb, but this is aligned with the FLASH memory write / erase unit, so that the address space management unit is aligned with the FLASH memory so that it can be handled easily by the OS and programs. It is.
このようにMMUは指定したアドレス空間にSRAM領域やDRAM領域をわりあてることが出来る。特にデータ保持電流を少なくしたい場合には保持したいデータを格納するアドレス空間をSRAM領域に割り当て、DRAMへの電源供給を停止すればよい。この方法によってデータ保持電流の少ないメモリモジュールを実現することができる。 In this way, the MMU can allocate the SRAM area and DRAM area to the specified address space. In particular, when it is desired to reduce the data holding current, an address space for storing data to be held may be allocated to the SRAM area and power supply to the DRAM may be stopped. By this method, a memory module with a small data holding current can be realized.
図4はMMUによって変換されるメモリマップの別の一例を示したものである。 FIG. 4 shows another example of the memory map converted by the MMU.
図4(A)に示したメモリマップの例ではアドレス空間の一部に集中してSRAM領域が設定されている。図3(A)に示したメモリマップの例との違いはSRAMのアドレス空間とDRAMのアドレス空間に重なりがないことである。DRAMにシャドー領域が発生しないためDRAMのメモリ空間を有効に利用することが出来る。図4(B)も同様に図3(B)に示したメモリマップの例とはSRAMのアドレス空間とDRAMのアドレス空間に重なりが無い。 DRAMにシャドー領域が発生しないためDRAMのメモリ空間を有効に利用することが出来る。図4(A)、図4(B)に示したメモリマップを行うとアドレス空間が2Mbほど増加する。これに対応するにはアドレス線A21を追加すれば良い。このように図4(A)、図4(B)に示したメモリマップではDRAMの記憶領域をより有効に使用することが出来る。 In the example of the memory map shown in FIG. 4A, the SRAM area is set in a concentrated manner in a part of the address space. The difference from the example of the memory map shown in FIG. 3A is that there is no overlap between the SRAM address space and the DRAM address space. Since there is no shadow area in DRAM, the DRAM memory space can be used effectively. Similarly in FIG. 4B, the SRAM address space and the DRAM address space do not overlap with the example of the memory map shown in FIG. 3B. Since there is no shadow area in DRAM, the DRAM memory space can be used effectively. When the memory map shown in FIGS. 4A and 4B is performed, the address space increases by about 2 Mb. In order to cope with this, an address line A21 may be added. As described above, in the memory maps shown in FIGS. 4A and 4B, the storage area of the DRAM can be used more effectively.
図5はATD回路の構成例と動作波形を示したものである。アドレストランジションディテクション回路(ATD)はアドレス信号線の値が変化したことを検知してパルスを発生するものである。回路図面で使用されているD1、D2の記号はそれぞれ遅延を発生するためのディレイエレメントを表している。ATDはアドレス線(A0〜AN)に変化が生じるとディレイエレメントD1とディレイエレメントD2による遅延を足し合わせた幅のパルス(/φA0〜/φAN)を出力する。さらに個々のアドレス線の動作ばらつきを勘案し、これらのパルスを足し合わせた信号/φATDを生成することによってアドレス線に現れるアドレス値が変化したことが検知される。図2に示されているようにATDにはアドレス線だけではなくコマンド信号も接続して新たなコマンドが入力されたことを検出する。データトランジションディテクシン回路(DTD)の構成はATDと同様である。DTDはデータ線と書き込みのためのコマンド信号の変化を検出して書き込み用データと書込みコマンドを認識する。 FIG. 5 shows a configuration example and operation waveforms of the ATD circuit. The address transition detection circuit (ATD) detects a change in the value of the address signal line and generates a pulse. The symbols D1 and D2 used in the circuit drawings represent delay elements for generating a delay, respectively. When a change occurs in the address line (A0 to AN), the ATD outputs a pulse (/ φA0 to / φAN) having a width obtained by adding the delays of the delay element D1 and the delay element D2. Further, taking into account the operation variation of each address line, it is detected that the address value appearing on the address line has changed by generating a signal / φATD obtained by adding these pulses. As shown in FIG. 2, not only an address line but also a command signal is connected to the ATD to detect that a new command has been input. The configuration of the data transition detection circuit (DTD) is the same as that of the ATD. The DTD recognizes the write data and the write command by detecting the change in the data line and the command signal for writing.
このようにATDとDTDによって非同期に変化するSRAMインターフェイス信号を検出してメモリモジュールの動作を開始する。これらの回路によって非同期SRAMインターフェイスによって動作するメモリモジュールが実現できる。非同期に変化する信号をパルス化して検知するため、メモリモジュール内部で同期式の動作をするメモリデバイスを使用することも可能である。 In this way, the SRAM interface signal that changes asynchronously by ATD and DTD is detected and the operation of the memory module is started. With these circuits, a memory module that operates with an asynchronous SRAM interface can be realized. In order to detect and detect signals that change asynchronously, it is also possible to use a memory device that operates synchronously inside the memory module.
図6はDRAMのリフレッシュを隠蔽することを目的にDRAMを時間分割して動作させる様子を示した。ここでは1チップが4つのバンクで構成されているDRAMを例に説明する。4つのバンクBANK-A0, BANK-A1, BANK-B0, BANK-B1をBANK-A0, BANK-A1とBANK-B0, BANK-B1の2つの組に分けて2つの組は同じアドレス空間にマッピングする。つまり、一つのアドレスで指定されるメモリセルが2つの組に夫々存在し、データが2倍冗長に記憶されている。 FIG. 6 shows how the DRAM is operated in a time-sharing manner in order to conceal the DRAM refresh. Here, a DRAM in which one chip is composed of four banks will be described as an example. Divide the four banks BANK-A0, BANK-A1, BANK-B0, BANK-B1 into two groups BANK-A0, BANK-A1 and BANK-B0, BANK-B1, and map the two groups to the same address space To do. That is, memory cells specified by one address exist in two groups, and data is stored twice as redundant.
図6(A)にはDRAMの通常使用温度範囲である75℃以下での動作をしめした。通常DRAMのメモリセルは64msに1回リフレッシュを行う必要があるが、その64msを8msづつ8期間に分割してBANK-A0、A1の組とBANK-B0、B1の組で交互に動作させる。図面でWORKと表示されたWORK期間はそのバンクの組が動作する期間を表しており、最初のWORK期間中はBANK-A0、A1の組が動作している。 Fig. 6 (A) shows the operation at 75 ° C or lower, which is the normal operating temperature range of DRAM. Usually, a DRAM memory cell needs to be refreshed once every 64 ms, but the 64 ms is divided into 8 periods every 8 ms, and the BANK-A0, A1 group and the BANK-B0, B1 group are operated alternately. The WORK period displayed as WORK in the drawing represents the period during which the bank group operates, and the BANK-A0 and A1 groups operate during the first WORK period.
DRAMへのリードアクセスが行われた場合にはWORK期間中であるBANK-A0、A1の組から読み出しが行われる。ライトアクセスが行われた場合はWORK期間中のBANK-A0、A1の組へ書込みが行われるほか、書込まれるデータとアドレスがFIFOに一時保管される。保管されたデータは期間T2においてBANK-B0、B1の組へも書込まれる。期間T2については後述する。 BANK-A0、A1がWORK期間中はBANK-B0、B1はREF期間である。REF期間中にBANK-B0、B1の組のバンクの半分の領域にリフレッシュが行われる。REF期間は連続してリフレッシュを行うT1期間とREF期間中に行われた書込みをFIFOから書き戻すT2期間に分けられる。 When read access to the DRAM is performed, reading is performed from the set of BANK-A0 and A1 during the WORK period. When write access is performed, data is written to the BANK-A0 and A1 pairs during the WORK period, and the data and address to be written are temporarily stored in the FIFO. The stored data is also written to the set of BANK-B0 and B1 in the period T2. The period T2 will be described later. While BANK-A0 and A1 are in the WORK period, BANK-B0 and B1 are in the REF period. During the REF period, refresh is performed in a half area of the bank of the bank BANK-B0 and B1. The REF period is divided into a T1 period in which refresh is performed continuously and a T2 period in which writing performed during the REF period is written back from the FIFO.
リフレッシュに要する時間を一回あたり70nsとするとリフレッシュに必要な時間は70ns X 2048回で0.144msとなる。従ってT2期間は7.856ns(8ms - 0.144ms)となる。ここで、メモリモジュールには75nsに一回アクセスが行われると仮定する。REF期間中に行われたアクセスが全てライトアクセスだとするとその最大回数は106667回(8ms/75ns)である。これをDRAMに書込むのに必要な時間は7.47ms(106667回 X 70ns)でありT2期間(7.856ms)以下であるためREF期間中に行われるライトアクセスはT1期間においてリフレッシュを行ってもT2期間内に全て書き戻すことが出来る。
If the time required for refreshing is 70 ns per time, the time required for refreshing is 0.144 ms for 70
また、リフレッシュはREF期間中の2つのバンクで同時に実行することも出来る。この場合にはT1期間に1つのバンクで実行されるリフレッシュの回数は半分の1024回になるのでT1期間を半分に短縮出来る。T1期間が短縮されればFIFOの記憶容量を減らすことが出来るほか、外部からアクセスされる間隔をより短くして高速なメモリが実現できる。 Refresh can also be performed simultaneously in two banks during the REF period. In this case, since the number of refreshes executed in one bank in the T1 period is 1024, which is half, the T1 period can be reduced to half. If the T1 period is shortened, the memory capacity of the FIFO can be reduced, and a high-speed memory can be realized by shortening the interval of external access.
図6(B)はDRAMのリフレッシュ間隔を半分にした場合について示した。一般にDRAMのリフレッシュ特性は高温時に悪化する。従って例えば75℃以上の高温時には図示したようにリフレッシュ間隔を短くすることによってデータを保持することが可能である。本実施例では温度検出回路TMPによって温度を検出し、リフレッシュカウンタとアクセス制御回路(A_CONT)によってリフレッシュ間隔を変更する。 FIG. 6B shows a case where the DRAM refresh interval is halved. In general, DRAM refresh characteristics deteriorate at high temperatures. Therefore, for example, at a high temperature of 75 ° C. or higher, data can be held by shortening the refresh interval as shown in the figure. In this embodiment, the temperature is detected by the temperature detection circuit TMP, and the refresh interval is changed by the refresh counter and the access control circuit (A_CONT).
この例では64msのリフレッシュ間隔を半分の32nsに短縮しており、一回のWORK期間とREF期間は夫々4msである。ここでも同様に、REF期間中に行われたアクセスが全てライトアクセスだとするとその最大回数は53334回(4ms/75ns)である。これをDRAMに書込むのに必要な時間は3.74ms(53334回 X 70ns)でありT2期間(3.856ms)以下であるためREF期間中に行われるライトアクセスはT1期間においてにリフレッシュを行ってもT2期間内に全て書き戻すことが出来る。 In this example, the refresh interval of 64 ms is reduced to half of 32 ns, and one WORK period and REF period are 4 ms each. Similarly, if all accesses performed during the REF period are write accesses, the maximum number is 53334 (4 ms / 75 ns). The time required to write this data to the DRAM is 3.74 ms (53334 times 70 ns), which is less than the T2 period (3.856 ms), so write access performed during the REF period can be refreshed during the T1 period. All can be written back within T2.
このようにしてDRAMのリフレッシュを隠蔽することが出来る。本実施例により汎用のDRAMを使用しながらそのリフレッシュを隠蔽して非同期SRAMと同様に扱うことが出来るため、非同期SRAMインターフェイスでアクセス出来る大容量メモリモジュールを実現することが出来る。また、高温時にもDRAMを使用する場合にも本実施例のようにリフレッシュ間隔を短縮させるだけで簡単に実現することが出来る。本実施例ではDRAMの動作単位を2バンク毎としたが、メモリモジュールやメモリチップの構成に応じて変更しても良い。また、リフレッシュ間隔である64msを8つの期間に分割してWORK期間とREF期間にしたが、さらに細かく分割すればデータとアドレスを保持するFIFOの記憶容量を少なくすることが出来る。逆に大きく分割すればWORK期間とREF期間の切り換え回数を減らせるため、切り換えに伴う制御回路が簡単に構成出来る。 In this way, DRAM refresh can be hidden. According to the present embodiment, the general-purpose DRAM can be used while concealing its refresh and handled in the same manner as the asynchronous SRAM. Therefore, a large-capacity memory module that can be accessed by the asynchronous SRAM interface can be realized. Even when the DRAM is used even at a high temperature, it can be realized simply by shortening the refresh interval as in this embodiment. In this embodiment, the operation unit of the DRAM is every two banks, but may be changed according to the configuration of the memory module or the memory chip. In addition, the refresh interval of 64 ms is divided into 8 periods to be the WORK period and the REF period. However, if the data is further divided, the storage capacity of the FIFO holding data and addresses can be reduced. On the other hand, if the number of divisions is large, the number of switching between the WORK period and the REF period can be reduced, so that the control circuit associated with the switching can be easily configured.
図7はCHIP3(DRAM)へのアクセスを説明するフローチャートである。STEP1ではアドレスが入力されて動作が開始する。STEP2ではコマンドからアクセスの種類が判定される。以降の動作はアクセスの種類によって異なる。アクセスが読み出しの場合はSTEP3に進む。STEP3ではWORK期間中のバンクからデータが読み出されて動作が終了する。アクセスが書込みの場合はSTEP4及びSTEP5に進む。STEP4ではWORK期間中のバンクに書込みが行われる。一方STEP5では書込まれるデータとアドレスがFIFOに保持される。ここでREF期間中のバンクがT1期間からT2期間へ移行したらSTEP6に進みREF期間中のバンクにFIFOに保持されていたデータの書込みを行う。 FIG. 7 is a flowchart for explaining access to CHIP3 (DRAM). In STEP1, the address is input and the operation starts. In STEP2, the type of access is determined from the command. Subsequent operations differ depending on the type of access. If the access is read, go to STEP3. In STEP3, data is read from the bank during the WORK period, and the operation ends. If the access is write, go to STEP4 and STEP5. In STEP4, writing is performed in the bank during the WORK period. On the other hand, in STEP5, the data and address to be written are held in the FIFO. Here, when the bank in the REF period shifts from the T1 period to the T2 period, the process proceeds to STEP 6 and the data held in the FIFO is written into the bank in the REF period.
この様にしてDRAMへの読み書きを行うことによって、リフレッシュの影響を排除することができるため大容量DRAMを用いて非同期SRAMインターフェイスのメモリモジュールを構成することが出来る。 Since the influence of refresh can be eliminated by reading and writing to the DRAM in this manner, a memory module of an asynchronous SRAM interface can be configured using a large capacity DRAM.
図8はCHIP3(DRAM)のREF期間中のバンクの動作を説明するフローチャートである。SETP1からSTEP3までがT1期間、STEP4からSTEP6まではT2期間である。STEP1でREF期間が開始しSTEP2で集中してリフレッシュが実行される。STEP3ではリフレッシュ回数が管理されており、決められた領域のリフレッシュが終了したらSTEP4に進み、FIFOに蓄積されたデータがバンクに書込まれる。STEP5でFIFOに保持されたデータの書込みが終了したと判断された場合はSTEP6に進みライトアクセスを受け付けることも出来る。但し、STEP4の状態のままFIFOへのデータ入力を待ってからライトアクセスを実行してもよい。
FIG. 8 is a flowchart for explaining the operation of the bank during the REF period of CHIP3 (DRAM). SETP1 to STEP3 is the T1 period, and STEP4 to STEP6 is the T2 period. The REF period starts in STEP1 and the refresh is executed intensively in STEP2. In
以上説明したようにREF期間中のバンクを動作させれば、リフレッシュ動作とライトアクセスの実行をREF期間内に両立させることができる。これによりリフレッシュの影響を排除することができるため大容量DRAMを用いて非同期SRAMインターフェイスのメモリモジュールを構成することが出来る。 As described above, if the bank in the REF period is operated, the refresh operation and the execution of the write access can be made compatible within the REF period. As a result, the influence of refresh can be eliminated, so that a memory module with an asynchronous SRAM interface can be configured using a large capacity DRAM.
図9はDRAMへのアクセスに優先順位を付けた様子を示したものである。本発明にあるDRAMの動作はREF期間中のバンクへのアクセスに優先順位を付けて実行するという考え方で説明出来る。 FIG. 9 shows a state in which priorities are assigned to access to the DRAM. The operation of the DRAM according to the present invention can be explained based on the concept that the access to the bank during the REF period is executed with priority.
図9(A)はその優先順位を模式的に表したものである。この図に示したように、WORK期間中のBANK−A0、A1では外部からのアクセス(3)だけが行われる。これはREF期間中のBANK-B0,B1に対して優先的に実行される。一方、REF期間中のBANK-B0,B1ではリフレッシュ(1)、FIFOに保持されたデータの書込み(2)、外部からのライトアクセス(3)が行われる。これらの実行にはアクセス制御回路(A_CONT)によって優先順位が付けられて上記(1)、(2)、(3)の優先順位で実行される。 FIG. 9 (A) schematically shows the priority order. As shown in this figure, only BANK-A0 and A1 during the WORK period are accessed only from the outside (3). This is preferentially executed for BANK-B0 and B1 during the REF period. On the other hand, in BANK-B0 and B1 during the REF period, refresh (1), writing of data held in the FIFO (2), and external write access (3) are performed. These executions are prioritized by the access control circuit (A_CONT) and executed with the priorities (1), (2), and (3).
図9(B)はこれらのアクセスが優先順位に従って実行される様子を示したものである。ここではBANK-A0,A1がWORK期間中になっておりBANK-B0、B1がREF期間中である。 BANK-A0,A1では外部アクセス(3)だけが実行されている。一方、 BANK-B0、B1はちょうどT1期間からT2期間へ移り変わる所で、T1期間で実行されていたリフレッシュ(1)が終了してT2期間へ移行し、FIFOで保持されていたデータの書込み(2)が実行されている。また、外部アクセスが75nsで行われるのに対して内部動作は70nsで実行されるのでFIFOで保持されていたデータの処理が外部アクセスより高速に進んでいる。 FIG. 9B shows how these accesses are executed according to priority. Here, BANK-A0 and A1 are in the WORK period, and BANK-B0 and B1 are in the REF period. In BANK-A0 and A1, only external access (3) is executed. On the other hand, BANK-B0 and B1 are just changing from the T1 period to the T2 period, the refresh (1) executed in the T1 period is completed, and then the T2 period is transferred to write the data held in the FIFO ( 2) is executed. In addition, while external access is performed in 75 ns, internal operations are performed in 70 ns, so that data processing held in the FIFO proceeds faster than external access.
以上説明したようにWORK期間中及びREF期間中のバンクを動作させれば、REF期間中のバンクにリフレッシュ動作とFIFOに保持されたデータの書込みを実行しながらWORK期間中のバンクが外部からのアクセスを実行することが出来る。この動作方法によってリフレッシュの影響を排除することができるため大容量DRAMを用いて非同期SRAMインターフェイスのメモリモジュールを構成することが出来る。 As described above, if the bank during the WORK period and the REF period is operated, the bank during the WORK period is externally connected while executing the refresh operation and the writing of the data held in the FIFO to the bank during the REF period. Access can be performed. Since the influence of refresh can be eliminated by this operation method, a memory module of an asynchronous SRAM interface can be configured using a large capacity DRAM.
図10は本実施例におけるCHIP1(FLASH)の構成例である。XアドレスバッファX-ADB, XデコーダX-DEC, メモリアレイMA, YアドレスバッファY-ADB, YデコーダY-DEC, Yゲート(カラムスイッチ)&センスアンプ回路Y-GATE/SENS AMP., 状態/ID保持レジスタSTATUS/ID REG, マルチプレクサMULTIPLEXER, データ入出力バッファI/O BUF, 書き込み及び消去の制御回路であるライトステートマシンWSM, コマンドのデコード及び実行のためのコマンドユーザインターフェイスCUIより構成されている。CHIP1の動作は従来から一般的に使用されているFLASHメモリと同様である。このCHIP1(FLASH)によって本実施例であるメモリモジュールが構成出来る。 FIG. 10 is a configuration example of CHIP1 (FLASH) in the present embodiment. X-address buffer X-ADB, X-decoder X-DEC, Memory array MA, Y-address buffer Y-ADB, Y-decoder Y-DEC, Y-gate (column switch) & sense amplifier circuit Y-GATE / SENS AMP., Status / It consists of ID holding register STATUS / ID REG, multiplexer MULTIPLEXER, data I / O buffer I / O BUF, write and erase control circuit WSM, command user interface CUI for command decoding and execution . The operation of CHIP1 is the same as that of a FLASH memory generally used conventionally. This CHIP1 (FLASH) can constitute the memory module of this embodiment.
図11は本実施例におけるSRAMの構成例を示したものである。Xデコーダ X-DEC, メモリアレイMA, YゲートY-GATE, YデコーダY-DEC, 入力データ制御回路D_CTL, 制御回路CONTROL LOGICと各信号線の入出力バッファから構成されている。このSRAMは一般的ないわゆる非同期SRAMである。このSRAMによって本実施例であるメモリモジュールが構成出来る。 FIG. 11 shows a configuration example of the SRAM in the present embodiment. It consists of an X decoder X-DEC, a memory array MA, a Y gate Y-GATE, a Y decoder Y-DEC, an input data control circuit D_CTL, a control circuit CONTROL LOGIC, and an input / output buffer for each signal line. This SRAM is a general so-called asynchronous SRAM. The memory module according to this embodiment can be configured by this SRAM.
図12は本実施例におけるDRAMの構成例を示したものである。XアドレスバッファX-ADB, リフレッシュカウンタREF. COUNTER, XデコーダX-DEC, メモリアレイMA, YアドレスバッファY-ADB, YアドレスカウンタY-AD COUNTER, YデコーダY-DEC, メモリアレイMA, センスアンプ回路&Yゲート(カラムスイッチ)SENS AMP.& I/O BUS, 入力データバッファ回路INPUT BUFFER, 出力データバッファ回路OUTPUT BUFFER, 制御回路&タイミング発生回路CONTROL LOGIC & TGで構成されている。DRAMは従来より用いられている汎用SDRAMである。特に制限されないが具体的には4個の独立動作可能なメモリバンクを含み、それらに対するアドレス入力端子及びデータ入出力端子は共通化されバンク毎に時分割で利用される。このDRAMによって本実施例であるメモリモジュールが構成出来る。 FIG. 12 shows a configuration example of the DRAM in this embodiment. X-address buffer X-ADB, refresh counter REF. COUNTER, X-decoder X-DEC, memory array MA, Y-address buffer Y-ADB, Y-address counter Y-AD COUNTER, Y-decoder Y-DEC, memory array MA, sense amplifier Circuit & Y gate (column switch) SENS AMP. & I / O BUS, input data buffer circuit INPUT BUFFER, output data buffer circuit OUTPUT BUFFER, control circuit & timing generation circuit CONTROL LOGIC & TG DRAM is a general-purpose SDRAM that has been used conventionally. Although it is not particularly limited, specifically, it includes four memory banks that can operate independently, and the address input terminals and data input / output terminals for them are shared and used in a time-sharing manner for each bank. The memory module according to this embodiment can be configured by this DRAM.
図13は本発明のメモリモジュールの動作波形の一例を示したものである。A0〜A20, S-/CE1, S-CE2, S-/LB, S-/UB, S-/OE, S-/WEはメモリモジュールへ入力される信号で、いわゆる非同期SRAMのインターフェイス信号である。データ入出力信号I/O0〜I/O15はデータの入力と出力を分けて夫々DIN、DOUTとして表した。MMU, ATD, DTDは夫々MMU回路、ATD回路、DTD回路の出力信号を表している。D-CLKはDRAMへ供給されるクロック、D-COMはDRAMへ供給されるコマンド信号の総称、 D-A0〜D-A15はDRAMのアドレス線、D-DQ0〜D-DQ15はDRAMのI/O線である。 FIG. 13 shows an example of operation waveforms of the memory module of the present invention. A0 to A20, S- / CE1, S-CE2, S- / LB, S- / UB, S- / OE, S- / WE are signals that are input to the memory module, and are so-called asynchronous SRAM interface signals. . The data input / output signals I / O0 to I / O15 are represented as DIN and DOUT by dividing the data input and output, respectively. MMU, ATD, and DTD represent output signals of the MMU circuit, ATD circuit, and DTD circuit, respectively. D-CLK is a clock supplied to DRAM, D-COM is a generic name for command signals supplied to DRAM, D-A0 to D-A15 are DRAM address lines, D-DQ0 to D-DQ15 are DRAM I / O O line.
まず、最初に行われているリードアクセスについて説明する。アドレスA0〜A20が入力されるとMMU回路は変換したアドレスを出力する。 ATD回路はアドレスA0〜A20とコマンド類(S-/CE1, S-CE2, S-/LB, S-/UB, S-/OE, S-/WE)の変化を検知し、アドレスとコマンドが確定するとパルスを出力する。このパルスをきっかけにDRAMへバンクアクティブコマンドAが発行され、DRAMはバンクアクティブ状態にされる。次に制御回路はS-/OE信号の立ち下がりをきっかけにリードコマンドRを発行する。DRAMから読み出されたデータはD-DQ0〜D-DQ15に出力され、一旦R/W BUFFERを通してからI/O0〜I/O15へ出力される。 First, read access that is performed first will be described. When the addresses A0 to A20 are input, the MMU circuit outputs the converted address. The ATD circuit detects changes in addresses A0 to A20 and commands (S- / CE1, S-CE2, S- / LB, S- / UB, S- / OE, S- / WE). When confirmed, a pulse is output. In response to this pulse, a bank active command A is issued to the DRAM, and the DRAM is brought into a bank active state. Next, the control circuit issues a read command R triggered by the falling edge of the S- / OE signal. Data read from the DRAM is output to D-DQ0 to D-DQ15, and is output to I / O0 to I / O15 once through the R / W BUFFER.
次のサイクルではライトアクセスの実行例を示した。ライトアクセスの場合もリードアクセスと同様にATD信号の立ち下がりをきっかけにバンクアクティブコマンドAが発行される。その後、DTD回路がI/O0〜I/O15とコマンド類(S-/CE1, S-CE2, S-/LB, S-/UB, S-/OE, S-/WE)の変化を検知してパルスを出力し、このパルスをきっかけにライトコマンドが実行される。書き込まれるデータはライトアクセスの終了を示すS-/WEの立ち上がりで確定するため、ライトコマンドはS-/WEが立ち上がるまで連続して発行される。これはライトサイクル開始後に書込まれるデータが変化した場合にも対応するためである。図13に示した動作例では2回のライトコマンドが連続して発行され、その後S-/WE信号の立ち上がりにしたがってライトが終了し、プリチャージコマンドが発行されている。 In the next cycle, an example of write access is shown. In the case of write access, the bank active command A is issued in response to the fall of the ATD signal as in the case of read access. After that, the DTD circuit detects changes in I / O0 to I / O15 and commands (S- / CE1, S-CE2, S- / LB, S- / UB, S- / OE, S- / WE). A pulse is output and the write command is executed in response to this pulse. Since the data to be written is determined at the rise of S- / WE indicating the end of the write access, the write command is continuously issued until S- / WE rises. This is to cope with a case where the data to be written changes after the start of the write cycle. In the operation example shown in FIG. 13, two write commands are issued in succession, and then the write is completed and a precharge command is issued in accordance with the rising edge of the S- / WE signal.
以上説明した実施例によれば、SRAMインターフェイス方式を踏襲しながら安価な汎用DRAMを用いた大容量メモリモジュールが実現出来る。本発明による制御回路(CTL_LOGIC)ではDRAMが使用されているがDRAMに必要なリフレッシュは制御回路(CTL_LOGIC)によって実行されるためSRAMと同様にリフレッシュを考慮せずに使用することが出来る。さらに、DRAMにおけるデータ保持の二重化とリフレッシュを行うタイミングを調整することによりDRAMのリフレッシュをメモリモジュール外部から隠蔽することが出来るため、本メモリモジュールにアクセスする場合にリフレッシュを考慮してタイミングを調整する必要は無い。従って従来のSRAMだけを用いたメモリモジュールと同様に使用することが出来るため、従来システムを変更せずに大容量メモリモジュールを使用することが出来る。 According to the embodiment described above, a large-capacity memory module using an inexpensive general-purpose DRAM can be realized while following the SRAM interface method. Although the DRAM is used in the control circuit (CTL_LOGIC) according to the present invention, the refresh necessary for the DRAM is executed by the control circuit (CTL_LOGIC), so that it can be used without considering the refresh like the SRAM. In addition, the DRAM refresh can be hidden from the outside of the memory module by adjusting the data retention duplex and refresh timing in the DRAM. Therefore, when accessing this memory module, adjust the timing in consideration of the refresh. There is no need. Therefore, since it can be used in the same manner as a memory module using only a conventional SRAM, a large-capacity memory module can be used without changing the conventional system.
<実施例2>
図14は本発明におけるメモリモジュールを構成するCHIP2の別の実施例を示したものである。
<Example 2>
FIG. 14 shows another embodiment of CHIP2 constituting the memory module in the present invention.
本実施例におけるCHIP2(CTL_LOGIC)は制御回路(CTL_LOGIC)から構成されており、 ATD、DTD、FIFO、R/W BUFFER、A_CONT、INT、TMP、RC、PM、CLK_GEN、COM_GENによって構成される。図2に示したCHIP2とはSRAM、アクセススイッチAS、MMUが内蔵されていない点が異なる。したがって、全てのアクセスはDRAMに対して実行される。以下でその動作を説明する。 CHIP2 (CTL_LOGIC) in the present embodiment is composed of a control circuit (CTL_LOGIC), and is composed of ATD, DTD, FIFO, R / W BUFFER, A_CONT, INT, TMP, RC, PM, CLK_GEN, and COM_GEN. It differs from CHIP2 shown in FIG. 2 in that SRAM, access switch AS, and MMU are not incorporated. Therefore, all accesses are performed on the DRAM. The operation will be described below.
アドレストランジションディテクタ回路(ATD)はアドレス信号とコマンド信号の変化を検出してパルスを出力する。データトランジションディテクタ回路(DTD)はデータ信号とコマンド信号の変化を検出してパルスを出力する。R/W BUFFERはDRAMの読み出し、書込みの為にデータを一時的に保持する。FIFOは先入れ先出しのバッファ回路でDRAMへ書込みデータとそのアドレスを一時的に保持する。INTはDRAMへの電源供給開始時にDRAMの初期化を行う。温度計測モジュール(TMP)は温度を検出し、検出した温度に応じた信号をRCとA_CONTに出力する。RCはリフレッシュカウンタで、DRAMのリフレッシュ間隔にあわせてリフレッシュを行うアドレスを生成する。また、温度計測モジュール(TMP)の出力信号によって温度に応じたリフレッシュ間隔の変更を行う。パワーモジュール(PM)はCHIP2の制御回路(CTL_LOGIC)と DRAMへの電源供給及び電源の制御を行う。クロックジェネレータ(CLK_GEN)はクロックを生成し、DRAMと制御回路(CTL_LOGIC)へ供給する。コマンドジェネレータ(COM_GEN)はDRAMへのアクセスに必要なコマンドを生成する。アクセスコントローラ(A_CONT)はCHIP2(CTL_LOGIC)全体動作の制御と、DRAMへアクセスを行うためのアドレスを発生する。 The address transition detector circuit (ATD) detects a change in the address signal and the command signal and outputs a pulse. The data transition detector circuit (DTD) detects changes in the data signal and the command signal and outputs a pulse. R / W BUFFER temporarily holds data for DRAM read / write. The FIFO is a first-in first-out buffer circuit that temporarily holds data written to the DRAM and its address. INT initializes DRAM when power supply to DRAM is started. The temperature measurement module (TMP) detects the temperature and outputs a signal corresponding to the detected temperature to RC and A_CONT. RC is a refresh counter that generates an address to be refreshed in accordance with the DRAM refresh interval. Also, the refresh interval is changed according to the temperature by the output signal of the temperature measurement module (TMP). The power module (PM) supplies power to the CHIP2 control circuit (CTL_LOGIC) and DRAM and controls power. The clock generator (CLK_GEN) generates a clock and supplies it to the DRAM and the control circuit (CTL_LOGIC). The command generator (COM_GEN) generates commands necessary for accessing DRAM. The access controller (A_CONT) controls the overall operation of CHIP2 (CTL_LOGIC) and generates an address for accessing the DRAM.
CHIP2(CTL_LOGIC)には非同期SRAM方式でインターフェイスされる。外部から非同期SRAM方式で信号が送られるとCHIP2はこれを変換してDRAMへアクセスを行う。データ入出力やリフレッシュ動作をCHIP2が制御する。 CHIP2 (CTL_LOGIC) is interfaced by asynchronous SRAM. When a signal is sent from the outside by the asynchronous SRAM method, CHIP2 converts this and accesses the DRAM. CHIP2 controls data input / output and refresh operations.
DRAMへリードアクセスを行う場合について制御回路の各ブロックの動作を以下に説明する。まず、外部から入力されたアドレスとATDで検知されたコマンドがA_CONTに送られる。A_CONTは送られたアドレスとコマンドからDRAMへのアクセスの実行を判断し、COM_GENにDRAMへのコマンド発行を指示する。また、 A_CONTは受け取ったアドレスをDRAM用に変換してDRAMへ出力する。 COM_GENはCLK_GENが生成したクロックに同期してDRAMにコマンドを発行する。コマンドとアドレスを受け取ったDRAMはデータを出力し、出力されたデータはR/W BUFFERを介してI/O0〜I/O15へ転送されてリードアクセスが終了する。 The operation of each block of the control circuit in the case of performing read access to the DRAM will be described below. First, the address input from the outside and the command detected by ATD are sent to A_CONT. A_CONT judges execution of access to DRAM from the address and command sent, and instructs COM_GEN to issue a command to DRAM. A_CONT converts the received address for DRAM and outputs it to DRAM. COM_GEN issues a command to the DRAM in synchronization with the clock generated by CLK_GEN. The DRAM receiving the command and address outputs data, and the output data is transferred to I / O0 to I / O15 via the R / W BUFFER, and the read access is completed.
DRAMへライトアクセスを行う場合は、外部から入力されたアドレスとATDで検知されたコマンド及びDTDで検知されたコマンドとデータがA_CONTに送られる。 A_CONTは送られたアドレスとコマンドからDRAMへのアクセスの実行を判断し、COM_GENにDRAMへのコマンド発行を指示する。やはり、 A_CONTは受け取ったアドレスをDRAM用に変換してDRAMへ出力する。 COM_GENはCLK_GENが生成したクロックに同期してDRAMにコマンドを発行する。書込まれるデータはI/O0〜I/O15から入力されR/W BUFFERに一旦保持された後、DRAMに送られて書込みが行われる。この他、書込みが行われたデータとアドレスはFIFOにも保持され、後でDRAMの別のバンクにも書込みが行われる。なお、メモリへのアクセス以外の動作は実施例1で説明したものと同様である。 When performing write access to DRAM, an address input from the outside, a command detected by ATD, and a command and data detected by DTD are sent to A_CONT. A_CONT judges execution of access to DRAM from the address and command sent, and instructs COM_GEN to issue a command to DRAM. Again, A_CONT converts the received address for DRAM and outputs it to DRAM. COM_GEN issues a command to the DRAM in synchronization with the clock generated by CLK_GEN. Data to be written is input from I / O0 to I / O15, temporarily held in the R / W BUFFER, and then sent to the DRAM for writing. In addition, the written data and address are also held in the FIFO, and are later written into another bank of the DRAM. The operations other than accessing the memory are the same as those described in the first embodiment.
以上説明した実施例によれば、SRAM、アクセススイッチASとMMUを内蔵せずより小さな面積でCHIP2が構成できるため、安価に大容量メモリモジュールを実現することが出来る。また、アクセススイッチASとMMUの動作を介せずDRAMへアクセスを行うことが出来るためより高速な大容量メモリモジュールが実現出来る。なお、本実施例によるその他の効果は実施例1で既に説明したものと同様である。
According to the embodiment described above, since the
<実施例3>
図15は本発明におけるメモリモジュールを構成するCHIP2及びCHIP3の第三の実施例を示したものである。本実施例におけるCHIP4(DRAM+CTL_LOGIC)は制御回路(CTL_LOGIC)とDRAMから構成されており、 制御回路を構成するATD、DTD、FIFO、R/W BUFFER、A_CONT、INT、TMP、RC、PM、CLK_GEN、COM_GENとDRAMとが1チップに集積されている。図14に示したCHIP2にDRAMを混載した構成となっている。以下でその動作を説明する。
<Example 3>
FIG. 15 shows a third embodiment of CHIP2 and CHIP3 constituting the memory module in the present invention. CHIP4 (DRAM + CTL_LOGIC) in this embodiment is composed of a control circuit (CTL_LOGIC) and DRAM, and ATD, DTD, FIFO, R / W BUFFER, A_CONT, INT, TMP, RC, PM, CLK_GEN, COM_GEN, and DRAM are integrated on one chip. The DRAM is embedded in the CHIP2 shown in FIG. The operation will be described below.
アドレストランジションディテクタ回路(ATD)はアドレス信号とコマンド信号の変化を検出してパルスを出力する。データトランジションディテクタ回路(DTD)はデータ信号とコマンド信号の変化を検出してパルスを出力する。R/W BUFFERはDRAMの読み出し、書込みの為にデータを一時的に保持する。FIFOは先入れ先出しのバッファ回路でDRAMへ書込みデータとそのアドレスを一時的に保持する。イニシャル回路(INT)はDRAMへの電源供給開始時にDRAMの初期化を行う。温度計測モジュール(TMP)は温度を検出し、検出した温度に応じた信号をリフレッシュカウンタ(RC)とアクセスコントローラ(A_CONT)に出力する。リフレッシュカウンタはDRAMのリフレッシュ間隔にあわせてリフレッシュを行うアドレスを生成する。また、温度計測モジュール(TMP)の出力信号によって温度に応じたリフレッシュ間隔の変更を行う。パワーモジュール(PM)はCHIP4の制御回路(CTL_LOGIC)と DRAMへの電源供給及び電源の制御を行う。クロックジェネレータ(CLK_GEN)はクロックを生成し、DRAMと制御回路(CTL_LOGIC)へ供給する。コマンドジェネレータ(COM_GEN)はDRAMへのアクセスに必要なコマンドを生成する。アクセスコントローラ(A_CONT)はCHIP4 (DRAM+CTL_LOGIC)全体動作の制御と、DRAMへアクセスを行うためのアドレスを発生する。CHIP4(DRAM+CTL_LOGIC)へメモリアクセスを行うにはいわゆる非同期SRAM方式でインターフェイスする。外部から非同期SRAM方式で信号が送られると制御回路はこれを変換してDRAMへアクセスを行う。 The address transition detector circuit (ATD) detects a change in the address signal and the command signal and outputs a pulse. The data transition detector circuit (DTD) detects changes in the data signal and the command signal and outputs a pulse. R / W BUFFER temporarily holds data for DRAM read / write. The FIFO is a first-in first-out buffer circuit that temporarily holds data written to the DRAM and its address. The initial circuit (INT) initializes the DRAM when power supply to the DRAM is started. The temperature measurement module (TMP) detects the temperature and outputs a signal corresponding to the detected temperature to the refresh counter (RC) and the access controller (A_CONT). The refresh counter generates an address for refreshing in accordance with the DRAM refresh interval. Also, the refresh interval is changed according to the temperature by the output signal of the temperature measurement module (TMP). The power module (PM) supplies power to the control circuit (CTL_LOGIC) of the CHIP4 and DRAM and controls the power. The clock generator (CLK_GEN) generates a clock and supplies it to the DRAM and the control circuit (CTL_LOGIC). The command generator (COM_GEN) generates commands necessary for accessing DRAM. The access controller (A_CONT) controls the overall operation of CHIP4 (DRAM + CTL_LOGIC) and generates an address for accessing the DRAM. To perform memory access to CHIP4 (DRAM + CTL_LOGIC), an interface is used in the so-called asynchronous SRAM method. When a signal is sent from the outside by the asynchronous SRAM method, the control circuit converts this and accesses the DRAM.
DRAMへリードアクセスを行う場合について制御回路の各ブロックの動作を以下に説明する。まず、外部から入力されたアドレスがA_CONTに送られる。アドレスの変化とコマンド信号がATDで検知され、ATDはパルスをA_CONTへ出力する。A_CONTは送られたアドレスとコマンドからDRAMへのアクセスの実行を判断し、COM_GENにDRAMへのコマンド発行を指示する。また、A_CONTは受け取ったアドレスをDRAM用に変換してDRAMへ出力する。COM_GENはCLK_GENが生成したクロックに同期してDRAMにコマンドを発行する。コマンドとアドレスを受け取ったDRAMはデータを出力し、出力されたデータはR/W BUFFERを介してI/O0〜I/O15へ転送されてリードアクセスが終了する。 The operation of each block of the control circuit in the case of performing read access to the DRAM will be described below. First, an address input from the outside is sent to A_CONT. The address change and command signal are detected by ATD, and ATD outputs a pulse to A_CONT. A_CONT judges execution of access to DRAM from the address and command sent, and instructs COM_GEN to issue a command to DRAM. A_CONT converts the received address for DRAM and outputs it to DRAM. COM_GEN issues a command to the DRAM in synchronization with the clock generated by CLK_GEN. The DRAM receiving the command and address outputs data, and the output data is transferred to I / O0 to I / O15 via the R / W BUFFER, and the read access is completed.
次にDRAMへライトアクセスを行う場合について説明する。外部から入力されたアドレスとATDで検知されたコマンド及びDTDで検知されたコマンドとデータがA_CONTに送られる。 A_CONTは送られたアドレスとコマンドからDRAMへのアクセスの実行を判断し、COM_GENにDRAMへのコマンド発行を指示する。また、 A_CONTは受け取ったアドレスをDRAM用に変換してDRAMへ出力する。 COM_GENはCLK_GENが生成したクロックに同期してDRAMにコマンドを発行する。書込まれるデータはI/O0〜I/O15から入力されR/W BUFFERに一旦保持された後、DRAMに送られて書込みが行われる。この他、このように書込みが行われたデータとアドレスはFIFOにも保持され、後でDRAMの別のバンクにも書込みが行われる。 Next, a case where write access to the DRAM is performed will be described. The address input from the outside, the command detected by ATD, and the command and data detected by DTD are sent to A_CONT. A_CONT judges execution of access to DRAM from the address and command sent, and instructs COM_GEN to issue a command to DRAM. A_CONT converts the received address for DRAM and outputs it to DRAM. COM_GEN issues a command to the DRAM in synchronization with the clock generated by CLK_GEN. Data to be written is input from I / O0 to I / O15, temporarily held in the R / W BUFFER, and then sent to the DRAM for writing. In addition, the data and address written in this way are also held in the FIFO, and are also written into another bank of the DRAM later.
DRAMへ供給される電源はパワーモジュール(PM)によって制御される。メモリモジュールが実装された機器は動作状態に応じて消費電流を削減したい場合がある。そのような場合にはパワーモジュールはコマンド信号PSに従ってリフレッシュカウンタが行うリフレッシュを停止させてDRAMのリフレッシュに必要な電力を削減することが出来る。 The power supplied to the DRAM is controlled by a power module (PM). In some cases, a device in which a memory module is mounted may want to reduce current consumption according to the operating state. In such a case, the power module can stop the refresh performed by the refresh counter in accordance with the command signal PS to reduce the power required for refreshing the DRAM.
さらに消費電力を削減したい場合にはCHIP4内部においてDRAMへ供給する電源を切断すればよい。この場合にはパワーモジュールは機器が出力するコマンド信号PSにしたがってDRAMへ供給されるD-VCCへの電力供給を停止する。 In order to further reduce the power consumption, the power supplied to the DRAM inside the CHIP4 may be cut off. In this case, the power module stops power supply to the D-VCC supplied to the DRAM according to the command signal PS output from the device.
この上、一段と消費電力を削減したい場合はパワーモジュールがコマンド信号PSにしたがってCHIP4(DRAM+CTL_LOGIC)のうちDRAMへのメモリアクセスに関与する部分への電源供給を停止すれば良い。この状態では例えば、CHIP4(DRAM+CTL_LOGIC)のうちATDだけに電源を接続して待機状態とすることが可能である。なお、これ以外の動作は実施例1で説明したものと同様である。 In addition, if it is desired to further reduce power consumption, the power module may stop supplying power to the portion of CHIP4 (DRAM + CTL_LOGIC) involved in memory access to the DRAM according to the command signal PS. In this state, for example, a power supply can be connected to only ATD in CHIP4 (DRAM + CTL_LOGIC) to enter a standby state. Other operations are the same as those described in the first embodiment.
以上説明した実施例によれば、SRAMインターフェイス方式を踏襲しながらDRAMを用いた大容量メモリモジュールが実現出来る。本発明による効果は既に実施例1で説明したものに加えて次のようなものがある。 According to the embodiment described above, a large-capacity memory module using DRAM can be realized while following the SRAM interface method. The effects of the present invention include the following in addition to those already described in the first embodiment.
本実施例によれば、メモリモジュールの部品点数を削減してモジュールの組立工程を簡略化しコストを低減することが出来る。さらに、本実施例はメモリモジュールとして用いる他に、単体で大容量SRAMとして使用することも出来る。SRAMインターフェイス方式を踏襲しながら安価なDRAMを用いることによってより小さな面積で大容量SRAM互換チップが実現出来る。 According to the present embodiment, it is possible to reduce the number of parts of the memory module, simplify the module assembly process, and reduce the cost. Furthermore, in addition to being used as a memory module, this embodiment can be used alone as a large capacity SRAM. By using inexpensive DRAM while following the SRAM interface method, a large capacity SRAM compatible chip can be realized in a smaller area.
<実施例4>
図16は本発明におけるメモリモジュールの第四の実施例を示したものである。図16(A)には上面図、図16(B)には断面図を示した。本メモリモジュールはボールグリッドアレイ(BGA)によって装置に実装する基盤(例えばガラスエポキシ基板でできたプリント回路ボードPCB)上にCHIP1(FLASH)とCHIP3(DRAM)が搭載されている。とくに制限されないが、CHIP3にはいわゆるチップの中央に信号及び電源パッド列が1列に並ぶ汎用DRAMのベアチップが使用されている。CHIP1(FLASH)の上面にはさらに CHIP2 (SRAM+CTL_LOGIC)が搭載されている。CHIP1と基盤上のボンディングパットはボンディングワイヤ(PATH1)で接続され、CHIP2と基盤上のボンディングパットはボンディングワイヤ(PATH2)で接続されている。CHIP3は基盤上のボンディングパッドとボンディングワイヤ(PATH3)で接続される他、CHIP2とボンディングワイヤ(PATH4)でも接続される。チップの搭載された基盤上面は封止物となるレジン樹脂によりモールドが行われて各チップと接続配線を保護する。なお、さらにその上から金属、セラミック、あるいは樹脂のカバー(COVER)を使用しても良い。
<Example 4>
FIG. 16 shows a fourth embodiment of the memory module according to the present invention. FIG. 16A shows a top view and FIG. 16B shows a cross-sectional view. In this memory module, CHIP1 (FLASH) and CHIP3 (DRAM) are mounted on a board (for example, a printed circuit board PCB made of a glass epoxy board) mounted on a device by a ball grid array (BGA). Although not particularly limited, the CHIP3 uses a general-purpose DRAM bare chip in which signal and power supply pad rows are arranged in a row at the center of a so-called chip. CHIP2 (SRAM + CTL_LOGIC) is further mounted on the upper surface of CHIP1 (FLASH). CHIP1 and the bonding pad on the substrate are connected by a bonding wire (PATH1), and CHIP2 and the bonding pad on the substrate are connected by a bonding wire (PATH2). CHIP3 is connected to the bonding pad on the substrate by a bonding wire (PATH3), and is also connected to CHIP2 by a bonding wire (PATH4). The upper surface of the substrate on which the chip is mounted is molded with a resin resin as a sealing material to protect each chip and connection wiring. Further, a metal, ceramic, or resin cover (COVER) may be used from above.
本発明による実施例ではCHIP1上にCHIP2を搭載することができるため実装面積の小さなメモリモジュールを構成することが出来る。また、各チップを近接して配置することが出来るため、チップ間配線長を短くすることが出来る。チップ間の配線及び各チップと基盤間の配線をボンディングワイヤ方式で統一することによって少ない工程数でメモリモジュールを製造することが出来る。さらにチップ間をボンディングワイヤで直接配線することによって基盤上のボンディングパット数とボンディングワイヤの本数を削減して少ない工程数でメモリモジュールを製造することが出来る。大量に量産される汎用DRAMのベアチップを用いることができるため、メモリモジュールを安価に安定供給することが出来る。樹脂のカバーを使用した場合にはより強靭なメモリモジュールを構成することが出来る。セラミックや金属のカバーを使用した場合には強度のほか、放熱性やシールド効果に優れたメモリモジュールを構成することが出来る。 In the embodiment according to the present invention, since CHIP2 can be mounted on CHIP1, a memory module having a small mounting area can be configured. Further, since the chips can be arranged close to each other, the interchip wiring length can be shortened. By unifying the wiring between chips and the wiring between each chip and the substrate by a bonding wire system, a memory module can be manufactured with a small number of processes. Further, by directly connecting the chips with bonding wires, the number of bonding pads and bonding wires on the substrate can be reduced, and the memory module can be manufactured with a small number of processes. Since a general-purpose DRAM bare chip mass-produced in large quantities can be used, a memory module can be stably supplied at low cost. When a resin cover is used, a stronger memory module can be configured. When a ceramic or metal cover is used, a memory module excellent in heat dissipation and shielding effect can be configured in addition to strength.
図17は本発明におけるメモリモジュールの図16の変形例である。図17(A)には上面図、図17(B)には断面図を示した。この例ではCHIP3 (DRAM)の基盤への実装及び配線にボールグリッドアレイ(BGA)が用いられている。この半導体チップの回路形成面を下にして半田バンプに代表される金属バンプを介して接続する方法はフェースダウンとも呼ばれる。この実装方法によってCHIP3と基盤間及びCHIP2とのボンディングが不要となりボンディング配線の本数を削減することが出来るため組立工数を削減出来る上、より信頼性の高いメモリモジュールが実現できる。 FIG. 17 is a modification of the memory module of FIG. 16 according to the present invention. FIG. 17A shows a top view and FIG. 17B shows a cross-sectional view. In this example, a ball grid array (BGA) is used for mounting and wiring on the base of CHIP3 (DRAM). This method of connecting the semiconductor chip with the circuit formation surface down through metal bumps typified by solder bumps is also called face down. This mounting method eliminates the need for bonding between CHIP3 and the substrate and between CHIP2 and reduces the number of bonding wires, thereby reducing the number of assembly steps and realizing a more reliable memory module.
図18は本発明におけるメモリモジュールの図16の変形例である。図18(A)には上面図、図18(B)には断面図を示した。この例ではCHIP1 (FLASH)の基盤への実装及び配線にボールグリッドアレイ(BGA)が用いられている。さらにCHIP1上に搭載されたCHIP2と基盤間の配線にはPATH5が用いられ、CHIP2とCHIP3との配線にはPATH6が用いられている。この実装方法によってCHIP1と基盤間のボンディングが不要となり配線本数を削減することが出来るため組立工数を削減出来る上、より信頼性の高いメモリモジュールが実現できる。また、CHIP1から基盤への配線が無いため高低差の大きなCHIP2から基盤への配線PATH5を低い配線密度で容易に行うことが出来る。PATH6も同様に配線の密度が下がる他、CHIP3の上面への配線のため高低差が緩和され、ボンディングを容易に行うことが出来る。 FIG. 18 shows a modification of the memory module in FIG. 16 according to the present invention. 18A shows a top view and FIG. 18B shows a cross-sectional view. In this example, a ball grid array (BGA) is used for mounting and wiring on the base of CHIP1 (FLASH). Furthermore, PATH5 is used for wiring between CHIP2 mounted on CHIP1 and the board, and PATH6 is used for wiring between CHIP2 and CHIP3. This mounting method eliminates the need for bonding between CHIP1 and the substrate and reduces the number of wirings, thereby reducing the number of assembly steps and realizing a more reliable memory module. In addition, since there is no wiring from CHIP1 to the board, wiring PATH5 from CHIP2 to the board with a large height difference can be easily performed with a low wiring density. Similarly, PATH6 has a lower wiring density, and the height difference is alleviated because of the wiring to the upper surface of CHIP3, so that bonding can be performed easily.
図19は本発明におけるメモリモジュールの図16変形例である。図19(A)には上面図、図19(B)には断面図を示した。この例ではCHIP1とCHIP3の基盤への実装にボールグリッドアレイが用いられている。ボンディング配線はCHIP2と基盤間だけ行えば良いので配線本数を削減することにより信頼性の高いメモリモジュールが実現できる。また、CHIP1から基盤への配線が無いためCHIP2への配線であるPATH5は配線の密度を下げることが可能となりボンディング工程を容易化することが出来る。 FIG. 19 shows a modification of the memory module in FIG. 16 according to the present invention. FIG. 19A shows a top view and FIG. 19B shows a cross-sectional view. In this example, a ball grid array is used to mount CHIP1 and CHIP3 on the base. Since bonding wiring only needs to be performed between CHIP2 and the substrate, a highly reliable memory module can be realized by reducing the number of wirings. Also, since there is no wiring from CHIP1 to the substrate, PATH5, which is the wiring from CHIP2, can reduce the wiring density and facilitate the bonding process.
図20は本発明におけるメモリモジュールの図16の変形例である。図20(A)には上面図、図20(B)には断面図を示した。この例ではボールグリッドアレイで基盤に実装されたCHIP3の上にCHIP1が搭載され、さらにその上にCHIP2が搭載されている。最上位に搭載されたCHIP2とCHIP1との配線はPATH7によって行われる。またCHIP2と基盤との配線にはPATH8が用いられる。この実装方法によって3チップを積層することが出来るため、メモリモジュールの実装面積を小さくすることが出来る。CHIP2と基盤間の接続は配線PATH8を用いるほかに配線PATH5と配線PATH7を用いて信号を中継して接続することも出来る。中継して配線する方法を特にCHIP1とCHIP2に共通に使用される信号の配線に用いた場合には配線本数が削減できるためボンディング工程を簡略化できる。 FIG. 20 shows a modification of the memory module in FIG. 16 according to the present invention. 20A shows a top view and FIG. 20B shows a cross-sectional view. In this example, CHIP1 is mounted on CHIP3 mounted on the base with a ball grid array, and further CHIP2 is mounted thereon. The wiring between CHIP2 and CHIP1 mounted on the top is performed by PATH7. PATH8 is used for wiring between CHIP2 and the board. Since three chips can be stacked by this mounting method, the mounting area of the memory module can be reduced. The connection between CHIP2 and the board can be connected by relaying signals using wiring PATH5 and wiring PATH7 in addition to wiring PATH8. In particular, when the method of relaying and wiring is used for signal wiring commonly used for CHIP1 and CHIP2, the number of wirings can be reduced, so that the bonding process can be simplified.
図21は本発明におけるメモリモジュールの図16の変形例である。図21(A)には上面図、図21(B)には断面図を示した。この例ではCHIP3がボールグリッドアレイによって基盤上に搭載されて、さらにその上にCHIP1とCHIP2が搭載されている。CHIP1とCHIP2の間の配線にはPATH9が用いられている。また、CHIP1及びCHIP2上にあってモジュールの中心側に配置されたボンディングパットから基盤への配線にはPATH10が用いられている。 FIG. 21 is a modification of the memory module of FIG. 16 according to the present invention. FIG. 21A shows a top view and FIG. 21B shows a cross-sectional view. In this example, CHIP3 is mounted on the base by a ball grid array, and further CHIP1 and CHIP2 are mounted thereon. PATH9 is used for wiring between CHIP1 and CHIP2. Further, PATH10 is used for wiring from a bonding pad placed on the center side of the module on CHIP1 and CHIP2 to the board.
本実装方法は特にCHIP3の面積が大きい場合にはモジュールの実装面積を小さくする上で有効である。CHIP3をBGAで接続しているためボンディングによる配線の密度を下げられるため配線工程を簡易にすることが出来る。また、同じCHIP3上に搭載されたCHIP1とCHIP2はボンディングパットの高さをそろえやすく、CHIP1とCHIP2の間の配線PATH9は簡易に行えるため配線工程を簡易に行うことが出来る。配線PATH10によってCHIP1及びCHIP2上でモジュールの中心側に配置された配線パットと基盤間の配線を行うことが出来る。また、CHIP3の同一面上にCHIP1とCHIP2を配置することによってモジュールの高さが均一になるためより強固な封止体とすることが出来る。 This mounting method is effective in reducing the mounting area of the module, particularly when the area of CHIP3 is large. Since CHIP3 is connected by BGA, the wiring density can be reduced by bonding, so the wiring process can be simplified. Further, CHIP1 and CHIP2 mounted on the same CHIP3 can easily align the height of the bonding pads, and the wiring PATH9 between CHIP1 and CHIP2 can be easily performed, so that the wiring process can be performed easily. Wiring PATH10 enables wiring between the wiring pads arranged on the center side of the module on CHIP1 and CHIP2 and the board. Further, by arranging CHIP1 and CHIP2 on the same surface of CHIP3, the height of the module becomes uniform, so that a stronger sealing body can be obtained.
図22は本発明におけるメモリモジュールの図16の変形例である。図22(A)には上面図、図22(B)には断面図を示した。この例ではCHIP1がボールグリッドアレイによって基盤上に搭載されて、さらにその上にCHIP2とCHIP3が搭載されている。配線PATH11によってLOC形式のCHIP3とCHIP2の間の配線を行うことが出来る。本実装方法は特にCHIP1の面積が大きい場合にモジュールの実装面積を小さくする上で有効である。CHIP1をBGAで接続しているためボンディングによる配線の密度を下げられるため配線工程を簡易にすることが出来る。また、同じCHIP1上に搭載されたCHIP3とCHIP2はボンディングパットの高さをそろえやすく、LOC形式のCHIP3とCHIP2の間の配線PATH11は簡易に行える。配線PATH11によってCHIP2上でモジュールの中心側に配置された配線パットとCHIP3の間の配線を行うことが出来る。また、CHIP3の同一面上にCHIP1とCHIP2を配置することによってモジュールの高さが均一になるためより強固な封止体とすることが出来る。 FIG. 22 shows a modification of the memory module in FIG. 16 according to the present invention. 22A shows a top view, and FIG. 22B shows a cross-sectional view. In this example, CHIP1 is mounted on the base by a ball grid array, and further CHIP2 and CHIP3 are mounted thereon. Wiring between LOC-format CHIP3 and CHIP2 can be performed by wiring PATH11. This mounting method is particularly effective in reducing the module mounting area when the area of CHIP1 is large. Since CHIP1 is connected by BGA, the wiring density can be reduced by bonding, so the wiring process can be simplified. Further, CHIP3 and CHIP2 mounted on the same CHIP1 can easily align the height of the bonding pad, and the wiring PATH11 between the LOC-type CHIP3 and CHIP2 can be easily performed. Wiring between the wiring pad arranged on the center side of the module on CHIP2 and CHIP3 can be performed by wiring PATH11. Further, by arranging CHIP1 and CHIP2 on the same surface of CHIP3, the height of the module becomes uniform, so that a stronger sealing body can be obtained.
図23は本発明におけるメモリモジュールの第四の実施例を示したものである。図23(A)には上面図、図23(B)には断面図を示した。この例ではまずCHIP1が基盤上に搭載されて、さらにその上にCHIP2とCHIP3が搭載されている。配線PATH12によってCHIP1とCHIP2の間の配線を行うことが出来る。 FIG. 23 shows a fourth embodiment of the memory module according to the present invention. FIG. 23A shows a top view and FIG. 23B shows a cross-sectional view. In this example, CHIP1 is first mounted on the board, and further CHIP2 and CHIP3 are mounted on it. Wiring between CHIP1 and CHIP2 can be performed by wiring PATH12.
本実装方法は特にCHIP1の面積が大きい場合にモジュールの実装面積を小さくする上で有効である。 配線はすべてボンディングに統一されており、基盤の製作工程が簡易になる。また、同じCHIP1上に搭載されたCHIP3とCHIP2はボンディングパットの高さをそろえやすく、CHIP3とCHIP2の間の配線は簡易に行える。配線PATH12によってCHIP1とCHIP2の間の配線を行うことが出来る。特にCHIP1とCHIP2に共通に使用される信号の配線に用いた場合にはそれぞれの配線を基盤から接続する場合に比べて配線本数が削減できるためボンディング工程を簡略化できる。また、CHIP3の同一面上にCHIP1とCHIP2を配置することによってモジュールの高さが均一になるためより強固な封止体とすることが出来る。 This mounting method is particularly effective in reducing the module mounting area when the area of CHIP1 is large. All wiring is standardized for bonding, which simplifies the board manufacturing process. In addition, CHIP3 and CHIP2 mounted on the same CHIP1 are easy to align the height of the bonding pad, and wiring between CHIP3 and CHIP2 can be performed easily. Wiring between CHIP1 and CHIP2 can be performed by wiring PATH12. In particular, when used for signal wiring commonly used for CHIP1 and CHIP2, the number of wirings can be reduced as compared with the case where each wiring is connected from the substrate, thereby simplifying the bonding process. Further, by arranging CHIP1 and CHIP2 on the same surface of CHIP3, the height of the module becomes uniform, so that a stronger sealing body can be obtained.
CHIP1…不揮発性メモリ
CHIP2…制御回路(CTL_LOGIC)またはスタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)と制御回路(CTL_LOGIC)が集積された半導体チップ
CHIP3…ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)
CHIP4…ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)と制御回路(CTL_LOGIC)が集積された半導体チップ
A0〜A20…アドレス信号
S-/CE1…CHIP2のチップイネーブル信号
S-CE2…CHIP2のチップイネーブル信号
S-/E…CHIP2のアウトプットイネーブル信号
S-/WE…CHIP2のライトイネーブル信号
S-/LB…CHIP2のロアーバイト選択信号
S-/UB…CHIP2のアッパーバイト選択信号
F-/WE…CHIP1のライトイネーブル信号
F-/RP…CHIP1リセット/ディープパワーダウン信号
F-/WP…CHIP1ライトプロテクト信号
F-RDY/BUSY…CHIP1レディ/ビジィアウトプット信号
F-/CE…CHIP1チップイネーブル信号
F-/OE…CHIP1アウトプットイネーブル信号
F-VCC…CHIP1の電源
F-VSS…CHIP1グラウンド
S-VCC…CHIP2の電源
S-VSS…CHIP2のグラウンド
L-VCC…CHIP2の電源
L-VSS…CHIP2グラウンド
PS…パワー制御信号
I/O0〜I/O15…データ入出力
D-CLK…CHIP3のクロック
D-A0〜D-A13…CHIP3のアドレス信号
D-CKE…CHIP3のクロックイネーブル信号
D-/CS…CHIP3のチップセレクト信号
D-/RAS…CHIP3のロウアドレスストローブ信号
D-/CAS…CHIP3のカラムアドレスストローブ信号
D-/WE…CHIP3のライトイネーブル信号
D-DQMU/DQML…CHIP3のインプット/アウトプットマスク信号
D-DQ0〜D-DQ15…CHIP3のデータ入出力
D-VCC…CHIP3の電源
D-VSS…CHIP3のグラウンド
D-VCCQ…CHIP3のI/O用電源
D-VSSQ…CHIP3のI/O用グラウンド
AS…アクセススイッチ回路
SRAM…スタティックランダムアクセスメモリ
ATD…アドレストランジションディテクタ
DTD…データトランジションディテクタ
MMU…メモリマネージメントユニット
FIFO…ファーストインファーストアウト(メモリ)
R/W BUFFER リード/ライトバッファ
INT…初期化回路、 TMP…温度測定モジュール
RC…リフレッシュカウンタ
PM…パワーマネージメントモジュール
A_CONTアクセスコントローラ
CLK_GEN…クロックジェネレータ
COM_GEN…コマンドジェネレータ
S-CS…SRAM用チップセレクト信号の総称
F-CS…不揮発メモリ用チップセレクト信号の総称
SHADOW…シャドウ領域
/ΦA0…ATD回路によるアドレス変化検出信号
/ΦAN ATD回路によるアドレス変化検出信号
/ΦATD…ATD回路出力信号
D1…ディレイエレメント
D2…ディレイエレメント
WORK…ワーク期間
REF…リフレッシュ期間
PCB…プリント回路基板
COVER…モジュールの封止カバー
PATH1…PCBとCHIP1を接続するボンディング配線
PATH2…PCBとCHIP1上に搭載されたCHIP2とを接続するボンディング配線
PATH3…PCBとCHIP3を接続するボンディング配線
PATH4…CHIP3とCHIP1上に搭載されたCHIP2とを接続するボンディング配線
PATH5…PCBとBGAによって配置されたCHIP1上に搭載されたCHIP2とを接続するボンディング配線
PATH6…CHIP3とBGAによって配置されたCHIP1上に搭載されたCHIP2とを接続するボンディング配線
PATH7…BGAによって配置されたCHIP3上に搭載されたCHIP1とさらにその上に搭載されたCHIP2とを接続するボンディング配線
PATH8…BGAによって配置されたCHIP3上に搭載されたCHIP1の上に搭載されたCHIP2とPCBとを接続するボンディング配線
PATH9…BGAによって配置されたCHIP3上に搭載されたCHIP1と同じくCHIP2とを接続するボンディング配線
PATH10…BGAによって配置されたCHIP3上に搭載されたCHIP2において、モジュールの中心側に配置されたボンディングパットとPCBとを接続するボンディング配線
PATH11…BGAによって配置されたCHIP1上に搭載されたCHIP2と同じくCHIP3とを接続するボンディング配線でCHIP3がLOC形式のボンディングパット配置のもの
PATH12…CHIP1とCHIP1上に搭載されたCHIP2を接続するボンディング配線
CHIP1… Non-volatile memory
CHIP2 ... Semiconductor chip with integrated control circuit (CTL_LOGIC) or static random access memory (SRAM) and control circuit (CTL_LOGIC)
CHIP3… Dynamic random access memory (DRAM)
CHIP4: A semiconductor chip with integrated dynamic random access memory (DRAM) and control circuit (CTL_LOGIC)
A0 to A20 ... Address signal
S- / CE1 ... CHIP2 chip enable signal
S-CE2 ... CHIP2 chip enable signal
S- / E ... CHIP2 output enable signal
S- / WE ... CHIP2 write enable signal
S- / LB ... CHIP2 lower byte selection signal
S- / UB ... CHIP2 upper byte selection signal
F- / WE ... CHIP1 write enable signal
F- / RP ... CHIP1 reset / deep power down signal
F- / WP ... CHIP1 write protect signal
F-RDY / BUSY… CHIP1 ready / busy output signal
F- / CE ... CHIP1 chip enable signal
F- / OE ... CHIP1 output enable signal
F-VCC ... CHIP1 power supply
F-VSS ... CHIP1 ground
S-VCC ... CHIP2 power supply
S-VSS ... CHIP2 ground
L-VCC ... CHIP2 power supply
L-VSS ... CHIP2 ground
PS ... Power control signal
I / O0 to I / O15: Data input / output
D-CLK ... CHIP3 clock
D-A0 to D-A13… CHIP3 address signal
D-CKE ... CHIP3 clock enable signal
D- / CS ... CHIP3 chip select signal
D- / RAS ... CHIP3 row address strobe signal
D- / CAS ... CHIP3 column address strobe signal
D- / WE ... CHIP3 write enable signal
D-DQMU / DQML ... CHIP3 input / output mask signal
D-DQ0 to D-DQ15 ... CHIP3 data input / output
D-VCC ... CHIP3 power supply
D-VSS ... CHIP3 ground
D-VCCQ ... CHIP3 I / O power supply
D-VSSQ ... CHIP3 I / O ground
AS ... Access switch circuit
SRAM ... Static random access memory
ATD… Ad Restaurant Detection Detector
DTD ... Data transition detector
MMU… Memory management unit
FIFO ... First in first out (memory)
R / W BUFFER Read / write buffer
INT ... Initialization circuit, TMP ... Temperature measurement module
RC ... Refresh counter
PM ... Power management module
A_CONT access controller
CLK_GEN: Clock generator
COM_GEN ... Command generator
S-CS: A collective term for SRAM chip select signals
F-CS: Generic term for chip select signals for nonvolatile memory
SHADOW ... Shadow area
/ ΦA0… Address change detection signal by ATD circuit
/ ΦAN ATD circuit address change detection signal
/ΦATD...ATD circuit output signal
D1 Delay element
D2 Delay element
WORK ... work period
REF ... Refresh period
PCB: Printed circuit board
COVER… Module sealing cover
PATH1: Bonding wiring connecting PCB and CHIP1
PATH2: Bonding wiring that connects PCB and CHIP2 mounted on CHIP1
PATH3: Bonding wiring connecting PCB and CHIP3
PATH4: Bonding wiring that connects CHIP3 and CHIP2 mounted on CHIP1
PATH5: Bonding wiring that connects PCB and CHIP2 mounted on CHIP1 arranged by BGA
PATH6: Bonding wiring that connects CHIP3 and CHIP2 mounted on CHIP1 arranged by BGA
PATH7: Bonding wiring that connects CHIP1 mounted on CHIP3 placed by BGA and CHIP2 mounted on it
PATH8: Bonding wiring that connects PCB and CHIP2 mounted on CHIP1 mounted on CHIP3 placed by BGA
PATH9: Bonding wiring that connects CHIP1 to CHIP1 mounted on CHIP3 placed by BGA
PATH10: Bonding wiring that connects the bonding pad placed on the center side of the module and PCB in CHIP2 mounted on CHIP3 placed by BGA
PATH11: Bonding wiring that connects CHIP3 to CHIP2 mounted on CHIP1 placed by BGA, with CHIP3 being a LOC-type bonding pad layout
PATH12: Bonding wiring that connects CHIP1 and CHIP2 mounted on CHIP1
Claims (1)
スタティック・ランダム・アクセスメモリが形成された第2半導体チップと、A second semiconductor chip on which a static random access memory is formed;
複数のメモリバンクを有し、クロックに同期したコマンドにより読出し/書込みを行うダイナミック・ランダムアクセス・メモリを含む第3半導体チップと、A third semiconductor chip including a dynamic random access memory having a plurality of memory banks and performing read / write by a command synchronized with a clock;
前記第1から第3半導体チップとが内部に含まれる封止体とを有し、A sealing body in which the first to third semiconductor chips are included;
前記封止体は、前記第1から第3半導体チップと電気的接続をするための複数の第1電極と、前記複数の第1電極に接続され前記封止体の外部に対して電気的接続をするための複数の第2電極とを有し、The sealing body includes a plurality of first electrodes for electrical connection with the first to third semiconductor chips, and an electrical connection to the outside of the sealing body connected to the plurality of first electrodes. A plurality of second electrodes for performing
前記複数の第2電極は、前記フラッシュメモリと前記スタティック・ランダム・アクセスメモリに対して共通に設けられた複数のアドレス信号端子と、前記フラッシュメモリのアクセス制御のための複数の第1制御信号端子と、前記スタティック・ランダム・アクセスメモリのアクセス制御のための複数の第2制御信号端子と、前記第1から第3半導体チップに対する複数の電源端子とを含み、The plurality of second electrodes include a plurality of address signal terminals provided in common to the flash memory and the static random access memory, and a plurality of first control signal terminals for access control of the flash memory. A plurality of second control signal terminals for access control of the static random access memory, and a plurality of power supply terminals for the first to third semiconductor chips,
前記第3半導体チップは、前記ダイナミック・ランダムアクセス・メモリに対して設けられた、コマンド信号入力のための第1ノード、アドレス信号入力のための第2ノード、及びデータ入出力のための第3ノードとを有し、The third semiconductor chip includes a first node for inputting a command signal, a second node for inputting an address signal, and a third node for inputting / outputting data, which are provided for the dynamic random access memory. Nodes, and
前記第2半導体チップは、前記メモリに対するコマンド信号を出力するための第4ノードと、前記メモリに対するアドレスを出力するための第5ノードと、第6ノードとを含むメモリコントローラを更に有し、The second semiconductor chip further includes a memory controller including a fourth node for outputting a command signal for the memory, a fifth node for outputting an address for the memory, and a sixth node,
前記第1から第3ノードと前記第4から第6ノードとは前記第1主面上の前記複数の第1電極の所定のものを介して接続されることを特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein the first to third nodes and the fourth to sixth nodes are connected via a predetermined one of the plurality of first electrodes on the first main surface.
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