JP4568017B2 - Method for producing silicon-containing polymer and silicon-containing polymer - Google Patents

Method for producing silicon-containing polymer and silicon-containing polymer Download PDF

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Description

本発明は、ケイ素含有重合体の製造方法およびケイ素含有重合体に関する。   The present invention relates to a method for producing a silicon-containing polymer and a silicon-containing polymer.

ビニルトリアルコキシシランのようにビニル基が直接結合したケイ素原子を含む単量体の重合体は、該重合体に含まれるアルコキシシリル基を活用して架橋構造を導入できる。そのような架橋構造によって重合体の主鎖の運動性を強く拘束できるため、耐熱性や硬度などの高い材料が得られることが期待される。そのため、ビニル基が直接結合したケイ素原子を含む単量体を用いた重合体については、従来から検討されている。   A polymer of a monomer containing a silicon atom to which a vinyl group is directly bonded, such as vinyltrialkoxysilane, can introduce a crosslinked structure by utilizing an alkoxysilyl group contained in the polymer. Such a crosslinked structure can strongly restrain the mobility of the main chain of the polymer, so that it is expected that a material having high heat resistance and hardness can be obtained. Therefore, a polymer using a monomer containing a silicon atom to which a vinyl group is directly bonded has been studied conventionally.

たとえば、過酸化ジ−t−ブチルを重合開始剤として、150℃の温度でビニルトリメトキシシランをラジカル塊状重合する方法が開示されている(非特許文献1)。この文献には、97%以上の収率で数平均分子量4000の重合体が得られたことが報告されている。   For example, a method of radical bulk polymerization of vinyltrimethoxysilane at a temperature of 150 ° C. using di-t-butyl peroxide as a polymerization initiator is disclosed (Non-patent Document 1). This document reports that a polymer having a number average molecular weight of 4000 was obtained in a yield of 97% or more.

一方、ビニル基を有するアルコキシシラン類をスチレン、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、酢酸ビニル、エチレン、無水マレイン酸などの単官能性のビニル化合物と共重合させて、アルコキシシリル基を有する共重合体を製造する方法も開示されている(たとえば特許文献1および2参照)。また、このようなアルコキシシリル基を有する共重合体を安定な水性分散液として調製する方法も開示されている(特許文献2参照)。
特公昭63−60046号公報 特開平2−228308号公報 高分子論文集,Vol.57,No.4,pp198〜207(2000)
On the other hand, alkoxysilanes having vinyl groups are copolymerized with monofunctional vinyl compounds such as styrene, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters, vinyl acetate, ethylene, and maleic anhydride to produce alkoxysilyl groups. There is also disclosed a method for producing a copolymer having the above (for example, see Patent Documents 1 and 2). Moreover, a method for preparing such a copolymer having an alkoxysilyl group as a stable aqueous dispersion is also disclosed (see Patent Document 2).
Japanese Patent Publication No. 63-60046 JP-A-2-228308 Polymer Papers, Vol. 57, no. 4, pp 198-207 (2000)

しかしながら、従来から用いられてきたビニルトリアルコキシシランなどの単量体は重合反応性が非常に低く、分子量の低い重合体しか得られなかったため、実用性は低かった。上記非特許文献1では、数平均分子量が4000まで高められた重合体が得られるようになったが、本発明者らが検討したところ、そのような重合体でも、引張り強度や引張り伸度といった力学的物性は低く、実用性は低かった。   However, conventionally used monomers such as vinyltrialkoxysilane have a very low polymerization reactivity, and only a polymer having a low molecular weight can be obtained. In Non-Patent Document 1, a polymer having a number average molecular weight increased to 4000 can be obtained. However, as a result of investigation by the present inventors, even such a polymer has a tensile strength and a tensile elongation. The mechanical properties were low and the practicality was low.

また、特許文献1および2に記載された共重合体は、アルコキシシリル基の加水分解性を利用して分子間で架橋を生じさせて硬化させることができるとされ、塗料、コーティング材、接着剤などに有用であると記載されている。しかし、これらの共重合体では、分子内に存在するアルコキシシリル基の含有量は少量に抑えることがよいとされている。アルコキシシリル基の含有量が多くなると、分子間での架橋密度が高くなりすぎ、脆いフィルムを与えることがその理由とされている。これらの共重合体は、ビニル系重合体を主体としてビニルシラン類によって変性された変性重合体と理解すべきものである。   In addition, the copolymers described in Patent Documents 1 and 2 can be cured by causing cross-linking between molecules by utilizing the hydrolyzability of alkoxysilyl groups, and paints, coating materials, and adhesives. It is described that it is useful. However, in these copolymers, it is said that the content of alkoxysilyl groups present in the molecule should be suppressed to a small amount. The reason is that when the content of the alkoxysilyl group is increased, the cross-linking density between molecules becomes too high to give a brittle film. These copolymers should be understood as modified polymers modified mainly by vinyl silanes with a vinyl polymer as a main component.

このような状況に鑑み、本発明は、ビニル基が直接結合したケイ素原子を含む単量体を用いた重合体の製造方法であって、高分子量の重合体を製造できる方法を提供することを目的の1つとする。   In view of such a situation, the present invention provides a method for producing a polymer using a monomer containing a silicon atom to which a vinyl group is directly bonded, and is capable of producing a high molecular weight polymer. One of the purposes.

上記目的を達成するために検討した結果、本発明者らは、ビニル基が直接結合したケイ素原子を含む単量体に特定の単量体を共重合させることによって、従来よりも分子量が大きいケイ素含有重合体が得られることを見出した。本発明はこの新たな知見に基づくものである。   As a result of investigations to achieve the above object, the present inventors have found that silicon having a higher molecular weight than conventional ones can be obtained by copolymerizing a specific monomer with a monomer containing a silicon atom to which a vinyl group is directly bonded. It has been found that a containing polymer can be obtained. The present invention is based on this new finding.

すなわち、ケイ素含有重合体を製造するための本発明の方法は、単量体(A)と単量体(B)とを含む複数種の単量体を重合する重合工程を含み、前記単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、前記単量体(B)は、以下の式(2)で表される少なくとも1種類の化合物であり、全単量体に占める前記単量体(A)の割合が70〜99.5モル%の範囲であり、全単量体に占める前記単量体(B)の割合が0.5〜30モル%の範囲である。 That is, the method of the present invention for producing a silicon-containing polymer includes a polymerization step of polymerizing a plurality of types of monomers including the monomer (A) and the monomer (B), The body (A) is at least one compound represented by the following formula (1), and the monomer (B) is at least one compound represented by the following formula (2). The ratio of the monomer (A) in the total monomer is in the range of 70 to 99.5 mol%, and the ratio of the monomer (B) in the total monomer is 0.5 to It is in the range of 30 mol%.

[式中、R1水素原子である。R2、R3およびR4アルコキシ基である。
[式中、R 5 およびR 6 はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基である。R 7 およびR 8 はアルコキシ基である。]
[Wherein R 1 is a hydrogen atom . R 2 , R 3 and R 4 are alkoxy groups. ]
[Wherein, R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 are alkoxy groups. ]

また、本発明は、上記本発明の製造方法で製造されたケイ素含有重合体を含む。   Moreover, this invention contains the silicon containing polymer manufactured with the manufacturing method of the said invention.

本発明は、特に、単量体(A)に由来する構造単位(A)と単量体(B)に由来する構造単位(B)とを含むケイ素含有重合体であって、前記単量体(A)は、上記式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、前記単量体(B)は、上記式(2)で表される少なくとも1種類の化合物であり、全構造単位に占める前記構造単位(A)の割合が70〜99.5モル%の範囲であり、全構造単位に占める前記構造単位(B)の割合が0.5〜30モル%の範囲であり、数平均分子量が10000以上であるものを包含する。 The present invention particularly relates to a silicon-containing polymer comprising a structural unit (A) derived from the monomer (A) and a structural unit (B) derived from the monomer (B), wherein the monomer (A) is at least one compound represented by the above formula (1), the monomer (B) is at least one compound represented by the above formula (2), and has a total structure. The proportion of the structural unit (A) in the unit is in the range of 70 to 99.5 mol%, the proportion of the structural unit (B) in the total structural unit is in the range of 0.5 to 30 mol%, Includes those having a number average molecular weight of 10,000 or more.

本発明によれば、高分子量のケイ素含有重合体が容易に得られる。このケイ素含有重合体およびそれを含む組成物は、様々な分野、例えば、塗料、インク、接着剤、粘着剤に適用できる。   According to the present invention, a high molecular weight silicon-containing polymer can be easily obtained. The silicon-containing polymer and the composition containing the same can be applied to various fields, for example, paints, inks, adhesives, and pressure-sensitive adhesives.

以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明において具体的な化合物を例示する場合があるが、本発明はこれに限定されない。また、例示される材料は、特に説明がない限り、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Embodiments of the present invention will be described below. In addition, although a specific compound may be illustrated in the following description, this invention is not limited to this. Moreover, as long as there is no description in particular, the illustrated material may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

(ケイ素含有重合体の製造方法)
以下、本発明の製造方法について説明する。本発明は、本発明の製造方法で製造されたケイ素含有重合体を含む。
(Method for producing silicon-containing polymer)
Hereinafter, the production method of the present invention will be described. The present invention includes a silicon-containing polymer produced by the production method of the present invention.

本発明の製造方法は、単量体(A)と単量体(B)とを含む複数種の単量体を重合する重合工程を含む。単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、単量体(B)は、2つ以上の炭素−炭素二重結合を含む少なくとも1種類の化合物である。なお、2つの炭素−炭素二重結合は、共役していないことが好ましい。   The production method of the present invention includes a polymerization step of polymerizing a plurality of types of monomers including the monomer (A) and the monomer (B). The monomer (A) is at least one compound represented by the following formula (1), and the monomer (B) is at least one kind containing two or more carbon-carbon double bonds. A compound. The two carbon-carbon double bonds are preferably not conjugated.

[式中、R1は水素原子またはアルキル基である。R2、R3およびR4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基および水酸基から選ばれる1つの原子団であり、R2、R3およびR4から選ばれる少なくとも1つはハロゲン原子、アルコキシ基または水酸基である。] [Wherein R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 2 , R 3 and R 4 are each independently one atomic group selected from a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group and a hydroxyl group, and at least one selected from R 2 , R 3 and R 4 is a halogen atom , An alkoxy group or a hydroxyl group. ]

1、R2、R3およびR4に適用できるアルキル基としては、メチル基、エチル基およびプロピル基といったアルキル基が挙げられる。R2、R3およびR4に適用できるハロゲン原子としては、たとえば塩素や臭素が挙げられる。R2、R3およびR4に適用できるアルコキシ基としては、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルキルオキシ基;2−メトキシエトキシ基などのアルコキシアルキレンオキシ基;ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基が挙げられる。R2〜R4の典型的な一例では、R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、ハロゲン原子またはアルコキシ基である。 Examples of the alkyl group applicable to R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group. Examples of the halogen atom applicable to R 2 , R 3 and R 4 include chlorine and bromine. Examples of the alkoxy group applicable to R 2 , R 3 and R 4 include alkyloxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group; alkoxyalkyleneoxy groups such as 2-methoxyethoxy group; benzyloxy group And aralkyloxy groups such as In a typical example of R 2 to R 4 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a halogen atom or an alkoxy group.

2、R3およびR4から選ばれる少なくとも1つはハロゲン原子またはアルコキシ基であることが好ましい。単量体(A)の好ましい一例である単量体(A−1)では、R1が水素原子であり、R2〜R4がハロゲン原子である。単量体(A)の好ましい他の一例である単量体(A−2)では、R1が水素原子であり、R2〜R4がアルコキシ基である。単量体(A)の好ましい他の一例である単量体(A−3)では、R1が水素原子であり、R2〜R4がアルコキシ基およびハロゲン原子のいずれかであり、少なくとも1つがアルコキシ基で、少なくとも1つがハロゲン原子である。単量体(A)の具体例としては、たとえば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルジエトキシメチルシラン、ビニルジエトキシエチルシラン、ビニルエトキシジメチルシラン、ビニルエトキシジエチルシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリクロロシランが挙げられる。 At least one selected from R 2 , R 3 and R 4 is preferably a halogen atom or an alkoxy group. In monomer (A-1) which is a preferred example of monomer (A), R 1 is a hydrogen atom, and R 2 to R 4 are halogen atoms. In monomer (A-2) which is another preferred example of monomer (A), R 1 is a hydrogen atom, and R 2 to R 4 are alkoxy groups. In monomer (A-3), which is another preferred example of monomer (A), R 1 is a hydrogen atom, R 2 to R 4 are either an alkoxy group or a halogen atom, and at least 1 One is an alkoxy group and at least one is a halogen atom. Specific examples of the monomer (A) include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, vinyltributoxysilane, vinyldimethoxymethylsilane, vinyldiethoxymethylsilane, vinyldiethoxyethylsilane. Vinylethoxydimethylsilane, vinylethoxydiethylsilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, and vinyltrichlorosilane.

単量体(B)としては、たとえば、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルクロレンデート、アジピン酸ジビニル、コハク酸ジビニル、ジビニルエーテル、ジビニルスルホン、フタル酸ジビニル、フタル酸ジアリル、ジビニルベンゼン、または以下に述べる化合物が挙げられる。   Examples of the monomer (B) include triallyl isocyanurate, triallyl trimellitate, diallyl chlorendate, divinyl adipate, divinyl succinate, divinyl ether, divinyl sulfone, divinyl phthalate, diallyl phthalate, and divinyl. Benzene or the compounds described below can be mentioned.

単量体(B)は、(CR5=CH2)で表される基(ただしR5は水素原子またはアルキル基である)および(CR6=CH2)で表される基(ただしR6は水素原子またはアルキル基である)が結合したケイ素原子を含む少なくとも1種類の化合物であることが好ましい。このような化合物は2つの炭素−炭素二重結合を含むため、それを用いることによって、主鎖に架橋構造が導入された重合体が得られる。また、単量体(B)としてケイ素原子を含む化合物を用いる場合、構造単位(A)および(B)がともにケイ素原子を含むため、ケイ素含有重合体に期待される力学的特性、たとえば引張り強度、引張り伸度および屈曲性といった力学的特性がより良好な重合体が得られる。特に、(CR=CH2)で表される基(ただしRは水素原子またはアルキル基である)が直接ケイ素原子に結合している単量体を用いることによって、得られたケイ素含有重合体は、該ケイ素原子を利用して架橋構造を導入した場合に、重合体の主鎖が強く拘束されることによって力学的物性が向上するという効果が得られる。 The monomer (B) is a group represented by (CR 5 ═CH 2 ) (where R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group) and a group represented by (CR 6 ═CH 2 ) (where R 6 is R 6). Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group) and is preferably at least one compound containing a silicon atom to which is bonded. Since such a compound contains two carbon-carbon double bonds, a polymer having a crosslinked structure introduced into the main chain can be obtained by using the compound. When a compound containing a silicon atom is used as the monomer (B), the structural units (A) and (B) both contain a silicon atom, so that mechanical properties expected for a silicon-containing polymer, such as tensile strength, are obtained. A polymer with better mechanical properties such as tensile elongation and flexibility can be obtained. In particular, by using a monomer in which a group represented by (CR═CH 2 ) (where R is a hydrogen atom or an alkyl group) is directly bonded to a silicon atom, the resulting silicon-containing polymer is When a crosslinked structure is introduced using the silicon atom, the effect of improving the mechanical properties is obtained by strongly restraining the main chain of the polymer.

また、単量体(B)は、以下の式(2)で表される少なくとも1種類の化合物であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that a monomer (B) is at least 1 type of compound represented by the following formula | equation (2).

[式中、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基である。R7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基および(CR9=CH2)で表される基(ただしR9は水素原子またはアルキル基である)から選ばれる1つの原子団である。] [Wherein, R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, or a group represented by (CR 9 ═CH 2 ) (where R 9 is a hydrogen atom or an alkyl group). One selected atomic group. ]

7およびR8から選ばれる少なくとも1つは、ハロゲン原子、アルコキシ基、水酸基、または(CR9=CH2)で表される基であることが好ましく、ハロゲン原子またはアルコキシ基であることが特に好ましい。 At least one selected from R 7 and R 8 is preferably a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group, or a group represented by (CR 9 ═CH 2 ), and particularly preferably a halogen atom or an alkoxy group. preferable.

5、R6、R7、R8およびR9に適用できるアルキル基としては、たとえば、メチル基、エチル基およびプロピル基が挙げられる。R7およびR8に適用できるハロゲン原子としては、たとえば塩素や臭素が挙げられる。R7およびR8に適用できるアルコキシ基としては、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルキルオキシ基;2−メトキシエトキシ基などのアルコキシアルキレンオキシ基;ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基が挙げられる。 Examples of the alkyl group applicable to R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 include a methyl group, an ethyl group and a propyl group. Examples of the halogen atom applicable to R 7 and R 8 include chlorine and bromine. Examples of the alkoxy group applicable to R 7 and R 8 include alkyloxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group; alkoxyalkyleneoxy groups such as 2-methoxyethoxy group; aralkyl such as benzyloxy group An oxy group is mentioned.

式(2)で表される単量体(B)の例を以下に説明する。第1の単量体(B−1)は、R7およびR8の少なくとも1方がアルコキシ基であり、好ましくはR7およびR8がともにアルコキシ基である。第2の単量体(B−2)は、R7およびR8の少なくとも1方がハロゲン原子であり、好ましくはR7およびR8がともにハロゲン原子である。第3の単量体(B−3)は、R7がビニル基であり、R8がアルコキシ基、ハロゲン原子またはアルキル基である。単量体(B−1)〜(B−3)において、R5およびR6は水素原子であってもアルキル基であってもよい。 Examples of the monomer (B) represented by the formula (2) will be described below. In the first monomer (B-1), at least one of R 7 and R 8 is an alkoxy group, and preferably R 7 and R 8 are both alkoxy groups. In the second monomer (B-2), at least one of R 7 and R 8 is a halogen atom, and preferably R 7 and R 8 are both halogen atoms. In the third monomer (B-3), R 7 is a vinyl group, and R 8 is an alkoxy group, a halogen atom, or an alkyl group. In the monomers (B-1) to (B-3), R 5 and R 6 may be a hydrogen atom or an alkyl group.

式(2)で表される化合物の具体例としては、たとえば、ジエトキシジビニルシラン、ジメトキシジビニルシラン、メトキシメチルジビニルシラン、ジクロロジビニルシラン、メチルトリビニルシラン、クロロトリビニルシラン、メトキシトリビニルシラン、エトキシトリビニルシランが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (2) include, for example, diethoxydivinylsilane, dimethoxydivinylsilane, methoxymethyldivinylsilane, dichlorodivinylsilane, methyltrivinylsilane, chlorotrivinylsilane, methoxytrivinylsilane, ethoxytrivinylsilane. Is mentioned.

上述した単量体(A)と上述した単量体(B)とは任意に組み合わせることができる。たとえば、単量体(A−1)と、単量体(B−1)、(B−2)または(B−3)とを組み合わせてもよい。また、単量体(A−2)と、単量体(B−1)、(B−2)または(B−3)とを組み合わせてもよい。また、単量体(A−3)と、単量体(B−1)、(B−2)または(B−3)とを組み合わせてもよい。そのような組み合わせの一例は実施例に示される。   The monomer (A) described above and the monomer (B) described above can be arbitrarily combined. For example, the monomer (A-1) and the monomer (B-1), (B-2), or (B-3) may be combined. Moreover, you may combine a monomer (A-2) and a monomer (B-1), (B-2), or (B-3). Moreover, you may combine a monomer (A-3) and a monomer (B-1), (B-2), or (B-3). An example of such a combination is shown in the examples.

なお、単量体(A)および単量体(B)は、市販されているものを利用してもよいし、公知の方法で合成してもよい。   In addition, the monomer (A) and the monomer (B) may use what is marketed, and may synthesize | combine by a well-known method.

上記重合工程は、アニオン重合、カチオン重合、ラジカル重合などの公知の重合方法に従って実施することが可能であるが、ラジカル重合によって実施することが好ましい。ラジカル重合によって実施する場合、その重合工程は、重合開始剤の存在下において80℃以上の温度で実施することが好ましい。また、使用する重合開始剤は特に限定されないが、重合開始剤の分解の活性化エネルギーが30kcal/mol以上であることが好ましい。該活性化エネルギーは35kcal/mol以上であることがより好ましい。該活性化エネルギーが30kcal/mol以上である重合開始剤の具体例としては、クメンヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、sec−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−アミルパーオキサイド、t−ブチル−α−クミルパーオキサイド、1,4−ジメチルヒドロパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート、2,2’−アゾビス(2−メチルプロパン)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)などが挙げられる。特に、上記重合工程が重合開始剤の存在下において80℃以上の温度で行われ、該重合開始剤がクメンヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエートおよび1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。これらの重合開始剤は、分解の活性化エネルギーが35kcal/mol以上である。   The polymerization step can be performed according to a known polymerization method such as anionic polymerization, cationic polymerization, or radical polymerization, but is preferably performed by radical polymerization. When carried out by radical polymerization, the polymerization step is preferably carried out at a temperature of 80 ° C. or higher in the presence of a polymerization initiator. The polymerization initiator to be used is not particularly limited, but the activation energy for the decomposition of the polymerization initiator is preferably 30 kcal / mol or more. The activation energy is more preferably 35 kcal / mol or more. Specific examples of the polymerization initiator having an activation energy of 30 kcal / mol or more include cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, sec-butyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide. , T-amyl peroxide, t-butyl-α-cumyl peroxide, 1,4-dimethylhydroperoxide, t-butyl perbenzoate, 2,2′-azobis (2-methylpropane), 1,1′- And azobis (cyclohexane-1-carbonitrile). In particular, the polymerization step is performed at a temperature of 80 ° C. or higher in the presence of a polymerization initiator, and the polymerization initiator is cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide. It is preferably at least one selected from oxide, t-butyl perbenzoate, and 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile). These polymerization initiators have a decomposition activation energy of 35 kcal / mol or more.

重合開始剤の使用量は、全単量体(複数種の単量体)1モルあたり、好ましくは0.01〜0.5モルの範囲であり、より好ましくは0.02〜0.2モルの範囲であり、さらに好ましくは0.03〜0.1モルの範囲である。重合開始剤の使用量が好ましい範囲にある場合、より高分子量のケイ素含有重合体が得られやすい。   The amount of the polymerization initiator used is preferably in the range of 0.01 to 0.5 mol, more preferably 0.02 to 0.2 mol, per mol of all the monomers (plural types of monomers). More preferably, it is the range of 0.03-0.1 mol. When the usage-amount of a polymerization initiator exists in a preferable range, a higher molecular weight silicon-containing polymer is easy to be obtained.

全単量体(複数の単量体)に占める単量体(A)および単量体(B)の好ましい割合は、単量体(A)および単量体(B)の種類やケイ素含有重合体の使用目的に応じて変化するため、一概に規定することはできない。典型的な例では、全単量体(複数の単量体)に占める単量体(A)の割合が70〜99.5モル%の範囲であり、全単量体に占める単量体(B)の割合が0.5〜30モル%の範囲である。また、単量体(A)/単量体(B)のモル比は、好ましくは70/30〜99.5/0.5の範囲であり、より好ましくは85/15〜97/3の範囲であり、さらに好ましくは85/15〜95/5の範囲である。本発明の製造方法では、典型的には、単量体(A)および単量体(B)のみ、または実質的に単量体(A)および単量体(B)のみを重合するが、本発明の効果が得られる限り、単量体(A)および単量体(B)とは異なる他の単量体が重合されてもよい。他の単量体としては、それに含まれるビニル基が1つのみであるビニル化合物(以下、ビニル化合物(C)という場合がある)を用いることができ、例えば、酢酸ビニルなどのビニルエステルや、窒素含有複素環を有するビニル化合物(たとえば、N−ビニルピロリドンなどのピロリドンの部分構造を有するビニル化合物やN−ビニルイミダゾールなどのイミダゾールの部分構造を有するビニル化合物)といったビニル化合物が例示できる。これらのなかでも、単量体(A)および単量体(B)との重合性の面から、窒素含有複素環を有するビニル化合物(C)が好ましい。全単量体(複数種の単量体)に占める他の単量体(たとえばビニル化合物(C))の割合は、好ましくは60モル%以下であり、より好ましくは50モル%以下である。   The preferred proportion of monomer (A) and monomer (B) in the total monomer (plural monomers) is the type of monomer (A) and monomer (B) and the silicon-containing weight. Since it changes depending on the intended use of the merger, it cannot be specified unconditionally. In a typical example, the ratio of the monomer (A) in the total monomer (a plurality of monomers) is in the range of 70 to 99.5 mol%, and the monomer ( The proportion of B) is in the range of 0.5 to 30 mol%. The molar ratio of monomer (A) / monomer (B) is preferably in the range of 70/30 to 99.5 / 0.5, more preferably in the range of 85/15 to 97/3. More preferably, it is in the range of 85/15 to 95/5. In the production method of the present invention, typically, only monomer (A) and monomer (B), or substantially only monomer (A) and monomer (B) are polymerized. As long as the effect of the present invention is obtained, another monomer different from the monomer (A) and the monomer (B) may be polymerized. As the other monomer, a vinyl compound having only one vinyl group contained therein (hereinafter sometimes referred to as a vinyl compound (C)) can be used. For example, a vinyl ester such as vinyl acetate, Examples thereof include vinyl compounds having a nitrogen-containing heterocyclic ring (for example, vinyl compounds having a pyrrolidone partial structure such as N-vinylpyrrolidone and vinyl compounds having an imidazole partial structure such as N-vinylimidazole). Among these, the vinyl compound (C) having a nitrogen-containing heterocyclic ring is preferable from the viewpoint of polymerizability with the monomer (A) and the monomer (B). The proportion of other monomers (for example, vinyl compound (C)) in the total monomers (plural types of monomers) is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less.

本発明の製造方法では、溶媒を用いない塊状重合で重合工程を実施してもよいし、溶媒の存在下で重合工程を実施してもよい。溶媒の存在下で重合工程を実施する場合は、溶媒として有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤としては、たとえば、ジオキサン、クロロベンゼン、安息香酸メチル、トルエン、キシレン、メシチレン、デカリン、エチレングリコールジメチルエーテル、アセトニトリルを用いることができる。   In the production method of the present invention, the polymerization step may be performed by bulk polymerization without using a solvent, or the polymerization step may be performed in the presence of a solvent. When carrying out the polymerization step in the presence of a solvent, it is preferable to use an organic solvent as the solvent. As the organic solvent, for example, dioxane, chlorobenzene, methyl benzoate, toluene, xylene, mesitylene, decalin, ethylene glycol dimethyl ether, and acetonitrile can be used.

溶媒の存在下で重合工程を実施する場合には、単量体(A)、単量体(B)および有機溶剤を含む重合性の混合物を調製する。重合工程中において、該混合物には、不活性ガスによるバブリングを行うことが好ましい。また、重合工程は、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスとしては、たとえば窒素ガスやアルゴンガスを用いることができる。重合工程における該混合物の温度は、80℃以上に調整することが好ましく、100℃以上(たとえば120℃以上)に調整することがより好ましい。該混合物の温度は、単量体(A)の沸点の50℃以下に調整することが好ましく、単量体(A)の沸点の40℃以下(たとえば30℃以下)に調整することがより好ましい。   When the polymerization step is carried out in the presence of a solvent, a polymerizable mixture containing the monomer (A), the monomer (B) and an organic solvent is prepared. During the polymerization step, the mixture is preferably bubbled with an inert gas. Moreover, it is preferable to perform a superposition | polymerization process in inert gas atmosphere. For example, nitrogen gas or argon gas can be used as the inert gas. The temperature of the mixture in the polymerization step is preferably adjusted to 80 ° C. or higher, and more preferably adjusted to 100 ° C. or higher (for example, 120 ° C. or higher). The temperature of the mixture is preferably adjusted to 50 ° C. or less of the boiling point of the monomer (A), and more preferably adjusted to 40 ° C. or less (eg, 30 ° C. or less) of the boiling point of the monomer (A). .

重合開始剤は、単量体(A)や単量体(B)に予め混合しておいてもよいし、上述の重合性の混合物に添加してもよい。重合開始剤は、全量を一度に加えてもよいし、何回かに分割して加えてもよい。重合開始剤を添加するタイミングに特に限定はないが、不活性ガスによるバブリングを開始した後に、重合開始剤を添加することが好ましい。重合開始剤は、混合物を重合温度に調整した後に添加してもよいし、混合物を重合温度に調整する前に添加してもよい。特に、活性化エネルギーが30kcal/mol以下の重合開始剤を用いる場合には、混合物を重合温度に調整した後に重合開始剤を添加することが好ましい。   The polymerization initiator may be mixed in advance with the monomer (A) or the monomer (B), or may be added to the above-described polymerizable mixture. The total amount of the polymerization initiator may be added at once, or may be added in several divided portions. Although there is no particular limitation on the timing of adding the polymerization initiator, it is preferable to add the polymerization initiator after starting bubbling with an inert gas. The polymerization initiator may be added after adjusting the mixture to the polymerization temperature, or may be added before adjusting the mixture to the polymerization temperature. In particular, when using a polymerization initiator having an activation energy of 30 kcal / mol or less, it is preferable to add the polymerization initiator after adjusting the mixture to the polymerization temperature.

本発明の製造方法では、単量体(A)と単量体(B)とを共重合させており、単量体(B)の存在によって、得られるケイ素含有重合体の分子量を飛躍的に大きくできる。本発明の製造方法によれば、数平均分子量が10000以上、より好ましくは12000以上、さらに好ましくは15000以上のケイ素含有重合体を製造することができる。また、単量体(B)として、ケイ素原子を含有する単量体を用いることによって、ケイ素含有重合体に期待される特性(たとえば耐熱性や硬度)が高い重合体が得られる。   In the production method of the present invention, the monomer (A) and the monomer (B) are copolymerized, and the molecular weight of the resulting silicon-containing polymer is dramatically increased by the presence of the monomer (B). Can be big. According to the production method of the present invention, a silicon-containing polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more, more preferably 12,000 or more, and further preferably 15,000 or more can be produced. In addition, by using a monomer containing a silicon atom as the monomer (B), a polymer having high characteristics (for example, heat resistance and hardness) expected for a silicon-containing polymer can be obtained.

本発明の製造方法は、上記重合工程によって得られた重合体から、炭化水素系溶媒に溶解する成分を除去する工程をさらに含んでもよい。この工程によれば、炭化水素系溶媒に溶解する低分子量成分を除去できるため、数平均分子量がより大きい重合体、たとえば数平均分子量が15000以上の重合体が得られる。低分子量成分は、たとえば、重合体を炭化水素系溶媒に浸漬したのち濾過を行うことによって除去できる。高分子量のケイ素含有重合体は、通常、炭化水素系溶媒には溶解しないため、濾過によって容易に分離できる。このようにして得られる数平均分子量がより大きい重合体は、通常、極性有機溶媒(たとえばテトラヒドロフラン;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド;メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールなどのアルコール;クロロホルム;ジメチルスルホキシド;アセトン;スルホランなど)に溶解する重合体であり、ゲル化(重合体同士の加水分解縮合反応)によって生成したものではない。   The production method of the present invention may further include a step of removing a component dissolved in the hydrocarbon solvent from the polymer obtained by the polymerization step. According to this step, since the low molecular weight component dissolved in the hydrocarbon solvent can be removed, a polymer having a higher number average molecular weight, for example, a polymer having a number average molecular weight of 15000 or more can be obtained. The low molecular weight component can be removed, for example, by immersing the polymer in a hydrocarbon solvent and then performing filtration. A high molecular weight silicon-containing polymer is usually not soluble in a hydrocarbon solvent and can be easily separated by filtration. Polymers with higher number average molecular weights thus obtained are usually polar organic solvents (eg tetrahydrofuran; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol). A polymer that dissolves in chloroform, dimethyl sulfoxide, acetone, sulfolane, etc.) and is not produced by gelation (hydrolytic condensation reaction between polymers).

炭化水素系溶媒は炭化水素からなる溶媒であり、たとえばn−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、ベンゼンおよびキシレンから選ばれる少なくとも1つを用いることができる。これらの中でも、n−ヘキサンが好ましい。使用する炭化水素系溶媒の量に特に限定はないが、ケイ素含有重合体の5〜100倍の範囲の重量であることが好ましく、10〜50倍の範囲の重量であることがより好ましい。使用する炭化水素系溶媒の温度に特に限定はないが、炭化水素系溶媒の沸点をT℃とすると、20℃〜T℃の範囲であることが好ましく、20℃〜(T−20)℃の範囲であることがより好ましい。ケイ素含有重合体を炭化水素系溶媒に浸漬する時間に特に限定はないが、30分以上浸漬することが好ましく、60分以上浸漬することがより好ましい。また、ケイ素含有重合体の炭化水素系溶媒への浸漬は、撹拌下または振盪下で実施することが好ましい。   The hydrocarbon solvent is a solvent composed of hydrocarbon, and for example, at least one selected from n-hexane, cyclohexane, n-heptane, toluene, benzene and xylene can be used. Among these, n-hexane is preferable. The amount of the hydrocarbon solvent to be used is not particularly limited, but it is preferably 5 to 100 times the weight of the silicon-containing polymer, more preferably 10 to 50 times the weight. The temperature of the hydrocarbon solvent to be used is not particularly limited, but when the boiling point of the hydrocarbon solvent is T ° C., the temperature is preferably in the range of 20 ° C. to T ° C., and 20 ° C. to (T-20) ° C. A range is more preferable. The time for immersing the silicon-containing polymer in the hydrocarbon-based solvent is not particularly limited, but it is preferably immersed for 30 minutes or more, and more preferably for 60 minutes or more. The immersion of the silicon-containing polymer in the hydrocarbon solvent is preferably performed with stirring or shaking.

(ケイ素含有重合体)
次に、本発明のケイ素含有重合体について説明する。このケイ素含有重合体は、上記した本発明の製造方法によって製造できる。本発明のケイ素含有重合体は、単量体(A)に由来する構造単位(A)と単量体(B)に由来する構造単位(B)とを含む共重合体である。
(Silicon-containing polymer)
Next, the silicon-containing polymer of the present invention will be described. This silicon-containing polymer can be produced by the production method of the present invention described above. The silicon-containing polymer of the present invention is a copolymer containing a structural unit (A) derived from the monomer (A) and a structural unit (B) derived from the monomer (B).

単量体(A)および単量体(B)に適用できる化合物については、上述したため説明は省略する。   Since the compounds applicable to the monomer (A) and the monomer (B) have been described above, the description thereof will be omitted.

全構造単位に占める構造単位(A)および構造単位(B)の好ましい割合は、材料である単量体(A)および単量体(B)の種類や、重合体の使用目的に応じて変化するため、一概に規定することはできない。典型的な例では、全構造単位に占める構造単位(A)の割合が70〜99.5モル%の範囲であり、全構造単位に占める構造単位(B)の割合が0.5〜30モル%の範囲であることが好ましい。また、構造単位(A)/構造単位(B)のモル比は、70/30〜99.5/0.5の範囲である。構造単位(A)/構造単位(B)のモル比をこの範囲とすることによって、重合時のゲル化を防ぐことができ、高分子量の重合体を得ることができる。また、該モル比は、好ましくは85/15〜97/3の範囲であり、より好ましくは85/15〜95/5の範囲である。本発明のケイ素含有重合体は、典型的には、構造単位(A)および構造単位(B)のみ、または実質的に構造単位(A)および構造単位(B)のみからなるが、本発明の効果が得られる限り、他の構造単位を含んでいてもよい。他の構造単位としては、それに含まれるビニル基が1つのみであるビニル化合物(ビニル化合物(C))に由来する構造単位を例示することができ、例えば、酢酸ビニルなどのビニルエステルや、窒素含有複素環を有するビニル化合物(たとえば、N−ビニルピロリドンなどのピロリドンの部分構造を有するビニル化合物やN−ビニルイミダゾールなどのイミダゾールの部分構造を有するビニル化合物)といったビニル化合物に由来する構造単位を例示できる。全構造単位に占める他の構造単位(たとえばビニル化合物(C)に由来する構造単位)の割合は、好ましくは60モル%以下であり、より好ましくは50モル%以下である。   The preferred proportion of the structural unit (A) and the structural unit (B) in the total structural units varies depending on the types of the monomer (A) and monomer (B) as materials and the purpose of use of the polymer. Therefore, it cannot be specified in general. In a typical example, the proportion of the structural unit (A) in the total structural unit is in the range of 70 to 99.5 mol%, and the proportion of the structural unit (B) in the total structural unit is 0.5 to 30 mol. % Is preferable. The molar ratio of structural unit (A) / structural unit (B) is in the range of 70/30 to 99.5 / 0.5. By setting the molar ratio of structural unit (A) / structural unit (B) within this range, gelation during polymerization can be prevented and a high molecular weight polymer can be obtained. Moreover, this molar ratio becomes like this. Preferably it is the range of 85 / 15-97 / 3, More preferably, it is the range of 85 / 15-95 / 5. The silicon-containing polymer of the present invention typically comprises only the structural unit (A) and the structural unit (B), or substantially consists of only the structural unit (A) and the structural unit (B). Other structural units may be included as long as the effect is obtained. Examples of other structural units include structural units derived from a vinyl compound (vinyl compound (C)) containing only one vinyl group, such as vinyl esters such as vinyl acetate, nitrogen Exemplified structural units derived from vinyl compounds such as vinyl compounds having a heterocyclic ring (for example, vinyl compounds having a pyrrolidone partial structure such as N-vinylpyrrolidone and vinyl compounds having an imidazole partial structure such as N-vinylimidazole) it can. The proportion of other structural units (for example, structural units derived from the vinyl compound (C)) in the total structural units is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less.

本発明のケイ素含有重合体は、数平均分子量が10000以上であり、好ましくは12000以上、より好ましくは15000以上である。数平均分子量が10000以上である場合、引張り強度、引張り伸度および屈曲性といった力学的物性が特に良好となる。数平均分子量10000以上のケイ素含有重合体は上述した製造方法を採用することによって初めて可能になった。数平均分子量の上限は、特に制限されないが、上記した極性有機溶剤に溶解する範囲内であることが好ましい。なお、本明細書でいう数平均分子量および重量平均分子量は、実施例で述べるように、GPC(Gel Permeation Chromatography)で測定したポリスチレン換算の値である。   The silicon-containing polymer of the present invention has a number average molecular weight of 10,000 or more, preferably 12000 or more, more preferably 15000 or more. When the number average molecular weight is 10,000 or more, mechanical properties such as tensile strength, tensile elongation, and flexibility are particularly good. A silicon-containing polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more has been made possible for the first time by adopting the production method described above. The upper limit of the number average molecular weight is not particularly limited, but is preferably within a range that dissolves in the above-described polar organic solvent. The number average molecular weight and the weight average molecular weight referred to in the present specification are values in terms of polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatography) as described in Examples.

本発明のケイ素含有重合体では、分子量分布、すなわち重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比「Mw/Mn」で表される値は、好ましくは2〜15であり、より好ましくは3〜12の範囲であり、さらに好ましくは4〜12の範囲である。分子量分布が好ましい範囲にある場合、ケイ素含有重合体の引張り強度や屈曲性といった力学的物性が良好となる。   In the silicon-containing polymer of the present invention, the molecular weight distribution, that is, the value represented by the ratio “Mw / Mn” between the weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 3. It is the range of 12, More preferably, it is the range of 4-12. When the molecular weight distribution is in a preferred range, the mechanical properties such as tensile strength and flexibility of the silicon-containing polymer are good.

本発明のケイ素含有重合体は、単独で使用してもよいし、他の重合体と混合して組成物としてもよい。他の重合体としては、たとえば、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン、ポリスチレン、スチレン系ブロック共重合体、シリコーン樹脂が挙げられる。組成物として使用する場合、安定剤、滑剤、顔料、耐衝撃性改良剤、加工助剤、結晶核剤、補強剤、着色剤、難燃剤、耐候性改良剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐加水分解性向上剤、防かび剤、抗菌剤、光安定剤、耐電防止剤、シリコンオイル、ブロッキング防止剤、離型剤、発泡剤、香料などの各種添加剤;ガラス繊維、ポリエステル繊維、カーボン繊維等の各種繊維;タルク、木粉等の充填剤;各種カップリング剤などの成分を必要に応じて配合してもよい。   The silicon-containing polymer of the present invention may be used alone, or may be mixed with other polymers to form a composition. Examples of other polymers include polyamide, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyoxymethylene resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyolefin, polystyrene, and styrene. Examples include block copolymers and silicone resins. When used as a composition, stabilizers, lubricants, pigments, impact resistance improvers, processing aids, crystal nucleating agents, reinforcing agents, colorants, flame retardants, weather resistance improvers, UV absorbers, antioxidants, Various additives such as hydrolysis resistance improvers, fungicides, antibacterial agents, light stabilizers, anti-static agents, silicone oil, anti-blocking agents, mold release agents, foaming agents, fragrances; glass fibers, polyester fibers, carbon Components such as various fibers such as fibers; fillers such as talc and wood powder; various coupling agents may be blended as necessary.

本発明のケイ素含有重合体またはそれを用いた組成物は、公知の方法で成形できる。成形方法としては、たとえば、(1)重合体または組成物を有機溶剤に溶解させて溶液とし、この溶液をキャスト法やコート法などによって成形する方法、(2)重合体または組成物を溶融して射出法や押出法などによって成形する方法を適用できる。   The silicon-containing polymer of the present invention or a composition using the same can be molded by a known method. Examples of the molding method include (1) a method in which a polymer or composition is dissolved in an organic solvent to form a solution, and this solution is molded by a casting method or a coating method, and (2) the polymer or composition is melted. A method of forming by an injection method or an extrusion method can be applied.

本発明のケイ素含有重合体またはそれを用いた組成物では、成形過程または成形後に、ケイ素含有重合体が有する官能基(たとえばアルコキシシリル基)同士の反応や、該官能基とケイ素含有重合体以外の成分が有する官能基(たとえば水酸基)との反応を生じさせてもよい。このような反応によって、引張り強さ、曲げ強さ、耐熱性などに優れた材料を得ることができる。ケイ素含有重合体のアルコキシシリル基同士の反応、ケイ素含有重合体のアルコキシシリル基と他の官能基との反応は、アルコキシシリル基が一旦加水分解しシラノール基に変換された後に生じさせてもよい。   In the silicon-containing polymer of the present invention or a composition using the same, the reaction between functional groups (for example, alkoxysilyl groups) of the silicon-containing polymer after molding or after molding, or other than the functional group and the silicon-containing polymer A reaction with a functional group (for example, a hydroxyl group) of the component may be caused. By such a reaction, a material excellent in tensile strength, bending strength, heat resistance and the like can be obtained. The reaction between the alkoxysilyl groups of the silicon-containing polymer and the reaction between the alkoxysilyl group of the silicon-containing polymer and other functional groups may occur after the alkoxysilyl group is once hydrolyzed and converted to a silanol group. .

本発明のケイ素含有重合体は、塗料、インク、接着剤、粘着剤、相溶化剤、シーリング材などの種々の用途に使用できる。また、繊維状に成形して布帛などの繊維構造物とすることもできる。さらに、各種熱可塑性樹脂またはその組成物、熱硬化性樹脂、紙、布帛、金属、木材、セラミックスなどの他の材料との積層体として、種々の用途に使用できる。   The silicon-containing polymer of the present invention can be used for various applications such as paints, inks, adhesives, pressure-sensitive adhesives, compatibilizing agents, and sealing materials. Moreover, it can also shape | mold into a fiber form and can also be set as fiber structures, such as a fabric. Furthermore, it can be used for various applications as a laminate with other materials such as various thermoplastic resins or compositions thereof, thermosetting resins, paper, fabric, metal, wood, ceramics.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されない。以下の実施例で用いられているシラン化合物には、信越化学工業株式会社製のものを用いた。また、以下の実施例における測定は、次に示す方法で実施した。
(1)数平均分子量および重量平均分子量の測定
濃度が0.5重量%となるようにケイ素含有重合体をテトラヒドロフランに溶解し、GPC(Gel Permeation Chromatography)測定用サンプルとした。GPCの測定は、株式会社島津製作所製のクロマトパックCR−4A(本体)、RID−6A(屈折率検出器)、CIO−6A(カラムオーブン)を用いて行った。カラムは、HSG−4OH(株式会社島津製作所)を用いた。溶離液にはテトラヒドロフランを用い、1.0mL/分の流量で溶離液を流した。カラムオーブンは40℃に設定した。分子量を求めるための検量線は、ポリスチレンスタンダード(株式会社ケムコ製のポリスチレン標準試料)を用いて作成した。即ち、分子量が既知であるポリスチレンをテトラヒドロフランに、濃度が0.5重量%となるように溶解し、GPC測定を行い、溶出時間と分子量との関係を示す検量線を作成した。ケイ素含有重合体のGPCの溶出曲線(溶出時間−溶出量)と検量線とから、ケイ素含有重合体の数平均分子量および重量平均分子量を求めた。さらに分子量分布、即ち、「重量平均分子量/数平均分子量」の値を計算した。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. As the silane compound used in the following examples, those manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. were used. Measurements in the following examples were carried out by the following methods.
(1) Measurement of number average molecular weight and weight average molecular weight A silicon-containing polymer was dissolved in tetrahydrofuran so that the concentration was 0.5% by weight, and used as a sample for GPC (Gel Permeation Chromatography) measurement. The measurement of GPC was performed using Shimadzu Corporation Chromatopack CR-4A (main body), RID-6A (refractive index detector), and CIO-6A (column oven). As the column, HSG-4OH (Shimadzu Corporation) was used. Tetrahydrofuran was used as the eluent, and the eluent was allowed to flow at a flow rate of 1.0 mL / min. The column oven was set to 40 ° C. A calibration curve for determining the molecular weight was prepared using polystyrene standard (polystyrene standard sample manufactured by Chemco Co., Ltd.). That is, polystyrene having a known molecular weight was dissolved in tetrahydrofuran so as to have a concentration of 0.5% by weight, GPC measurement was performed, and a calibration curve showing the relationship between elution time and molecular weight was prepared. The number average molecular weight and weight average molecular weight of the silicon-containing polymer were determined from the GPC elution curve (elution time-elution amount) of the silicon-containing polymer and the calibration curve. Further, the molecular weight distribution, that is, the value of “weight average molecular weight / number average molecular weight” was calculated.

<実施例1>
1740ミリモルのトリメトキシビニルシラン(単量体(A))と、260ミリモルのジエトキシジビニルシラン(単量体(B))とを、窒素雰囲気下、還流管を付けたフラスコに加えた。単量体(A)と単量体(B)との混合物は、窒素ガスによってバブリングした。このバブリングは、重合反応を停止するまで続けた。バブリングを開始してから30分後に、130℃に調整された油浴にフラスコを浸漬し、続いて即座に100ミリモルのジクミルパーオキサイド(重合開始剤)を混合物に加えて重合を開始した。油浴にフラスコを浸漬してから5分後には、混合物の温度は130℃に達した。重合開始剤を添加してから5時間、混合物を攪拌しながら且つ油浴中において、重合反応を続けた。その後、油浴からフラスコを取り出し、フラスコ内の温度を室温まで下げた。フラスコ内の反応生成物には、単量体(A)および単量体(B)がともに残存していないことをガスクロマトグラフィーで確認した。得られた重合体の一部をテトラヒドロフランに溶解し、GPCによって分子量の測定を行なった。その結果、得られた重合体は、数平均分子量が12500、重量平均分子量が113000、分子量分布が9.0であった。
<Example 1>
1740 mmol of trimethoxyvinylsilane (monomer (A)) and 260 mmol of diethoxydivinylsilane (monomer (B)) were added to a flask equipped with a reflux tube under a nitrogen atmosphere. The mixture of monomer (A) and monomer (B) was bubbled with nitrogen gas. This bubbling was continued until the polymerization reaction was stopped. 30 minutes after the start of bubbling, the flask was immersed in an oil bath adjusted to 130 ° C., and 100 mmol of dicumyl peroxide (polymerization initiator) was immediately added to the mixture to initiate polymerization. Five minutes after immersing the flask in an oil bath, the temperature of the mixture reached 130 ° C. The polymerization reaction was continued for 5 hours after adding the polymerization initiator while stirring the mixture and in an oil bath. Thereafter, the flask was taken out from the oil bath, and the temperature in the flask was lowered to room temperature. It was confirmed by gas chromatography that neither the monomer (A) nor the monomer (B) remained in the reaction product in the flask. A part of the obtained polymer was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by GPC. As a result, the obtained polymer had a number average molecular weight of 12500, a weight average molecular weight of 113,000, and a molecular weight distribution of 9.0.

また、得られた重合体の一部を、内部標準としてテトラメチルシランを含有した重クロロホルムに溶解し、1H−NMRによって構造解析を行った。その結果、ケイ素原子に結合したメチンプロトンに対応するピークが0.7ppmに確認され、主鎖のメチレンプロトンに対応するピークが1.2ppmに観察され、エトキシシリル基におけるメチル基に対応するピークが1.5ppmに観察され、メトキシシリル基におけるメチルプロトンとエトキシシリル基におけるメチレンプロトンに対応するピークが3.6ppmに観察された。それぞれのピークの積分値から、単量体(A)に由来する構造単位(A)と単量体(B)に由来する構造単位(B)とのモル比、[構造単位(A)/構造単位(B)]の値は、およそ9/1と計算された。 A part of the obtained polymer was dissolved in deuterated chloroform containing tetramethylsilane as an internal standard, and the structure was analyzed by 1 H-NMR. As a result, a peak corresponding to the methine proton bonded to the silicon atom was confirmed at 0.7 ppm, a peak corresponding to the methylene proton in the main chain was observed at 1.2 ppm, and a peak corresponding to the methyl group in the ethoxysilyl group was observed. A peak corresponding to the methyl proton in the methoxysilyl group and the methylene proton in the ethoxysilyl group was observed at 3.6 ppm. From the integrated value of each peak, the molar ratio between the structural unit (A) derived from the monomer (A) and the structural unit (B) derived from the monomer (B), [structural unit (A) / structure The unit (B)] value was calculated to be approximately 9/1.

<実施例2>
1940ミリモルのトリメトキシビニルシラン(単量体(A))と、60ミリモルのジエトキシジビニルシラン(単量体(B))とを、窒素雰囲気下、還流管を付けたフラスコに加えた。単量体(A)と単量体(B)との混合物は、窒素ガスによってバブリングした。このバブリングは、重合反応を停止するまで続けた。バブリングを開始してから30分後に、130℃に調整された油浴にフラスコを浸漬し、続いて即座に100ミリモルのジクミルパーオキサイド(重合開始剤)を混合物に加えて重合を開始した。油浴にフラスコを浸漬してから5分後には、混合物の温度が130℃に達した。重合開始剤を添加してから5時間、混合物を攪拌しながら且つ油浴中において重合反応を続けた。その後、油浴からフラスコを取り出し、フラスコ内の温度を室温まで下げた。フラスコ内の反応生成物に単量体(A)および単量体(B)がともに残存していないことを、ガスクロマトグラフィーによって確認した。
<Example 2>
1940 mmol of trimethoxyvinylsilane (monomer (A)) and 60 mmol of diethoxydivinylsilane (monomer (B)) were added to a flask equipped with a reflux tube under a nitrogen atmosphere. The mixture of monomer (A) and monomer (B) was bubbled with nitrogen gas. This bubbling was continued until the polymerization reaction was stopped. 30 minutes after the start of bubbling, the flask was immersed in an oil bath adjusted to 130 ° C., and 100 mmol of dicumyl peroxide (polymerization initiator) was immediately added to the mixture to initiate polymerization. Five minutes after immersing the flask in the oil bath, the temperature of the mixture reached 130 ° C. The polymerization reaction was continued in the oil bath while stirring the mixture for 5 hours after the addition of the polymerization initiator. Thereafter, the flask was taken out from the oil bath, and the temperature in the flask was lowered to room temperature. It was confirmed by gas chromatography that neither monomer (A) nor monomer (B) remained in the reaction product in the flask.

次に、得られた重合体の全量を1000mlのn−ヘキサンに投入し、60分間撹拌した。60分後、n−ヘキサンに溶解しなかった重合体をろ過によって回収した。回収された重合体は減圧下、室温で乾燥した。回収された重合体の乾燥後の重量は、単量体(A)と単量体(B)の合計の重量の15%であった。このようにして得られた重合体の一部をテトラヒドロフランに溶解し、GPCによって分子量の測定を行なった。その結果、得られた重合体は、数平均分子量が15500、重量平均分子量が60000、分子量分布が3.9であった。   Next, the entire amount of the obtained polymer was put into 1000 ml of n-hexane and stirred for 60 minutes. After 60 minutes, the polymer that did not dissolve in n-hexane was collected by filtration. The recovered polymer was dried at room temperature under reduced pressure. The weight of the recovered polymer after drying was 15% of the total weight of the monomer (A) and the monomer (B). A part of the polymer thus obtained was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by GPC. As a result, the obtained polymer had a number average molecular weight of 15500, a weight average molecular weight of 60000, and a molecular weight distribution of 3.9.

<比較例1>
2000ミリモルのトリメトキシビニルシラン(単量体(A))を、窒素雰囲気下、還流管を付けたフラスコに加えた。単量体(A)は、窒素ガスによってバブリングした。このバブリングは、重合反応を停止するまで続けた。バブリングを開始してから30分後に、130℃に調整された油浴にフラスコを浸漬し、続いて即座に100ミリモルのジクミルパーオキサイド(重合開始剤)を加えて重合を開始した。油浴にフラスコを浸漬してから5分後には、混合物の温度が130℃に達した。重合開始剤を添加してから5時間、混合物を攪拌しながら且つ油浴中において重合反応を続けた。その後、油浴からフラスコを取り出し、フラスコ内の温度を室温まで下げた。フラスコ内の反応生成物に単量体(A)が残存していないことを、ガスクロマトグラフィーによって確認した。このようにして得られた重合体の一部をテトラヒドロフランに溶解し、GPCによって分子量の測定を行なった。その結果、得られた重合体は、数平均分子量が3200、重量平均分子量が6100、分子量分布が1.9であった。
<Comparative Example 1>
2000 mmol of trimethoxyvinylsilane (monomer (A)) was added to a flask equipped with a reflux tube under a nitrogen atmosphere. The monomer (A) was bubbled with nitrogen gas. This bubbling was continued until the polymerization reaction was stopped. 30 minutes after the start of bubbling, the flask was immersed in an oil bath adjusted to 130 ° C., and 100 mmol of dicumyl peroxide (polymerization initiator) was immediately added to initiate polymerization. Five minutes after immersing the flask in the oil bath, the temperature of the mixture reached 130 ° C. The polymerization reaction was continued in the oil bath while stirring the mixture for 5 hours after the addition of the polymerization initiator. Thereafter, the flask was taken out from the oil bath, and the temperature in the flask was lowered to room temperature. It was confirmed by gas chromatography that no monomer (A) remained in the reaction product in the flask. A part of the polymer thus obtained was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by GPC. As a result, the obtained polymer had a number average molecular weight of 3200, a weight average molecular weight of 6100, and a molecular weight distribution of 1.9.

本発明によれば、数平均分子量が従来のものよりも大きいケイ素含有重合体が得られる。この重合体およびそれを含む組成物は、様々な分野、代表的にはたとえば、塗料、インク、接着剤、粘着剤に適用できる。   According to the present invention, a silicon-containing polymer having a number average molecular weight larger than that of the conventional one can be obtained. The polymer and the composition containing the polymer can be applied to various fields, typically, for example, paints, inks, adhesives, and pressure-sensitive adhesives.

Claims (7)

単量体(A)と単量体(B)とを含む複数種の単量体を重合する重合工程を含み、
前記単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、
前記単量体(B)は、以下の式(2)で表される少なくとも1種類の化合物であり、
全単量体に占める前記単量体(A)の割合が70〜99.5モル%の範囲であり、
全単量体に占める前記単量体(B)の割合が0.5〜30モル%の範囲であるケイ素含有重合体の製造方法。
[式中、R1水素原子である。R2、R3およびR4アルコキシ基である。
[式中、R 5 およびR 6 はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基である。R 7 およびR 8 はアルコキシ基である。]
Including a polymerization step of polymerizing a plurality of types of monomers including the monomer (A) and the monomer (B),
The monomer (A) is at least one compound represented by the following formula (1):
The monomer (B) is Ri least one compound der represented by the following formula (2),
The proportion of the monomer (A) in the total monomer is in the range of 70-99.5 mol%,
The manufacturing method of the silicon-containing polymer whose ratio of the said monomer (B) to all the monomers is the range of 0.5-30 mol% .
[Wherein R 1 is a hydrogen atom . R 2 , R 3 and R 4 are alkoxy groups. ]
[Wherein, R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 are alkoxy groups. ]
前記重合工程が重合開始剤の存在下において80℃以上の温度で行われ、
前記重合開始剤が、クメンヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート、および1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)から選ばれる少なくとも1つである請求項1に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
The polymerization step is performed at a temperature of 80 ° C. or higher in the presence of a polymerization initiator;
The polymerization initiator is cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl perbenzoate, and 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbohydrate). The method for producing a silicon-containing polymer according to claim 1, wherein the method is at least one selected from nitrile).
前記複数種の単量体が、前記単量体(A)および前記単量体(B)とは異なるビニル化合物(C)を含み、
前記ビニル化合物(C)に含まれるビニル基は1つである請求項1または2に記載のケイ素含有重合体の製造方法。
The plural types of monomers include a vinyl compound (C) different from the monomer (A) and the monomer (B),
Method for producing a silicon-containing polymer according to claim 1 or 2 vinyl group Ru 1 Tsudea contained in the vinyl compound (C).
前記ビニル化合物(C)が窒素含有複素環を有する請求項3に記載のケイ素含有重合体の製造方法。 The method for producing a silicon-containing polymer according to claim 3, wherein the vinyl compound (C) has a nitrogen-containing heterocyclic ring. 前記重合工程によって得られた重合体から、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、ベンゼンおよびキシレンから選ばれる少なくとも1つに溶解する成分を除去する工程をさらに含む請求項1〜4のいずれか1項に記載のケイ素含有重合体の製造方法。 5. The method according to claim 1 , further comprising a step of removing a component dissolved in at least one selected from n-hexane, cyclohexane, n-heptane, toluene, benzene and xylene from the polymer obtained by the polymerization step. A method for producing a silicon-containing polymer according to claim 1 . 請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法で製造されたケイ素含有重合体。 The silicon-containing polymer manufactured with the manufacturing method of any one of Claims 1-5 . 単量体(A)に由来する構造単位(A)と単量体(B)に由来する構造単位(B)とを含むケイ素含有重合体であって、
前記単量体(A)は、以下の式(1)で表される少なくとも1種類の化合物であり、
前記単量体(B)は、以下の式(2)で表される少なくとも1種類の化合物であり、
全構造単位に占める前記構造単位(A)の割合が70〜99.5モル%の範囲であり、
全構造単位に占める前記構造単位(B)の割合が0.5〜30モル%の範囲であり、
数平均分子量が10000以上であるケイ素含有重合体。
[式中、R1水素原子である。R2、R3およびR4アルコキシ基である。
[式中、R 5 およびR 6 はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基である。R 7 およびR 8 はアルコキシ基である。]
A silicon-containing polymer comprising a structural unit (A) derived from the monomer (A) and a structural unit (B) derived from the monomer (B),
The monomer (A) is at least one compound represented by the following formula (1):
The monomer (B) is at least one compound represented by the following formula (2) :
The proportion of the structural unit (A) in all structural units is in the range of 70 to 99.5 mol%,
The proportion of the structural unit (B) in the total structural units is in the range of 0.5 to 30 mol%,
A silicon-containing polymer having a number average molecular weight of 10,000 or more.
[Wherein R 1 is a hydrogen atom . R 2 , R 3 and R 4 are alkoxy groups. ]
[Wherein, R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 7 and R 8 are alkoxy groups. ]
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