JP4567541B2 - Method and apparatus for reducing electronic device manufacturing tool footprint - Google Patents
Method and apparatus for reducing electronic device manufacturing tool footprint Download PDFInfo
- Publication number
- JP4567541B2 JP4567541B2 JP2005202138A JP2005202138A JP4567541B2 JP 4567541 B2 JP4567541 B2 JP 4567541B2 JP 2005202138 A JP2005202138 A JP 2005202138A JP 2005202138 A JP2005202138 A JP 2005202138A JP 4567541 B2 JP4567541 B2 JP 4567541B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- floor area
- mainframe
- electronic device
- device manufacturing
- load lock
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
Description
本願は、2004年7月12日に出願された米国特許仮出願第60/587,110号(弁護士ドケット番号9081/L)からの優先権を主張し、この内容は全体が参考までに組み込まれている。 This application claims priority from US Provisional Patent Application No. 60 / 587,110 (lawyer docket number 9081 / L) filed on July 12, 2004, the contents of which are incorporated by reference in their entirety. ing.
本発明は、一般的に、電子デバイス製造に関し、特に、電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる方法および装置に関する。 The present invention relates generally to electronic device manufacturing, and more particularly to a method and apparatus for reducing electronic device manufacturing tool footprint.
図1は、従来の電子デバイス製造工具(又はシステム)101を例示する。図1を参照すると、電子デバイス製造工具101は、メインフレーム電源(例えば、メインフレームパワーボックス)103、メインフレーム107に連結されたメインフレームコントローラ105のようなコンポーネントを含む。メインフレーム107は、一以上の処理チャンバ109を含み、各々の処理チャンバ109は、それぞれの処理チャンバパワーボックス110、処理チャンバコントローラ111、ロードロックチャンバ113に接続された移送チャンバ112に連結されている。電子デバイス製造工具101の占有スペースは、電子デバイス製造工具101により占有された(クリーンルーム内の)床115の面積である。メインフレームパワーボックス103とメインコントローラ105は、メインフレーム107から分離されたラック117(例えば、包囲ラック)に結合されている。そのため、メインフレームパワーボックス103とコントローラ105は、電子デバイス製造工具101のメインフレームから分離された床スペース118を占有し、これにより、電子デバイス製造工具の占有スペースを増加させている。
FIG. 1 illustrates a conventional electronic device manufacturing tool (or system) 101. Referring to FIG. 1, the electronic
さらに、メインフレームパワーボックス103とコントローラ105は、ワイヤリング119を介してメインフレーム107に結合され、ワイヤリング119は、分離されたラック117からメインフレーム107まで伸びている。そのため、分離ラック119がメインフレーム107から遠くに置かれるほど、多くのワイヤリング119が電子デバイス製造工具101により必要になり、システムの集積度は減少する。前述したように、電子デバイス製造工具占有スペースを減少させることにより、工具(又はシステム)の集積度を高めることができる。
Further, the main
したがって、電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる方法および装置が望まれる。 Accordingly, a method and apparatus that reduces the space occupied by electronic device manufacturing tools is desired.
本発明の第1態様において、電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる第1の方法が提供される。第1の方法は、(1)ロードロックが第1床面積を占めるように電子デバイス製造工具のロードロックを位置決めするステップと;(2)第2床面積内にメインフレーム電源を位置決めするステップであって、前記第2床面積の実質的な部分が前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる、前記ステップと;を備える。 In a first aspect of the invention, a first method for reducing electronic device manufacturing tool footprint is provided. The first method includes: (1) positioning the load lock of the electronic device manufacturing tool such that the load lock occupies the first floor area; and (2) positioning the mainframe power source within the second floor area. And wherein a substantial portion of the second floor area is within the first floor area, thereby reducing the electronic device manufacturing tool footprint.
本発明の第2の態様において、電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる第2の方法が提供される。第2の方法は、(1)ロードロックが第1床面積を占めるように電子デバイス製造工具のロードロックを位置決めするステップと;(2)第2床面積内にメインフレームコントローラを位置決めするステップであって、前記第2床面積の実質的な部分が前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる、前記ステップと;を備える。 In a second aspect of the invention, a second method for reducing electronic device manufacturing tool footprint is provided. The second method includes: (1) positioning the load lock of the electronic device manufacturing tool such that the load lock occupies the first floor area; and (2) positioning the mainframe controller within the second floor area. And wherein a substantial portion of the second floor area is within the first floor area, thereby reducing the electronic device manufacturing tool footprint.
本発明の第3の態様において、電子デバイス製造工具出荷コストを減少させる第3の方法が提供される。第3の方法は、(1)電子デバイス製造工具のメインフレーム電源とロードロックをコンテナ内に配置するステップと;(2)前記コンテナを出荷するステップと;
を備える。
In a third aspect of the invention, a third method is provided for reducing electronic device manufacturing tool shipping costs. A third method includes (1) placing a mainframe power supply and load lock of an electronic device manufacturing tool in a container; (2) shipping the container;
Is provided.
本発明の第4の態様において、電子デバイス製造工具出荷コストを減少させる第4の方法が提供される。第4の方法は、(1)電子デバイスのメインフレーム及びロードロックをコンテナ内に配置するステップと;(2)前記コンテナを出荷するステップと;を備える。 In a fourth aspect of the invention, a fourth method for reducing electronic device manufacturing tool shipping costs is provided. The fourth method includes (1) placing the main frame and load lock of the electronic device in the container; and (2) shipping the container.
本発明の第5の態様において、電子デバイス製造工具の占有スペースを減少させる第1の装置が提供される。第1の装置は、(1)ロードロックフレームと;(2)電子デバイス製造工具のロードロックであって、前記ロードロックが第1床面積を占めるように前記ロードロックフレームに結合された、前記ロードロックと;(3)前記ロードロックフレームに結合されたメインフレーム電源であって、前記メインフレーム電源は第2床面積を占める、前記メインフレーム電源と;を備える。前記第2床面積の実質的な部分は、前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具の占有スペースを減少させる。 In a fifth aspect of the invention, a first apparatus is provided for reducing the footprint of an electronic device manufacturing tool. The first apparatus includes: (1) a load lock frame; and (2) a load lock of an electronic device manufacturing tool, wherein the load lock is coupled to the load lock frame so as to occupy a first floor area. (3) a mainframe power source coupled to the loadlock frame, wherein the mainframe power source occupies a second floor area. A substantial portion of the second floor area is within the first floor area, thereby reducing the space occupied by the electronic device manufacturing tool.
本発明の第6の態様において、電子デバイス製造工具の占有スペースを減少させる第2の装置が提供される。第2の装置は、(1)ロードロックフレームと;(2)電子デバイス製造工具のロードロックであって、前記ロードロックが第1床面積を占めるように前記ロードロックフレームに結合された、前記ロードロックと;(3)前記ロードロックフレームに結合されたメインフレームコントローラであって、前記メインフレームコントローラは第2床面積を占める、前記メインフレームコントローラと;を備える。前記第2床面積の実質的な部分は、前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具の占有スペースを減少させる。 In a sixth aspect of the invention, a second apparatus is provided for reducing the footprint of an electronic device manufacturing tool. The second apparatus includes: (1) a load lock frame; and (2) a load lock of an electronic device manufacturing tool, wherein the load lock is coupled to the load lock frame so as to occupy a first floor area. A load lock; and (3) a main frame controller coupled to the load lock frame, wherein the main frame controller occupies a second floor area. A substantial portion of the second floor area is within the first floor area, thereby reducing the space occupied by the electronic device manufacturing tool.
本発明の第7の態様において、(1)第1占有スペースを占めるメインフレームを有する電子デバイス製造工具と;(2)前記第1占有スペースと実質的に重なる第2占有スペースを占めるメインフレーム電源と;を備える、第3の装置が提供される。 In a seventh aspect of the present invention, (1) an electronic device manufacturing tool having a main frame that occupies a first occupied space; and (2) a main frame power source that occupies a second occupied space that substantially overlaps the first occupied space. And a third device is provided.
本発明の第8の態様において、(1)第1占有スペースを占めるメインフレームを有する電子デバイス製造工具と;(2)前記第1占有スペースと実質的に重なる第2占有スペースを占めるメインフレームコントローラと;を備える、第5の装置が提供される。本発明の、これらの態様と他の態様に従うシステムおよび装置のように、数多くの態様が提供される。 In an eighth aspect of the present invention, (1) an electronic device manufacturing tool having a main frame that occupies a first occupied space; and (2) a main frame controller that occupies a second occupied space substantially overlapping the first occupied space. And a fifth device is provided. Numerous aspects are provided, such as systems and apparatus according to these and other aspects of the invention.
本発明の他の特徴及び態様は、以下の詳細な説明、添付された請求項、図面から十分に明らかになるであろう。 Other features and aspects of the present invention will become more fully apparent from the following detailed description, the appended claims and the drawings.
本発明は、電子デバイス製造工具(又はシステム)の占有スペースの減少および集積度の向上に関する。図2は、本発明の一実施形態に従う例示的な電子デバイス製造工具(又はシステム)201を例示する。電子デバイス製造工具201は、フラットパネルディスプレイ、半導体ウエハ等を製造する為に使用されるポリマー又はガラス製基板のような基板を製造および/または処理する為に使用可能である。図2を参照すると、例示的な電子デバイス製造工具201の構成は、図1の従来の電子デバイス製造工具101に似ている。より詳細には、例示的な電子デバイス製造工具201は、メインフレーム203を含む。メインフレーム203は、一以上の処理チャンバ205を含み、各々の処理チャンバ205は、それぞれの処理チャンバ用パワーボックス206、処理チャンバ用コントローラ207、移送チャンバ208、ロードロック209に結合されている。ロードロック209は、ロードロック用ラック211により支持されている。
The present invention relates to a reduction in the space occupied by an electronic device manufacturing tool (or system) and an increase in the degree of integration. FIG. 2 illustrates an exemplary electronic device manufacturing tool (or system) 201 according to one embodiment of the present invention. The electronic
例示的な電子デバイス製造工具201のメインフレーム用パワーボックス(例えば、電源)213は、電力をメインフレーム203および各々の処理チャンバ電力ボックス206に供給するが、従来の電子デバイス製造工具101のメインフレームパワーボックス103とは異なる位置に置かれている。より具体的には、ロードロック209は、ロードドック209が第1床面積215を占有し、メインフレーム用電力ボックス213が第2床面積217を占有するように位置決めされ、その実質的な部分が第1床面積215内に含まれるように(例えば、ロードロック用ラック211上に)位置決めされている。例えば、第1床面積215は、第2床面積217の全体を含んでもよい。メインフレームパワーボックス213は、ロードロック用ラック211に結合するように適合されている。例えば、メインフレームパワーボックス213は、ロードロック用ラック211に結合可能であり、ロードロック用ラック211により支持され、更に/又は、ロードロック209の一体部分になっている。例えば、メインフレームパワーボックス213は、ロードロック209の下に位置決めされてもよい。しかし、メインフレームパワーボックス213は、他の位置(例えば、ロードロック209の上方)でもよい。そのため、例示的な電子デバイス製造工具201の構成によると、ロードロック209、メインフレームパワーボックス213は、少なくとも実質的に重複する床面積を占有する。この方式によると、電子デバイス製造工具201の占有スペースが減少される。電子デバイス製造工具占有スペースの減少により、クリーンルームの必要な大きさが減少し、工具を操作するコストを低減することができる。
The mainframe power box (eg, power source) 213 of the exemplary electronic
代替え的または追加的に、前述した方式と同様の方式において、例示的な電子デバイス製造工具201のメインフレームコントローラ218は、従来の電子デバイス製造工具101のメインフレームコントローラ105とは異なる位置に置かれてもよい。例えば、メインフレームパワーボックス213及びメインフレームコントローラ218の両方が、製造工具101の占有スペースを減少するように位置決めされる実施形態において、メインフレームコントローラ218は、実質的な部分が第1床面積215内部に含まれる床面積(例えば、第3床面積)219を占有するように位置決めされている。例えば、第1床面積215は、第3床面積219の少なくとも50%、好ましくは全部を含んでもよい。メインフレームコントローラ218は、ロードロック用ラック215に結合され、それにより支持されるように適合可能である。例えば、メインフレームコントローラ218は、メインフレームパワーボックス213が結合されるロードロック用ラック211の側部の反対側で、ロードロック用ラック211の側部に結合可能である。または、メインフレームコントローラ218は、他の部分やロードロック用ラック211の側部に結合可能である。さらに、メインフレームコントローラ218は、ロードロック209の上方または下方に位置決め可能である。そのため、図2に示された例示的な構成によると、ロードロック209及びメインフレームコントローラ218は、重複する床面積を占有する。この方式によると、電子デバイス製造工具201の占有スペースが減少される。
Alternatively or additionally, in a manner similar to that described above, the
発明の電子デバイス製造工具201のメインフレームコントローラ218及び/又はメインフレームパワーボックス213は、メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218及び電子デバイス製造工具201の他のコンポーネント間のワイヤリング220を減少させることができる。より具体的には、メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218の位置のため、電子デバイス製造工具201は、メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218からメインフレーム203までを結合する為に、分離された包囲体からメインフレーム203まで、ワイヤリングを走行させる必要はない。メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218とメインフレーム213との間のワイヤリング220は、メインフレームの占有スペース内部にコンパクトに適合可能である。そのため、電子デバイス製造工具の占有スペースを減少させることに加えて、この方法及び装置は、システム集積度を高め、システムの複雑性を少なくすることができる。
本発明の実施形態によると、例示的な電子デバイス製造工具201は、従来の電子デバイス製造工具101より、効率的に輸送可能である。より具体的には、従来、メインフレームパワーボックス103,メインフレームコントローラ105は、従来の電子デバイス製造工具101のロードロック113から分離して出荷される。対称的に、本発明の電子デバイス製造工具201のメインフレームパワーボックス213は、ロードロック209と共に出荷可能である。前述したように、メインフレームパワーボックス213は、ロードロック用ラック211を結合するように適合され、ロードロック209と共に重複する占有スペースを占める。そのため、(例えば、両方ともロードロック用ラック209に組み立てられる)本発明の電子デバイス製造工具201のメインフレームパワーボックス213とロードロック209は、同一のコンテナで出荷可能である。ロードロック209とメインフレームパワーボックス213を同一コンテナで出荷することにより、例示的な電子デバイス製造工具201を出荷する為に必要なコンテナの総数が減少される。したがって、電子デバイス製造工具の出荷コストは減少される。代替え的または追加的に、同様の方式において、メインフレームコントローラ218は、ロードロック209と同一コンテナで出荷可能である。
According to an embodiment of the present invention, the exemplary electronic
前述した説明は、単に本発明の実施形態を開示する。本発明の範囲内に入る前述した装置及び方法の変形例は、当業者にとって、容易に明らかであろう。一以上の実施形態において、メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218により占有される床面積(例えば、第2床面積及び/又は第3床面積)の実質的部分(例えば、少なくとも50%、好ましくは100%)は、ロードロック209により占有される床面積(例えば、第1床面積215)内にある。しかし、他の実施形態において、メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218により占有される床面積の実質的部分は、電子デバイス製造工具201の他のコンポーネントにより占有される床面積内でもよい。例えば、メインフレームパワーボックス213及び/又はメインフレームコントローラ218は、電子デバイス製造工具201の他のコンポーネント、又は、そのコンポーネントの支持ラックに結合可能である。
The foregoing description merely discloses embodiments of the invention. Variations of the above-described apparatus and methods that fall within the scope of the invention will be readily apparent to those skilled in the art. In one or more embodiments, a substantial portion (eg, at least 50%) of the floor area (eg, second floor area and / or third floor area) occupied by
したがって、本発明は、その例示の実施形態との関係で説明されてきたが、添付された請求の範囲により規定された本発明の精神及び範囲内に他の実施形態が入ることが理解されよう。 Thus, while the invention has been described in connection with exemplary embodiments thereof, it will be understood that other embodiments are within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. .
101…電子デバイス製造工具、103…メインフレームパワーボックス、105…メインフレームコントローラ、107…メインフレーム、109…処理チャンバ、110…処理チャンバ用パワーボックス、111…処理チャンバ用コントローラ、112…移送チャンバ、113…ロードロック、115…床、117…分離ラック、118…床スペース、119…ワイヤリング、201…電子デバイス製造工具、203…メインフレーム、205…処理チャンバ、206…処理チャンバ用パワーボックス、207…処理チャンバ用コントローラ、209…ロードロック、211…ロードロック用ラック、213…メインフレームパワーボックス、215…第1床面積、217…第2床面積、218…メインフレームコントローラ、219…床面積、220…ワイヤリング
DESCRIPTION OF
Claims (18)
ロードロックが第1床面積を占めるように電子デバイス製造工具のロードロックを位置決めするステップと、
第2床面積内にメインフレーム電源を位置決めするステップであって、前記第2床面積の少なくとも50%が前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具占有スペースを減少させると共に、前記メインフレーム電源は少なくとも1つの処理チャンバ電力ボックスに電力を供給するようにされている、前記ステップと、
前記ロードロックの下方にメインフレームコントローラを位置決めするステップと、
を備える、前記方法。 A method for reducing the space occupied by electronic device manufacturing tools,
Positioning the load lock of the electronic device manufacturing tool such that the load lock occupies the first floor area;
Positioning a mainframe power source within a second floor area, wherein at least 50% of the second floor area is within the first floor area, thereby reducing the electronic device manufacturing tool footprint. The mainframe power supply is adapted to supply power to at least one processing chamber power box;
Positioning a mainframe controller below the load lock;
Said method.
ロードロックが第1床面積を占めるように電子デバイス製造工具のロードロックを位置決めするステップと、
第2床面積内にメインフレームコントローラを位置決めするステップであって、前記第2床面積の少なくとも50%が前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具占有スペースを減少させる、前記ステップと、
第3床面積内にメインフレーム電源を位置決めするステップであって、前記第3床面積の少なくとも50%が前記第1床面積内部にあると共に、前記メインフレーム電源は少なくとも1つの処理チャンバ電力ボックスに電力を供給するようにされている、前記ステップと、
を備える、前記方法。 A method for reducing the space occupied by electronic device manufacturing tools,
Positioning the load lock of the electronic device manufacturing tool such that the load lock occupies the first floor area;
Positioning a mainframe controller within a second floor area, wherein at least 50% of the second floor area is within the first floor area, thereby reducing the electronic device manufacturing tool occupation space; Said step;
Positioning a mainframe power source within a third floor area, wherein at least 50% of the third floor area is within the first floor area and the mainframe power source is in at least one processing chamber power box. Said step being adapted to supply power;
Said method.
ロードロックフレームと、
電子デバイス製造工具のロードロックであって、前記ロードロックが第1床面積を占めるように前記ロードロックフレームに結合された、前記ロードロックと、
前記ロードロックフレームに結合されたメインフレーム電源であって、前記メインフレーム電源が第2床面積を占めると共に、前記第2床面積の少なくとも50%が前記第1床面積内部にあり、それにより、前記電子デバイス製造工具の占有スペースを減少させると共に、少なくとも1つの処理チャンバ電力ボックスに電力を供給するようにされている、前記メインフレーム電源と、
を備える、前記装置。 An apparatus for reducing an electronic device manufacturing tool occupation space,
A load lock frame;
A load lock for an electronic device manufacturing tool, wherein the load lock is coupled to the load lock frame such that the load lock occupies a first floor area;
A mainframe power source coupled to the load lock frame, wherein the mainframe power source occupies a second floor area and at least 50% of the second floor area is within the first floor area, thereby The mainframe power supply configured to reduce power footprint of the electronic device manufacturing tool and to supply power to at least one processing chamber power box;
The apparatus comprising:
前記第1占有スペースと少なくとも50%が重なる第2占有スペースを占めるメインフレームコントローラと、
前記第1占有スペースと少なくとも50%が重なる第3占有スペースを占めるメインフレーム電源であって、少なくとも1つの処理チャンバ電力ボックスに電力を供給するようにされている、前記メインフレーム電源と、
を備える、装置。 A main frame, and an electronic device manufacturing tool having a load lock frame, a load lock occupies a first footprint while being coupled to the load lock frame,
A mainframe controller occupying a second occupied space overlapping at least 50% with the first occupied space;
A mainframe power supply occupying a third occupancy space overlapping at least 50% with the first occupancy space, wherein the mainframe power supply is adapted to supply power to at least one processing chamber power box;
An apparatus comprising:
The apparatus of claim 17, wherein the mainframe power supply is adapted to supply power to a plurality of processing chamber power boxes.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US58711004P | 2004-07-12 | 2004-07-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006041509A JP2006041509A (en) | 2006-02-09 |
JP4567541B2 true JP4567541B2 (en) | 2010-10-20 |
Family
ID=35906106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005202138A Expired - Fee Related JP4567541B2 (en) | 2004-07-12 | 2005-07-11 | Method and apparatus for reducing electronic device manufacturing tool footprint |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060104799A1 (en) |
JP (1) | JP4567541B2 (en) |
KR (1) | KR100648321B1 (en) |
CN (1) | CN1802084B (en) |
TW (1) | TWI297906B (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6463220B2 (en) * | 2015-05-21 | 2019-01-30 | 東京エレクトロン株式会社 | Processing system |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10275848A (en) * | 1996-11-18 | 1998-10-13 | Applied Materials Inc | Dual blade robot |
JPH11150071A (en) * | 1997-11-14 | 1999-06-02 | Tokyo Electron Ltd | Processor and processing system using the same |
JP2001160578A (en) * | 1999-11-30 | 2001-06-12 | Anelva Corp | Vacuum transfer treatment device |
JP2002343720A (en) * | 2001-05-11 | 2002-11-29 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Heat treatment system |
JP2003017543A (en) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate processing apparatus, substrate processing method, semiconductor device manufacturing method, and conveying apparatus |
JP2003092329A (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate processing system |
JP2003133388A (en) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Ulvac Japan Ltd | Substrate-conveying apparatus |
JP2004119401A (en) * | 2002-09-20 | 2004-04-15 | Foi:Kk | Substrate processing system |
JP2004522321A (en) * | 2000-12-01 | 2004-07-22 | ウエファーマスターズ, インコーポレイテッド | Wafer processing system including robot |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5855681A (en) * | 1996-11-18 | 1999-01-05 | Applied Materials, Inc. | Ultra high throughput wafer vacuum processing system |
US5909994A (en) * | 1996-11-18 | 1999-06-08 | Applied Materials, Inc. | Vertical dual loadlock chamber |
US6059507A (en) * | 1997-04-21 | 2000-05-09 | Brooks Automation, Inc. | Substrate processing apparatus with small batch load lock |
US6303906B1 (en) * | 1999-11-30 | 2001-10-16 | Wafermasters, Inc. | Resistively heated single wafer furnace |
US6860965B1 (en) * | 2000-06-23 | 2005-03-01 | Novellus Systems, Inc. | High throughput architecture for semiconductor processing |
US20030213560A1 (en) * | 2002-05-16 | 2003-11-20 | Yaxin Wang | Tandem wafer processing system and process |
US8798964B2 (en) * | 2002-11-06 | 2014-08-05 | Hewlett-Packard Development Company, L. P. | Methods and apparatus for designing the racking and wiring configurations for pieces of hardware |
-
2005
- 2005-07-11 JP JP2005202138A patent/JP4567541B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-11 US US11/179,037 patent/US20060104799A1/en not_active Abandoned
- 2005-07-12 KR KR1020050062596A patent/KR100648321B1/en active IP Right Grant
- 2005-07-12 TW TW094123643A patent/TWI297906B/en not_active IP Right Cessation
- 2005-07-12 CN CN2005101132259A patent/CN1802084B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10275848A (en) * | 1996-11-18 | 1998-10-13 | Applied Materials Inc | Dual blade robot |
JPH11150071A (en) * | 1997-11-14 | 1999-06-02 | Tokyo Electron Ltd | Processor and processing system using the same |
JP2001160578A (en) * | 1999-11-30 | 2001-06-12 | Anelva Corp | Vacuum transfer treatment device |
JP2004522321A (en) * | 2000-12-01 | 2004-07-22 | ウエファーマスターズ, インコーポレイテッド | Wafer processing system including robot |
JP2002343720A (en) * | 2001-05-11 | 2002-11-29 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Heat treatment system |
JP2003017543A (en) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate processing apparatus, substrate processing method, semiconductor device manufacturing method, and conveying apparatus |
JP2003092329A (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate processing system |
JP2003133388A (en) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Ulvac Japan Ltd | Substrate-conveying apparatus |
JP2004119401A (en) * | 2002-09-20 | 2004-04-15 | Foi:Kk | Substrate processing system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200614328A (en) | 2006-05-01 |
TWI297906B (en) | 2008-06-11 |
KR20060050063A (en) | 2006-05-19 |
US20060104799A1 (en) | 2006-05-18 |
CN1802084B (en) | 2011-08-10 |
KR100648321B1 (en) | 2006-11-23 |
JP2006041509A (en) | 2006-02-09 |
CN1802084A (en) | 2006-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9266234B2 (en) | Transfer robot and substrate processing apparatus | |
JP2007005582A (en) | Substrate transfer apparatus and semiconductor substrate manufacturing apparatus mounted with the same | |
KR20070103694A (en) | Substrate transportation and processing apparatus | |
US9508576B2 (en) | Process equipment architecture | |
JP4567541B2 (en) | Method and apparatus for reducing electronic device manufacturing tool footprint | |
US20090035101A1 (en) | two-dimensional transfer station used as interface between a process tool and a transport system and a method of operating the same | |
TWI246736B (en) | Intermediate product manufacturing apparatus, and intermediate product manufacturing method | |
EP1744348A3 (en) | A semiconductor manufacturing apparatus having a built-in inspection apparatus and method therefor | |
JPH10135302A (en) | Semiconductor device manufacturing line | |
JP2001160578A (en) | Vacuum transfer treatment device | |
US7032739B2 (en) | Intermediate product carrying apparatus, and intermediate product carrying method | |
WO2017164252A1 (en) | Bonding device and bonding method | |
JP2004281475A (en) | Sheet wafer transfer system and transfer method | |
EP1237178B1 (en) | Self-supporting adaptable metrology device | |
CN101840847A (en) | Substrate heat processing apparatus | |
JP5075835B2 (en) | Semiconductor manufacturing system | |
KR102166348B1 (en) | Method of controlling operations of transport apparatus | |
JP2010161157A (en) | Substrate storing method and storage medium | |
JP2008300723A (en) | Processing apparatus | |
CN106298589B (en) | Substrate processing system | |
JP2004319889A (en) | Manufacturing-object delivering apparatus and method | |
JPH09298227A (en) | Wafer cassette transportation system | |
WO2006093120A1 (en) | Relay station and substrate processing system using relay station | |
JPH05238536A (en) | Tray changer for parts | |
KR102181492B1 (en) | Method of controlling operations of transport apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072 Effective date: 20051220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090812 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090817 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090914 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090917 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091013 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091016 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091112 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20091112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100112 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100412 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100415 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100511 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100720 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100805 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4567541 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813 Year of fee payment: 3 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |