JP4562279B2

JP4562279B2 - イオン付着質量分析の方法および装置

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Publication number: JP4562279B2
Application number: JP2000376072A
Authority: JP
Inventors: 善郎塩川; 芳樹平野; 恵中村; 敏博藤井
Original assignee: Canon Anelva Corp
Current assignee: Canon Anelva Corp
Priority date: 2000-12-11
Filing date: 2000-12-11
Publication date: 2010-10-13
Anticipated expiration: 2020-12-11
Also published as: JP2002181782A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はイオン付着質量分析の方法および装置に関し、特に、ガスの成分・濃度を正確に測定するイオン付着質量分析の方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
イオン付着質量分析装置（Ion Attachment Mass Spectrometer ）は、解離を発生させずに被検出ガスを質量分析することができるという特性を有する。従来より、Hodge（Analytical Chemistry vol.48 No.6 P825 (1976) ）やBombick（Analytical Chemistry vol.56 No.3 P396 (1984)）、藤井（Analytical Chemistry vol.61 No.9 P1026 (1989)、Chemical Physics Letters vol.191 No.1.2 P162 (1992)、特開平6-11485号公報）によりイオン付着質量分析装置の報告がなされている。
【０００３】
図５に従来のイオン付着質量分析装置の代表的構成を示す。イオン付着質量分析装置は一般にエミッタ１１１と反応領域１１２と質量分析器１１３と質量分析制御部（電源）１１４とデータ処理装置１１５と被検出ガスボンベ１１６と冷却用ガスボンベ１１７を備えている。エミッタ１１１は反応領域１１２内の中央に配置されている。反応領域１１２は容器１１０の図中左半部に設けられ、上記質量分析器１１３は容器１１０の右半部に設けられている。容器１１０の左側が上流側となっている。エミッタ１１１はアルカリ金属の酸化物を含む材料、例えばＬｉ酸化物とＳｉ酸化物とＡｌ酸化物の混合物から構成されている。エミッタ１１１が加熱されると、Ｌｉ⁺などの正電荷の金属イオンが空間に放出され、反応領域１１２に存在している被検出ガスに付着して金属イオンの付着したガスが生成される。この時に、金属イオンの付着したガスを原子レベルで冷却して安定化させるために、被検出ガスとは別にＮ₂など不活性なガスを冷却用ガスとして冷却用ガスボンベ１１７から反応領域１１２に導入する。
【０００４】
金属イオンの付着したガスは全体として正の電荷を持ったイオンとなり、その質量は被検出ガスと金属イオンの各質量が加算された値となる。例えば、Ｈ₂ＯであればＨ₂ＯＬｉ⁺となり、Ｈ₂Ｏの１８amu（atomic mass unit：原子質量単位）にＬｉの７amuが加えられた２５amuとなる。このようにして全体として正の電荷を持つイオンとなった被検出ガスは、質量分析器１１３により質量数毎に分別されて検出され、その信号強度が質量分析制御部１１４内の計測器により計測される。質量分析制御部１１４内の計測器からは、質量数と質量数に対応する信号強度のデータがデータ処理装置１１５に送られる。
【０００５】
データ処理装置１１５では、上記の信号強度のデータに対して各種の処理が行われる。最も基本的な処理としては、マススペクトルを表示するため、横軸に質量数を、縦軸にその質量数に応じた信号強度をとってグラフ化するものである。
このとき、信号強度を規格化し、あるいは特定質量数のみを表示するなどの処理も必要に応じて行われる。なお、イオン付着質量分析装置によるマススペクトルには、被検出ガスのピーク以外に冷却用ガスのピークやガスに付着しなかった金属イオンのピークも出現する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
多くの元素は特定の１つの質量だけを持っている元素が存在するのではなく同一の元素であっても前後に１〜３amuだけ異なる質量を持つ元素が存在する。これらの元素は同位体として知られており、Ｌｉは質量が７amuである原子以外に質量が６amuである同位体をわずかに持っている。なお、同位体は中性子の数が異なるだけで陽子・電子の数は同じであるため質量という物理的な性質は異なるが、化学的性質はほぼ同一である。
【０００７】
従って、先のＨ₂Ｏの例を正確に言えば、Ｌｉ⁺イオンが付着すると２５amuだけでなく２４amuのイオンも発生する。これらは通常の測定では特に問題とはならないが、状況によっては深刻な問題となる。例えば、Ｈ₂Ｏより１amuだけ小さなＯＨがＨ₂Ｏの中に含まれているかどうかを調べたいときには、微量の７amuの質量のＬｉ⁺イオンが付着したＯＨは６amuの質量のＬｉ⁺の同位体が付着したＨ₂Ｏ同位体の信号と重なりＯＨの有無が判別困難となる。
【０００８】
これらの状況を図６に示す。図６の（Ａ）は付着する金属イオンに同位体のない場合のスペクトルである。ピーク１１８は同位体のない金属イオンのスペクトルであり、ピーク１２０はＯＨに同位体のない金属イオンが付着したもののスペクトルであり、ピーク１２１はＨ₂Ｏに同位体のない金属イオンが付着したもののスペクトルである。この場合にはＨ₂ＯとＯＨのピーク高が正確に出力している。
【０００９】
図６の（Ｂ）は付着する金属イオンが同位体のあるＬｉ⁺の場合のスペクトルである。ピーク１２２は質量が７amuのＬｉ⁺イオンのスペクトルであり、ピーク１２３は質量が６amuのＬｉの同位体のイオンのスペクトルである。また、ピーク１２４はＨ₂Ｏに質量が７amuのＬｉ⁺イオンが付着したもののスペクトルであり、ピーク１２５はＯＨに質量が７amuのＬｉ⁺イオンが付着したもののスペクトルとＨ₂Ｏに質量が６amuのＬｉの同位体のイオンが付着したもののスペクトルが重なったものである。
【００１０】
図６の（Ｂ）で明らかなように、同位体のある金属イオンを用いる場合には、ＯＨに７amuの質量のＬｉ⁺イオンが付着したものによるスペクトルとＨ₂Ｏに６amuの質量のＬｉ⁺イオンが付着したものによるスペクトルが重なって出力されており、これらを区別することが困難である。
【００１１】
本発明の目的は、上記問題を解決するため、同位体の存在する金属イオンを付着用イオンとした場合でも、正確な同位体付加率を得ることができ、また、被検出ガスの成分・濃度を正確に測定できるイオン付着質量分析の方法および装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るイオン付着質量分析の方法および装置は、上記の目的を達成するために次のように構成される。
【００１３】
第１のイオン付着質量分析の方法（請求項１に対応）は、正電荷の金属イオンを付着させた被検出ガスを質量分析して得られる質量数に対応する信号強度のデータ処理を、金属イオンの同位体付加率のデータを使用して行うイオン付着質量分析の方法であり、データ処理に使用する金属イオンの同位体付加率を、イオン付着質量分析法における金属イオンが付着したガスのマススペクトルから求め、金属イオンが付着したガスとして、被検出ガスとは別に反応室に導入される他のガスを使用し、他のガスは金属イオンが付着したガスと冷却用ガスを兼用していることで特徴づけられる。これにより、同位体の存在する金属イオンを付着用イオンとした場合、被検出ガスの成分・濃度を正確に測定することができる。
【００１４】
第２のイオン付着質量分析の方法（請求項２に対応）は、上記の方法において、好ましくは、他のガスはＮ _２，Ａｒ，Ｈｅのうちの１つであることで特徴づけられる。
【００１９】
第３のイオン付着質量分析の方法（請求項３に対応）は、上記の各方法において、好ましくは、上記のデータ処理としては、金属イオンが低質量側に同位体を持つ場合には、マススペクトルの高質量側の信号強度を用いて順次低質量側へ補正計算を行うことで特徴づけられる。
【００２０】
第４のイオン付着質量分析の方法（請求項４に対応）は、上記の各方法において、データ処理としては、正電荷の金属イオンが高質量側に同位体を持つ場合には、マススペクトルの低質量側の信号強度を用いて順次高質量側へ補正計算を行うことで特徴づけられる。
【００２１】
イオン付着質量分析装置（請求項５に対応）は、正電荷の金属イオンを発生させるエミッタ、被検出ガスに金属イオンを付着させる反応領域、正電荷の金属イオンが付着した被検出ガスを質量分離して検出する質量分析器、質量分析器を制御する質量分析制御部、質量分析制御部から送られた質量数と質量数に対応する信号強度のデータを処理するデータ処理装置により構成され、さらにデータ処理装置は、データ処理に使用する金属イオンの同位体付加率を、イオン付着質量分析法における金属イオンが付着したガスであって、被検出ガスとは別に反応室に導入されかつ冷却用ガスを兼用する他の当該ガスのマススペクトルから求める演算手段と、演算手段で求められた正電荷の金属イオンの同位体付加率のデータが入力され、同位体付加率のデータを用いて処理を行う処理手段を含むことで特徴づけられる。
【００２３】
【作用】
Ｌｉについては、質量が７amuの原子と質量が６amuの原子の存在比率は一般的には９２．５％と７．５％になっていることが知られている。また、イオン付着において、金属イオンが付着する過程はほとんどが化学的なものとみなされるので、化学的性質の同じ同位体では付着の効率もほぼ同じと考えられる。
【００２４】
そこで、被検出ガスに付着させる金属イオンがＬｉ⁺で被検出ガスがＨ₂Ｏの場合、金属イオンが付着して生成されたＨ₂ＯＬｉ⁺での質量が２５amuの分子と質量が２４amuの分子の存在比率は、Ｌｉの質量７amuの原子と質量６amuの原子の存在比率と同じ９２.５％と７.５％になる。すなわち、質量２５amuのピーク高の（７．５/９２．５）倍の同位体による分が質量２４amuの本来のピーク高に付加されて現れている。そこでデータ処理による補正計算として、この付加率を計算して取り除けば質量２４amuの本来の７amuのＬｉ⁺が付着したＯＨのピーク高を求めることができる。
【００２５】
しかしながら、もしこの時に７amuのＬｉ⁺イオンが付着したＨ₂Ｏより１amuだけ高質量側の質量２６amuに大きなピークがあったとすると、質量２５amuのピークにもすでに質量２６amuのピークの同位体分が含まれていることになって、先の補正計算が正しく行えないことになる。このような場合には、高質量側の隣接する質量数にはピークがない（実際には、無視し得るピークしか持たない）質量数から順次低質量側へ補正計算を行うことで正しい結果を導くことができる。ただし、これは付着させる金属イオンがＬｉのように低質量側に同位体を持つ場合である。
【００２６】
もし、付着させる金属イオンが高質量側に同位体を持つ場合には、低質量側の隣接する質量数には無視し得るピークしか持たない質量数から順次高質量側へ補正計算を行うことが必要となる。
【００２７】
以上ではデータ処理に使用する同位体の存在比率を文献値を使用したが、この値は厳密には正しいとは言えない。原料の違いや精製過程での分離効果により最大数％程度のずれがあることが知られている。また、質量分析器には測定レンジによる最大数％程度の測定感度の違いが存在する。すなわち、微量な同位体を測定するために測定感度を１００倍に設定しても実際には１００倍とならず、例えば１０５倍などとなる場合が多い。このような場合に同位体の存在比率として文献値をそのまま使用すると補正計算が正しく行えない。
【００２８】
そこで、実際に測定されたマススペクトルの中から既知の成分のピークを調べて本来の形との違いから同位体の存在比率を導き出し、これをデータ処理に使用すればより正しい補正計算が行える。
【００２９】
同位体の存在比率を導き出すために使用する既知の成分としては、最も簡単なのはガスに付着しなかった金属イオンそのものである。そこには、同位体の存在比率がピーク高の比として直接現われている。ただしこの金属イオンのピークでは、付着過程でわずかに異なる付着効率の違いや被検出ガスの測定レンジが異なることによる測定感度の違いも反映できない。
【００３０】
そこで、被検出ガスの中で１つのピークしか持たないガス既知の成分があってかつこの成分が隣接した質量数には無視し得るピークしか持たない場合には、本来のピークと新たに出現した同位体による付加ピークの高さ比から同位体付加率を知ることができる。
【００３１】
また、冷却用として反応領域に導入されているＮ₂などのガスを利用して同位体付加率を知ることもできる。冷却用ガスは導入量としては被検出ガスよりは桁違いに大きいが不活性であるため金属イオンに付着する効率が非常に低く、結果的には被検出ガスと概ね同じ程度のピーク高となることが多い。従って、冷却用ガスが隣接した質量数には無視し得るピークしか持たない場合には、同様にして同位体付加率を知ることができる。
【００３２】
さらに、補正計算精度の向上のため冷却用ガスと被検出ガスのピーク高をより一致させたい場合には、冷却用ガスとして順次付着効率が低くなっているＮ₂、Ａｒ、Ｈｅの内から適宜選択して、あるいは同時に導入することもできる。またさらには、補正計算専用として既知のガスを用意して別途反応室に導入することもできる。この場合には、導入量を自由に調整できるのでピークの大きさを完全に同じにすることができる。このようにして、より正確な同位体付加率を知ることができる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施形態を添付図面に基づいて説明する。
【００３４】
図１に本発明によるイオン付着質量分析装置の第１の実施形態を示す。このイオン付着質量分析装置は、エミッタ１１、反応領域１２、質量分析器１３、質量分析制御部１４、データ処理装置１５、被検出ガスボンベ１６、冷却用Ｎ₂ガスボンベ１７、冷却用Ａｒガスボンベ１８、冷却用Ｈｅガスボンベ１９、補正計算用ガスボンベ２０から構成される。基本的な動作は従来装置と同じである。
【００３５】
第１の実施形態では、エミッタ１１として低質量側に同位体を持つＬｉを放出するものを用いる。そのとき得られる被検出ガスのスペクトルを図２の（Ａ）に示す。図２の（Ｂ）には同位体の影響のない本来の被検出ガスのスペクトルを示す。同位体の影響のない本来の被検出ガスのスペクトルでは、それぞれのピーク高がａ₀，ｂ₀，ｃ₀のピーク２１，２２，２３の３個のピークが存在する。また、これらのピークの間隔は、１amuとなっている。しかし、同位体の影響のあるＬｉ⁺が付着して得られた被検出ガスのスペクトルには、それぞれのピーク高がａ₁，ｂ₁，ｃ₁，ｄ₁であるピーク３１，３２，３３，３４の４個のピークが存在する。それらのピークの高さ比率は本来のものと異なっている。
【００３６】
そこで、実際に得られた被検出ガスのスペクトルから本来のピーク高を得るための補正計算をデータ処理装置１５にて以下のように行う。まず最も高質量側のピーク３１の質量数に注目する。この質量数のさらに高質量側の隣接する質量数にはピークがない（実際には、無視し得るピークしか持たない）ことが確認できれば、この質量数のピーク３１のピーク高ａ₁には同位体の影響がなく本来のピーク２１のピーク高ａ₀であることが判断される。そこで同位体付加率（存在比率）がＲとすると、低質量側１amu異なるところに隣接する質量数のピーク３２にはａ₀・Ｒの同位体による付加分があるので、この付加分を差し引いて本来のピーク高ｂ₀を求めることができる。
【００３７】
次に、さらに低質量側１amu異なるところに隣接する質量数のピーク３３にはｂ₀・Ｒの同位体による付加分があると計算できる。また、さらに低質量側１amu異なるところに隣接する質量数のピーク３４にはｃ₀・Ｒの同位体による付加分が現れ、本来の３本のピークであったものが４本のピークとして現れる。このように高質量側から順次補正計算を行うことにより、被検出ガスの本来のピーク高を求めることができる。
【００３８】
この補正計算で使用する同位体付加率Ｒは、１）同位体存在比率の文献値、２）金属イオンのスペクトル、３）被検出ガスのスペクトル、４）冷却用ガスのスペクトル、５）補正計算用ガスのスペクトル、などから求めることができる。１）は広く知られている同位体存在比率を使う方法で、Ｌｉの場合には質量７amuの原子と質量６amuの原子の存在比率は９２．５％と７．５％であるとされている。２）〜５）は、実際に測定して得られたスペクトルから求める。
【００３９】
実際に得られるスペクトルを図３に示す。（Ａ）には付着しなかった金属イオンのスペクトル、（Ｂ）には１つのピークしか持たない既知ガスに金属イオンが付着したスペクトル、（Ｃ）には複数のピークを持つ被検出ガスに金属イオンが付着したスペクトルを示す。（Ａ）で示すように、付着しなかった金属イオンのスペクトルではピーク高αのピーク３６とピーク高βのピーク３７の２本のピークが存在し、それらは金属イオンとその同位体によるピークである。また（Ｂ）に示すように、１つのピークしか持たない既知ガスに金属イオンが付着したスペクトルでは、ピーク高α’のピーク３８とピーク高β’のピーク３９の２本のピークが存在する。さらに、（Ｃ）で示すように、イオン付着した被検出ガスのスペクトルでは、ピーク４０，４１，４２，４３の４本のピークが存在する。（Ｂ）の１つのピークしか持たない既知ガスとしては、被検出ガスの中のガスの場合もあるし、冷却用ガスや別途導入した補正用ガスなどの場合がある。上記の２）はこのうち（Ａ）の付着しなかった金属イオンのスペクトルから同位体付加率を読み取る。すなわち、ピーク３６とピーク３７より、同位体付加率Ｒは、ピーク高α，βを用いてＲ＝β／αから得られる。上記の３）〜５）は（Ｂ）の１つのピークしか持たない既知ガスに金属イオンが付着したスペクトルから同位体付加率を読み取る。すなわち、ピーク３８とピーク３９より、同位体付加率Ｒは、ピーク高α’，β’を用いてＲ＝β’／α’から得られる。
【００４０】
１つのピークしか持たない既知ガスとしてどれを使うかはその時の状況による。たまたま、被検出ガスの中に該当するものがあればこれを利用できるが、１つのピークしか持たない既知ガスであると判断するには注意深い検討が必要である。ただ、同種類のガスをルーチン的に測定する場合には効率の良い方法となる場合が多い。
【００４１】
未知成分の測定には、冷却用ガスを利用するのが一般的である。読み取るスペクトルが決っているため自動化が行いやすい。このとき、補正計算の精度を上げるため冷却用ガスと被検出ガスのピーク高をより一致させることが望ましい。そのため、冷却用ガスとして比較的付着効率が高いＮ₂、中ほどのＡｒ、低いＨｅの３つのガスの内から適宜選択して、あるいは同時に導入することもできる。すなわち予め、冷却用Ｎ₂ガスボンベ１７、冷却用Ａｒガスボンベ１８、冷却用Ｈｅガスボンベ１９の３つのボンベを用意し、これらから使用するガスを選んで使用する。
【００４２】
ピークの大きさを完全に同じとして補正計算の精度をより上げるためには、導入量を自由に調整できる補正計算専用の既知ガスを使用することが有効である。
すなわち予め、補正計算用ガスボンベ２０を用意して、補正計算時にのみ使用する。
【００４３】
次に図４を参照して本発明の第２の実施形態を説明する。第２の実施形態では、エミッタ１１には高質量側に同位体を持つＲｂを放出するものを用いる。得られるスペクトルを図４に示す。図４の（Ａ）に付着しなかった金属イオンのスペクトル、図４の（Ｂ）に複数のピークを持つ被検出ガスに金属イオンが付着したスペクトル、図４の（Ｃ）に同位体の影響のない本来の被検出ガスのピークが示されている。
【００４４】
（Ａ）で示すように、付着しなかった金属イオンのスペクトルでは、ピーク高αのピーク４４とピーク高βのピーク４５の２本のピークが存在し、金属イオンとその同位体によるピークが見られる。また、（Ｃ）で示すように、本来の被検出ガスのスペクトルでは、ピーク高ａ₀のピーク４６、ピーク高ｂ₀のピーク４７、ピーク高ｃ₀のピーク４８の３本存在する。また、これらのピークの間隔は１amuである。しかし、（Ｂ）で示すように、実際に得られる被検出ガスのスペクトルでは、ピーク高がｅ₀，ａ₂，ｂ₂，ｃ₂のピーク４９，５０，５１，５２の４本存在する。それらのピークの高さ比率は本来のものと異なっている。
【００４５】
そこで、データ処理装置１５にて以下のような補正計算を行う。まず最も低質量側の質量数のピーク５２に注目する。この質量数のピーク５２のさらに低質量側の隣接する質量数にはピークがない（実際には、無視し得るピークしか持たない）ことが確認できれば、この質量数のピーク５２のピーク高ｃ₂には同位体の影響がなく本来のピーク高ｃ₀であることが判断される。そこで同位体付加率（存在比率）がＲとすると、高質量側に１amu離れて隣接する質量数のピーク５１にはｃ₀・Ｒの同位体による付加分があるので、この付加分を差し引いて本来のピーク高ｂ₀を求めることができる。
【００４６】
次に、さらに高質量側１amu離れて隣接する質量数のピーク５０にはｂ₀・Ｒの同位体による付加分があると計算できる。また、さらに高質量側１amu離れてピーク高ａ₀・Ｒの同位体による付加分が生じ４本のピークが現れる。このように低質量側から順次補正計算を行うことにより、被検出ガスの本来のピーク高を求めることができる。
【００４７】
この補正計算で使用する同位体付加率Ｒは、１）同位体存在比率の文献値、２）金属イオンのスペクトル、３）被検出ガスのスペクトル、４）冷却用ガスのスペクトル、５）補正計算用ガスのスペクトル、などから求めることができる。これについては、第１の実施形態と同じ状況である。
【００４８】
金属イオンとしては本実施形態でのＬｉとＲｂ以外にＫやＩｎ，Ｇａなども使用することができる。質量分析器としては、２次元四重極型質量分析計や３次元四重極型質量分析計（イオントラップ）やタイムオブフライト（ＴＯＦ）やイオンサイクロトロンレゾナンス（ＩＣＲ）などあらゆる種類の質量分析器が使用することができる。
【００４９】
本実施形態では試料はガス状のもので説明したが、試料自体は固体でも液体であっても何らかの手段でガス状にされ、そのガスを測定するものであれば、構わない。金属イオンをガスに付着させる際に、直流電界や交流電界を印加する、あるいはガスを超音速にて吹き出すなど各種の付着効率を上げる方法を行うこともできる。本装置を他の成分分離装置、例えばガスクロマトグラフや液体クロマトグラフに接続して、ガスクロマトグラフ/質量分析装置（ＧＣ/ＭＳ）、液体クロマト/質量分析装置（ＬＣ/ＭＳ）とすることもできる。
【００５０】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように本発明によれば、次の効果を奏する。
【００５１】
正電荷の金属イオンの同位体存在比のデータを使用して、質量数に対応する信号強度のデータを処理するため、同位体が存在する金属イオンを用いた場合においても、被検出ガスの正確なマススペクトルを得ることができる。また、実際に測定された金属イオンや付着したガスのマススペクトルから同位体付加率を求めるため、正確な同位体付加率が得られ、被検出ガスの正確なマススペクトルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るイオン付着質量分析装置の第１実施形態の概略的な構成図である。
【図２】第１実施形態のイオン付着質量分析装置を用いて低質量側に同位体を持つ金属イオンによりイオン付着を行って測定したときの被検出ガスのマススペクトルを示す図である。
【図３】第１実施形態のイオン付着質量分析装置を用いて低質量側に同位体を持つ金属イオンによりイオン付着を行って実際に測定したときのマススペクトルを示す図である。
【図４】本発明の第２実施形態のイオン付着質量分析装置を用いて高質量側に同位体を持つ金属イオンによりイオン付着を行って測定したときのマススペクトルを示す図である。
【図５】従来のイオン付着質量分析装置の概略的な構成図である。
【図６】従来のイオン付着質量分析装置を用いて同位体のないイオンを付着させた場合のマススペクトルと同位体のあるイオンを付着させた場合のマススペクトルを示す図である。
【符号の説明】
１１エミッタ
１２反応領域
１３質量分析器
１４質量分析制御部
１５データ処理装置
１６被検出ガスボンベ
１７冷却用Ｎ₂ガスボンベ
１８冷却用Ａｒガスボンベ
１９冷却用Ｈｅガスボンベ
２０補正計算用ガスボンベ

Claims

正電荷の金属イオンが付着された被検出ガスを質量分析して得られる質量数に対応する信号強度のデータ処理を、前記金属イオンの同位体付加率のデータを使用して行うイオン付着質量分析方法において、
前記データ処理に使用する前記金属イオンの前記同位体付加率を、イオン付着質量分析法における前記金属イオンが付着したガスのマススペクトルから求め、
前記金属イオンが付着した前記ガスとして、前記被検出ガスとは別に反応室に導入される他のガスを使用し、
前記他のガスは前記金属イオンが付着したガスと冷却用ガスを兼用している、
ことを特徴とするイオン付着質量分析方法。
前記他のガスはＮ _２，Ａｒ，Ｈｅのうちの１つであることを特徴とする請求項１記載のイオン付着質量分析方法。
前記データ処理は、前記金属イオンが低質量側に同位体を持つ場合、前記マススペクトルの高質量側の信号強度を用いて順次低質量側へ補正計算を行う工程を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のイオン付着質量分析方法。
前記データ処理は、前記金属イオンが高質量側に同位体を持つ場合には、前記マススペクトルの低質量側の信号強度を用いて順次高質量側へ補正計算を行う工程を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のイオン付着質量分析方法。
正電荷の金属イオンを発生させるエミッタと、被検出ガスに前記金属イオンを付着させる反応領域と、前記金属イオンが付着した前記被検出ガスを質量分離して検出する質量分析器と、この質量分析器を制御する質量分析制御部と、この質量分析制御部から送られた質量数と質量数に対応する信号強度のデータ処理を行うデータ処理装置とから構成されるイオン付着質量分析装置において、
前記データ処理装置は、
前記データ処理に使用する前記金属イオンの同位体付加率を、イオン付着質量分析法における前記金属イオンが付着したガスであって、前記被検出ガスとは別に反応室に導入されかつ冷却用ガスを兼用する他の前記ガスのマススペクトルから求める演算手段と、
前記演算手段で求められた前記同位体付加率のデータを用いて前記データ処理を行う処理手段を含む、
ことを特徴とするイオン付着質量分析装置。