JP4552405B2 - Method for producing biaryl compounds - Google Patents

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Description

本発明はハロゲン化アリール化合物類を、遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒の存在下に、アリール金属化合物類とカップリング反応させる方法に関する。   The present invention relates to a method for coupling halogenated aryl compounds with aryl metal compounds in the presence of a transition metal-polydentate phosphite complex catalyst.

これまでハロゲン化アリール化合物とアリール金属化合物とを均一系金属触媒を用いてカップリング反応させる際には、遷移金属―ホスフィン錯体触媒や遷移金属−単座ホスファイト錯体触媒の存在下、ハロゲン化アリールとアリールホウ素酸化合物とをカップリング反応させる方法が知られている(非特許文献1、2参照)。
しかし、前述の遷移金属―ホスフィン錯体触媒や遷移金属−単座ホスファイト錯体を用いるカップリング反応は、満足なクロスカップリング体の収率を得るためには、ハロゲン化アリール化合物に対して通常3〜5モル%以上という比較的多量の錯体触媒を必要とし、かつ同時にハロゲン化アリール化合物同士がカップリングしたホモカップリング体が相当程度副生するといった問題があり、より経済的な触媒量を用い、かつ物理・化学的に目的物と性質の似たホモカップリング体を除去するための煩雑な精製操作を必要としない、工業応用が可能なカップリング反応が求められていた。
宮浦、他1名、「Chemical Reviews」、第95巻(1995年)、p.2457 Beller M.、他1名、「Chemistry−A European Journal」、第6巻(2000年)、p.1830
Conventionally, when a halogenated aryl compound and an aryl metal compound are subjected to a coupling reaction using a homogeneous metal catalyst, in the presence of a transition metal-phosphine complex catalyst or a transition metal-monodentate phosphite complex catalyst, A method of coupling reaction with an aryl boronic acid compound is known (see Non-Patent Documents 1 and 2).
However, the coupling reaction using the aforementioned transition metal-phosphine complex catalyst or transition metal-monodentate phosphite complex is usually 3 to 3 times with respect to the aryl halide compound in order to obtain a satisfactory yield of a cross-coupled product. There is a problem that a relatively large amount of a complex catalyst of 5 mol% or more is required, and a homo-coupled product in which halogenated aryl compounds are simultaneously coupled to each other is considerably produced as a by-product. In addition, there has been a demand for a coupling reaction that can be applied to an industrial application without requiring a complicated purification operation for removing a homo-coupled product that is physically and chemically similar in properties to the target product.
Miyaura and 1 other, “Chemical Reviews”, Volume 95 (1995), p. 2457 Beller M.M. , And one other, “Chemistry-A European Journal”, Volume 6 (2000), p. 1830

以上述べた通り、ハロゲン化アリール化合物とアリール金属化合物とのカップリング反応において、工業的に未だ満足すべき状態ではない。本発明は、ホモカップリング体の副成を抑え、目的とするカップリング体を高純度および高収率で得ることができる工業的に応用し得る方法を提供することを目的とする。   As described above, the coupling reaction between an aryl halide compound and an aryl metal compound is not yet in an industrially satisfactory state. An object of this invention is to provide the industrially applicable method which can suppress the by-product of a homo coupling body and can obtain the target coupling body with high purity and a high yield.

本発明者らは、かかる事情に鑑み鋭意検討した結果、触媒として、遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒を用いた場合に、目的とするカップリング体が高純度および高収率で得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in view of such circumstances, the present inventors have found that when a transition metal-multidentate phosphite complex catalyst is used as a catalyst, the intended coupling product can be obtained with high purity and high yield. As a result, the present invention has been completed.

すなわち、本発明の要旨は、ハロゲン化アリール化合物類とアリール金属化合物類とを遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒の存在下にカップリングさせてビアリール化合物類を製造する方法であって、
アリール金属化合物類を構成する金属原子がホウ素原子であり、
遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒が、遷移金属化合物と下記一般式(4)
That is, the gist of the present invention is a method for producing biaryl compounds by coupling halogenated aryl compounds and aryl metal compounds in the presence of a transition metal-polydentate phosphite complex catalyst ,
The metal atom constituting the aryl metal compound is a boron atom,
The transition metal-multidentate phosphite complex catalyst comprises a transition metal compound and the following general formula (4):

Figure 0004552405
Figure 0004552405

{式(4)中、R{In formula (4), R 3Three 及びRAnd R 4Four は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6以上15以下のアリール基を示し、ここで、REach independently represents an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent, wherein R 3Three 及びRAnd R 4Four は、互いに結合して環を形成していてもよい。RMay be bonded to each other to form a ring. R 5Five は、下記一般式(6)Is the following general formula (6)

Figure 0004552405
Figure 0004552405

[式(6)中、R 6 〜R 13 は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、イソプロピル基、t−ブチル基又はメトキシ基を示す。Zmは結合手を示す。]で表されるビフェニレン基を示す。nは2を示す。}
で表される二座ホスファイト配位子から形成されるものであって、遷移金属化合物を構成する金属原子がニッケル原子又はパラジウム原子である
ことを特徴とするビアリール化合物類の製造方法、に存する。
Wherein (6), R 6 ~R 13 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an isopropyl group, t- butyl group or a methoxy group. Zm represents a bond. ] The biphenylene group represented by this is shown. n represents 2. }
A biaryl compound formed of a bidentate phosphite ligand represented by the formula (I), wherein the metal atom constituting the transition metal compound is a nickel atom or a palladium atom: Method.

本発明によれば、ハロゲン化アリール化合物類とアリール金属化合物類とをカップリングさせ、ビアリール化合物類を製造するにあたり、ホスフィンやモノホスファイトを配位子とした触媒系と比較して、ホモカップリング体の副成を抑え、目的とするカップリング体を高純度および高収率で得ることができる。   According to the present invention, when a halogenated aryl compound and an aryl metal compound are coupled to produce a biaryl compound, compared with a catalyst system using phosphine or monophosphite as a ligand, By suppressing the by-product of the ring body, the desired coupling body can be obtained with high purity and high yield.

以下、本発明の実施の形態を説明する。
本発明の製造方法は、ハロゲン化アリール化合物類とアリール金属化合物類とを遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒の存在下でカップリングさせてビアリール化合物類を得るものである。
Embodiments of the present invention will be described below.
In the production method of the present invention, biaryl compounds are obtained by coupling halogenated aryl compounds and aryl metal compounds in the presence of a transition metal-polydentate phosphite complex catalyst.

(ハロゲン化アリール化合物類)
本発明に用いられるハロゲン化アリール化合物類としては、反応系において溶媒に溶解するか、それ自身が液体であれば特に限定されないが、通常、1以上のハロゲン原子を置換基として有する、フェニル基、ナフチル基等のアリール基又はピリジル基、チエニル基等のヘテロアリール基のように芳香環が3個以下、好ましくは2個以下の化合物が挙げられる。
(Halogenated aryl compounds)
The halogenated aryl compounds used in the present invention are not particularly limited as long as they are dissolved in a solvent in the reaction system or are themselves liquid, but usually a phenyl group having one or more halogen atoms as a substituent, Examples include compounds having 3 or less aromatic rings, preferably 2 or less, such as aryl groups such as naphthyl groups or heteroaryl groups such as pyridyl groups and thienyl groups.

該アリール基及びヘテロアリール基は、さらに、触媒を被毒しない置換基、つまりローンペアを有することにより遷移金属に配位して活性を低下させうる構造(例えば、スルフィド、ホスフィン等)を有さない置換基、により置換されていても良い。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が用いられるが、中でも塩素原子、又は臭素原子が好ましい。また、ハロゲン化アリール化合物1分子が有するハロゲン原子の個数は、通常3以下である。
The aryl group and heteroaryl group further have a structure (for example, sulfide, phosphine, etc.) capable of coordinating with a transition metal and reducing activity by having a substituent that does not poison the catalyst, that is, a lone pair. May be substituted with no substituent.
As the halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or the like is used, and among them, a chlorine atom or a bromine atom is preferable. The number of halogen atoms contained in one molecule of the halogenated aryl compound is usually 3 or less.

上記ハロゲン化アリール化合物類としては、通常、分子量が100以上であって、かつ、1000以下、好ましくは600以下、より好ましくは400以下のものが挙げられる。
このうち、反応原料の入手が比較的容易であることから、下記一般式(1)で表されるものが好ましい。
Examples of the halogenated aryl compounds include those having a molecular weight of 100 or more and 1000 or less, preferably 600 or less, more preferably 400 or less.
Among these, what is represented by the following general formula (1) is preferable because it is relatively easy to obtain reaction raw materials.

Figure 0004552405
Figure 0004552405

式(1)中、A 1 炭素原子又はヘテロ原子を示す。Xは脱離基を示し、R1は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアルコキシ基、置換されていても良いアリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−CO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−CONR'R''で表される基(ここで、R'及びR''はそれぞれ独立して、水素原子又は置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SORで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)又は−SiR3で表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)を示し、m1は、0〜5の整数を示す。ここで、m1が2以上の場合には、複数存在するR1は、それぞれ同一の基であっても異なる基であっても良い。
上記A1は、炭素原子またはヘテロ原子であり、好ましくは、炭素原子又は窒素原子である。
[In formula (1), A 1 represents a carbon atom or a heteroatom. X represents a leaving group, and R 1 represents a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted alkoxy group, or a substituted group. An aryloxy group, an acyl group, an acyloxy group, a group represented by —CO 2 R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group), and a group represented by —CONR′R ″. Group (wherein R ′ and R ″ each independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SOR (wherein R is substituted) An optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SO 2 R (where R represents an optionally substituted hydrocarbon group), or a group represented by —SiR 3 (here. in R represents a.) indicating the optionally substituted hydrocarbon group, m 1 is shown an integer of 0 to 5 . Here, when m 1 is 2 or more, a plurality of R 1 may be the same group or different groups. ]
A 1 is a carbon atom or a hetero atom, preferably a carbon atom or a nitrogen atom.

上記Xの脱離基としては、塩素原子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子;メトキシ基等のアルコキシ基;メタンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基;p−トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基等、カップリング反応で通常用いられるような脱離基であれば特に限定されないが、このうち好ましくはハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキルスルホニルオキシ基又は炭素数10以下のアリールスルホニルオキシ基が挙げられ、特に好ましくは、塩素原子又は臭素原子が挙げられる。   Examples of the leaving group for X include halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and iodine atom; alkoxy group such as methoxy group; alkylsulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy group; arylsulfonyl such as p-toluenesulfonyloxy group Although it will not specifically limit if it is a leaving group normally used by coupling reaction, such as an oxy group, Among these, Preferably it is a halogen atom, a C1-C6 alkylsulfonyloxy group, or a C10 or less arylsulfonyloxy. Group, particularly preferably a chlorine atom or a bromine atom.

上記R1は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良い炭化水素基、アシル基、アシルオキシ基、−CO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−CONR'R''で表される基(ここで、R'及びR''はそれぞれ独立して、水素原子又は置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SORで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)又は−SiR3で表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)である。 R 1 represents a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrocarbon group, an acyl group, an acyloxy group, or a group represented by —CO 2 R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group.), A group represented by —CONR′R ″ (wherein R ′ and R ″ are each independently a hydrogen atom or a substituted group). also represents an hydrocarbon group), -. group (wherein R represented by SOR denotes the optionally substituted hydrocarbon group), -. group represented by SO 2 R (where R is A hydrocarbon group which may be substituted) or a group represented by —SiR 3 (wherein R represents a hydrocarbon group which may be substituted).

上記置換されていても良いアミノ基としては、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、フェニルアミノ基、フェニルメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等のアルキル基又はアリール基で1又は2置換されていても良いアミノ基が挙げられ、このうち好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等の活性水素を有さない2置換アミノ基である。   Examples of the amino group which may be substituted include alkyl groups such as amino group, methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, methylethylamino group, phenylamino group, phenylmethylamino group, and diphenylamino group. And an amino group optionally substituted by 1 or 2 with an aryl group or an aryl group. Among them, a disubstituted amino group having no active hydrogen such as a dimethylamino group, a diethylamino group, or a methylethylamino group is preferable. .

上記置換されていても良い炭化水素基の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、2−ブテニル基、ブタンジエニル基、シクロヘキセニル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルケニル基;エチニル基、プロピニル基等のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon group that may be substituted include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. Linear, branched or cyclic alkyl groups such as vinyl; 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, butenyl, 2-butenyl, butanedienyl, cyclohexenyl, etc. An alkynyl group such as an ethynyl group and a propynyl group; and an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group.

上記炭化水素基の置換基としては、カップリング反応に悪影響を与えない限り特に限定されないが、具体的には、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基;カルバモイル基、−SORで表される基、−SO2Rで表される基又は−SiR3で表される基(ここでRは炭化水素基を示す。)が挙げられる。 The substituent of the hydrocarbon group is not particularly limited as long as it does not adversely affect the coupling reaction. Specifically, the hydroxyl group, cyano group, nitro group, amino group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group; a carbamoyl group, a group represented by -SOR, a group (here represented by the group or -SiR 3 represented by -SO 2 R R is a hydrocarbon group Are shown).

上記置換されていても良い炭化水素基の炭素数としては、通常、30以下、好ましくは20以下であり、特にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基の炭素数としては、好ましくは8以下、より好ましくは6以下、アリール基の炭素数としては、好ましくは22以下、より好ましくは14以下である。   The carbon number of the hydrocarbon group which may be substituted is usually 30 or less, preferably 20 or less. Particularly, the carbon number of the alkyl group, alkenyl group or alkynyl group is preferably 8 or less, more preferably. Is 6 or less, and the number of carbon atoms of the aryl group is preferably 22 or less, more preferably 14 or less.

上記置換されていても良いアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基等のハロゲン原子、アルコキシ基及びアリール基からなる群よりで置換されていても良い炭素数10以下、好ましくは炭素数6以下のアルコキシ基が挙げられる。   The alkoxy group which may be substituted is substituted with a halogen atom such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, a trifluoromethoxy group, a benzyloxy group or a methoxymethoxy group, an alkoxy group and an aryl group. An alkoxy group having 10 or less carbon atoms, preferably 6 or less carbon atoms may be used.

上記置換されていても良いアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等のアルキル基で置換されていても良いアリールオキシ基、好ましくは炭素数10以下のアリールオキシ基が挙げられる。   The aryloxy group which may be substituted is an aryloxy group which may be substituted with an alkyl group such as a phenoxy group, a tolyloxy group, a xylyloxy group or a naphthyloxy group, preferably an aryloxy group having 10 or less carbon atoms. Is mentioned.

上記アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基トリフルオロメチルカルボニル基等の炭素数12以下のアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基が挙げられ、このうち好ましくは、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数6以下のものである。   Examples of the acyl group include an alkylcarbonyl group having 12 or less carbon atoms such as an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group trifluoromethylcarbonyl group, or an arylcarbonyl group. Among these, carbons such as an acetyl group and a propionyl group are preferable. The number is 6 or less.

上記アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基等の炭素数12以下のアルキルカルボニルオキシ基又はアリールカルボニルオキシ基が挙げられ、このうち好ましくは、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数6以下のものである。   Examples of the acyloxy group include an alkylcarbonyloxy group having 12 or less carbon atoms such as an acetyloxy group, a propionyloxy group, a benzoyloxy group, and a trifluoromethylcarbonyloxy group, and an arylcarbonyloxy group. Those having 6 or less carbon atoms, such as an oxy group and a propionyloxy group.

上記−CO2Rで表される基、−SORで表される基、−SO2Rで表される基及び−SiR3で表される基のRとしては、上述の炭化水素基と同様のものが挙げられるが、好ましくは炭素数6以下のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基が挙げられる。 Groups represented by -CO 2 R, a group represented by -SOR, as the R group represented by group and -SiR 3 represented by -SO 2 R, the same hydrocarbon group as described above Among them, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, a benzyl group, or a phenyl group is preferable.

ここで、−SiR3で表される基としては、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、トリフェニルシリル基等のように3つあるRがそれぞれ同一でも異なっていても良い。 Here, as the group represented by —SiR 3 , there are three Rs such as a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a t-butyldiphenylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, and a triphenylsilyl group, respectively. It may be the same or different.

上記−CONR'R''で表される基のNR'R''で表される基は上述の置換されていても良いアミノ基と同様のものが挙げられる。   Examples of the group represented by NR′R ″ of the group represented by —CONR′R ″ include the same as the above-described optionally substituted amino group.

上記R1のうち好ましくは、ニトロ基、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜4のアルキル基が挙げられる。
1は0〜5の整数であり、好ましくは0又は1であり、その置換位置としては、ハロゲン原子に対してp位が好ましい。
Of the above R 1 , a nitro group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
m 1 is an integer of 0 to 5, preferably 0 or 1, and the substitution position is preferably p-position with respect to the halogen atom.

(アリール金属化合物類)
本発明に用いられるアリール金属化合物類は、反応系において溶媒に溶解するか、それ自身が液体であれば特に限定されないが、通常、フェニル基、ナフチル基等のアリール基又はピリジル基、チエニル基等のヘテロアリール基のような芳香環を3個以下有するアリール基又はヘテロアリール基を有する金属化合物である。
(Aryl metal compounds)
The aryl metal compounds used in the present invention are not particularly limited as long as they are dissolved in a solvent in the reaction system or are themselves liquid, but usually an aryl group such as phenyl group or naphthyl group, pyridyl group, thienyl group, etc. And a metal compound having an aryl group or heteroaryl group having 3 or less aromatic rings, such as a heteroaryl group.

上記アリール基及びヘテロアリール基は、触媒を被毒しない置換基を有してもよい。
アリール金属化合物類の分子量は通常1000以下、好ましくは600以下、より好ましくは400以下である。
反応原料の入手が比較的容易であることから、下記一般式(2)で表されるものが好ましい。
The aryl group and heteroaryl group may have a substituent that does not poison the catalyst.
The molecular weight of the aryl metal compounds is usually 1000 or less, preferably 600 or less, more preferably 400 or less.
What is represented by the following general formula (2) is preferable because the reaction raw materials are relatively easily obtained.

Figure 0004552405
Figure 0004552405

(式(2)中、A2は炭素原子またはヘテロ原子を示す。R2は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアルコキシ基、置換されていても良いアリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−CO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−CONR'R''で表される基(ここで、R'及びR''はそれぞれ独立して、水素原子又は置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SORで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)又は−SiR3で表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)を示し、m2は、0〜5の整数を示す。ここで、m2が2以上の場合には、複数存在するR2は、それぞれ同一の基であっても異なる基であっても良い。Mは金属原子を示し、Yは金属原子に結合するアニオン性基を示す。nは0〜3の整数を示す。)
上記A2は、炭素原子またはヘテロ原子であり、好ましくは、炭素原子又は窒素原子である。
(In formula (2), A 2 represents a carbon atom or a hetero atom. R 2 represents a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrocarbon group, or a substituted group. An optionally substituted alkoxy group, an optionally substituted aryloxy group, an acyl group, an acyloxy group, or a group represented by —CO 2 R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group). ), A group represented by —CONR′R ″ (wherein R ′ and R ″ each independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group), represented by —SOR. Group (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SO 2 R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group) or group (wherein R represented by -SiR 3 shows the optionally substituted hydrocarbon group. Are shown, m 2 represents an integer of 0 to 5. Here, when m 2 is 2 or more, R 2 existing in plural, it may be different even for the same group group M represents a metal atom, Y represents an anionic group bonded to the metal atom, and n represents an integer of 0 to 3.)
A 2 is a carbon atom or a hetero atom, preferably a carbon atom or a nitrogen atom.

上記R2としては、上述の一般式(1)のR1と同様の基が挙げられ、このうち好ましくは、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル基が挙げられる。
上記m2としては、0〜5の整数であり、このうち好ましくは0又は1であり、その置換位置としては、MYn基に対してp位が好ましい。
Mの金属原子としては、ホウ素原子、アルミニウム原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子等の典型金属原子が挙げられ、好ましくはホウ素原子又はアルミニウム原子である。
Examples of R 2 include the same groups as R 1 in the above general formula (1). Among these, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
M 2 is an integer of 0 to 5, preferably 0 or 1, and the substitution position is preferably p-position relative to the MY n group.
Examples of the metal atom of M include a typical metal atom such as a boron atom, an aluminum atom, a silicon atom, a germanium atom, and a tin atom, and a boron atom or an aluminum atom is preferable.

Yのアニオン性基としては、金属と結合する1〜3価の陰イオンとなり得る原子又は原子団であれば特に制限されないが、好ましくは水酸基、アルコキシ基又はハロゲン原子が挙げられ、より好ましくは、メトキシ基、エトキシ基又は水酸基であり、特に好ましくは水酸基である。
nは0〜5の整数であり、好ましくは2又は3である。
The anionic group of Y is not particularly limited as long as it is an atom or atomic group that can be a 1-3 valent anion bonded to a metal, preferably a hydroxyl group, an alkoxy group, or a halogen atom, more preferably A methoxy group, an ethoxy group, or a hydroxyl group, particularly preferably a hydroxyl group.
n is an integer of 0 to 5, preferably 2 or 3.

(遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒)
本発明の製造方法では、触媒として、遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒を用いることを特徴とするものである。
該遷移金属化合物としては、特に制限はないが、好ましくは周期表8〜10族の元素であり、より好ましくは、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム又はルテニウムであり、特に好ましくはパラジウム又はニッケルである。
(Transition metal-multidentate phosphite complex catalyst)
In the production method of the present invention, a transition metal-multidentate phosphite complex catalyst is used as a catalyst.
Although there is no restriction | limiting in particular as this transition metal compound, Preferably it is an element of the periodic table 8-10 group, More preferably, they are nickel, palladium, platinum, rhodium, or ruthenium, Most preferably, they are palladium or nickel. .

これらの遷移金属が結合又は配位によって有する置換基又は配位子としては、ハロゲン原子;無機酸残基;有機酸残基;ホスフィン化合物;ホスファイト化合物;アルケン化合物;ニトリル化合物;含カルボニル化合物等、またはこれらの組合せが挙げられる。
以下に遷移金属化合物の好ましい具体例を金属原子がパラジウム又はニッケルの場合を代表例として例示するが、パラジウム及びニッケル以外の金属原子についても、同様の化合物を用いることができる。
Substituents or ligands that these transition metals have by bonding or coordination include halogen atoms; inorganic acid residues; organic acid residues; phosphine compounds; phosphite compounds; alkene compounds; nitrile compounds; Or a combination thereof.
In the following, preferred specific examples of the transition metal compound are exemplified by the case where the metal atom is palladium or nickel, but the same compound can be used for metal atoms other than palladium and nickel.

金属種がパラジウムである場合、具体的なパラジウム化合物としては、例えばPd(0)やPdCl2、PdBr2、PdCl2(COD)、PdCl2(PPh32、Pd(PPh34、Pd(dba)2、Pd2(dba)3、Pd2(dba)3・CHCl3、K2PdCl4、K2PdCl6、PdCl2(PhCN)2、PdCl2(CH3CN)2、Pd(NO32、PdSO4、Pd(OAc)2、Pd(CF3COO)2、Pd(acac)2等を挙げることができ、これらの中で、特にPd(OAc)2、Pd(acac)2等のカルボン酸残基又は1,3−ジケトナート基を有するパラジウム化合物が好ましい(ここで、COD:シクロオクタジエン、dba:ジベンジリデンアセトン、acac:アセチルアセトナートを表す)。また、前記単量体の他、アリルパラジウムクロライド二量体のような多量体も用いることができる。 When the metal species is palladium, specific palladium compounds include, for example, Pd (0), PdCl 2 , PdBr 2 , PdCl 2 (COD), PdCl 2 (PPh 3 ) 2 , Pd (PPh 3 ) 4 , Pd (Dba) 2 , Pd 2 (dba) 3 , Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 , K 2 PdCl 4 , K 2 PdCl 6 , PdCl 2 (PhCN) 2 , PdCl 2 (CH 3 CN) 2 , Pd ( NO 3 ) 2 , PdSO 4 , Pd (OAc) 2 , Pd (CF 3 COO) 2 , Pd (acac) 2, etc., among which Pd (OAc) 2 , Pd (acac) palladium compound having a carboxylic acid residue or a 1,3-diketonate group 2 and the like are preferable (here, COD: cyclooctadiene, dba: dibenzylidene acetone, acac: acetyl acetonate Representing the over door). In addition to the above monomers, multimers such as allyl palladium chloride dimers can also be used.

また、具体的なニッケル化合物としては、例えばNi(O)やNiCl2、NiBr2、NiCl2(COD)、Ni(COD)2、NiCl2(PPh32、Ni(PPh34、Ni(acac)2を挙げることができ、これらの中、特にNi(COD)2等のニッケルのアルケン化合物が好ましい(ここで、COD:シクロオクタジエン、acac:アセチルアセトナートを表す)。 Specific nickel compounds include, for example, Ni (O), NiCl 2 , NiBr 2 , NiCl 2 (COD), Ni (COD) 2 , NiCl 2 (PPh 3 ) 2 , Ni (PPh 3 ) 4 , Ni (Acac) 2 can be mentioned, and among these, nickel alkene compounds such as Ni (COD) 2 are particularly preferable (here, COD: cyclooctadiene, acac: acetylacetonate).

本発明に用いられる多座ホスファイト配位子は、上記遷移金属化合物に配位できる限り特に限定されないが、下記一般式(4)で表される多座ホスファイト化合物が好ましい。   Although the multidentate phosphite ligand used for this invention is not specifically limited as long as it can coordinate to the said transition metal compound, The multidentate phosphite compound represented by following General formula (4) is preferable.

Figure 0004552405
Figure 0004552405

式(4)中、R3及びR4は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、R5はn価の有機基を示す。ここでR3及びR4は、分子内及び/又は分子間で互いに結合又は縮合環を形成していてもよい。また異なるリン原子に酸素元素を介して結合したR3同士又はR4同士、もしくはそれらの置換基同士がさらに結合又は縮合環を形成していてもよい。 In Formula (4), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group that may have a substituent, and R 5 represents an n-valent organic group. Here, R 3 and R 4 may form a bond or a condensed ring with each other within and / or between the molecules. Further, R 3 or R 4 bonded to different phosphorus atoms via an oxygen element, or substituents thereof may further form a bond or a condensed ring.

一般式(4)中のR3もしくはR4で表わされる炭化水素基としては、炭素数が1以上30以下、好ましくは20以下、より好ましくは10以下の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数6以上30以下、好ましくは20以下、より好ましくは15以下のアリール基が挙げられる。
アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基などが例示され、シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが例示され、アルケニル基としてはビニル基、アリル基、2−シクロヘキセニル基などが例示され、アリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フェナントラニル基、1−アントラニル基、2−アントラニル基、9−アントラニル基が挙げられる。
The hydrocarbon group represented by R 3 or R 4 in the general formula (4) is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and cycloalkyl. Group, a linear or branched alkenyl group, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, preferably 20 or less, more preferably 15 or less.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an octyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, Examples include an aryl group, 2-cyclohexenyl group, and the aryl group includes a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-phenanthranyl group, a 1-anthranyl group, a 2-anthranyl group, and a 9-anthranyl group. Is mentioned.

またR3とR4とが互いに結合又は縮合環を形成して二価基を形成している場合、その二価基としては、炭素数1以上30以下、好ましくは20以下、より好ましくは10以下の直鎖又は分岐のアルキレン基、シクロアルキレン基、直鎖又は分岐のアルケニレン基、炭素数6以上30以下、好ましくは20以下、より好ましくは15以下のアリーレン基が挙げられる。アルキレン基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、オクチレン基などが例示され、シクロアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基などが例示され、アルケニレン基としてはビニレン基、アリレン基、2−シクロヘキセニレン基などが例示され、アリーレン基としては、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、1、3−ナフチレン基、1、4−ナフチレン基、1,5−ナフチレン基、1,8−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基が挙げられる。 When R 3 and R 4 form a bond or a condensed ring to form a divalent group, the divalent group has 1 to 30 carbon atoms, preferably 20 or less, more preferably 10 carbon atoms. The following linear or branched alkylene groups, cycloalkylene groups, linear or branched alkenylene groups, and arylene groups having 6 to 30 carbon atoms, preferably 20 or less, and more preferably 15 or less. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and an octylene group. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclopentylene group, and a cyclohexylene group. Examples of the alkenylene group include Examples include a vinylene group, an arylene group, and a 2-cyclohexenylene group. Examples of the arylene group include a 1,2-phenylene group, a 1,3-phenylene group, a 1,4-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, Examples include 1,3-naphthylene group, 1,4-naphthylene group, 1,5-naphthylene group, 1,8-naphthylene group, and 2,6-naphthylene group.

3及びR4の置換基としては、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基;カルバモイル基、−SORで表される基、−SO2Rで表される基又は−SiR3で表される基(ここでRは炭化水素基を示す。)が挙げられる。
一般式(4)で表わされる多座ホスファイト化合物の中でも、R3及びR4が芳香族炭化水素基である化合物が好ましい。
Examples of the substituent for R 3 and R 4 include hydroxyl group, cyano group, nitro group, amino group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group; carbamoyl group, and —SOR. And a group represented by —SO 2 R or a group represented by —SiR 3 (wherein R represents a hydrocarbon group).
Among the polydentate phosphite compounds represented by the general formula (4), compounds in which R 3 and R 4 are aromatic hydrocarbon groups are preferable.

3及びR4が芳香族炭化水素基である場合の具体例として、無置換の芳香族基としてはフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フェナントラニル基、1−アントラニル基、2−アントラニル基、9−アントラニル基が挙げられ、一置換芳香族基としては、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2−プロピルフェニル基、3−プロピルフェニル基、4−プロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−ノルマルブチルフェニル基、3−ノルマルブチルフェニル基、4−ノルマルブチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−t−ブチルフェニル基、3−t−ブチルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、2−t−アミルフェニル基、3−t−アミルフェニル基、4−t−アミルフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−エトキシフェニル基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、2−エトキシカルボニルフェニル基、3−エトキシルボニルフェニル基、4−オクチルフェニル基、4−ノニルフェニル基、4−エトキシカルボニルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−シアノフェニル基、4−ジメチルアミノフェニル基、2−メチル−1−ナフチル基が挙げられる。 Specific examples when R 3 and R 4 are aromatic hydrocarbon groups include, as unsubstituted aromatic groups, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-phenanthranyl group, 1-anthranyl group, Examples include 2-anthranyl group and 9-anthranyl group, and monosubstituted aromatic groups include 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, and 3-ethylphenyl group. 4-ethylphenyl group, 2-propylphenyl group, 3-propylphenyl group, 4-propylphenyl group, 2-isopropylphenyl group, 3-isopropylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-normalbutylphenyl group, 3-normal butylphenyl group, 4-normal butylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-t-butylphenyl group, 3-t-butylphenyl group, 4-t-butylphenyl group, 2-t-amylphenyl group, 3-t-amylphenyl group, 4-t- Amylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-ethoxyphenyl group, 3-ethoxyphenyl group, 4-ethoxyphenyl group, 2-ethoxycarbonylphenyl group, 3-ethoxy Rubonylphenyl group, 4-octylphenyl group, 4-nonylphenyl group, 4-ethoxycarbonylphenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-nitrophenyl group, 4-cyanophenyl group, 4-dimethylaminophenyl group, 2-methyl A -1-naphthyl group is mentioned.

また、二置換芳香族基としては、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチルフェニル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、2−メチル−4−メトキシフェニル基、2−メトキシ−4−t−ブチルフェニル基、2−t−ブチル−4−メトキシフェニル基、3,6−ジ−t−ブチル−2−ナフチル基が挙げられ、三置換芳香族基としては、2,4,6−トリメチルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチル−6−フェニルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチル−6−ニトロフェニル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェニル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシカルボニルフェニル基、3,6,8−トリ−t−ブチル−2−ナフチル基が挙げられる。   Examples of the disubstituted aromatic group include 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4-di-t- Butylphenyl group, 2-methoxy-4-methylphenyl group, 2-methyl-4-methoxyphenyl group, 2-methoxy-4-t-butylphenyl group, 2-t-butyl-4-methoxyphenyl group, 3, 6-di-t-butyl-2-naphthyl group, and trisubstituted aromatic groups include 2,4,6-trimethylphenyl group, 2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl group, 2,4-di-t-butyl-6-methylphenyl group, 2,4-di-t-butyl-6-phenylphenyl group, 2,4-di-t-butyl-6-nitrophenyl group, 2, 6-di-t-butyl-4-methoxyphenyl , 2,6-di -t- butyl-4-methoxycarbonylphenyl group and a 3,6,8-tri -t- butyl-2-naphthyl group.

これら芳香族炭化水素基の中でフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フェナントラニル基、1−アントラニル基、2−アントラニル基、9−アントラニル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4ーオクチルフェニル基、4ーノニルフェニル基、4−エトキシカルボニルフェニル基、4−クロロフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−シアノフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチルフェニル基、2−メトキシ−4−t−ブチルフェニル基、2−t−ブチル−4−メトキシフェニル基、3,6−ジ−t−ブチル−2−ナフチル基、2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル基、3,6−ジ−t−ブチル−2−ナフチル基が好ましく、さらに好ましくは、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−オクチルフェニル基、4−ノニルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチルフェニル基、2−t−ブチル−4−メトキシフェニル基、3,6−ジ−t−ブチル−2−ナフチル基、2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル基、3,6−ジ−t−ブチル−2−ナフチル基が挙げられ、特に1−ナフチル基、2−ナフチル基が好ましい。 Among this RaKaoru aromatic hydrocarbon group, a phenyl group, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 9 phenanthranyl group, 1-anthranyl group, 2-anthranyl group, 9-anthranyl group, 2-methylphenyl group 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-octylphenyl group, 4-nonylphenyl group, 4-ethoxycarbonylphenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-nitrophenyl group, 4-cyano Phenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,4-di-t-butylphenyl group, 2-methoxy-4-t-butylphenyl group, 2-t-butyl-4-methoxyphenyl group, 3,6 -Di-t-butyl-2-naphthyl group, 2,4-di-t-butyl-6-methylphenyl group, 3,6-di-t-butyl-2-naphthyl group are preferred More preferably, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-octylphenyl group, 4-nonylphenyl Group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,4-di-t-butylphenyl group, 2-t-butyl-4-methoxyphenyl group, 3,6-di-t-butyl-2-naphthyl group, 2 , 4-di-t-butyl-6-methylphenyl group and 3,6-di-t-butyl-2-naphthyl group, and 1-naphthyl group and 2-naphthyl group are particularly preferable.

上記式(4)中のR5は、n価の有機基である。本発明において、多座ホスファイト配位子は、二座配位子(すなわち、n=2)であることが好ましく、さらには下記一般式(5)で表される二価基であることが好ましい。 R 5 in the above formula (4) is an n-valent organic group. In the present invention, the polydentate phosphite ligand is preferably a bidentate ligand (that is, n = 2), and more preferably a divalent group represented by the following general formula (5). preferable.

Figure 0004552405
Figure 0004552405

式中、Ar1及びAr2はそれぞれ置換又は未置換の二価の芳香族炭化水素基を表わし、Ar1及びAr2上の置換基同士が結合していてもよい。また、Z1及びZ3は置換又は未置換の二価の脂肪族、または脂環式の炭化水素基を表わし、Z2は置換又は未置換の二価の脂肪族、または脂環式の炭化水素基もしくは酸素原子を表わす。m3、m4、m5、m6及びm7は0又は正の整数を表わし、少なくともいずれかは正の整数である。 In the formula, Ar 1 and Ar 2 each represent a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, and the substituents on Ar 1 and Ar 2 may be bonded to each other. Z 1 and Z 3 represent a substituted or unsubstituted divalent aliphatic or alicyclic hydrocarbon group, and Z 2 represents a substituted or unsubstituted divalent aliphatic or alicyclic carbonization. Represents a hydrogen group or an oxygen atom. m 3 , m 4 , m 5 , m 6 and m 7 represent 0 or a positive integer, and at least one of them is a positive integer.

上記一般式(5)中、Z1、Z2及びZ3で表わされる炭化水素基としては、炭素数1〜30のアルキレン基、シクロアルキレン基が挙げられ、Ar1およびAr2で表わされる芳香族炭化水素基としては、置換又は未置換の炭素数6〜30の二価のアリーレン基が挙げられ、中でもフェニレン基又はナフチレン基が好ましく、例えば1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、1,3−ナフチレン基、1,4−ナフチレン基、1,5−ナフチレン基、1,8−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基が挙げられる。 In the general formula (5), examples of the hydrocarbon group represented by Z 1 , Z 2 and Z 3 include an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms and a cycloalkylene group, and an aromatic represented by Ar 1 and Ar 2. Examples of the group hydrocarbon group include a substituted or unsubstituted divalent arylene group having 6 to 30 carbon atoms, among which a phenylene group or a naphthylene group is preferable, for example, a 1,2-phenylene group or a 1,3-phenylene group. 1,4-phenylene group, 1,2-naphthylene group, 1,3-naphthylene group, 1,4-naphthylene group, 1,5-naphthylene group, 1,8-naphthylene group, 2,6-naphthylene group Can be mentioned.

また、m3、m4、m5、m6及びm7は0または1であることが好ましい。
Ar1、Ar2、Z1、Z2及びZ3の置換基としては、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基;カルバモイル基、−SORで表される基、−SO2Rで表される基又は−SiR3で表される基(ここでRは炭化水素基を示す。)が挙げられ、これらの置換基は、同じでも異なっていてもよい。
M 3 , m 4 , m 5 , m 6 and m 7 are preferably 0 or 1.
The substituent of Ar 1, Ar 2, Z 1 , Z 2 and Z 3, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxy A carbonyl group; a carbamoyl group, a group represented by —SOR, a group represented by —SO 2 R, or a group represented by —SiR 3 (wherein R represents a hydrocarbon group). The substituents may be the same or different.

二価基−Z13−Ar14−Z25−Ar26−Z37−として具体的には、脂肪族炭化水素基のみから構成されるものとして、メチレン基、エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1,5−ペンチレン基等が挙げられる。芳香族炭化水素基のみから構成されるものとして、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,2'−ビフェニレン基、4,5−アントラニレン基、4,5−フェナントラニレン基、3,3'−ジメチル−2,2'−ビフェニレン基、2,2'−(1,1')−ビナフチレン基、1,1'−(2,2')−ビナフチレン基、3,3'−ジメチル−2,2'−(1,1'−ビナフチレン基)等が挙げられ、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基から構成されるものとして、1,2−ジメチレンベンゼン、1,3−ジメチレンベンゼン、1,4−ジメチレンベンゼン、1,2−ジメチレンナフタレン、2,3−ジメチレンナフタレン、2,2'−ジメチレンビフェニル、3,3',5,5'−テトラ−t−ブチル−2,2'−ジメチレンビフェニル、3,3'−ジ−t−ブチル−5,5'−ジメトキシ−2,2'−ジメチレンビフェニル、2,2'−ジメチレン−(1,1'−ビナフタレン)、2,2'−ジメチレン−3,
3',6,6'−テトラ−t−ブチル−(1,1'−ビナフタレン)、4,5−ジメチレン−フェナントレン、2−メチレンフェニル基、2−t−ブチル−6−メチレンフェニル基等が例示される。
As the divalent group —Z 1 m 3 —Ar 1 m 4 —Z 2 m 5 —Ar 2 m 6 —Z 3 m 7 —, specifically, a methylene group comprising only an aliphatic hydrocarbon group , Ethylene group, 1,3-propylene group, 1,4-butylene group, 1,5-pentylene group and the like. As constituted only by an aromatic hydrocarbon group, 1,2-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, 1,2-naphthylene group, 2,3-naphthylene group, 2, 2'-biphenylene group, 4,5-anthranylene group, 4,5-phenanthranylene group, 3,3'-dimethyl-2,2'-biphenylene group, 2,2 '-(1,1')- Binaphthylene group, 1,1 ′-(2,2 ′)-binaphthylene group, 3,3′-dimethyl-2,2 ′-(1,1′-binaphthylene group) and the like, and aliphatic hydrocarbon group Consisting of aromatic hydrocarbon groups, 1,2-dimethylenebenzene, 1,3-dimethylenebenzene, 1,4-dimethylenebenzene, 1,2-dimethylenenaphthalene, 2,3-dimethylene Naphthalene, 2,2′-dimethylenebiphenyl, 3,3 ′, , 5'-tetra-t-butyl-2,2'-dimethylenebiphenyl, 3,3'-di-t-butyl-5,5'-dimethoxy-2,2'-dimethylenebiphenyl, 2,2 ' -Dimethylene- (1,1'-binaphthalene), 2,2'-dimethylene-3,
3 ', 6,6'-tetra-t-butyl- (1,1'-binaphthalene), 4,5-dimethylene-phenanthrene, 2-methylenephenyl group, 2-t-butyl-6-methylenephenyl group, etc. Illustrated.

一般式(5)で表わされるもののうち、従来法に比べより効果的にホモカップリング体の副成を抑制し、目的とするクロスカップリング体の収率を向上させる事が出来る特に好ましい化合物として、下記一般式(6)で表わされる、2,2'−ビフェニレン基が挙げられる。   Among those represented by the general formula (5), as a particularly preferable compound that can more effectively suppress by-product formation of the homo-coupled body and improve the yield of the intended cross-coupled body as compared with the conventional method. And a 2,2′-biphenylene group represented by the following general formula (6).

Figure 0004552405
Figure 0004552405

式(6)中、R6〜R13は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、これらは、前記Ar1、Ar2、Z1、Z2及びZ3の置換基と同義である。また、Zmは前記Z25と同義である。
一般式(6)で表わされるもののうち、特にR6もしくはR13がかさ高い置換基、具体的には炭素数3以上の分岐状アルキル基であるものでは目的とするクロスカップリング体の選択性が非常に大きく、例えば3−イソプロピル−1、2−フェニレン基、3−t−ブチル−1、2−フェニレン基、3、5−ジ−イソプロピル−1、2−フェニレン基、3、5−ジ−t−ブチル−1、2−フェニレン基、3−t−ブチル−[e]−ベンゾ−1、2−フェニレン基が挙げられ、その中でも、特に3−t−ブチル−1、2−フェニレン基、3、5−ジ−t−ブチル−1、2−フェニレン基が好適である。
Wherein (6), R 6 ~R 13 may each be the same or different, these are the same as the substituents of the Ar 1, Ar 2, Z 1 , Z 2 and Z 3. Zm has the same meaning as Z 2 m 5 .
Among those represented by the general formula (6), particularly when R 6 or R 13 is a bulky substituent, specifically, a branched alkyl group having 3 or more carbon atoms, the selectivity of the target cross-coupled product For example, 3-isopropyl-1,2-phenylene group, 3-t-butyl-1,2-phenylene group, 3,5-di-isopropyl-1,2-phenylene group, 3,5-di -T-butyl-1,2-phenylene group, 3-t-butyl- [e] -benzo-1,2-phenylene group, among which 3-t-butyl-1,2-phenylene group is particularly preferable. A 3,5-di-t-butyl-1,2-phenylene group is preferred.

以下に一般式(4)におけるR5が一般式(6)で表わされる本発明に用いる二座ホスファイト配位子の具体例を示す。 Specific examples of the bidentate phosphite ligand used in the present invention in which R 5 in the general formula (4) is represented by the general formula (6) are shown below.

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本発明の遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒は、上記遷移金属化合物と多座ホスファイトとを相溶性の溶媒中で接触させればよい。予め遷移金属化合物と多座ホスファイトとを溶媒中で接触させて錯体触媒を調製した後に原料基質と接触させてもよいが、反応系中に、原料基質、遷移金属及び多座ホスファイトを仕込み、系内で混合するのが簡便であるため好ましい。   The transition metal-polydentate phosphite complex catalyst of the present invention may be obtained by bringing the transition metal compound and the polydentate phosphite into contact with each other in a compatible solvent. The transition metal compound and polydentate phosphite may be contacted in advance in a solvent to prepare the complex catalyst, and then contacted with the raw material substrate. However, the raw material substrate, transition metal and multidentate phosphite are charged into the reaction system. It is preferable to mix in the system because it is simple.

予め接触処理を行う場合、溶媒の種類は、後述する反応時に使用する有機溶媒と同様のものが使用できる。使用量は、遷移金属の濃度として、下限が、通常0.0001mmol/ml以上、好ましくは、0.001mmol/ml以上であり、上限が、通常1mmol/ml以下、好ましくは0.1mmol/ml以下である。
接触処理時の温度は、通常10℃以上70℃以下であるが常温で行うのが簡便であり好ましい。
When the contact treatment is performed in advance, the same solvent as the organic solvent used in the reaction described later can be used. The lower limit is usually 0.0001 mmol / ml or more, preferably 0.001 mmol / ml or more, and the upper limit is usually 1 mmol / ml or less, preferably 0.1 mmol / ml or less as the transition metal concentration. It is.
The temperature during the contact treatment is usually 10 ° C. or more and 70 ° C. or less, but it is convenient and preferable to carry out at room temperature.

上記遷移金属化合物の使用量については特に制限はないが、触媒活性と経済性の観点から、反応原料であるハロゲン化アリール化合物類に対して、下限が、通常、0.001モル以上、好ましくは0.01モル以上であり、上限が、通常10モル以下、好ましくは5モル以下、更に好ましくは3モル以下の範囲で使用される。
多座ホスファイト配位子の使用量としては、遷移金属化合物1モルに対してリン原子が通常0.5モル倍以上、好ましくは1モル倍以上、通常10モル倍以下、好ましくは6モル倍以下の範囲となるよう使用される。該多座ホスファイト配位子は、1種を単独で使用してもよいし、必要に応じて2種以上のホスファイト配位子の混合物を使用してもよい。
The amount of the transition metal compound used is not particularly limited, but from the viewpoint of catalytic activity and economy, the lower limit is usually 0.001 mol or more with respect to the halogenated aryl compound as the reaction raw material, preferably The upper limit is usually 10 mol or less, preferably 5 mol or less, more preferably 3 mol or less.
The amount of the polydentate phosphite ligand used is usually 0.5 mol times or more, preferably 1 mol times or more, usually 10 mol times or less, preferably 6 mol times the phosphorus atom relative to 1 mol of the transition metal compound. Used in the following range. The multidentate phosphite ligand may be used alone, or a mixture of two or more phosphite ligands may be used as necessary.

(カップリング反応)
本発明の製造方法で用いられるハロゲン化アリール化合物類及びアリール金属化合物類の使用割合は限定されるものではないが、経済性及び反応性の観点から、アリール金属化合物類をハロゲン化アリール化合物類に対して、通常1モル以上であって、通常10モル倍以下、好ましくは5モル倍以下、より好ましくは2モル倍以下、最も好ましくは1.5モル倍以下である。
(Coupling reaction)
The use ratio of the halogenated aryl compounds and aryl metal compounds used in the production method of the present invention is not limited, but from the viewpoint of economy and reactivity, the aryl metal compounds are converted to halogenated aryl compounds. On the other hand, it is usually 1 mol or more, usually 10 mol times or less, preferably 5 mol times or less, more preferably 2 mol times or less, and most preferably 1.5 mol times or less.

本発明の製造方法は、反応基質が反応系において液体であれば溶媒を使用せずとも反応を行えるが、通常溶媒を用いる。溶媒は反応基質及び触媒を溶解する限り特に制限されず、水あるいは任意の有機溶媒を用いることができるが、有機溶媒を用いるのが好ましい。
有機溶媒の種類は反応に影響を与えなければ特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類;ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類;メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;N−メチル−2−ピロリドン等のピロリドン類;アセトン、エチルメチルケトン、ジメチルスルホキシド等のケトン・スルホキシド類;アセトニトリル等のニトリル類等が挙げられる。ここで、これらの溶媒類は1種を単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いてもよい。
In the production method of the present invention, the reaction can be carried out without using a solvent if the reaction substrate is liquid in the reaction system, but usually a solvent is used. The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the reaction substrate and the catalyst, and water or any organic solvent can be used, but it is preferable to use an organic solvent.
The type of organic solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and styrene; aliphatic hydrocarbons such as pentane and hexane; diethyl ether, tetrahydrofuran, Ethers such as 1,4-dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; pyrrolidones such as N-methyl-2-pyrrolidone; acetone, Examples thereof include ketones and sulfoxides such as ethyl methyl ketone and dimethyl sulfoxide; nitriles such as acetonitrile. Here, these solvents may be used alone or in combination of two or more.

中でも好ましい溶媒は、芳香族炭化水素系溶媒又はアルコール系溶媒であり、特に好ましくは芳香族炭化水素系有機溶媒としてはトルエンであり、アルコール系有機溶媒としてはメタノール、エタノールである。
溶媒の使用量は特に限定されないが、ハロゲン化アリール化合物類に対して通常1重量倍以上、好ましくは5重量倍以上、通常100重量倍以下、好ましくは60重量倍以下であることが操作性や経済性の観点から工業的には好ましい。
Among them, a preferable solvent is an aromatic hydrocarbon solvent or an alcohol solvent, particularly preferably toluene as the aromatic hydrocarbon organic solvent, and methanol or ethanol as the alcohol organic solvent.
The amount of the solvent to be used is not particularly limited, but is usually 1 times or more, preferably 5 times or more, usually 100 times or less, preferably 60 times or less with respect to the halogenated aryl compound. Industrially preferable from the viewpoint of economy.

本発明の反応は、通常、塩基の存在下で行う。
塩基としては、公知の無機塩基および有機塩基を広く使用できるが、無機塩基を用いるのが好ましい。
無機塩基としては、例えばアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属の塩基性塩等が挙げられ、有機塩基としてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、ピリジン等の種々のアミン類が挙げられる。これらは1種を単独で用いても良いし、複数種を混合して用いても良い。
The reaction of the present invention is usually performed in the presence of a base.
As the base, known inorganic bases and organic bases can be widely used, but inorganic bases are preferably used.
Examples of inorganic bases include alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides, alkali metal phosphates, alkali metal fluorides, alkaline earth metal basic salts, and the like, and examples of organic bases include trimethylamine, triethylamine, and triethylamine. Examples include various amines such as isopropylamine and pyridine. These may be used individually by 1 type, and may mix and use multiple types.

上記アルカリ金属炭酸塩としては、具体的には炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム等が挙げられ、上記アルカリ金属水酸化物としては、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム等が挙げられ、上記アルカリ金属リン酸塩としては、具体的にはリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸リチウム、リン酸セシウム等が挙げられ、上記アルカリ金属フッ化物としては、具体的にはフッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム、フッ化セシウム等が挙げられる。   Specific examples of the alkali metal carbonate include sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, and cesium carbonate. Specific examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and water. Examples of the alkali metal phosphate include sodium phosphate, potassium phosphate, lithium phosphate, and cesium phosphate, and examples of the alkali metal fluoride include lithium oxide and cesium hydroxide. Specifically, sodium fluoride, potassium fluoride, lithium fluoride, cesium fluoride and the like can be mentioned.

アルカリ土類金属の塩基性塩としては、例えば、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物等が挙げられる。アルカリ土類金属の炭酸塩としては、具体的には炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等を、アルカリ土類金属の水酸化物としては、具体的には水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等を例示できる。
無機塩基の中で、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸リチウム、リン酸セシウム等のリン酸塩が特に好ましい。
Examples of the alkaline earth metal basic salt include an alkaline earth metal carbonate, an alkaline earth metal hydroxide, and the like. Specific examples of the alkaline earth metal carbonate include magnesium carbonate and calcium carbonate, and specific examples of the alkaline earth metal hydroxide include magnesium hydroxide and calcium hydroxide.
Among inorganic bases, phosphates such as sodium phosphate, potassium phosphate, lithium phosphate and cesium phosphate are particularly preferable.

かかる塩基は、通常、ハロゲン化アリール化合物類に対して下限が通常1モル倍以上、好ましくは2モル倍以上、上限が、通常10モル倍以下、好ましくは5モル倍以下の範囲で使用するのがよい。
本発明の方法を実施するにあたっては、反応器にハロゲン化アリール化合物類、アリール金属化合物類、塩基、遷移金属化合物、多座ホスファイト配位子及び溶媒を所定量導入し、接触混合させればよい。反応器への導入方法や順番は特に限定されないが、通常、遷移金属化合物、多座ホスファイト配位子、溶媒、アリールホウ素化合物、塩基、ハロゲン置換芳香族化合物の順に導入する。
その後、撹拌下、通常0℃以上、好ましくは25℃以上、通常200℃以下、好ましくは150℃以下で1分以上24時間以内で反応させる。
Such a base is usually used in such a range that the lower limit is usually 1 mol times or more, preferably 2 mol times or more, and the upper limit is usually 10 mol times or less, preferably 5 mol times or less with respect to the halogenated aryl compounds. Is good.
In carrying out the method of the present invention, when a predetermined amount of aryl halide compounds, aryl metal compounds, base, transition metal compound, polydentate phosphite ligand and solvent are introduced into the reactor and mixed, Good. The method and order of introduction into the reactor are not particularly limited, but usually the transition metal compound, the polydentate phosphite ligand, the solvent, the aryl boron compound, the base, and the halogen-substituted aromatic compound are introduced in this order.
Thereafter, under stirring, usually 0 ℃ or higher, preferably 25 ° C. or higher, usually 200 ° C. or less, preferably at 0.99 ° C. or less, the reaction within 24 hours or 1 minute.

かくして、本発明の製造方法における目的化合物であるビアリール化合物、好ましくは、下記一般式(3)で表されるようなビアリール化合物が生成する。   Thus, a biaryl compound which is the target compound in the production method of the present invention, preferably a biaryl compound represented by the following general formula (3) is produced.

Figure 0004552405
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(式中、A1及びA2はそれぞれ独立して炭素原子又はヘテロ原子を表す。R1及びR2は、それぞれ独立して、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアルコキシ基、置換されていても良いアリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−CO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−CONR'R''で表される基(ここで、R'及びR''はそれぞれ独立して、水素原子又は置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SORで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)又は−SiR3で表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)を示し、m1及びm2は、それぞれ独立して、0〜5の整数を示す。ここで、m1及びm2が2以上の場合には、複数存在するR1又はR2は、それぞれ同一の基であっても異なる基であっても良い。)
式(3)における、A1、A2、R1、R2、m1、m2の説明は、式(1)及び(2)におけると同義である。
(In the formula, A 1 and A 2 each independently represent a carbon atom or a hetero atom. R 1 and R 2 each independently represent a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, or an optionally substituted amino group. , An optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted alkoxy group, an optionally substituted aryloxy group, an acyl group, an acyloxy group, a group represented by —CO 2 R (where R is Represents an optionally substituted hydrocarbon group.), A group represented by —CONR′R ″ (wherein R ′ and R ″ each independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted group). A hydrocarbon group), a group represented by —SOR (where R represents an optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SO 2 R (where R is a substituted group). Or a group represented by —SiR 3 (here, R Represents an optionally substituted hydrocarbon group), and m 1 and m 2 each independently represents an integer of 0 to 5, where m 1 and m 2 are 2 or more. And a plurality of R 1 or R 2 may be the same group or different groups.)
In the formula (3), A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , m 1 , and m 2 are synonymous with those in the formulas (1) and (2).

本発明の製造方法によれば、ハロゲン化アリール化合物類とアリール金属化合物類とのクロスカップリングの選択性が高いため、非対称ビアリール化合物を得るのに適している。
こうして得られるビアリール化合物は、公知の単離精製手段、例えば、濾過、抽出、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の操作を適宜組み合わせることにより単離、精製することができる。
The production method of the present invention is suitable for obtaining an asymmetric biaryl compound because of high selectivity of cross-coupling between halogenated aryl compounds and aryl metal compounds.
The biaryl compound thus obtained can be isolated and purified by appropriately combining known isolation and purification means such as filtration, extraction, concentration, distillation, recrystallization, column chromatography and the like.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these Examples, unless the summary is exceeded.

[実施例1] 4−メチルビフェニルの合成
窒素雰囲気下、30ml容量のシュレンク管にPd(acac)2 3.0mg(0.01mmol)、上記式(13)で表される多座ホスファイト配位子0.01mmol及びトルエン3.0mlを仕込み、室温下30分撹拌した後、その反応系内にp−トリルボロン酸0.204g(1.5mmol)、リン酸カリウム0.424g(2.0mmol)、及びブロモベンゼン0.157g(1.0mmol)をそれぞれ加え、110℃で3時間反応させた。反応終了後、混合物を室温まで冷却し、セライトを用いた吸引濾過にて触媒を除去し、酢酸エチル5mlで3回洗浄した。この濾液を濃縮してガスクロマトグラフィーにて分析したところ、ブロモベンゼンの転化率は100%であった。濾液の有機層を10%水酸化カリウム水溶液30mlで洗浄し、更に有機層を飽和食塩水20mlで2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、無色板状結晶である4−メチルビフェニル0.165g(収率98%(ガスクロマトグラフィーによる分析では99.9%))を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):2.40(3H、s)、7.23−7.62(9H、m)
[Example 1] Synthesis of 4-methylbiphenyl Under a nitrogen atmosphere, 3.0 mg (0.01 mmol) of Pd (acac) 2 in a Schlenk tube with a capacity of 30 ml, a multidentate phosphite coordination represented by the above formula (13) After 0.01 mol of children and 3.0 ml of toluene were charged and stirred at room temperature for 30 minutes, 0.204 g (1.5 mmol) of p-tolylboronic acid, 0.424 g (2.0 mmol) of potassium phosphate, And 0.157 g (1.0 mmol) of bromobenzene were added and reacted at 110 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, the catalyst was removed by suction filtration using celite, and the mixture was washed 3 times with 5 ml of ethyl acetate. When this filtrate was concentrated and analyzed by gas chromatography, the conversion of bromobenzene was 100%. The organic layer of the filtrate was washed with 30 ml of 10% aqueous potassium hydroxide, and the organic layer was further washed twice with 20 ml of saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 1), and 0.165 g (yield 98% (analysis by gas chromatography) of colorless plate crystals 4-methylbiphenyl. 99.9%)).
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 2.40 (3H, s), 7.23-7.62 (9H, m)

[実施例2] 4−メトキシ−4’−メチルビフェニルの合成
実施例1におけるブロモベンゼンに代えて、4−メトキシブロモベンゼン0.202g(1.0mmol)を使用する以外は、実施例1と同様の操作を繰り返した。無色板状結晶である4−メトキシ−4’−メチルビフェニル0.178g(収率97%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):3.84(3H、s)、6.96−7.58(9H、m)
Example 2 Synthesis of 4-methoxy- 4′- methylbiphenyl The same as Example 1 except that 0.202 g (1.0 mmol) of 4-methoxybromobenzene was used instead of bromobenzene in Example 1. The operation of was repeated. 0.178 g (yield 97%) of 4-methoxy- 4′- methylbiphenyl as colorless plate crystals was obtained.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 3.84 (3H, s), 6.96-7.58 (9H, m)

[実施例3] 4−ニトロ−4−メチルビフェニルの合成
実施例1におけるブロモベンゼンに代えて、4−ニトロブロモベンゼン0.202g(1.0mmol)を使用する以外は、実施例1と同様の操作を繰り返した。黄色板状結晶である4−ニトロ−4’−メチルビフェニル0.183g(収率86%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):2.41(3H、s)、7.41(4H、dd)、8.00(4H、dd)
Example 3 4-Nitro-4 '- instead of bromobenzene in Example 1, methyl biphenyl, but using 4-nitro-bromobenzene 0.202 g (1.0 mmol), as in Example 1 The operation of was repeated. 0.183 g (yield 86%) of 4-nitro-4′-methylbiphenyl as yellow plate crystals was obtained.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 2.41 (3H, s), 7.41 (4H, dd), 8.00 (4H, dd)

[実施例4] 4−ニトロビフェニルの合成
実施例1におけるp−トリルボロン酸およびブロモベンゼンに代えて、フェニルボロン酸0.183g(1.5mmmol)、4−ニトロブロモベンゼン0.202g(1.0mmol)を使用する以外は、実施例1と同様の操作を繰り返した。黄褐色板状結晶である4−ニトロビフェニル0.191g(収率96%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):7.40−8.34(9H、m)
[Example 4] Synthesis of 4-nitrobiphenyl Instead of p-tolylboronic acid and bromobenzene in Example 1, 0.183 g (1.5 mmol) of phenylboronic acid, 0.202 g (1.0 mmol) of 4-nitrobromobenzene The same operation as in Example 1 was repeated except that 0.191 g (yield 96%) of 4-nitrobiphenyl was obtained as yellowish brown plate crystals.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 7.40-8.34 (9H, m)

[実施例5] 3−フルオロビフェニルの合成
実施例1におけるp−トリルボロン酸に代えて、3−フルオロフェニルボロン酸0.210g(1.5mmol)を使用する以外は、実施例1と同様の操作を繰り返した。黄色結晶である3−フルオロビフェニル0.109g(収率63%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):7.00−7.62(9H、m)
Example 5 Synthesis of 3-fluorobiphenyl The same procedure as in Example 1 except that 0.210 g (1.5 mmol) of 3-fluorophenylboronic acid was used instead of p-tolylboronic acid in Example 1. Was repeated. 0.109 g (yield 63%) of 3-fluorobiphenyl as yellow crystals was obtained.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 7.00-7.62 (9H, m)

[実施例6] 3−フルオロ−4−メトキシビフェニルの合成
実施例1におけるp−トリルボロン酸およびブロモベンゼンに代えて、3−フルオロフェニルボロン酸0.210g(1.5mmol)、4−メトキシブロモベンゼン0.187g(1.0mmol)を使用する以外は、実施例1と同様の操作を繰り返した。黄色結晶である3−フルオロ−4’−メトキシビフェニル0.171g(収率85%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):3.83(3H、s)、6.95−7.53(8H、m)
Example 6 3-fluoro-4 '- instead of p- tolylboronic acid and bromobenzene in Example 1, the methoxy-biphenyl, 3-fluorophenyl boronic acid 0.210 g (1.5 mmol), 4-methoxy-bromo The same operation as in Example 1 was repeated except that 0.187 g (1.0 mmol) of benzene was used. 0.171 g (yield 85%) of 3-fluoro-4′-methoxybiphenyl as yellow crystals was obtained.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 3.83 (3H, s), 6.95-7.53 (8H, m)

[実施例7] 2−メチル−5−(3−フルオロフェニル)ピリジンの製造
窒素雰囲気下、30mL容量のフラスコ内にビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル錯体8.3mg(0.03mmol)、上記式(13)で表される多座ホスファイト配位子62.6mg(0.06mmol)及び無水トルエン8mLを仕込み、室温下1時間撹拌を行った後、その反応系内に3−フルオロフェニルボロン酸0.63g(4.5mmol)、2−メチル−5−ブロモピリジン0.52g(3mmol)及びリン酸カリウム1.27g(6mmol)をそれぞれ加え、80℃で6時間反応させた。この反応液を液体クロマトグラフィーにて分析したところ、2−メチル−5−ブロモピリジンの転化率は100%であった。室温下、濾過による塩を除去し、溶液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、無色油状物である2−メチル−5−(3−フルオロフェニル)ピリジン0.54g(収率96%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):2.60(3H、s)、7.06(1H、d)、7.26(2H、d)、7.00−7.45(2H、m)、7.73(1H、d)、8.70(1H、d)。
Example 7 Production of 2-methyl-5- (3-fluorophenyl) pyridine 8.3 mg (0.03 mmol) of bis (1,5-cyclooctadiene) nickel complex in a 30 mL volumetric flask under nitrogen atmosphere Then, 62.6 mg (0.06 mmol) of the polydentate phosphite ligand represented by the above formula (13) and 8 mL of anhydrous toluene were charged, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 0.63 g (4.5 mmol) of phenylboronic acid, 0.52 g (3 mmol) of 2-methyl-5-bromopyridine and 1.27 g (6 mmol) of potassium phosphate were added and reacted at 80 ° C. for 6 hours. When this reaction solution was analyzed by liquid chromatography, the conversion of 2-methyl-5-bromopyridine was 100%. The salt by filtration was removed at room temperature, and the solution was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give 0.54 g (yield) of 2-methyl-5- (3-fluorophenyl) pyridine as a colorless oil. 96%).
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 2.60 (3H, s), 7.06 (1H, d), 7.26 (2H, d), 7.00-7.45 (2H, m), 7.73 (1H, d), 8.70 (1H, d).

[実施例8] 3−(3−フルオロフェニル)ピリジンの製造
実施例7における2−メチル−5−ブロモピリジンに代えて、3−ブロモピリジン0.48g(3mmol)を使用する以外は、実施例と同様の操作を繰り返した。無色油状物である3−(3−フルオロフェニル)ピリジン0.48g(収率92%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):7.15(1H、d)、7.23(1H、d)、7.22−7.44(3H、m)、7.82(1H、d)、8.61(1H、d)、8.81(1H、d)。
[Example 8] Production of 3- (3-fluorophenyl) pyridine Example 8 except that 0.48 g (3 mmol) of 3-bromopyridine was used instead of 2-methyl-5-bromopyridine in Example 7. The same operation as 7 was repeated. As a colorless oil, 0.48 g (yield 92%) of 3- (3-fluorophenyl) pyridine was obtained.
1 H-NMR (300MHz, CDCl 3, δppm): 7.15 (1H, d), 7.23 (1H, d), 7.22-7.44 (3H, m), 7.82 (1H, d), 8.61 (1H, d), 8.81 (1H, d).

[実施例9] 2−メチル−5−(3−クロロフェニル)ピリジンの製造
実施例7における3−フルオロフェニルボロン酸に代えて、3−クロロフェニルボロン酸2.0g(13mmol)を使用する以外は、実施例7と同様の操作を繰り返した。無色油状物である2−メチル−5−(3−クロロフェニル)ピリジン1.67g(収率82%)を得た。
[Example 9] Production of 2-methyl-5- (3-chlorophenyl) pyridine Except for using 2.0 g (13 mmol) of 3-chlorophenylboronic acid instead of 3-fluorophenylboronic acid in Example 7, The same operation as in Example 7 was repeated. As a colorless oil, 1.67 g (yield 82%) of 2-methyl-5- (3-chlorophenyl) pyridine was obtained.

[実施例10] 3−(3−フルオロフェニル)ピリジンの製造
実施例7における2−メチル−5−ブロモピリジンに代えて、3−ブロモピリジン1.68g(10mmol)を使用する以外は、実施例7と同様の操作を繰り返した。無色油状物である3−(3−フルオロフェニル)ピリジン1.58g(収率91%)を得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、δppm):7.15(1H、d)、7.23(1H、d)、7.22−7.44(3H、m)、7.82(1H、d)、8.61(1H、d)、8.81(1H、d)。
Example 10 Production of 3- (3-fluorophenyl) pyridine Example 1 except that 1.68 g (10 mmol) of 3-bromopyridine was used instead of 2-methyl-5-bromopyridine in Example 7. The same operation as 7 was repeated. As a colorless oil, 1.58 g (yield 91%) of 3- (3-fluorophenyl) pyridine was obtained.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ ppm): 7.15 (1H, d), 7.23 (1H, d), 7.22-7.44 (3H, m), 7.82 (1H, d), 8.61 (1H, d), 8.81 (1H, d).

[実施例11] 3−(3−フルオロフェニル)ピリジンの製造
実施例7における2−メチル−5−ブロモピリジンに代えて、3−クロロピリジン1.14g(10mmol)を使用する以外は、実施例7と同様の操作を繰り返した。無色油状物である3−(3−フルオロフェニル)ピリジン1.49g(収率86%)を得た。
Example 11 Production of 3- (3-fluorophenyl) pyridine Example 1 except that 1.14 g (10 mmol) of 3-chloropyridine was used instead of 2-methyl-5-bromopyridine in Example 7. The same operation as 7 was repeated. As a colorless oil, 1.49 g (yield 86%) of 3- (3-fluorophenyl) pyridine was obtained.

[比較例1〜4] 単座ホスファイト又はホスフィンを用いた1−メチル−4−フェニルベンゼンの合成
実施例1における多座ホスファイト配位子0.01mmolに代えて、表1に示すホスフィン又は単座ホスファイト(0.02mmol)を使用する以外は、実施例1と同様の操作を繰り返した。
[Comparative Example 1-4] Instead of the multidentate phosphite ligand 0.01mmol in Synthesis Example 1 1-methyl-4-phenyl-benzene using monodentate phosphites or phosphines, phosphine or monodentate shown in Table 1 The same operation as in Example 1 was repeated except that phosphite (0.02 mmol) was used.

結果を下記表−1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 0004552405
Figure 0004552405

本発明の製造方法によれば、ホモカップリング体の副成を抑え、目的とするビアリール化合物を高純度および高収率で得ることができる。
According to the production method of the present invention, the desired biaryl compound can be obtained with high purity and high yield by suppressing the by-product of the homo-coupled product.

Claims (4)

ハロゲン化アリール化合物類とアリール金属化合物類とを遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒の存在下にカップリングさせてビアリール化合物類を製造する方法であって、
アリール金属化合物類を構成する金属原子がホウ素原子であり、
遷移金属−多座ホスファイト錯体触媒が、遷移金属化合物と下記一般式(4)
Figure 0004552405
{式(4)中、R 3 及びR 4 は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6以上15以下のアリール基を示し、ここで、R 3 及びR 4 は、互いに結合して環を形成していてもよい。R 5 は、下記一般式(6)
Figure 0004552405
[式(6)中、R 6 〜R 13 は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、イソプロピル基、t−ブチル基又はメトキシ基を示す。Zmは結合手を示す。]で表されるビフェニレン基を示す。nは2を示す。}
で表される二座ホスファイト配位子から形成されるものであって、遷移金属化合物を構成する金属原子がニッケル原子又はパラジウム原子である
ことを特徴とするビアリール化合物類の製造方法。
A method for producing biaryl compounds by coupling halogenated aryl compounds and aryl metal compounds in the presence of a transition metal-polydentate phosphite complex catalyst ,
The metal atom constituting the aryl metal compound is a boron atom,
The transition metal-multidentate phosphite complex catalyst comprises a transition metal compound and the following general formula (4):
Figure 0004552405
{In Formula (4), R 3 and R 4 each independently represents an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent, wherein R 3 and R 4 are They may be bonded to each other to form a ring. R 5 represents the following general formula (6)
Figure 0004552405
Wherein (6), R 6 ~R 13 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an isopropyl group, t- butyl group or a methoxy group. Zm represents a bond. ] The biphenylene group represented by this is shown. n represents 2. }
A biaryl compound formed of a bidentate phosphite ligand represented by the formula (I), wherein the metal atom constituting the transition metal compound is a nickel atom or a palladium atom: Method.
ビアリール化合物類が下記一般式(3)
Figure 0004552405
式(3)中、A1及びA2はそれぞれ独立して炭素原子又はヘテロ原子を表す。R1及びR2は、それぞれ独立して、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアルコキシ基、置換されていても良いアリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−CO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−CONR'R''で表される基(ここで、R'及びR''はそれぞれ独立して、水素原子又は置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SORで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SO2Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)又は−SiR3で表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)を示し、m1及びm2は、それぞれ独立して、0〜5の整数を示す。ここで、m1及びm2が2以上の場合には、複数存在するR1又はR2は、それぞれ同一の基であっても異なる基であっても良い。
で表される化合物であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
Biaryl compounds are represented by the following general formula (3)
Figure 0004552405
[In Formula (3), A < 1 > and A < 2 > represent a carbon atom or a hetero atom each independently. R 1 and R 2 are each independently a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted alkoxy group, or a substituted group. An aryloxy group, an acyl group, an acyloxy group, a group represented by —CO 2 R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group), and a group represented by —CONR′R ″. Group (wherein R ′ and R ″ each independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SOR (wherein R is substituted) An optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SO 2 R (where R represents an optionally substituted hydrocarbon group), or a group represented by —SiR 3 (here. And R represents an optionally substituted hydrocarbon group.), M 1 and m 2 represent Each independently represents an integer of 0 to 5. Here, when m 1 and m 2 are 2 or more, a plurality of R 1 or R 2 may be the same group or different groups. ]
The production method according to claim 1, wherein the compound is represented by the formula:
式(3)における(R1)m1で表される基と(R2)m2で表される基とが同一でないことを特徴とする請求項2に記載の製造方法。 The production method according to claim 2, wherein the group represented by (R 1 ) m 1 and the group represented by (R 2 ) m 2 in Formula (3) are not the same. アリール金属化合物類が、下記一般式(2)Aryl metal compounds are represented by the following general formula (2)
Figure 0004552405
Figure 0004552405
[式(2)中、A[In Formula (2), A 22 は炭素原子またはヘテロ原子を示す。RRepresents a carbon atom or a hetero atom. R 22 は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアルコキシ基、置換されていても良いアリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−COIs a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted alkoxy group, an optionally substituted aryloxy group, an acyl group , Acyloxy group, -CO 22 Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−CONR'R''で表される基(ここで、R'及びR''はそれぞれ独立して、水素原子又は置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SORで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)、−SOA group represented by R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —CONR′R ″ (where R ′ and R ″ are each independently A hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group), a group represented by —SOR (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group), —SO. 22 Rで表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)又は−SiRA group represented by R (wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group) or -SiR; 3Three で表される基(ここでRは置換されていても良い炭化水素基を示す。)を示し、m(Wherein R represents an optionally substituted hydrocarbon group), m 22 は、0〜5の整数を示す。ここで、mRepresents an integer of 0 to 5. Where m 22 が2以上の場合には、複数存在するRWhen R is 2 or more, there are a plurality of R 22 は、それぞれ同一の基であっても異なる基であっても良い。Mはホウ素原子を示し、YはMに結合するアニオン性基を示す。nは2又は3の整数を示す。]May be the same or different groups. M represents a boron atom, and Y represents an anionic group bonded to M. n represents an integer of 2 or 3. ]
で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。The production method according to claim 1, wherein the compound is represented by the formula:
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