JP4519321B2 - Photoconductive switch - Google Patents

Photoconductive switch Download PDF

Info

Publication number
JP4519321B2
JP4519321B2 JP2000585939A JP2000585939A JP4519321B2 JP 4519321 B2 JP4519321 B2 JP 4519321B2 JP 2000585939 A JP2000585939 A JP 2000585939A JP 2000585939 A JP2000585939 A JP 2000585939A JP 4519321 B2 JP4519321 B2 JP 4519321B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
switch according
switch
voltage
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000585939A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002531954A (en
Inventor
ハンス ベルンホフ,
ジャン イスベリ,
Original Assignee
エレメント シックス リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from SE9804135A external-priority patent/SE9804135L/en
Application filed by エレメント シックス リミテッド filed Critical エレメント シックス リミテッド
Publication of JP2002531954A publication Critical patent/JP2002531954A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4519321B2 publication Critical patent/JP4519321B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/109Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN heterojunction type

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【0001】
発明の属する技術分野
本発明は、第1の材料からなる第1層と、当該第1層の両側に設けられ、異なる電位に接続されることで第1層を横切る電圧を印加する2つの接触層を有し、第1層は、電荷キャリア価電子帯から伝導帯に励起するために十分なエネルギを有する光の照射を受けたときに、接触層の間に加えられた電圧に対して導電性を示し、第1の接触層は当該第1の接触層の側からの光が通過して前記第1層に到達し、接触層間の電圧に対してスイッチを導電性にするための開口を有する。
【0002】
この種のスイッチには多くの適用対象があり、たとえば、高電力用の高電圧(2から400kV)かつ高電流用の、サージ分岐装置、電流リミッタのようなスイッチに使用することができる。光導電性スイッチの長所は、光制御によって、高電力装置に故障が起きた際に装置を保護するためには非常に重要である、超高速スイッチングが可能になる点である。
【0003】
垂直スイッチと呼ばれるこの種の光導電性スイッチに共通の問題は、接触層の内の一方から照射を受けるので、照射を受ける側の接触抵抗を小さくし、同時に、照射によって第1層に自由電荷キャリアを効率的に発生させることが困難であった。第1層の前記接点で覆われている部分は陰になる、つまり、この領域には光が届かず、自由電荷キャリアが発生しない。つまり、この部分では導電性が低い。開口を非常に広くして開口によって分離している接触層の部分を小さくすることは、活性領域、つまり、スイッチが導通状態になったときに電荷キャリアが到達する面積小さくすることになり、スイッチの接触抵抗を顕著に増大させることになるので、実質的な解決にはならない。
【0004】
この問題は第1層の材料とは無関係であるが、ドープが困難でバンドギャップ(価電子帯伝導帯の間のエネルギーギャップ)が大きなダイヤモンドのような材料では一層顕著である。幾つかの材料に関して、この問題を部分的に解決する手段は、第1層の、第1の接触層近傍を強度にドーピングして、照射によって第1層で発生する自由電荷キャリアが「影」の領域を通って、第1の接触層に容易に到着するようにすることである。同様に部分的解決方法は、接触層として第1層の上に透明な導電層であるInドーピングしたSnOを堆積することであるが、この方法は第1層のバンドギャップが4.2eV(SnOのバンドギャップ)以下の場合でなければ使用することができない。
【0005】
上記の部分的な解決手段が適用できない材料という意味で、以下の記載では、約5.4eVのバンドギャップを有し、ドーピングが困難なダイヤモンドに焦点を当てるが、本発明がダイヤモンドに限定されるという意味ではない。ダイヤモンドの第1の接触層に隣接する部分を高度にドーピングすることで接触抵抗を低減することはできず、SnOはダイヤモンドを導電性にするために必要な高エネルギ光の大部分を吸収する結果、光はダイヤモンドに到達しないので上述のようにSnOをダイヤモンドに使用することもできない。
【0006】
発明の要旨
本発明の目的は、導入の部分で定義した光導電性スイッチであって、従来知られている光導電性スイッチに比較して第1の接触層の側の接触抵抗が低いものである。
【0007】
本発明によれば、当該目的は、第1の接触層の上に、少なくとも第1層の前記開口から露出している表面を覆い、当該開口において第1層とのインターフェースを構成するように形成し、薄膜状の第2層は第1の材料に対して良好なインターフェースを形成する材料であって、第1の材料の価電子帯伝導帯とのエネルギーギャップに比較して同等以上のエネルギーギャップを有して、実質的に大部分を吸収することなく光を透過させる材料からなる構成によって達成される。
【0008】
電荷キャリアが開口内の第2層を通って影の部分を通過することなく第1の接触層に到達することができるので、第1のコンタクト層の形状が同じであれば、第1の接触層の実効接触面積は増加する。このためには、電荷キャリアと光のインターフェース部分で電気および光学的なトラップによって補足されてスイッチの抵抗を増加させないように、第1層と第2層のオーダーが調整されていることが重要である。このようにして第1の接触層の幾何的な面積を小さくすること、つまり、開口を大きくし、しかもスイッチの取り扱い電流を過剰に制限しないように十分な接触面積を確保することが可能になる。結果的に、「影」の部分の面積を小さくして、照射を受けたときのスイッチの抵抗を低減する。
【0009】
第2層を薄くし、かつ、その材料を少なくとも第1の材料と同等のバンドギャップを有する材料にすることで、当該第2層で光の大部分が吸収されるリスクは生じない。
【0010】
本発明の好ましい実施例によれば、当該第2層は、第1の接触層の第1層とは反対側の表面においても電荷キャリアが接触層に到達することができるので、第1の接触層の実効面積を一層増大させる。したがって、第2層が第1の接触層の全表面を覆うのが、極めて好ましい態様である。
【0011】
本発明の別の好ましい実施例に従えば、第2層の材料は第1層の材料と実質的に等しい価電子帯伝導帯のギャップを有する。これは当該第2層によって光の内のいくらかが吸収され、スイッチの抵抗をさらに小さくすることになる。
【0012】
本発明の別の好ましい実施例に拠れば、第2層の材料は少なくとも第1層とのインターフェースの部分においては第1の材料と同じであり、この場合には、結晶格子を整合させることが通常容易になるので、第1層と第2層との間のインターフェースのオーダーを良好にする。従って、第1層の材料と第2層の材料とが同一であることが好ましい。同じ材料を使用することは、さらに、エネルギーバンドギャップに関する要請が自動的に満足されることを意味する。
【0013】
本発明の別の好ましい実施例に拠れば、第1の材料の価電子帯伝導帯のエネルギギャップは4.5eVより大きく、本発明は、上述のように透明なSnO層を使用する必要が無いので、当該実施例はこのような材料を使用したスイッチに好適に使用される。
【0014】
本発明の別の極めて好ましい実施例によれば、第1の材料はダイヤモンドである。ダイヤモンドは、すでに述べたように、ドーピングが困難でSnOの4.2eVに比較して、5.4eVときわめて高いバンドギャップを有し、ダイヤモンドの物理特性は光導電性スイッチの材料として極めて良好である。ダイヤモンドは、特に極めて高い絶縁破断電界強度を有し、このことは、ダイヤモンドを使用した光導電性スイッチは遮断状態、つまりオフの状態、では極めて高い電圧を保持できることを意味する。さらに、ダイヤモンドは比較的電荷キャリアの移動性が高いので、導電性が高い。従って、ダイヤモンドはこの種のスイッチに使用するには非常に好適な材料であるが、上述のような接触抵抗の問題があるので、今までは、「垂直」スイッチに使用することは困難であった。ダイヤモンドは、真性な形態で使用するのが好ましい。「真性なダイヤモンド」とは、ダイヤモンドがドープされていないか、補償ドープされているか、対象温度範囲ではドーパントが熱的に活性でないものを意味する。前記の第1層もまたダイヤモンドに使用することが、第1層と第2層との良好なインターフェースを得るために望ましく、実際にはCVDを使用して第1層の上に第2層をインターフェースを作らずに堆積することが可能であり、この場合その「インターフェース」においてもモビリティはダイヤモンドのバルクモビリティと同じになる。
【0015】
本発明の他の好ましい実施例に拠れば、前記の接触層は、第2層がダイヤモンドの場合には、第2層のCVD成長に必要な高温(摂氏800−900度)に耐えることのできる、タンタルチタンおよびタングステンから選択されるのが望ましい。
【0016】
本発明の上記以外の利点と好ましい特性は以下の記載と従属請求項を通じて明らかにする。
【0017】
発明の好ましい実施例の詳細な説明
本発明の好ましい実施例に基づく光導電スイッチの概念を図1に示すが、スイッチは、真性なダイヤモンドからなり約200ミクロンの厚さを有する第1層1と、第1層の両側に設けられ、異なる電位に接続することによって第1層1を横切る電圧を印加することができる、2つの接触層、つまり、第1の接触層2と第2の接触層3を具備する。従って、2つの接触層はそれぞれ、たとえば、電力回路の制御装置の電気回路に設けられたスイッチの電極に接続される(図示しない)ように構成されている。
【0018】
第1の接触層2には、第1の接触層の側からスイッチに与えられた光5が第1層に到達して印加された電圧に対して、電圧の向きにかかわらず、導電性を発揮するように開口4を有する。第1層の真性なダイヤモンドの価電子帯伝導帯のギャップは約5.4eVであり、このことは、前記の光5は、ダイヤモンド内の電荷キャリア価電子帯から伝導帯まで励起するには少なくともそれだけのエネルギが必要であることを意味する。第1の接触層の下側にどのように「影」6、つまりそこではダイヤモンドで自由電荷キャリアが発生せずスイッチの導電性が非常に低い部分、が形成されるかを図示した。
【0019】
同様に真性なダイヤモンドである第2層7が、第1層の前記開口部分と第1の接触層とを覆うように形成されている。この層は、典型的な場合は、約10ミクロンの厚さを有する。ここではダイヤモンドである、同じ材料を使用することによって、第1層と第2層との間にきわめて良好なオーダーのインターフェースを形成することができ、ダイヤモンドの場合には実際インターフェースは存在していないが、図面では線8によって表した。この第2層は、照射によって第1層で発生した電荷キャリアが開口から第2層を通り第1の接触層の側面と上面から流入するので、矢印9と10とで示したように、第1の接触層の活性面積を飛躍的に増大させる。このことは、第1の接触層の実行面積を減少させることなく開口4の面積を、第2層が無い場合に比較して、はるかに拡大したことになり、第1の接触層は、第1層の全表面積の数パーセントを覆うだけになる。つまり、第1層が光5の照射をはるかに多く受け、オンの状態でのスイッチの導電性が増大する。
【0020】
第2層7を設けることの別の利点は、第2層によって第1の接触層が電気絶縁材料に埋設され、スイッチの光を受けない絶縁状態での接触層の絶縁が行われることである。層7は、スイッチの保護層、つまり、ダイヤモンドのように電気的に活性な第1層を環境の影響から保護するための層として機能する。
【0021】
本発明の第2の好ましい実施例に基づくスイッチを図2に示すが、この実施例は図1に示した実施例に比べると、第1層が、たとえばSiC,Si、GaN,AlNまたはBNを反対の導電特性nとpでドーピングして、pn接合13に正方向のバイアス電圧が印加されたときは常に電流を流し、逆電圧が印加されたときは、第1層に光5が照射されていなければ電流を遮断し、第1層に光が照射されていれば電気を導通する半導体材料から構成される積層したサブレイヤ11,12によって構成されている点が異なる。ダイヤモンドに比較してドーピングがはるかに容易なこれらの半導体材料からなるスイッチは、前記「影」の影響を相殺するために当該材料を高度にドーピングすることが可能で、バンドギャップが4.2eVと小さな材料については、InドープしたSnOのような透明な導電性材料を使用することが可能なので、第2層を使用することの利益は前述の例に比較すれば小さいが、上述の構成は極めて好ましいものである。第1層の材料としてダイヤモンドをドーピングすることも本発明の範囲に含まれることは当然である。
【0022】
本発明の上述の実施例に限定されるものではないことは当然であり、当業者であれば、本発明の技術思想の範囲において多くの変形を考えることができる。
【0023】
第1層と第2層の材料は光導電性スイッチに好適な材料であればなんでも良く、上述の例には限定されない。
【0024】
第1層を照射するために比較的照射スペクトル幅の広い通常の白色光を使用する場合は、第2層には第1層とは別の材料を使用して、光を有効に使用して第1の材料のバンドギャップに対して大きなエネルギーが第2の材料によって吸収されないようにすることが望ましい。
【0025】
請求項に定義された「結晶質材料」は、単結晶と多結晶体を含むものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の好ましい実施例に基づく光導電性スイッチの断面を示す概念図である。
【図2】 本発明の第2の好ましい実施例に基づく、第1図と同様な図である。
[0001]
The present invention relates to a first layer made of a first material and two contacts that are provided on both sides of the first layer and apply a voltage across the first layer by being connected to different potentials. The first layer has a resistance to a voltage applied between the contact layers when irradiated with light having sufficient energy to excite charge carriers from the valence band to the conduction band . The first contact layer has an opening for passing light from the first contact layer side to reach the first layer and making the switch conductive with respect to the voltage between the contact layers. Have
[0002]
This type of switch has many applications, and can be used, for example, in a switch such as a surge branching device and a current limiter for high voltage (2 to 400 kV) and high current for high power. The advantage of a photoconductive switch is that optical control allows for ultra-fast switching, which is very important for protecting a device when a high power device fails.
[0003]
A common problem with this type of photoconductive switch, called a vertical switch, is that it is irradiated from one of the contact layers, so that the contact resistance on the receiving side is reduced and at the same time free charge is applied to the first layer by irradiation. It has been difficult to generate carriers efficiently. The portion of the first layer covered with the contact is shaded, that is, light does not reach this region and free charge carriers are not generated. That is, the conductivity is low in this portion. The opening of the very wide to reduce the portion of the contact layer which are separated by an opening, the active region, i.e., will be to reduce the area in which the charge carriers to reach when the switch is in a conducting state, This significantly increases the contact resistance of the switch and is not a substantial solution.
[0004]
This problem is not related to the material of the first layer, but is more remarkable in a material such as diamond that is difficult to dope and has a large band gap (energy gap between the valence band and the conduction band ). For some materials, a means to partially solve this problem is that the first layer, in the vicinity of the first contact layer, is heavily doped so that free charge carriers generated in the first layer upon irradiation are “shadowed”. To reach the first contact layer easily through this area. Similarly, a partial solution is to deposit In doped SnO 2 , which is a transparent conductive layer, on the first layer as a contact layer, but this method has a band gap of 4.2 eV ( (SnO 2 band gap) can be used only in the following cases.
[0005]
In the sense that the above partial solution is not applicable, the following description will focus on diamonds that have a band gap of about 5.4 eV and are difficult to do, but the invention is limited to diamonds. It does not mean that. The contact resistance cannot be reduced by highly doping the portion of the diamond adjacent to the first contact layer, and SnO 2 absorbs most of the high energy light needed to make the diamond conductive. As a result, since light does not reach the diamond, SnO 2 cannot be used for the diamond as described above.
[0006]
Summary of the invention An object of the present invention is a photoconductive switch as defined in the introduction section, which is a contact resistance on the side of a first contact layer compared to a conventionally known photoconductive switch. Is low.
[0007]
According to the present invention, the object is formed on the first contact layer so as to cover at least the surface exposed from the opening of the first layer and to form an interface with the first layer in the opening. The thin film-like second layer is a material that forms a good interface with the first material, and has an energy equal to or higher than the energy gap between the valence band and the conduction band of the first material. This is achieved by a construction made of a material having a gap and transmitting light without substantially absorbing most of it.
[0008]
Since the charge carriers can reach the first contact layer through the second layer in the opening without passing through the shaded portion, the first contact is the same if the shape of the first contact layer is the same. The effective contact area of the layer is increased. For this purpose, it is important that the order of the first layer and the second layer is adjusted so that the resistance of the switch is not increased by being supplemented by electric and optical traps at the interface between the charge carrier and the light. is there. In this way, it is possible to reduce the geometric area of the first contact layer, that is, to increase the opening and to secure a sufficient contact area so as not to excessively limit the switch handling current. . As a result, the area of the “shadow” is reduced to reduce the resistance of the switch when irradiated.
[0009]
By making the second layer thin and using a material having a band gap equivalent to at least the first material, there is no risk that the second layer will absorb most of the light.
[0010]
According to a preferred embodiment of the present invention, the second layer has the first contact layer because the charge carriers can reach the contact layer even on the surface of the first contact layer opposite to the first layer. Further increase the effective area of the layer. Therefore, it is a highly preferred aspect that the second layer covers the entire surface of the first contact layer.
[0011]
According to another preferred embodiment of the present invention, the second layer material has a valence band and conduction band gap substantially equal to the first layer material. This is because some of the light is absorbed by the second layer, further reducing the resistance of the switch.
[0012]
According to another preferred embodiment of the invention, the material of the second layer is the same as that of the first material at least at the interface with the first layer, in which case the crystal lattice can be matched. Since it usually becomes easier, the order of the interface between the first layer and the second layer is improved. Therefore, it is preferable that the material of the first layer and the material of the second layer are the same. Using the same material further means that the requirements regarding the energy band gap are automatically satisfied.
[0013]
According to another preferred embodiment of the present invention, the energy gap between the valence band and the conduction band of the first material is greater than 4.5 eV, and the present invention requires the use of a transparent SnO 2 layer as described above. Therefore, this embodiment is preferably used for a switch using such a material.
[0014]
According to another highly preferred embodiment of the invention, the first material is diamond. As described above, diamond is difficult to be doped and has a very high band gap of 5.4 eV compared to 4.2 eV of SnO 2 , and the physical properties of diamond are very good as a material for a photoconductive switch. It is. Diamond has a particularly high breakdown field strength, which means that a photoconductive switch using diamond can hold a very high voltage in the cut-off state, i.e. in the off state. Further, since diamond has relatively high charge carrier mobility, it has high conductivity. Therefore, diamond is a very suitable material to use for this type of switch, but until now it has been difficult to use for "vertical" switches due to the above mentioned contact resistance problem. It was. The diamond is preferably used in an intrinsic form. By “ intrinsic diamond” is meant that the diamond is undoped, compensated doped, or that the dopant is not thermally active in the temperature range of interest. The use of the first layer also for diamond is desirable to obtain a good interface between the first layer and the second layer, and in practice the second layer is deposited on the first layer using CVD. It is possible to deposit without creating an interface, in which case the mobility is also the same as the diamond's bulk mobility at the “interface”.
[0015]
In accordance with another preferred embodiment of the present invention, the contact layer can withstand the high temperatures (800-900 degrees Celsius) required for CVD growth of the second layer when the second layer is diamond. Desirably, tantalum , titanium and tungsten are selected.
[0016]
Other advantages and preferred properties of the invention will become apparent through the following description and the dependent claims.
[0017]
Detailed Description of the Preferred Embodiment of the Invention The concept of a photoconductive switch according to a preferred embodiment of the present invention is shown in FIG. 1, which comprises a first layer 1 made of intrinsic diamond and having a thickness of about 200 microns. , Two contact layers provided on both sides of the first layer and capable of applying a voltage across the first layer 1 by being connected to different potentials, namely the first contact layer 2 and the second contact layer 3 is provided. Therefore, each of the two contact layers is configured to be connected to an electrode of a switch (not shown) provided in an electric circuit of a control device for a power circuit, for example.
[0018]
The first contact layer 2 has conductivity regardless of the direction of the voltage with respect to the voltage applied by the light 5 applied to the switch from the first contact layer side reaching the first layer. An opening 4 is provided so as to exert the effect. The gap between the valence band and the conduction band of the intrinsic diamond of the first layer is about 5.4 eV, which means that the light 5 excites charge carriers in the diamond from the valence band to the conduction band. Means at least that much energy is required. It illustrates how a “shadow” 6 is formed under the first contact layer, that is, where the diamond does not generate free charge carriers and the conductivity of the switch is very low.
[0019]
Similarly, a second layer 7 made of true diamond is formed so as to cover the opening portion of the first layer and the first contact layer. This layer typically has a thickness of about 10 microns. By using the same material, here diamond, a very good order interface can be formed between the first and second layers, and in the case of diamond there is actually an interface. Although not shown, it is represented by line 8 in the drawing. In this second layer, charge carriers generated in the first layer by irradiation flow from the opening through the second layer and flow from the side surface and the upper surface of the first contact layer. The active area of one contact layer is dramatically increased. This means that the area of the opening 4 is greatly expanded as compared with the case without the second layer without reducing the effective area of the first contact layer. It will only cover a few percent of the total surface area of a layer. That is, the first layer receives much more light 5 and the conductivity of the switch in the on state increases.
[0020]
Another advantage of providing the second layer 7 is that the second layer embeds the first contact layer in an electrically insulating material and provides insulation of the contact layer in an insulated state that does not receive the light of the switch. . The layer 7 functions as a protective layer of the switch, that is, a layer for protecting the electrically active first layer such as diamond from the influence of the environment.
[0021]
A switch according to the second preferred embodiment of the present invention is shown in FIG. 2, which, compared to the embodiment shown in FIG. 1, has a first layer of, for example, SiC, Si, GaN, AlN or BN. Doping with opposite conductivity characteristics n and p, when a forward bias voltage is applied to the pn junction 13, a current always flows, and when a reverse voltage is applied, the first layer is irradiated with light 5. If not, the current is cut off, and if the first layer is irradiated with light, it is constituted by the laminated sublayers 11 and 12 made of a semiconductor material that conducts electricity. Switches made of these semiconductor materials, which are much easier to be doped compared to diamond, can be highly doped to offset the effect of the “shadow” and have a band gap of 4.2 eV. For small materials, a transparent conductive material such as In-doped SnO 2 can be used, so the benefit of using the second layer is small compared to the previous example, but the above configuration is It is extremely preferable. Of course, doping the diamond as the material of the first layer is also within the scope of the present invention.
[0022]
Of course, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and those skilled in the art can consider many modifications within the scope of the technical idea of the present invention.
[0023]
The material for the first layer and the second layer may be any material suitable for the photoconductive switch, and is not limited to the above example.
[0024]
When normal white light with a relatively wide irradiation spectrum width is used to irradiate the first layer, a material different from the first layer is used for the second layer, and light is effectively used. It is desirable to prevent large energy from being absorbed by the second material relative to the band gap of the first material.
[0025]
“Crystalline material” as defined in the claims includes single crystals and polycrystals.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a cross section of a photoconductive switch according to a first preferred embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view similar to FIG. 1 according to a second preferred embodiment of the present invention.

Claims (22)

第1の材料からなる第1層(1)と、第1層の両面に設けられ、異なる電位に接続されて、第1層に電圧を印加することのできる2つの接触層(2,3)とを具備し、
当該第1層は、第1の材料の電荷キャリア価電子帯から伝導帯まで励起するために十分なエネルギを有する光(5)の照射を受けたときに、前記接触層間に加えられた電圧に対して導電性を有し、
前記第1層の前記第1接触層(2)側には開口(4)が設けられて、当該第1接触層側から照射された光が、前記開口を通って前記第1層に到達し、印加された電圧を導通する光導電スイッチであって、
前記第1層の第1接触層の側に、少なくとも第1層の前記開口部を覆って、当該開口部で第1層と接触する第2層(7)が設けられ、
当該第2層の材料の、価電子帯と伝導帯との間のエネルギーギャップが、前記第1層の第1の材料のエネルギーギャップと実質的に等しいことを特徴とする光導電スイッチ。
A first layer (1) made of a first material and two contact layers (2, 3) provided on both sides of the first layer, connected to different potentials and capable of applying a voltage to the first layer And
When the first layer is irradiated with light (5) having sufficient energy to excite the charge carriers of the first material from the valence band to the conduction band , the voltage applied between the contact layers Have conductivity against
An opening (4) is provided on the first contact layer (2) side of the first layer, and light irradiated from the first contact layer side reaches the first layer through the opening. A photoconductive switch for conducting an applied voltage,
On the side of the first contact layer of the first layer, a second layer (7) that covers at least the opening of the first layer and contacts the first layer at the opening is provided.
The photoconductive switch, wherein an energy gap between a valence band and a conduction band of the material of the second layer is substantially equal to an energy gap of the first material of the first layer.
前記第2層(7)は、第1の接触層(2)も覆うことを特徴とする請求項1に記載のスイッチ。Switch according to claim 1, characterized in that the second layer (7) also covers the first contact layer (2) . 第2層(7)の、少なくとも第1層とのインターフェース部分近傍の材料は第1の材料と同じであることを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to claim 1 or 2 , characterized in that the material of the second layer (7) at least near the interface part with the first layer is the same as the first material. 第2層(7)の材料は第1層(1)の材料と同じであることを特徴とする、請求項3に記載のスイッチ。Switch according to claim 3 , characterized in that the material of the second layer (7) is the same as the material of the first layer (1). 第1層(1)と第2層(7)は結晶質材料からなることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to any one of the preceding claims , characterized in that the first layer (1) and the second layer (7) are made of a crystalline material. 第1の材料の価電子帯伝導帯との間のエネルギギャップが4.5eVよりも大きいことを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載のスイッチ。6. The switch according to claim 1 , wherein the energy gap between the valence band and the conduction band of the first material is larger than 4.5 eV. 前記第1層(1)は真性な材料からなり、第1層が照射を受け、接触層(2,3)の間に電圧が印加されると、電圧の向きにかかわらず、電圧に対してスイッチが導電性であり、第1層に照射がされなければ遮断状態であることを特徴とする、請求項1ないし6のいずれかに記載のスイッチ。The first layer (1) is made of an intrinsic material. When the first layer is irradiated and a voltage is applied between the contact layers (2, 3), the voltage is applied regardless of the direction of the voltage. The switch according to any one of claims 1 to 6, wherein the switch is conductive and is in a cut-off state if the first layer is not irradiated. 前記第1の材料はダイヤモンドであることを特徴とする、請求項1ないし7のいずれかに記載のスイッチ。Said first material is characterized in that it is a diamond, switch according to any one of claims 1 to 7. ダイヤモンドはドーピングされていることを特徴とする、請求項8に記載のスイッチ。Switch according to claim 8 , characterized in that diamond is doped. 前記第2層(7)の材料の、価電子帯伝導帯のエネルギギャップは、少なくとも5.4eVであることを特徴とする、請求項8または9のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to claim 8 or 9 , characterized in that the energy gap between the valence band and the conduction band of the material of the second layer (7) is at least 5.4 eV. 前記接触層(2,3)はタンタルチタンおよびタングステンから選ばれた材料からなることを特徴とする、請求項1ないし10のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to any of the preceding claims , characterized in that the contact layer (2, 3) is made of a material selected from tantalum , titanium and tungsten. 前記第1層が反対の導電タイプnとpとでドーピングされた半導体材料からなる整流ダイオードを構成する少なくとも2層の積層(11,12)を有し、pn接合に正方向の電圧が印加されたときは常に導電性を示し、pn接合に逆方向の電圧が印加されたときは、第1層が照射を受けていなければ遮断、第1層が照射を受けていれば導電性を示すことを特徴とする、請求項1ないし6、10または11のいずれかに記載のスイッチ。The first layer consists of doped semiconductor material of opposite conductivity type n and p, which constitutes the rectifying diode has a stack of at least two layers (11, 12), the positive direction of voltage to the pn junction When a voltage is applied to the pn junction, the first layer is cut off if it is not irradiated, and the first layer is conductive if it is irradiated. The switch according to any one of claims 1 to 6, 10, or 11 , characterized by: 前記第1の材料はSiCであることを特徴とする、請求項1ないし6、または、10ないし12のいずれかに記載のスイッチ。The switch according to any one of claims 1 to 6, or 10 to 12 , wherein the first material is SiC. 前記第1の材料はSiであることを特徴とする、請求項1ないし6、または、10ないし12のいずれかに記載のスイッチ。The switch according to any one of claims 1 to 6, or 10 to 12 , wherein the first material is Si. 前記第1の材料はGaN、AlNまたはBNのいずれかであることを特徴とする、請求項1ないし6、または、10ないし12のいずれかに記載のスイッチ。The switch according to claim 1, wherein the first material is any one of GaN, AlN, and BN. 第2層の材料は電気的に絶縁性であり、前記開口(4)によって分離した第1の接触層の部分を絶縁することを特徴とする、請求項1ないし15のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to any of the preceding claims , characterized in that the material of the second layer is electrically insulating and insulates the part of the first contact layer separated by the opening (4). . 前記第2層(7)はスイッチの保護層として機能し、第1層を環境の影響から保護することを特徴とする、請求項1ないし16のいずれかに記載のスイッチ。The switch according to any one of claims 1 to 16 , characterized in that the second layer (7) functions as a protective layer of the switch and protects the first layer from environmental influences. 第1層の厚さは200μmであることを特徴とする、請求項1ないし17のいずれかに記載のスイッチ。The switch according to claim 1, wherein the first layer has a thickness of 200 μm. 第2層(7)の厚さは10μmであることを特徴とする、請求項1ないし17のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to any of the preceding claims , characterized in that the thickness of the second layer (7) is 10 µm . 第2層(7)の厚さが第1層(1)の厚さより小さいことを特徴とする、請求項1ないし17のいずれかに記載のスイッチ。Switch according to any of the preceding claims , characterized in that the thickness of the second layer (7) is smaller than the thickness of the first layer (1) . 高電力および/または高電圧および/または高電流スイッチングのために使用する、請求項1ないし20のいずれかに記載のスイッチ。21. Switch according to any one of the preceding claims , used for high power and / or high voltage and / or high current switching. 高電力配電プラントの装置を保護するためのサージ分岐器または電流リミッタに使用する、請求項21に記載のスイッチ。The switch of claim 21 for use in a surge branch or current limiter to protect equipment in a high power distribution plant.
JP2000585939A 1998-11-30 1999-10-22 Photoconductive switch Expired - Fee Related JP4519321B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE9804135A SE9804135L (en) 1998-11-30 1998-11-30 Photoconductive switch
SE9804135-3 1998-11-30
PCT/SE1999/001899 WO2000033387A1 (en) 1998-11-30 1999-10-22 A photoconductive switch

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002531954A JP2002531954A (en) 2002-09-24
JP4519321B2 true JP4519321B2 (en) 2010-08-04

Family

ID=20413491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000585939A Expired - Fee Related JP4519321B2 (en) 1998-11-30 1999-10-22 Photoconductive switch

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP1138087A1 (en)
JP (1) JP4519321B2 (en)
NO (1) NO20012550L (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4864119A (en) * 1987-09-03 1989-09-05 Power Spectra, Inc. Bulk avalanche semiconductor switch using a mesa structure

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002531954A (en) 2002-09-24
NO20012550D0 (en) 2001-05-23
NO20012550L (en) 2001-05-23
EP1138087A1 (en) 2001-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100917699B1 (en) Gallium nitride based diodes with low forward voltage and low reverse current operation
EP2748855B1 (en) Field effect power transistors
US9184307B2 (en) Silicon carbide semiconductor device
KR100732259B1 (en) Protective layer for a semiconductor device
US11222973B2 (en) Semiconductor device
US7642556B2 (en) Compound semiconductor element resistible to high voltage
JP6550580B2 (en) Schottky barrier rectifier
US5650638A (en) Semiconductor device having a passivation layer
JP6966740B2 (en) Schottky barrier diode
US6188555B1 (en) Device for limiting alternating electric currents, in particular in the event of a short circuit
TW201838178A (en) Semiconductor device
JP5406508B2 (en) Horizontal SBD semiconductor device
WO2021124650A1 (en) Schottky barrier diode
JP4519321B2 (en) Photoconductive switch
US6194699B1 (en) Photoconductive switch with multiple layers
US7071503B2 (en) Semiconductor structure with a switch element and an edge element
US20170062599A1 (en) Semiconductor cell
EP3010045A1 (en) Semiconductor device and a method of manufacturing same
US6222141B1 (en) Irradiation controlled switch
US11996840B1 (en) Light controlled switch module
JP3879697B2 (en) Semiconductor device
TW201909422A (en) Semiconductor power device and manufacturing method thereof
US20240047532A1 (en) Silicon carbide semiconductor device and method of manufacturing silicon carbide semiconductor device
WO2021186936A1 (en) Schottky barrier diode
EP2567404A1 (en) Field effect power transistors

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040927

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060428

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090630

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090928

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091023

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100305

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100427

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100519

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees