JP4495056B2 - Sterilizer for ultrapure water production equipment - Google Patents

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この発明は、超純水製造装置の殺菌装置に関する。 This invention relates to sterilization equipment ultrapure water production system.

従来、超純水製造に関する超純水製造装置の超純水配管等の殺菌方法としては、(1) 薬品としての過酸化水素水による殺菌方法、(2) 熱水殺菌法、(3) オゾン水殺菌法がある。   Conventionally, sterilization methods for ultrapure water pipes of ultrapure water production equipment for ultrapure water production include (1) sterilization method using hydrogen peroxide as a chemical, (2) hot water sterilization method, (3) ozone There is a water sterilization method.

(1) 薬品としての過酸化水素水による殺菌方法は、薬品のコスト代および、殺菌後の残留過酸化水素による水質の立ち上げに時間を要する等の課題があった。   (1) The sterilization method using hydrogen peroxide as a chemical has problems such as the cost of the chemical and the time required to start up the water quality using residual hydrogen peroxide after sterilization.

(2) 熱水殺菌法は、熱水を利用しての殺菌方法で、過酸化水素水も少ないが利用するので、エネルギーを多量消費し、また、薬品も使用するので、ランニングコストが高いという課題があった。   (2) The hot water sterilization method is a sterilization method using hot water, which uses little hydrogen peroxide, but consumes a lot of energy and also uses chemicals, so the running cost is high. There was a problem.

(3) オゾン水殺菌法は、多量のオゾンを使用するので、オゾン発生機の準備等や設置スペースの必要性等がありコスト高となる課題があった。また、オゾンは、オゾン水として従来使用していたが、水中での持続性がないことが課題であった。   (3) Since the ozone water sterilization method uses a large amount of ozone, there is a problem that the preparation of an ozone generator and the installation space are necessary and the cost is high. Moreover, although ozone was conventionally used as ozone water, it was a subject that there was no sustainability in water.

また、別の従来技術としてのナノバブルを利用する殺菌方法および殺菌装置が、特許文献１(特開２００４−１２１９６２号公報)に記載されている。   Further, another sterilization method and sterilization apparatus using nanobubbles as a prior art is described in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-121962).

この従来技術は、ナノバブルが有する浮力の減少、表面積の増加、表面活性の増大、局所高圧場の生成、静電分極の実現による界面活性作用と殺菌作用などの特性を活用したものである。より具体的には、特許文献１では、それらが相互に関連することによって、汚れ成分の吸着機能、物体表面の高速洗浄機能、殺菌機能によって各種物体を高機能、低環境負荷で洗浄することができ、汚濁水の浄化を行うことができることを開示している。   This prior art utilizes characteristics such as a reduction in buoyancy, an increase in surface area, an increase in surface activity, generation of a local high-pressure field, and a surface active action and a bactericidal action by realizing electrostatic polarization. More specifically, in Patent Document 1, it is possible to clean various objects with a high function and a low environmental load by using a dirt component adsorption function, an object surface high-speed cleaning function, and a sterilization function because they relate to each other. It is disclosed that it is possible to purify polluted water.

さらに、別の従来技術として、特許文献２(特開２００３−３３４５４８号公報)では、ナノ気泡の生成方法が記載されている。   Furthermore, as another conventional technique, Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-334548) describes a method for generating nanobubbles.

この従来技術のナノ気泡の生成方法は、液体中において、(1)液体の一部を分解ガス化する工程、(2)液体中で超音波を印加する工程、または、(3)液体の一部を分解ガス化する工程および超音波を印加する工程から構成されていることを開示している。   This prior art method for producing nanobubbles includes (1) a step of decomposing gas in a liquid, (2) a step of applying ultrasonic waves in the liquid, or (3) one of the liquids. It is disclosed that it is composed of a step of decomposing and gasifying the part and a step of applying ultrasonic waves.

ところで、最初に述べた超純水配管等の殺菌法は、上述の如く、(1)薬品としての過酸化水素水による殺菌方法、(2)熱水殺菌法、(3)オゾン水殺菌法があるが、いずれも作業性やランニングコストの観点から合理的で、短時間に殺菌できる殺菌方法ではない。   By the way, as described above, the sterilization method of the ultrapure water pipe, etc. described at first, includes (1) a sterilization method using hydrogen peroxide as a chemical, (2) a hot water sterilization method, and (3) an ozone water sterilization method. However, none of them are reasonable from the viewpoint of workability and running cost, and are not sterilization methods that can be sterilized in a short time.

特に、薬品としての過酸化水素水による殺菌方法が一般的であるが、殺菌後元の水質まで立ち上がるのに数時間を必要とするので、短時間に殺菌可能でランニングコストも低い殺菌方法が求められている。   In particular, a sterilization method using hydrogen peroxide as a chemical is common, but since it takes several hours to get up to the original water quality after sterilization, a sterilization method that can be sterilized in a short time and has low running cost is required. It has been.

また、最近、少量の過酸化水素水を添加した熱水殺菌法も採用されてきたが、水温を上げることによるエネルギーの消費があり、省エネルギー方式ではない。エネルギーを浪費しないシステムは時代の要請でもあり、殺菌方法についても省エネタイプの殺菌方法が求められている。
特開２００４−１２１９６２号公報 特開２００３−３３４５４８号公報 Recently, a hot water sterilization method in which a small amount of hydrogen peroxide solution has been added has also been adopted, but energy is consumed by raising the water temperature, which is not an energy saving method. A system that does not waste energy is also a request of the times, and an energy-saving sterilization method is also required as a sterilization method.
JP 2004-121962 A JP 2003-334548 A

そこで、この発明の課題は、ランニングコストが低くて、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is low running cost, is to provide a disinfecting apparatus in a short time sterilization can be ultra pure water production system.

上記課題を解決するため、一参考例の超純水製造装置の殺菌方法は、超純水製造装置を構成する一次純水製造装置と二次純水製造装置とのうちの上記二次純水製造装置が有する超純水配管に、マイクロナノバブルを含有する水を流して、上記二次純水製造装置を殺菌する。 In order to solve the above-mentioned problem, a sterilization method for an ultrapure water production apparatus according to a reference example is the above-described secondary pure water of the primary pure water production apparatus and the secondary pure water production apparatus that constitute the ultrapure water production apparatus. ultrapure water pipe manufacturing device has, by flowing water containing micro-nano bubbles, it sterilize the secondary pure water production system.

この参考例の殺菌方法によれば、二次純水製造装置が有する超純水配管にマイクロナノバブルを含有する水を流して上記二次純水製造装置を殺菌する。よって、超純水配管を含む二次純水製造装置の殺菌が必要な時、マイクロナノバブルが持つ殺菌力で、超純水配管を含む二次純水製造装置の殺菌を行うことができる。また、このマイクロナノバブルによる殺菌方法では、過酸化水素等の薬品を使用しない方法であるので、殺菌作業終了後の超純水の水質の立ち上がりが早いという長所がある。したがって、ランニングコストが低くて、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌方法となる。 According to the sterilization method of this reference example, the secondary pure water production apparatus is sterilized by flowing water containing micro-nano bubbles through the ultrapure water pipe of the secondary pure water production apparatus. Therefore, when the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water pipe needs to be sterilized, the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water pipe can be sterilized by the sterilization power of the micro / nano bubbles. In addition, since the micro-nano bubble sterilization method does not use chemicals such as hydrogen peroxide, there is an advantage that the quality of ultrapure water rises quickly after the sterilization operation is completed. Therefore, it becomes a sterilization method for an ultrapure water production apparatus that has a low running cost and can be sterilized in a short time.

なお、マイクロナノバブルとは、マイクロバブルとナノバブルを含んでおり、例えば数１００ｎｍ〜１０μｍの大きさのバブルを言い、マイクロバブルとは、１０μｍ〜数１０μｍの大きさのバブルを言い、ナノバブルとは、数１００ｎｍ以下の大きさのバブルを言う。   Micro-nano bubbles include micro-bubbles and nano-bubbles. For example, micro-bubbles refer to bubbles with a size of several hundred nm to 10 μm. Micro-bubbles refer to bubbles with a size of 10 μm to several tens of μm. This refers to a bubble having a size of several hundred nm or less.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌方法は、マイクロナノバブルとして窒素マイクロナノバブルまたはオゾンマイクロナノバブルを使用する。窒素マイクロナノバブルによれば、不活性ガスであることから、殺菌後の立ち上がりを早くできる。また、オゾンマイクロナノバブルによれば、殺菌能力の向上を図れる。 Moreover, the sterilization method of the ultrapure water production apparatus of one reference example uses nitrogen micro-nano bubbles or ozone micro-nano bubbles as micro-nano bubbles. According to the nitrogen micro-nano bubble, since it is an inert gas, the rise after sterilization can be accelerated. Moreover, according to the ozone micro / nano bubble, the sterilization ability can be improved.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置は、超純水製造装置が備える一次純水製造装置と二次純水製造装置とのうちの上記二次純水製造装置が有する超純水配管にマイクロナノバブルを供給するマイクロナノバブル発生機を備える。 Moreover, the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of one reference example is an ultrapure that the secondary pure water production apparatus of the primary pure water production apparatus and the secondary pure water production apparatus included in the ultrapure water production apparatus has. A micro / nano bubble generator for supplying micro / nano bubbles to water piping is provided.

この参考例の殺菌装置によれば、マイクロナノバブル発生機が、超純水製造装置の二次純水製造装置が有する超純水配管にマイクロナノバブルを供給する。これにより、超純水配管を含む二次純水製造装置の殺菌が必要な時、マイクロナノバブルが持つ殺菌力で、超純水配管を含む二次純水製造装置の殺菌を行うことができる。この窒素マイクロナノバブルによる殺菌では、過酸化水素等の薬品を使用しない方法であるので、殺菌作業終了後の超純水の水質の立ち上がりが早い。したがって、ランニングコストが低く、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌装置を実現できる。 According to the sterilization apparatus of this reference example , the micro / nano bubble generator supplies the micro / nano bubbles to the ultra pure water pipe of the secondary pure water production apparatus of the ultra pure water production apparatus. Thereby, when the sterilization of the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water pipe is necessary, the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water pipe can be sterilized by the sterilization power of the micro / nano bubbles. The sterilization with nitrogen micro-nano bubbles is a method that does not use chemicals such as hydrogen peroxide, and therefore, the quality of ultrapure water rises quickly after the sterilization operation is completed. Therefore, it is possible to realize a sterilization apparatus for an ultrapure water production apparatus that can be sterilized in a short time with a low running cost.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記マイクロナノバブル発生機は、上記超純水配管に窒素マイクロナノバブルを供給する窒素マイクロナノバブル発生機であり、上記窒素マイクロナノバブル発生機は上記二次純水製造装置に組み込まれている。 Further, in the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the micro / nano bubble generator is a nitrogen micro / nano bubble generator that supplies nitrogen micro / nano bubbles to the ultra pure water pipe, and the nitrogen micro / nano bubble generator is It is incorporated in the secondary pure water production apparatus.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、窒素マイクロナノバブル発生機が二次純水製造装置に組み込まれているので、超純水配管を含む二次純水製造装置に窒素マイクロナノバブルを効率よく供給して殺菌できる。 According to the sterilization device of the ultrapure water production apparatus of this reference example , the nitrogen micro / nano bubble generator is incorporated in the secondary pure water production apparatus. Nanobubbles can be efficiently supplied and sterilized.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記二次純水製造装置は、二次純水タンク、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜を有する。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the secondary pure water production apparatus has a secondary pure water tank, a heat exchanger, an ultraviolet sterilizer, an ion exchange polisher, and an ultrafiltration membrane.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水製造装置が有する二次純水タンク、もしくは、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜の間の経路に、窒素マイクロナノバブル発生機を設置して、窒素マイクロナノバブルを供給できる。 According to the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of this reference example, the secondary pure water tank of the secondary pure water production apparatus, or between the heat exchanger, the ultraviolet sterilizer, the ion exchange polisher, and the ultrafiltration membrane A nitrogen micro / nano bubble generator can be installed in the path to supply nitrogen micro / nano bubbles.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記窒素マイクロナノバブル発生機は、上記二次純水製造装置の二次純水タンク内に設置されている。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the nitrogen micro / nano bubble generator is installed in a secondary pure water tank of the secondary pure water production apparatus.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水タンク内に窒素マイクロナノバブル発生機が設置されているので、殺菌が必要な時は、二次純水タンク内で窒素マイクロナノバブルを発生させて、二次純水タンクから殺菌することができる。すなわち、二次純水製造装置の最初の設備が二次純水タンクであるので、最初の設備から殺菌することができる。 According to the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of this reference example , the nitrogen micro / nano bubble generator is installed in the secondary pure water tank, so when sterilization is necessary, the nitrogen is contained in the secondary pure water tank. Micro-nano bubbles can be generated and sterilized from the secondary pure water tank. That is, since the first equipment of the secondary pure water production apparatus is a secondary pure water tank, it can be sterilized from the first equipment.

また、二次純水タンクは、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜の設備と異なり、設備の規模が大きいので、二次純水タンク内で多量の窒素マイクロナノバブルを発生させることができると同時に滞留時間が他の設備と比較して長いので、窒素マイクロナノバブルの殺菌作用を充分受けることができる。そして、この二次純水タンクの殺菌後は、熱交換器、紫外線殺菌器、バイパス配管、超純水配管に窒素マイクロナノバブルを含む超純水を流して殺菌することができる。   The secondary pure water tank is different from heat exchangers, ultraviolet sterilizers, ion exchange polishers, and ultrafiltration membranes, so the scale of the equipment is large, so that a large amount of nitrogen micro-nano bubbles are generated in the secondary pure water tank. Since it can be generated and the residence time is longer than that of other equipment, it can sufficiently receive the sterilization action of nitrogen micro-nano bubbles. After the secondary pure water tank is sterilized, it is possible to sterilize the ultrapure water containing nitrogen micro / nano bubbles through a heat exchanger, an ultraviolet sterilizer, a bypass pipe, and an ultrapure water pipe.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記窒素マイクロナノバブル発生機は、上記紫外線殺菌器の前段に設置されたタンクまたは配管の中に設置されている。 Moreover, in the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the nitrogen micro / nano bubble generator is installed in a tank or a pipe installed in front of the ultraviolet sterilizer.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、紫外線殺菌器の前段に窒素マイクロナノバブル発生機を有するタンクまたは配管を設置しているので、紫外線殺菌器の殺菌負荷を低減でき、紫外線殺菌器を小さくすることができる。 According to the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of this reference example, since the tank or the pipe having the nitrogen micro / nano bubble generator is installed in front of the ultraviolet sterilizer, the sterilization load of the ultraviolet sterilizer can be reduced, The sterilizer can be made small.

また、本発明の超純水製造装置の殺菌装置では、超純水製造装置が備える一次純水製造装置と二次純水製造装置とのうちの上記二次純水製造装置が有する超純水配管にマイクロナノバブルを供給するマイクロナノバブル発生機を備え、
上記マイクロナノバブル発生機は、上記超純水配管に窒素マイクロナノバブルを供給する窒素マイクロナノバブル発生機であり、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は上記二次純水製造装置に組み込まれていて、
上記二次純水製造装置は、二次純水タンク、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜を有し、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は、
上記二次純水製造装置の二次純水タンク内に設置されており、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は、
窒素ガスの導入量を制御するための電動弁を設けたガス配管を経由して窒素ガス供給部につながっている窒素吸込口と、
上記二次純水タンクの循環水を１.５ｋｇ/ｃｍ２以上の吐出圧で吐出するポンプに上記循環水の導入量を制御するための電動弁を設けた配管によって接続された送水口とを有し、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は、上記ポンプで上記送水口から上記循環水が導入されて通過する時に内部がマイナス圧となって上記窒素吸込口から窒素ガスが引き込まれる。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of the present invention, the ultrapure water included in the secondary pure water production apparatus of the primary pure water production apparatus and the secondary pure water production apparatus provided in the ultrapure water production apparatus. Equipped with a micro-nano bubble generator that supplies micro-nano bubbles to piping,
The micro-nano bubble generator is a nitrogen micro-nano bubble generator that supplies nitrogen micro-nano bubbles to the ultrapure water pipe,
The nitrogen micro / nano bubble generator is incorporated in the secondary pure water production apparatus,
The secondary pure water production apparatus has a secondary pure water tank, a heat exchanger, an ultraviolet sterilizer, an ion exchange polisher, and an ultrafiltration membrane.
The nitrogen micro-nano bubble generator is
It is installed in the secondary pure water tank of the secondary pure water production equipment,
The nitrogen micro-nano bubble generator is
A nitrogen inlet connected to the nitrogen gas supply section via a gas pipe provided with a motorized valve for controlling the amount of nitrogen gas introduced ;
A water supply port connected by a pipe provided with an electric valve for controlling the introduction amount of the circulating water to a pump that discharges the circulating water of the secondary pure water tank at a discharge pressure of 1.5 kg / cm 2 or more. Yes, and
The nitrogen-micro-nano bubble generator is Ru nitrogen gas is drawn from the nitrogen inlet inside becomes a negative pressure when passing from the water supply port in the pump is introduced the circulating water.

この発明の超純水製造装置の殺菌装置によれば、窒素マイクロナノバブル発生機は、送水口へ、１.５ｋｇ/ｃｍ２以上の吐出圧を有するポンプから送水されるので、窒素マイクロナノバブルを効率よく発生させることができる。 According to the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of the present invention , the nitrogen micro / nano bubble generator is fed to the water feed port from a pump having a discharge pressure of 1.5 kg / cm 2 or more. Can be generated well.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記マイクロナノバブル発生機は、上記超純水配管にオゾンマイクロナノバブルを供給するオゾンマイクロナノバブル発生機であり、上記オゾンマイクロナノバブル発生機は上記二次純水製造装置に組み込まれている。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the micro-nano bubble generator is an ozone micro-nano bubble generator that supplies ozone micro-nano bubbles to the ultra-pure water pipe, and the ozone micro-nano bubble generator is It is incorporated in the secondary pure water production apparatus.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、オゾンマイクロナノバブル発生機を二次純水製造装置に組み込んでいるので、オゾンマイクロナノバブルによって超純水配管を含む二次純水製造装置を強力に殺菌できる。また、通常のオゾンと異なり、オゾンマイクロナノバブルはオゾンの殺菌力が長時間持続するので、殺菌を確実にすることができる。 According to the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of this reference example , since the ozone micro / nano bubble generator is incorporated in the secondary pure water production apparatus, the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water piping by the ozone micro / nano bubble Can be sterilized powerfully. In addition, unlike ordinary ozone, ozone micro-nano bubbles can be sterilized because ozone sterilization power lasts for a long time.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記二次純水製造装置は、二次純水タンク、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜を有する。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the secondary pure water production apparatus has a secondary pure water tank, a heat exchanger, an ultraviolet sterilizer, an ion exchange polisher, and an ultrafiltration membrane.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水製造装置が有する二次純水タンク、もしくは、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜の間の経路に、オゾンマイクロナノバブル発生機を設置して、オゾンマイクロナノバブルを供給できる。 According to the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of this reference example, the secondary pure water tank of the secondary pure water production apparatus, or between the heat exchanger, the ultraviolet sterilizer, the ion exchange polisher, and the ultrafiltration membrane The ozone micro / nano bubble generator can be installed in the path of the above to supply ozone micro / nano bubbles.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記オゾンマイクロナノバブル発生機を上記二次純水タンク内に設置した。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the ozone micro / nano bubble generator was installed in the secondary pure water tank.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、二次純水タンク内にオゾンマイクロナノバブル発生機を設置しているので、殺菌が必要な時は、二次純水タンク内でオゾンマイクロナノバブルを発生させて、二次純水タンクから殺菌することができる。すなわち、二次純水製造装置における最初の設備が二次純水タンクであるので、最初の設備から殺菌することができる。また、二次純水タンクは、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜の設備と異なり、設備の規模が大きいので、二次純水タンク内で多量のオゾンマイクロナノバブルを発生させることができる。同時に、二次純水タンクは、滞留時間が他の設備と比較して長いので、オゾンマイクロナノバブルの殺菌作用を充分受けることができる。 According to the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of this reference example , the ozone micro / nano bubble generator is installed in the secondary pure water tank, so when sterilization is necessary, the ozone is generated in the secondary pure water tank. Micro-nano bubbles can be generated and sterilized from the secondary pure water tank. That is, since the first equipment in the secondary pure water production apparatus is a secondary pure water tank, it can be sterilized from the first equipment. In addition, unlike the equipment for heat exchangers, UV sterilizers, ion exchange polishers, and ultrafiltration membranes, the secondary pure water tank is large in scale, so a large amount of ozone micro-nano bubbles can be generated in the secondary pure water tank. Can be generated. At the same time, the secondary pure water tank has a long residence time as compared with other facilities, and therefore can sufficiently receive the sterilization action of ozone micro-nano bubbles.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記オゾンマイクロナノバブル発生機は、上記紫外線殺菌器の前段に設置されたタンクまたは配管の中に設置された。 Moreover, in the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the ozone micro / nano bubble generator is installed in a tank or a pipe installed in front of the ultraviolet sterilizer.

この参考例の超純水製造装置の殺菌装置によれば、紫外線殺菌器の前段にオゾンマイクロナノバブル発生機を有するタンクまたは配管を設置しているので、紫外線殺菌器の殺菌負荷を低減でき、紫外線殺菌器を小さくすることができる。 According to the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus of this reference example, since the tank or pipe having the ozone micro-nano bubble generator is installed in front of the ultraviolet sterilizer, the sterilization load of the ultraviolet sterilizer can be reduced, The sterilizer can be made small.

また、一参考例の超純水製造装置の殺菌装置では、上記オゾンマイクロナノバブル発生機は、オゾン吸込口と、上記二次純水タンクの循環水を１.５ｋｇ/ｃｍ２以上の吐出圧で吐出するポンプに接続された送水口とを有している。 Moreover, in the sterilizer of the ultrapure water production apparatus of one reference example, the ozone micro / nano bubble generator uses an ozone suction port and circulating water in the secondary pure water tank at a discharge pressure of 1.5 kg / cm 2 or more. And a water supply port connected to a pump for discharging.

この参考例によれば、オゾンマイクロナノバブル発生機は、送水口へ、１.５ｋｇ/ｃｍ２以上の吐出圧を有するポンプから送水されるので、オゾンマイクロナノバブルを効率よく発生させることができる。 According to this reference example , since the ozone micro-nano bubble generator is fed from the pump having a discharge pressure of 1.5 kg / cm 2 or more to the water feed port, ozone micro-nano bubbles can be efficiently generated.

また、一参考例の超純水製造装置では、上記超純水製造装置の殺菌装置を備え、上記限外ろ過膜の後段にタンクまたは配管を設置し、上記窒素マイクロナノバブル発生機を、上記限外ろ過膜の後段のタンクまたは配管に設置した。 Further, the ultrapure water production apparatus of one reference example includes the sterilization apparatus of the ultrapure water production apparatus, a tank or a pipe is installed at the rear stage of the ultrafiltration membrane, and the nitrogen micro / nano bubble generator is connected to the above-mentioned limit. It installed in the tank or piping of the back | latter stage of an outer filtration membrane.

この参考例の超純水製造装置によれば、ファイナルフィルターとしての上記限外ろ過膜の後段に窒素マイクロナノバブル発生機を有するタンクまたは配管を設置している。よって、超純水製造後に、超純水と窒素マイクロナノバブルとを接触させるので、殺菌を行うだけでなく、窒素マイクロナノバブルを含む新たな超純水を製造することができる。窒素マイクロナノバブルの作用として、殺菌効果と物体に対する洗浄効果があるので、洗浄効果のある超純水を製造できる。 According to the ultrapure water production apparatus of this reference example , a tank or a pipe having a nitrogen micro / nano bubble generator is installed after the ultrafiltration membrane as a final filter. Therefore, since ultrapure water and nitrogen micro-nano bubbles are brought into contact after the production of ultrapure water, not only sterilization but also new ultrapure water containing nitrogen micro-nano bubbles can be produced. Since the action of the nitrogen micro-nano bubbles has a bactericidal effect and a cleaning effect on an object, ultrapure water having a cleaning effect can be produced.

また、一参考例の超純水製造装置では、上記超純水製造装置の殺菌装置を備え、上記限外ろ過膜の後段に設置されたタンクまたは配管を有し、上記オゾンマイクロナノバブル発生機を上記タンクまたは配管に設置した。 Moreover, the ultrapure water production apparatus of one reference example includes a sterilization apparatus for the ultrapure water production apparatus, has a tank or a pipe installed at the subsequent stage of the ultrafiltration membrane, and has the ozone micro / nano bubble generator Installed in the tank or piping.

この参考例の超純水製造装置によれば、限外ろ過膜の後段にオゾンマイクロナノバブル発生機を有するタンクまたは配管を設置しており、超純水製造後に、超純水とオゾンマイクロナノバブルとを接触させる。よって、殺菌を行うだけでなく、オゾンマイクロナノバブルを含む新たな超純水を製造することができる。オゾンマイクロナノバブルの作用として、殺菌効果および物体に対する強力な洗浄効果があるので、強力な洗浄効果のある超純水を製造できる。 According to the ultrapure water production apparatus of this reference example , a tank or a pipe having an ozone micro-nano bubble generator is installed at the subsequent stage of the ultrafiltration membrane. After the production of ultra-pure water, ultra-pure water, ozone micro-nano bubbles, Contact. Therefore, not only sterilization but also new ultrapure water containing ozone micro-nano bubbles can be produced. Since the action of the ozone micro-nano bubbles has a bactericidal effect and a powerful cleaning effect on objects, ultrapure water having a powerful cleaning effect can be produced.

また、一参考例の超純水製造装置では、超純水配管に窒素マイクロナノバブルを供給する窒素マイクロナノバブル発生機が二次純水製造装置に組み込まれた超純水製造装置の殺菌装置を備えた。 In addition, in the ultrapure water production apparatus of one reference example , a nitrogen micro / nano bubble generator for supplying nitrogen micro / nano bubbles to the ultrapure water pipe is provided with a sterilizer for the ultra pure water production apparatus incorporated in the secondary pure water production apparatus. It was.

この実施形態の超純水製造装置によれば、窒素マイクロナノバブル発生機が超純水配管に窒素マイクロナノバブルを供給するので、洗浄効果のある超純水を製造でき、超純水による洗浄効果を向上できる。よって、上記超純水によれば、一例として、ウエハープロセスにおける製品の歩留まりを向上させることができる。   According to the ultrapure water production apparatus of this embodiment, since the nitrogen micro / nano bubble generator supplies the nitrogen micro / nano bubbles to the ultra pure water pipe, it is possible to produce ultra pure water having a cleaning effect, and to achieve the cleaning effect by the ultra pure water. It can be improved. Therefore, according to the ultrapure water, for example, the yield of products in the wafer process can be improved.

また、一実施形態の超純水製造装置では、窒素マイクロナノバブル発生機が二次純水製造装置の二次純水タンク内に設置されている超純水製造装置の殺菌装置を備えた。   Moreover, in the ultrapure water manufacturing apparatus of one Embodiment, the nitrogen micro nano bubble generator was equipped with the sterilizer of the ultrapure water manufacturing apparatus installed in the secondary pure water tank of the secondary pure water manufacturing apparatus.

この実施形態の超純水製造装置によれば、二次純水タンク内で窒素マイクロナノバブルを発生させて、洗浄効果のある超純水を製造できる。よって、超純水による洗浄効果が上がるので、この超純水を使用することによって、例えば、ウエハープロセスにおける製品の歩留まりを向上させることができる。   According to the ultrapure water production apparatus of this embodiment, ultrafine water having a cleaning effect can be produced by generating nitrogen micro-nano bubbles in the secondary pure water tank. Therefore, since the cleaning effect by ultra pure water is improved, the yield of products in, for example, a wafer process can be improved by using this ultra pure water.

また、一実施形態の超純水製造装置では、窒素マイクロナノバブル発生機が紫外線殺菌器の前段に設置されたタンクまたは配管の中に設置された超純水製造装置の殺菌装置を備えた。   Moreover, in the ultrapure water manufacturing apparatus of one Embodiment, the nitrogen micro nano bubble generator was equipped with the sterilizer of the ultrapure water manufacturing apparatus installed in the tank or piping installed in the front | former stage of the ultraviolet sterilizer.

この実施形態の超純水製造装置によれば、窒素マイクロナノバブル発生機が発生する窒素マイクロナノバブルでもって、洗浄効果のある超純水を製造でき、洗浄効果が高い超純水を製造できる。したがって、一例として、この超純水を用いてウエハープロセスにおける製品の歩留まりを向上させることができる。   According to the ultrapure water production apparatus of this embodiment, ultrapure water having a cleaning effect can be produced with nitrogen micronanobubbles generated by a nitrogen micronanobubble generator, and ultrapure water having a high washing effect can be produced. Therefore, as an example, the yield of products in the wafer process can be improved using this ultrapure water.

この発明の超純水製造装置の殺菌装置は、二次純水製造装置が有する超純水配管にマイクロナノバブルを含有する水を流して二次純水製造装置を殺菌する。よって、超純水配管を含む二次純水製造装置の殺菌が必要な時、マイクロナノバブルが持つ殺菌力で、超純水配管を含む二次純水製造装置の殺菌を行うことができる。また、このマイクロナノバブルによる殺菌方法では、過酸化水素等の薬品を使用しない方法であるので、殺菌作業終了後の超純水の水質の立ち上がりが早いという長所がある。したがって、ランニングコストが低くて、短時間で殺菌処理ができる超純水製造装置の殺菌方法となる。 The sterilization apparatus for an ultrapure water production apparatus according to the present invention sterilizes the secondary pure water production apparatus by flowing water containing micro-nano bubbles through an ultrapure water pipe of the secondary pure water production apparatus. Therefore, when the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water pipe needs to be sterilized, the secondary pure water production apparatus including the ultrapure water pipe can be sterilized by the sterilization power of the micro / nano bubbles. In addition, since the micro-nano bubble sterilization method does not use chemicals such as hydrogen peroxide, there is an advantage that the quality of ultrapure water rises quickly after the sterilization operation is completed. Therefore, it becomes a sterilization method for an ultrapure water production apparatus that has a low running cost and can be sterilized in a short time.

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.

(実施の形態)
図２のブロック図に、この発明の実施形態として超純水製造装置の構成を示す。 (In the form of implementation)
The block diagram of FIG. 2 shows the configuration of ultrapure water production system as the implementation form of the present invention.

この実施形態の超純水製造装置は、前処理装置１７と一次純水製造装置１８と二次純水製造装置１９とを備え、この二次純水製造装置１９からの超純水が生産装置２０に供給される。 Ultrapure water production system of the implementation form of this, the ultra-pure water from the pre-processing unit 17 and the primary pure water production system 18 and a secondary pure water producing device 19, the secondary pure water producing device 19 Supplied to the production apparatus 20.

原水が前処理装置１７に導入されて前処理される。上記原水は、例えば、工業用水、水道水、地下水、河川水等である。続いて、前処理装置１７からの前処理水は一次純水製造装置１８に導入され、一次純水製造装置１８によって一次純水が製造される。続いて、一次純水製造装置１８からの一次純水が、二次純水製造装置１９に導入されて、二次純水が製造される。そして、この二次純水製造装置１９で製造された二次純水が超純水として、例えば、ウエハ洗浄等の目的で、生産装置２０に供給される。   Raw water is introduced into the pretreatment device 17 and pretreated. Examples of the raw water include industrial water, tap water, ground water, and river water. Subsequently, pretreated water from the pretreatment device 17 is introduced into the primary pure water production device 18, and primary pure water is produced by the primary pure water production device 18. Subsequently, primary pure water from the primary pure water production apparatus 18 is introduced into the secondary pure water production apparatus 19 to produce secondary pure water. Then, the secondary pure water produced by the secondary pure water production apparatus 19 is supplied as ultrapure water to the production apparatus 20 for the purpose of, for example, wafer cleaning.

次に、図１に、上記二次純水製造装置１９の構成を模式的に示す。図１において、符号１は、二次純水タンクであり、図２に示す超純水製造装置における一次純水製造装置１８で製造された一次純水が二次純水製造装置１９が備える二次純水タンク１に導入される。   Next, the structure of the said secondary pure water manufacturing apparatus 19 is typically shown in FIG. 1, reference numeral 1 denotes a secondary pure water tank. The primary pure water produced by the primary pure water production apparatus 18 in the ultrapure water production apparatus shown in FIG. Next, it is introduced into the pure water tank 1.

この二次純水タンク１内には、殺菌装置をなす窒素マイクロナノバブル発生機３が設置されている。一方、この二次純水タンク１外には循環ポンプ２が設置されている。この循環ポンプ２は二次純水タンク１内の純水を循環させるためのポンプである。この循環ポンプ２には吸込側の配管５Ａと送水側の配管５Ｂとが接続されている。吸込側の配管５Ａは、二次純水タンク１の底に接続されている。また、送水側の配管５Ｂは、送水量を調節するための電動弁６と二次純水タンク１の天井を順に経由して、窒素マイクロナノバブル発生機３の送水口３Ａに接続されている。この循環ポンプ２から窒素マイクロナノバブル発生機３への送水量は電動弁６で自由に制御可能となる。   In the secondary pure water tank 1, a nitrogen micro / nano bubble generator 3 that constitutes a sterilizer is installed. On the other hand, a circulation pump 2 is installed outside the secondary pure water tank 1. The circulation pump 2 is a pump for circulating pure water in the secondary pure water tank 1. The circulation pump 2 is connected to a pipe 5A on the suction side and a pipe 5B on the water supply side. The suction-side piping 5 </ b> A is connected to the bottom of the secondary pure water tank 1. The water supply side pipe 5 </ b> B is connected to the water supply port 3 </ b> A of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 through the electric valve 6 for adjusting the water supply amount and the ceiling of the secondary pure water tank 1 in order. The amount of water fed from the circulation pump 2 to the nitrogen micro / nano bubble generator 3 can be freely controlled by the electric valve 6.

一方、窒素マイクロナノバブル発生機３の窒素吸込口３Ｂは、ガス配管４に接続されている。このガス配管４は電動弁７を経由して所定の窒素ガス供給部(図示せず)につながっている。このガス配管４から、窒素マイクロナノバブル発生機３への窒素ガスの流入量は電動弁７で自動的に制御できる。   On the other hand, the nitrogen suction port 3 </ b> B of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 is connected to the gas pipe 4. The gas pipe 4 is connected to a predetermined nitrogen gas supply unit (not shown) via an electric valve 7. The inflow amount of nitrogen gas from the gas pipe 4 to the nitrogen micro / nano bubble generator 3 can be automatically controlled by the electric valve 7.

したがって、窒素マイクロナノバブル発生機３には、窒素ガスと循環水(純水)とが、それぞれの量が電動弁７と６で制御されて導入される。これにより、窒素マイクロナノバブル発生機３は、二次純水タンク１内において、窒素マイクロナノバブルを効率的に発生させる。   Therefore, nitrogen gas and circulating water (pure water) are introduced into the nitrogen micro / nano bubble generator 3 with the respective amounts controlled by the motor operated valves 7 and 6. Thereby, the nitrogen micro / nano bubble generator 3 efficiently generates nitrogen micro / nano bubbles in the secondary pure water tank 1.

上述のように、循環ポンプ２は、二次純水タンク１内の純水を窒素マイクロナノバブル発生機３と吸込側,送水側配管５Ａ,５Ｂを経由して、循環する内容であるが、窒素マイクロナノバブル発生機３内を純水が通過する時、マイナス圧となって、窒素ガスが窒素吸込口３Ｂから自動的に窒素マイクロナノバブル発生機３内に引き込まれる。   As described above, the circulation pump 2 circulates pure water in the secondary pure water tank 1 via the nitrogen micro / nano bubble generator 3 and the suction side and water supply side pipes 5A and 5B. When pure water passes through the micro / nano bubble generator 3, the pressure becomes negative and nitrogen gas is automatically drawn into the nitrogen micro / nano bubble generator 3 from the nitrogen suction port 3B.

よって、窒素ガスを窒素マイクロナノバブル発生機３に導入するための加圧する機器は何ら存在する必要がない。ただ単に、窒素ガスが電動弁７によって、制御された量だけ窒素ガス配管４を通って窒素マイクロナノバブル発生機３に導入される。なお、電動弁７を、広く開いた場合は、窒素マイクロナノバブル発生機３に導入される窒素量が多くなり、窒素マイクロナノバブル発生機３が発生するのは、窒素マイクロナノバブルではなくて、窒素マイクロバブルとなり、ナノバブルの割合が全く無いか、あっても少ない量となる。   Therefore, there is no need for any device to pressurize to introduce nitrogen gas into the nitrogen micro / nano bubble generator 3. Simply, nitrogen gas is introduced into the nitrogen micro / nano bubble generator 3 through the nitrogen gas pipe 4 by the motor-operated valve 7 in a controlled amount. When the motor-operated valve 7 is opened widely, the amount of nitrogen introduced into the nitrogen micro / nano bubble generator 3 increases, and the nitrogen micro / nano bubble generator 3 generates nitrogen micro-nano bubbles instead of nitrogen micro / nano bubbles. It becomes a bubble and there is no proportion of nanobubbles or even a small amount.

また、二次純水タンク１内には、溶存窒素センサ１４Ａと、溶存窒素調節計１５Ａが設置されている。溶存窒素センサ１４Ａからの溶存窒素の量を表す信号を受けた溶存窒素調節計１５Ａは、二次純水タンク１内の純水の溶存窒素が、一例として、８ｐｐｍ以下となる様に、電動弁７を制御している。   In the secondary pure water tank 1, a dissolved nitrogen sensor 14A and a dissolved nitrogen controller 15A are installed. The dissolved nitrogen controller 15A, which has received a signal representing the amount of dissolved nitrogen from the dissolved nitrogen sensor 14A, operates the motor-operated valve so that the dissolved nitrogen in the pure water tank 1 is, for example, 8 ppm or less. 7 is controlled.

窒素マイクロナノバブル発生機３は、一例として、ナノプラネット研究所の製品を採用したが、窒素マイクロナノバブルを効率良く発生させることが可能ならば、特にメーカーを限定しない。   The nitrogen micro-nano bubble generator 3 employs a product of Nano Planet Research Laboratories as an example, but the manufacturer is not particularly limited as long as nitrogen micro-nano bubbles can be efficiently generated.

次に、二次純水タンク１内の純水は、循環ポンプ２によって、窒素マイクロナノバブル発生機３を経由して二次純水タンク１内と循環ポンプ２との間で、循環した後、続いて、二次純水ポンプ８により、熱交換器９に送水される。ここで、この純水は窒素マイクロナノバブルを含有している。そして、熱交換器９は、超純水配管２１,２２等を殺菌する時は、熱交換を特に行わない一方、二次純水を製造する時には、熱交換を行い、純水を生産装置等の各ユースポイント１３で求めている水温に調節する。   Next, after the pure water in the secondary pure water tank 1 is circulated between the secondary pure water tank 1 and the circulation pump 2 by the circulation pump 2 via the nitrogen micro / nano bubble generator 3, Subsequently, water is sent to the heat exchanger 9 by the secondary pure water pump 8. Here, this pure water contains nitrogen micro-nano bubbles. The heat exchanger 9 does not particularly perform heat exchange when sterilizing the ultrapure water pipes 21 and 22 or the like, while performing heat exchange when producing secondary pure water to produce pure water as a production device or the like. Adjust to the water temperature required at each use point 13.

次に、熱交換器９を通ることで熱交換器９内を殺菌した純水は、続いて、紫外線殺菌器１０に送水され、紫外線殺菌器１０内を殺菌する。超純水配管２１,２２等を殺菌する場合は、特に、紫外線殺菌器１０の紫外線ランプは点灯しないが、二次純水を製造する時には、紫外線ランプを点灯させる。   Next, the pure water sterilized in the heat exchanger 9 by passing through the heat exchanger 9 is subsequently sent to the ultraviolet sterilizer 10 to sterilize the ultraviolet sterilizer 10. When sterilizing the ultrapure water pipes 21, 22, etc., the ultraviolet lamp of the ultraviolet sterilizer 10 is not particularly lit, but when producing secondary pure water, the ultraviolet lamp is lit.

超純水配管２１,２２等を殺菌する場合は、バイパス配管１６の手前のバルブ２４Ａが開となり、イオン交換ポリッシャ１１の手前のバルブ２４Ｂが閉となっている。よって、この紫外線殺菌器１０を出た超純水は、バイパス配管１６の手前の開となっているバルブ２４Ａを通って、バイパス配管１６を通り、バイパス配管１６内を殺菌し、限外ろ過膜１２、続いて超純水配管２１内を通って、殺菌する。   When the ultrapure water pipes 21 and 22 are sterilized, the valve 24A in front of the bypass pipe 16 is opened, and the valve 24B in front of the ion exchange polisher 11 is closed. Therefore, the ultrapure water that has exited the ultraviolet sterilizer 10 passes through the valve 24A that is open before the bypass pipe 16, passes through the bypass pipe 16, and sterilizes the inside of the bypass pipe 16 to form an ultrafiltration membrane. 12 and then sterilize through the ultrapure water pipe 21.

そして、超純水配管２１から各ユースポイント１３における生産装置等に窒素マイクロナノバブルを含有した超純水が供給され、この超純水と接する部分が殺菌される。   Then, ultrapure water containing nitrogen micro / nano bubbles is supplied from the ultrapure water pipe 21 to the production apparatus or the like at each use point 13, and the portion in contact with the ultrapure water is sterilized.

一方、二次純水を製造する時には、バイパス配管１６の手前のバルブ２４Ａが閉となり、イオン交換ポリッシャ１１の手前のバルブ２４Ｂが開となっている。よって、窒素マイクロナノバブルを含有した超純水は、バイパス配管１６を通過しないで、イオン交換ポリッシャ１１の手前のバルブ２４Ｂを通って、イオン交換ポリッシャ１１と限外ろ過膜１２で処理されて二次純水となる。この二次純水は、超純水配管２１から各ユースポイント１３に供給される。また、各ユースポイント１３を出た超純水は、超純水配管２２内を殺菌しながら二次純水タンク１に戻る。   On the other hand, when producing secondary pure water, the valve 24A in front of the bypass pipe 16 is closed, and the valve 24B in front of the ion exchange polisher 11 is open. Therefore, the ultrapure water containing nitrogen micro-nano bubbles does not pass through the bypass pipe 16, passes through the valve 24 </ b> B in front of the ion exchange polisher 11, is treated with the ion exchange polisher 11 and the ultrafiltration membrane 12, and is secondary. It becomes pure water. This secondary pure water is supplied from the ultrapure water pipe 21 to each use point 13. Moreover, the ultrapure water that exits each use point 13 returns to the secondary pure water tank 1 while sterilizing the ultrapure water pipe 22.

一般に、二次純水製造装置１９内では、二次純水ポンプ８により二次純水タンク１を出た超純水は二次純水製造装置１９内の各機器を通過して、生産装置である各ユースポイント１３に達し、結局は、二次純水タンク１と各ユースポイント１３との間で、常に循環している。   In general, in the secondary pure water production apparatus 19, the ultrapure water that has exited the secondary pure water tank 1 by the secondary pure water pump 8 passes through each device in the secondary pure water production apparatus 19 to produce a production apparatus. Each use point 13 is reached. Eventually, it is constantly circulated between the secondary pure water tank 1 and each use point 13.

すなわち、殺菌時は窒素マイクロナノバブルを含んだ純水は、二次純水ポンプ８により二次純水タンク１から出て、熱交換器９、紫外線殺菌器１０、バイパス配管１６、超純水配管２１、各ユースポイント１３、超純水配管２２を経て、再び二次純水タンク１に戻ることとなる。   That is, pure water containing nitrogen micro-nano bubbles is discharged from the secondary pure water tank 1 by the secondary pure water pump 8 at the time of sterilization, and the heat exchanger 9, the ultraviolet sterilizer 10, the bypass pipe 16, and the ultrapure water pipe. 21, each use point 13 and the ultrapure water pipe 22 are returned to the secondary pure water tank 1 again.

一方、二次純水製造時は、二次純水ポンプ８により二次純水タンク１から出て、熱交換器９、紫外線殺菌器１０、イオン交換ポリッシャ１１、ファイナルフィルターである限外ろ過膜１２、超純水配管２１、各ユースポイント１３、超純水配管２２を経て、再び二次純水タンク１に戻ることとなる。   On the other hand, at the time of producing secondary pure water, the secondary pure water pump 8 exits the secondary pure water tank 1 and is used as a heat exchanger 9, an ultraviolet sterilizer 10, an ion exchange polisher 11, and an ultrafiltration membrane as a final filter. 12, the ultrapure water pipe 21, each use point 13, and the ultrapure water pipe 22 are returned to the secondary pure water tank 1 again.

以上が、窒素マイクロナノバブルを含んだ純水による殺菌についての内容であるが、二次純水製造時に、イオン交換ポリッシャ１１内のイオン交換樹脂に影響しない量の窒素マイクロナノバブルを二次純水タンク１内で発生させてもよい。この場合、窒素マイクロナノバブル含んだ超純水を熱交換器９以下の二次純水製造装置の構成(イオン交換ポリッシャ１１、限外ろ過膜１２)に導入して新たな洗浄効果のある超純水を製造することができる。   The above is the content of sterilization with pure water containing nitrogen micro-nano bubbles. However, when producing secondary pure water, a quantity of nitrogen micro-nano bubbles in the secondary pure water tank that does not affect the ion exchange resin in the ion exchange polisher 11 is used. 1 may be generated. In this case, ultrapure water containing nitrogen micro-nano bubbles is introduced into the structure of the secondary pure water production apparatus (ion exchange polisher 11 and ultrafiltration membrane 12) below the heat exchanger 9 to obtain ultrapure having a new cleaning effect. Water can be produced.

(第１の参考例)
次に、図３に、本発明の第１参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第１参考例の超純水製造装置は、次の３点が前述の実施形態と異なる。 ( First reference example )
Next, in FIG. 3, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 1st reference example of this invention is provided is shown. Ultrapure water production system of the first reference example, the following three points are different from the implementation described above.

(ｉ) 図１に示す窒素マイクロナノバブル発生器３に替えて、オゾンマイクロナノバブル発生器２３を二次純水タンク１内に設置した点。   (i) The ozone micro / nano bubble generator 23 is installed in the secondary pure water tank 1 in place of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 shown in FIG.

(ii) ガス配管４にオゾンガス供給部(図示せず)からオゾンガスが供給される点。   (ii) A point where ozone gas is supplied to the gas pipe 4 from an ozone gas supply unit (not shown).

(iii) 溶存窒素センサ１４Ａ,溶存窒素調節計１５Ａに替えて溶存オゾンセンサ１４Ｂ,溶存オゾン調節計１５Ｂを備えた点。   (iii) A dissolved ozone sensor 14B and a dissolved ozone controller 15B are provided in place of the dissolved nitrogen sensor 14A and the dissolved nitrogen controller 15A.

この第１参考例では、実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、実施形態と異なる部分を説明する。 In the first reference example , the same portions as those in the embodiment are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof is omitted, and portions different from the embodiments are described.

二次純水タンク１内に設置されているオゾンマイクロナノバブル発生器２３は、送水側の配管５Ｂから送水口２３Ａに二次純水タンク１内の純水が供給され、ガス配管４から吸入口２３Ｂにオゾンが供給される。これにより、オゾンマイクロナノバブル発生器２３は、オゾンマイクロナノバブルを発生する。このオゾンマイクロナノバブルは、窒素マイクロナノバブルよりも殺菌力が強い。したがって、この超純水製造装置の二次純水製造装置で生成するオゾンマイクロナノバブルを含有する純水,超純水は、超純水配管２１,２２等を含む二次純水製造装置の各機器(熱交換器９,紫外線殺菌器１０)、配管をより強力に殺菌できる。また、オゾン水殺菌に比べて、オゾンマイクロナノバブルの方が、水中での持続性があることより、少ないオゾン量で殺菌でき、ランニングコストの低減に役立つこととなる。   The ozone micro / nano bubble generator 23 installed in the secondary pure water tank 1 is supplied with the pure water in the secondary pure water tank 1 from the water supply side pipe 5B to the water supply port 23A, and from the gas pipe 4 to the suction port. Ozone is supplied to 23B. Thereby, the ozone micro nano bubble generator 23 generates ozone micro nano bubbles. This ozone micro-nano bubble has stronger sterilizing power than nitrogen micro-nano bubble. Therefore, pure water and ultrapure water containing ozone micro-nano bubbles generated by the secondary pure water production apparatus of this ultrapure water production apparatus are used in each of the secondary pure water production apparatuses including the ultrapure water pipes 21 and 22. Equipment (heat exchanger 9, UV sterilizer 10) and piping can be sterilized more strongly. In addition, compared to ozone water sterilization, ozone micro-nano bubbles can be sterilized with a smaller amount of ozone than the sustainability in water, which helps to reduce running costs.

なお、この第１参考例では、二次純水タンク１内には、溶存オゾンセンサ１４Ｂと、溶存オゾン調節計１５Ｂが設置されている。溶存オゾンセンサ１４Ｂからの溶存オゾンの量を表す信号を受けた溶存オゾン調節計１５Ｂは、二次純水タンク１内の純水の溶存オゾンが、所定の値以下となる様に、電動弁７を制御している。 In the first reference example , a dissolved ozone sensor 14B and a dissolved ozone controller 15B are installed in the secondary pure water tank 1. The dissolved ozone controller 15B, which has received a signal indicating the amount of dissolved ozone from the dissolved ozone sensor 14B, operates the motor-operated valve 7 so that the dissolved ozone of the pure water in the secondary pure water tank 1 becomes a predetermined value or less. Is controlling.

(第２の参考例)
次に、図４に、本発明の第２参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第２参考例の超純水製造装置は、次の(ｉ)、(ii)の点が前述の実施形態と異なる。 ( Second reference example )
Next, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 2nd reference example of this invention is provided in FIG. 4 is shown. The ultrapure water production apparatus of the second reference example, the following (i), differs from the implementation form points of the above (ii).

(ｉ) 図４に示すように、二次純水タンク１内に窒素マイクロナノバブル発生機３を設置せずに、熱交換器９と紫外線殺菌器１０との間に設置した窒素マイクロナノバブル接触槽２５を備え、この窒素マイクロナノバブル接触槽２５内に窒素マイクロナノバブル発生機３を設置した点。   (i) As shown in FIG. 4, the nitrogen micro / nano bubble contact tank installed between the heat exchanger 9 and the ultraviolet sterilizer 10 without installing the nitrogen micro / nano bubble generator 3 in the secondary pure water tank 1 25, and the nitrogen micro / nano bubble generator 3 is installed in the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25.

(ii) 図４に示すように、吸込側配管５Ａを窒素マイクロナノバブル接触槽２５の底と循環ポンプ２との間に接続し、循環ポンプ２を電動弁６を経由して送水側配管５Ｂで窒素マイクロナノバブル発生機３の送水口３Ａに接続し、窒素ガス供給部(図示せず)を電動弁７を経由してガス配管４で窒素マイクロナノバブル発生機３の窒素吸込口３Ｂに接続した点。   (ii) As shown in FIG. 4, the suction side pipe 5A is connected between the bottom of the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 and the circulation pump 2, and the circulation pump 2 is connected to the water supply side pipe 5B via the motor operated valve 6. The point connected to the water supply port 3A of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 and the nitrogen gas supply unit (not shown) connected to the nitrogen inlet 3B of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 via the motor-operated valve 7 via the gas pipe 4 .

したがって、この第２参考例では、前述の実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、実施形態と異なる部分を説明する。 Therefore, in the second reference example, the same parts as the implementation form described above, are designated by identical reference numerals, and the detailed description, portions different from the embodiment.

この第２参考例では、紫外線殺菌器１０の前段に窒素マイクロナノバブル発生器３を有する窒素マイクロナノバブル接触槽２５が設置されているので、二次純水製造装置１９の系内の殺菌を窒素マイクロナノバブルと紫外線殺菌器１０の両方で実施することとなり、紫外線殺菌器１０のランプの一部を消すことが可能となり、ランニングコストの低減に役立つ。 In this second reference example , since the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 having the nitrogen micro / nano bubble generator 3 is installed in the front stage of the ultraviolet sterilizer 10, sterilization in the system of the secondary pure water production apparatus 19 is performed with nitrogen micro It will be carried out with both the nanobubble and the ultraviolet sterilizer 10, and it becomes possible to turn off a part of the lamp of the ultraviolet sterilizer 10, which helps to reduce the running cost.

以上が殺菌についての内容であるが、二次純水製造時に、イオン交換ポリッシャ１１内のイオン交換樹脂に影響しない量の窒素マイクロナノバブルを熱交換器９の後で、かつ紫外線殺菌器１０の前で、窒素マイクロナノバブル発生器３を有する窒素マイクロナノバブル接触槽２５内で窒素マイクロナノバブルを発生させてもよい。この場合、窒素マイクロナノバブル含んだ超純水を紫外線殺菌器１０以下の二次純水製造装置の構成(イオン交換ポリッシャ１１,限外ろ過膜１２)に導入して新たな洗浄効果のある超純水を製造することができる。   The above is the content of sterilization. At the time of secondary pure water production, nitrogen micro / nano bubbles in an amount that does not affect the ion exchange resin in the ion exchange polisher 11 are placed after the heat exchanger 9 and before the ultraviolet sterilizer 10. Thus, nitrogen micro / nano bubbles may be generated in the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 having the nitrogen micro / nano bubble generator 3. In this case, ultrapure water containing nitrogen micro-nano bubbles is introduced into the configuration of the secondary pure water production apparatus below the ultraviolet sterilizer 10 (ion exchange polisher 11, ultrafiltration membrane 12), and ultrapure having a new cleaning effect. Water can be produced.

(第３の参考例)
次に、図５に、本発明の第３参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第３参考例は、次の(ｉ),(ii)の点が前述の第１参考例と異なる。 ( Third reference example )
Next, in FIG. 5, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 3rd reference example of this invention is provided is shown. The third reference example is different from the first reference example in the following points (i) and (ii).

(ｉ) 図５に示すように、二次純水タンク１内にオゾンマイクロナノバブル発生機２３を設置せずに、熱交換器９と紫外線殺菌器１０との間に設置したオゾンマイクロナノバブル接触槽２６を備え、このオゾンマイクロナノバブル接触槽２６内にオゾンマイクロナノバブル発生機２３を設置した点。   (i) As shown in FIG. 5, the ozone micro-nano bubble contact tank installed between the heat exchanger 9 and the ultraviolet sterilizer 10 without installing the ozone micro-nano bubble generator 23 in the secondary pure water tank 1. 26, and the ozone micro / nano bubble generator 23 is installed in the ozone micro / nano bubble contact tank 26.

(ii) 図５に示すように、吸込側配管５Ａをオゾンマイクロナノバブル接触槽２６の底と循環ポンプ２との間に接続し、循環ポンプ２を電動弁６を経由して送水側配管５Ｂでオゾンマイクロナノバブル発生機２３の送水口２３Ａに接続し、オゾンガス供給部(図示せず)を電動弁７を経由してガス配管４でオゾンマイクロナノバブル発生機２３のオゾン吸込口２３Ｂに接続した点。   (ii) As shown in FIG. 5, the suction side pipe 5 </ b> A is connected between the bottom of the ozone micro / nano bubble contact tank 26 and the circulation pump 2, and the circulation pump 2 is connected to the water supply side pipe 5 </ b> B via the motor-operated valve 6. The point connected to the water supply port 23A of the ozone micro / nano bubble generator 23, and the ozone gas supply part (not shown) connected to the ozone suction port 23B of the ozone micro / nano bubble generator 23 via the motor-operated valve 7 through the gas pipe 4.

したがって、この第３参考例では、前述の第１参考例と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、第１参考例と異なる部分を説明する。 Therefore, in the third reference example , the same parts as those in the first reference example are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof is omitted, and different parts from the first reference example are described.

この第３参考例では、紫外線殺菌器１０の前段にオゾンマイクロナノバブル発生器２３を有するオゾンマイクロナノバブル接触槽２６が設置されているので、二次純水製造装置１９の系内の殺菌をオゾンマイクロナノバブルと紫外線殺菌器１０の両方で実施することとなり、紫外線殺菌器１０のランプの一部を消すことが可能となり、ランニングコストの低減に役立つ。 In the third reference example , the ozone micro / nano bubble contact tank 26 having the ozone micro / nano bubble generator 23 is installed in the front stage of the ultraviolet sterilizer 10, so that the sterilization in the system of the secondary pure water production apparatus 19 is performed with ozone micro. It will be carried out with both the nanobubble and the ultraviolet sterilizer 10, and it becomes possible to turn off a part of the lamp of the ultraviolet sterilizer 10, which helps to reduce the running cost.

また、オゾンマイクロナノバブル発生器２３が発生するオゾンマイクロナノバブルは、窒素マイクロナノバブル発生器３が発生する窒素マイクロナノバブルに比べて、より強力に殺菌可能である。   The ozone micro / nano bubbles generated by the ozone micro / nano bubble generator 23 can be sterilized more strongly than the nitrogen micro / nano bubbles generated by the nitrogen micro / nano bubble generator 3.

(第４の参考例)
次に、図６に、本発明の第４参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第４参考例は、次の(ｉ),(ii)の点が前述の実施形態と異なる。 ( Fourth reference example )
Next, in FIG. 6, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 4th reference example of this invention is provided is shown. The fourth reference example, the following (i), differs from the implementation form points of the above (ii).

(ｉ) 図６に示すように、二次純水タンク１内に窒素マイクロナノバブル発生機３を設置せずに、バイパス配管１６においてバルブ２４Ａの後に窒素マイクロナノバブル接触槽２５を設置し、この窒素マイクロナノバブル接触槽２５内に窒素マイクロナノバブル発生機３を設置した点。   (i) As shown in FIG. 6, the nitrogen micro / nano bubble generator 3 is not installed in the secondary pure water tank 1, but the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 is installed after the valve 24A in the bypass pipe 16, and the nitrogen The point which installed the nitrogen micro nano bubble generator 3 in the micro nano bubble contact tank 25. FIG.

(ii) 図６に示すように、吸込側配管５Ａを窒素マイクロナノバブル接触槽２５の底と循環ポンプ２との間に接続し、循環ポンプ２を電動弁６を経由して送水側配管５Ｂで窒素マイクロナノバブル発生機３の送水口３Ａに接続し、窒素ガス供給部(図示せず)を電動弁７を経由してガス配管４で窒素マイクロナノバブル発生機３の窒素吸込口３Ｂに接続した点。   (ii) As shown in FIG. 6, the suction side pipe 5A is connected between the bottom of the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 and the circulation pump 2, and the circulation pump 2 is connected to the water supply side pipe 5B via the motor operated valve 6. The point connected to the water supply port 3A of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 and the nitrogen gas supply unit (not shown) connected to the nitrogen inlet 3B of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 via the motor-operated valve 7 via the gas pipe 4 .

したがって、この第４参考例では、前述の実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、実施形態と異なる部分を説明する。 Therefore, in the fourth reference example, the same parts as the implementation form described above, are designated by identical reference numerals, and the detailed description, portions different from the embodiment.

この第４参考例では、窒素マイクロナノバブル発生器３を有する窒素マイクロナノバブル接触槽２５が、バイパス配管１６の後方部分に設置されている。よって、窒素マイクロナノバブルを各ユースポイント１３の比較的近くで発生できる。したがって、各ユースポイント１３の一例としての生産装置での殺菌や窒素マイクロナノバブルによる生産装置での洗浄の効果の向上を図ることができる。 In the fourth reference example , a nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 having a nitrogen micro / nano bubble generator 3 is installed in the rear part of the bypass pipe 16. Therefore, nitrogen micro / nano bubbles can be generated relatively close to each use point 13. Therefore, it is possible to improve the effect of sterilization in the production apparatus as an example of each use point 13 and cleaning in the production apparatus using nitrogen micro / nano bubbles.

(第５の参考例)
次に、図７に、本発明の第５参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第５参考例は、次の(ｉ),(ii)の点が前述の第１参考例と異なる。 ( Fifth reference example )
Next, in FIG. 7, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 5th reference example of this invention is provided is shown. The fifth reference example is different from the first reference example in the following points (i) and (ii).

(ｉ) 図７に示すように、二次純水タンク１内にオゾンマイクロナノバブル発生機２３を設置せずに、バイパス配管１６においてバルブ２４Ａの後にオゾンマイクロナノバブル接触槽２６を設置し、このオゾンマイクロナノバブル接触槽２６内にオゾンマイクロナノバブル発生機２３を設置した点。   (i) As shown in FIG. 7, the ozone micro / nano bubble generator 23 is not installed in the secondary pure water tank 1, but the ozone micro / nano bubble contact tank 26 is installed after the valve 24 </ b> A in the bypass pipe 16. The point which installed the ozone micro nano bubble generator 23 in the micro nano bubble contact tank 26. FIG.

(ii) 図７に示すように、吸込側配管５Ａをオゾンマイクロナノバブル接触槽２６の底と循環ポンプ２との間に接続し、循環ポンプ２を電動弁６を経由して送水側配管５Ｂでオゾンマイクロナノバブル発生機２３の送水口２３Ａに接続し、オゾンガス供給部(図示せず)を電動弁７を経由してガス配管４でオゾンマイクロナノバブル発生機２３のオゾン吸込口２３Ｂに接続した点。   (ii) As shown in FIG. 7, the suction side pipe 5A is connected between the bottom of the ozone micro / nano bubble contact tank 26 and the circulation pump 2, and the circulation pump 2 is connected to the water supply side pipe 5B via the motor operated valve 6. The point connected to the water supply port 23A of the ozone micro / nano bubble generator 23, and the ozone gas supply part (not shown) connected to the ozone suction port 23B of the ozone micro / nano bubble generator 23 via the motor-operated valve 7 through the gas pipe 4.

したがって、この第５参考例では、前述の第１参考例と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、第１参考例と異なる部分を説明する。 Therefore, in the fifth reference example , the same parts as those in the first reference example are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof is omitted, and different parts from the first reference example are described.

この第５参考例では、オゾンマイクロナノバブル発生器２３を有するオゾンマイクロナノバブル接触槽２６が、バイパス配管１６の後方部分に設置されている。よって、オゾンマイクロナノバブルを各ユースポイント１３の比較的近くで発生できる。したがって、各ユースポイント１３の一例としての生産装置での殺菌やオゾンマイクロナノバブルによる生産装置での洗浄の効果の向上を図ることができる。 In the fifth reference example , an ozone micro / nano bubble contact tank 26 having an ozone micro / nano bubble generator 23 is installed in the rear part of the bypass pipe 16. Therefore, ozone micro-nano bubbles can be generated relatively close to each use point 13. Therefore, it is possible to improve the effect of sterilization in the production apparatus as an example of each use point 13 and cleaning in the production apparatus using ozone micro-nano bubbles.

また、オゾン水中のオゾンが短時間に消滅するのに対し、オゾンマイクロナノバブルは水中で長時間持続する。よって、オゾン水で殺菌するより、格段にランニングコストを低減できる。   In addition, ozone micro-nano bubbles persist in water for a long time, whereas ozone in ozone water disappears in a short time. Therefore, the running cost can be remarkably reduced as compared with sterilization with ozone water.

(第６の参考例)
次に、図８に本発明の第６参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第６参考例は、次の(ｉ)〜(iii)の３点が前述の実施形態と異なる。 ( Sixth reference example )
Next, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 6th reference example of this invention is provided in FIG. 8 is shown. The sixth reference example, three points of the next (i) ~ (iii) is different from the implementation described above.

(ｉ) 図８に示すように、二次純水タンク１内に窒素マイクロナノバブル発生機３を設置せずに、限外ろ過膜１２の後段かつ超純水配管２１の前段に設置した窒素マイクロナノバブル接触槽２５を備え、この窒素マイクロナノバブル接触槽２５内に窒素マイクロナノバブル発生機３を設置した点。   (i) As shown in FIG. 8, the nitrogen micro-nano bubble generator 3 is not installed in the secondary pure water tank 1, but the nitrogen micro-tube installed at the rear stage of the ultrafiltration membrane 12 and the front stage of the ultrapure water pipe 21. The point which equipped the nano bubble contact tank 25 and installed the nitrogen micro nano bubble generator 3 in this nitrogen micro nano bubble contact tank 25.

(ii) 図８に示すように、吸込側配管５Ａを窒素マイクロナノバブル接触槽２５の底と循環ポンプ２との間に接続し、循環ポンプ２を電動弁６を経由して送水側配管５Ｂで窒素マイクロナノバブル発生機３の送水口３Ａに接続し、窒素ガス供給部(図示せず)を電動弁７を経由してガス配管４で窒素マイクロナノバブル発生機３の窒素吸込口３Ｂに接続した点。   (ii) As shown in FIG. 8, the suction side pipe 5A is connected between the bottom of the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 and the circulation pump 2, and the circulation pump 2 is connected to the water supply side pipe 5B via the motor operated valve 6. The point connected to the water supply port 3A of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 and the nitrogen gas supply unit (not shown) connected to the nitrogen inlet 3B of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 via the motor-operated valve 7 via the gas pipe 4 .

(iii) 図８に示すように、バイパス配管１６に替えて、後端を窒素マイクロナノバブル接触槽２５の出口側の超純水配管２１に接続したバイパス配管１６Ｚを備えた点。   (iii) As shown in FIG. 8, in place of the bypass pipe 16, a bypass pipe 16 </ b> Z whose rear end is connected to the ultrapure water pipe 21 on the outlet side of the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 is provided.

したがって、この第６参考例では、前述の実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、実施形態と異なる部分を説明する。 Therefore, in the sixth reference example, the same parts as the implementation form described above, are designated by identical reference numerals, and the detailed description, portions different from the embodiment.

この第６参考例では、窒素マイクロナノバブル発生器３を有する窒素マイクロナノバブル接触槽２５が、限外ろ過膜１２の後段に設置され、かつ二次純水製造装置の一つとして構成されている。したがって、この第６参考例の超純水製造装置によれば、窒素マイクロナノバブルを含有する新たな超純水を製造できる。同時に、窒素マイクロナノバブル接触槽２５が各ユースポイント１３に近いので、生産装置での殺菌や窒素マイクロナノバブルによる生産装置での洗浄の効果の向上を図れる。 In the sixth reference example , a nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 having a nitrogen micro / nano bubble generator 3 is installed at the subsequent stage of the ultrafiltration membrane 12 and is configured as one of secondary pure water production apparatuses. Therefore, according to the ultrapure water producing apparatus of the sixth reference example , new ultrapure water containing nitrogen micro / nano bubbles can be produced. At the same time, since the nitrogen micro / nano bubble contact tank 25 is close to each use point 13, it is possible to improve the effect of sterilization in the production apparatus and cleaning in the production apparatus using the nitrogen micro / nano bubbles.

なお、この第６参考例では、バルブ２４Ａが閉となり、バルブ２４Ｂが開となることで、二次純水の製造と殺菌とが同時に行われる。 In the sixth reference example , the valve 24A is closed and the valve 24B is opened, whereby secondary pure water is manufactured and sterilized at the same time.

(第７の参考例)
次に、図９に本発明の第７参考例としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置を示す。この第７参考例は、次の(ｉ)〜(iii)の３点が前述の第２参考例と異なる。 ( Seventh reference example )
Next, the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as a 7th reference example of this invention is provided in FIG. 9 is shown. The seventh reference example differs from the second reference example described above in the following three points (i) to (iii).

(ｉ) 図９に示すように、二次純水タンク１内にオゾンマイクロナノバブル発生機２３を設置せずに、限外ろ過膜１２の後段かつ超純水配管２１の前段に設置したオゾンマイクロナノバブル接触槽２６を備え、このオゾンマイクロナノバブル接触槽２６内にオゾンマイクロナノバブル発生機２３を設置した点。   (i) As shown in FIG. 9, the ozone micro-nano bubble generator 23 is not installed in the secondary pure water tank 1, but the ozone micro is installed in the subsequent stage of the ultrafiltration membrane 12 and the upstream stage of the ultrapure water pipe 21. The point which provided the nano bubble contact tank 26 and installed the ozone micro nano bubble generator 23 in this ozone micro nano bubble contact tank 26.

(ii) 図９に示すように、吸込側配管５Ａをオゾンマイクロナノバブル接触槽２６の底と循環ポンプ２との間に接続し、循環ポンプ２を電動弁６を経由して送水側配管５Ｂで窒素マイクロナノバブル発生機３の送水口３Ａに接続し、オゾンガス供給部(図示せず)を電動弁７を経由してガス配管４でオゾンマイクロナノバブル発生機２３のオゾン吸込口２３Ｂに接続した点。   (ii) As shown in FIG. 9, the suction side pipe 5A is connected between the bottom of the ozone micro / nano bubble contact tank 26 and the circulation pump 2, and the circulation pump 2 is connected to the water supply side pipe 5B via the motor operated valve 6. The point connected to the water feed port 3A of the nitrogen micro / nano bubble generator 3 and the ozone gas supply unit (not shown) connected to the ozone suction port 23B of the ozone micro / nano bubble generator 23 via the electric valve 7 and the gas pipe 4.

(iii) 図９に示すように、バイパス配管１６に替えて、後端をオゾンマイクロナノバブル接触槽２６の出口側の超純水配管２１に接続したバイパス配管１６Ｚを備えた点。   (iii) As shown in FIG. 9, instead of the bypass pipe 16, a bypass pipe 16 </ b> Z whose rear end is connected to the ultrapure water pipe 21 on the outlet side of the ozone micro / nano bubble contact tank 26 is provided.

したがって、この第７参考例では、前述の第２参考例と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、第２参考例と異なる部分を説明する。 Therefore, in the seventh reference example , the same parts as those of the second reference example are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof is omitted, and different parts from the second reference example are described.

この第７参考例では、オゾンマイクロナノバブル発生器２３を有するオゾンマイクロナノバブル接触槽２６が、限外ろ過膜１２の後段に設置され、かつ二次純水製造装置の一つとして構成されている。したがって、この第７参考例の超純水製造装置によれば、オゾンマイクロナノバブルを含有する新たな超純水を製造できる。同時に、オゾンマイクロナノバブル接触槽２６が各ユースポイント１３に近いので、生産装置での殺菌やオゾンマイクロナノバブルによる生産装置での洗浄の効果の向上を図れる。 In the seventh reference example , an ozone micro / nano bubble contact tank 26 having an ozone micro / nano bubble generator 23 is installed at the rear stage of the ultrafiltration membrane 12 and is configured as one of the secondary pure water production apparatuses. Therefore, according to the ultrapure water production apparatus of the seventh reference example , new ultrapure water containing ozone micro-nano bubbles can be produced. At the same time, since the ozone micro / nano bubble contact tank 26 is close to each use point 13, the effect of sterilization in the production apparatus and cleaning in the production apparatus using ozone micro / nano bubbles can be improved.

また、オゾン水中のオゾンが短時間に消滅するのに対し、オゾンマイクロナノバブルは水中で長時間持続する。よって、オゾン水で殺菌するより、格段にランニングコストを低減できる。   In addition, ozone micro-nano bubbles persist in water for a long time, whereas ozone in ozone water disappears in a short time. Therefore, the running cost can be remarkably reduced as compared with sterilization with ozone water.

なお、この第７参考例では、バルブ２４Ａが閉となり、バルブ２４Ｂが開となることで、二次純水の製造と殺菌とが同時に行われる。 In the seventh reference example , the valve 24A is closed and the valve 24B is opened, so that secondary pure water is manufactured and sterilized at the same time.

(実験例)
図２に示す実施形態の超純水製造装置が備えるに二次純水製造装置に対応する実験装置を製作した。この実験装置における二次純水タンクの容量を１００リットルとし、熱交換器の寸法を０.５ｍ×０.５ｍ×０.２ｍとし、紫外線殺菌器の寸法を、０.６ｍ×０.６ｍ×０.２ｍとした。また、イオン交換ポリッシャの容量を５０リットルとし、限外ろ過膜の容量を３０リットルとした。 (Experimental example)
An experimental apparatus corresponding to a secondary pure water production apparatus was prepared for the ultrapure water production apparatus of the embodiment shown in FIG. The volume of the secondary pure water tank in this experimental apparatus is 100 liters, the dimensions of the heat exchanger are 0.5 m × 0.5 m × 0.2 m, and the dimensions of the UV sterilizer are 0.6 m × 0.6 m ×. It was set to 0.2 m. The capacity of the ion exchange polisher was 50 liters, and the capacity of the ultrafiltration membrane was 30 liters.

この実験装置での約２ケ月間による試運転後、バイパス配管を使用した殺菌作業を実施した後、バイパス配管を閉鎖して、二次純水の製造の立ち上がり時間を測定した。その結果、約１時間後に抵抗率、全有機炭素、微粒子、溶存酸素、微生物等の項目が全て、元の二次純水製造時の水質に戻った。   After a trial run for about two months in this experimental apparatus, after performing a sterilization operation using the bypass pipe, the bypass pipe was closed and the rise time of the production of secondary pure water was measured. As a result, after about 1 hour, the items of resistivity, total organic carbon, fine particles, dissolved oxygen, microorganisms, etc. all returned to the original water quality at the time of producing secondary pure water.

尚、上記実施形態および参考例では、マイクロナノバブルをなす気体が、窒素またはオゾンである例を説明した。 In the embodiment and the reference example , the example in which the gas forming the micro / nano bubbles is nitrogen or ozone has been described .

この発明の実施形態としての超純水製造装置が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the ultrapure water manufacturing apparatus as embodiment of this invention is provided. 上記実施形態の超純水製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the ultrapure water manufacturing apparatus of the said embodiment. この発明の第１参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 1st reference example of this invention is provided. この発明の第２参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 2nd reference example of this invention is provided. この発明の第３参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 3rd reference example of this invention is provided. この発明の第４参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 4th reference example of this invention is provided. この発明の第５参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 5th reference example of this invention is provided. この発明の第６参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 6th reference example of this invention is provided. この発明の第７参考例が備える二次純水製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the secondary pure water manufacturing apparatus with which the 7th reference example of this invention is provided.

１ 二次純水タンク
２ 循環ポンプ
３ 窒素マイクロナノバブル発生機
３Ａ 送水口
３Ｂ 窒素吸込口
４ ガス配管
５Ａ 吸込側配管
５Ｂ 送水側配管
６、７ 電動弁
８ 二次純水ポンプ
９ 熱交換器
１０ 紫外線殺菌器
１１ イオン交換ポリッシャ
１２ 限外ろ過膜
１３ 各ユースポイント
１４Ａ 溶存窒素センサ
１５Ａ 溶存窒素調節計
１４Ｂ 溶存オゾンセンサ
１５Ｂ 溶存オゾン調節計
１６、１６Ｚ バイパス配管
１７ 前処理装置
１８ 一次純水製造装置
１９ 二次純水製造装置
２０ 生産装置
２１、２２ 超純水配管
２３ オゾンマイクロナノバブル発生機
２３Ａ 送水口
２３Ｂ 吸込口
２４Ａ、２４Ｂ バルブ
２５ 窒素マイクロナノバブル接触槽
２６ オゾンマイクロナノバブル接触槽 1 Secondary pure water tank 2 Circulation pump
3 Nitrogen micro-nano bubble generator 3A Water supply port 3B Nitrogen suction port 4 Gas piping 5A Suction side piping 5B Water supply side piping 6, 7 Motorized valve 8 Secondary pure water pump 9 Heat exchanger 10 UV sterilizer 11 Ion exchange polisher 12 Limit Filter membrane 13 Each use point 14A Dissolved nitrogen sensor 15A Dissolved nitrogen controller 14B Dissolved ozone sensor 15B Dissolved ozone controller 16, 16Z Bypass piping 17 Pretreatment device 18 Primary pure water production device 19 Secondary pure water production device 20 Production device 21 22 Ultra pure water piping 23 Ozone micro / nano bubble generator 23A Water supply port 23B Suction port 24A, 24B Valve 25 Nitrogen micro / nano bubble contact tank 26 Ozone micro / nano bubble contact tank

Claims (1)

超純水製造装置が備える一次純水製造装置と二次純水製造装置とのうちの上記二次純水製造装置が有する超純水配管にマイクロナノバブルを供給するマイクロナノバブル発生機を備え、
上記マイクロナノバブル発生機は、上記超純水配管に窒素マイクロナノバブルを供給する窒素マイクロナノバブル発生機であり、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は上記二次純水製造装置に組み込まれていて、
上記二次純水製造装置は、二次純水タンク、熱交換器、紫外線殺菌器、イオン交換ポリッシャ、限外ろ過膜を有し、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は、
上記二次純水製造装置の二次純水タンク内に設置されており、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は、
窒素ガスの導入量を制御するための電動弁を設けたガス配管を経由して窒素ガス供給部につながっている窒素吸込口と、
上記二次純水タンクの循環水を１.５ｋｇ/ｃｍ２以上の吐出圧で吐出するポンプに上記循環水の導入量を制御するための電動弁を設けた配管によって接続された送水口とを有し、
上記窒素マイクロナノバブル発生機は、上記ポンプで上記送水口から上記循環水が導入されて通過する時に内部がマイナス圧となって上記窒素吸込口から窒素ガスが引き込まれることを特徴とする超純水製造装置の殺菌装置。 A micro-nano bubble generator for supplying micro-nano bubbles to the ultra-pure water pipe of the secondary pure water production device of the primary pure water production device and the secondary pure water production device provided in the ultra-pure water production device,
The micro-nano bubble generator is a nitrogen micro-nano bubble generator that supplies nitrogen micro-nano bubbles to the ultrapure water pipe,
The nitrogen micro / nano bubble generator is incorporated in the secondary pure water production apparatus,
The secondary pure water production apparatus has a secondary pure water tank, a heat exchanger, an ultraviolet sterilizer, an ion exchange polisher, and an ultrafiltration membrane.
The nitrogen micro-nano bubble generator is
It is installed in the secondary pure water tank of the secondary pure water production equipment,
The nitrogen micro-nano bubble generator is
A nitrogen inlet connected to the nitrogen gas supply section via a gas pipe provided with a motorized valve for controlling the amount of nitrogen gas introduced ;
A water supply port connected by a pipe provided with an electric valve for controlling the introduction amount of the circulating water to a pump that discharges the circulating water of the secondary pure water tank at a discharge pressure of 1.5 kg / cm 2 or more. Yes, and
The nitrogen-micro-nano bubble generator is ultrapure, wherein Rukoto internal nitrogen gas is drawn from the nitrogen inlet was negative pressure when the circulating water passes is introduced from the water supply port in the pump Sterilizer for water production equipment.
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