JP4491530B2 - Optical isolator - Google Patents

Optical isolator Download PDF

Info

Publication number
JP4491530B2
JP4491530B2 JP2003302734A JP2003302734A JP4491530B2 JP 4491530 B2 JP4491530 B2 JP 4491530B2 JP 2003302734 A JP2003302734 A JP 2003302734A JP 2003302734 A JP2003302734 A JP 2003302734A JP 4491530 B2 JP4491530 B2 JP 4491530B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
optical isolator
mounting substrate
metal film
film layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003302734A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005070613A (en
Inventor
譲 箱田
諭士 竹内
一秋 池貝
繁明 山本
義信 宇野
剛宏 荒谷
信悦 佐々木
伸夫 今泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Namiki Precision Jewel Co Ltd
Adamant Namiki Precision Jewel Co Ltd
Original Assignee
Namiki Precision Jewel Co Ltd
Adamant Namiki Precision Jewel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Namiki Precision Jewel Co Ltd, Adamant Namiki Precision Jewel Co Ltd filed Critical Namiki Precision Jewel Co Ltd
Priority to JP2003302734A priority Critical patent/JP4491530B2/en
Publication of JP2005070613A publication Critical patent/JP2005070613A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4491530B2 publication Critical patent/JP4491530B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、主として光通信システム等に用いられる光通信モジュール、半導体レーザモジュール、光増幅器等のパッシブ光デバイスとして好適な光アイソレータに関するものである。   The present invention relates to an optical isolator suitable as a passive optical device such as an optical communication module, a semiconductor laser module, and an optical amplifier mainly used in an optical communication system.

光アイソレータは、光ファイバを使用した光通信システムにおける主要デバイスの1つであり、光通信モジュール、半導体レーザモジュール、光増幅器等において、光路系の光部品からの反射によるレーザダイオード光源側への戻り光の防止や、光増幅器内部での光の共振の発生を防止するために用いられている。このような光アイソレータは、レーザダイオード光源と光ファイバとの間、或いは2本の光ファイバの間に配置され、2枚の偏光子(その内の一方は検光子とも云う)とファラデー回転子の各光学素子を組み合わせると共に、ファラデー回転子の近傍にファラデー回転子を飽和磁化させるためのマグネットを配置して成るものである。   An optical isolator is one of the main devices in an optical communication system using an optical fiber. In an optical communication module, a semiconductor laser module, an optical amplifier, etc., the optical isolator returns to the laser diode light source side by reflection from optical components in the optical path system. It is used for preventing light and preventing the occurrence of light resonance inside the optical amplifier. Such an optical isolator is arranged between a laser diode light source and an optical fiber, or between two optical fibers, and includes two polarizers (one of which is also called an analyzer) and a Faraday rotator. Each optical element is combined and a magnet for saturation magnetization of the Faraday rotator is disposed in the vicinity of the Faraday rotator.

具体的な偏波依存型の光アイソレータの構造を説明すると、例えばいわゆる「一段型」と呼ばれる光アイソレータの場合は、2枚の偏光子を互いの偏光方向の相対角度が約45度異なるように対面配置させると共に、それらの偏光子の間に、飽和磁場内で所定の波長においてファラデー回転角が約45度となる厚みを有するファラデー回転子を1枚配置させて成るものであり、順方向の光を透過させ、一方で逆方向の光には高損失の特性(逆方向損失)を持たせて遮断させる作用を有するものである。   The structure of a specific polarization-dependent optical isolator will be explained. For example, in the case of an optical isolator called a “single-stage type”, the two polarizers are arranged so that the relative angles of the polarization directions of the two polarizers differ from each other by about 45 degrees. The two Faraday rotators having a thickness of about 45 degrees at a predetermined wavelength in a saturation magnetic field are arranged between the polarizers in a saturated magnetic field. On the other hand, light in the reverse direction has a function of blocking it with high loss characteristics (reverse direction loss).

昨今、これら光アイソレータに対して、小型化及び量産化による低価格化が強く望まれるようになり、このような要求に応じる方策として製造における組立工数の減少や、或いは各光学素子間の光学調整の作業を軽減させる手段が種々考案されている。その方策の1つとして、平板状の偏光子とファラデー回転子と直方体状のマグネットとを平板状の取り付け基板の面上に設置した構造の光アイソレータが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
特開平10−227996号(第2−4頁、第1図)
In recent years, there has been a strong demand for these optical isolators to be reduced in price by downsizing and mass production. As a measure to meet such demands, the number of assembly steps in manufacturing is reduced, or optical adjustment between optical elements is performed. Various means for reducing this work have been devised. As one of the measures, there has been proposed an optical isolator having a structure in which a plate-shaped polarizer, a Faraday rotator, and a rectangular parallelepiped magnet are installed on the surface of a plate-shaped mounting substrate (see, for example, Patent Document 1). .)
JP-A-10-227996 (page 2-4, FIG. 1)

図5は、このような光アイソレータ100の一例を示す斜視図である。まず、光アイソレータ100の組立前に、所定方向に偏光方向が設定されるように偏光子1aと、45度ファラデー回転子2(以下、必要に応じて単にファラデー回転子と記す。)と、順方向においてファラデー回転子2の回転方向に偏光子1aと45度異なるように偏光方向を設定された偏光子1b(検光子とも云う。)の各光学素子を平板状に切り出す。更に、偏光子1a、1bとファラデー回転子2の側面(光学面を除く面)に、真空蒸着法によりCrの膜層を形成した後、更にその上にAuの膜層を形成して、半田付けによる接合が可能なような金属膜層を形成する。   FIG. 5 is a perspective view showing an example of such an optical isolator 100. First, before assembling the optical isolator 100, a polarizer 1a and a 45-degree Faraday rotator 2 (hereinafter simply referred to as a Faraday rotator if necessary) so that the polarization direction is set in a predetermined direction. Each optical element of a polarizer 1b (also referred to as an analyzer) whose polarization direction is set to be 45 degrees different from that of the polarizer 1a in the direction of rotation of the Faraday rotator 2 is cut into a flat plate shape. Further, after forming a Cr film layer on the side surfaces (surfaces excluding the optical surface) of the polarizers 1a and 1b and the Faraday rotator 2 by a vacuum deposition method, an Au film layer is further formed thereon and soldered. A metal film layer is formed so that bonding can be performed.

一方、平板状の取り付け基板4の一面及び直方体のマグネット3、3の一面には、湿式法によりNi/Auの金属膜層が形成され、半田付けが可能な状態とする。そして、半田材を用いて一定温度の還元雰囲気中にて、各光学素子及びマグネット3、3を取り付け基板4に接合する。その後、光アイソレータ100における光入射方向と平行にマグネット3、3を着磁する。以上により、光アイソレータ100が構成される。   On the other hand, a metal film layer of Ni / Au is formed on one surface of the flat mounting substrate 4 and one surface of the rectangular magnets 3 and 3 by a wet method so that soldering is possible. Then, each optical element and the magnets 3 and 3 are bonded to the mounting substrate 4 in a reducing atmosphere at a constant temperature using a solder material. Thereafter, the magnets 3 and 3 are magnetized in parallel with the light incident direction in the optical isolator 100. The optical isolator 100 is configured as described above.

上記の光アイソレータ100を、光ファイバやレンズ等と云った光部品と光結合させるためには、例えば図6に示すように、光アイソレータの設置用装置(図6では設置用装置の一例として取り付け台5を示す。)に光アイソレータ100を接合させることが一般的に行われている。その接合方法としては、取り付け基板4と取り付け台5との間に図示しない半田材を配置させてその半田材を溶融固化させることにより接合する方法が多く用いられる。   In order to optically couple the optical isolator 100 with an optical component such as an optical fiber or a lens, as shown in FIG. 6, for example, as shown in FIG. 6, the optical isolator is installed as an example of an installation device. In general, the optical isolator 100 is joined to the base 5). As a joining method, a joining method is often used in which a solder material (not shown) is arranged between the mounting substrate 4 and the mounting base 5 and the solder material is melted and solidified.

しかしながら、取り付け基板4と取り付け台5とを半田接合させるために、取り付け基板4の光学素子設置面4aと反対側の取り付け基板の面4b上に、その面4b上の全領域に亘って半田接合用の金属膜層を形成して半田接合を行うと、接合後に光アイソレータ100の逆方向損失が著しく低下してしまうという問題があった。特に、取り付け基板4と取り付け台5との材料が異なり、且つ、取り付け基板4の熱膨張係数に対して取り付け台5の熱膨張係数が著しく小さい場合に顕著に逆方向損失が低下するという問題があった。   However, in order to solder the mounting substrate 4 and the mounting base 5 to each other, solder bonding is performed on the surface 4b of the mounting substrate opposite to the optical element mounting surface 4a of the mounting substrate 4 over the entire area on the surface 4b. When the metal film layer is formed and solder bonding is performed, there is a problem that the reverse loss of the optical isolator 100 is remarkably reduced after bonding. In particular, when the materials of the mounting board 4 and the mounting base 5 are different and the thermal expansion coefficient of the mounting base 5 is significantly smaller than the thermal expansion coefficient of the mounting base 4, there is a problem that the reverse loss is significantly reduced. there were.

そこで、本発明は上記各課題に鑑みて成されたものであり、その目的は光学素子を取り付け基板の面上に設置して成る光アイソレータを、その取り付け基板を半田により設置用装置に接合したとしても、その接合時にファラデー回転子にかかる熱応力歪みを低減させることによって、逆方向損失の低下を抑制して安定した光学特性を得ることができ、高品質で信頼性の高い光アイソレータを提供することである。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to join an optical isolator in which an optical element is installed on a surface of a mounting substrate, and the mounting substrate is joined to an installation device by soldering. However, by reducing the thermal stress strain applied to the Faraday rotator at the time of joining, it is possible to obtain a stable optical characteristic by suppressing the reduction in reverse loss, and to provide a high-quality and highly reliable optical isolator It is to be.

上記の課題を解決するために、本発明の請求項1記載の光アイソレータは、2枚の偏光子と1枚のファラデー回転子の各光学素子が取り付け基板の面上に設置されて成る光アイソレータにおいて、
取り付け基板の光学素子設置面と反対側の取り付け基板の面上に半田接合が可能な金属膜層が部分的な領域にのみ形成されることによって、前記反対側の取り付け基板の面上に半田接合が可能な金属膜層を有しない非形成領域が残存され、
更に、前記金属膜層の平面形状が円形状であり、その中心点が前記取り付け基板に対する前記ファラデー回転子の設置面における中心位置に対応され、
更に、前記金属膜層と対向するように半田材を配置させて前記光アイソレータの設置用装置に設置されると共に、前記半田材が加熱されることにより前記設置用装置に接合されることを特徴とする光アイソレータである。
In order to solve the above-mentioned problems, an optical isolator according to claim 1 of the present invention is an optical isolator in which each optical element of two polarizers and one Faraday rotator is installed on the surface of a mounting substrate. In
Solder bonding is performed on the surface of the mounting substrate on the opposite side by forming a metal film layer that can be soldered only on a partial area on the surface of the mounting substrate on the side opposite to the optical element mounting surface of the mounting substrate A non-formed region that does not have a metal film layer capable of
Furthermore, the planar shape of the metal film layer is circular, and the center point thereof corresponds to the center position on the installation surface of the Faraday rotator with respect to the mounting substrate,
Further, a solder material is disposed so as to face the metal film layer and is installed in the optical isolator installation device, and the solder material is heated to be joined to the installation device. It is an optical isolator.

更に、本発明の請求項記載の光アイソレータは、前記取り付け基板がフェライト系ス
テンレス鋼、オーステナイト系ステンレス鋼、銅タングステン合金、タングステン、酸化物セラミックスの何れか1つの材料から成ることを特徴とする光アイソレータである。
The optical isolator according to claim 2 of the present invention is characterized in that the mounting substrate is made of any one material of ferritic stainless steel, austenitic stainless steel, copper tungsten alloy, tungsten, and oxide ceramics. It is an optical isolator.

本発明の光アイソレータに依れば、取り付け基板の光学素子設置面と反対側の取り付け基板の面上に形成する半田接合が可能な金属膜層を部分的な形状及び領域に限定することにより、光アイソレータの取り付け基板と設置用装置の材料が異なり、互いの熱膨張係数差に開きがあったとしても、光アイソレータの取り付け基板を設置用装置に半田接合する際にファラデー回転子に生ずる熱応力歪みを低減させることが可能となる。従って、設置用装置に接合後であっても逆方向損失の低減が抑制され光学特性の安定した光アイソレータを実現することができる。   According to the optical isolator of the present invention, by limiting the metal film layer that can be soldered to be formed on the surface of the mounting substrate opposite to the optical element mounting surface of the mounting substrate to a partial shape and region, Even if the material of the optical isolator mounting board and the installation device are different and there is a difference in the thermal expansion coefficient between them, the thermal stress generated in the Faraday rotator when soldering the optical isolator mounting board to the installation device Distortion can be reduced. Accordingly, it is possible to realize an optical isolator with suppressed optical loss and stable optical characteristics even after being joined to the installation apparatus.

更に、部分的な領域に形成される半田接合が可能な金属膜層の平面形状を円形状とし、その円形状の中心点を取り付け基板に対するファラデー回転子の設置面における中心位置に対応させることによって、ファラデー回転子に加わる熱応力の方向を、中心位置を起点とした同心円状に等方向とすることができる。従って、熱応力が等方向に円状に同等の大きさを以て均等にファラデー回転子に加わるので、ファラデー回転子に生ずる熱応力歪みを低減させることが可能となる。   Further, the planar shape of the metal film layer that can be soldered and formed in a partial region is a circular shape, and the center point of the circular shape is made to correspond to the center position on the installation surface of the Faraday rotator with respect to the mounting substrate. The direction of the thermal stress applied to the Faraday rotator can be made equiangular in a concentric manner starting from the center position. Accordingly, since the thermal stress is equally applied to the Faraday rotator with an equal size in a circular shape in the same direction, it is possible to reduce the thermal stress distortion generated in the Faraday rotator.

更に、取り付け基板の材料をフェライト系ステンレス鋼、オーステナイト系ステンレス鋼、銅タングステン合金、タングステン、酸化物セラミックスの何れか1つとすることにより、取り付け基板の熱膨張係数を各光学素子の熱膨張係数に近似させることができるため、熱膨張係数差に起因した半田接合時の熱応力歪みをより一層低減させることが可能となる。   Furthermore, the material of the mounting substrate is any one of ferritic stainless steel, austenitic stainless steel, copper tungsten alloy, tungsten, and oxide ceramics, so that the thermal expansion coefficient of the mounting substrate is changed to the thermal expansion coefficient of each optical element. Since it can be approximated, it becomes possible to further reduce the thermal stress distortion at the time of soldering due to the difference in thermal expansion coefficient.

以下、本発明に係る光アイソレータの実施の形態について、図1〜図4を参照して詳細に説明する。図1は本発明の光アイソレータの外観を示す斜視図であり、図2は図1を矢印U方向から見たときの光アイソレータの平面図であり、図3は図1の光アイソレータの取り付け基板における光学素子設置面と反対側の面上に形成された半田接合が可能な金属膜層の平面形状の一例を示す平面図であり、図4は図3の半田接合が可能な金属膜層の中心点と、取り付け基板に対するファラデー回転子の設置面における中心位置との相対位置関係を示す概略斜視図である。なお、従来の光アイソレータ100と同一箇所には同一番号を付し、重複する説明は省略若しくは簡略化して記述する。   Hereinafter, embodiments of an optical isolator according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 is a perspective view showing the appearance of the optical isolator of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the optical isolator when FIG. 1 is viewed from the direction of arrow U, and FIG. 3 is a mounting substrate for the optical isolator of FIG. FIG. 4 is a plan view showing an example of a planar shape of a metal film layer that can be soldered and formed on a surface opposite to the optical element mounting surface in FIG. 4, and FIG. 4 is a plan view of the metal film layer that can be soldered in FIG. It is a schematic perspective view which shows the relative positional relationship of a center point and the center position in the installation surface of the Faraday rotator with respect to an attachment board | substrate. The same parts as those of the conventional optical isolator 100 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted or simplified.

取り付け基板4の一面4aには半田接合が可能なように金属膜層が成膜、形成される。光学素子設置面4aにおける金属膜層の形成領域は、少なくとも前記各光学素子及びマグネット3、3が設置される領域以上の大きさとする。   A metal film layer is formed and formed on one surface 4a of the mounting substrate 4 so that solder bonding is possible. The region where the metal film layer is formed on the optical element installation surface 4a is at least as large as the region where the optical elements and the magnets 3 and 3 are installed.

次に、偏光子1a、1b及びファラデー回転子2の側面(光学面を除く面)に半田接合が可能なように、スパッタリング法及びマスキング法を使用して図示しない金属膜層を形成させ、その上に蒸着法により図示しない半田層が形成される。   Next, a metal film layer (not shown) is formed using a sputtering method and a masking method so that solder bonding can be performed on the side surfaces (surfaces excluding the optical surface) of the polarizers 1a and 1b and the Faraday rotator 2. A solder layer (not shown) is formed thereon by vapor deposition.

偏光子1a、1bは平板状のガラス製偏光子であり、ガラス基板に誘電体粒子を内包するタイプや、ガラス基板上に誘電体を積層させるタイプ等があり、何れも偏光方向に対して直交する偏光方向の入射光を吸収・遮断する作用を有していて、例えばコーニング社製「商品名ポーラコア」などを用いることができる。   Polarizers 1a and 1b are flat glass polarizers, including a type in which dielectric particles are encapsulated in a glass substrate and a type in which dielectrics are laminated on a glass substrate, both of which are orthogonal to the polarization direction. For example, a “trade name polar core” manufactured by Corning Co., Ltd. can be used.

一方、ファラデー回転子2は、液相エピタキシャル成長法(LPE法)により作製したビスマス置換希土類鉄ガーネット等の単結晶板等が用いられ、光入射方向に飽和磁場が印加されている場合に、入射光の偏光方向を光軸回りに正確に45度回転させるために、光の進行方向に対して所定の厚さを有するように構成されている。   On the other hand, the Faraday rotator 2 uses a single crystal plate such as a bismuth-substituted rare earth iron garnet manufactured by a liquid phase epitaxial growth method (LPE method), and the incident light is applied when a saturation magnetic field is applied in the light incident direction. In order to rotate the polarization direction of the light exactly 45 degrees around the optical axis, it is configured to have a predetermined thickness with respect to the light traveling direction.

そして、取り付け基板4の面4a上に、光入射方向(図1、図2における矢印I方向)から順に、偏光子1a、ファラデー回転子2、偏光子1bの順でそれぞれの側面の1辺を基準として各光学素子が設置される。その際、各偏光子1a、1bは互いの偏光方向が相対的に45度異なるように配置される。更に、図2に示すように各光学素子は光入射方向に対して所定の傾き角θを有するように前記面4a上に設置される。傾き角θを有するように斜めに各光学素子が設置されることによって、各光学素子の光学面で反射した光がレーザダイオード光源に戻ることを防止できる。   Then, on the surface 4a of the mounting substrate 4, one side of each side surface is arranged in the order of the polarizer 1a, the Faraday rotator 2, and the polarizer 1b in order from the light incident direction (the direction of arrow I in FIGS. 1 and 2). Each optical element is installed as a reference. At that time, the polarizers 1a and 1b are arranged so that their polarization directions are relatively different from each other by 45 degrees. Further, as shown in FIG. 2, each optical element is installed on the surface 4a so as to have a predetermined inclination angle θ with respect to the light incident direction. By installing each optical element obliquely so as to have an inclination angle θ, it is possible to prevent light reflected by the optical surface of each optical element from returning to the laser diode light source.

次に、前記面4a上に各光学素子を配置した状態で、各光学素子及び取り付け基板4を電気炉内に挿入して、不活性気体中において、半田層の溶融温度以上の温度に加熱することにより各光学素子の側面に形成させた半田層が溶融して、取り付け基板4と各光学素子とが接合される。半田層が溶融している間、各光学素子には一定の荷重をかける。そして、半田層の溶融固化時に各光学素子(特にファラデー回転子2)と取り付け基板4との接合部で発生する、熱応力歪みによる光学素子の特性劣化を防止するために、溶融固化後は各光学素子及び取り付け基板4を共に室温まで徐々に冷却する。なお、不活性気体は還元雰囲気である窒素などが好ましい。   Next, in a state where the optical elements are arranged on the surface 4a, the optical elements and the mounting substrate 4 are inserted into an electric furnace and heated to a temperature equal to or higher than the melting temperature of the solder layer in an inert gas. As a result, the solder layer formed on the side surface of each optical element is melted, and the mounting substrate 4 and each optical element are joined. While the solder layer is melted, a certain load is applied to each optical element. In order to prevent deterioration of the characteristics of the optical element due to thermal stress distortion that occurs at the joint between each optical element (particularly the Faraday rotator 2) and the mounting substrate 4 when the solder layer is melted and solidified, Both the optical element and the mounting substrate 4 are gradually cooled to room temperature. The inert gas is preferably nitrogen that is a reducing atmosphere.

次に、直方体状のマグネット3、3の一面に湿式法により金属膜層を形成させると共に、その金属膜層上に更に半田層を形成させ、その後、前記面4a上にマグネット3、3を配置し、前記電気炉内で前記半田層を溶融させて取り付け基板4にマグネット3、3を接合させる。接合後にマグネット3、3を光入射方向と平行に着磁して、光アイソレータ1を得る。   Next, a metal film layer is formed on one surface of the rectangular magnets 3 and 3 by a wet method, and a solder layer is further formed on the metal film layer. Thereafter, the magnets 3 and 3 are disposed on the surface 4a. Then, the solder layer is melted in the electric furnace, and the magnets 3 and 3 are joined to the mounting substrate 4. After the joining, the magnets 3 and 3 are magnetized in parallel with the light incident direction to obtain the optical isolator 1.

マグネット3、3は、例えばサマリウムコバルト(Sm-Co)系マグネットやネオジ(Nd-Fe-B)系マグネット、フェライトマグネットなどを用いることができるが、特にサマリウムコバルト系マグネットは高い磁気特性が得られるため小型化に適しており、又、温度安定性及び対酸化性に優れているので最適である。   As the magnets 3 and 3, for example, a samarium cobalt (Sm-Co) -based magnet, a neodymium (Nd-Fe-B) -based magnet, a ferrite magnet, or the like can be used. In particular, a samarium-cobalt magnet has high magnetic characteristics. Therefore, it is suitable for downsizing, and is optimal because it is excellent in temperature stability and oxidation resistance.

又、取り付け基板4を構成する材料としては、フェライト系ステンレス鋼、オーステナイト系ステンレス鋼、銅タングステン合金、タングステン、酸化物セラミックスの何れか1つの材料が挙げられる。特に、塑性材料であるステンレス鋼SUS430(磁性材料)を使用することが望ましい。SUS430は非磁性材料ではないものの磁場の影響を受けにくく、又、前記各光学素子と非常に近似値の熱膨張係数を有することから光学素子を設置する基板材料として最適である。又、比較的熱膨張係数が大きい塑性材料のステンレス鋼SUS304(非磁性材料、熱膨張係数:約16×10-6/℃)も使用することができる。又、低い熱膨張係数を有する材料で上記ステンレス鋼以外の塑性材料として、タングステン鋼やタングステン合金(例えばCu20W80)なども好適である。又、脆性材料であるジルコニアセラミックス、アルミナセラミックス等の酸化物セラミックスを使用しても良い。特にジルコニアセラミックスは、高靱性、高剛性及び高強度、高候性であり、かつ熱的環境変化に強く、更に、その熱膨張係数(9.2×10-6/℃)が偏光子1a、1bとファラデー回転子2の熱膨張係数の中間の値であるため望ましい。 Moreover, as a material which comprises the attachment board | substrate 4, any one material of ferritic stainless steel, austenitic stainless steel, copper tungsten alloy, tungsten, and oxide ceramics is mentioned. In particular, it is desirable to use stainless steel SUS430 (magnetic material) which is a plastic material. Although SUS430 is not a non-magnetic material, it is not easily affected by a magnetic field and has a thermal expansion coefficient that is very close to that of each of the optical elements. Therefore, SUS430 is optimal as a substrate material for installing the optical elements. Also, stainless steel SUS304 (nonmagnetic material, thermal expansion coefficient: about 16 × 10 −6 / ° C.), which is a plastic material having a relatively large thermal expansion coefficient, can be used. Further, tungsten steel, tungsten alloy (for example, Cu20W80) or the like is also suitable as a plastic material other than the stainless steel having a low thermal expansion coefficient. Further, oxide ceramics such as zirconia ceramics and alumina ceramics which are brittle materials may be used. In particular, zirconia ceramics have high toughness, high rigidity, high strength, and high weatherability, and are resistant to changes in the thermal environment. Furthermore, their thermal expansion coefficients (9.2 × 10 -6 / ° C) are polarizers 1a and 1b. This is desirable because it is an intermediate value of the thermal expansion coefficient of the Faraday rotator 2.

前記金属膜層の構成としては、Cr/Pt/Auの3層から成るものが好適である。第1層に形成するCr層は、光学素子との密着力を確保するために形成され、第2層に形成されるPt層は、前記半田層の拡散を防止するために形成される。そして、第3層に形成されるAu層は、半田層の濡れ性を促進させ、半田層に対する接合層を形成し、安定した半田付けが可能となる。なお、金属膜層は十分な密着強度を確保することができれば良いので、Cr/Pt/Auに限らずCr/Ni/AuやTi/Pt/Au等の別構成の金属膜層を用いても良い。又、Ni/Auの金属膜層であっても構わない。   The metal film layer is preferably composed of three layers of Cr / Pt / Au. The Cr layer formed in the first layer is formed in order to ensure adhesion with the optical element, and the Pt layer formed in the second layer is formed in order to prevent diffusion of the solder layer. The Au layer formed on the third layer promotes the wettability of the solder layer, forms a bonding layer for the solder layer, and enables stable soldering. Note that the metal film layer only needs to be able to ensure sufficient adhesion strength, so not only Cr / Pt / Au but also a metal film layer of another configuration such as Cr / Ni / Au or Ti / Pt / Au may be used. good. Alternatively, a Ni / Au metal film layer may be used.

又、前記半田層には、例えばAu/Snを用いることが可能であり、蒸着法により成膜形成されるAu/Sn膜は、蒸着材料であるAu/Sn共晶半田(80%/20%)の融点(280度)とほぼ同じである。そして、厚みは約5μmに設定する。なお、半田層はAu/Snに限らず、Au/Snより溶融温度が高い半田層としてAu/Ge等の別の組成の共晶半田材料を用いることも可能である。なお、前記半田層に代わって半田泊を前記金属膜層上で溶融固化させ、各光学素子及びマグネット3、3を前記面4a上に接合しても良い。   Further, for example, Au / Sn can be used for the solder layer, and the Au / Sn film formed by vapor deposition is Au / Sn eutectic solder (80% / 20%) which is a vapor deposition material. ) Melting point (280 degrees). The thickness is set to about 5 μm. The solder layer is not limited to Au / Sn, and a eutectic solder material having another composition such as Au / Ge may be used as a solder layer having a melting temperature higher than that of Au / Sn. In place of the solder layer, a solder stay may be melted and solidified on the metal film layer, and the optical elements and the magnets 3 and 3 may be bonded onto the surface 4a.

なお、偏光子1a、1bとファラデー回転子2の両光学面には、各光学素子間に介在する空気層と各光学素子との屈折率差によって生ずるフレネル反射を防止し、光アイソレータ1への光挿入損失を低減させるために、対空気層用の無反射コート(図示せず)を施しておくことが望ましい。   The optical surfaces of the polarizers 1a and 1b and the Faraday rotator 2 prevent Fresnel reflection caused by the refractive index difference between the air layer interposed between the optical elements and the optical elements. In order to reduce optical insertion loss, it is desirable to apply a non-reflective coating (not shown) for the air layer.

次に、光学素子設置面4aと反対側の取り付け基板4の面4b上には、図3に示すように面4bの全領域のうちの部分的な領域のみにおいて、半田接合が可能な金属膜層6がその平面形状を円形状とするように形成される。それ以外の面4b上の領域は前記金属膜層6が形成されないため、半田接合が可能な金属膜層を有しない非形成領域としてそのまま残存される。   Next, on the surface 4b of the mounting substrate 4 opposite to the optical element installation surface 4a, as shown in FIG. 3, a metal film that can be soldered only in a partial region of the entire region of the surface 4b. The layer 6 is formed so that its planar shape is circular. Since the metal film layer 6 is not formed in the other region on the surface 4b, the region 4b remains as a non-formed region having no metal film layer that can be soldered.

前記金属膜層6の円形状における中心点Clと、取り付け基板4に対するファラデー回転子2の設置面2aにおける中心位置Cfとは、図4に示すように垂直方向においてほぼ同一線上に来るように位置決め対応される。   The center point Cl in the circular shape of the metal film layer 6 and the center position Cf on the installation surface 2a of the Faraday rotator 2 with respect to the mounting substrate 4 are positioned so as to be substantially on the same line in the vertical direction as shown in FIG. Corresponding.

そして、光アイソレータ1は、前記金属膜層6と対向するように取り付け基板4と、図6に示すような設置用装置(取り付け台5)との間に、図示しない半田材を配置させて設置用装置に設置される。その後、光アイソレータ1及び設置用装置が局所的に加熱されることにより図示しない半田材が加熱されて溶融固化して、光アイソレータ1が設置用装置に接合される。   The optical isolator 1 is installed by disposing a solder material (not shown) between the mounting substrate 4 and the installation device (mounting base 5) as shown in FIG. 6 so as to face the metal film layer 6. It is installed in the equipment. Thereafter, the optical isolator 1 and the installation apparatus are locally heated, whereby a solder material (not shown) is heated and melted and solidified, and the optical isolator 1 is joined to the installation apparatus.

以上のように、面4b上に形成する半田接合が可能な金属膜層6を、面4bの全領域に亘らせず、部分的な形状及び領域に限定することにより、取り付け基板4と設置用装置の材料が異なり、互いの熱膨張係数差に開きがあったとしても、取り付け基板4を設置用装置に半田接合する際にファラデー回転子2に生ずる熱応力歪みを低減させることが可能となる。従って、設置用装置に接合後であっても逆方向損失の低減が抑制され光学特性の安定した光アイソレータを実現することができる。   As described above, the metal film layer 6 that can be soldered and formed on the surface 4b is not extended over the entire area of the surface 4b, but limited to a partial shape and area, so that the mounting board 4 and the metal substrate layer 6 are installed. Even if there is a difference in the coefficient of thermal expansion between the materials used for the installation device, it is possible to reduce the thermal stress distortion generated in the Faraday rotator 2 when the mounting substrate 4 is soldered to the installation device. Become. Accordingly, it is possible to realize an optical isolator with suppressed optical loss and stable optical characteristics even after being joined to the installation apparatus.

次に、図1に示す本発明に係る光アイソレータ1と、比較のため図5に示す従来の光アイソレータ100とを製作し、その逆方向損失の特性比較を行った。なお、本実施例では、取り付け基板4の面4b上における半田接合が可能な金属膜層6領域の面積変化に伴う光アイソレータの逆方向損失の特性比較を行うことを目的とするため、光アイソレータ1と光アイソレータ100との構成上の相違点は前記面積変化のみとしている。従って、それ以外の相違点である、前記傾き角θの有無については光アイソレータ100の構成に合わせた。   Next, the optical isolator 1 according to the present invention shown in FIG. 1 and the conventional optical isolator 100 shown in FIG. 5 for comparison were manufactured, and the characteristics of the reverse loss were compared. The purpose of this embodiment is to compare the characteristics of the reverse loss of the optical isolator accompanying the change in the area of the metal film layer 6 region that can be soldered on the surface 4b of the mounting substrate 4. The only difference in configuration between the optical isolator 1 and the optical isolator 100 is the area change. Therefore, the presence or absence of the tilt angle θ, which is another difference, is matched to the configuration of the optical isolator 100.

まず、光アイソレータ1の構成について説明する。取り付け基板4にはステンレス鋼SUS430(熱膨張係数:約10.4×10-6/℃)を用い、厚さ0.25mmの平板を幅3.5mm×奥行き2.0mmに切り出して形成した。そして取り付け基板4の表面上に半田接合が可能なNi/Auメッキの金属膜層を湿式法により形成させる。その際、光学素子設置面4a上には前記Ni/Auメッキの金属膜層を全領域に亘って形成させ、一方の光学素子設置面4aと反対側の取り付け基板の表面4bには、φ1.7mmの円形状に前記Ni/Auメッキの金属膜層6を形成させ、φ1.7mmの円形状以外の同表面上にはNiメッキのみ残存するように、マスキング法を用いてシアン化カリウム溶液によりエッチングを行った。 First, the configuration of the optical isolator 1 will be described. Stainless steel SUS430 (coefficient of thermal expansion: about 10.4 × 10 −6 / ° C.) was used as the mounting substrate 4 and a flat plate having a thickness of 0.25 mm was cut into a width of 3.5 mm and a depth of 2.0 mm. Then, a Ni / Au plated metal film layer capable of soldering is formed on the surface of the mounting substrate 4 by a wet method. At that time, the Ni / Au plated metal film layer is formed over the entire area on the optical element installation surface 4a, and on the surface 4b of the mounting substrate opposite to the one optical element installation surface 4a, φ1. Etching with a potassium cyanide solution using a masking method so that the Ni / Au plated metal film layer 6 is formed in a 7 mm circular shape and only the Ni plating remains on the same surface other than the φ1.7 mm circular shape. went.

次に、偏光方向が45度相互に異なるように設定された2枚の偏光子1a、1b(いずれも1.0mm角、厚さ0.2mm)と、45度ファラデー回転子2(1.0mm角、厚さ0.45mm)を用意し、これら各光学素子の側面上にCr/Pt/Auの金属膜層をマスキング法及びスパッタリング法を併用して形成させた。又、直方体状のマグネット3、3を用意し、その一面に湿式法によりNi/Auの金属膜層を形成して、半田付けが可能な状態とする。次に、これら各光学素子及びマグネット3、3を面4a上に配置させて一体化させ、その後マグネット3、3を着磁して光アイソレータ1を製作した。   Next, two polarizers 1a and 1b (both 1.0 mm square and 0.2 mm thick) and 45 degrees Faraday rotator 2 (1.0 mm square and thick) whose polarization directions are set to be 45 degrees different from each other 0.45 mm) was prepared, and a Cr / Pt / Au metal film layer was formed on the side surfaces of these optical elements by using a masking method and a sputtering method in combination. In addition, rectangular parallelepiped magnets 3 and 3 are prepared, and a Ni / Au metal film layer is formed on one surface thereof by a wet method so that soldering is possible. Next, these optical elements and magnets 3 and 3 were arranged on the surface 4a and integrated, and then the magnets 3 and 3 were magnetized to produce the optical isolator 1.

一方、従来の光アイソレータ100の構成について説明する。光アイソレータ100と前記光アイソレータ1との構成上の相違点は、面4b上における半田接合が可能なNi/Auメッキの金属膜層6の形成領域の面積だけである。光アイソレータ100における面4b上でのNi/Auメッキの金属膜層6の形成領域は、面4b上の全領域に亘らせるものとする。その他の構成は同一なので記述を省略する。   Meanwhile, the configuration of the conventional optical isolator 100 will be described. The difference in configuration between the optical isolator 100 and the optical isolator 1 is only the area of the Ni / Au plated metal film layer 6 that can be soldered on the surface 4b. The formation region of the Ni / Au plating metal film layer 6 on the surface 4b in the optical isolator 100 is assumed to extend over the entire region on the surface 4b. Since other configurations are the same, description thereof is omitted.

なお、マグネット3、3は寸法が幅0.85mm×奥行き2.0mm×高さ1.4mmである、サマリウムコバルトマグネットを用いた。   Magnets 3 and 3 were samarium cobalt magnets having dimensions of 0.85 mm width × 2.0 mm depth × 1.4 mm height.

以上のようにして製作した光アイソレータ1及び光アイソレータ100について、まず設置用装置に接合する前の光アイソレータ単体における逆方向損失のピーク値(評価波長範囲1550nm±30nm)を室温にて評価した。   For the optical isolator 1 and the optical isolator 100 manufactured as described above, first, the peak value (evaluation wavelength range 1550 nm ± 30 nm) of the reverse loss in the optical isolator alone before being bonded to the installation device was evaluated at room temperature.

その結果、逆方向損失のピーク値は、本発明に係る光アイソレータ1では43.0dBであり、従来の光アイソレータ100では44.2dBであった。   As a result, the peak value of the reverse loss was 43.0 dB in the optical isolator 1 according to the present invention, and 44.2 dB in the conventional optical isolator 100.

次に、2つの光アイソレータを、図6に示すような設置用装置の一例である取り付け台5に固定した上で、それぞれの逆方向損失のピーク値を測定した。まず、取り付け台5として、Fe-Ni-Co合金「商品名コバール」(熱膨張係数:約4.5×10-6/℃)を幅4.0mm×奥行き2.5mm×厚さ0.25mmの平板状に切り出したものを2個用意し、取り付け台5の片面5aに金属膜層及び半田層を成膜形成した。そして、片面5a上に光アイソレータ1又は光アイソレータ100を半田接合した後に、評価波長範囲1550nm±30nmにおいて逆方向損失のピーク値を室温にて評価した。 Next, after fixing two optical isolators to the mounting base 5 as an example of the installation apparatus as shown in FIG. 6, the peak value of each reverse loss was measured. First, as the mounting base 5, an Fe-Ni-Co alloy "trade name Kovar" (coefficient of thermal expansion: approx. 4.5 x 10-6 / ° C) is cut into a flat plate with a width of 4.0mm x depth of 2.5mm x thickness of 0.25mm. Two pieces were prepared, and a metal film layer and a solder layer were formed on one surface 5 a of the mounting base 5. Then, after the optical isolator 1 or the optical isolator 100 was soldered on the one surface 5a, the peak value of the reverse loss was evaluated at room temperature in the evaluation wavelength range of 1550 nm ± 30 nm.

その結果、逆方向損失のピーク値は、本発明に係る光アイソレータ1では43.0dBであり、従来の光アイソレータ100では32.3dBであった。   As a result, the peak value of the reverse loss was 43.0 dB in the optical isolator 1 according to the present invention, and 32.3 dB in the conventional optical isolator 100.

以上から、本発明に係る光アイソレータ1は、配置用装置との半田接合面積を限定することにより、光アイソレータの取り付け基板の熱膨張係数と異なる熱膨張係数を有する材料から成る配置用装置との半田接合が行われたとしても逆方向損失の低減が防止され光学特性が安定していることが判明した。   From the above, the optical isolator 1 according to the present invention is a device with a placement device made of a material having a thermal expansion coefficient different from that of the mounting substrate of the optical isolator by limiting the solder joint area with the placement device. It has been found that even if solder bonding is performed, the reverse loss is prevented from being reduced and the optical characteristics are stable.

更に、光アイソレータ1は、面4b上に形成される半田接合が可能な金属膜層の平面形状を円形状とし、その円形状の中心点Clを取り付け基板4に対するファラデー回転子2の設置面2aにおける中心位置Cfに対応させて形成されるため、ファラデー回転子2に加わる熱応力の方向を、中心位置Cfを起点とした同心円状に等方向とすることができた。従って、熱応力を等方向に円状に同等の大きさを以て均等にファラデー回転子に加えられるため、ファラデー回転子2への半田接合に伴う熱応力歪みの影響が見られていないことも判明した。   Further, in the optical isolator 1, the planar shape of the solderable metal film layer formed on the surface 4b is circular, and the center point Cl of the circular shape is attached to the mounting substrate 4 on the installation surface 2a of the Faraday rotator 2 Therefore, the direction of the thermal stress applied to the Faraday rotator 2 can be made concentric and equidistant from the center position Cf. Therefore, it was also found that the thermal stress was applied to the Faraday rotator evenly in the same direction and circularly in the same direction, so that the influence of the thermal stress strain accompanying the solder joint to the Faraday rotator 2 was not observed. .

なお、上記実施の形態及び実施例では、1段型(偏光子2枚及び45度ファラデー回転子1枚)の光アイソレータの構成を例に取って説明したが、本発明はこの構成に限定されずいわゆる1.5段型(偏光子3枚及び45度ファラデー回転子2枚)であっても良いし、2段型(偏光子4枚及びファラデー回転子2枚)の光アイソレータであっても上記実施の形態及び実施例と同様の効果を得ることが出来る。   In the above-described embodiments and examples, the configuration of the single-stage type (two polarizers and one 45-degree Faraday rotator) optical isolator has been described as an example, but the present invention is limited to this configuration. The above implementation is possible even for a so-called 1.5-stage type (3 polarizers and 2 45 degree Faraday rotators) or a 2-stage type (4 polarizers and 2 Faraday rotators) optical isolator. The same effects as those of the embodiment and the embodiment can be obtained.

本発明の光アイソレータを光通信システム等に用いられる光通信モジュール、半導体レーザモジュール、光増幅器等のパッシブ光デバイスに利用することにより、レーザダイオード光源への戻り光の防止や、光増幅器内部での光の共振の発生を防止することができる。   By using the optical isolator of the present invention for passive optical devices such as optical communication modules, semiconductor laser modules, and optical amplifiers used in optical communication systems, it is possible to prevent return light to the laser diode light source, Generation of light resonance can be prevented.

本発明の光アイソレータの外観を示す斜視図。The perspective view which shows the external appearance of the optical isolator of this invention. 図1を矢印U方向から見たときの光アイソレータの平面図。The top view of an optical isolator when FIG. 1 is seen from the arrow U direction. 図1の光アイソレータの取り付け基板における光学素子設置面と反対側の面上に形成された半田接合が可能な金属膜層の平面形状の一例を示す平面図。The top view which shows an example of the planar shape of the metal film layer which can be soldered and formed on the surface on the opposite side to the optical element installation surface in the attachment board | substrate of the optical isolator of FIG. 図3の半田接合が可能な金属膜層の中心点と、取り付け基板に対するファラデー回転子の設置面における中心位置との相対位置関係を示す概略斜視図。FIG. 4 is a schematic perspective view showing a relative positional relationship between the center point of the metal film layer capable of soldering in FIG. 3 and the center position on the installation surface of the Faraday rotator with respect to the mounting substrate. 従来の光アイソレータの一例を示す斜視図。The perspective view which shows an example of the conventional optical isolator. 光アイソレータと設置用装置との接合状態を示す斜視図。The perspective view which shows the joining state of an optical isolator and the apparatus for installation.

符号の説明Explanation of symbols

1 光アイソレータ
1a、1b 偏光子
2 ファラデー回転子
3 マグネット
4 取り付け基板
5 取り付け台
6 半田接合が可能な金属膜層
1 Optical isolator
1a, 1b Polarizer 2 Faraday rotator 3 Magnet 4 Mounting board 5 Mounting base 6 Metal film layer that can be soldered

Claims (2)

2枚の偏光子と1枚のファラデー回転子の各光学素子が取り付け基板の面上に設置されて成る光アイソレータにおいて、
取り付け基板の光学素子設置面と反対側の取り付け基板の面上に半田接合が可能な金属膜層が部分的な領域にのみ形成されることによって、前記反対側の取り付け基板の面上に半田接合が可能な金属膜層を有しない非形成領域が残存され、
更に、前記金属膜層の平面形状が円形状であり、その中心点が前記取り付け基板に対する前記ファラデー回転子の設置面における中心位置に対応され、
更に、前記金属膜層と対向するように半田材を配置させて前記光アイソレータの設置用装置に設置されると共に、前記半田材が加熱されることにより前記設置用装置に接合されることを特徴とする光アイソレータ。
In an optical isolator in which each optical element of two polarizers and one Faraday rotator is installed on the surface of a mounting substrate,
Solder bonding is performed on the surface of the mounting substrate on the opposite side by forming a metal film layer that can be soldered only on a partial area on the surface of the mounting substrate on the side opposite to the optical element mounting surface of the mounting substrate A non-formed region that does not have a metal film layer capable of
Furthermore, the planar shape of the metal film layer is circular, and the center point thereof corresponds to the center position on the installation surface of the Faraday rotator with respect to the mounting substrate,
Further, a solder material is disposed so as to face the metal film layer and is installed in the optical isolator installation device, and the solder material is heated to be joined to the installation device. An optical isolator.
請求項1に記載の光アイソレータにおいて、前記取り付け基板がフェライト系ステンレス
鋼、オーステナイト系ステンレス鋼、銅タングステン合金、タングステン、酸化物セラミ
ックスの何れか1つの材料から成ることを特徴とする光アイソレータ。
2. The optical isolator according to claim 1 , wherein the mounting substrate is made of any one material of ferritic stainless steel, austenitic stainless steel, copper tungsten alloy, tungsten, and oxide ceramics.
JP2003302734A 2003-08-27 2003-08-27 Optical isolator Expired - Fee Related JP4491530B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003302734A JP4491530B2 (en) 2003-08-27 2003-08-27 Optical isolator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003302734A JP4491530B2 (en) 2003-08-27 2003-08-27 Optical isolator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005070613A JP2005070613A (en) 2005-03-17
JP4491530B2 true JP4491530B2 (en) 2010-06-30

Family

ID=34406936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003302734A Expired - Fee Related JP4491530B2 (en) 2003-08-27 2003-08-27 Optical isolator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4491530B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109683218B (en) * 2018-01-25 2022-02-15 苏州旭创科技有限公司 Optical element, optical module, and method for manufacturing the same
CN113900286B (en) * 2021-10-11 2024-03-29 光炬科技(深圳)有限责任公司 Manufacturing method of SMT type optical isolator

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005070613A (en) 2005-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4491530B2 (en) Optical isolator
JP4403239B2 (en) Optical isolator
US6462872B2 (en) Optical isolator
JPH10227996A (en) Optical isolator
JP4325839B2 (en) Optical isolator
JP4540155B2 (en) Optical isolator
JP4456223B2 (en) Optical isolator
JP2020194149A (en) Optical element, manufacturing method thereof, optical isolator, and optical transmission device
JP3990088B2 (en) Optical isolator
JP4683916B2 (en) Optical isolator
JP2000241765A (en) Faraday rotator and optical isolator
JP2005215328A (en) Optical isolator
JP2003222824A (en) Optical isolator
JP2003005131A (en) Optical isolator
JP2003315736A (en) Optical isolator
JP4683852B2 (en) Optical isolator
JP2002341290A (en) Optical isolator, optical connector equipped with the same, and laser light source unit
JP3347198B2 (en) Fabrication method of optical isolator
JP2006267434A (en) Optical isolator and manufacturing method thereof
JP3267711B2 (en) Optical isolator
JP3100213B2 (en) Optical isolator
JP2538914Y2 (en) Optical isolator
JPH089702Y2 (en) Optical isolator
JP2001004958A (en) Optical isolator
JP4666931B2 (en) Optical isolator

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060828

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070827

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090724

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091026

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100118

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4491530

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees