JP4488236B2 - Magnetic recording medium manufacturing method and magnetic recording / reproducing apparatus - Google Patents

Magnetic recording medium manufacturing method and magnetic recording / reproducing apparatus Download PDF

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Description

本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置に関するものである。   The present invention relates to a magnetic recording medium used in a hard disk device or the like, a manufacturing method thereof, and a magnetic recording / reproducing apparatus.

近年、磁気ディスク装置、フレキシブルディスク装置、磁気テープ装置等の磁気記録装置の適用範囲は著しく増大されその重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特にMRヘッド、およびPRML技術の導入以来面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらにGMRヘッド、TMRヘッドなども導入され1年に約100%ものペースで増加を続けている。これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、そのために磁気記録層の高保磁力化と高信号対雑音比(SNR)、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。   In recent years, the application range of magnetic recording devices such as magnetic disk devices, flexible disk devices, and magnetic tape devices has been remarkably increased and their importance has increased, and the recording density of magnetic recording media used in these devices has been significantly improved. It is being planned. In particular, since the introduction of MR heads and PRML technology, the increase in surface recording density has become more intense. In recent years, GMR heads, TMR heads, etc. have been further introduced and have been increasing at a rate of about 100% per year. For these magnetic recording media, it is required to achieve higher recording density in the future. For this purpose, it is required to achieve higher coercivity, high signal-to-noise ratio (SNR), and higher resolution of the magnetic recording layer. Has been. In recent years, efforts have been made to increase the surface recording density by increasing the track density as well as improving the linear recording density.

最新の磁気記録装置においてはトラック密度110kTPIにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となりSNRを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのままBit Error rateの低下につながるため記録密度の向上に対して障害となっている。   In the latest magnetic recording apparatus, the track density has reached 110 kTPI. However, as the track density is increased, magnetic recording information between adjacent tracks interfere with each other, and the problem that the magnetization transition region in the boundary region becomes a noise source and the SNR is easily lost. This directly leads to a decrease in Bit Error rate, which is an obstacle to improving the recording density.

面記録密度を上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、1ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。   In order to increase the surface recording density, it is necessary to make the size of each recording bit on the magnetic recording medium finer and ensure as much saturation magnetization and magnetic film thickness as possible for each recording bit. However, when the recording bits are miniaturized, the minimum magnetization volume per bit becomes small, and there arises a problem that the recording data is lost due to magnetization reversal due to thermal fluctuation.

また、トラック間距離が近づくために、磁気記録装置は極めて高精度のトラックサーボ技術を要求されると同時に、記録を幅広く実行し、再生は隣接トラックからの影響をできるだけ排除するために記録時よりも狭く実行する方法が一般的に用いられている。この方法ではトラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難であり、そのために十分なSNRを確保することがむずかしいという問題がある。   In addition, since the distance between tracks is getting closer, magnetic recording devices are required to have extremely high precision track servo technology. At the same time, recording is performed widely, and playback is performed more than when recording to eliminate the influence of adjacent tracks as much as possible. In general, a method of narrowly executing is used. Although this method can minimize the influence between tracks, there is a problem that it is difficult to obtain a sufficient reproduction output, and it is difficult to secure a sufficient SNR.

このような熱揺らぎの問題やSNRの確保、あるいは十分な出力の確保を達成する方法の一つとして、記録媒体表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによって製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と呼ぶ。   As one of the methods for achieving such a problem of thermal fluctuation, ensuring SNR, or ensuring sufficient output, forming irregularities along the tracks on the surface of the recording medium and physically separating the recording tracks. Attempts have been made to increase the track density. Such a technique is hereinafter referred to as a discrete track method, and a magnetic recording medium manufactured thereby is referred to as a discrete track medium.

ディスクリートトラック媒体の一例として、表面に凹凸パターンを形成した非磁性基板に磁気記録媒体を形成して、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなる磁気記録媒体が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   As an example of a discrete track medium, a magnetic recording medium is known in which a magnetic recording medium is formed on a non-magnetic substrate having a concavo-convex pattern formed on a surface, and a magnetic recording track and a servo signal pattern that are physically separated are formed. (For example, refer to Patent Document 1).

この磁気記録媒体は、表面に複数の凹凸のある基板の表面に軟磁性層を介して強磁性層が形成されており、その表面に保護膜を形成したものである。この磁気記録媒体では、凸部領域に周囲と磁気的に分断された磁気記録領域が形成されている。   In this magnetic recording medium, a ferromagnetic layer is formed on a surface of a substrate having a plurality of irregularities on the surface via a soft magnetic layer, and a protective film is formed on the surface. In this magnetic recording medium, a magnetic recording area magnetically separated from the surroundings is formed in the convex area.

この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。   According to this magnetic recording medium, the occurrence of a domain wall in the soft magnetic layer can be suppressed, so that the influence of thermal fluctuation is difficult to occur, and there is no interference between adjacent signals, so that a high-density magnetic recording medium with less noise can be formed. ing.

ディスクリートトラック法には、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法と、あらかじめ基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法とがある(例えば、特許文献2,特許文献3参照。)。このうち、前者の方法は、しばしば磁気層加工型とよばれ、表面に対する物理的加工が媒体形成後に実施されるため、媒体が製造工程において汚染されやすいという欠点がありかつ製造工程が非常に複雑であった。一方で、後者はしばしばエンボス加工型とよばれ、製造工程中の汚染はしにくいが基板に形成された凹凸形状が成膜された膜にも引き継がれることになるため、媒体上を浮上しながら記録再生を行う記録再生ヘッドの浮上姿勢、浮上高さが安定しないという問題点があった。
特開2004−164692号公報 特開2004−178793号公報 特開2004−178794号公報
The discrete track method includes a method in which a track is formed after a magnetic recording medium consisting of several thin films is formed, and a magnetic pattern is formed after a concave / convex pattern is formed directly on the substrate surface in advance or on a thin film layer for track formation. There is a method of forming a thin film of a recording medium (see, for example, Patent Document 2 and Patent Document 3). Among these, the former method is often called a magnetic layer processing type, and since physical processing on the surface is performed after the medium is formed, there is a drawback that the medium is easily contaminated in the manufacturing process, and the manufacturing process is very complicated. Met. On the other hand, the latter is often referred to as an embossing die, and it is difficult to contaminate during the manufacturing process, but the uneven shape formed on the substrate is inherited by the film on which the film is formed. There has been a problem that the flying posture and flying height of a recording / reproducing head for recording / reproducing are not stable.
JP 2004-164692 A JP 2004-178793 A JP 2004-178794 A

エンボス加工型製造法では、基板に凹凸形状を形成し、その上に磁性層、保護層を形成するためその表面にそのまま凹凸形状が引き継がれ平坦な表面を実現するのは容易ではない。   In the embossing type manufacturing method, a concavo-convex shape is formed on a substrate, and a magnetic layer and a protective layer are formed thereon, so that it is not easy to realize a flat surface by taking over the concavo-convex shape as it is.

一方、磁気層加工型によるディスクリートトラック型磁気記録媒体は、基板表面に記録用の磁性層を形成し、その後磁気的パターンを形成するため、半導体などで利用されているインプリント法によりパターン形成した後に非磁性部となるべき部分をたとえばドライエッチングして、その後SiOやカーボン非磁性材料を埋めこみ、表面を平坦化処理してさらにその表面を保護膜層で覆ったうえ、潤滑層を形成した構造を有している。このような磁気エッチング型ディスクリートトラック媒体は、製造工程が複雑で、汚染の原因になるばかりでなく、平坦な表面を実現できない。 On the other hand, in the discrete track type magnetic recording medium by the magnetic layer processing type, a magnetic layer for recording is formed on the surface of the substrate, and then a magnetic pattern is formed, so that the pattern is formed by an imprint method used in a semiconductor or the like. A portion that should become a nonmagnetic portion later is dry etched, for example, and thereafter SiO 2 or a carbon nonmagnetic material is embedded, the surface is flattened, and the surface is further covered with a protective film layer, and a lubricating layer is formed. It has a structure. Such a magnetic etching type discrete track medium not only has a complicated manufacturing process and causes contamination, but also cannot realize a flat surface.

一般に このような構造の磁気記録媒体では、保護膜層が薄くなるほどヘッドと磁性層との距離が短くなるため、ヘッドでの信号の出入力が大きくなり、記録密度も高めることができる。また、トラック内のピット密度は凹凸状の保護膜層表面を走るヘッドの浮上高さにより定まる。従って、いかにして安定したヘッド浮上を保つかは、高記録密度を達成するためには重要な課題である。従って、安定したヘッド浮上を保ちつつ、ヘッドをなるべく磁性層に近接させて、しかも隣接するトラックとの信号の相互干渉を防ぐような凹凸パターンが求められる。   In general, in a magnetic recording medium having such a structure, the thinner the protective film layer, the shorter the distance between the head and the magnetic layer, so that the input / output of signals at the head increases and the recording density can be increased. The pit density in the track is determined by the flying height of the head running on the surface of the uneven protective film layer. Therefore, how to maintain stable head flying is an important issue for achieving high recording density. Therefore, there is a need for a concavo-convex pattern that keeps the head flying as close as possible and makes the head as close as possible to the magnetic layer and prevents mutual interference of signals with adjacent tracks.

しかし、製造工程で汚染のリスクが少なく、かつ表面が平坦になるディスクリートトラック媒体の製造技術はいまだ 提案されていない。   However, there has not yet been proposed a technique for manufacturing a discrete track medium with a low risk of contamination in the manufacturing process and a flat surface.

本発明は、トラック密度の増加に伴い、技術的困難に直面している磁気記録装置におい
て、従来と同等以上の記録再生特性を確保しつつ、トラック密度を大幅に増加させ、しい
ては面記録密度を増加させようとするものである。特に、基板上に磁性層を成膜したのちに凹凸を形成するディスクリートトラック型磁気記録媒体において、従来の磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。
The present invention significantly increases the track density while maintaining the same or better recording / reproducing characteristics in a magnetic recording apparatus that is facing technical difficulties as the track density increases. It is to increase the density. In particular, in a discrete track type magnetic recording medium in which irregularities are formed after forming a magnetic layer on a substrate, the manufacturing process is greatly simplified by eliminating the magnetic layer removal step compared to the conventional magnetic layer processing type. And a useful discrete track type magnetic recording medium having excellent head flying characteristics and a low manufacturing risk.

上記課題を解決するため、本願発明者は鋭意努力研究した結果、本願発明に到達した。すなわち本発明は以下に関する。
(1)非磁性基板の少なくとも一方の表面に、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなるディスクリートトラック型の磁気記録媒体であって、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン部を物理的に分離することを目的とする非磁性部がSiを含む非磁性合金であることを特徴とする磁気記録媒体。
(2)表面粗さが、0.1nm≦Ra≦2.0nmの範囲内であることを特徴とする(1)に記載の磁気記録媒体。
(3)磁気記録トラックが垂直磁気記録トラックであることを特徴とする(1)または(2)の磁気記録媒体。
(4)非磁性基板の少なくとも一方の表面に、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなるディスクリートトラック型の磁気記録媒体の製造方法であって、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン部を物理的に分離することを目的とする非磁性部をSiを含む非磁性合金で形成し、該非磁性合金を形成するにあたり、磁性層上にSiを成膜した後、加熱もしくは、不活性イオンをSi表面に照射することにより、磁性層にSiを拡散させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(5)(1)〜(3)の何れか1項に記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせて具備してなることを特徴とする磁気記録再生装置。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has intensively studied to arrive at the present invention. That is, the present invention relates to the following.
(1) A discrete track type magnetic recording medium in which a physically separated magnetic recording track and a servo signal pattern are formed on at least one surface of a nonmagnetic substrate, wherein the magnetic recording track and the servo signal pattern portion are A magnetic recording medium, wherein the nonmagnetic part intended to be physically separated is a nonmagnetic alloy containing Si.
(2) The magnetic recording medium according to (1), wherein the surface roughness is in a range of 0.1 nm ≦ Ra ≦ 2.0 nm.
(3) The magnetic recording medium according to (1) or (2), wherein the magnetic recording track is a perpendicular magnetic recording track.
(4) A method of manufacturing a discrete track type magnetic recording medium in which a physically separated magnetic recording track and a servo signal pattern are formed on at least one surface of a nonmagnetic substrate, wherein the magnetic recording track and the servo signal The non-magnetic part intended to physically separate the pattern part is formed of a non-magnetic alloy containing Si. In forming the non-magnetic alloy, after forming Si on the magnetic layer, heating or A method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that Si is diffused in a magnetic layer by irradiating the surface of Si with active ions.
(5) The magnetic recording medium according to any one of (1) to (3), a drive unit that drives the magnetic recording medium in a recording direction, a magnetic head including a recording unit and a reproducing unit, and a magnetic head And a recording / reproducing signal processing means for reproducing a signal input to the magnetic head and reproducing an output signal from the magnetic head. Playback device.

本発明によれば、磁性層加工型ディスクリートトラック磁気記録媒体において、ヘッド浮上の安定性を確保できて、優れたトラック分離性能を有し、隣接トラック間の信号干渉の影響を受けず、高記録密度特性に優れた磁気記録媒体を供することができる。また、従来非常に製造工程が複雑とされてきた磁性層加工型の磁性層除去のためのドライエッチング工程を省くことができるため、生産性向上に大きく寄与できる。   According to the present invention, in a magnetic layer processed type discrete track magnetic recording medium, the head flying stability can be secured, the track separation performance is excellent, the signal interference between adjacent tracks is not affected, and the high recording A magnetic recording medium having excellent density characteristics can be provided. In addition, since the dry etching process for removing the magnetic layer of the magnetic layer processing type, which has heretofore been very complicated in manufacturing process, can be omitted, it can greatly contribute to the improvement of productivity.

また、本発明の磁気記録再生装置は、本発明の磁気記録媒体を使用しているのでヘッドの浮上特性に優れており、トラック分離性能に優れ、隣接トラック間の信号干渉の影響を受けないので、高記録密度特性に優れた磁気記録再生装置が得られる。   In addition, since the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention uses the magnetic recording medium of the present invention, it has excellent head flying characteristics, excellent track separation performance, and is not affected by signal interference between adjacent tracks. Thus, a magnetic recording / reproducing apparatus excellent in high recording density characteristics can be obtained.

まず、本発明のディスクリート型磁気記録媒体の断面構造について説明する。   First, the sectional structure of the discrete magnetic recording medium of the present invention will be described.

図1に本発明のディスクリート型磁気記録媒体の断面構造を示す。本発明の磁気記録媒体30は、非磁性基板1の表面に軟磁性層および中間層2、磁気的パターンが形成された磁性層3および非磁性化層4と保護膜層5が形成されており、さらに最表面に図示省略の潤滑膜が形成された構造を有している。   FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a discrete magnetic recording medium of the present invention. In the magnetic recording medium 30 of the present invention, a soft magnetic layer and an intermediate layer 2, a magnetic layer 3 with a magnetic pattern formed thereon, a non-magnetized layer 4 and a protective film layer 5 are formed on the surface of a non-magnetic substrate 1. Furthermore, it has a structure in which a lubricating film (not shown) is formed on the outermost surface.

記録密度を高めるため、磁気的パターンを有する磁性層3の磁性部幅Wは100nm以下、非磁性部幅Lは200nm以下とすることが好ましい。従ってトラックピッチP(=W+L)は300nm以下の範囲で、記録密度を高めるためにはできるだけ狭くする。   In order to increase the recording density, the magnetic part width W of the magnetic layer 3 having a magnetic pattern is preferably 100 nm or less, and the nonmagnetic part width L is preferably 200 nm or less. Accordingly, the track pitch P (= W + L) is in the range of 300 nm or less, and is made as narrow as possible in order to increase the recording density.

本発明で使用する非磁性基板としては、Alを主成分とした例えばAl−Mg合金等のAl合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など、非磁性基板であれば任意のものを用いることができる。中でもAl合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。またこれら基板の平均表面粗さ(Ra)は、1nm以下、さらには0.5nm以下であることが好ましく、中でも0.1nm以下であることが好ましい。   Nonmagnetic substrates used in the present invention include Al alloy substrates such as Al-Mg alloys mainly composed of Al, ordinary soda glass, aluminosilicate glass, crystallized glass, silicon, titanium, ceramics, Any nonmagnetic substrate such as a substrate made of various resins can be used. Among them, it is preferable to use a glass substrate such as an Al alloy substrate or crystallized glass, or a silicon substrate. The average surface roughness (Ra) of these substrates is preferably 1 nm or less, more preferably 0.5 nm or less, and particularly preferably 0.1 nm or less.

上記のような非磁性基板の表面に形成される磁性層は、面内磁気記録層でも垂直磁気記録層でもかまわないがより高い記録密度を実現するためには垂直磁気記録層が好ましい。これら磁気記録層は主としてCoを主成分とする合金から形成するのが好ましい。   The magnetic layer formed on the surface of the nonmagnetic substrate as described above may be an in-plane magnetic recording layer or a perpendicular magnetic recording layer, but a perpendicular magnetic recording layer is preferable in order to realize a higher recording density. These magnetic recording layers are preferably formed from an alloy mainly containing Co as a main component.

例えば、面内磁気記録媒体用の磁気記録層としては、非磁性のCrMo下地層と強磁性のCoCrPtTa磁性層からなる積層構造が利用できる。   For example, as a magnetic recording layer for an in-plane magnetic recording medium, a laminated structure composed of a nonmagnetic CrMo underlayer and a ferromagnetic CoCrPtTa magnetic layer can be used.

垂直磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば軟磁性のFeCo合金(FeCoB、FeCoSiB、FeCoZr、FeCoZrB、FeCoZrBCuなど)、FeTa合金(FeTaN、FeTaCなど)、Co合金(CoTaZr、CoZrNB、CoBなど)等からなる裏打ち層と、Pt、Pd、NiCr、NiFeCrなどの配向制御膜と、必要によりRu等の中間膜、及び60Co−15Cr−15Pt合金や70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金からなる磁性層を積層したものを利用することがきる。 Examples of magnetic recording layers for perpendicular magnetic recording media include soft magnetic FeCo alloys (FeCoB, FeCoSiB, FeCoZr, FeCoZrB, FeCoZrBCu, etc.), FeTa alloys (FeTaN, FeTaC, etc.), Co alloys (CoTaZr, CoZrNB, CoB, etc.). A backing layer made of, etc., an orientation control film such as Pt, Pd, NiCr, NiFeCr, an intermediate film such as Ru, if necessary, and a magnetic layer made of 60Co-15Cr-15Pt alloy or 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy Can be used.

磁気記録層の厚さは、3nm以上20nm以下、好ましくは5nm以上15nm以下とする。磁気記録層は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁性層の膜厚は再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層膜厚が必要であり、一方で記録再生特性を表す諸パラメーターは出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、最適な膜厚に設定する必要がある。   The thickness of the magnetic recording layer is 3 nm to 20 nm, preferably 5 nm to 15 nm. The magnetic recording layer may be formed so as to obtain sufficient head input / output according to the type of magnetic alloy used and the laminated structure. The film thickness of the magnetic layer requires a certain thickness of the magnetic layer in order to obtain a certain level of output during playback. On the other hand, parameters indicating recording / playback characteristics usually deteriorate as the output increases. Therefore, it is necessary to set an optimum film thickness.

通常、磁気記録層はスパッタ法により薄膜として形成する。   Usually, the magnetic recording layer is formed as a thin film by sputtering.

磁気記録層の表面には保護膜層5が形成されている。保護膜層としては、炭素(C)、水素化炭素(HxC)、窒素化炭素(CN)、アルモファスカーボン、炭化珪素(SiC)等の炭素質層やSiO、Zr、TiNなど、通常用いられる保護膜層材料を用いることができる。また、保護膜層が2層以上の層から構成されていてもよい。 A protective film layer 5 is formed on the surface of the magnetic recording layer. As the protective film layer, a carbonaceous layer such as carbon (C), hydrogenated carbon (HxC), nitrogenated carbon (CN), alumocarbon, silicon carbide (SiC), SiO 2 , Zr 2 O 3 , TiN, etc. Ordinarily used protective film layer materials can be used. Further, the protective film layer may be composed of two or more layers.

保護膜層3の膜厚は10nm未満とする必要がある。保護膜層の膜厚が10nmを越えるとヘッドと磁性層との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなるからである。通常、保護膜層はスパッタ法もしくはCVD法により形成される。   The film thickness of the protective film layer 3 needs to be less than 10 nm. This is because if the thickness of the protective film layer exceeds 10 nm, the distance between the head and the magnetic layer increases, and sufficient input / output signal strength cannot be obtained. Usually, the protective film layer is formed by sputtering or CVD.

保護膜層の上には潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられ、通常1〜4nmの厚さで潤滑層を形成する。   A lubricating layer is preferably formed on the protective film layer. Examples of the lubricant used for the lubricating layer include a fluorine-based lubricant, a hydrocarbon-based lubricant, and a mixture thereof, and the lubricating layer is usually formed with a thickness of 1 to 4 nm.

次に、本発明のディスクリート型磁気記録媒体の製造方法を具体的に説明する。   Next, the method for producing the discrete magnetic recording medium of the present invention will be specifically described.

磁気記録媒体の製造工程においては、まず基板の洗浄・乾燥が行われるのが通常であり、本発明においても各層の密着性を確保する見地からも磁性膜層の形成前に洗浄、乾燥を行うことが望ましい。また、基板サイズも特に限定しない。   In the manufacturing process of the magnetic recording medium, the substrate is usually first washed and dried, and in the present invention, from the viewpoint of ensuring the adhesion of each layer, the substrate is washed and dried before the formation of the magnetic film layer. It is desirable. Also, the substrate size is not particularly limited.

本発明ではこの基板の表面に、軟磁性層としてFeCoB、中間層としてRu、磁性層として70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金、保護層としてCarbonを成膜する。その後レジストを塗布しパターンを形成後、パターンの凹部にあたる部分のレジストとCarbonを反応性イオンエッチングによって除去後、磁性層上にSiを製膜しその後 加熱するもしくは、不活性イオンをSi表面に照射しその下層にある磁性層に拡散させ、磁性層中へSiを拡散合金化させてトラック間距離に合わせて設計された磁気的なパターンを形成後、レジストを除去して保護層を再形成後、潤滑材を塗布して磁気記録媒体を製造する。
上記Siの製膜にはスパッタリング法を用いた。また、イオンビーム照射においては、Ar,Krなどの不活性原子であればよい。本発明ではArを用いた。
In the present invention, FeCoB as a soft magnetic layer, Ru as an intermediate layer, 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy as a magnetic layer, and Carbon as a protective layer are formed on the surface of the substrate. Then, after applying resist and forming a pattern, the resist corresponding to the concave portion of the pattern and Carbon are removed by reactive ion etching, and then Si is formed on the magnetic layer and then heated or irradiated with inert ions. After diffusing to the magnetic layer underneath, forming a magnetic pattern designed to match the distance between tracks by diffusing and alloying Si into the magnetic layer, then removing the resist and re-forming the protective layer Then, a magnetic recording medium is manufactured by applying a lubricant.
A sputtering method was used for forming the Si film. In the ion beam irradiation, an inert atom such as Ar or Kr may be used. In the present invention, Ar is used.

なお、前記レジスト塗布後のパターン形成には、基板もしくは磁性層に続いて製膜される保護膜に直接スタンパーを密着させ、高圧でプレスすることにより、保護膜表面にトラック形状の凹凸を形成する。あるいは熱硬化型樹脂、UV硬化型樹脂などを利用して形成した凹凸パターンでも構わない。   In addition, in the pattern formation after the resist application, a track-shaped unevenness is formed on the surface of the protective film by bringing the stamper into close contact with the protective film formed subsequent to the substrate or the magnetic layer and pressing at high pressure. . Or the uneven | corrugated pattern formed using thermosetting resin, UV curable resin, etc. may be sufficient.

前記のプロセスで用いられるスタンパー は、例えば、金属プレートに電子線描画などの方法を用いて微細なトラックパターンを形成したものが使用でき、材料としてはプロセスに耐えうる硬度、耐久性が要求される。たとえばNiなどが使用できるが、前述の目的に合致するものであれば材料は問わない。スタンパーには、通常のデータを記録するトラックの他にバーストパターン、グレイコードパターン、プリアンブルパターンといったサーボ信号のパターンも形成する。   As the stamper used in the above-mentioned process, for example, a metal plate formed with a fine track pattern using a method such as electron beam drawing can be used, and the material is required to have hardness and durability that can withstand the process. . For example, Ni can be used, but any material can be used as long as it meets the above-mentioned purpose. A servo signal pattern such as a burst pattern, a gray code pattern, and a preamble pattern is formed on the stamper in addition to a track for recording normal data.

レジストの除去に際しては、ドライエッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどの手法を用いて表面のレジスト、保護層の一部を除去する。これらの処理の結果磁気的パターンが形成された磁性層ならびに保護層の一部が残る。条件を選ぶことにより保護層まで完全に除去しパターンが形成された磁性層のみを残すことも可能である。   When removing the resist, the resist on the surface and part of the protective layer are removed using a technique such as dry etching, reactive ion etching, or ion milling. As a result of these treatments, the magnetic layer on which the magnetic pattern is formed and a part of the protective layer remain. By selecting the conditions, it is possible to completely remove the protective layer and leave only the magnetic layer on which the pattern is formed.

磁気記録媒体の各層のうち、保護膜層3以外の形成には一般的に成膜方法として使用されるRFスパッタリング法やDCスパッタリング法などの使用が可能である。   Of the layers of the magnetic recording medium, the layers other than the protective film layer 3 can be formed using an RF sputtering method or a DC sputtering method that is generally used as a film forming method.

一方、保護膜層の形成は、一般的にはDiamond Like Carbonの薄膜をP−CVDなどを用いて成膜する方法が行われるが特に限定されるものではない。   On the other hand, the method of forming the protective film layer is not particularly limited, although a method of forming a thin film of Diamond Like Carbon using P-CVD or the like is generally performed.

次に、本発明の磁気記録再生装置の構成を図5に示す。本発明の磁気記録再生装置は、上述の本発明の磁気記録媒体30と、これを記録方向に駆動する媒体駆動部11と、記録部と再生部からなる磁気ヘッド27と、磁気ヘッド27を磁気記録媒体30に対して相対運動させるヘッド駆動部28と、磁気ヘッド27への信号入力と磁気ヘッド27からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせた記録再生信号系29とを具備したものである。これらを組み合わせることにより記録密度の高い磁気記録装置を構成することが可能となる。磁気記録媒体の記録トラックを物理的に不連続に加工したことによって、従来はトラックエッジ部の磁化遷移領域の影響を排除するために再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くして対応していたものを、両者をほぼ同じ幅にして動作させることができる。これにより十分な再生出力と高いSNRを得ることができるようになる。
さらに上述の磁気ヘッドの再生部をGMRヘッドあるいはTMRヘッドで構成することにより、高記録密度においても十分な信号強度を得ることができ、高記録密度を持った磁気記録装置を実現することができる。またこの磁気ヘッドの浮上量を0.005μm〜0.020μmと従来より低い高さで浮上させると、出力が向上して高い装置SNRが得られ、大容量で高信頼性の磁気記録装置を提供することができる。また、最尤復号法による信号処理回路を組み合わせるとさらに記録密度を向上でき、例えば、トラック密度100kトラック/インチ以上、線記録密度1000kビット/インチ以上、1平方インチ当たり100Gビット以上の記録密度で記録・再生する場合にも十分なSNRが得られる。
Next, the configuration of the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention is shown in FIG. The magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention includes the magnetic recording medium 30 of the present invention described above, the medium driving unit 11 that drives the magnetic recording medium 30 in the recording direction, the magnetic head 27 that includes the recording unit and the reproducing unit, A head drive unit 28 that moves relative to the recording medium 30 and a recording / reproduction signal system 29 that combines recording / reproduction signal processing means for performing signal input to the magnetic head 27 and output signal reproduction from the magnetic head 27. It is equipped. By combining these, it is possible to configure a magnetic recording apparatus with a high recording density. By processing the recording track of the magnetic recording medium physically discontinuously, conventionally, the reproducing head width was made narrower than the recording head width in order to eliminate the influence of the magnetization transition region at the track edge portion. Can be operated with both of them approximately the same width. As a result, sufficient reproduction output and high SNR can be obtained.
Furthermore, by configuring the reproducing section of the magnetic head as a GMR head or TMR head, a sufficient signal intensity can be obtained even at a high recording density, and a magnetic recording apparatus having a high recording density can be realized. . Also, when the flying height of this magnetic head is lowered to 0.005 μm to 0.020 μm, which is lower than the conventional height, the output is improved and a high device SNR is obtained, and a large capacity and high reliability magnetic recording device is provided. can do. Further, the recording density can be further improved by combining the signal processing circuit based on the maximum likelihood decoding method. For example, the track density is 100 ktrack / inch or more, the linear recording density is 1000 kbit / inch or more, and the recording density is 100 Gbit or more per square inch A sufficient SNR can also be obtained when recording / reproducing.

(比較例1)
HD用ガラス基板をセットした真空チャンバをあらかじめ1.0×10−5Pa以下に真空排気した。ここで使用したガラス基板はLiSi、Al−KO、Al−KO、MgO−P、Sb−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径65mm、内径20mm、平均表面粗さ(Ra)は2オングストロームである。
(Comparative Example 1)
The vacuum chamber in which the glass substrate for HD was set was evacuated to 1.0 × 10 −5 Pa or less in advance. The glass substrate used here is composed of Li 2 Si 2 O 5 , Al 2 O 3 —K 2 O, Al 2 O 3 —K 2 O, MgO—P 2 O 5 , and Sb 2 O 3 —ZnO. It is made of crystallized glass and has an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm, and an average surface roughness (Ra) of 2 angstroms.

該ガラス基板にプレエンボス層として通常のRFスパッタリング法を用いてSiO2膜を200nmの膜厚で成膜した。   A SiO2 film having a thickness of 200 nm was formed on the glass substrate by using a normal RF sputtering method as a pre-embossed layer.

次に、あらかじめ用意していたNi製スタンパーを用いてインプリントを施した。スタンパーはTrack pitchが100nmのものを用意した。グルーブの深さはいずれも20nmに調整した。それぞれのスタンパーを使用してインプリントを実施した。   Next, imprinting was performed using a Ni stamper prepared in advance. A stamper having a Track pitch of 100 nm was prepared. The depth of each groove was adjusted to 20 nm. Imprinting was performed using each stamper.

次いで、イオンビームエッチングを用いて、SiO層をエッチングした。SiO層の薄い部分は基板まで深くエッチングされて、スタンパーによる凹凸に準じた凹凸パターンを基板表面に形成した。 Next, the SiO 2 layer was etched using ion beam etching. The thin part of the SiO 2 layer was etched deeply to the substrate to form a concavo-convex pattern according to the concavo-convex pattern by the stamper on the substrate surface.

これらの基板表面にDCスパッタリング法を用いて、軟磁性層としてFeCoB、中間層としてRu、磁性層として70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金、P−CVD法を用いてC(カーボン)保護膜層、フッ素系潤滑膜の順に薄膜を積層した。 A DC sputtering method is used on the surface of these substrates, FeCoB as a soft magnetic layer, Ru as an intermediate layer, 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy as a magnetic layer, and a C (carbon) protective film layer using a P-CVD method. Then, the thin films were laminated in the order of the fluorine-based lubricating film.

それぞれの層の膜厚は、FeCoB軟磁性層は600Å、Ru中間層は100Å、磁性層は150ÅC(カーボン)保護膜層は平均4nmとした。このサンプルを比較例1としエンボス加工型の例として製造した。
(比較例2)
HD用ガラス基板をセットした真空チャンバをあらかじめ1.0×10−5Pa以下に真空排気した。ここで使用したガラス基板はLiSi、Al−KO、Al−KO 、MgO−P、Sb−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径65mm、内径20mm、平均表面粗さ(Ra)は2オングストロームである。
The thicknesses of the respective layers were 600 は for the FeCoB soft magnetic layer, 100 は for the Ru intermediate layer, and 150 Å C (carbon) protective film layer for the magnetic layer on average of 4 nm. This sample was produced as Comparative Example 1 as an example of an embossing mold.
(Comparative Example 2)
The vacuum chamber in which the glass substrate for HD was set was evacuated to 1.0 × 10 −5 Pa or less in advance. The glass substrate used here is composed of Li 2 Si 2 O 5 , Al 2 O 3 —K 2 O, Al 2 O 3 —K 2 O, MgO—P 2 O 5 , and Sb 2 O 3 —ZnO. It is made of crystallized glass and has an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm, and an average surface roughness (Ra) of 2 angstroms.

該ガラス基板にDCスパッタリング法を用いて、軟磁性層としてFeCoB、中間層としてRu、磁性層として70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金、P−CVD法を用いてC(カーボン)保護膜層、フッ素系潤滑膜の順に薄膜を積層した。それぞれの層の膜厚は、FeCoB軟磁性層は600Å、Ru中間層は100Å、磁性層は150Å、C(カーボン)保護膜層は平均4nmとした。その後磁性層加工型処理により磁気的パターンを形成した。すなわち、熱硬化性樹脂のレジストを塗布しパターンに対応する凹凸を形成後、凹部の磁性層を真空装置内でイオンミリングにより除去し、残った凸のレジストを剥離、除去した磁性層部への埋め込みを目的としてカーボンを成膜した。その後P−CVD法によりCarbonを4nm製膜して潤滑材を塗布した。イオンビームエッチングを用いて表面平滑化を実施した。あらかじめ1×10−4Paまで排気した真空チャンバー内にサンプルを入れ、分圧が5PaになるようにArガスを導入した。サンプルに対して300WのRF電圧を印加し、サンプル表面をエッチングした。このサンプルを比較例2とし磁性層加工型の例として製造した。 Using a DC sputtering method on the glass substrate, FeCoB as a soft magnetic layer, Ru as an intermediate layer, 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy as a magnetic layer, a C (carbon) protective film layer using a P-CVD method, Thin films were laminated in the order of the fluorine-based lubricating film. The thickness of each layer was 600Å for the FeCoB soft magnetic layer, 100Å for the Ru intermediate layer, 150Å for the magnetic layer, and an average of 4 nm for the C (carbon) protective film layer. Thereafter, a magnetic pattern was formed by magnetic layer processing. That is, after applying a thermosetting resin resist to form irregularities corresponding to the pattern, the magnetic layer in the concave portion is removed by ion milling in a vacuum apparatus, and the remaining convex resist is peeled and removed to the magnetic layer portion. Carbon was deposited for the purpose of embedding. Thereafter, Carbon was formed into a 4 nm film by the P-CVD method, and a lubricant was applied. Surface smoothing was performed using ion beam etching. A sample was put in a vacuum chamber that was previously evacuated to 1 × 10 −4 Pa, and Ar gas was introduced so that the partial pressure was 5 Pa. An RF voltage of 300 W was applied to the sample, and the sample surface was etched. This sample was produced as Comparative Example 2 as an example of a magnetic layer processing mold.

埋め込みプロセスにおいては、埋め込み材料は非磁性材料を用いる。本サンプル作製においてはカーボンを使用した。製膜にはパッタリング手法を用いた。
(実施例1〜5)
比較例2と同様にHD用ガラス基板をセットした真空チャンバをあらかじめ1.0×10−5Pa以下に真空排気した。ここで使用したガラス基板はLiSi、Al−K
、Al−KO、MgO−P、Sb−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径65mm、内径20mm、平均表面粗さ(Ra)は2オングストロームである。
In the embedding process, a nonmagnetic material is used as the embedding material. Carbon was used in the preparation of this sample. A filming method was used for film formation.
(Examples 1-5)
As in Comparative Example 2, the vacuum chamber in which the HD glass substrate was set was evacuated to 1.0 × 10 −5 Pa or less in advance. The glass substrate used here is Li 2 Si 2 O 5 , Al 2 O 3 —K 2 O.
, Al 2 O 3 —K 2 O, MgO—P 2 O 5 , Sb 2 O 3 —ZnO as a constituent, crystallized glass is used as a material, outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, average surface roughness (Ra) is 2 angstroms.

該ガラス基板にDCスパッタリング法を用いて、軟磁性層としてFeCoB、中間層としてRu、磁性層として70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金、P−CVD法を用いてC(カーボン)保護膜層、フッ素系潤滑膜の順に薄膜を積層した。それぞれの層の膜厚は、FeCoB軟磁性層は600Å、Ru中間層は100Å、磁性層は150Å、C(カーボン)保護膜層は平均4nmとした。その後磁気的パターンを形成した。すなわち、熱硬化性樹脂のレジストを塗布しパターンに対応する凹凸を形成後、凹部のレジストのみを反応性エッチング法にて除去し、Siをスパッタリング法により成膜しその後、加熱し磁性層にSiを拡散させトラック間距離に合わせて設計された磁気的なパターンを形成後、レジスト及び保護膜を除去して再度
保護層を4nmを再形成後、潤滑材を塗布して磁気記録媒体を製造した。これらのサンプルを実施例1〜5とした。Siの膜厚や加熱条件などは表1に示した。
(実施例6〜10)
比較例2と同様にHD用ガラス基板をセットした真空チャンバをあらかじめ1.0×10−5Pa以下に真空排気した。ここで使用したガラス基板はLiSi、Al−K
、Al−KO、MgO−P、Sb−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径65mm、内径20mm、平均表面粗さ(Ra)は2オングストロームである。
A DC sputtering method is used for the glass substrate, FeCoB as a soft magnetic layer, Ru as an intermediate layer, 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy as a magnetic layer, a C (carbon) protective film layer using a P-CVD method, Thin films were laminated in the order of the fluorine-based lubricating film. The thickness of each layer was 600Å for the FeCoB soft magnetic layer, 100Å for the Ru intermediate layer, 150Å for the magnetic layer, and an average of 4 nm for the C (carbon) protective film layer. Thereafter, a magnetic pattern was formed. That is, after applying a thermosetting resin resist to form irregularities corresponding to the pattern, only the concave resist is removed by a reactive etching method, Si is formed by a sputtering method, and then heated to form Si on the magnetic layer. After forming a magnetic pattern designed to match the distance between tracks, the resist and the protective film were removed, and a protective layer was formed again to 4 nm, and a lubricant was applied to manufacture a magnetic recording medium. . These samples were designated as Examples 1-5. The film thickness of Si, heating conditions, etc. are shown in Table 1.
(Examples 6 to 10)
As in Comparative Example 2, the vacuum chamber in which the HD glass substrate was set was evacuated to 1.0 × 10 −5 Pa or less in advance. The glass substrate used here is Li 2 Si 2 O 5 , Al 2 O 3 —K 2 O.
, Al 2 O 3 —K 2 O, MgO—P 2 O 5 , Sb 2 O 3 —ZnO as a constituent, crystallized glass is used as a material, outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, average surface roughness (Ra) is 2 angstroms.

該ガラス基板にDCスパッタリング法を用いて、軟磁性層としてFeCoB、中間層としてRu、磁性層として70Co−5Cr−15Pt−10SiO合金、P−CVD法を用いてC(カーボン)保護膜層、フッ素系潤滑膜の順に薄膜を積層した。それぞれの層の膜厚は、FeCoB軟磁性層は600Å、Ru中間層は100Å、磁性層は150Å、C(カーボン)保護膜層は平均4nmとした。その後磁気的パターンを形成した。すなわち、熱硬化性樹脂のレジストを塗布しパターンに対応する凹凸を形成後、凹部のレジストのみを反応性エッチング法にて除去し、Siをスパッタリング法により成膜しその後、イオンビームにてArイオンをSi表面に照射し磁性層にSiを拡散させトラック間距離に合わせて設計された磁気的なパターンを形成後、レジスト及び保護膜を除去して再度
保護層を4nmを再形成後、潤滑材を塗布して磁気記録媒体を製造した。これらのサンプルを実施例6〜10とした。Siの膜厚や加熱条件などは表1に示した。
(比較例3及び4)
Siを成膜後 加熱しない、イオンビームによるAr照射をしない以外、実施例1〜10と同様な作製方法で比較例3および4を製造した。このときSi膜厚はそれぞれ10,500nmとした。
Using a DC sputtering method on the glass substrate, FeCoB as a soft magnetic layer, Ru as an intermediate layer, 70Co-5Cr-15Pt-10SiO 2 alloy as a magnetic layer, a C (carbon) protective film layer using a P-CVD method, Thin films were laminated in the order of the fluorine-based lubricating film. The thickness of each layer was 600Å for the FeCoB soft magnetic layer, 100Å for the Ru intermediate layer, 150Å for the magnetic layer, and an average of 4 nm for the C (carbon) protective film layer. Thereafter, a magnetic pattern was formed. That is, after applying a thermosetting resin resist to form irregularities corresponding to the pattern, only the resist in the concave portions is removed by a reactive etching method, and Si is formed by a sputtering method. After the Si surface is irradiated to diffuse Si into the magnetic layer and a magnetic pattern designed according to the distance between tracks is formed, the resist and the protective film are removed and the protective layer is re-formed to 4 nm, and then the lubricant Was applied to produce a magnetic recording medium. These samples were referred to as Examples 6 to 10. The film thickness of Si, heating conditions, etc. are shown in Table 1.
(Comparative Examples 3 and 4)
Comparative Examples 3 and 4 were produced by the same production method as in Examples 1 to 10, except that heating was not performed after the Si film was formed and Ar irradiation with an ion beam was not performed. At this time, the Si film thickness was set to 10,500 nm , respectively.

実施例1〜10、比較例1、2、3,4についてスピンスタンドを用いて電磁変換特性の評価を実施した。このとき評価用のヘッドには、記録には垂直記録ヘッド、読み込みにはTuMRヘッドを用いた。750kFCIの信号を記録したときのSNR値および3T−squash(トリプルトラック スカッシュ:両側隣接トラック書き込み時の中心トラックの信号強度。)を測定した。実施例1〜10は比較例1、2にくらべ、SNRや3T−squashといったRW特性が大幅に改善していることがわかった。これはヘッド浮上特性が安定し所定の浮上高さにてRWできたためと考えられる。また、SNR,3T−squashなどのRW特性が確認されたことにより実施例1〜10の各サンプルは、トラック間の非磁性部による分離が確認され、凹凸状に形成されたレジストのパターン形状に応じた磁性部、非磁性部の磁気的パターンがSiの拡散により実施例のサンプルの磁性層部に形成されたことも確認された。一方、比較例3,4は、実施例1〜10のサンプルに対してSNRや3T−squashともに著しく悪く、Siが拡散されていないため磁気的パターンが形成されていないことがわかる。 Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1, 2, 3, and 4 were evaluated for electromagnetic conversion characteristics using a spin stand. At this time, as an evaluation head, a perpendicular recording head was used for recording and a TuMR head was used for reading. The SNR value and 3T-squash (triple track squash: signal intensity of the center track when writing on both side adjacent tracks) when a 750 kFCI signal was recorded were measured. In Examples 1 to 10, it was found that RW characteristics such as SNR and 3T-squash were significantly improved as compared with Comparative Examples 1 and 2. This is thought to be because the head flying characteristics were stable and RW could be achieved at a predetermined flying height. In addition, by confirming the RW characteristics such as SNR and 3T-squash, the samples of Examples 1 to 10 were confirmed to be separated from each other by the nonmagnetic portion between the tracks. It was also confirmed that the magnetic pattern of the corresponding magnetic part and nonmagnetic part was formed in the magnetic layer part of the sample of the example by diffusion of Si. On the other hand, in Comparative Examples 3 and 4, both the SNR and 3T-squash are significantly worse than the samples of Examples 1 to 10, and it can be seen that no magnetic pattern is formed because Si is not diffused.

電磁変換特性の測定終了後、実施例1〜10、比較例1、2、3、4についてAFMを用いて表面粗さを測定した。Digital Instrument社製AFMを用い、10μm視野にて本実施例および比較例にて作成された垂直時記録媒体用非磁性基板の粗さ(Ra)を評価する。その他の設定は、解像度256×256タッピングモード、掃印速度1μm/secにて行った。その結果を表1に記載した。実施例1〜10は、比較例1,2と比較し表面粗さが著しく低い値を示し、これによりヘッド浮上が安定したと考えられる。   After completion of the measurement of the electromagnetic conversion characteristics, the surface roughness of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1, 2, 3, and 4 was measured using AFM. Using an AFM manufactured by Digital Instrument, the roughness (Ra) of the non-magnetic substrate for perpendicular recording media prepared in the present example and the comparative example is evaluated in a 10 μm visual field. Other settings were made at a resolution of 256 × 256 tapping mode and a sweep speed of 1 μm / sec. The results are shown in Table 1. In Examples 1 to 10, the surface roughness was significantly lower than those in Comparative Examples 1 and 2, and it was considered that the head flying was stabilized.

実施例1〜10及び比較例1,2、3,4のグライドアバランチ特性を評価した。評価には、グライドライト社製50%スライダーヘッドをもちい、ソニーテクトロ社製DS4100装置にて測定した。測定結果を表1にしめす。実施例1〜10は比較例1,2に対してグライドアバランチが低く ヘッド浮上特性が良好であることがわかる。   The glide avalanche characteristics of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1, 2, 3, and 4 were evaluated. For the evaluation, a 50% slider head manufactured by Glide Light was used, and measurement was performed with a DS4100 device manufactured by Sony Tektro Corporation. The measurement results are shown in Table 1. It can be seen that Examples 1 to 10 have a lower glide avalanche than Comparative Examples 1 and 2, and good head flying characteristics.

この実施例1〜10と比較例1、2、3、4との比較から、本発明により、Siを含む合金をパターンの物理的分離を目的とする非磁性部につくることにより簡便にディスクリート媒体が製造でき、表面粗さが十分低く、ヘッド浮上を安定させられることが明らかになった。この実施例と比較例の比較から明らかなように表面粗さをなるべく低く製造することはヘッド浮上を安定化させるために重要な因子であり、本発明においては、その表面粗さがRa≦2nmさらに好ましくは、Ra≦1.5nmであることが望ましい。また、本発明が、パターン化された非磁性、磁性層を分離する手法として有効な手段であることは明白であり、ディスクリート法よりさらに高記録密度をめざしたパターンド媒体の製造にも有効であることも実証された。   From the comparison between Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1, 2, 3, and 4, according to the present invention, an Si-containing alloy can be easily formed into a non-magnetic portion for the purpose of physical separation of patterns, thereby providing a discrete medium. It was revealed that the surface roughness was sufficiently low and the flying of the head could be stabilized. As apparent from the comparison between this example and the comparative example, manufacturing the surface roughness as low as possible is an important factor for stabilizing the flying of the head. In the present invention, the surface roughness is Ra ≦ 2 nm. More preferably, it is desirable that Ra ≦ 1.5 nm. In addition, it is clear that the present invention is an effective means for separating patterned nonmagnetic and magnetic layers, and is also effective for the manufacture of patterned media aiming at higher recording density than the discrete method. It has also been proven.

本発明の磁気記録媒体の断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the magnetic recording medium of this invention. 本発明の磁気記録再生装置の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the magnetic recording / reproducing apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 非磁性基板
2 軟磁性層および中間層
3 磁気記録層
4 非磁性化層
5 保護層
26 媒体駆動部
27 磁気ヘッド
28 ヘッド駆動部
29 記録再生信号系
30 磁気記録媒体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Nonmagnetic board | substrate 2 Soft magnetic layer and intermediate | middle layer 3 Magnetic recording layer 4 Demagnetization layer 5 Protective layer 26 Medium drive part 27 Magnetic head 28 Head drive part 29 Recording / reproducing signal system 30 Magnetic recording medium

Claims (4)

  1. 非磁性基板の少なくとも一方の表面に、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなるディスクリートトラック型の磁気記録媒体の製造方法であって、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン部を物理的に分離することを目的とする非磁性部をSiを含む非磁性合金で形成し、該非磁性合金を形成するにあたり、磁性層上にSiを成膜した後、不活性イオンをSi表面に照射することにより、磁性層にSiを拡散させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 A method of manufacturing a discrete track type magnetic recording medium in which a physically separated magnetic recording track and a servo signal pattern are formed on at least one surface of a nonmagnetic substrate, wherein the magnetic recording track and the servo signal pattern portion are A non-magnetic part intended to be physically separated is formed of a non-magnetic alloy containing Si. In forming the non-magnetic alloy, after depositing Si on the magnetic layer , inert ions are formed on the Si surface. A method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized by diffusing Si in a magnetic layer by irradiation .
  2. 表面粗さが、0.1nm≦Ra≦2.0nmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法2. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the surface roughness is in a range of 0.1 nm ≦ Ra ≦ 2.0 nm.
  3. 磁気記録トラックが垂直磁気記録トラックであることを特徴とする請求項1または2記載の磁気記録媒体の製造方法3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording track is a perpendicular magnetic recording track.
  4. 請求項1〜3の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法で製造した磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせて具備してなることを特徴とする磁気記録再生装置。
    A magnetic recording medium manufactured by the method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, a drive unit that drives the magnetic recording medium in a recording direction, and a magnetic head that includes a recording unit and a reproducing unit And a means for moving the magnetic head relative to the magnetic recording medium and a recording / reproduction signal processing means for performing signal input to the magnetic head and output signal reproduction from the magnetic head. A magnetic recording / reproducing apparatus.
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