JP4472999B2 - Semiconductor integrated circuit test equipment - Google Patents

Semiconductor integrated circuit test equipment Download PDF

Info

Publication number
JP4472999B2
JP4472999B2 JP2004001986A JP2004001986A JP4472999B2 JP 4472999 B2 JP4472999 B2 JP 4472999B2 JP 2004001986 A JP2004001986 A JP 2004001986A JP 2004001986 A JP2004001986 A JP 2004001986A JP 4472999 B2 JP4472999 B2 JP 4472999B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scan
volatile memory
semiconductor integrated
integrated circuit
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004001986A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005195453A (en
Inventor
信之 柳原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2004001986A priority Critical patent/JP4472999B2/en
Publication of JP2005195453A publication Critical patent/JP2005195453A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4472999B2 publication Critical patent/JP4472999B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Test And Diagnosis Of Digital Computers (AREA)

Description

この発明は、半導体集積回路(IC)の試験装置に関し、大規模化する半導体集積回路の試験を大容量のメモリを有する高性能なテスタ本体を使用せずに行う装置に関するものである。   BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit (IC) test apparatus, and more particularly to an apparatus for performing a test of a semiconductor integrated circuit to be enlarged without using a high-performance tester body having a large capacity memory.

半導体集積回路の試験には一般的にテスターと呼ばれる半導体試験装置が用いられている。半導体集積回路の生産工程では、この試験装置を用いて半導体集積回路の良品、不良品の判定を行っている。この良品、不良品の判定を高検出率で行う手法の一つとしてスキャンテストが一般的に知られている。   A semiconductor test apparatus called a tester is generally used for testing a semiconductor integrated circuit. In the production process of the semiconductor integrated circuit, the test apparatus is used to determine whether the semiconductor integrated circuit is non-defective or defective. A scan test is generally known as one of the methods for performing the determination of a good product and a defective product with a high detection rate.

昨今の半導体集積回路は高集積化が著しく、スキャンテストに必要なテストパターン量は、増加の一途をたどっており、古い半導体試験装置では、これに必要な機能を有していない場合が多い。   Recent semiconductor integrated circuits are highly integrated, and the amount of test patterns required for scan tests is steadily increasing. Old semiconductor test apparatuses often do not have the necessary functions.

また、この機能を有している場合でも、半導体試験装置でのスキャンテストパターンのロード時間は長く、結果、テスト時間は長くなり、テストコストが増加する傾向にある。   Even with this function, the load time of the scan test pattern in the semiconductor test apparatus is long, and as a result, the test time tends to be long and the test cost tends to increase.

また、半導体集積回路の試験には、スキャンテスト以外にも、機能試験用のファンクション試験パターンもあり、スキャンパターンの増加により、1つの半導体試験装置に、スキャンパターンと機能試験パターンの両方をロードすることが、半導体試験装置のパターンメモリーの制限により困難になっている。   In addition to the scan test, there is a function test pattern for a function test in the semiconductor integrated circuit test. By increasing the scan pattern, both the scan pattern and the function test pattern are loaded into one semiconductor test apparatus. This is made difficult by the limitation of the pattern memory of the semiconductor test equipment.

そこで、メモリ容量の限られた安価なテスタ本体によっても、例えばスキャン方式に代表される長大なシリアルパターンによるテストを行うことができ、特別にシリアルテスト専用オプション機能を必要としないテスト手法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, even with an inexpensive tester main unit with limited memory capacity, it is possible to perform a test with a long serial pattern represented by, for example, a scan method, and a test method that does not require an optional function dedicated to serial test has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1).

上記したテスト手法は、テストボード上の第1記憶部に被測定デバイスの試験用入力信号を記憶させ、テストボード上の第2記憶部に上記入力信号に対応して被測定デバイスが正常に動作した場合に出力する期待値信号を記憶させ、第1記憶部から被測定デバイスに試験用入力信号を入力し、被測定デバイスから出力される出力信号を第2記憶部の期待値信号と比較する。このように構成することで、テスタ本体が大容量パターンメモリを有していなくても、長大なパターンがテスト可能になる。
特開2001−243087号公報
In the test method described above, the test input signal of the device under test is stored in the first storage unit on the test board, and the device under test operates normally in response to the input signal in the second storage unit on the test board. An expected value signal to be output in the case where the test is performed, a test input signal is input from the first storage unit to the device under measurement, and the output signal output from the device under test is compared with the expected value signal of the second storage unit . With this configuration, a long pattern can be tested even if the tester body does not have a large-capacity pattern memory.
JP 2001-243087 A

上記した特許文献1に記載のものは、不揮発性メモリーにスキャンデーターを記憶させスキャンテストを行うものであるが、不揮発性メモリーに対するアドレッシングについては詳細には記載されていない。   The device described in Patent Document 1 described above stores scan data in a non-volatile memory and performs a scan test. However, addressing for the non-volatile memory is not described in detail.

この発明は、半導体試験装置に、必要なスキャン試験回路がない場合でも、非常に簡潔な操作によりスキャン回路の半導体試験を行うことが出来る半導体集積回路の試験装置を適用することを目的とする。   It is an object of the present invention to apply a semiconductor integrated circuit test apparatus capable of performing a semiconductor test of a scan circuit with a very simple operation even when the semiconductor test apparatus does not have a necessary scan test circuit.

この発明はかかる課題を解決するものであり、スキャン回路を内蔵した半導体集積回路の試験において、半導体試験装置に、必要なスキャン試験回路がない場合でも、必要なスキャン試験回路を不揮発性メモリーとカウンター回路で別途構成し、これを半導体試験装置から制御することにより、非常に簡潔な操作によりスキャン回路の半導体試験を可能にするものである。   The present invention solves such a problem. In a test of a semiconductor integrated circuit having a built-in scan circuit, even if the semiconductor test apparatus does not have the necessary scan test circuit, the necessary scan test circuit is replaced with a nonvolatile memory and a counter. By separately configuring the circuit and controlling it from a semiconductor test apparatus, the semiconductor test of the scan circuit can be performed with a very simple operation.

即ち、この発明は、被試験半導体集積回路の試験用入力信号を記憶させた第1の不揮発性メモリーと、前記入力信号に対応して被試験半導体集積回路が正常に動作した場合に出力する期待値信号を記憶させた第2の不揮発性メモリーと、第2の不揮発性メモリーからの期待値信号と被試験半導体集積回路からの実際の出力信号を比較する比較部を設け、前記第1及び第2の不揮発性メモリーに記憶したデーターをカウンター回路により単調増加アドレッシングして読み出すことを特徴とする。   That is, the present invention provides a first non-volatile memory that stores a test input signal of a semiconductor integrated circuit under test, and an expectation that is output when the semiconductor integrated circuit under test operates normally in response to the input signal. A second non-volatile memory in which a value signal is stored, a comparison unit for comparing an expected value signal from the second non-volatile memory and an actual output signal from the semiconductor integrated circuit under test; The data stored in the nonvolatile memory 2 is read out by monotonically increasing addressing using a counter circuit.

上記のように構成することで、半導体試験装置からは、単純な波形信号を繰り返し生成するだけで良く、これにより、そのままではスキャンテストに使用できない半導体試験装置を有効に利用することが可能になる。   By configuring as described above, it is only necessary to repeatedly generate a simple waveform signal from the semiconductor test apparatus, and this makes it possible to effectively use a semiconductor test apparatus that cannot be used for a scan test as it is. .

また、膨大な量であるスキャンパターンを、予め半導体試験装置とは異なる不揮発性メモリーに格納しておきこれを使用することで、半導体試験装置にスキャンパターンをロードする必要が無くなり、半導体試験装置にロードされた機能試験用のファンクション試験パターンとの共存が可能になる。   In addition, a huge amount of scan patterns are stored in advance in a non-volatile memory that is different from the semiconductor test equipment, and it is not necessary to load scan patterns into the semiconductor test equipment. Coexistence with the function test pattern for the loaded function test becomes possible.

更に、この結果、半導体試験装置の制御する総テストパターン量が減少し、テスト時間が短縮される。   As a result, the total amount of test patterns controlled by the semiconductor test apparatus is reduced, and the test time is shortened.

また、この発明は、前記第1の不揮発性メモリーの複数のデーター出力をセレクター回路により任意に選択することで、多ビットの不揮発性メモリーデーター出力を1つのスキャンデーターにフォーミングすることを特徴とする。   The present invention is characterized in that a multi-bit nonvolatile memory data output is formed into one scan data by arbitrarily selecting a plurality of data outputs of the first nonvolatile memory by a selector circuit. .

また、この発明は、前記第2の不揮発性メモリーにスキャンマスクデーターを記憶させ、タイミング補正回路を備えて、スキャン出力比較結果信号の強制マスクが可能にしたことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that scan mask data is stored in the second non-volatile memory, a timing correction circuit is provided, and a scan output comparison result signal can be forcibly masked.

また、この発明は、前記第2の不揮発性メモリーにスキャン期待値データー、スキャンマスクデーターの両方を持たせ、半導体試験装置で必要な期待値データーを0もしくは1の固定論理とし、、同一期待値パターンを繰り返すだけでスキャン出力結果を判定することを特徴とする。   Further, according to the present invention, the second non-volatile memory has both scan expected value data and scan mask data, the expected value data required in the semiconductor test apparatus is fixed logic of 0 or 1, and the same expected value The scan output result is determined only by repeating the pattern.

請求項1に記載の発明によれば、スキャン回路を内蔵した半導体集積回路の試験を、スキャン機能を有しない半導体試験装置にて、スキャンテストを実施する効果がある。また更に、半導体試験装置にロードされる機能試験パターン量を減らすことにより、半導体集積回路のテスト時間を短縮することができる。
また、不揮発性メモリ−を効率良く利用するために、複数のメモリービットを1つのスキャンデーターにまとめる機能であり、使用する不揮発性メモリーの容量を少なくすることができる。
更に、被試験半導体集積回路から出力されたスキャン出力を、不揮発性メモリーに格納されたスキャン期待値と比較した結果(パス/フェイル)信号に、強制的なマスク(判定結果の無視)を行うことができる。
According to the first aspect of the present invention, there is an effect that a test of a semiconductor integrated circuit having a built-in scan circuit is performed by a semiconductor test apparatus having no scan function. Furthermore, the test time of the semiconductor integrated circuit can be shortened by reducing the amount of the function test pattern loaded in the semiconductor test apparatus.
Further, in order to efficiently use the nonvolatile memory, it is a function of collecting a plurality of memory bits into one scan data, and the capacity of the nonvolatile memory to be used can be reduced.
Furthermore, forcibly mask (ignore the determination result) on the result (pass / fail) signal that compares the scan output output from the semiconductor integrated circuit under test with the expected scan value stored in the non-volatile memory. Can do.

請求項2に記載の発明によれば、不揮発性メモリーにスキャン期待値データーと、スキャンマスクデーターの両方を持たせることにより、これを制御する半導体試験装置に必要な期待値パターン量を減らすことが可能であり、テスト制御の容易性とテスト時間短縮することができる。 According to the invention described in claim 2, by providing both the expected scan value data and the scan mask data in the non-volatile memory, it is possible to reduce the expected value pattern amount necessary for the semiconductor test apparatus for controlling the scan expected value data. It is possible to reduce the test control ease and test time.

以下、この発明の実施形態につき図面を参照して説明する。図1は、この発明の試験装置におけるスキャン入力信号回路部の構成を示すブロック図、図2は、図1に示す回路の動作を示すタイミングチャートである。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a scan input signal circuit section in the test apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the circuit shown in FIG.

半導体集積回路の試験には一般的にテスターと呼ばれる半導体試験装置が用いられている。この発明に用いられる半導体試験装置1は、一般的なテスターであり、この実施形態では、制御用のクロック信号と、出力データーの選択信号を生成し、これら信号をスキャン入力信号回路部2へ与える。   A semiconductor test apparatus called a tester is generally used for testing a semiconductor integrated circuit. A semiconductor test apparatus 1 used in the present invention is a general tester. In this embodiment, a control clock signal and an output data selection signal are generated, and these signals are supplied to a scan input signal circuit unit 2. .

スキャン入力信号回路部2は、アドレス生成用カウンター回路21,不揮発性メモリー22、メモリー出力データ選択回路23、メモリー出力データ成形回路24、スキャン入力信号入力電圧レベル調整回路25と、を備える。   The scan input signal circuit unit 2 includes an address generation counter circuit 21, a nonvolatile memory 22, a memory output data selection circuit 23, a memory output data shaping circuit 24, and a scan input signal input voltage level adjustment circuit 25.

不揮発性メモリー22は、EPROM,EEPROM,フラッシュメモリなどで構成され、スキャンパターン入力データが格納されている。この不揮発性メモリー22は、アドレス生成用カウンター回路21から与えられる単調増加アドレッシングによりアクセスされ、所定のスキャンデータ、この実施形態ではD0からD4のデータが出力される。   The nonvolatile memory 22 is composed of EPROM, EEPROM, flash memory, etc., and stores scan pattern input data. The nonvolatile memory 22 is accessed by monotonically increasing addressing provided from the address generation counter circuit 21, and predetermined scan data, in this embodiment, data from D0 to D4 is output.

膨大なスキャンパターン入力データーは予め不揮発性メモリー22に書きこまれているので、半導体試験装置1は制御用のクロック信号と、出力データーの選択する制御信号を生成し、アドレス生成用カウンター回路21と、メモリー出力データ選択回路23に与える。このため、数10M(メガ)ベクターにおよぶ膨大なスキャーンパターンを、半導体試験装置1はわずか数パターンで制御できる。   Since a large amount of scan pattern input data is written in the nonvolatile memory 22 in advance, the semiconductor test apparatus 1 generates a control clock signal and a control signal selected by output data, and generates an address generation counter circuit 21. To the memory output data selection circuit 23. For this reason, the semiconductor test apparatus 1 can control an enormous number of scan patterns covering several tens of megabytes (M) vectors with only a few patterns.

Figure 0004472999
Figure 0004472999

表1は、制御パターンの例を示している。   Table 1 shows examples of control patterns.

半導体試験装置1は、上記の表1にパターンを繰り返す(パターン2〜5をLOOP)だけでよい。このため、アドレス生成用カウンター回路21により、不揮発性メモリー22のアドレスは自動にインクリメントを継続する。尚、リセット信号はアドレス生成用カウンター回路21をイニシャライズするために、最初に1回のみ実行する。   The semiconductor test apparatus 1 only needs to repeat the pattern in Table 1 above (patterns 2 to 5 are LOOP). For this reason, the address generation counter circuit 21 automatically continues incrementing the address of the nonvolatile memory 22. The reset signal is first executed only once in order to initialize the address generation counter circuit 21.

また、通常、半導体メモリーは多ビットのメモリー出力で構成されているため、1つのメモリー出力ビットを1つのスキャン入力に適用した場合、メモリー使用効率が悪くなる。かかる問題を解決するため、この発明では、複数のメモリービットをメモリー出力データー選択回路23で選択し、これを次段のメモリー出力データー成型回路24で波形生成することで、不揮発性メモリー22を有効に利用している。例えば、8ビット16Mのメモリーの場合、1ビットあたりは2Mしかないが、これを複数ビット重鎮することにより、メモリーの最大容量まで指標することが可能である。もちろん、1ビットだけで使用することも可能である。   Further, since the semiconductor memory is usually configured with a multi-bit memory output, when one memory output bit is applied to one scan input, the memory use efficiency is deteriorated. In order to solve this problem, in the present invention, a plurality of memory bits are selected by the memory output data selection circuit 23, and a waveform is generated by the memory output data shaping circuit 24 at the next stage, thereby enabling the nonvolatile memory 22 to be effective. It is used for. For example, in the case of an 8-bit 16M memory, there is only 2M per bit, but it is possible to index up to the maximum capacity of the memory by using multiple bits. Of course, it is possible to use only one bit.

この実施形態では、4ビットのメモリー出力[D0][D1][D2][D3]を使用している。このために、半導体試験装置1から出力データー制御信号として、[D0選択信号][D1選択信号][D2選択信号][D3選択信号]を発生させ、メモリー出力データー選択回路23に与えている。メモリー出力データ選択回路23は、出力データー制御信号に基づき、1クロック毎に[D0][D1][D2][D3]が順次選択されるようにしている。この信号を次段の、メモリー出力データー成型回路24で加算処理することで、[D0][D1][D2][D3]が合成された信号波形を生成している(図2参照)。   In this embodiment, a 4-bit memory output [D0] [D1] [D2] [D3] is used. For this purpose, [D0 selection signal], [D1 selection signal], [D2 selection signal], and [D3 selection signal] are generated as output data control signals from the semiconductor test apparatus 1 and supplied to the memory output data selection circuit 23. The memory output data selection circuit 23 sequentially selects [D0] [D1] [D2] [D3] for each clock based on the output data control signal. This signal is added by the memory output data shaping circuit 24 at the next stage to generate a signal waveform in which [D0] [D1] [D2] [D3] are synthesized (see FIG. 2).

この信号を、更に、次段のスキャン入力信号入力電圧レベル調整回路25に与える。このスキャン入力信号入力電圧レベル調整回路25で、被試験半導体集積回路4のスキャン入力として適切な電圧レベルにフォーミングし、被試験半導体集積回路4に与えている。   This signal is further supplied to the scan input signal input voltage level adjustment circuit 25 in the next stage. The scan input signal input voltage level adjusting circuit 25 forms a voltage level suitable for the scan input of the semiconductor integrated circuit 4 to be tested, and supplies the voltage to the semiconductor integrated circuit 4 to be tested.

また、図2に示す例では、制御用クロック信号の4クロックで不揮発性メモリー22の1アドレスをインクリメントさせている。このためには、制御用クロック信号で生成しているアドレス生成用カウンター回路21の下位2ビットをはずし、3ビット目をメモリーアドレスの最下位ビットに割り振ることで容易に実現できる。   In the example shown in FIG. 2, one address of the nonvolatile memory 22 is incremented by 4 clocks of the control clock signal. This can be easily realized by removing the lower 2 bits of the address generation counter circuit 21 generated by the control clock signal and allocating the third bit to the least significant bit of the memory address.

次に、被試験半導体集積回路4から出力されたスキャンアウト信号と、出力期待値とを比較するこの発明の試験装置における良否判定回路の構成例を図3に示す。   Next, FIG. 3 shows a configuration example of the pass / fail judgment circuit in the test apparatus of the present invention for comparing the scan-out signal output from the semiconductor integrated circuit 4 to be tested with the expected output value.

この良否判定回路3は、スキャン期待値データーと、スキャンマスクデーターとを格納する不揮発性メモリー31と、スキャン期待値データー選択回路32と、スキャンマスクデーター選択回路33と、スキャン期待値データー成型回路34と、スキャンマスクデーター成形回路35、スキャン期待値信号タイミング調整回路36と、スキャンマスク信号タイミング調整回路37、スキャン結果判定回路38、良否判定マスク回路39と、を備える。   The pass / fail judgment circuit 3 includes a non-volatile memory 31 that stores scan expected value data and scan mask data, a scan expected value data selection circuit 32, a scan mask data selection circuit 33, and a scan expected value data shaping circuit 34. A scan mask data shaping circuit 35, an expected scan value signal timing adjustment circuit 36, a scan mask signal timing adjustment circuit 37, a scan result determination circuit 38, and a pass / fail determination mask circuit 39.

上記した不揮発性メモリー31は、表2の期待値パターン例に示すように、期待値は、パターンを繰り返すだけでよい。このため、アドレス生成用カウンター回路21により、不揮発性メモリー31のアドレスは自動にインクリメントを継続する。   As shown in the example of expected value pattern in Table 2, the above-described nonvolatile memory 31 only needs to repeat a pattern. For this reason, the address generation counter circuit 21 automatically continues incrementing the address of the nonvolatile memory 31.

この実施形態での、スキャン期待値データー選択回路32と、スキャンマスクデーター選択回路33は、図1に示したメモリー出力データー選択回路23と同様の機能を有する。即ち、半導体試験装置1から出力データー制御信号として、[D0選択信号]等を発生させ、データー選択回路32、33に与えている。出力データ選択回路32は、出力データー制御信号に基づき、1クロック毎に[D0][D1][D2][D3]が順次選択されるようにしている。この信号を次段の、スキャンデータ期待値データ生成回路34で加算処理することで、[D0][D1][D2][D3]が合成された信号波形を生成している。出力データ選択回路33は、出力データー制御信号に基づき、1クロック毎に[D4][D5][D6][D7]が順次選択されるようにしている。この信号を次段の、スキャンマスクデータ生成回路35で加算処理することで、[D4][D5][D6][D7]が合成された信号波形を生成している。   The expected scan value data selection circuit 32 and the scan mask data selection circuit 33 in this embodiment have the same functions as the memory output data selection circuit 23 shown in FIG. That is, [D0 selection signal] or the like is generated as an output data control signal from the semiconductor test apparatus 1 and supplied to the data selection circuits 32 and 33. The output data selection circuit 32 sequentially selects [D0] [D1] [D2] [D3] for each clock based on the output data control signal. This signal is subjected to addition processing by the scan data expected value data generation circuit 34 in the next stage, thereby generating a signal waveform in which [D0] [D1] [D2] [D3] are synthesized. The output data selection circuit 33 sequentially selects [D4] [D5] [D6] [D7] for each clock based on the output data control signal. This signal is added by the scan mask data generation circuit 35 in the next stage, thereby generating a signal waveform in which [D4] [D5] [D6] [D7] are synthesized.

また、スキャン期待値データー成型回路36と、スキャンマスクデーター成型回路37は、図1に示したメモリー出力データー成型回路24と同様の機能を有する。   Further, the expected scan value data molding circuit 36 and the scan mask data molding circuit 37 have the same functions as the memory output data molding circuit 24 shown in FIG.

半導体集積回路4から出力されるスキャン出力と、不揮発性メモリー31から生成されたスキャン期待値データーとは、同期が取れていないので、このままでは2つの論理信号の比較は出来ない。この信号の同期を取る為に、スキャン期待値信号タイミング調整回路36により、2つの信号のタイミングを同期させている。   Since the scan output output from the semiconductor integrated circuit 4 and the scan expected value data generated from the nonvolatile memory 31 are not synchronized, the two logical signals cannot be compared as they are. In order to synchronize this signal, the scan expectation value signal timing adjustment circuit 36 synchronizes the timings of the two signals.

この2つの信号の比較結果には、スキャンマスク信号により、任意に強制的マスクを行うことが可能である。この信号のタイミングを同期させる為に、スキャンマスク信号にもタイミング調整回路37を設けている。   The comparison result between the two signals can be arbitrarily forcedly masked by a scan mask signal. In order to synchronize the timing of this signal, a timing adjustment circuit 37 is also provided for the scan mask signal.

これらの回路構成により、被試験半導体集積回路4のスキャンテスト結果はスキャン出力期待値0/1に関わらず、常に決まった論理(ex. Pass=0,Fail=1)となり、この結果、半導体試験装置1で用意する期待値パターンは単純繰り返しパターンで実施できる。表2に示す例では、期待値は常に0であり、数10Mパターンに及ぶスキャン期待値でも、この4パターンを半導体試験装置1のループ(LOOP)命令で単純に繰り返すだけで、試験が可能であるので、テストパターン数が少なくなり、制御が容易になる。   With these circuit configurations, the scan test result of the semiconductor integrated circuit 4 to be tested always has a fixed logic (ex. Pass = 0, Fail = 1) regardless of the expected scan output value 0/1. As a result, the semiconductor test The expected value pattern prepared by the apparatus 1 can be implemented as a simple repeating pattern. In the example shown in Table 2, the expected value is always 0, and even with a scan expected value of several tens of M patterns, the test can be performed by simply repeating these four patterns with the loop (LOOP) instruction of the semiconductor test apparatus 1. As a result, the number of test patterns is reduced and control is facilitated.

Figure 0004472999
Figure 0004472999

この発明の試験装置におけるスキャン入力信号回路部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the scan input signal circuit part in the test apparatus of this invention. 図1に示す回路の動作を示すタイミングチャートである。2 is a timing chart showing the operation of the circuit shown in FIG. この発明の試験装置における良否判定回路の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the quality determination circuit in the testing apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体試験装置
2 スキャン入力信号回路部
3 良否判定回路
4 被試験半導体集積回路
21 アドレス生成用カウンター回路
22 不揮発性メモリー
23 メモリー出力データ選択回路
24 メモリー出力データ成形回路
25 スキャン入力信号入力電圧レベル調整回路
31 不揮発性メモリー
32 スキャン期待値データー選択回路
33 スキャンマスクデーター選択回路
34 スキャン期待値データー成型回路
35 スキャンマスクデーター成形回路
36 スキャン期待値信号タイミング調整回路
37 スキャンマスク信号タイミング調整回路
38 スキャン結果判定回路38、
39 良否判定マスク回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor test apparatus 2 Scan input signal circuit part 3 Pass / fail judgment circuit 4 Semiconductor integrated circuit under test 21 Counter circuit for address generation 22 Non-volatile memory 23 Memory output data selection circuit 24 Memory output data shaping circuit 25 Scan input signal input voltage level adjustment Circuit 31 Non-volatile memory 32 Scan expected value data selection circuit 33 Scan mask data selection circuit 34 Scan expected value data shaping circuit 35 Scan mask data shaping circuit 36 Scan expected value signal timing adjustment circuit 37 Scan mask signal timing adjustment circuit 38 Scan result determination Circuit 38,
39 Pass / fail judgment mask circuit

Claims (2)

被試験半導体集積回路の試験用入力信号を記憶させた第1の不揮発性メモリーと、前記入力信号に対応して被試験半導体集積回路が正常に動作した場合に出力する期待値信号を記憶させた第2の不揮発性メモリーと、第2の不揮発性メモリーからの期待値信号と被試験半導体集積回路からの実際の出力信号を比較する比較部とを備え、前記第1及び第2の不揮発性メモリーに記憶したデーターをカウンター回路により単調増加アドレッシングして読み出し、前記第1の不揮発性メモリーの複数のデーター出力をセレクター回路により任意に選択することで、多ビットの不揮発性メモリーデーター出力を1つのスキャンデーターにフォーミングする半導体集積回路の試験装置であって、更にタイミング補正回路を備えて、前記第2の不揮発性メモリーにスキャンマスクデーターを記憶させ、スキャン出力比較結果信号の強制マスクが可能にしたことを特徴とする半導体集積回路の試験装置。 A first non-volatile memory storing a test input signal of the semiconductor integrated circuit under test and an expected value signal output when the semiconductor integrated circuit under normal operation corresponding to the input signal are stored a second non-volatile memory, and a comparator for comparing the actual output signal from the expected value signal and the tested semiconductor integrated circuit from the second non-volatile memory, said first and second non-volatile memory The data stored in is read by monotonically increasing addressing with a counter circuit, and a plurality of data outputs of the first non-volatile memory are arbitrarily selected with a selector circuit, so that a multi-bit non-volatile memory data output is scanned in one scan A test apparatus for a semiconductor integrated circuit for forming data, further comprising a timing correction circuit, wherein the second nonvolatile memory is formed. Lee in stores the scan mask data, test apparatus for a semiconductor integrated circuit, characterized in that the possible forced mask scan output comparison result signal. 被試験半導体集積回路の試験用入力信号を記憶させた第1の不揮発性メモリーと、前記入力信号に対応して被試験半導体集積回路が正常に動作した場合に出力する期待値信号を記憶させた第2の不揮発性メモリーと、第2の不揮発性メモリーからの期待値信号と被試験半導体集積回路からの実際の出力信号を比較する比較部とを備え、前記第1及び第2の不揮発性メモリーに記憶したデーターをカウンター回路により単調増加アドレッシングして読み出し、前記第1の不揮発性メモリーの複数のデーター出力をセレクター回路により任意に選択することで、多ビットの不揮発性メモリーデーター出力を1つのスキャンデーターにフォーミングする半導体集積回路の試験装置であって、
前記第2の不揮発性メモリーにスキャン期待値データー、スキャンマスクデーターの両方を持たせ、半導体試験装置で必要な期待値データーを0もしくは1の固定論理とし、同一期待値パターンを繰り返すだけでスキャン出力結果を判定することを特徴とする半導体集積回路の試験装置。
A first non-volatile memory storing a test input signal of the semiconductor integrated circuit under test and an expected value signal output when the semiconductor integrated circuit under normal operation corresponding to the input signal are stored A first non-volatile memory comprising: a second non-volatile memory; and a comparator for comparing an expected value signal from the second non-volatile memory with an actual output signal from the semiconductor integrated circuit under test. The data stored in is read by monotonically increasing addressing with a counter circuit, and a plurality of data outputs of the first non-volatile memory are arbitrarily selected with a selector circuit, so that a multi-bit non-volatile memory data output is scanned in one scan A semiconductor integrated circuit testing apparatus that forms data,
The second non-volatile memory has both scan expected value data and scan mask data, the expected value data necessary for the semiconductor test equipment is set to 0 or 1 fixed logic, and scan output is performed simply by repeating the same expected value pattern. A test apparatus for a semiconductor integrated circuit, characterized by determining a result .
JP2004001986A 2004-01-07 2004-01-07 Semiconductor integrated circuit test equipment Expired - Fee Related JP4472999B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004001986A JP4472999B2 (en) 2004-01-07 2004-01-07 Semiconductor integrated circuit test equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004001986A JP4472999B2 (en) 2004-01-07 2004-01-07 Semiconductor integrated circuit test equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005195453A JP2005195453A (en) 2005-07-21
JP4472999B2 true JP4472999B2 (en) 2010-06-02

Family

ID=34817345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004001986A Expired - Fee Related JP4472999B2 (en) 2004-01-07 2004-01-07 Semiconductor integrated circuit test equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4472999B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005195453A (en) 2005-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7661043B2 (en) Test apparatus, and method of manufacturing semiconductor memory
WO2008001543A1 (en) Semiconductor testing apparatus and semiconductor memory testing method
KR100932309B1 (en) Semiconductor test apparatus and test method of semiconductor memory
KR19980064254A (en) Integrated circuit memory device with built-in self test circuit with monitor and tester mode
US8020054B2 (en) Test apparatus and test method
JP4119789B2 (en) Memory test apparatus and memory test method
JP2008084411A (en) Semiconductor integrated circuit, bist circuit, design program for bist circuit, design device for bist circuit, and memory test method
KR102409926B1 (en) Test device and test system having the same
US8358549B2 (en) Semiconductor memory device, memory test method and computer program for designing program of semiconductor memory device
JP4472999B2 (en) Semiconductor integrated circuit test equipment
JP4463173B2 (en) Test apparatus, test method, program, and recording medium
US20030005389A1 (en) Test circuit for testing a synchronous circuit
US8117004B2 (en) Testing module, testing apparatus and testing method
JP2007010605A (en) Testing device and testing method
JP2009076125A (en) Semiconductor test apparatus
KR101034661B1 (en) Method and apparatus for testing memory device using 2 loading memories
JP2007257684A (en) Memory testing device
JPH11316259A (en) Semiconductor test device and method for testing semiconductor using it
JP5240135B2 (en) Semiconductor memory device testing method and semiconductor memory device
JPH10253707A (en) Tester for integrated circuit
EP1662265A1 (en) Pattern generation device and test device
JP2005259265A (en) Device and method for testing
KR100830958B1 (en) Apparatus and Method for Decision of Test Result of Semiconductor Memory Device
JP2008071451A (en) Semiconductor testing apparatus
JP2001004707A (en) Semiconductor device test apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060517

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20090731

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20090908

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100302

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100304

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees