JP4468667B2

JP4468667B2 - 光学フィルタ及び光学機器

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Publication number: JP4468667B2
Application number: JP2003299224A
Authority: JP
Inventors: 順雄和田; 延好豊原; 健川俣
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Priority date: 2003-08-22
Filing date: 2003-08-22
Publication date: 2010-05-26
Anticipated expiration: 2023-08-22
Also published as: JP2005070354A

Description

本発明は、光学フィルタ及び光学機器に関する。

生体試料の観察などに用いられる光学機器である蛍光顕微鏡は、染色処理した細胞などの試料へ励起光を当てた際に試料が発する蛍光を観察することにより、試料の構造や性質を解析することができる。
近年のゲノム解析用としては、例えば、５０２ｎｍの波長を有する励起光で５２６ｎｍにピーク波長を有する蛍光を観察するというニーズがある。この場合、励起光と蛍光の波長が近いので、蛍光を効率よく検出するために励起光を阻止帯域でカットし蛍光観察波長の光を透過帯域で透過させる光学フィルタが、蛍光測定の感度と精度を決める非常に重要なキーパーツとして用いられている。

この光学フィルタには、透過帯域と阻止帯域の境界で分光特性の急峻な立ち上がりをもち、かつ、透過帯域で略１００％の光を透過する性能が要求されている。さらに、透過帯域においては波長の増減に対する透過率の周期的な変動（リップル）が無いことが望ましい。
このように、所定の波長帯域の光を遮断し、その他の波長の光を透過する光学フィルタであるマイナスフィルタは、図８（ａ）に示すように、基板上に高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した多層膜で作製される。ここで、横軸は光学膜厚で、縦軸は膜の屈折率を表す。また、この膜構成のときの膜を透過する光の波長と透過率との関係を分光特性として図８（ｂ）に示す。

この光学フィルタは、上述の層数を増やすほど透過帯域と阻止帯域の境界の立ち上がりを急峻にすることができる。しかし、層数を増やすほど透過帯域におけるリップルも増大してしまうという問題があった。また、図９（ａ）に示すように、各層の光学膜厚を変化させてリップルを少なくする膜設計も可能であるが、図９（ｂ）に示すようにリップルを完全になくすことは困難である。さらにこの場合、多層膜の各層の膜厚が全て異なる設計となるため、実際の成膜時の膜厚制御性が非常に悪く、安定した光学特性を得ることがきわめて困難であるという課題も有していた。

これに対し、図１０（ａ）に示すように、膜の屈折率を膜厚方向に周期的かつ連続的に変化させ、その屈折率分布をWavelet（波束）と呼ばれる形状にすると、図１０（ｂ）に示すように、透過帯域におけるリップルを原理的になくすことができる（例えば、非特許文献１参照。）。
ただし、実際の成膜時に膜の屈折率を連続的に変化させるのは非常に困難である。そこで、例えば図１１に示すように、連続的な屈折率分布を階段状に分割して近似したものが各種提案されている（例えば、特許文献１、非特許文献２、及び非特許文献３参照。）。
特許第３２９０６２９号公報（第１図） W.H.Southwell, Using Apodization Function to Reduce Sidelobes in Rugate Filters, Appl. Opt., 1989, Vol.28 P.G.Very, J.A.Dobrowolski, W.J.Wild, and R.L.Burton, Synthesis of high rejection filters with the Fourier transform method, APPLIED OPTICS, 15 July(1989), Vol.28, No.14, p2867-2874 HAND BOOK OF OPTICS, Second Edition, Vol.1, Fundamentals, Techniques, and Design, OPTICAL SOCIETY OF AMERICA, McGRAW-Hill, 1995, p42.50

しかしながら、上記従来の光学フィルタにおいては、屈折率分布を階段状に分割して成膜しても、依然として透過帯域でのリップルが少なからず残存する問題があった。また、成膜時の膜厚制御が困難であった。
本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、阻止帯域と透過帯域との境界における分光特性の立ち上がりが急峻で透過帯域でのリップルを抑制し、成膜時の膜厚制御が容易な膜構成で光学特性が安定した光学フィルタ、及び検出感度を向上した光学機器を提供することを目的とする。

本発明は、上記課題を解決するため以下の手段を採用する。
本発明に係る光学フィルタは、基板と、該基板上に形成された薄膜とから構成される光学フィルタであって、前記薄膜が、屈折率が相対的に低い低屈折率層と屈折率が相対的に高い高屈折率層とが前記基板側から交互に積層されて構成され、前記高屈折率層の屈折率が前記基板に向かって漸次高く変化する第１の積層部と、該第１の積層部に隣接し、前記高屈折率層の屈折率が第１の積層部を構成する高屈折率層のうち最も高い屈折率と略同一である第２の積層部と、該第２の積層部及び前記基板に隣接し、前記高屈折率層の屈折率が第２の積層部側から前記基板に向かって漸次低く変化すると共に、前記低屈折率層の屈折率が第２の積層部を構成する低屈折率層のうち最も低い屈折率と略同一である第３の積層部とを備え、前記第１及び第２の積層部の前記低屈折率層は、屈折率が一定である低屈折率層一定部が少なくとも１つと、前記基板に向かって屈折率が漸次低く変化する低屈折率層低下部が少なくとも１つとから構成されていることを特徴とする。

この発明によれば、透過帯域でのリップルを抑制することができると共に、低屈折率層低下部の位置を任意に設定することでフィルタ特性中の阻止帯域の幅を適宜変更することができる。

また、本発明に係る光学フィルタは、請求項１記載の光学フィルタの前記第１から第３の積層部のうち少なくとも一つの内に、前記高屈折率層の屈折率が、前記低屈折率層を介して隣接する両側の他の高屈折率層よりも低く設定された高屈折率変動層部が挿入されていることが好ましい。
また、請求項１記載の光学フィルタの前記第１から第３の積層部のうち少なくとも一つの内に、前記低屈折率層の屈折率が、前記高屈折率層を介して隣接する両側の他の低屈折率層よりも高く設定された低屈折率変動層部が挿入されていることが好ましい。
この発明によれば、透過帯域でのリップルを効果的に抑制することができる。

また、本発明に係る光学フィルタは、請求項１記載の光学フィルタの前記第１および第３の積層部の内の前記第２の積層部との各境界に、前記高屈折率層の屈折率が、前記低屈折率層を介して隣接する両側の他の高屈折率層よりも低く設定された高屈折率変動層部が１層ずつ挿入され、さらに前記各境界に、前記低屈折率層の屈折率が、前記高屈折率層を介して隣接する両側の他の低屈折率層よりも高く設定された低屈折率変動層部が１層ずつ挿入されていることが好ましい。

本発明では、透過を阻止する波長帯域の中心波長（λ）に対して設計波長をλ／ｎ（ｎは整数）とするとき、前記高屈折率層及び前記低屈折率層の光学膜厚が、前記設計波長の略ｎ／４倍に設定されていることが好ましい。
この発明によれば、光学膜厚が設計波長の略ｎ／４倍なので、実際に成膜する際の膜厚制御性が向上して安定した光学特性を得ることができる。

本発明に係る光学機器は、本発明に係る光学フィルタを備えていることを特徴とする。
この発明によれば、透過させる波長と透過を阻止する波長とが近い場合でも、透過帯域と阻止帯域との間に急峻な境界を有する光学フィルタにより、透過帯域の波長の光量を削減することなく効率良く透過させて、分光特性に優れるフィルタ性能を有することができる。

本発明の光学フィルタによれば、低屈折率層に少なくとも１つの低屈折率層低下部が設けられているので、阻止帯域の幅を変更することができると共にリップルを抑制することができる。
また、本発明の光学機器によれば、本発明に係る光学フィルタを備えているので、所望する入射光の選択性能を向上することができ、従来よりも検出感度をより向上することができる。

次に、本発明の第１の実施形態について、図１から図２を参照して説明する。
本実施形態に係る図１に示す蛍光顕微鏡（光学機器）１０は、励起フィルタ１１と、ダイクロイックミラー１２と、吸収フィルタ（光学フィルタ）１３と、接眼レンズ１４と、対物レンズ１５とを備える。

励起フィルタ１１は、光源１６から発生した光のうち特定波長のみを選択的に励起光として透過させるように光源１６の光路上に配設されている。
ダイクロイックミラー１２は、半透過鏡であって、励起フィルタ１１を透過した光の光路を載置された、例えば、生体細胞等の標本１７上に照射するように変更するとともに、この照射によって標本１７から発生した蛍光を観察側に透過するように設定されている。
接眼レンズ１４及び対物レンズ１５は、上記蛍光を観察できるように調整するものとして配設されている。

吸収フィルタ１３は、ガラス製の基板１８と、この基板１８上に形成された薄膜１９と、薄膜１９上に設けられた入射媒質１８’とから構成され、上記蛍光のみを選択的に透過させる。この入射媒質１８’は、基板１８と同じ屈折率を有する部材、例えばガラス板からなっている。
薄膜１９は、図２（ａ）に示すように、屈折率が相対的に低い低屈折率層２０と屈折率が相対的に高い高屈折率層２１とが基板１８側から交互に積層されて構成され、高屈折率層２１の屈折率が基板１８に向かって漸次高く変化する第１の積層部２２と、第１の積層部２２に隣接し、高屈折率層２１の屈折率が第１の積層部２２を構成する高屈折率層２１のうち最も高い屈折率と略同一である第２の積層部２３と、第２の積層部２３に隣接し、高屈折率層２１の屈折率が第２の積層部２３側から漸次低く変化する第３の積層部２４とを備えている。
第２の積層部の低屈折率層２０には低屈折率層２０の屈折率が基板１８に向かって漸次低く変化する低屈折率層低下部２５が設けられており、低屈折率層低下部２５の前後には低屈折率層２０の屈折率が略一定である低屈折率層一定部２６が設けられている。
低屈折率層２０は主に酸化シリコンで構成され、高屈折率層２１は主に酸化ニオブで構成されている。
本実施形態では、基板１８の屈折率を１．８とし、高屈折率層２１の屈折率を１．８１から２．２まで変化させ、低屈折率層２０の屈折率を低屈折率低下部２５において２．０から１．８まで変化させている。

この薄膜１９は、透過を阻止する波長帯域の中心波長（λ）に対して設計波長をλ／ｎ（ｎは整数）とするとき、例えば、ｎ＝１として、高屈折率層２１及び低屈折率層２０の光学膜厚が設計波長の１／４倍に設定されている。
本実施形態ではλを６００ｎｍと設定しているので、各光学膜厚は、１５０ｎｍとなる。
なお、上記の構成に加え、積層総数を６８層とし、薄膜１９の入射媒質１８’側にも屈折率２．０を有する基板があるものとし、各層の屈折率分散はないものとしてシミュレーションした結果を図２（ｂ）に示す。

次に、本実施形態に係る蛍光顕微鏡１０による観察方法について説明する。
光源１６から出射された光を励起フィルタ１１を通過させて特定波長の励起光としてダイクロイックミラー１２に投射させる。
上記励起光は、ダイクロイックミラー１２によって光路を曲げられ、対物レンズ１５で集光されて標本１７に照射される。このとき、この照射によって標本１７から蛍光が発生する。この蛍光は、対物レンズ１５を介して平行光となってダイクロイックミラー１２に到達し、これを透過して吸収フィルタ１３に至る。

吸収フィルタ１３に至った蛍光は、第１の積層部２２から入射して、第２の積層部２３及び第３の積層部２４を透過して基板１８側から再び外部へ射出される。
吸収フィルタ１３には、蛍光以外の波長を有する励起光等も混入されて入射する。しかし、薄膜１９が上述した第１の積層部２２から第３の積層部２４を有する構成とされているので、吸収フィルタ１３は、励起光等が属する波長帯域である阻止帯域２８における光を外部へ射出させるのを阻止しながら、蛍光が属する波長帯域である透過帯域２９における光を透過させる。
このとき、高屈折率層２１及び低屈折率層２０の光学膜厚が設計波長の１／４倍に設定されているので、この透過する光は、成膜時の膜厚制御性のよさから安定した光学特性を有している。
こうして、吸収フィルタ１３から射出した蛍光は、接眼レンズ１４を透過して集光されて観察側に至る。

この吸収フィルタ１３によれば、例えば図２（ｂ）に示すように、阻止帯域２８と透過帯域２９との境界における分光特性の立ち上がりが急峻であるとともに、透過帯域２９でのリップル２９ａを略完全に抑えることができる。また、成膜時の制御が容易な膜構成なので、光学特性の安定性を向上することができる。

次に、本発明に係る第２の実施形態について、図３（ａ）を参照して説明する。なお、以下の説明において、上記実施形態において説明した構成要素には同一符号を付し、その説明は省略する。
第２の実施形態が第１の実施形態と異なる点は、第２の実施形態に係る薄膜４０が、第１の積層部２２の先端側に低屈折率層低下部２５が設けられているとした点である。

すなわち、薄膜４０は、第１の積層部２２の低屈折率層２０には低屈折率層低下部２５が設けられており、第１及び第２の積層部２２、２３を構成する低屈折率層２０の内、低屈折率層低下部２５から基板１８側に向かって低屈折率層一定部２６が設けられている。
この薄膜４０には、高屈折率層２１の屈折率が低屈折率層２０を介して隣接する両側の他の高屈折率層２１よりも低く設定された高屈折率変動層部４１が、第１及び第３の積層部２２、２４内であって第２の積層部２３との境界にそれぞれ１層ずつ挿入されている。
また、低屈折率層２０の屈折率が高屈折率層２１を介して隣接する両側の他の低屈折率層２０よりも高く設定された低屈折率変動層部４２が、第１及び第３の積層部２２、２４内であって第２の積層部２３との境界にそれぞれ１層ずつ挿入されている。

本実施形態では、第２の積層部２３における高屈折率層２１の屈折率２．２に対して、高屈折率変動層部４１の屈折率を２．１５に設定しており、第２の積層部２３における低屈折率層２０の屈折率１．４に対して、低屈折率変動層部４２の屈折率を１．４２に設定している。
また、上記の構成に加え、積層総数を７５層とし、薄膜４０は、屈折率１．８を有する入射媒質１８’と屈折率１．４を有する基板１８とに挟み込まれ、各層の屈折率分散はないものとしてシミュレーションした結果を図３（ｂ）に示す。

この本実施形態に係る吸収フィルタ及び蛍光顕微鏡によれば、例えば図３（ｂ）に示すように、低屈折率層低下部２５の位置を変更することで阻止帯域２８の幅を変更することができる。また、高屈折率変動層部４１及び低屈折率変動層部４２が設けられているため、よりリップルを抑制する第１の実施形態と同様に蛍光の透過帯域におけるリップル２９ａを小さくして、十分な光量を安定的に得ることができる。

次に、本発明に係る第３の実施形態について、図４（ａ）を参照して説明する。なお、以下の説明において、上記実施形態において説明した構成要素には同一符号を付し、その説明は省略する。

第３の実施形態に係る薄膜５０は、低屈折率層２０の屈折率が基板１８に向かって漸次低く変化すると共に高屈折率層２１の屈折率が基板１８に向かって漸次高く変化する第１の積層部５１と、第１の積層部５１に隣接し、低屈折率層２０の屈折率が第１の積層部５１のうち最も低い屈折率と略同一であると共に高屈折率層２１の屈折率が第１の積層部５１から漸次高く変化する第２の積層部５２と、低屈折率層２０の屈折率が第２の積層部５２と略同一であると共に高屈折率層２１の屈折率が第２の積層部５１から漸次低く変化する第３の積層部５３と、低屈折率層２０の屈折率が第３の積層部５３から漸次高く変化すると共に高屈折率層２１の屈折率が第３の積層部５２から漸次低く変化する第４の積層部とを備えている。
本実施形態では、基板１８の屈折率を１．８とし、高屈折率層２１の屈折率を１．８１から２．２まで変化させ、低屈折率層２０の屈折率を１．４から１．８まで変化させている。

上記の構成に加え、積層総数を４５層とし、薄膜３２の入射媒質１８’側にも屈折率１．８を有する基板があるものとし、各層の屈折率分散はないものとしてシミュレーションした結果を図４（ｂ）に示す。

この本実施形態に係る吸収フィルタ及び蛍光顕微鏡によれば、例えば図４（ｂ）に示すように、上記他の実施形態と同様にリップル２９ａを抑制すると共に第２及び第３の積層部５２、５３を構成する低屈折率層２０の屈折率が一定であるため、成膜時の屈折率制御が容易となる。

次に、本発明に係る第４の実施形態について、図５（ａ）を参照して説明する。なお、以下の説明において、上記実施形態において説明した構成要素には同一符号を付し、その説明は省略する。

第４の実施形態に係る薄膜６０は、高屈折率層２１の屈折率が基板１８に向かって漸次高く変化する第１の積層部２２と、第１の積層部２２に隣接し、高屈折率層２１の屈折率が第１の積層部２２を構成する高屈折率層２１のうち最も高い屈折率と略同一である第２の積層部２３と、第２の積層部２３に隣接し、高屈折率層２１の屈折率が第２の積層部２３側から漸次低く変化する第３の積層部２４とを備え、第１から第３の積層部２２〜２４を構成する低屈折率層２０の屈折率が略同一とされている。
ここで、第１の積層部２２を構成する高屈折率層２１の屈折率勾配の絶対値が、第３の積層部２４を構成する高屈折率層２１の屈折率勾配の絶対値よりも小さくなるように形成されている。
本実施形態では、基板１８の屈折率を１．５とし、高屈折率層２１の屈折率を１．５５から２．４まで変化させ、低屈折率層２０の屈折率を１．５の一定値としている。

上記の構成に加え、積層総数を６３層とし、薄膜３２の入射媒質１８’側にも屈折率１．５を有する基板があるものとし、各層の屈折率分散はないものとしてシミュレーションした結果を図５（ｂ）に示す。

成膜時の屈折率制御は、膜厚制御以上に困難である。第１の積層部２２を構成する高屈折率層２１の屈折率勾配の絶対値が、第３の積層部２４を構成する高屈折率層２１の屈折率勾配の絶対値よりも小さくても、等しいときと略同じ光学特性が得られる。したがって、成膜時に屈折率が変動しても特性への影響が少ないので、成膜精度に優れた膜構造となる。

次に、本発明に係る第５の実施形態について、図６（ａ）を参照して説明する。なお、以下の説明において、上記実施形態において説明した構成要素には同一符号を付し、その説明は省略する。
第５の実施形態が第４の実施形態と異なる点は、第５の実施形態にかかる薄膜７０が、第１の積層部２２を構成する高屈折率層２１の屈折率勾配の絶対値が、第３の積層部２４を構成する高屈折率層２１の屈折率勾配の絶対値よりも大きくなるように形成されている点である。

上記の構成に加え、積層総数を６３層とし、薄膜３２の入射媒質１８’側にも屈折率１．５を有する基板があるものとし、各層の屈折率分散はないものとしてシミュレーションした結果を図６（ｂ）に示す。

本実施形態における薄膜７０は、第４の実施形態に係る薄膜６０と同様の作用、効果を有する。

次に、本発明に係る第６の実施形態について、図７（ａ）を参照して説明する。なお、以下の説明において、上記実施形態において説明した構成要素には同一符号を付し、その説明は省略する。

第６の実施形態に係る薄膜８０は、低屈折率層２０の屈折率が基板１８に向かって漸次低く変化する第１の積層部２２と、第１の積層部２２に隣接し、低屈折率層２０の屈折率が第１の積層部２２を構成する低屈折率層２０のうち最も低い屈折率と略同一である第２の積層部２３と、第２の積層部２３に隣接し、低屈折率層２０の屈折率が第２の積層部２３側から漸次高く変化する第３の積層部２４とを備え、第１から第３の積層部２２〜２４を構成する高屈折率層２１の屈折率が略同一とされている。
本実施形態では、基板１８の屈折率を１．８とし、高屈折率層２１の屈折率を１．８の一定値とし、低屈折率層２０の屈折率を１．４から１．７５まで変化させている。

上記の構成に加え、積層総数を４５層とし、薄膜７０の入射媒質１８’側にも屈折率１．８を有する基板があるものとし、各層の屈折率分散はないものとしてシミュレーションした結果を図７（ｂ）に示す。

この本実施形態に係る吸収フィルタ及び蛍光顕微鏡によれば、例えば図７（ｂ）に示すように、上記他の実施形態と同様に、透過帯域における蛍光のリップルを抑制して、十分な光量を安定的に得ることができる。また、高屈折率層２１の屈折率が一定であるため、成膜時の屈折率制御が容易となる。

なお、上記の実施形態では、ｎ＝１として設計波長を中心波長と同じ６００ｎｍとし、高屈折率層２１及び低屈折率層２０の光学膜厚を設計波長の１／４倍に設定しているが、ｎ＝２として設計波長を３００ｎｍとし、高屈折率層２１及び低屈折率層２０の光学膜厚を設計波長の１／２倍に設定して薄膜を形成しても、全く同様な分光特性を有する吸収フィルタを得ることができる。
さらに、中心波長６００ｎｍに対して、設計波長を６００／ｎ（ｎは整数）ｎｍとし、高屈折率層２１及び低屈折率層２０の光学膜厚を設計波長のｎ／４倍に設定して薄膜を形成しても、同様な分光特性を有する吸収フィルタを得ることができる。

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、中心波長（λ）は６００ｎｍに限らず、励起光の波長や検出したい蛍光の波長に応じてλの値を適宜変えることで、所望の光学特性を得ることができる。
また、基板の材質はガラスに限らずプラスチックでもよい。

本発明に係る第１の実施形態の蛍光顕微鏡の概要を示す図である。本発明に係る第１の実施形態における吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。本発明に係る第２の実施形態における吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。本発明に係る第３の実施形態における吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。本発明に係る第４の実施形態における吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。本発明に係る第５の実施形態における吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。本発明に係る第６の実施形態における吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。従来の吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。従来の吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。非特許文献１に記載されている従来の吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。従来の吸収フィルタの膜構成及び分光特性を示すグラフである。

符号の説明

１０蛍光顕微鏡（光学機器）
１３吸収フィルタ（光学フィルタ）
１８基板
１９、４０、５０、６０、７０、８０薄膜
２０低屈折率層
２１高屈折率層
２２、５１第１の積層部
２３、５２第２の積層部
２４、５３第３の積層部
２５低屈折率層低下部
２６低屈折率層一定部
４１高屈折率変動層部
４２低屈折率変動層部
５４第４の積層部

Claims

基板と、該基板上に形成された薄膜とから構成される光学フィルタであって、
前記薄膜が、屈折率が相対的に低い低屈折率層と屈折率が相対的に高い高屈折率層とが前記基板側から交互に積層されて構成され、
前記高屈折率層の屈折率が前記基板に向かって漸次高く変化する第１の積層部と、
該第１の積層部に隣接し、前記高屈折率層の屈折率が第１の積層部を構成する高屈折率層のうち最も高い屈折率と略同一である第２の積層部と、
該第２の積層部及び前記基板に隣接し、前記高屈折率層の屈折率が第２の積層部側から前記基板に向かって漸次低く変化すると共に、前記低屈折率層の屈折率が第２の積層部を構成する低屈折率層のうち最も低い屈折率と略同一である第３の積層部とを備え、
前記第１及び第２の積層部の前記低屈折率層は、屈折率が一定である低屈折率層一定部が少なくとも１つと、前記基板に向かって屈折率が漸次低く変化する低屈折率層低下部が少なくとも１つとから構成されていることを特徴とする光学フィルタ。
請求項１記載の光学フィルタの前記第１から第３の積層部のうち少なくとも一つの内に、前記高屈折率層の屈折率が、前記低屈折率層を介して隣接する両側の他の高屈折率層よりも低く設定された高屈折率変動層部が挿入されていることを特徴とする光学フィルタ。
請求項１記載の光学フィルタの前記第１から第３の積層部のうち少なくとも一つの内に、前記低屈折率層の屈折率が、前記高屈折率層を介して隣接する両側の他の低屈折率層よりも高く設定された低屈折率変動層部が挿入されていることを特徴とする光学フィルタ。
請求項１記載の光学フィルタの前記第１から第３の積層部のうち少なくとも一つの内に、前記高屈折率層の屈折率が、前記低屈折率層を介して隣接する両側の他の高屈折率層よりも低く設定された高屈折率変動層部が挿入され、
さらに前記第１から第３の積層部のうち少なくとも一つの内に、前記低屈折率層の屈折率が、前記高屈折率層を介して隣接する両側の他の低屈折率層よりも高く設定された低屈折率変動層部が挿入されていることを特徴とする光学フィルタ。
請求項１記載の光学フィルタの前記第１および第３の積層部の内の前記第２の積層部との各境界に、前記高屈折率層の屈折率が、前記低屈折率層を介して隣接する両側の他の高屈折率層よりも低く設定された高屈折率変動層部が１層ずつ挿入され、
さらに前記各境界に、前記低屈折率層の屈折率が、前記高屈折率層を介して隣接する両側の他の低屈折率層よりも高く設定された低屈折率変動層部が１層ずつ挿入されていることを特徴とする光学フィルタ。
透過を阻止する波長帯域の中心波長（λ）に対して設計波長をλ／ｎ（ｎは整数）とするとき、
前記高屈折率層及び前記低屈折率層の光学膜厚が、前記設計波長の略ｎ／４倍に設定されていることを特徴とする請求項１から５の何れか一つに記載の光学フィルタ。
請求項１から６の何れか一つに記載の光学フィルタを備えていることを特徴とする光学機器。