JP4461750B2 - Coaxial cable, coaxial cable manufacturing apparatus, and coaxial cable manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、同軸ケーブル及びその製造装置並びにその製造方法に係り、特に、医療機器や電子情報機器等に使用される極細の同軸ケーブル及びその製造装置並びにその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a coaxial cable, an apparatus for manufacturing the same, and a method for manufacturing the same, and more particularly to an ultrafine coaxial cable used for medical equipment, electronic information equipment, and the like, an apparatus for manufacturing the same, and a method for manufacturing the same.

同軸ケーブルの内、外径が非常に小さい(例えば、0.35mm未満)ものを極細同軸ケーブルと称している。図4に示すように、従来における一般的な極細同軸ケーブル40は、素線を撚り合わせて構成される中心導体(内部導体)41の外周に、フッ素樹脂などの絶縁体による絶縁層42を設け、その絶縁層42の外周に、順に素線を横巻きしてなるシールド層(外部導体)43、ジャケット44を設けてなる。ここで、シールド層43は高周波領域での電磁ノイズの遮蔽を行うものである。また、中心導体41及びシールド層43を構成する素線としては、素線径が0.03mmのCu-0.3mass%Sn合金線などが用いられる。さらに、絶縁層42を構成するフッ素樹脂としてはPFAなどが、ジャケット44としてはPET又はPFAなどが一般的に用いられている。   Among the coaxial cables, those having a very small outer diameter (for example, less than 0.35 mm) are referred to as micro coaxial cables. As shown in FIG. 4, the conventional general micro coaxial cable 40 is provided with an insulating layer 42 made of an insulator such as a fluororesin on the outer periphery of a central conductor (inner conductor) 41 formed by twisting strands. The outer periphery of the insulating layer 42 is provided with a shield layer (outer conductor) 43 and a jacket 44 formed by winding the strands in order. Here, the shield layer 43 shields electromagnetic noise in a high frequency region. Moreover, as a strand which comprises the center conductor 41 and the shield layer 43, the Cu-0.3mass% Sn alloy wire etc. whose strand diameter is 0.03 mm are used. Further, PFA or the like is generally used as the fluororesin constituting the insulating layer 42, and PET or PFA or the like is generally used as the jacket 44.

近年、医療機器や電子情報機器などの軽量化、小型化、及び薄型化の要求が高まっており、極細同軸ケーブルの更なる極細化(細径化)が求められている。   In recent years, demands for weight reduction, miniaturization, and thinning of medical devices and electronic information devices have been increasing, and further ultrafine coaxial cables have been demanded.

ここで、中心導体41を素線径が0.016mmのCu-2mass%Ag合金線で、絶縁層42及びジャケット44の構成材をPFAで、シールド層43を素線径が0.02mmのCu-0.2mass%Sn-0.2mass%In合金線で構成し、外径を0.205mm前後とした極細同軸ケーブルがある。   Here, the central conductor 41 is a Cu-2 mass% Ag alloy wire having a strand diameter of 0.016 mm, the constituent material of the insulating layer 42 and the jacket 44 is PFA, and the shield layer 43 is a Cu wire having a strand diameter of 0.02 mm. There is an ultra-fine coaxial cable composed of -0.2mass% Sn-0.2mass% In alloy wire with an outer diameter of around 0.205mm.

また、図4に示した構造の極細同軸ケーブル40は、細径化に限界があるため、ケーブル40とはケーブル構造の異なる極細同軸ケーブルが種々提案されている。例えば、ケーブル40の構造の内、シールド層を金属薄膜で構成した同軸ケーブルがある(例えば、特許文献1,2参照)。   Further, since the ultrafine coaxial cable 40 having the structure shown in FIG. 4 has a limit in reducing the diameter, various ultrafine coaxial cables having a cable structure different from the cable 40 have been proposed. For example, there is a coaxial cable in which the shield layer is formed of a metal thin film in the structure of the cable 40 (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

特許第2929161号公報Japanese Patent No. 2929161 特開2002−203437公報JP 2002-203437 A

しかしながら、前述した外径が0.205mm前後の極細同軸ケーブルは、素線を横巻きしてシールド層43を形成するものであるため、シールド層43の形成に長時間を要するという問題があった。また、中心導体41を構成する素線が非常に細いため、中心導体41の剛性が低く、シールド層43の形成時に突発的な外力が作用すると、線材が変形するという問題があった。   However, the above-described ultra-fine coaxial cable having an outer diameter of about 0.205 mm has a problem that it takes a long time to form the shield layer 43 because the shield layer 43 is formed by winding the strands horizontally. . Moreover, since the strand which comprises the center conductor 41 is very thin, when the rigidity of the center conductor 41 was low and sudden external force acted at the time of formation of the shield layer 43, there existed a problem that a wire will deform | transform.

特許文献1記載の同軸ケーブルは、ケーブル外径の細径化の効果は高いものの、製造工程が非常に複雑であるため製造コストが高くなってしまい、量産性に問題があった。   Although the coaxial cable described in Patent Document 1 is highly effective in reducing the outer diameter of the cable, the manufacturing process is very complicated, resulting in an increase in manufacturing cost and a problem in mass productivity.

特許文献2記載の同軸ケーブルは、同じくケーブル外径の細径化の効果は高いものの、絶縁層の表面に直接金属メッキ(無電解メッキ、電解メッキ)によるシールド層(金属薄膜)を形成している。ここで、一般の無電解メッキは、成膜速度が極めて遅く、現実的ではないという問題があった。また、電解メッキでシールド層を形成するには、被メッキ面に予め導電性の層を形成しておく必要があり、工程数の増大を招くという問題があった。さらに、絶縁層の表面に、直接、シールド層を設けているため、この同軸ケーブルのケーブル端末を接続する際に、シールド層を剥離させるのが困難であるという問題があった。   Although the coaxial cable described in Patent Document 2 is also highly effective in reducing the outer diameter of the cable, a shield layer (metal thin film) is directly formed on the surface of the insulating layer by metal plating (electroless plating, electrolytic plating). Yes. Here, the general electroless plating has a problem that the film formation rate is extremely slow and is not realistic. In addition, in order to form a shield layer by electrolytic plating, it is necessary to form a conductive layer in advance on the surface to be plated, which causes an increase in the number of processes. Further, since the shield layer is provided directly on the surface of the insulating layer, there is a problem that it is difficult to peel off the shield layer when connecting the cable end of the coaxial cable.

以上の事情を考慮して創案された本発明の目的は、ケーブルの折れ曲がり等の不具合が殆どなく、かつ、生産性が良好な同軸ケーブル及びその製造装置並びにその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention created in view of the above circumstances is to provide a coaxial cable, a manufacturing apparatus thereof, and a manufacturing method thereof, which have almost no problems such as bending of the cable and have good productivity.

上記目的を達成すべく本発明に係る同軸ケーブルは、中心導体の外周に、絶縁層及びシールド層を有する同軸ケーブルにおいて、Cu−2mass%Ag合金線を用いた単線材又はCu−2mass%Ag合金線を複数本撚り合わせた撚線材からなる上記中心導体の外周に厚さ0.033mmのPFA膜で構成される第1絶縁層を設け、その第1絶縁層の外周に、直接、厚さ0.01mmのPET膜で構成される第2絶縁層を設け、その第2絶縁層の外周に、銀鏡反応によるAg薄膜で構成される上記シールド層を設けたものである。 To achieve the above object, the coaxial cable according to the present invention is a coaxial cable having an insulating layer and a shield layer on the outer periphery of the center conductor, and a single wire material using a Cu-2 mass% Ag alloy wire or a Cu-2 mass% Ag alloy. A first insulating layer composed of a PFA film having a thickness of 0.033 mm is provided on the outer periphery of the central conductor made of a stranded wire made by twisting a plurality of wires, and a thickness of 0 is directly provided on the outer periphery of the first insulating layer. A second insulating layer composed of a .01 mm PET film is provided, and the shield layer composed of an Ag thin film by silver mirror reaction is provided on the outer periphery of the second insulating layer.

以上の構成によれば、生産性良くシールド層を形成することができ、ケーブルの折れ曲がり等の不具合が殆どなく、かつ、第1絶縁層と第2絶縁層及びシールド層とを容易に剥離することができる。   According to the above configuration, the shield layer can be formed with high productivity, there are almost no problems such as bending of the cable, and the first insulating layer, the second insulating layer, and the shield layer can be easily peeled off. Can do.

本発明によれば、屈曲特性が良好な同軸ケーブルを、生産性良く得ることができるという優れた効果を発揮する。   According to the present invention, an excellent effect is obtained that a coaxial cable having good bending characteristics can be obtained with high productivity.

以下、本発明の好適一実施の形態を添付図面に基づいて説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.

本発明の好適一実施の形態に係る同軸ケーブルの横断面図を図1に、図1の同軸ケーブルの製造に用いるケーブルコアの横断面図を図2に示す。尚、図2中において、図1と同様の部材には同じ符号を付している。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a coaxial cable according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a cable core used for manufacturing the coaxial cable of FIG. In FIG. 2, the same members as those in FIG.

図1に示すように、本実施の形態に係る同軸ケーブル10は、中心導体11の外周に、順に第1絶縁層12、第2絶縁層13、シールド層14、及びジャケット15を設けてなるものである。言い換えると、本実施の形態に係る同軸ケーブル10は、図2に示すケーブルコア20の外周に、順にシールド層14及びジャケット15を設けてなるものである。ここで、第1絶縁層12の外周には、接着層などの固定層を設けることなく、直接、第2絶縁層13が設けられる。   As shown in FIG. 1, the coaxial cable 10 according to the present embodiment includes a first insulating layer 12, a second insulating layer 13, a shield layer 14, and a jacket 15 in order on the outer periphery of the center conductor 11. It is. In other words, the coaxial cable 10 according to the present embodiment is obtained by sequentially providing the shield layer 14 and the jacket 15 on the outer periphery of the cable core 20 shown in FIG. Here, the second insulating layer 13 is provided directly on the outer periphery of the first insulating layer 12 without providing a fixing layer such as an adhesive layer.

第1絶縁層12及びジャケット15の構成材は同じものが好ましい。その構成材としては、フッ素樹脂(例えば、PFA)などが挙げられる。また、第2絶縁層13を構成する絶縁体としては、例えば、第1絶縁層12の構成材としてPFAを用いる場合、第2絶縁層13を構成する絶縁体としてPET(ポリエチレンテレフタレート)が用いられる。   The first insulating layer 12 and the jacket 15 are preferably made of the same material. Examples of the constituent material include a fluororesin (for example, PFA). Moreover, as an insulator which comprises the 2nd insulating layer 13, when using PFA as a constituent material of the 1st insulating layer 12, PET (polyethylene terephthalate) is used as an insulator which comprises the 2nd insulating layer 13, for example. .

また、第2絶縁層13は、後述するように、シールド層14の固定層として設けるものであるため、シールド層14を十分に固定できるのであれば、その層厚は特に限定するものではなく、例えば、第1絶縁層12の層厚の1/2以下、好ましくは1/3以下もあれば十分である。   Moreover, since the second insulating layer 13 is provided as a fixed layer of the shield layer 14 as described later, the thickness of the second insulating layer 13 is not particularly limited as long as the shield layer 14 can be sufficiently fixed. For example, it is sufficient if the thickness of the first insulating layer 12 is ½ or less, preferably 3 or less of the layer thickness.

シールド層14は、高周波領域での電磁ノイズの遮蔽を目的としたものであって、銀鏡反応により形成されるAg薄膜で構成される。Ag薄膜の膜厚は最低でも1μm以上、好ましくは2μm以上とされる。Ag薄膜の膜厚が1μm未満では、電磁ノイズの遮蔽が不十分となってしまう。   The shield layer 14 is intended to shield electromagnetic noise in a high frequency region, and is composed of an Ag thin film formed by a silver mirror reaction. The thickness of the Ag thin film is at least 1 μm or more, preferably 2 μm or more. If the thickness of the Ag thin film is less than 1 μm, electromagnetic noise shielding is insufficient.

中心導体11としては、素線を撚り合わせた撚線材又は1本の素線からなる単線材のいずれであってもよい。撚線材としては、例えば、素線径が0.016mmのCu-2mass%Ag合金線を複数本(図1中では7本)撚り合わせたものが挙げられる。また、単線材としては、例えば、素線径が0.04mmのCu-2mass%Ag合金線が挙げられる。   The center conductor 11 may be either a stranded wire obtained by twisting strands or a single wire made of one strand. Examples of the stranded wire include those obtained by twisting a plurality of (7 in FIG. 1) Cu-2 mass% Ag alloy wires having a strand diameter of 0.016 mm. Moreover, as a single wire, the Cu-2mass% Ag alloy wire whose strand diameter is 0.04 mm is mentioned, for example.

次に、本実施の形態に係る同軸ケーブル10の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the coaxial cable 10 according to the present embodiment will be described.

本発明者らが鋭意研究した結果、線材(ケーブルコア20(図2参照))の外周にシールド層を被覆する方法として、従来の素線の横巻き、無電解メッキ、電解メッキなどではなく、銀鏡反応を用い、銀鏡反応によるAg膜でシールド層を形成することを見出した。   As a result of intensive studies by the present inventors, as a method of covering the outer periphery of the wire (cable core 20 (see FIG. 2)) with a shield layer, it is not a conventional horizontal winding of element wire, electroless plating, electrolytic plating, It has been found that a shield layer is formed with an Ag film by silver mirror reaction using silver mirror reaction.

この銀鏡反応によるAg膜の被覆形成は、図3に示すシールド被覆装置30を用いて行う。具体的には、シールド被覆装置30は、主に、巻き取られたケーブルコア20を送り出す送出手段(送出ボビン)32と、送出されたケーブルコア20の表面に粗化処理を施す表面処理手段と、表面処理手段の後段に設けられ、表面が粗化されたケーブルコア20の外周にシールド層であるAg薄膜を形成する銀鏡反応槽36と、シールド層を被覆したケーブルコア20を巻き取る巻取手段(巻取ボビン)37とで構成される。表面処理手段は、ケーブルコア20の表面粗化を行う表面粗化ユニット34と、その表面粗化ユニット34の後段に設けられ、ケーブルコア20の表面を脱脂して酸洗浄を行う脱脂・酸洗槽35とで構成される。また、手段32と表面粗化ユニット34との間および反応槽36と手段37との間には、それぞれプーリー33a,33bが設けられる。   The coating formation of the Ag film by the silver mirror reaction is performed using a shield coating apparatus 30 shown in FIG. Specifically, the shield coating apparatus 30 mainly includes a sending means (sending bobbin) 32 that sends out the wound cable core 20, and a surface treatment means that performs a roughening process on the surface of the sent cable core 20. The silver mirror reaction tank 36 for forming an Ag thin film as a shield layer on the outer periphery of the cable core 20 whose surface is roughened, which is provided in the subsequent stage of the surface treatment means, and the winding for winding the cable core 20 covering the shield layer And means (winding bobbin) 37. The surface treatment means is provided in a subsequent stage of the surface roughening unit 34 for roughening the surface of the cable core 20 and the surface roughening unit 34, and the surface of the cable core 20 is degreased to perform acid cleaning. It is comprised with the tank 35. FIG. Further, pulleys 33a and 33b are provided between the means 32 and the surface roughening unit 34 and between the reaction vessel 36 and the means 37, respectively.

上述したシールド被覆装置30を用いたシールド層14(図1参照)の被覆工程は、表面粗化ステップとAg薄膜被覆ステップの2つのステップで構成される。   The coating process of the shield layer 14 (see FIG. 1) using the shield coating apparatus 30 described above is composed of two steps: a surface roughening step and an Ag thin film coating step.

先ず、押出被覆などにより、中心導体11の外周に第1絶縁層12を被覆形成した後、その第1絶縁層12の外周に、接着層などの固定層を設けることなく、直接、第2絶縁層13を被覆形成し、ケーブルコア20を作製する。このケーブルコア20を予め送出手段(送出ボビン)32に巻き取っておく。   First, after the first insulating layer 12 is formed on the outer periphery of the central conductor 11 by extrusion coating or the like, the second insulation is directly provided on the outer periphery of the first insulating layer 12 without providing a fixing layer such as an adhesive layer. The layer 13 is coated and the cable core 20 is produced. The cable core 20 is wound around a sending means (sending bobbin) 32 in advance.

次に、送出手段32に巻き取られたケーブルコア20を送出し、表面処理手段の表面粗化ユニット34に供給する。表面粗化ユニット34において、グロー放電による窒素ガス又はアルゴンガスのプラズマにより、走行するケーブルコア20の外周、つまり第2絶縁層13の外周が表面粗化される(表面粗化ステップ)。   Next, the cable core 20 wound around the delivery means 32 is delivered and supplied to the surface roughening unit 34 of the surface treatment means. In the surface roughening unit 34, the outer periphery of the traveling cable core 20, that is, the outer periphery of the second insulating layer 13 is roughened by the plasma of nitrogen gas or argon gas by glow discharge (surface roughening step).

次に、この表面粗化処理されたケーブルコア20を、表面粗化ユニット34の後段に設けられた脱脂・酸洗槽35に連続して供給する。脱脂・酸洗槽35において、走行するケーブルコア20は、脱脂剤溶液中に浸漬されると共に、酸溶液(例えば、塩化スズ水溶液)中に浸漬され、ケーブルコア20の表面の、脱脂、酸洗浄がなされる(表面粗化ステップ)。ここで、塩化スズ水溶液は、例えば、純水、塩化スズ、及び塩酸の混合物で構成される。   Next, the surface-roughened cable core 20 is continuously supplied to a degreasing / pickling tank 35 provided at the subsequent stage of the surface roughening unit 34. In the degreasing / pickling tank 35, the traveling cable core 20 is immersed in a degreasing agent solution and also in an acid solution (for example, tin chloride aqueous solution), and the surface of the cable core 20 is degreased and pickled. (Surface roughening step). Here, the tin chloride aqueous solution is composed of, for example, a mixture of pure water, tin chloride, and hydrochloric acid.

次に、脱脂・酸洗浄されたケーブルコア20を、脱脂・酸洗槽35の後段に設けられた銀鏡反応槽36に供給する。銀鏡反応槽36において、走行するケーブルコア20はAgメッキ液中に浸漬され、ケーブルコア20の外周に、銀鏡反応によってAg薄膜(シールド層14(図1参照))が被覆形成される(Ag薄膜被覆ステップ)。この時、ケーブルコア20の外周は、表面粗化ステップによって粗化されているため、Ag薄膜はケーブルコア20の外周に強固に密着した状態で被覆される。   Next, the degreased / acid-washed cable core 20 is supplied to a silver mirror reaction tank 36 provided at a subsequent stage of the degreasing / pickling tank 35. In the silver mirror reaction tank 36, the traveling cable core 20 is immersed in an Ag plating solution, and an Ag thin film (shield layer 14 (see FIG. 1)) is formed on the outer periphery of the cable core 20 by a silver mirror reaction (Ag thin film). Coating step). At this time, since the outer periphery of the cable core 20 is roughened by the surface roughening step, the Ag thin film is coated in a state of being tightly adhered to the outer periphery of the cable core 20.

ここで、Ag薄膜の成膜速度は、反応槽36の槽長や、Agメッキ液の濃度及び/又は配合比などを調整することで調整可能であり、例えば、1.5m/min以上という高速の成膜速度に調整することも可能である。また、銀鏡反応槽36を多段に設けて、Ag薄膜を多層に形成するようにしてもよい。これによって、厚膜(例えば、膜厚が1μm以上)のAg薄膜を得ることが可能となる。さらに、Agメッキ液は、硝酸銀水溶液、アンモニア水などを混合してなるAg溶液と、純水にグルコース、ホルマリン(登録商標)などを溶解させてなる還元性溶液とで構成される。還元性溶液がグルコース溶液である場合、還元性溶液中に、グルコースの分解を行うために少量の硝酸を加えてもよい。   Here, the film formation speed of the Ag thin film can be adjusted by adjusting the tank length of the reaction tank 36, the concentration and / or the mixing ratio of the Ag plating solution, for example, a high speed of 1.5 m / min or more. It is also possible to adjust the film forming speed. Further, the silver mirror reaction tanks 36 may be provided in multiple stages, and the Ag thin film may be formed in multiple layers. This makes it possible to obtain a thick Ag film (for example, a film thickness of 1 μm or more). Furthermore, the Ag plating solution is composed of an Ag solution obtained by mixing a silver nitrate aqueous solution, ammonia water, and the like, and a reducing solution obtained by dissolving glucose, formalin (registered trademark), etc. in pure water. When the reducing solution is a glucose solution, a small amount of nitric acid may be added to the reducing solution in order to decompose glucose.

その後、シールド被覆されたケーブルコア20は、巻取手段37に巻き取られる。最後に、十分な膜厚のシールド層14の外周に、押出被覆などによりジャケット15を被覆形成することで、図1に示した同軸ケーブル10が得られる。   Thereafter, the shield-coated cable core 20 is wound around the winding means 37. Finally, the coaxial cable 10 shown in FIG. 1 is obtained by covering the outer periphery of the shield layer 14 having a sufficient thickness with the jacket 15 by extrusion coating or the like.

本実施の形態に係る同軸ケーブル10の製造方法においては、シールド層14の被覆工程と、ジャケット15の被覆工程を、別々の工程とした場合について説明を行ったが、特にこれに限定するものではない。例えば、ジャケット15の被覆手段を、銀鏡反応槽36とプーリー33bとの間に配置し、シールド層14の被覆を行った後、連続してジャケット15の被覆を行うようにしてもよい。   In the method of manufacturing the coaxial cable 10 according to the present embodiment, the case where the coating process of the shield layer 14 and the coating process of the jacket 15 are separate processes has been described, but the present invention is not particularly limited thereto. Absent. For example, the jacket 15 may be covered between the silver mirror reaction tank 36 and the pulley 33b so as to cover the shield layer 14 and then cover the jacket 15 continuously.

次に、本実施の形態に係る同軸ケーブル10の作用を説明する。   Next, the operation of the coaxial cable 10 according to the present embodiment will be described.

本実施の形態に係る同軸ケーブル10においては、シールド層14の被覆形成は、図4に示した従来の同軸ケーブル40のように素線を横巻きする巻き付け方式ではなく、銀鏡反応によるメッキ膜方式により行っている。このため、ケーブルコア20の周りにシールド層14を被覆形成する際に、ケーブルコア20に突発的な外力が作用するおそれはなく、延いてはケーブルコア20の変形や折れ曲がりといった不具合が発生するおそれは殆どない。   In the coaxial cable 10 according to the present embodiment, the shield layer 14 is formed by a plating film method based on a silver mirror reaction instead of a winding method in which a strand is wound horizontally like the conventional coaxial cable 40 shown in FIG. It is done by. For this reason, when the shield layer 14 is formed around the cable core 20, there is no risk of sudden external force acting on the cable core 20, and thus problems such as deformation and bending of the cable core 20 occur. There is hardly any.

その結果、本実施の形態に係る同軸ケーブル10によれば、従来の巻き付け方式による同軸ケーブル40と比較して、ケーブル折れ曲がりなどの不具合の発生頻度は約1/20以下と極めて低くなり、歩留りが著しく向上すると共に、屈曲特性も良好となる。よって、生産性良く(安価で)、屈曲寿命に優れた同軸ケーブル10を得ることができる。   As a result, according to the coaxial cable 10 according to the present embodiment, the frequency of occurrence of problems such as cable bending is extremely low, about 1/20 or less, as compared with the conventional coaxial cable 40 using a winding method, and the yield is reduced. In addition to being significantly improved, the bending characteristics are also improved. Therefore, it is possible to obtain the coaxial cable 10 with high productivity (inexpensive) and excellent bending life.

また、本実施の形態に係る同軸ケーブル10においては、第1絶縁層12の外周に第2絶縁層13を設けているが、この第2絶縁層13はシールド層14の固定層として設けたものである。シールド層14は第2絶縁層13に強固に密着しているものの、第2絶縁層13と第1絶縁層12とは固定(接着)されていないため、第2絶縁層13自体は、第1絶縁層12から、治具などを用いることなく手作業により容易に剥離させることができる。   Further, in the coaxial cable 10 according to the present embodiment, the second insulating layer 13 is provided on the outer periphery of the first insulating layer 12. The second insulating layer 13 is provided as a fixed layer of the shield layer 14. It is. Although the shield layer 14 is firmly adhered to the second insulating layer 13, the second insulating layer 13 and the first insulating layer 12 are not fixed (adhered). The insulating layer 12 can be easily peeled off manually without using a jig or the like.

よって、本実施の形態に係る同軸ケーブル10は、その端末を接続する際、シールド層14と一体化した第2絶縁層13を、第1絶縁層12から容易に剥離させることができるため、端末接続の際、皮剥き作業の作業性が良好となる。   Therefore, the coaxial cable 10 according to the present embodiment can easily peel the second insulating layer 13 integrated with the shield layer 14 from the first insulating layer 12 when the terminal is connected. When connecting, the workability of the peeling work is improved.

一方、本実施の形態に係る同軸ケーブル10の製造方法においては、銀鏡反応によるメッキ膜方式を用いてシールド層14(Ag薄膜)の被覆形成を行っている。よって、従来の巻き付け方式では、素線の巻き付け時に、線材の変形や折れ曲がりといった不具合が発生し易いため、シールド層の形成速度に制限があり、最高でも1m/min以下であったのに対して、本実施の形態に係る同軸ケーブル10の製造方法においては、シールド層14の形成速度を1.5m/min以上に向上させることができる。つまり、この銀鏡反応によるメッキ膜の形成速度は、巻き付け方式と比較すると1.5倍以上、無電解メッキによるメッキ膜の形成速度と比較すると数十倍以上であり、容易に、かつ、良好な生産性でシールド層14を被覆形成することができる。   On the other hand, in the method for manufacturing the coaxial cable 10 according to the present embodiment, the shield layer 14 (Ag thin film) is formed by coating using a plating film method based on a silver mirror reaction. Therefore, in the conventional winding method, when a wire is wound, a problem such as deformation or bending of the wire is likely to occur. Therefore, there is a limitation on the formation speed of the shield layer, which is 1 m / min or less at the maximum. In the method for manufacturing the coaxial cable 10 according to the present embodiment, the formation speed of the shield layer 14 can be improved to 1.5 m / min or more. That is, the formation rate of the plating film by this silver mirror reaction is 1.5 times or more compared with the winding method, and several tens of times or more compared with the formation rate of the plating film by electroless plating, which is easy and good. The shield layer 14 can be coated with productivity.

また、本実施の形態に係る同軸ケーブル10の製造に要する工程は、第1絶縁層12、第2絶縁層13、製造装置30によるシールド層14、及びジャケット15の各被覆工程だけであり、少ない製造工程で、同軸ケーブル10を得ることができる。その結果、特許文献2記載の同軸ケーブルと比較して、本実施の形態に係る同軸ケーブル10の製造コストを低減することができる。   Further, the number of processes required for manufacturing the coaxial cable 10 according to the present embodiment is only the first insulating layer 12, the second insulating layer 13, the shield layer 14 by the manufacturing apparatus 30, and the covering process of the jacket 15. The coaxial cable 10 can be obtained in the manufacturing process. As a result, the manufacturing cost of the coaxial cable 10 according to the present embodiment can be reduced as compared with the coaxial cable described in Patent Document 2.

以上、本発明の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、他にも種々のものが想定されることは言うまでもない。   As mentioned above, it cannot be overemphasized that embodiment of this invention is not limited to embodiment mentioned above, and various things are assumed in addition.

次に、本発明の実施の形態について、実施例に基づいて説明するが、本発明の実施の形態はこれらの実施例に限定されるものではない。   Next, embodiments of the present invention will be described based on examples, but the embodiments of the present invention are not limited to these examples.

(実施例1)
中心導体として、素線径が0.016mmのCu-2mass%Ag合金線を7本撚り合わせた撚線材を用い、その中心導体の外周に、順に厚さ0.033mmのPFA膜で構成される第1絶縁層、厚さ0.01mmのPET膜で構成される第2絶縁層、厚さ2μm(0.002mm)の銀鏡反応によるAg薄膜で構成されるシールド層、及び厚さ0.025mmのPFA膜で構成されるジャケットを被覆し、外径が0.188mmの極細同軸ケーブルを製造した。
Example 1
As the central conductor, a twisted wire material in which seven strands of Cu-2 mass% Ag alloy wire having a strand diameter of 0.016 mm are twisted, and the outer periphery of the central conductor is configured with a PFA film having a thickness of 0.033 mm in order. A first insulating layer, a second insulating layer composed of a PET film having a thickness of 0.01 mm, a shield layer composed of an Ag thin film by a silver mirror reaction having a thickness of 2 μm (0.002 mm), and a thickness of 0.025 mm An ultrafine coaxial cable having an outer diameter of 0.188 mm was manufactured by covering a jacket made of a PFA film.

ここで、銀鏡反応によるAg薄膜の形成に用いるAgメッキ液は、硝酸銀水溶液0.1mol/lに、アンモニア水1mol/lを混合してなるAg溶液と、純水にグルコースを溶解させてなる還元性溶液とで構成した。   Here, the Ag plating solution used for forming the Ag thin film by the silver mirror reaction is an Ag solution obtained by mixing 1 mol / l of ammonia water with 0.1 mol / l of an aqueous silver nitrate solution, and a reduction obtained by dissolving glucose in pure water. The solution was composed of a sex solution.

(比較例1)
実施例1と同じ中心導体の外周に、厚さ0.033mmのPFA膜で構成される第1絶縁層を被覆する。その第1絶縁層の外周に、素線径が0.016mmのCu-0.2mass%Sn-0.2mass%In合金線を横巻きしてシールド層を形成する。そのシールド層の外周に、厚さ0.025mmのPFA膜で構成されるジャケットを被覆し、外径が0.197mmの極細同軸ケーブルを製造した。
(Comparative Example 1)
A first insulating layer made of a PFA film having a thickness of 0.033 mm is coated on the outer periphery of the same central conductor as in the first embodiment. On the outer periphery of the first insulating layer, a Cu-0.2 mass% Sn-0.2 mass% In alloy wire having a strand diameter of 0.016 mm is horizontally wound to form a shield layer. The outer periphery of the shield layer was covered with a jacket made of a PFA film having a thickness of 0.025 mm, and an ultrafine coaxial cable having an outer diameter of 0.197 mm was manufactured.

本発明に係る同軸ケーブルである実施例1の同軸ケーブルは、比較例1の同軸ケーブルと比較して、ケーブル外径を4.5%以上縮径することができた。   Compared with the coaxial cable of Comparative Example 1, the coaxial cable of Example 1 which is a coaxial cable according to the present invention was able to reduce the cable outer diameter by 4.5% or more.

また、実施例1の同軸ケーブルは、シールド層の形成速度は1.5m/min以上と高速であるにもかかわらず、ケーブル折れ曲がりなどの不具合は全くなく、良好な屈曲特性が得られた。これに対して、比較例1の同軸ケーブルは、シールド層の形成速度は1.0m/min以下と低速であるにもかかわらず、頻繁にケーブル折れ曲がりなどの不具合が発生しており、十分な屈曲特性が得られなかった。   Further, in the coaxial cable of Example 1, although the shield layer was formed at a high speed of 1.5 m / min or higher, there were no problems such as cable bending and good bending characteristics were obtained. On the other hand, in the coaxial cable of Comparative Example 1, although the shield layer is formed at a low speed of 1.0 m / min or less, defects such as cable bending frequently occur and the cable is sufficiently bent. Characteristics were not obtained.

また、実施例1の同軸ケーブルについては第2絶縁層を、第1絶縁層から、治具などを用いることなく手作業により容易に剥離させることができた。   Moreover, about the coaxial cable of Example 1, the 2nd insulating layer was able to be easily peeled from the 1st insulating layer by manual work, without using a jig | tool.

本実施の形態に係る同軸ケーブルは、超音波診断装置の診断プローブや内視鏡等の医療機器、携帯型情報端末やノート型コンピューター等の情報機器の信号伝送、接続ケーブルとして好適である。また、これらの他にも、産業用ロボットなどの信号伝送ケーブルとしても適用することができる。   The coaxial cable according to the present embodiment is suitable as a signal transmission and connection cable for medical devices such as diagnostic probes and endoscopes of ultrasonic diagnostic apparatuses, and information devices such as portable information terminals and notebook computers. Besides these, it can also be applied as a signal transmission cable for industrial robots and the like.

本発明の好適一実施の形態に係る同軸ケーブルの横断面図である。1 is a cross-sectional view of a coaxial cable according to a preferred embodiment of the present invention. 図1の同軸ケーブルの製造に用いるケーブルコアの横断面図である。It is a cross-sectional view of the cable core used for manufacture of the coaxial cable of FIG. 本発明の好適一実施の形態に係る同軸ケーブルの製造に用いるシールド被覆装置の概略図である。It is the schematic of the shield coating apparatus used for manufacture of the coaxial cable which concerns on preferable one Embodiment of this invention. 従来の同軸ケーブルの横断面図である。It is a cross-sectional view of a conventional coaxial cable.

符号の説明Explanation of symbols

10 同軸ケーブル
11 中心導体
12 第1絶縁層
13 第2絶縁層
14 シールド層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Coaxial cable 11 Center conductor 12 1st insulating layer 13 2nd insulating layer 14 Shield layer

Claims (4)

中心導体の外周に、絶縁層及びシールド層を有する同軸ケーブルにおいて、Cu−2mass%Ag合金線を用いた単線材又はCu−2mass%Ag合金線を複数本撚り合わせた撚線材からなる上記中心導体の外周に厚さ0.033mmのPFA膜で構成される第1絶縁層を設け、その第1絶縁層の外周に、直接、厚さ0.01mmのPET膜で構成される第2絶縁層を設け、その第2絶縁層の外周に、銀鏡反応による厚さ2μmのAg薄膜で構成される上記シールド層を設けたことを特徴とする同軸ケーブル。 In the coaxial cable having an insulating layer and a shield layer on the outer periphery of the center conductor, the center conductor is made of a single wire material using a Cu-2 mass% Ag alloy wire or a stranded wire material obtained by twisting a plurality of Cu-2 mass% Ag alloy wires. A first insulating layer composed of a PFA film having a thickness of 0.033 mm is provided on the outer periphery of the first insulating layer, and a second insulating layer composed of a PET film having a thickness of 0.01 mm is directly disposed on the outer periphery of the first insulating layer. A coaxial cable comprising: the shield layer formed of an Ag thin film having a thickness of 2 μm by silver mirror reaction on the outer periphery of the second insulating layer. 中心導体の外周に、絶縁層及びシールド層を設けてなる同軸ケーブルの製造装置において、Cu−2mass%Ag合金線を用いた単線材又はCu−2mass%Ag合金線を複数本撚り合わせた撚線材からなる上記中心導体の外周に厚さ0.033mmのPFA膜で構成される第1絶縁層と該第1絶縁層の外周に、直接、厚さ0.01mmのPET膜で構成される第2絶縁層とを設けてなるケーブルコアを送り出す送出手段と、送出されたケーブルコアの表面に粗化処理を施す表面処理手段と、表面処理手段の後段に設けられ、表面が粗化されたケーブルコアの外周に、上記シールド層であるAg薄膜を形成する銀鏡反応槽と、シールド層を被覆したケーブルコアを巻き取る巻取手段とを備えたことを特徴とする同軸ケーブルの製造装置。 In a coaxial cable manufacturing apparatus in which an insulating layer and a shield layer are provided on the outer periphery of a central conductor, a single wire material using a Cu-2 mass% Ag alloy wire or a stranded wire material obtained by twisting a plurality of Cu-2 mass% Ag alloy wires A first insulating layer composed of a PFA film having a thickness of 0.033 mm on the outer periphery of the central conductor and a second film composed of a PET film having a thickness of 0.01 mm directly on the outer periphery of the first insulating layer. Sending means for sending out a cable core provided with an insulating layer, surface treatment means for roughening the surface of the sent cable core, and cable core having a roughened surface provided after the surface treatment means A coaxial cable manufacturing apparatus comprising: a silver mirror reaction tank for forming an Ag thin film as the shield layer; and a winding means for winding the cable core covering the shield layer. 上記表面処理手段が、ケーブルコア表面の粗化を行う表面粗化ユニットと、その表面粗化ユニットの後段に設けられ、ケーブルコア表面を脱脂して酸洗浄を行う脱脂・酸洗槽とを備えた請求項2記載の同軸ケーブルの製造装置。 The surface treatment means includes a surface roughening unit that roughens the surface of the cable core, and a degreasing / pickling bath that is provided after the surface roughening unit and degreases the cable core surface to perform acid cleaning. The apparatus for manufacturing a coaxial cable according to claim 2. 中心導体の外周に、絶縁層及びシールド層を設ける同軸ケーブルの製造方法において、Cu−2mass%Ag合金線を用いた単線材又はCu−2mass%Ag合金線を複数本撚り合わせた撚線材からなる上記中心導体の外周に厚さ0.033mmのPFA膜で構成される第1絶縁層を設け、その第1絶縁層の外周に、直接、厚さ0.01mmのPET膜で構成される第2絶縁層を設け、その後、請求項2又は3記載の製造装置を用いて第2絶縁層の表面に粗化処理を施した後、第2絶縁層の外周に、銀鏡反応を用いてAg薄膜からなる上記シールド層を設けることを特徴とする同軸ケーブルの製造方法。 In the manufacturing method of the coaxial cable which provides an insulating layer and a shield layer on the outer periphery of the center conductor, it is made of a single wire material using a Cu-2 mass% Ag alloy wire or a stranded wire material obtained by twisting a plurality of Cu-2 mass% Ag alloy wires. A first insulating layer made of a PFA film having a thickness of 0.033 mm is provided on the outer periphery of the central conductor, and a second made of a PET film having a thickness of 0.01 mm is directly provided on the outer periphery of the first insulating layer. An insulating layer is provided, and then the surface of the second insulating layer is roughened using the manufacturing apparatus according to claim 2, and then the outer periphery of the second insulating layer is formed from an Ag thin film using a silver mirror reaction. A method for manufacturing a coaxial cable, comprising providing the shield layer.
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