JP4441728B2 - Pollutant removal device - Google Patents

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Description

本発明は、クリーンルームなどにおいて、空気中に存在する汚染物質を除去する汚染物質除去装置に関する。   The present invention relates to a contaminant removal apparatus that removes contaminants present in air in a clean room or the like.

半導体、液晶などを製造するクリーンルームにおいて、半導体や液晶の洗浄工程、露光工程、塗膜工程などの処理が行なわれているエリアでは、その生産プロセスで使用する薬液から気化した有機系のケミカルガスなどが空気中に含まれている。この空気中の有機物質などは、クリーンルームの作業環境や製品の歩留まりに悪影響を与えるため、除去する必要がある。本出願人は、特許文献1において、空気中の有機物質などの汚染物質をクリーンルームから除去する方法を提案している。図3は、特許文献1に記載の有機物質除去方法の説明図である。   In a clean room that manufactures semiconductors, liquid crystals, etc., in areas where semiconductor and liquid crystal cleaning processes, exposure processes, coating film processes, etc. are performed, organic chemical gases evaporated from chemicals used in the production process, etc. Is contained in the air. This organic substance in the air has an adverse effect on the working environment of the clean room and the product yield, and therefore needs to be removed. In the patent document 1, the present applicant has proposed a method for removing contaminants such as organic substances in the air from a clean room. FIG. 3 is an explanatory diagram of the organic substance removing method described in Patent Document 1.

図3において、クリーンルーム1は、例えば半導体や液晶などの製造工場に設置されている。製造装置2では、例えば半導体や液晶などが製造される。湿式汚染ガス除去装置3は、有機物質などの汚染物質に対して除去すべき空気と純水などの補給水とを接触させ、補給水への吸収、溶解などによって汚染物質を除去するものである。このように、湿式汚染ガス除去装置3は、製造装置2から漏洩した有機物質などの汚染物質を含むクリーンルーム1の室内空気(レターンエアA)を吸引して汚染物質を除去し、清浄化した空気(サプライエアD)を送風ファン6によりクリーンルーム1内に循環させる。この際に、温水コイルなどによりクリーンルーム1で必要とされる温度に空気を昇温することができる。   In FIG. 3, the clean room 1 is installed in a manufacturing factory for semiconductors, liquid crystals, and the like. In the manufacturing apparatus 2, for example, a semiconductor or a liquid crystal is manufactured. The wet pollutant gas removing device 3 makes contact between air to be removed against pollutants such as organic substances and makeup water such as pure water, and removes pollutants by absorption or dissolution in the makeup water. . In this way, the wet pollutant gas removal device 3 sucks the indoor air (return air A) of the clean room 1 containing pollutants such as organic substances leaked from the manufacturing device 2 to remove the pollutants, and to clean the air ( Supply air D) is circulated in the clean room 1 by the blower fan 6. At this time, the temperature of the air can be raised to a temperature required in the clean room 1 by a hot water coil or the like.

前記のように、湿式汚染ガス除去装置3でクリーンルーム1の室内空気を吸引し、その空気中に存在する特有の汚染物質を除去し、清浄化した空気を再度クリーンルーム1に循環させる。このような湿式汚染ガス除去装置3においては、噴霧水槽5で冷水により純水を冷却して、その低温水を使用して噴霧チャンバ7内で噴霧ノズル4から射出して処理空気に接触させることにより、汚染物質の除去性能を向上させている。低温水を利用するのは、低温水の方が物質の吸収効率が上がるためであり、さらにクリーンルームに戻す空気を加湿しないためである。また、処理後の空気はクリーンルーム内の空調(冷房及び調湿)に利用している。   As described above, the room air in the clean room 1 is sucked by the wet pollutant gas removing device 3 to remove the specific pollutants existing in the air, and the cleaned air is circulated to the clean room 1 again. In such a wet pollutant gas removing device 3, pure water is cooled with cold water in the spray water tank 5, and the low temperature water is used to inject from the spray nozzle 4 in the spray chamber 7 to contact the processing air. As a result, the contaminant removal performance is improved. The reason why low-temperature water is used is that low-temperature water has a higher substance absorption efficiency, and further does not humidify the air returned to the clean room. The treated air is used for air conditioning (cooling and humidity control) in the clean room.

なお、噴霧チャンバ7の入口と出口には、バクテリアを含む微粒子を除去するためにフィルタ8、フィルタ9を設けている。 このフィルタ8は、例えば高性能フィルタ(High Efficiency Air Filter)またはHEPAフィルタ(High Efficiency Particulate Air Filter)を使用する。また、フィルタ9としてHEPAフィルタを使用する。   A filter 8 and a filter 9 are provided at the inlet and outlet of the spray chamber 7 in order to remove microparticles containing bacteria. The filter 8 uses, for example, a high performance filter (High Efficiency Air Filter) or a HEPA filter (High Efficiency Particulate Air Filter). Further, a HEPA filter is used as the filter 9.

ところで、上記湿式汚染ガス除去装置3においては、運転条件が次のような場合には、噴霧ノズル4、その配管、噴霧チャンバ7の内壁面等に微生物(バクテリア)が繁殖する。すなわち、(1)噴霧チャンバ7の内部温度が高い。(2)バクテリア菌が噴霧チャンバ7の内部に侵入する。(3)噴霧チャンバ7内に吸引された有機物質の濃度が非常に高くバクテリア菌の食餌になりやすい。   By the way, in the wet pollutant gas removal apparatus 3, microorganisms (bacteria) propagate on the spray nozzle 4, its piping, the inner wall surface of the spray chamber 7, and the like under the following operating conditions. That is, (1) the internal temperature of the spray chamber 7 is high. (2) Bacterial bacteria enter the spray chamber 7. (3) The concentration of the organic substance sucked into the spray chamber 7 is very high, and it tends to be a diet of bacteria.

このような条件が揃って噴霧ノズル4、その配管、噴霧チャンバ7の内壁面等にバクテリアが繁殖すると、汚染物質の除去性能の低下や噴霧水量の低下などの不具合が生じる。このようなバクテリアの繁殖を防止するために種々の対応策が講じられており、定期的なメンテナンスが必要となっている。前記対応策の一例として、噴霧チャンバ7内のエア温度を下げることが行なわれている。   If these conditions are met and bacteria are propagated on the spray nozzle 4, its piping, the inner wall surface of the spray chamber 7, etc., problems such as a decrease in the removal performance of contaminants and a decrease in the amount of spray water occur. Various countermeasures have been taken to prevent such bacterial growth, and regular maintenance is required. As an example of the countermeasure, the air temperature in the spray chamber 7 is lowered.

特開2000−33221号JP 2000-33221 A

特許文献1に記載の図3に示された従来の装置においては、純水、すなわち補給水を一旦噴霧水槽5内に供給して、その後ポンプにより噴霧チャンバ7内に汲み上げて噴霧ノズル4から射出して処理空気中の汚染物質を除去している。これは、前記のように噴霧水槽5内は冷水により低温となっており、純水の温度を噴霧水槽5内で下げてから処理空気に噴霧することによりバクテリア菌の繁殖を防止するためである。   In the conventional apparatus shown in FIG. 3 described in Patent Document 1, pure water, that is, makeup water, is once supplied into the spray water tank 5 and then pumped into the spray chamber 7 by a pump and injected from the spray nozzle 4. In this way, contaminants in the processing air are removed. This is because, as described above, the spray water tank 5 has a low temperature due to cold water, and the temperature of pure water is lowered in the spray water tank 5 and then sprayed on the treatment air to prevent the growth of bacteria. .

図3の構成では、噴霧チャンバ7内の処理空気温度を、冷水で低温にした循環水(純水)により下げているが、このように循環水のみによって処理空気の温度を低下させるのは限度がある。このため、噴霧チャンバ7内に処理空気の温度を低下させるための冷却手段を設け、この冷却手段を冷水により冷却することが考えられる。   In the configuration of FIG. 3, the temperature of the processing air in the spray chamber 7 is lowered by circulating water (pure water) that has been cooled to low temperature with cold water, but there is a limit to reducing the temperature of the processing air only by circulating water. There is. For this reason, it is conceivable to provide cooling means for lowering the temperature of the processing air in the spray chamber 7 and to cool the cooling means with cold water.

この際に、冷水は湿式汚染ガス除去装置3に供給されて、各必要個所において水温や空気温度を低下させた後に配管を通して所定個所に戻される構成とされる。冷水の流入温度と流出温度の温度差が大きい場合には、冷水が流通する配管径は細くても良いのでコストを削減することができる。このため、湿式汚染ガス除去装置3に流入した低温の冷水を前記噴霧チャンバ7内に設置される前記冷却手段に供給し、ある程度昇温させてから所定個所に排出させることが考えられる。   At this time, the cold water is supplied to the wet pollutant gas removing device 3 so that the water temperature and the air temperature are lowered at each necessary place and then returned to a predetermined place through the pipe. When the temperature difference between the inflow temperature and the outflow temperature of the cold water is large, the diameter of the pipe through which the cold water flows may be small, so that the cost can be reduced. For this reason, it is conceivable that the low-temperature cold water that has flowed into the wet pollutant gas removal device 3 is supplied to the cooling means installed in the spray chamber 7 and heated to a certain extent before being discharged to a predetermined location.

前記のような冷水温度を上昇させる手段として、例えば次のような構成が考えられる。すなわち、図3の例において、送風ファン6の後段側、すなわちクリーンルーム1に近い側には、クリーンルーム1に流入させる空気の温度を上げるために加温コイルが設置される場合がある。これは、噴霧チャンバ7内で低温に処理された処理空気温度を、クリーンルーム1で必要な空調温度に上昇させるための処理である。この加温コイルに熱交換器を連結する。所定温度の温水を製造手段から加温コイルに供給し、温水製造手段への戻り経路に設置された熱交換器に前記冷水を供給することにより、冷水の温度を所定温度に上昇させ、その後前記冷却手段に供給する。   As means for raising the cold water temperature as described above, for example, the following configuration can be considered. That is, in the example of FIG. 3, a heating coil may be installed on the rear side of the blower fan 6, that is, on the side close to the clean room 1 in order to increase the temperature of the air flowing into the clean room 1. This is a process for increasing the temperature of the processing air processed at a low temperature in the spray chamber 7 to the air conditioning temperature required in the clean room 1. A heat exchanger is connected to the heating coil. The hot water of a predetermined temperature is supplied from the manufacturing means to the heating coil, and the cold water is supplied to the heat exchanger installed in the return path to the hot water manufacturing means, thereby increasing the temperature of the cold water to the predetermined temperature, and then Supply to cooling means.

しかしながら、このように空調用の加温コイルに連結される熱交換器を通して冷水の温度を上昇させると、加温コイルに供給される温水のエネルギーが奪われて温水の温度が低下する。このため、温水製造手段では戻り温水を再度所定温度に加温しなければならないので、熱源のエネルギー消費が大きくなるという問題があった。   However, when the temperature of the cold water is raised through the heat exchanger connected to the heating coil for air conditioning in this way, the energy of the hot water supplied to the heating coil is taken and the temperature of the hot water is lowered. For this reason, in the hot water production means, the return hot water must be heated again to a predetermined temperature, so that there is a problem that the energy consumption of the heat source increases.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、熱源の有効利用を図ると共に、噴霧室におけるバクテリアの繁殖を抑制することができる汚染物質除去装置の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a pollutant removal apparatus capable of effectively using a heat source and suppressing bacterial growth in a spray chamber.

このような目的を達成するために、本発明の汚染物質除去装置は、複数列の噴霧ノズルを有する噴霧室と、前記噴霧室と集水管で連結される循環水槽と、前記噴霧ノズルと前記循環水槽とを配管で連結して、前記噴霧ノズルから射出される循環水により噴霧室に流入した処理空気中の汚染物質を除去して、当該空気を空調室に送出する汚染物質除去装置であって、
補給水を、前記循環水槽からの排水が供給される第2の熱交換器を通して冷水が供給される第1の熱交換器に流入させ、前記第1の熱交換器から前記噴霧ノズルに供給し、
前記補給水が前記循環水槽を経由することなく前記噴霧室に直接供給されて前記いずれかの噴霧ノズルから射出され、
前記噴霧室に冷水により前記流入した空気を冷却する冷却手段を設け、
前記冷水は、前記空調室に設置された部品を冷却してから前記循環水が流入する第3の熱交換器に流入させ、前記第3の熱交換器から前記冷却手段に供給し、前記補給水と冷水が供給される前記第1の熱交換器と前記第3の熱交換器とを配管により直列に連結したことを特徴とする。
In order to achieve such an object, the pollutant removal apparatus of the present invention includes a spray chamber having a plurality of rows of spray nozzles, a circulating water tank connected to the spray chamber by a water collecting pipe, the spray nozzle and the circulation. A pollutant removing device that connects a water tank with a pipe, removes pollutants in the processing air flowing into the spray chamber by circulating water ejected from the spray nozzle, and sends the air to the air conditioning chamber. ,
Make-up water flows into the first heat exchanger to which cold water is supplied through the second heat exchanger to which the waste water from the circulating water tank is supplied, and is supplied from the first heat exchanger to the spray nozzle. ,
The makeup water is directly supplied to the spray chamber without going through the circulating water tank and injected from one of the spray nozzles,
A cooling means for cooling the inflowing air with cold water is provided in the spray chamber,
The cold water cools parts installed in the air-conditioning room, and then flows into a third heat exchanger into which the circulating water flows, and supplies the cooling means from the third heat exchanger to the replenishment unit. The first heat exchanger to which water and cold water are supplied and the third heat exchanger are connected in series by a pipe .

また、本発明は、前記冷水を前記空調室に設置された部品の除湿コイルに供給し、前記除湿コイルを冷却してから前記循環水が供給される前記第3の熱交換器を通して冷却コイルに送出させ、冷水の温度を序々に上昇させることを特徴とする。 In the present invention, the cold water is supplied to a dehumidification coil of a component installed in the air conditioning chamber, and the cooling coil is cooled through the third heat exchanger to which the circulating water is supplied after cooling the dehumidification coil. It is characterized in that the temperature of the chilled water is gradually increased.

また、本発明は、前記空調室に、温水が供給される加温コイルを設けたことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that a heating coil to which hot water is supplied is provided in the air conditioning room.

本発明においては、汚染物質除去装置に供給される低温の冷水を、処理空気の温度勾配とは逆に序々に昇温するように流通させ、流入側と流出側との温度差が大きくなるようにしている。この際に、空調室に流入する処理空気の温度を上昇させるために供給される温水は、冷水の温度上昇のためには使用していないので、熱源の有効利用を図ることができる。また、冷水の流入側と流出側との温度差が大きく設定されるので、冷水が流通する配管径を小さくできコストの削減が図れる。このように、クリーンルームからの処理空気を冷却するのに必要なエネルギ一を、必要温度別に整理し、エネルギ一の高い順に冷水が低い温度から高い温度に使えるように熱交換手段を直列に設置している。
さらに、純水による補給水は補給循環水槽を経由することなく直接噴霧室に供給している。このため純水は純度を保持した状態で処理空気に射出され、有機物質の除去を効果的に行うことができる。


In the present invention, low-temperature cold water supplied to the pollutant removal device is circulated so as to gradually increase the temperature, contrary to the temperature gradient of the processing air, so that the temperature difference between the inflow side and the outflow side increases. I have to. At this time, the hot water supplied to increase the temperature of the processing air flowing into the air conditioning room is not used for increasing the temperature of the cold water, so that the heat source can be effectively used. Moreover, since the temperature difference between the inflow side and the outflow side of the cold water is set large, the diameter of the pipe through which the cold water flows can be reduced and the cost can be reduced. In this way, the energy required to cool the processing air from the clean room is arranged according to the required temperature, and heat exchange means are installed in series so that the cold water can be used from the lowest temperature to the highest temperature in the order of the highest energy. ing.
Furthermore, the makeup water by pure water is directly supplied to the spray chamber without going through the makeup circulation water tank. For this reason, the pure water is injected into the processing air while maintaining the purity, and the organic substance can be effectively removed.


また、噴霧室に処理空気の冷却手段を設けると共に、噴霧室には低温の循環水と補給水とを供給しているので、噴霧室におけるバクテリアの繁殖を抑制することができる。したがって、バクテリア除去のためのメンテナンス(ランニング)コストを削減することができる。   In addition, since the spray chamber is provided with a cooling means for the processing air and low temperature circulating water and make-up water are supplied to the spray chamber, the propagation of bacteria in the spray chamber can be suppressed. Therefore, maintenance (running) costs for removing bacteria can be reduced.

さらに、複数の熱交換器を配管により直列に連結しているので、十分な汚染物質除去能力を確保しつつ、熱交換器を配管により並列に連結する場合と比較して冷水の使用量を大幅に削減することができる。このように、冷水使用量の減少により配管コストの削減や熱源容量の削減ができるので、汚染物質除去装置が設置される建物全体としては、大幅なコスト削減を図ることができる。なお、冷水の節約により地球環境改善に貢献することもできる。   In addition, since multiple heat exchangers are connected in series by piping, the amount of chilled water used is greatly increased compared to connecting heat exchangers in parallel while ensuring sufficient contaminant removal capacity. Can be reduced. As described above, since the piping cost can be reduced and the heat source capacity can be reduced by reducing the amount of cold water used, the entire building in which the pollutant removing device is installed can achieve a significant cost reduction. It is also possible to contribute to improving the global environment by saving cold water.

以下、本発明の実施の形態について説明する。図2は、本発明の汚染物質除去装置の全体構成を示す概略の構成図、図1は図2の汚染物質除去装置の中で冷温水利用部分の構成を示す構成図である。図1、図2において、50はエアワッシャー装置(噴霧室)で図3の噴霧チャンバ7に相当する。クリーンルーム(作業室)からの汚染物質が含まれている処理空気がエアワッシャー装置50に流入する。66はエアワッシャー装置50の入口に設置されるHEPAフィルタである。なお、HEPAフィルタに代えて高性能フィルタを設置しても良い。   Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the pollutant removal apparatus of the present invention, and FIG. 1 is a configuration diagram showing the configuration of the cold / hot water use portion in the pollutant removal apparatus of FIG. 1 and 2, reference numeral 50 denotes an air washer device (a spray chamber), which corresponds to the spray chamber 7 of FIG. Process air containing contaminants from the clean room (work room) flows into the air washer device 50. Reference numeral 66 denotes a HEPA filter installed at the inlet of the air washer device 50. A high performance filter may be installed instead of the HEPA filter.

68は冷却コイルで、HEPAフィルタ66を通過した処理空気を冷却する。冷却コイル68は、バクテリアが繁殖しにくいドライコイルとして使用する。この冷却コイル68には、例えば12℃の冷水が供給される。このような温度の冷水を供給した場合には冷却コイル68は結露しないので、冷却コイル表面でのバクテリアの繁殖を抑制することができる。このように、エアワッシャー装置50の入口にバクテリアを含む微粒子を除去するフィルタを設け、更にフィルタの後段に冷却コイルを設置して温度を低下させているので、バクテリアの繁殖を二重の防護手段で防止している。67は、冷却コイル68と併設される温熱回収コイルである。   A cooling coil 68 cools the processing air that has passed through the HEPA filter 66. The cooling coil 68 is used as a dry coil in which bacteria do not easily propagate. For example, cold water of 12 ° C. is supplied to the cooling coil 68. When the cold water having such a temperature is supplied, the cooling coil 68 does not condense, so that the growth of bacteria on the surface of the cooling coil can be suppressed. In this way, a filter that removes microparticles containing bacteria is provided at the inlet of the air washer device 50, and a cooling coil is installed downstream of the filter to lower the temperature. Is preventing. Reference numeral 67 denotes a heat recovery coil provided along with the cooling coil 68.

エアワッシャー装置50には、処理空気の流通方向からみて上流側から下流側に向けて複数区画の処理室、すなわち、前処理系統51、噴霧1系統52、噴霧2系統53、補給水系統54が設けられている。この例では、循環水が供給される処理室の区画数は3区画(補給水が供給される区画を含めると4区画)であるが、循環水が供給される処理室の区画数を4区画数以上とすることも可能である。処理室の区画数を4区画数以上とすることにより、処理空気中の有機物質をさらに有効に除去することができる。各処理室には、噴霧ノズル51a〜54aが設けられている。エアワッシャー装置50に流入した処理空気に、噴霧ノズル51a〜54aから低温水を射出して、水への溶解性が高いガス成分を除去する。55は補給循環水槽で図3の噴霧水槽に相当し、エアワッシャー装置50とは集水管71〜74で連結されている。なお、本発明においては補給循環水槽を単に循環水槽ということがある。   The air washer device 50 includes a plurality of processing chambers, that is, a pretreatment system 51, a spray 1 system 52, a spray 2 system 53, and a makeup water system 54 from the upstream side to the downstream side as viewed from the flow direction of the processing air. Is provided. In this example, the number of processing chambers to which the circulating water is supplied is 3 (4 including the section to which makeup water is supplied), but the number of processing chambers to which the circulating water is supplied is 4 It is possible to make it more than a few. By setting the number of processing chambers to four or more, organic substances in the processing air can be more effectively removed. In each processing chamber, spray nozzles 51a to 54a are provided. Low temperature water is injected from the spray nozzles 51a to 54a into the processing air flowing into the air washer device 50 to remove gas components having high solubility in water. 55 is a replenishment circulation water tank, which corresponds to the spray water tank of FIG. 3, and is connected to the air washer device 50 by water collecting pipes 71 to 74. In the present invention, the supplemental circulating water tank may be simply referred to as a circulating water tank.

補給循環水槽55は、第1の補給循環水槽55aと第2の補給循環水槽55bに分割されている。56a、56bは第1、第2のポンプ、57a、57bは第1、第2の水処理フィルタである。第1の補給循環水槽55aは、第1のポンプ56a、第1の水処理フィルタ57a、配管83を通して循環水を噴霧ノズル51a、52aに供給する。また、第2の補給循環水槽55bは、第2のポンプ56b、第2の水処理フィルタ57b、噴霧水熱交換器59b(第3の熱交換器)、配管85を通して循環水を噴霧ノズル53aに供給する。   The supply circulation water tank 55 is divided into a first supply circulation water tank 55a and a second supply circulation water tank 55b. Reference numerals 56a and 56b denote first and second pumps, and 57a and 57b denote first and second water treatment filters. The first supplementary circulating water tank 55a supplies the circulating water to the spray nozzles 51a and 52a through the first pump 56a, the first water treatment filter 57a, and the pipe 83. In addition, the second replenishing circulating water tank 55b is configured to supply the circulating water to the spray nozzle 53a through the second pump 56b, the second water treatment filter 57b, the spray water heat exchanger 59b (third heat exchanger), and the pipe 85. Supply.

純水による補給水(G)は、配管80により補給水排水熱交換器58(第2の熱交換器)に供給される。供給される補給水の水温は例えば20〜26℃に設定されるが、第1の補給循環水槽55aから補給水排水熱交換器58に供給される15℃程度の排水により一旦温度が下げられる。補給水排水熱交換器58からの排水は、配管86により所定個所に排出される。また、補給水排水熱交換器58で温度が下げられた補給水は、配管81を通過して補給水熱交換器59a(第1の熱交換器)に供給される。   The makeup water (G) using pure water is supplied to the makeup water drain heat exchanger 58 (second heat exchanger) through the pipe 80. The temperature of the supplied makeup water is set at, for example, 20 to 26 ° C., and the temperature is temporarily lowered by drainage of about 15 ° C. supplied from the first makeup circulation water tank 55a to the makeup water drain heat exchanger 58. The drainage from the makeup water drainage heat exchanger 58 is discharged to a predetermined location through a pipe 86. The makeup water whose temperature has been lowered by the makeup water drain heat exchanger 58 passes through the pipe 81 and is supplied to the makeup water heat exchanger 59a (first heat exchanger).

配管90で供給される冷水(E)は、配管91、92で分岐される。一方の配管91は補給水熱交換器59aに連結され、他方の配管92は後述する除湿コイル63に連結されている。補給水は、補給水熱交換器59aで冷水により更に低温に処理されて、配管82から噴霧ノズル54aに供給される。また、第2の補給循環水槽55bから噴霧ノズル53aに供給される循環水も噴霧水熱交換器59bで冷水により温度が下げられて配管85から噴霧ノズル53aに供給される。このように、冷水で低温にされた補給水と循環水がエアワッシャー装置50に供給されるので、エアワッシャー装置50内におけるバクテリアの繁殖を抑制することができる。   The cold water (E) supplied by the pipe 90 is branched by the pipes 91 and 92. One pipe 91 is connected to a makeup water heat exchanger 59a, and the other pipe 92 is connected to a dehumidifying coil 63 described later. The make-up water is further treated with cold water by the make-up water heat exchanger 59a and supplied to the spray nozzle 54a from the pipe 82. The circulating water supplied from the second replenishment circulating water tank 55b to the spray nozzle 53a is also cooled by the cold water in the spray water heat exchanger 59b and supplied from the pipe 85 to the spray nozzle 53a. As described above, the makeup water and the circulating water that have been cooled to low temperature with cold water are supplied to the air washer device 50, so that the growth of bacteria in the air washer device 50 can be suppressed.

噴霧ノズル53a、54aで射出された低温水は集水管73、74により第2の補給循環水槽55bに回収され、剰余の回収水は第1の補給循環水槽55aに流入する。第1の補給循環水槽55aからの循環水は、噴霧ノズル51a、52aにより低温水として射出され、集水管71、72により第1の補給循環水槽55aに回収される。回収水の一部は排水として流出し、エアワッシャー装置50で吸収された有機成分が濃縮されて排出される。このように、第1の補給循環水槽55aから噴霧ノズル51a、52aに供給される循環水は、一旦噴霧ノズル53a、54aで使用された回収水であるので、噴霧ノズル53aから供給される循環水よりも純度は低下している。   The low-temperature water injected by the spray nozzles 53a and 54a is collected in the second supplementary circulating water tank 55b by the water collecting pipes 73 and 74, and the surplus recovered water flows into the first supplementary circulating water tank 55a. Circulating water from the first replenishing circulating water tank 55a is injected as low-temperature water by the spray nozzles 51a and 52a, and collected by the water collecting pipes 71 and 72 to the first replenishing circulating water tank 55a. A part of the recovered water flows out as drainage, and the organic components absorbed by the air washer device 50 are concentrated and discharged. Thus, since the circulating water supplied to the spray nozzles 51a and 52a from the first replenishment circulating water tank 55a is the recovered water once used by the spray nozzles 53a and 54a, the circulating water supplied from the spray nozzle 53a. Rather than the purity.

エアワッシャー装置50には、噴霧ノズル54aの下流側にエリミネータ69が設置されている。噴霧ノズル51a〜54aで水への溶解性が高いガス成分を除去された処理空気は、さらにエリミネータ69を通過して噴霧水のミストが除去される。エアワッシャー装置50に隣接して空調チャンバ60が設けられており、エアワッシャー装置50で汚染物質が除去された処理空気は空調チャンバ(空調室)60に流入する。   In the air washer device 50, an eliminator 69 is installed on the downstream side of the spray nozzle 54a. The treated air from which the gas component having high solubility in water is removed by the spray nozzles 51a to 54a further passes through the eliminator 69, and the mist of the spray water is removed. An air conditioning chamber 60 is provided adjacent to the air washer device 50, and the processing air from which contaminants have been removed by the air washer device 50 flows into the air conditioning chamber (air conditioning chamber) 60.

図1、図2に示した実施形態においては、純水による補給水は補給循環水槽55を経由することなく直接エアワッシャー装置50に供給している。このため純水は純度を保持した状態で処理空気に射出され、有機物質の除去を効果的に行うことができる。   In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the makeup water by pure water is directly supplied to the air washer device 50 without going through the makeup circulation water tank 55. For this reason, the pure water is injected into the processing air while maintaining the purity, and the organic substance can be effectively removed.

空調チャンバ60には、循環ファン61、HEPAフィルタ62、除湿コイル63、冷熱回収コイル64、加温コイル65が設けられている。これらの各部品は、空調チャンバ60のハウジング内に設置される。エアワッシャー装置50を通過することにより、例えば12℃程度の低温にされた処理空気は、加温コイル65によりクリーンルーム(作業室)の温度調整に必要な所定温度、例えば23℃に再熱される。空調チャンバ60に流入した処理空気は、HEPAフィルタ62を通過して清浄化され、除湿コイル63により湿度が調整される。このように、空調チャンバ60に除湿コイル63を設けているので、クリーンルームに供給されるサプライエアの湿度管理を良好に行うことができる。   The air conditioning chamber 60 is provided with a circulation fan 61, a HEPA filter 62, a dehumidifying coil 63, a cold recovery coil 64, and a heating coil 65. Each of these components is installed in the housing of the air conditioning chamber 60. By passing through the air washer device 50, the processing air that has been brought to a low temperature of about 12 ° C., for example, is reheated by the heating coil 65 to a predetermined temperature required for temperature adjustment of the clean room (work chamber), for example, 23 ° C. The processing air that has flowed into the air conditioning chamber 60 passes through the HEPA filter 62 and is purified, and the humidity is adjusted by the dehumidifying coil 63. Thus, since the dehumidifying coil 63 is provided in the air conditioning chamber 60, the humidity management of the supply air supplied to the clean room can be performed satisfactorily.

図1に示した実施形態において、空調チャンバ60に設けた加温コイル65には、図示を省略した温水製造手段から温水(F)が供給されて、処理空気を再熱する。温水(F)の温度は例えば34℃に設定される。77は戻り温水量を調整するバルブである。配管92から流入する冷水は、除湿コイル63を経由して噴霧水熱交換器59bに供給される。75は冷水の流量調整用のバルブである。   In the embodiment shown in FIG. 1, hot water (F) is supplied to a heating coil 65 provided in the air conditioning chamber 60 from hot water producing means (not shown) to reheat the processing air. The temperature of the hot water (F) is set to 34 ° C., for example. Reference numeral 77 is a valve for adjusting the return hot water amount. The cold water flowing from the pipe 92 is supplied to the spray water heat exchanger 59b via the dehumidifying coil 63. 75 is a valve for adjusting the flow rate of cold water.

配管90から供給される冷水の温度は、例えば7℃に設定されているが、除湿コイル63を経由することにより10℃程度に昇温される。さらに、除湿コイル63から噴霧水熱交換器59bに供給されることにより、冷水の温度は12℃程度に昇温される。したがって、配管94を通して冷却コイル68には、その表面での結露を防止できるような水温12℃程度の冷水が供給される。図1の構成では、7℃程度の低温で装置に供給された冷水を、除湿コイル63と噴霧水熱交換器59bを通すことにより、冷却コイル表面での結露防止に有効な12℃程度に昇温させている。   The temperature of the cold water supplied from the pipe 90 is set to 7 ° C., for example, but is raised to about 10 ° C. through the dehumidifying coil 63. Furthermore, the temperature of the cold water is raised to about 12 ° C. by being supplied from the dehumidifying coil 63 to the spray water heat exchanger 59b. Therefore, cold water having a water temperature of about 12 ° C. is supplied to the cooling coil 68 through the pipe 94 so as to prevent dew condensation on the surface thereof. In the configuration of FIG. 1, the chilled water supplied to the apparatus at a low temperature of about 7 ° C. is raised to about 12 ° C., which is effective for preventing condensation on the surface of the cooling coil by passing through the dehumidifying coil 63 and the spray water heat exchanger 59b. Warm.

すなわち、装置に供給された冷水を昇温させる際に、加温コイル65に供給される温水を利用していない。このため、34℃程度で供給された温水は、途中配管での熱損失を除外すれば加温コイル65の熱損失分のみを温水製造手段で再熱すれば良いことになる。したがって、熱源の有効利用を図り、コストを低減することができる。   That is, the hot water supplied to the heating coil 65 is not used when the temperature of the cold water supplied to the apparatus is raised. For this reason, if the hot water supplied at about 34 ° C. excludes the heat loss in the piping on the way, only the heat loss of the heating coil 65 may be reheated by the hot water producing means. Therefore, the heat source can be effectively used and the cost can be reduced.

冷却コイル68に供給された冷水は、配管95を通して所定の冷水製造手段に戻される。この際の冷水還り(H)の温度は例えば17℃程度に設定される。したがって、供給された冷水(E)との温度差は10℃程度と大きくなる。このように、冷水の流入側と流出側との温度差が大きいので、配管の径を細くでき設備のコストを低減することができる。   The cold water supplied to the cooling coil 68 is returned to predetermined cold water production means through the pipe 95. The temperature of the cold water return (H) at this time is set to about 17 ° C., for example. Therefore, the temperature difference from the supplied cold water (E) is as large as about 10 ° C. Thus, since the temperature difference between the inflow side and the outflow side of the cold water is large, the diameter of the pipe can be reduced and the cost of the equipment can be reduced.

図1の構成においては、空気の温度は冷却コイル68から除湿コイル63に向けた進行方向に沿って低下している。これに対して、冷水の温度は、除湿コイル63から冷却コイル68に向けた進行方向に沿って上昇している。このように、図1の構成では、クリーンルームからの処理空気を冷却するのに必要なエネルギ一を、必要温度別に整理し、エネルギ一の高い順に冷水が低い温度から高い温度に使えるように熱交換手段を直列に設置している。7℃の冷水は、除湿コイルを通り、つぎに噴霧水熱交換器、最終的に冷却コイルを通過する。これにより、7℃の冷水は処理空気の通過する高い温度→低い温度の段階に応じて使いまわすことができる。最終的な戻り冷水温度は17℃以上となり、冷水の大温度差利用システムが確立できる。この熱フローは冷水のカスケード利用システムとなり、大きな温度差を確保することができ省エネルギ一が図れる。   In the configuration of FIG. 1, the temperature of the air decreases along the traveling direction from the cooling coil 68 toward the dehumidifying coil 63. On the other hand, the temperature of the cold water rises along the traveling direction from the dehumidifying coil 63 to the cooling coil 68. As described above, in the configuration of FIG. 1, the energy required for cooling the processing air from the clean room is arranged according to the required temperature, and heat exchange is performed so that the chilled water can be used from the lowest temperature to the highest temperature in the order of the highest energy. Means are installed in series. The cold water at 7 ° C. passes through the dehumidifying coil, then passes through the spray water heat exchanger and finally the cooling coil. Accordingly, the cold water of 7 ° C. can be reused according to the high temperature → low temperature stage through which the processing air passes. The final return cold water temperature is 17 ° C. or higher, and a system for utilizing a large temperature difference in cold water can be established. This heat flow becomes a chilled water cascade system, and a large temperature difference can be secured, thereby saving energy.

空調チャンバ60に設けた冷熱回収コイル64と、エアワッシャー装置50に設けた温熱回収コイル67は、配管96、97で連結されて、エアワッシャー装置50と空調チャンバ60間で熱の移動が行われるように構成されている。98はポンプ、99はバルブである。   The cold recovery coil 64 provided in the air conditioning chamber 60 and the thermal recovery coil 67 provided in the air washer device 50 are connected by pipes 96 and 97 so that heat is transferred between the air washer device 50 and the air conditioning chamber 60. It is configured as follows. 98 is a pump and 99 is a valve.

図1に示したように、本発明においては熱交換器として、除湿コイル63、噴霧水熱交換器(第3の熱交換器)59b、冷却コイル68を配管により直列に連結して設置している。すなわち、各熱交換器間の配管はカスケード式に連結される。したがって、複数の熱交換器を並列に設置する場合と比較して、配管を設置する際に、配管経路の幅方向の寸法を狭くすることができ、スペースを節約することができる。   As shown in FIG. 1, in the present invention, as a heat exchanger, a dehumidifying coil 63, a spray water heat exchanger (third heat exchanger) 59b, and a cooling coil 68 are connected in series by piping. Yes. That is, the pipes between the heat exchangers are connected in a cascade manner. Therefore, compared with the case where a plurality of heat exchangers are installed in parallel, when installing the pipe, the dimension in the width direction of the pipe path can be narrowed, and the space can be saved.

また、処理空気に含有される有機物質の除去率を向上させているので、装置のコンパクト化(コストの削減)を図ることができる。さらに、ユーティリティ使用量の削減による省エネルギー化を図ることができる。なお、エアワッシャー装置に供給される補給水量を可変としているので、補給水量の削減が可能である。   Moreover, since the removal rate of the organic substance contained in the processing air is improved, the apparatus can be made compact (reduction in cost). Furthermore, it is possible to save energy by reducing utility usage. Since the amount of makeup water supplied to the air washer device is variable, the amount of makeup water can be reduced.

以上説明したように、本発明によれば、熱源の有効利用を図ると共に、噴霧室におけるバクテリアの繁殖を抑制することができる汚染物質除去装置を提供することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a pollutant removal apparatus that can effectively use a heat source and can suppress the growth of bacteria in a spray chamber.

本発明の実施形態に係る汚染物質除去装置を示す構成図である。It is a block diagram which shows the contaminant removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る汚染物質除去装置を示す構成図である。It is a block diagram which shows the contaminant removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 従来例の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

50・・・エアワッシャー装置、51a〜54a・・・噴霧ノズル、55・・・補給循環水槽、56a、56b・・・ポンプ、57a、57b・・・水処理フィルタ、58・・・補給水排水熱交換器、59a・・・補給水熱交換器、59b・・・噴霧水熱交換器、60・・・空調チャンバ、63・・・除湿コイル、64・・・冷熱回収コイル、65・・・加温コイル、66・・・HEPAフィルタ、67・・・温熱回収コイル、68・・・冷却コイル、69・・・エリミネータ、71〜74・・・集水管、80〜86、90〜97・・・配管   DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 ... Air washer apparatus, 51a-54a ... Spray nozzle, 55 ... Supply circulation water tank, 56a, 56b ... Pump, 57a, 57b ... Water treatment filter, 58 ... Supply water drainage Heat exchanger, 59a ... makeup water heat exchanger, 59b ... spray water heat exchanger, 60 ... air conditioning chamber, 63 ... dehumidification coil, 64 ... cold recovery coil, 65 ... Heating coil, 66 ... HEPA filter, 67 ... heat recovery coil, 68 ... cooling coil, 69 ... eliminator, 71-74 ... collection pipe, 80-86, 90-97 ·Piping

Claims (3)

複数列の噴霧ノズルを有する噴霧室と、前記噴霧室と集水管で連結される循環水槽と、前記噴霧ノズルと前記循環水槽とを配管で連結して、前記噴霧ノズルから射出される循環水により噴霧室に流入した処理空気中の汚染物質を除去して、当該空気を空調室に送出する汚染物質除去装置であって、
補給水を、前記循環水槽からの排水が供給される第2の熱交換器を通して冷水が供給される第1の熱交換器に流入させ、前記第1の熱交換器から前記噴霧ノズルに供給し、
前記補給水が前記循環水槽を経由することなく前記噴霧室に直接供給されて前記いずれかの噴霧ノズルから射出され、
前記噴霧室に冷水により前記流入した空気を冷却する冷却手段を設け、
前記冷水は、前記空調室に設置された部品を冷却してから第3の熱交換器に流入させ、前記第3の熱交換器から前記冷却手段に供給し、前記補給水と冷水が供給される前記第1の熱交換器と前記第3の熱交換器とを配管により直列に連結したことを特徴とする、汚染物質除去装置。
A spray chamber having a plurality of rows of spray nozzles, a circulating water tank connected to the spray chamber by a water collecting pipe, the spray nozzle and the circulating water tank are connected by a pipe, and the circulating water ejected from the spray nozzle A contaminant removing device that removes contaminants in the processing air flowing into the spray chamber and sends the air to the air conditioning chamber,
Make-up water flows into the first heat exchanger supplied with cold water through the second heat exchanger supplied with the waste water from the circulating water tank, and is supplied from the first heat exchanger to the spray nozzle. ,
The makeup water is directly supplied to the spray chamber without going through the circulating water tank and injected from any of the spray nozzles,
A cooling means for cooling the inflowing air with cold water is provided in the spray chamber,
The cold water cools components installed in the air conditioning chamber and then flows into a third heat exchanger, and is supplied from the third heat exchanger to the cooling means, and the makeup water and cold water are supplied. The pollutant removing device, wherein the first heat exchanger and the third heat exchanger are connected in series by a pipe .
前記冷水を前記空調室に設置された部品の除湿コイルに供給し、前記除湿コイルを冷却してから前記第3の熱交換器を通して前記冷却手段の冷却コイルに送出させ、冷水の温度を序々に上昇させることを特徴とする、請求項1に記載の汚染物質除去装置。 The cold water is supplied to a dehumidification coil of a part installed in the air-conditioning room, and the dehumidification coil is cooled and then sent to the cooling coil of the cooling means through the third heat exchanger to gradually increase the temperature of the cold water. The pollutant removing device according to claim 1, wherein the pollutant removing device is raised. 前記空調室に、温水が供給される加温コイルを設けたことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の汚染物質除去装置。   The pollutant removal device according to claim 1 or 2, wherein a heating coil to which hot water is supplied is provided in the air conditioning room.
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