JP4440862B2 - Methyl iodide production equipment - Google Patents

Methyl iodide production equipment Download PDF

Info

Publication number
JP4440862B2
JP4440862B2 JP2005264220A JP2005264220A JP4440862B2 JP 4440862 B2 JP4440862 B2 JP 4440862B2 JP 2005264220 A JP2005264220 A JP 2005264220A JP 2005264220 A JP2005264220 A JP 2005264220A JP 4440862 B2 JP4440862 B2 JP 4440862B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methyl iodide
methane
line
inert gas
generator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005264220A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007077045A (en
Inventor
利光 渡辺
錬 岩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2005264220A priority Critical patent/JP4440862B2/en
Publication of JP2007077045A publication Critical patent/JP2007077045A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4440862B2 publication Critical patent/JP4440862B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明は、ヨウ化メチル製造装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for producing methyl iodide.

従来より、放射性薬剤の標識前駆体であるヨウ化メチル(11CHI)の製造装置として、循環経路内に、11CHの添加器、11CHとヨウ素とを反応させて11CHIを生成する反応器、生成した11CHIを捕集する捕集器とをこの順に設け、キャリアガスとなる不活性ガスをポンプ手段で循環させつつ未反応の11CHを再利用して11CHIを生成する装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特表平10−509449号公報
Conventionally, as a production apparatus for methyl iodide ( 11 CH 3 I), which is a radiopharmaceutical labeling precursor, 11 CH 4 is added in the circulation path, 11 CH 4 is reacted with iodine and 11 CH 3 is reacted. A reactor for generating I and a collector for collecting the generated 11 CH 3 I are provided in this order, and an unreacted 11 CH 4 is reused while circulating an inert gas serving as a carrier gas by a pump means. An apparatus that generates 11 CH 3 I is known (see, for example, Patent Document 1).
Japanese National Patent Publication No. 10-509449

しかしながら、従来の装置では、可動部材であるポンプ手段によりガスを循環させていたため、ヨウ素等がポンプ手段に析出して故障の原因となっていた。   However, in the conventional apparatus, since the gas is circulated by the pump means which is a movable member, iodine or the like is deposited on the pump means and causes a failure.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ポンプ手段を用いず、かつ、11CHを有効利用できるヨウ化メチル製造装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, without using the pump means, and an object of the invention to provide a methyl iodide manufacturing apparatus can be effectively utilized 11 CH 4.

本発明に係るヨウ化メチル製造装置は、不活性ガス源から不活性ガスが供給される不活性ガス流路と、不活性ガス流路内に11CHを供給可能なメタン供給器と、11CHとヨウ素とを反応させて11CHIを生成するヨウ化メチル生成器と、11CHIを捕集するヨウ化メチル捕集器と、ガスを収容可能なチャンバと、不活性ガス流路、ヨウ化メチル生成器、ヨウ化メチル捕集器、及び、チャンバをこの順に直列に接続する第1状態と、不活性ガス流路、チャンバ、ヨウ化メチル生成器、ヨウ化メチル捕集器をこの順に直列に接続する第2状態と、を選択的に切替える流路切替器と、を備える。 Methyl iodide manufacturing apparatus according to the present invention, the inert gas flow path to which the inert gas is supplied from the inert gas source, and capable of supplying methane supply the 11 CH 4 in an inert gas flow path, 11 , CH 4, methyl iodide generator for generating a 11 CH 3 I by reacting iodine, methyl iodide collector for collecting the 11 CH 3 I, and can accommodate chamber gas, an inert gas A first state in which a flow path, a methyl iodide generator, a methyl iodide collector, and a chamber are connected in series in this order, an inert gas flow path, a chamber, a methyl iodide generator, and a methyl iodide collection And a flow path switch that selectively switches between the second states in which the devices are connected in series in this order.

本発明によれば、まず、流路切替器を第1状態に設定し、メタン供給器から不活性ガス流路内に11CHを供給すると、不活性ガスをキャリアガスとして11CHが不活性ガス流路からヨウ化メチル生成器に供給され、ヨウ化メチル生成器において11CHIが生成し、生成した11CHIはヨウ化メチル捕集器に吸着される一方、未反応の11CHはヨウ化メチル捕集器を通過してチャンバ内に収容される。 According to the present invention, first, set the flow channel switching device in the first state, when supplying 11 CH 4 in an inert gas flow path from methane feeder, 11 CH 4 and inert gas as a carrier gas is not 11 CH 3 I is supplied to the methyl iodide generator from the active gas flow path, and the generated 11 CH 3 I is adsorbed to the methyl iodide collector, while unreacted. 11 CH 4 passes through the methyl iodide collector and is accommodated in the chamber.

続いて、流路切替器を第2状態に切替えると、不活性ガス流路から供給されるキャリアガスとしての不活性ガスにより、チャンバ内のガス、すなわち、未反応の11CHが再びヨウ化メチル生成器に供給され、ヨウ化メチル生成器において11CHIがさらに生成し、生成した11CHIはヨウ化メチル捕集器に吸着される。 Subsequently, when the flow path switch is switched to the second state, the gas in the chamber, that is, unreacted 11 CH 4 is iodinated again by the inert gas as the carrier gas supplied from the inert gas flow path. It is supplied to the methyl generator, and 11 CH 3 I is further generated in the methyl iodide generator, and the generated 11 CH 3 I is adsorbed to the methyl iodide collector.

したがって、ポンプ手段を用いることなく、ヨウ化メチル生成器から排出される未反応の11CHをチャンバから再びヨウ化メチル生成器に戻して再利用させることができる。 Therefore, unreacted 11 CH 4 discharged from the methyl iodide generator can be returned from the chamber to the methyl iodide generator and reused without using a pump means.

ここで、メタン供給器は、11CHを吸着する吸着剤が充填されるメタン吸着カラムとメタン吸着カラムを加熱して吸着剤から11CHを脱離させる加熱器とを有することが好ましい。 Here, the methane feeder preferably includes a methane adsorption column filled with an adsorbent that adsorbs 11 CH 4 and a heater that heats the methane adsorption column and desorbs 11 CH 4 from the adsorbent.

これによれば、11CHに対する選択性の高い吸着剤を用いることにより、11CHを不活性ガス流路内に高純度に供給することが容易である。 According to this, by using a highly selective adsorbents for 11 CH 4, it is easy to supply the high purity 11 CH 4 in an inert gas flow path.

また、11COとHとを反応させて11CHを生成させるメタン生成器をさらに備え、メタン生成器はメタン吸着カラムに接続され、メタン生成器に不活性ガス供給源から不活性ガスが供給されることが好ましい。 The methane generator further includes a methane generator that reacts 11 CO 2 and H 2 to generate 11 CH 4 , the methane generator is connected to the methane adsorption column, and the inert gas from the inert gas supply source to the methane generator. Is preferably supplied.

これによれば、11COから11CHをその場で生成し、生成した11CHを不活性ガスにより移送してメタン吸着カラムの吸着剤に吸着させることができる。 According to this, 11 CH 4 can be generated from 11 CO 2 on the spot, and the generated 11 CH 4 can be transferred by the inert gas and adsorbed on the adsorbent of the methane adsorption column.

また、不活性ガス流路は、メタン供給器をバイパスするバイパスラインをさらに有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that an inert gas flow path further has a bypass line which bypasses a methane feeder.

これによれば、流路切替器が第2状態となっており、メタン供給器からメタンを供給する必要がない場合に、メタン供給器をバイパスして不活性ガス流路から不活性ガスが流れるので、不活性ガスの清浄性が向上して好ましい。   According to this, when the flow path switching device is in the second state and it is not necessary to supply methane from the methane supply device, the inert gas flows from the inert gas flow channel bypassing the methane supply device. Therefore, the cleanliness of the inert gas is improved, which is preferable.

さらに、流路切替器としては、いわゆる6方弁を有することが好ましく、これにより低コスト化及び操作の簡単化が図られる。   Furthermore, it is preferable to have a so-called six-way valve as the flow path switching device, thereby reducing the cost and simplifying the operation.

本発明によれば、ポンプ手段を用いず、かつ、11CHを有効利用できるヨウ化メチル製造装置が実現する。 According to the present invention, an apparatus for producing methyl iodide that does not use pump means and can effectively use 11 CH 4 is realized.

以下、本発明によるヨウ化メチル製造装置の好適な実施形態について図1を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施形態に係るヨウ化メチル製造装置を示す概略構成図である。なお、以降の図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a methyl iodide production apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an apparatus for producing methyl iodide according to an embodiment of the present invention. In the following description of the drawings, the same or equivalent elements will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

図1に示すように、本実施形態のヨウ化メチル製造装置100は、例えば、病院等のPET検査(陽電子断層撮影検査)等に使用される放射性薬剤の標識前駆体である11CHIを製造するヨウ化メチル製造装置である。必要に応じて、生成した11CHIからさらに11CHOTfを生成させることもできる。 As shown in FIG. 1, the methyl iodide production apparatus 100 of the present embodiment includes 11 CH 3 I, which is a radiopharmaceutical label precursor used in, for example, a PET examination (positron emission tomography examination) in a hospital or the like. This is an apparatus for producing methyl iodide. If necessary, 11 CH 3 OTf can be further generated from the generated 11 CH 3 I.

このヨウ化メチル製造装置100は概略、不活性ガスが供給される不活性ガス流路1と、不活性ガス流路1に11CHを供給するメタン供給器2と、11CHとヨウ素とを反応させて11CHIを生成するヨウ化メチル生成器3と、合成した11CHIを捕集するヨウ化メチル捕集器4と、ガスを収容可能なチャンバ5と、ガスの流路を切替る6方弁80と、を備えている。 This methyl iodide production apparatus 100 is roughly composed of an inert gas flow path 1 to which an inert gas is supplied, a methane feeder 2 for supplying 11 CH 4 to the inert gas flow path 1, 11 CH 4 and iodine. with methyl iodide generator 3 for generating a 11 CH 3 I by reacting, with methyl iodide collector 4 for collecting the synthesized 11 CH 3 I, and can accommodate chamber 5 gas, flow of gas And a six-way valve 80 for switching the path.

不活性ガス流路1は、不活性ガスとしてのヘリウム供給源S1(例えば、Heボンベ)に一端が接続されると共に、他端が6方弁80の開口aに接続されたラインL1を有してている。ラインL1には、上流側から順に、圧力計20、マスフローコントローラ10、バルブV7、CO吸着カラム72、メタン供給器2、3方弁V9、及び、3方弁V10がこの順に接続されている。 The inert gas flow path 1 has a line L1 having one end connected to a helium supply source S1 (for example, He cylinder) as an inert gas and the other end connected to the opening a of the six-way valve 80. It is. The pressure gauge 20, the mass flow controller 10, the valve V7, the CO 2 adsorption column 72, the methane feeder 2, the three-way valve V9, and the three-way valve V10 are connected to the line L1 in this order from the upstream side. .

CO吸着カラムとしては、アスカライトII等、苛性ソーダやソーダ石灰等のアルカリを主成分とする充填剤を充填したカラムを使用できる。 As the CO 2 adsorption column, a column filled with a filler mainly composed of alkali such as caustic soda or soda lime such as Ascarite II can be used.

メタン供給器2は、メタン吸着カラム44及びこのメタン吸着カラム44を加熱及び冷却可能な温度制御器(加熱器)46を有している。温度制御器としては、例えば、電熱ヒータ及び好ましくは空冷ファンを有するものを使用できる。メタン吸着カラム44内の吸着剤としては、11CHを選択的に吸着するものであれば特に限定されないが、例えば、60−80メッシュのCarbosphere(登録商標)等を使用できる。例えば、温度制御器46によってメタン吸着カラム44内の吸着剤を常温にすると11CHがこの吸着剤に選択的に吸着される一方、例えば、吸着剤を120〜130℃程度の高温にすると、吸着剤から11CHが脱離するので、不活性ガス流路1に11CHを高純度に供給できる。 The methane feeder 2 has a methane adsorption column 44 and a temperature controller (heater) 46 that can heat and cool the methane adsorption column 44. As the temperature controller, for example, an electric heater and preferably one having an air cooling fan can be used. The adsorbent in the methane adsorption column 44 is not particularly limited as long as it selectively adsorbs 11 CH 4. For example, 60-80 mesh Carbosphere (registered trademark) can be used. For example, when the adsorbent in the methane adsorption column 44 is brought to room temperature by the temperature controller 46, 11 CH 4 is selectively adsorbed to the adsorbent, while, for example, when the adsorbent is brought to a high temperature of about 120 to 130 ° C. since the adsorbent 11 CH 4 is released, the inert gas flow path 1 can supply the 11 CH 4 into a high purity.

3方弁V9の他方の開口には排ガスラインL8が接続されている。   An exhaust gas line L8 is connected to the other opening of the three-way valve V9.

ラインL1のマスフローコントローラ10とバルブV7との間からは、メタン供給器2をバイパスするバイパスラインL7が分岐しており、このバイパスラインL7は3方弁V10の他の開口に接続されている。このラインL7にはバルブV8が接続されている。本実施形態では、ラインL1及びバイパスラインL7が不活性ガス流路1を構成する。   A bypass line L7 that bypasses the methane feeder 2 is branched from the mass flow controller 10 and the valve V7 in the line L1, and the bypass line L7 is connected to another opening of the three-way valve V10. A valve V8 is connected to the line L7. In the present embodiment, the line L1 and the bypass line L7 constitute the inert gas flow path 1.

また、ラインL1における、3方弁V9と3方弁V10との間にはラインL1を流れる物質から放射される放射線強度(radiation intensity)を測定する放射線センサRI3が設置されている。   In addition, a radiation sensor RI3 that measures radiation intensity emitted from the substance flowing through the line L1 is installed between the three-way valve V9 and the three-way valve V10 in the line L1.

ラインL1におけるバルブV7とCO吸着カラム72との間からはラインL2が分岐しており、このラインL2は、ラインL1における圧力計20よりも上流側の部分に接続されている。ラインL2には、上流側から順に、圧力計16、フローメータ12、バルブV1、バルブV4、メタン生成器6、バルブV5,3方弁V6が接続されている。 A line L2 branches from between the valve V7 and the CO 2 adsorption column 72 in the line L1, and this line L2 is connected to a part upstream of the pressure gauge 20 in the line L1. A pressure gauge 16, a flow meter 12, a valve V1, a valve V4, a methane generator 6, a valve V5, and a three-way valve V6 are connected to the line L2 in order from the upstream side.

さらに、ラインL2におけるバルブV1とバルブV4との間からはラインL3及びラインL4が分岐しており、それぞれ水素供給源S2及び11CO供給源S3に接続されている。水素供給源S2は例えば水素ボンベ、供給源S3は、例えばサイクロトロン(不図示)によって11COを製造するターゲット容器に接続されている。 Further, a line L3 and a line L4 branch from between the valve V1 and the valve V4 in the line L2, and are connected to the hydrogen supply source S2 and the 11 CO 2 supply source S3, respectively. The hydrogen supply source S2 is connected to, for example, a hydrogen cylinder, and the supply source S3 is connected to a target container that produces 11 CO 2 by, for example, a cyclotron (not shown).

ラインL3には、上流側から順に、圧力計18、フローメータ14、及びバルブV2が接続されている。また、ラインL4にはバルブV3が接続されている。   A pressure gauge 18, a flow meter 14, and a valve V2 are connected to the line L3 in this order from the upstream side. A valve V3 is connected to the line L4.

メタン生成器6は、還元触媒が充填されたメタン生成カラム40と、メタン生成カラム40を加熱・冷却可能な温度制御器42と、を有している。常温にて還元触媒上に11COを吸着させ、その後、水素の存在下で還元触媒を440−460℃程度に加熱する事により、11COと水素とを反応させることができ11CHが生成する。還元触媒としては、例えば、50−80メッシュのShimalite Ni等を利用できる。 The methane generator 6 includes a methane generation column 40 filled with a reduction catalyst, and a temperature controller 42 that can heat and cool the methane generation column 40. At room temperature on a reducing catalyst to adsorb 11 CO 2, then, by heating the reduced catalyst in order 440-460 ° C. in the presence of hydrogen, it is possible to react the 11 CO 2 and hydrogen 11 CH 4 Produces. As the reduction catalyst, for example, 50-80 mesh Shimalite Ni can be used.

メタン生成器6には、メタン生成カラム40内の還元触媒から放射する放射線強度を測定する放射線センサRI1が設けられている。   The methane generator 6 is provided with a radiation sensor RI <b> 1 that measures the radiation intensity radiated from the reduction catalyst in the methane generation column 40.

3方弁V6の他端には排ガスラインL5が接続されており、排ガスラインL5にはCO吸着カラム70が接続されている。 An exhaust gas line L5 is connected to the other end of the three-way valve V6, and a CO 2 adsorption column 70 is connected to the exhaust gas line L5.

続いて、6方弁80について説明する。6方弁80は、a〜fの各開口を有するバルブであり、開口bと開口cとを連通し、開口dと開口eとを連通し、開口aと開口fとを連通する第1状態と、開口aと開口bとを連通し、開口cと開口dとを連通し、開口eと開口fとを連通する第2状態と、を選択的に変更できるバルブである。   Subsequently, the six-way valve 80 will be described. The six-way valve 80 is a valve having openings a to f, and is in a first state in which the opening b and the opening c are communicated, the opening d and the opening e are communicated, and the opening a and the opening f are communicated. And a second state in which the opening a and the opening b communicate with each other, the opening c and the opening d communicate with each other, and the opening e and the opening f communicate with each other.

上述したように、ラインL1の他端は6方弁80の開口aに接続されている。6方弁80の開口bにはラインL12の一端が接続され、開口eにはラインL12の他端が接続されている。   As described above, the other end of the line L1 is connected to the opening a of the six-way valve 80. One end of a line L12 is connected to the opening b of the six-way valve 80, and the other end of the line L12 is connected to the opening e.

このラインL12には、チャンバ5が接続されている。チャンバ5は、所定の容量を有してガスを貯留可能な空カラムである。本実施形態では、チャンバ5としてラインL12よりも管径が太い管を採用しているが、所定の容量を有しさえすればよいので、例えば、ラインL12自体を十分長くしてもチャンバ5として機能させることができる。チャンバ5の容量は、好ましくは、6方弁80の切替えの時間を稼ぐための必要体積として、ヨウ素気化カラム50及びヨウ化メチル生成カラム52の合計体積の1〜2倍程度である。なお、チャンバ5内に11CHを吸着する吸着剤を充填してもよい。この場合には、チャンバ5の容量は空カラムとする場合に比べて少なくて済むが、吸着後に吸着剤から11CHを脱離させるためにチャンバ5を加熱する温度制御器82を設ける必要がある。また、ラインL12におけるチャンバ5よりも開口e側の部分から放射される放射線強度を測定する放射線センサRI2が設けられている。 The chamber 5 is connected to the line L12. The chamber 5 is an empty column having a predetermined capacity and capable of storing gas. In the present embodiment, a tube having a diameter larger than that of the line L12 is adopted as the chamber 5, but it is only necessary to have a predetermined capacity. For example, even if the line L12 itself is sufficiently long, the chamber 5 Can function. The capacity of the chamber 5 is preferably about 1 to 2 times the total volume of the iodine vaporizing column 50 and the methyl iodide generating column 52 as a necessary volume for obtaining the switching time of the six-way valve 80. The chamber 5 may be filled with an adsorbent that adsorbs 11 CH 4 . In this case, the capacity of the chamber 5 is smaller than that in the case of using an empty column, but it is necessary to provide a temperature controller 82 for heating the chamber 5 in order to desorb 11 CH 4 from the adsorbent after adsorption. is there. In addition, a radiation sensor RI2 that measures the radiation intensity emitted from the portion of the line L12 closer to the opening e than the chamber 5 is provided.

また、6方弁80の開口cにラインL10の一端が接続され、開口fにはラインL10の他端が接続されている。ラインL10には、開口fから開口cに向かって順に、ヨウ化メチル生成器3、CO吸着カラム74、及び、ヨウ化メチル捕集器4が接続されている。 One end of the line L10 is connected to the opening c of the six-way valve 80, and the other end of the line L10 is connected to the opening f. The methyl iodide generator 3, the CO 2 adsorption column 74, and the methyl iodide collector 4 are connected to the line L10 in order from the opening f to the opening c.

ヨウ化メチル生成器3は、上流側(開口f側)に設けられたヨウ素気化カラム50と、ヨウ素気化カラム50よりも下流側(開口c側)に設けられたヨウ化メチル生成カラム52と、ヨウ素気化カラム50を加熱・冷却する温度制御器51と、ヨウ化メチル生成カラム52を加熱・冷却する温度制御器54と、を有している。   The methyl iodide generator 3 includes an iodine vaporization column 50 provided on the upstream side (opening f side), a methyl iodide production column 52 provided on the downstream side (opening c side) from the iodine vaporization column 50, A temperature controller 51 for heating and cooling the iodine vaporizing column 50 and a temperature controller 54 for heating and cooling the methyl iodide generation column 52 are provided.

ヨウ素気化カラム50には、固体のヨウ素が予め充填されており、温度制御器51によりヨウ素気化カラム50を70〜95℃程度に加熱する事により、ラインL10内にヨウ素ガスを供給する。   The iodine vaporization column 50 is filled with solid iodine in advance, and iodine gas is supplied into the line L10 by heating the iodine vaporization column 50 to about 70 to 95 ° C. by the temperature controller 51.

ヨウ化メチル生成カラム52はガラス製等の反応管である。温度制御器54により例えば、650〜750℃程度にヨウ化メチル生成カラム52を加熱する事により、ヨウ化メチル生成カラム52内でヨウ素と11CHとを反応させ11CHIを生成する。 The methyl iodide production column 52 is a reaction tube made of glass or the like. For example, by heating the methyl iodide generation column 52 to about 650 to 750 ° C. by the temperature controller 54, iodine and 11 CH 4 are reacted in the methyl iodide generation column 52 to generate 11 CH 3 I.

ヨウ化メチル捕集器4は、ヨウ化メチル吸着カラム56と、ヨウ化メチル吸着カラム56を加熱・冷却する温度制御器58と、を有する。   The methyl iodide collector 4 includes a methyl iodide adsorption column 56 and a temperature controller 58 that heats and cools the methyl iodide adsorption column 56.

ヨウ化メチル吸着カラム56は、11CHI及び未反応の11CHの混合物から11CHIを選択的に吸着する吸着剤が充填されるカラムである。吸着剤は特に限定されないが、例えば、50−80メッシュのPorapack N等を採用できる。そして、例えば、温度制御器62によりヨウ化メチル吸着カラム56を常温にしておいて混合ガスから11CHIを選択的に吸着剤に吸着させ、その後、温度制御器58によりヨウ化メチル吸着カラム56を例えば、180〜200℃まで加熱する事により、吸着剤から11CHIを脱離させることができる。 The methyl iodide adsorption column 56 is a column filled with an adsorbent that selectively adsorbs 11 CH 3 I from a mixture of 11 CH 3 I and unreacted 11 CH 4 . The adsorbent is not particularly limited, and for example, 50-80 mesh Porapack N can be used. Then, for example, the methyl iodide adsorption column 56 is brought to room temperature by the temperature controller 62 and 11 CH 3 I is selectively adsorbed on the adsorbent from the mixed gas, and then the methyl iodide adsorption column by the temperature controller 58. For example, 11 CH 3 I can be desorbed from the adsorbent by heating 56 to 180 to 200 ° C.

また、ヨウ化メチル吸着カラム56には、吸着した物質から発する放射線強度を検知する放射線センサRI4が設けられている。   The methyl iodide adsorption column 56 is provided with a radiation sensor RI4 that detects the intensity of radiation emitted from the adsorbed substance.

6方弁80の開口dにはラインL14が接続されている。ラインL14には、開口d側から順に、3方弁V11、3方弁V12、バルブV14が接続されている。3方弁V11の他端と3方弁V12の他端とには、バイパスラインL16の両端がそれぞれ接続されている。バイパスラインL16にはトリフレート生成器8が接続されている。   A line L14 is connected to the opening d of the six-way valve 80. A three-way valve V11, a three-way valve V12, and a valve V14 are connected to the line L14 in order from the opening d side. Both ends of the bypass line L16 are connected to the other end of the three-way valve V11 and the other end of the three-way valve V12. A triflate generator 8 is connected to the bypass line L16.

トリフレート生成器8は、AgOTf(Silver trifluoromethanesulfonate)が充填されたトリフレート生成カラム60と、このトリフレート生成カラム60を加熱及び冷却可能な温度制御器62と、を有している。上流から11CHIが供給された場合に、温度制御器62によりトリフレート生成カラム60を例えば、200−230℃程度に加熱すると、11CHIをメチルトリフレート(11CHOTf)に転化することができる。 The triflate generator 8 includes a triflate production column 60 filled with AgOTf (Silver trifluoromethanesulfonate), and a temperature controller 62 that can heat and cool the triflate production column 60. If the upstream from the 11 CH 3 I is supplied, the triflate product column 60 by the temperature controller 62 for example, when heated to about 200-230 ° C., a 11 CH 3 I methyl triflate (11 CH 3 OTf) Can be converted.

したがって、11CHIを最終生成物としたい場合にはバイパスラインL16にガスを流さないようにし、一方、11CHIでなく11CHOTfを最終生成物としたい場合には、バイパスラインL16により、ラインL14を流れるガスがトリフレート生成器8に流れるようにすればよい。 Thus, 11 CH 3 so as not to flow gas to the bypass line L16 if you want the I the final product, whereas, when it is desired to the final product 11 CH 3 I is not 11 CH 3 OTf, the bypass line The gas flowing in the line L14 may be made to flow to the triflate generator 8 by L16.

ラインL14におけるバルブV12とバルブV14との間からは、排ガスラインL18が分岐している。排ガスラインL18は、バルブV13を有している。   An exhaust gas line L18 branches from between the valve V12 and the valve V14 in the line L14. The exhaust gas line L18 has a valve V13.

ここでまとめると、6方弁80は、不活性ガス流路1、ヨウ化メチル生成器3、ヨウ化メチル捕集器4、及び、チャンバ5をこの順に直列に接続する第1流路を形成する第1状態と、不活性ガス流路1、チャンバ5、ヨウ化メチル生成器3、ヨウ化メチル捕集器4をこの順に直列に接続する第2流路を形成する第2状態とを選択的に切替える流路切替器となっている。   In summary, the six-way valve 80 forms a first flow path that connects the inert gas flow path 1, the methyl iodide generator 3, the methyl iodide collector 4, and the chamber 5 in series in this order. And a second state that forms a second flow path that connects the inert gas flow path 1, the chamber 5, the methyl iodide generator 3, and the methyl iodide collector 4 in series in this order. It is a flow path switching device that switches automatically.

次に、このように構成されたヨウ化メチル製造装置100を用いて、11CHI又は11CHOTfを合成する方法について図2〜9を参照しながら説明する。なお、バルブにおける黒く塗りつぶした部分は閉状態を、バルブにおける白抜きの部分は開状態を意味するものとする。 Next, a method of synthesizing 11 CH 3 I or 11 CH 3 OTf using the thus configured methyl iodide production apparatus 100 will be described with reference to FIGS. It should be noted that a black portion in the valve means a closed state, and a white portion in the valve means an open state.

このヨウ化メチル製造方法は概略、11COから11CHを生成する11CH生成工程と、生成した11CHを吸着により精製する11CH精製工程と、精製された11CHをヨウ化メチル生成器に供給して11CHIを生成し、生成した11CHIをヨウ化メチル吸着器に吸着させ、未反応の11CHをチャンバ5に収容する第1反応工程と、チャンバ5内の未反応の11CHを再びヨウ化メチル生成器に供給して11CHIを生成し、生成した11CHIをヨウ化メチル吸着器に吸着させる第2反応工程と、ヨウ化メチル吸着器から11CHIを脱離させて必要に応じて11CHIを11CHOTfに転化した上で系外に排出する排出工程とを行う。 This methyl iodide production method is roughly composed of an 11 CH 4 production step for producing 11 CH 4 from 11 CO 2, an 11 CH 4 purification step for purifying the produced 11 CH 4 by adsorption, and a purified 11 CH 4 and supplies the methyl iodide generator generates a 11 CH 3 I, the resulting 11 CH 3 I is adsorbed methyl iodide adsorber, the 11 CH 4 and unreacted first reaction step to be accommodated in the chamber 5 a second reaction step of adsorbing is supplied to the re-methyl iodide generator 11 CH 4 unreacted chamber 5 generates a 11 CH 3 I, the resulting 11 CH 3 I methyl iodide adsorber Then, 11 CH 3 I is desorbed from the methyl iodide adsorber, and if necessary, 11 CH 3 I is converted to 11 CH 3 OTf and then discharged out of the system.

まず、予め全バルブとも閉とし、また、6方弁80を第1状態とする。また、予め、ヨウ素気化カラム50内には固体ヨウ素を、トリフレート生成カラム60には、AgOTfを充填する。また、各カラム内の吸着剤は、エージングされて清浄となっているものとし、また、吸着剤の温度を常温にする。   First, all the valves are closed in advance, and the six-way valve 80 is set to the first state. Further, in advance, solid iodine is filled in the iodine vaporization column 50, and AgOTf is filled in the triflate production column 60. Further, the adsorbent in each column is aged and cleaned, and the temperature of the adsorbent is set to room temperature.

まず始めに、図2に示すように、バルブV3、V4,V5を開放すると共に、バルブV6を操作してラインL2の上流側(ヘリウム供給源S1側)とラインL5とを連通させ、11CO供給源S3からの11COをメタン生成器6に供給し、メタン生成カラム40内の還元触媒に11COを吸着させる。なお、吸着されなかった11COは、CO吸着カラム70にて捕集され、系外には排出されない。 First, as shown in FIG. 2, the opening valve V3, V4, V5, communicates the upstream side of the line L2 by operating the valves V6 and (helium supply source side S1) and a line L5, 11 CO 11 CO 2 from the 2 supply source S 3 is supplied to the methane generator 6, and 11 CO 2 is adsorbed to the reduction catalyst in the methane generation column 40. The 11 CO 2 that has not been adsorbed is collected by the CO 2 adsorption column 70 and is not discharged out of the system.

そして、放射線センサRI1により、メタン生成カラム40内での11CO吸着量が予め定められた値に達したことを確認した後に、原料ガスの供給を止め、バルブV3を閉じる。 Then, after confirming that the 11 CO 2 adsorption amount in the methane generation column 40 has reached a predetermined value by the radiation sensor RI1, the supply of the raw material gas is stopped, and the valve V3 is closed.

次いで、図3に示すように、バルブV2を開放すると共に、フローメータ14を調節し、水素供給源S2から予め定められた量の水素ガスをメタン生成カラム40に供給する。そうすると、メタン生成カラム40内が水素により充填される。   Next, as shown in FIG. 3, the valve V <b> 2 is opened and the flow meter 14 is adjusted to supply a predetermined amount of hydrogen gas from the hydrogen supply source S <b> 2 to the methane generation column 40. Then, the inside of the methanation column 40 is filled with hydrogen.

これと平行して、バルブV8を開け、3方弁V10によりラインL7とラインL1の内の6方弁80側の部分とを連通させる。また、6方弁は予め第1状態、すなわち、開口aと開口fとが連通し、開口bと開口cとが連通し、開口dと開口eとが連通する状態となっている。さらに、3方弁V11及びV12を操作してラインL14同士をそれぞれ連通させ、バルブV13を開ける。そして、マスフローコントローラ10を操作して、ヘリウム供給源S1からの所定量のヘリウムを、ラインL1、ラインL7、ラインL1、ラインL10、ラインL12、ラインL14、ラインL18の順に供給し、系内を不活性ガス雰囲気の状態にしておく。ここで、温度制御器51,54,58,62はそれぞれ各カラムを一定温度に維持する。   In parallel with this, the valve V8 is opened, and the line L7 and the portion of the line L1 on the 6-way valve 80 side are communicated by the 3-way valve V10. The six-way valve is in the first state, that is, the state where the opening a and the opening f communicate with each other, the opening b and the opening c communicate with each other, and the opening d and the opening e communicate with each other. Further, the three-way valves V11 and V12 are operated so that the lines L14 communicate with each other, and the valve V13 is opened. Then, the mass flow controller 10 is operated to supply a predetermined amount of helium from the helium supply source S1 in the order of line L1, line L7, line L1, line L10, line L12, line L14, and line L18. Keep in an inert gas atmosphere. Here, the temperature controllers 51, 54, 58, and 62 maintain each column at a constant temperature.

その後、図4に示すように、バルブV2,V4,V5を閉め、さらに、温度制御器42によりメタン生成カラム40を加熱し、11COと水素とを反応させ、11CHを生成させる。 Thereafter, as shown in FIG. 4, the valves V2, V4, and V5 are closed, and the methane generation column 40 is heated by the temperature controller 42 to react 11 CO 2 and hydrogen to generate 11 CH 4 .

続いて、図5に示すように、バルブV1,V4,V5を開け、3方弁V6によりラインL2同士を連通させ、3方弁V9によりラインL1におけるメタン吸着カラム44側の部分とラインL8とを連通させる。さらに、フローメータ12から予め定められた量のヘリウムをラインL2、ラインL1、ラインL8の順に供給する。   Subsequently, as shown in FIG. 5, the valves V1, V4, V5 are opened, the lines L2 are communicated with each other by the three-way valve V6, and the portion on the methane adsorption column 44 side in the line L1 and the line L8 are connected by the three-way valve V9. To communicate. Further, a predetermined amount of helium is supplied from the flow meter 12 in the order of the line L2, the line L1, and the line L8.

これにより、ヘリウムガスをキャリアガスとしてメタン生成カラム40内で生成した11CH、未反応の水素、及び、未反応の11COが下流側へ流れる。そして、未反応の11COは、CO吸着カラム72により吸着され、11CHはメタン吸着カラム44に吸着され、未反応の水素はラインL8より系外に排出される。 As a result, 11 CH 4 , unreacted hydrogen, and unreacted 11 CO 2 generated in the methane generation column 40 using helium gas as a carrier gas flow downstream. Unreacted 11 CO 2 is adsorbed by the CO 2 adsorption column 72, 11 CH 4 is adsorbed by the methane adsorption column 44, and unreacted hydrogen is discharged out of the system from the line L 8.

続いて、図6に示すように、バルブV1、V4、V5、V6、V8を閉めると共に、バルブV7、を開け、さらに、3方弁V9及びV10を操作してラインL1同士を連通させ、マスフローコントローラ10から予め定められた量のヘリウムガスを、ラインL1、ラインL10、ラインL12、ラインL14、ラインL18の順に流下させる。   Subsequently, as shown in FIG. 6, the valves V1, V4, V5, V6, and V8 are closed, the valve V7 is opened, and the three-way valves V9 and V10 are operated so that the lines L1 communicate with each other. A predetermined amount of helium gas is allowed to flow from the controller 10 in the order of line L1, line L10, line L12, line L14, and line L18.

しばらくした後、メタン供給器2の温度制御器46によりメタン吸着カラム44を加熱し、11CHを吸着剤から脱離させ不活性ガス流路1内に11CHを供給する。 After a while, the methane adsorption column 44 is heated by the temperature controller 46 of the methane supplier 2, 11 CH 4 is desorbed from the adsorbent, and 11 CH 4 is supplied into the inert gas flow path 1.

そうすると、この11CHは、ヘリウムガスをキャリアガスとして流下し、6方弁80を介してラインL10に流入する。11CHがラインL10に流れたことは放射線センサRI3により確認できる。 Then, the 11 CH 4 flows down using helium gas as a carrier gas and flows into the line L10 via the 6-way valve 80. It can be confirmed by the radiation sensor RI3 that 11 CH 4 has flowed to the line L10.

続いて、ヨウ化メチル生成器3の温度制御器51によりヨウ素気化カラム50を加熱することによりヨウ素気化カラム50内のヨウ素を気化させ、ヨウ素と11CHとを混合させる。さらに、温度制御器54によりヨウ化メチル生成カラム52を加熱すると、この混合ガス中のヨウ素と11CHとが反応し、11CHIが生成する。 Subsequently, the iodine vaporizing column 50 is heated by the temperature controller 51 of the methyl iodide generator 3 to vaporize iodine in the iodine vaporizing column 50, and iodine and 11 CH 4 are mixed. Further, when the methyl iodide production column 52 is heated by the temperature controller 54, iodine in the mixed gas reacts with 11 CH 4 to produce 11 CH 3 I.

生成した11CHI及び未反応の11CHはヘリウムをキャリアガスとしてラインL10を流下し、11CHIはヨウ化メチル捕集器4のヨウ化メチル吸着カラム56に吸着される一方、未反応の11CHはさらに流下してチャンバ5内に到達する。なお、反応により生成した一部の酸性成分は、CO吸着カラム74にて吸着される。 The produced 11 CH 3 I and unreacted 11 CH 4 flow down the line L10 using helium as a carrier gas, while 11 CH 3 I is adsorbed to the methyl iodide adsorption column 56 of the methyl iodide collector 4, Unreacted 11 CH 4 further flows down and reaches the chamber 5. A part of the acidic component generated by the reaction is adsorbed by the CO 2 adsorption column 74.

そして、放射線センサRI2をモニタし、チャンバ5から未反応の11CHが排出され始めるまでこの工程を続ける。なお、ヨウ化メチル吸着カラム56内の11CHIの吸着量は放射線センサRI4によって確認できる。 Then, the radiation sensor RI2 monitor, continue this process from the chamber 5 to 11 CH 4 unreacted starts to be discharged. The amount of 11 CH 3 I adsorbed in the methyl iodide adsorption column 56 can be confirmed by the radiation sensor RI4.

続いて、チャンバ5から未反応の11CHが排出され始めたら、図7に示すように、バルブV7、V9を閉じ、3方弁V10によりラインL7とラインL1の開口a側の部分とを連通させ、ヘリウムガスをラインL7を介して6方弁に供給すると共に、6方弁80を第2状態、すなわち、開口aと開口bとを接続し、開口cと開口dとを接続し、開口eと開口fとを接続する状態に切替える。そうすると、不活性ガス流路1からのヘリウムガスがラインL12に供給され、チャンバ5内のガス、すなわち、未反応の11CHが押し出され、押し出された11CHは、ラインL10を介して再びヨウ化メチル生成器3内に入ってヨウ化メチル生成カラム52内で反応し、生成した11CHIはヨウ化メチル吸着カラム56に吸着される一方、ごく一部の未反応の11CHはキャリアガスとなるヘリウムガスと共にラインL14及びラインL18を介して系外に排出される。 Subsequently, when unreacted 11 CH 4 starts to be discharged from the chamber 5, as shown in FIG. 7, the valves V7 and V9 are closed, and the line L7 and the opening a side portion of the line L1 are connected by the three-way valve V10. The helium gas is supplied to the six-way valve via the line L7, and the six-way valve 80 is in the second state, that is, the opening a and the opening b are connected, and the opening c and the opening d are connected, It switches to the state which connects the opening e and the opening f. Then, helium gas from the inert gas flow path 1 is supplied to the line L12, the gas in the chamber 5, that is, unreacted 11 CH 4 is pushed out, and the pushed 11 CH 4 is passed through the line L10. Reentering the methyl iodide generator 3 and reacting in the methyl iodide generating column 52, the produced 11 CH 3 I is adsorbed to the methyl iodide adsorbing column 56, while a small amount of unreacted 11 CH. 4 is discharged out of the system through a line L14 and a line L18 together with helium gas as a carrier gas.

その後、図8に示すように、バルブV13を閉じ、バルブV14を開け、また、3方弁V11,V12を操作して、ラインL14を流れるガスがラインL16を流れるようにし、さらに、温度制御器62によりトリフレート生成器8のトリフレート生成カラム60を加熱する。その後、温度制御器58によりヨウ化メチル捕集器4のヨウ化メチル吸着カラム56を加熱して、吸着剤から11CHIを脱離させ、ヘリウムガスをキャリアガスとして11CHIをラインL14及びラインL16に押し流す。そうすると、トリフレート生成カラム60内においてラインL14及びラインL16を流れてきた11CHIとAgOTfとが反応し、11CHOTfが生成する。生成した11CHOTfは、ラインL16及びラインL14を介して外部に取り出される。なお、11CHOTfでなく、11CHIを取り出したい場合には、ラインL16にガスをバイパスせずにラインL14を流せばよい。そして、放射線センサRI4に基づいて、ヨウ化メチル捕集器4から十分に11CHIが排出されたことを確認した後に、ヘリウムの供給を止め、製造工程を終了する。 Thereafter, as shown in FIG. 8, the valve V13 is closed, the valve V14 is opened, and the three-way valves V11 and V12 are operated so that the gas flowing through the line L14 flows through the line L16. The triflate production column 60 of the triflate generator 8 is heated by 62. Then, by heating the methyl iodide adsorption column 56 of methyl iodide collector 4 by a temperature controller 58, the 11 CH 3 I from the adsorbent to desorb, the 11 CH 3 I helium gas as a carrier gas line Push to L14 and line L16. Then, 11 CH 3 I flowing through the line L14 and the line L16 in the triflate generation column 60 reacts with AgOTf, and 11 CH 3 OTf is generated. The generated 11 CH 3 OTf is taken out through the line L16 and the line L14. In addition, when it is desired to take out 11 CH 3 I instead of 11 CH 3 OTf, the line L14 may flow through the line L16 without bypassing the gas. Then, after confirming that 11 CH 3 I has been sufficiently discharged from the methyl iodide collector 4 based on the radiation sensor RI4, the supply of helium is stopped and the manufacturing process is ended.

このように、本実施形態によれば、まず、流路切替器としての6方弁80を第1状態に設定し、ヘリウムをキャリアガスとして、メタン供給器2から供給された11CHを、不活性ガス流路1、ヨウ化メチル生成器3、ヨウ化メチル捕集器4、及び、チャンバ5に対してこの順に直列に流れるようにすると、輸送された11CHがヨウ化メチル生成器3で11CHIとなり、この11CHIがヨウ化メチル捕集器4に吸着され、さらに、未反応の11CHはヨウ化メチル捕集器4を通過してチャンバ5に収容される。 Thus, according to the present embodiment, first, the 6-way valve 80 as the flow path switch is set to the first state, and 11 CH 4 supplied from the methane supply device 2 using helium as the carrier gas, When the inert gas flow path 1, the methyl iodide generator 3, the methyl iodide collector 4, and the chamber 5 flow in series in this order, the transported 11 CH 4 is a methyl iodide generator. 3 becomes 11 CH 3 I, and this 11 CH 3 I is adsorbed by the methyl iodide collector 4, and unreacted 11 CH 4 passes through the methyl iodide collector 4 and is accommodated in the chamber 5. The

続いて、6方弁80を第2状態に切替え、ヘリウムが、チャンバ5、ヨウ化メチル生成器3、及びヨウ化メチル捕集器4をこの順に流れるようにすると、チャンバ5内のガス、すなわち、未反応の11CHが、ヘリウムガスをキャリアガスとして押し出され、再びヨウ化メチル生成器3に供給され、ヨウ化メチル生成器3においてさらに11CHIが生成し、生成した11CHIはヨウ化メチル捕集器4に吸着される。 Subsequently, when the six-way valve 80 is switched to the second state and helium flows through the chamber 5, the methyl iodide generator 3, and the methyl iodide collector 4 in this order, the gas in the chamber 5, that is, , 11 CH 4 unreacted, extruded helium gas as a carrier gas, is again supplied to the methyl iodide generator 3, further 11 CH 3 I is produced in methyl iodide generator 3, resulting 11 CH 3 I is adsorbed by the methyl iodide collector 4.

したがって、ヨウ化メチル生成器3から排出される未反応の11CHをチャンバ5から再びヨウ化メチル生成器3に戻して再利用させることができ、効率のよい11CHIの製造が可能となると共に、ヘリウム供給源S1からのヘリウムガスを未反応の11CHを流すためのキャリアガスとして利用するので、ポンプ手段を使用しなくても11CHIの製造が可能となっている。 Therefore, the unreacted 11 CH 4 discharged from the methyl iodide generator 3 can be returned to the methyl iodide generator 3 from the chamber 5 and reused, and efficient 11 CH 3 I can be produced. At the same time, since helium gas from the helium supply source S1 is used as a carrier gas for flowing unreacted 11 CH 4 , 11 CH 3 I can be manufactured without using pump means. .

そして、ポンプ手段を使用しないので、ヨウ素等の析出等による可動部の故障が発生しにくく、長時間の連続使用が可能となる。   And since the pump means is not used, failure of the movable part due to precipitation of iodine or the like hardly occurs, and continuous use for a long time is possible.

また、従来のように循環路内においてポンプにより11CHを何回も循環させると、ヨウ素の利用率はある程度高くできるものの、固体ヨウ素が過剰に気化し消耗してしまうという問題があったが、本実施形態では、流路の切替えにより、11CHをプラグフロー的に移動させることができ、無駄なヨウ素気化量も低減される。したがって、ヨウ素気化カラムへ予め充填する固体ヨウ素の量が同じでも、従来に比して大量に11CHIを製造できるようになる。例えば、従来に比してヨウ素の消費量を1/3〜1/2まで減少させることも可能であり、一回のヨウ素の充填により得られる連続合成回数を、例えば、2〜3倍にすることも可能となる。 In addition, when 11 CH 4 is circulated many times by a pump in the circulation path as in the past, although the utilization rate of iodine can be increased to some extent, there is a problem that solid iodine is excessively vaporized and consumed. In this embodiment, 11 CH 4 can be moved in a plug flow manner by switching the flow path, and the amount of useless iodine vaporization is reduced. Therefore, even if the amount of solid iodine preliminarily charged into the iodine vaporization column is the same, 11 CH 3 I can be produced in a larger amount than in the conventional case. For example, it is possible to reduce the consumption of iodine to 1/3 to 1/2 as compared with the conventional case, and the number of continuous synthesis obtained by filling with iodine once is, for example, 2 to 3 times. It is also possible.

また、メタン供給器2は、11CHを吸着する吸着剤が充填されるメタン吸着カラム44とメタン吸着カラム44を加熱して吸着剤から11CHを脱離させる加熱器46とを有している。したがって、11CHに対する選択性の高い吸着剤を用いることにより、その場で11CHを生成した場合等に、水素等を除去した高純度な11CHを不活性ガス流路内に供給することができる。 Further, the methane supply device 2, and a heater 46 for 11 CH 4 from the adsorbent by heating the methane adsorption column 44 and the methane adsorption column 44 which adsorbent is filled to adsorb 11 CH 4 desorbed ing. Therefore, provided by the use of highly selective adsorbents for 11 CH 4, in such a case that generated the 11 CH 4 in situ, high-purity 11 CH 4 removal of the hydrogen or the like in an inert gas flow path can do.

また、11COとHとを反応させて11CHを生成させるメタン生成器6をさらに備え、メタン生成器6はメタン吸着カラム44に接続され、メタン生成器6に不活性ガス供給源から不活性ガスが供給されるので、半減期の短い11COから11CHをその場で生成し、生成した11CHを不活性ガスにより移送してメタン吸着カラムの吸着剤に吸着させることができる。 Further, 11 CO 2 and a and H 2 are reacted further comprising a methane generator 6 to produce 11 CH 4, methane generator 6 is connected to the methane adsorption column 44, the inert gas supply source to the methane generator 6 From 11 CO 2 having a short half-life, 11 CH 4 is generated in situ, and the generated 11 CH 4 is transferred by the inert gas and adsorbed on the adsorbent of the methane adsorption column. be able to.

さらに、流路切替器としては、いわゆる6方弁80を有しているので、低コスト化及び操作の簡単化が図られている。   Furthermore, since the flow path switch has a so-called six-way valve 80, the cost is reduced and the operation is simplified.

また、上記実施形態においては、図7,図8において、バイパスラインL7を介して6方弁80にヘリウムガスを供給している。6方弁80を第2状態とし、チャンバ5内の未反応11CHをヨウ化メチル生成器3に戻す場合には、メタン供給器2を使用する必要がなく、この場合に、バイパスラインL7を用いることにより、ヘリウムガスの清浄性が向上して好ましい。 Moreover, in the said embodiment, helium gas is supplied to the 6-way valve 80 via the bypass line L7 in FIG.7, FIG.8. When the 6-way valve 80 is set to the second state and the unreacted 11 CH 4 in the chamber 5 is returned to the methyl iodide generator 3, it is not necessary to use the methane feeder 2. In this case, the bypass line L7 Is preferable because the cleanliness of helium gas is improved.

以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。   As mentioned above, although this invention was concretely demonstrated based on the embodiment, this invention is not limited to the said embodiment.

例えば、上記実施形態にあっては、メタン供給器2として吸着剤を有するメタン吸着カラム44及び温度制御器46を採用しているが、例えば、ターゲット容器内で製造・精製された11CHが供給できる場合には、メタン吸着カラム44及び温度制御器46に代えて、不活性ガス流路1とターゲット容器との間に接続されるバルブや配管等がメタン供給器として機能する。 For example, in the above-described embodiment, the methane adsorption column 44 having an adsorbent and the temperature controller 46 are employed as the methane feeder 2. For example, 11 CH 4 produced and purified in the target container is used. When supply is possible, instead of the methane adsorption column 44 and the temperature controller 46, a valve, piping or the like connected between the inert gas flow path 1 and the target container functions as a methane supply device.

また、上記実施形態では、メタン吸着カラム44及び温度制御器46がメタン生成器として機能しているが、メタン吸着カラム44及び温度制御器46が無い態様も可能であり、この場合には、メタン生成器6がメタン供給器として機能し、ラインL1,ラインL7、及びラインL2が不活性ガス流路として機能する。   Moreover, in the said embodiment, although the methane adsorption column 44 and the temperature controller 46 are functioning as a methane generator, the aspect without the methane adsorption column 44 and the temperature controller 46 is also possible, and in this case, methane The generator 6 functions as a methane feeder, and the line L1, the line L7, and the line L2 function as an inert gas flow path.

また、上記実施形態では、メタン吸着カラム44の前段に11COとHとから11CHを生成するメタン生成器6を配置しているが、これ以外の反応により11CHを生成する反応器を配置しても良い。 Further, in the above embodiment, it is arranged methane generator 6 for generating a pre-stage to the 11 CO 2 and H 2 Metropolitan from 11 CH 4 methane adsorption column 44, to produce a reaction by 11 CH 4 in addition to this A reactor may be arranged.

また、上記実施形態にあっては、6方弁80を採用し、第1状態と第2状態とを切り替えているが、たとえば、3方弁を6個採用して同様の流路切替手段を構成する等、他の手段により第1状態と第2状態とを切替えても良い。   Moreover, in the said embodiment, although the 6-way valve 80 is employ | adopted and the 1st state and the 2nd state are switched, for example, 6 three-way valves are employ | adopted and the same flow-path switching means is used. The first state and the second state may be switched by other means such as configuring.

また、上記実施形態においては、メタン供給器2から11CHを供給した後、図7,図8において、バイパスラインL7を介して6方弁80にヘリウムガスを供給しているが、例えば、図9に示すように、バイパスラインL7を介さずに、メタン供給器2を介してヘリウムを6方弁80に供給しても良い。 In the above embodiment, after supplying methane feeder 2 11 CH 4, 7, 8, although supplying helium gas to the 6-way valve 80 through the bypass line L7, for example, As shown in FIG. 9, helium may be supplied to the six-way valve 80 via the methane supplier 2 without passing through the bypass line L7.

また、本発明では、不活性ガスとしてヘリウムを採用しているが、これ以外でも、窒素、アルゴン等の不活性ガスを採用できる。   Further, in the present invention, helium is employed as the inert gas, but other inert gases such as nitrogen and argon can be employed.

図1は、本実施形態に係るヨウ化メチル製造装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a methyl iodide production apparatus according to the present embodiment. 図2は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示すフロー図である。FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図3は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示す図2に続くフロー図である。FIG. 3 is a flowchart following FIG. 2 showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図4は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示す図3に続くフロー図である。FIG. 4 is a flowchart following FIG. 3 showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図5は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示す図4に続くフロー図である。FIG. 5 is a flowchart following FIG. 4 showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図6は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示す図5に続くフロー図である。FIG. 6 is a flowchart following FIG. 5 showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図7は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示す図6に続くフロー図である。FIG. 7 is a flowchart following FIG. 6 showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図8は、図1のヨウ化メチル製造装置の動作を示す図7に続くフロー図である。FIG. 8 is a flowchart subsequent to FIG. 7 showing the operation of the methyl iodide production apparatus of FIG. 図1のヨウ化メチル製造装置の他の動作を示すフロー図である。It is a flowchart which shows other operation | movement of the methyl iodide manufacturing apparatus of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2…メタン供給器、3…ヨウ化メチル生成器、4…ヨウ化メチル捕集器、5…チャンバ、6…メタン生成器、44…メタン吸着カラム、46…温度制御器(加熱器)、80…6方弁(流路切替器)、100…ヨウ化メチル製造装置、L1…不活性ガス流路、L7…バイパスライン、S1…不活性ガス源。
2 ... methane feeder, 3 ... methyl iodide generator, 4 ... methyl iodide collector, 5 ... chamber, 6 ... methane generator, 44 ... methane adsorption column, 46 ... temperature controller (heater), 80 ... 6-way valve (flow path switch), 100 ... Methyl iodide production apparatus, L1 ... Inert gas flow path, L7 ... Bypass line, S1 ... Inert gas source.

Claims (5)

不活性ガス源から不活性ガスが供給される不活性ガス流路と、
前記不活性ガス流路内に11CHを供給可能なメタン供給器と、
11CHとヨウ素とを反応させて11CHIを生成するヨウ化メチル生成器と、
11CHIを捕集するヨウ化メチル捕集器と、
ガスを収容可能なチャンバと、
前記不活性ガス流路、前記ヨウ化メチル生成器、前記ヨウ化メチル捕集器、及び、前記チャンバをこの順に直列に接続する第1状態と、前記不活性ガス流路、前記チャンバ、前記ヨウ化メチル生成器、前記ヨウ化メチル捕集器をこの順に直列に接続する第2状態と、を選択的に切替える流路切替器と、
を備えるヨウ化メチル製造装置。
An inert gas flow path through which an inert gas is supplied from an inert gas source;
A methane supplier capable of supplying 11 CH 4 into the inert gas flow path;
A methyl iodide generator that reacts 11 CH 4 with iodine to produce 11 CH 3 I;
A methyl iodide collector for collecting 11 CH 3 I;
A chamber capable of containing gas;
A first state in which the inert gas flow path, the methyl iodide generator, the methyl iodide collector, and the chamber are connected in series in this order, the inert gas flow path, the chamber, and the iodine A flow path switch that selectively switches between the methyl iodide generator and the second state in which the methyl iodide collector is connected in series in this order;
An apparatus for producing methyl iodide.
前記メタン供給器は、11CHを吸着する吸着剤が充填されるメタン吸着カラムと前記メタン吸着カラムを加熱して前記吸着剤から11CHを脱離させる加熱器とを有する請求項1に記載のヨウ化メチル製造装置。 The methane feeder includes a methane adsorption column filled with an adsorbent that adsorbs 11 CH 4 and a heater that heats the methane adsorption column and desorbs 11 CH 4 from the adsorbent. The methyl iodide manufacturing apparatus as described. 11COとHとを反応させて11CHを生成させるメタン生成器をさらに備え、前記メタン生成器は前記メタン吸着カラムに接続され、前記メタン生成器に不活性ガス供給源から不活性ガスが供給される請求項2に記載のヨウ化メチル製造装置。 A methane generator for reacting 11 CO 2 with H 2 to produce 11 CH 4 , the methane generator being connected to the methane adsorption column, wherein the methane generator is inert from an inert gas source; The methyl iodide manufacturing apparatus according to claim 2, wherein gas is supplied. 前記不活性ガス流路は、前記メタン供給器をバイパスするバイパスラインをさらに有する請求項1〜3のいずれかに記載のヨウ化メチル製造装置。   The methyl iodide production apparatus according to claim 1, wherein the inert gas flow path further includes a bypass line that bypasses the methane feeder. 前記流路切替器は、6方弁を有する請求項1〜4のいずれかに記載のヨウ化メチル製造装置。
The said flow path switch is a methyl iodide manufacturing apparatus in any one of Claims 1-4 which has a 6-way valve.
JP2005264220A 2005-09-12 2005-09-12 Methyl iodide production equipment Expired - Fee Related JP4440862B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005264220A JP4440862B2 (en) 2005-09-12 2005-09-12 Methyl iodide production equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005264220A JP4440862B2 (en) 2005-09-12 2005-09-12 Methyl iodide production equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007077045A JP2007077045A (en) 2007-03-29
JP4440862B2 true JP4440862B2 (en) 2010-03-24

Family

ID=37937700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005264220A Expired - Fee Related JP4440862B2 (en) 2005-09-12 2005-09-12 Methyl iodide production equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4440862B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4920301B2 (en) * 2006-05-10 2012-04-18 住友重機械工業株式会社 RI compound synthesis apparatus and RI compound synthesis method
KR101254636B1 (en) * 2011-02-14 2013-04-15 한국수력원자력 주식회사 Method for synthesis of radioactive methyl iodine and device thereof
CN110240963B (en) * 2019-06-24 2021-04-16 浙江天采云集科技股份有限公司 Coupling purification method for raw material gas and reaction circulating gas in methane method for preparing chloromethane

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007077045A (en) 2007-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI341824B (en) Production of carbon monoxide-free hydrogen and helium from a high-purity source
EP0157480B1 (en) Process for producing ammonia synthesis gas
US6500238B1 (en) Fluid storage and dispensing system
JP2002321905A (en) Fuel cell device equipped with carbon monoxide absorber to remove carbon monoxide
CA1229485A (en) Process for refining an ammonia synthesis gas
KR102107135B1 (en) Integrated PSA System with Water Gas Shift Process and Process
JP4440862B2 (en) Methyl iodide production equipment
US20060039847A1 (en) Low pressure ammonia synthesis utilizing adsorptive enhancement
CN102602899B (en) Helium purification method and device
JP2014000531A (en) Gas separation device and gas separation method
PL191279B1 (en) Method of recovering inert gases and apparatus for sealing inert gas inside plasma display screens
CN103523822A (en) A helium purifying method and a purifying device
CN102311102B (en) Helium purifying method and purifying device thereof
CN102311103B (en) Helium purifying method and purifying device thereof
JP4730760B2 (en) RI-labeled compound synthesis system
JP2019048731A (en) Hydrogen gas production method and hydrogen gas production apparatus
JP2004256328A (en) Apparatus and method for refining hydrogen gas
JP5665120B2 (en) Argon gas purification method and purification apparatus
JP2021074657A (en) Carbon dioxide recovery device, hydrocarbon generator, carbon circulation system and carbon dioxide recovery method
JP2017202961A (en) Hydrogen gas manufacturing method
CN103224225B (en) The purification process of argon gas and purification devices
US10661633B2 (en) Heating device
JP2002326810A (en) Separation method and apparatus of ammonia using a metallic halide
JP4819349B2 (en) Production of hydrogen gas for fuel cells
JP2923454B2 (en) Hydrogen purification method and apparatus used therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091217

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100105

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100107

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4440862

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees