JP4440607B2 - 気体処理装置の液面調整制御方法 - Google Patents
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- 水、洗浄液、吸収液等の液体を貯留し、その液体中に注入する空気、燃料ガス、化学原料ガス等の気体で気泡を発生させ、かつ注入する気体に含まれる不純物を除去したり、気体の温度を液体の顕熱/潜熱で変化させたりする等の処理が行なわれる気泡発生容器と、該気泡発生容器に前記液体を供給する液体供給系と、前記気体を供給する気体供給系と、気泡発生容器から処理後の前記液体を排出させる液体排出系と、処理後の前記気体を排出させる気体排出系とを有し、
前記気泡による気泡液面を実液面とし、前記気体の供給量に応じて前記実液面が上昇する上昇高さを見込んで、前記液体の制御液面の高さを下げるように制御することを特徴とする気体処理装置の液面調整制御方法。 - 請求項1記載の気体処理装置の液面調整制御方法にあって、
前記気体供給系につながる気体供給源としての外部設備を有し、
該外部設備は、負荷量、代表温度や代表圧力等の運転情報を有し、該運転情報は、前記気体の供給量に対応する関係を有し、この運転情報に応じて前記液面の高さを制御することを特徴とする気体処理装置の液面調整制御方法。 - 請求項1または2記載の気体処理装置の液面調整制御方法にあって、
前記液体の密度や表面張力等に関する液体性状をも加味して前記液面の高さを制御することを特徴とする気体処理装置の液面調整制御方法。 - 水、洗浄液、吸収液等の液体を貯留し、その液体中に注入する空気、燃料ガス、化学原料ガス等の気体で気泡を発生させ、かつ注入する気体に含まれる不純物を除去したり、気体の温度を液体の顕熱/潜熱で変化させたりする等の処理が行なわれる気泡発生容器と、該気泡発生容器に前記液体を供給する液体供給系と、前記気体を供給する気体供給系と、気泡発生容器から処理後の前記液体を排出させる液体排出系と、処理後の前記気体を排出させる気体排出系と、
前記気泡による気泡液面を実液面とし、前記気体の供給量に応じて上昇する前記実液面に対応して求められる前記液体の制御液面レベルを液面標準レベルとし、この液面標準レベルに前記液体の液面の高さがなるように制御することで前記実液面の上昇を抑えることを特徴とする気体処理装置の液面調整制御方法。 - 水、洗浄液、吸収液等の液体を貯留し、その液体中に注入する空気、燃料ガス、化学原料ガス等の気体で気泡を発生させ、かつ注入する気体に含まれる不純物を除去したり、気体の温度を液体の顕熱/潜熱で変化させたりする等の処理が行なわれる気泡発生容器と、該気泡発生容器に前記液体を供給する液体供給系と、前記気体を供給する気体供給系と、気泡発生容器から処理後の前記液体を排出させる液体排出系と、処理後の前記気体を排出させる気体排出系と、前記液体の液面より下方に設けられる下部圧力検出部および前記液体の液面より上方に設けられる上部圧力検出部とが備わる液面計を有し、
前記液面計は前記下部圧力検出部と前記上部圧力検出部の圧力検知差より前記液体の液面の高さを求め、
前記気泡による気泡液面を実液面とし、前記気体の供給量に応じて上昇する前記実液面に対応して求められる前記液体の制御液面レベルを液面標準レベルとし、
前記液体の液面の高さが前記液面標準レベルになるように制御することで前記実液面の上昇を抑えることを特徴とする気体処理装置の液面調整制御方法。 - 水、洗浄液、吸収液等の液体を貯留し、その液体中に注入する空気、燃料ガス、化学原料ガス等の気体で気泡を発生させ、かつ注入する気体に含まれる不純物を除去したり、気体の温度を液体の顕熱/潜熱で変化させたりする等の処理が行なわれる気泡発生容器と、該気泡発生容器に前記液体を供給する液体供給系と、前記気体を供給する気体供給系と、気泡発生容器から処理後の前記液体を排出させる液体排出系と、処理後の前記気体を排出させる気体排出系と、前記液体排出系に備わる液体流量制御弁と、該液体流量制御弁の開き度合を制御する制御弁制御装置と、前記液体の液面より下方に設けられる下部圧力検出部および前記液体の液面より上方に設けられる上部圧力検出部とが備わる液面計を有し、
前記液面計は前記下部圧力検出部と前記上部圧力検出部の圧力検知差より前記液体の液面の高さを求め、
前記気泡による気泡液面を実液面とし、前記気体の供給量に応じて上昇する前記実液面に対応して求められる前記液体の制御液面レベルを液面標準レベルとし、
前記液体の液面の高さが前記液面標準レベルになるように前記液体流量制御弁の開き度合を制御することで前記実液面の上昇を抑えることを特徴とする気体処理装置の液面調整制御方法。 - 水、洗浄液、吸収液等の液体を貯留し、その液体中に注入する空気、燃料ガス、化学原料ガス等の気体で気泡を発生させ、かつ注入する気体に含まれる不純物を除去したり、気体の温度を液体の顕熱/潜熱で変化させたりする等の処理が行なわれる気泡発生容器と、該気泡発生容器に前記液体を供給する液体供給系と、前記気体を供給する気体供給系と、気泡発生容器から処理後の前記液体を排出させる液体排出系と、処理後の前記気体を排出させる気体排出系と、前記液体排出系に備わる液体流量制御弁と、前記液体の液面より下方に設けられる下部圧力検出部および前記液体の液面より上方に設けられる上部圧力検出部とを備え、かつ前記下部圧力検出部と前記上部圧力検出部の圧力検知差より求められた前記液体の液面の高さの信号を出す液面計と、前記気泡による気泡液面を実液面とし、前記気体の供給量に応じて上昇する前記実液面に対応して求められる前記液体の制御液面レベルを液面標準レベルとする信号を発する関数発生器と、前記液面計の信号および前記関数発生器の信号を取り込んで、前記液体の液面の高さが前記液面標準レベルになるように前記液体流量制御弁の開き度合を制御することで前記実液面の上昇を抑える制御弁制御装置とを有することを特徴とする気体処理装置の液面調整制御装置。
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