JP4426686B2 - 3D circuit board manufacturing method and 3D circuit board - Google Patents

3D circuit board manufacturing method and 3D circuit board Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば携帯電話の移動通信装置やGPS装置に使用される誘電体アンテナ等のような立体回路基板の製造方法及びこの製造方法により製造された立体回路基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から誘電体アンテナなどのような立体回路基板の製造方法として、誘電体材料から所定形状の誘電体基板を成形し、この所定形状に成形された誘電体基板の表面のうち、この所定パターンの導電層が形成されるべき表面部分を露出させて、この部分以外の表面部分を覆うように、この誘電体基板に樹脂マスクを一体的に成形し、無電解メッキを施す表面に金属微粒子を付着させるための触媒を付与した後、樹脂マスクの表面及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体の全表面上に無電解めっきにより導体層を形成し、このめっきされた誘電体基板とこの樹脂マスクとの一体品から樹脂マスクを除去して、この誘電体基体の表面上に所定パターンの導体層を形成するものである(例えば、特開平11-17442号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このように、無電解めっきのための触媒処理が必要であり、さらに、無電解めっきにより導体層を形成した後、即ち、樹脂マスクの表面とこの樹脂マスクから露出している誘電体基体の全表面に導体層を形成した後で樹脂マスクを除去するものであるため、この樹脂マスクを除去するとき、一連に連続している樹脂マスク表面の導電層と誘電体基体の導体層とは、強制的な剥離作業により、この誘電体基体の導体層の周辺が凹凸形状、つまりジグザグの状態になったり、使用上支障になる残査が残ったり、疵がついたりする。そのため、誘電体アンテナの面積が設計通りでなくなり、アンテナとしての機能が落ちる。
【0004】
そこで、本発明の目的は無電解めっきのための触媒処理を不要にすることにより、製造工程を簡略化することのできる立体回路基板の製造方法を提供することにある。
【0005】
また、本発明の他の目的は導電体基体の導体層の周辺の輪郭が明確である立体回路基板及びその製造方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は誘電体基体から樹脂マスクを容易かつ敏速に除去することのできる立体回路基板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載した本発明の特徴は、触媒が混入してある触媒入り合成樹脂材料により前記所定形状の誘電体基体を形成する第一の工程と、この誘電体基体の表面のうち、前記所定パターンの導体層が形成されるべき表面部分を露出させて、これ以外の表面部分を覆うようにこの誘電体基体に樹脂マスクを形成する第2の工程と、この樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している上記誘電体基体の全表面を粗面化処理する第3の工程と、上記誘電体基体から上記樹脂マスクを除去する第4の工程と、上記誘電体基体の表面に所定パターンの導電層を無電解めっきにより形成する第5の工程とを含むところにある。
【0007】
この発明の特徴は、第1の工程において形成する導電体基体の材料は無電解に対する触媒が混入してあり、 第4の工程の樹脂マスクを除去した後で、第5の導電層を形成するものである。
【0008】
誘電体基体の材料の合成樹脂は耐熱性と強度において優れ、例えば金型を閉じた状態でキャビティ内にめっきグレードの熱可塑性の液晶ポリマーを射出して成形するものである。この熱可塑性の液晶ポリマーは熱可塑性芳香族系ポリエステル樹脂であって、これは「ベクトラ」(ポリプラスチック株式会社製の商品名)のめっきグレードC810を用いる。その他、この誘電体基体1の材料の合成樹脂としてポリフェニルサルファイド樹脂、ポリフェニンエーテル樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアミドイミド樹脂などの熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂が選択適用できる。そこで、このような合成樹脂にパラジウム、金などの触媒を混入し、この触媒入り合成樹脂材料を射出成形することにより所定形状の立方体の一次基体である誘電体基体を形成する。
【0009】
樹脂マスクの材料の合成樹脂は、容易に曲げることのできるエラストマーで、このエラストマーとしては、常温で弾性を有するもので、有機物、無機物、天然のもの、合成されたものから適宜選択されるもので、天然ゴム系エラストマーとしては、塩化ゴム、塩酸ゴム、マレイン酸化ゴム、水素化ゴムなどである。このようなエラストマーとして用いることのできる合成ゴムとしては、VDF(ビニリデンフルオライト)−HFP(ヘキサフロオロプロピレン)、VDF−CTFE(クロロトリフルオロエチレン)、VDF−PFVE(パーフルオロメチルビニルイーテル)、フルオロシリコーンゴム、TFE(テトラフルオロイチレン)−PFVE、PTFE−P(ポリテトラフルオロエチレン−プロピレン)ルオロアルコキシポリフォスファンゼンなどのフッ素ゴム、イソブチレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴムなどのポリオレフィン系エラストマー、スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマ−、スチレン−ブタジェン−スチレンコポリマー、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマーなどのスチレン系エラストマー、その他ポリエステル系エラストマー、イソプレンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、ナイロン12、ブチルゴム、ブタジエンゴム、フッ素ゴム、ポリノルボルネンゴムなどである。
【0010】
これらのエラストマーは一種又は二種以上を混合してもよい。エラストマーの有する弾力性を損なわない限度で熱可塑性樹脂を混合して用いてもよい。
【0011】
樹脂マスク2用の樹脂材料には、寸法精度や硬度を調整するためタルク、ベントナイト、マイカ、ワラストナイト、ガラスフィラーなどの無機フィラーなどを複合させるように添加してもよい。さらに、接着性改良剤を添加してもよい。
【0012】
請求項2に記載した本発明の特徴は、無電解めっきに対する触媒が混入してある触媒入り合成樹脂材料により前記所定形状の誘電体基体を形成する第1の工程と、この誘電体基体の表面のうち、前記所定パターンの導体層が形成されるべき表面部分を露出させて、これ以外の表面部分を覆うようにこの誘電体基体に樹脂マスクを形成する第2の工程と、上記樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している上記誘電体基体の全表面を粗面化処理する第3の工程と、上記誘電体基体の粗面化処理された面と上記樹脂マスクの全表面に導電層を無電解めっきにより形成する第4の工程と、上記誘電体基体から上記樹脂マスクを除去する第5の工程とを含み、さらに、上記誘電体基体と上記樹脂マスクとの材料は相互に弱相溶性のものであるところにある。
【0013】
この弱相溶性とは、相溶性と非相溶性との中間のもので、具体的には誘電体基体と樹脂マスクの界面を機械的に剥離する場合、この誘電体基体の表面に使用上支障になる残査、疵が残らず、かつ湿式工程でのエッチング液が界面へ浸透することを防止できる範囲の温度で溶着している状態を言う。
【0014】
【発明の実施の形態】
図面を参照して本発明に係る立体回路基板の製造方法の実施の形態を説明すると、まず第1の形態は図1(A)〜(E)に示すものである。第1の工程は図1(A)に示すように、第1の成形物である誘電体基板1を成形するもので、この誘電体基体の材料の合成樹脂は耐熱性と強度において優れ、例えば金型を閉じた状態でキャビティ内にめっきグレードの熱可塑性の液晶ポリマーを射出して成形するものである。この熱可塑性の液晶ポリマーは熱可塑性芳香族系ポリエステル樹脂であって、これは「ベクトラ」(ポリプラスチック株式会社製の商品名)のめっきグレードC810を用い、これは熱可塑性でありながら半田実装耐熱性があり成形回路部品としての性能を有している。そこで、この合成樹脂に無電解めっきに対する触媒のパラジウムを混入し、この触媒入り合成樹脂材料を射出成形することにより所定形状の立方体の一次基体である誘電体基体1を形成する。
【0015】
次に、第2の工程は図1(B)に示すように、第1の工程の後、誘電体基体1の表面のうち、所定パターンの導体層4(図1(E)参照)が形成されるべき表面部分を露出させて、これ以外の表面部分を覆うようにこの誘電体基体に樹脂マスク2を形成するものである。この樹脂マスク2の材料としては、容易に曲げることのできるエラストマーで、このエラストマーとしては、常温で弾性を有するもので、熱可塑性ポリエステル系エラストマーである「ハイトレル#SB704東レ・デュポン社製の商品名」を使用した。なお、誘電体基体1の材料を前記したベクトラを使用し、この樹脂マスク2の材料としてハイトレル#SB704を使用している場合は、この誘電体基体1と樹脂マスク2とは弱相溶性の範囲の接着強度を有するようになり、そのため、後で説明する第4の工程の樹脂マスク2の除去作業が簡単になる。樹脂マスク2の成形条件としては、成形機(東洋機械金属(株)の型式:TI30G2)において、シリンダ温度:230℃、射出圧力:717kg/cm、成形サイクル:25秒、金型温度:40℃に設定したものである。
【0016】
次に、第3の工程の化学エッチング工程を図1(C)を参照して説明すると、このエッチング処理面3は、樹脂マスク2及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体1の全表面を粗面化処理するものである。このエッチング処理の例として、苛性ソーダ又は苛性カリを所定濃度、例えば、45wt%に溶解したアルカリ性水溶液を所定温度、例えば50〜90℃に加熱し、一次成形品の誘電体基体1、二次成形品の樹脂マスク2を所定時間、例えば30分浸漬して行う。このエッチング処理により全表面が粗面化となる。
【0017】
次に、図1(D)により第4の工程を説明すると、これはエッチングされた誘電体基板1や樹脂マスク2を乾燥させた後、この誘電体基体1から樹脂マスク2を除去する工程であって、これは手作業で行うことができるが、この除去作業を容易にするため、樹脂マスク2除去用の機器を使用してもよく、また、化学的に、例えばキシレン系の有機用材を用いてこの樹脂マスクのみを溶解することにより除去してもよい。なお、樹脂マスク2の材料と誘電体基体1の材料を弱相溶性の合成樹脂から選択することにより、この樹脂マスクの除去作業が簡単になることは前述した通りである。
【0018】
最後に、図1(E)により第5の工程を説明すると、誘電体基体1の表面に所定パターンのエッチング処理面3の上に導電層4を無電解めっきにより形成するものである。
【0019】
次に、本発明の他の実施の形態を、図2(A)〜(E)を参照して説明すると、第1の工程は図2(A)に示すように、第1の成形物である誘電体基板1を成形するもので、この誘電体基体の材料の合成樹脂は、第1の実施例と同じめっきグレードの熱可塑性の液晶ポリマーを射出して成形するもので、この熱可塑性の液晶ポリマーは熱可塑性芳香族系ポリエステル樹脂である「ベクトラ」(ポリプラスチック株式会社製の商品名)のめっきグレードC810を用いる。この液晶ポリマーは熱可塑性でありながら半田実装耐熱性があることは前述した。そこで、この合成樹脂に無電解めっきに対する触媒のパラジウムを混入し、この触媒入り合成樹脂材料を射出成形することにより所定形状の立方体の一次基体である誘電体基体1を形成する。
【0020】
次に、第2の工程は図2(B)に示すように、第1の工程の後、誘電体基体1の表面のうち、所定パターンの導体層41(図2(E)参照)が形成されるべき表面部分を露出させて、これ以外の表面部分を覆うようにこの誘電体基体に樹脂マスク2を形成するものである。この樹脂マスク2の材料としては、容易に曲げることのできるエラストマーで、このエラストマーとしては、常温で弾性を有するもので、ポリエステル系エラストマーである「ハイトレル#SB704 東レ・デュポン社製の商品名」を使用した。
【0021】
樹脂マスク2は熱可塑性エラストマーで、誘電体基体1に対して弱相溶性であることが必要である。そのため、図2(B)の状態において誘電体基体1と樹脂マスク2との間の界面には、この後に行われる化学エッチング液、無電解(化学)めっき液が浸透することがなく、樹脂マスク2の除去、つまり機械的剥離もきわめて容易かつ敏速に行うことができる。
【0022】
次に、第3の工程の化学エッチング工程を図2(C)を参照して説明すると、このエッチング処理面3は、樹脂マスク2及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体1の全表面を粗面化処理するものである。このエッチング処理の例として、前記した実施例と同様に、苛性ソーダ又は苛性カリを所定濃度、例えば、45wt%に溶解したアルカリ性水溶液を所定温度、例えば50〜90℃に加熱し、一次成形品の誘電体基体1、二次成形品の樹脂マスク2を所定時間、例えば30分浸漬して行う。このエッチング処理により全表面が粗面化となる。
【0023】
このように、この実施の形態における第1の工程から第3の工程までは、前記した実施の形態における第1の工程から第3の工程と実質的に同じで、同一図面に同一符号を付している。しかし、前記した実施例では、第3の工程の樹脂マスク2及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体1の全表面を粗面化処理した後、樹脂マスクの除去を行うが、この実施例では、第4の工程として誘電体基体1のエッチングされた面3と樹脂マスク2の全表面に導電層41、42を無電解めっきで形成するものである。
【0024】
最後に、第5の工程は誘電体基体1から樹脂マスク2を除去するが、この除去作業において、前記したように、誘電体基体1と樹脂マスク2との材料は相互に弱相溶性のものであるため、この樹脂マスクを除去するためにこの樹脂マスクの界面を剥離させる場合、この剥離作業が容易かつ敏速に行うことができ、さらに、誘電体基体1の表面に使用上支障となる残査や疵が残らない。
【0025】
【発明の効果】
請求項1の本発明によると、従来のように触媒付与工程が不要であり、無電解めっきによる導体層が設計通りの正確な輪郭を有するため、例えば、誘電体アンテナを製造した場合、アンテナとしての機能が十分に発揮するものであり、請求項2記載の発明によると、触媒付与工程が不要になり、誘電体基体と樹脂マスクとの間に化学エッチング液や無電解めっき液が浸透することがなく、この樹脂マスクの界面を剥離させる場合、この剥離作業が容易かつ敏速に行うことができ、さらに、誘電体基体1の表面に使用上支障となる残査や疵が残らない。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)は、それぞれ本発明の第1の実施の形態による製造の各工程を段階的に示す概略図である。
【図2】(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)は、それぞれ本発明の第2の実施の形態による製造の各工程を段階的に示す概略図である。
【符号の説明】
1 誘電体基体
2 樹脂マスク
3 エッチング処理面
4 導電層
41,42 導電層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing a three-dimensional circuit board such as a dielectric antenna used in a mobile communication device or a GPS device of a mobile phone, and a three-dimensional circuit substrate manufactured by the manufacturing method.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a method of manufacturing a three-dimensional circuit board such as a dielectric antenna, a dielectric substrate having a predetermined shape is formed from a dielectric material, and the predetermined pattern of the surface of the dielectric substrate formed into the predetermined shape is formed. A resin mask is integrally formed on this dielectric substrate so that the surface portion where the conductive layer is to be formed is exposed and the surface portion other than this portion is covered, and metal particles are attached to the surface to be electrolessly plated. A conductive layer is formed by electroless plating on the surface of the resin mask and on the entire surface of the dielectric substrate exposed from the resin mask, and the plated dielectric substrate and the resin The resin mask is removed from the integrated product with the mask, and a conductor layer having a predetermined pattern is formed on the surface of the dielectric substrate (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-17442).
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
Thus, a catalyst treatment for electroless plating is necessary, and further, after the conductor layer is formed by electroless plating, that is, the entire surface of the resin mask and the dielectric substrate exposed from the resin mask. Since the resin mask is removed after the conductor layer is formed on the surface, when the resin mask is removed, the conductive layer on the surface of the resin mask and the conductor layer of the dielectric substrate that are continuous are forced. As a result of a typical peeling operation, the periphery of the conductor layer of the dielectric substrate becomes an uneven shape, that is, a zigzag state, a residue that hinders use, or a wrinkle. For this reason, the area of the dielectric antenna is not as designed, and the function as an antenna is reduced.
[0004]
Therefore, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a three-dimensional circuit board that can simplify the manufacturing process by eliminating the need for a catalyst treatment for electroless plating.
[0005]
Another object of the present invention is to provide a three-dimensional circuit board having a clear outline around a conductor layer of a conductor substrate and a method for manufacturing the same.
Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a three-dimensional circuit board capable of easily and quickly removing a resin mask from a dielectric substrate.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The feature of the present invention described in claim 1 is that a first step of forming the dielectric substrate of the predetermined shape from a synthetic resin material containing a catalyst mixed with a catalyst, and the surface of the dielectric substrate, A second step of exposing a surface portion on which a conductor layer of a predetermined pattern is to be formed and forming a resin mask on the dielectric substrate so as to cover the other surface portion; and the resin mask and the resin mask. A third step of roughening the entire surface of the exposed dielectric base; a fourth step of removing the resin mask from the dielectric base; and a predetermined pattern on the surface of the dielectric base. And a fifth step of forming the conductive layer by electroless plating.
[0007]
The feature of the present invention is that the material of the conductor base formed in the first step is mixed with a catalyst for electroless, and the fifth conductive layer is formed after removing the resin mask in the fourth step. Is.
[0008]
Synthetic resin as a material for the dielectric substrate is excellent in heat resistance and strength. For example, it is molded by injecting a plating grade thermoplastic liquid crystal polymer into a cavity with the mold closed. This thermoplastic liquid crystal polymer is a thermoplastic aromatic polyester resin, and uses a plating grade C810 of “Vectra” (trade name, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.). In addition, thermoplastic resins such as polyphenylsulfide resin, polyphenine ether resin, polyetherimide resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, and polyamideimide resin as synthetic resins for the material of the dielectric substrate 1 A thermosetting resin such as a resin, an epoxy resin, a phenol resin, or an unsaturated polyester resin can be selectively applied. Therefore, a dielectric substrate, which is a cubic primary substrate of a predetermined shape, is formed by mixing a catalyst such as palladium or gold into such a synthetic resin and injection molding the synthetic resin material containing the catalyst.
[0009]
Synthetic resin as a material for the resin mask is an elastomer that can be bent easily. This elastomer has elasticity at room temperature and is appropriately selected from organic, inorganic, natural, and synthetic materials. Natural rubber elastomers include chlorinated rubber, hydrochloric acid rubber, maleated rubber, hydrogenated rubber, and the like. Synthetic rubbers that can be used as such elastomers include VDF (vinylidene fluoride) -HFP (hexafluoropropylene), VDF-CTFE (chlorotrifluoroethylene), VDF-PFVE (perfluoromethyl vinyl ether). , Fluorosilicone rubber, TFE (tetrafluoroethylene) -PFVE, PTFE-P (polytetrafluoroethylene-propylene) fluoroalkoxypolyphosphazene, and other fluororubbers, isobutylene rubber, ethylene propylene diene rubber, chlorosulfonated polyethylene Polyolefin elastomers such as rubber, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-butadiene-styrene copolymer, styrene-ethylene-butylene-styrene block Styrene elastomers such as a polymer, other polyester elastomer, isoprene rubber, urethane rubber, epichlorohydrin rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, nylon 12, butyl rubber, and the like butadiene rubber, fluorine rubber, polynorbornene rubber.
[0010]
These elastomers may be used alone or in combination of two or more. You may mix and use a thermoplastic resin as long as the elasticity which an elastomer has is not impaired.
[0011]
In order to adjust dimensional accuracy and hardness, an inorganic filler such as talc, bentonite, mica, wollastonite, glass filler, or the like may be added to the resin material for the resin mask 2 in a composite manner. Further, an adhesion improver may be added.
[0012]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a first step of forming the dielectric substrate having the predetermined shape from a synthetic resin material containing a catalyst mixed with a catalyst for electroless plating, and a surface of the dielectric substrate. A second step of exposing a surface portion on which the conductor layer of the predetermined pattern is to be formed and forming a resin mask on the dielectric base so as to cover the other surface portion; and the resin mask and A third step of roughening the entire surface of the dielectric substrate exposed from the resin mask; and a conductive layer on the roughened surface of the dielectric substrate and the entire surface of the resin mask. A fourth step of forming by electroless plating and a fifth step of removing the resin mask from the dielectric substrate, and the materials of the dielectric substrate and the resin mask are weakly compatible with each other. Where is A.
[0013]
This weak compatibility is an intermediate between compatibility and incompatibility. Specifically, when the interface between the dielectric substrate and the resin mask is mechanically peeled off, the surface of the dielectric substrate is hindered in use. The state which is welded at a temperature within a range in which no residue or soot remains and the etching solution in the wet process can be prevented from penetrating into the interface.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of a method of manufacturing a three-dimensional circuit board according to the present invention will be described with reference to the drawings. First, the first embodiment is shown in FIGS. As shown in FIG. 1A, the first step is to form a dielectric substrate 1 that is a first molded product, and the synthetic resin of the dielectric base material is excellent in heat resistance and strength. With the mold closed, a plating grade thermoplastic liquid crystal polymer is injected into the cavity and molded. This thermoplastic liquid crystal polymer is a thermoplastic aromatic polyester resin, which uses "Vectra" (trade name, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.), plating grade C810, which is thermoplastic while being solder-resistant. And has performance as a molded circuit component. Therefore, a dielectric substrate 1 which is a primary substrate of a cube having a predetermined shape is formed by mixing palladium in a catalyst for electroless plating into the synthetic resin and injection molding the synthetic resin material containing the catalyst.
[0015]
Next, in the second step, as shown in FIG. 1B, after the first step, a conductor layer 4 having a predetermined pattern is formed on the surface of the dielectric substrate 1 (see FIG. 1E). The resin mask 2 is formed on the dielectric substrate so that the surface portion to be exposed is exposed and the other surface portion is covered. The material of the resin mask 2 is an elastomer that can be easily bent. This elastomer has elasticity at room temperature, and is a thermoplastic polyester elastomer “trade name made by Hytrel # SB704 Toray DuPont. "It was used. When the above-mentioned vector is used as the material of the dielectric substrate 1 and Hytrel # SB704 is used as the material of the resin mask 2, the dielectric substrate 1 and the resin mask 2 are in a weakly compatible range. Therefore, the removal operation of the resin mask 2 in the fourth step described later is simplified. The molding conditions of the resin mask 2 were as follows: in a molding machine (Model: TI30G2 manufactured by Toyo Machine Metal Co., Ltd.), cylinder temperature: 230 ° C., injection pressure: 717 kg / cm 2 , molding cycle: 25 seconds, mold temperature: 40 It is set to ° C.
[0016]
Next, the chemical etching step of the third step will be described with reference to FIG. 1C. This etching-treated surface 3 is the entire surface of the dielectric substrate 1 exposed from the resin mask 2 and the resin mask. Is roughened. As an example of this etching treatment, an alkaline aqueous solution in which caustic soda or caustic potash is dissolved at a predetermined concentration, for example, 45 wt% is heated to a predetermined temperature, for example, 50 to 90 ° C., and the dielectric substrate 1 of the primary molded product, The resin mask 2 is immersed for a predetermined time, for example, 30 minutes. This etching process makes the entire surface rough.
[0017]
Next, the fourth step will be described with reference to FIG. 1D. This is a step of drying the etched dielectric substrate 1 and resin mask 2 and then removing the resin mask 2 from the dielectric substrate 1. In order to facilitate this removal operation, an apparatus for removing the resin mask 2 may be used, and chemically, for example, a xylene-based organic material is used. It may be used and removed by dissolving only this resin mask. As described above, the resin mask 2 can be easily removed by selecting the resin mask 2 material and the dielectric substrate 1 material from weakly compatible synthetic resins.
[0018]
Finally, the fifth step will be described with reference to FIG. 1E. The conductive layer 4 is formed on the surface of the dielectric substrate 1 on the etching treatment surface 3 having a predetermined pattern by electroless plating.
[0019]
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 (A) to 2 (E). As shown in FIG. 2 (A), the first step is a first molded product. A dielectric substrate 1 is molded, and the synthetic resin of the dielectric base material is formed by injecting and molding the same liquid crystal polymer of the plating grade as in the first embodiment. As the liquid crystal polymer, a plating grade C810 of “Vectra” (trade name, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.), which is a thermoplastic aromatic polyester resin, is used. As described above, the liquid crystal polymer is thermoplastic but has solder mounting heat resistance. Therefore, a dielectric substrate 1 which is a primary substrate of a cube having a predetermined shape is formed by mixing palladium in a catalyst for electroless plating into the synthetic resin and injection molding the synthetic resin material containing the catalyst.
[0020]
Next, in the second step, as shown in FIG. 2B, after the first step, a conductor layer 41 (see FIG. 2E) having a predetermined pattern is formed on the surface of the dielectric substrate 1. The resin mask 2 is formed on the dielectric substrate so that the surface portion to be exposed is exposed and the other surface portion is covered. The resin mask 2 is made of an easily bendable elastomer, which has elasticity at room temperature, and is a polyester-based elastomer, “Hytrel # SB704 Toray DuPont's product name”. used.
[0021]
The resin mask 2 is a thermoplastic elastomer and needs to be weakly compatible with the dielectric substrate 1. Therefore, in the state of FIG. 2B, the chemical etching solution and electroless (chemical) plating solution to be performed thereafter do not penetrate into the interface between the dielectric substrate 1 and the resin mask 2, and the resin mask. The removal of 2, i.e. mechanical peeling, can also be carried out very easily and quickly.
[0022]
Next, the chemical etching step of the third step will be described with reference to FIG. 2C. This etching processing surface 3 is the resin mask 2 and the entire surface of the dielectric substrate 1 exposed from the resin mask. Is roughened. As an example of this etching treatment, similar to the above-described embodiment, an alkaline aqueous solution in which caustic soda or caustic potash is dissolved at a predetermined concentration, for example, 45 wt%, is heated to a predetermined temperature, for example, 50 to 90 ° C. The substrate 1 and the resin mask 2 of the secondary molded product are immersed for a predetermined time, for example, 30 minutes. This etching process makes the entire surface rough.
[0023]
As described above, the first to third steps in this embodiment are substantially the same as the first to third steps in the above-described embodiment, and the same reference numerals are assigned to the same drawings. is doing. However, in the above-described embodiment, the resin mask is removed after roughening the entire surface of the resin mask 2 in the third step and the dielectric substrate 1 exposed from the resin mask. In the example, as the fourth step, the conductive layers 41 and 42 are formed by electroless plating on the etched surface 3 of the dielectric substrate 1 and the entire surface of the resin mask 2.
[0024]
Finally, in the fifth step, the resin mask 2 is removed from the dielectric substrate 1, and in this removal operation, as described above, the materials of the dielectric substrate 1 and the resin mask 2 are weakly compatible with each other. Therefore, when the interface of the resin mask is peeled in order to remove the resin mask, the peeling operation can be performed easily and promptly, and the surface of the dielectric substrate 1 is left unhindered in use. There are no checks or traps left.
[0025]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, the catalyst application step is not required as in the prior art, and the conductor layer formed by electroless plating has an accurate contour as designed. For example, when a dielectric antenna is manufactured, According to the second aspect of the present invention, the catalyst application step is not required, and the chemical etching solution or the electroless plating solution penetrates between the dielectric substrate and the resin mask. In the case where the interface of the resin mask is peeled off, the peeling work can be easily and promptly performed, and the residue and wrinkles that hinder the use are not left on the surface of the dielectric substrate 1.
[Brief description of the drawings]
FIGS. 1A, 1B, 1C, 1D and 1E are schematic views showing step by step the respective production steps according to the first embodiment of the present invention.
FIGS. 2 (A), (B), (C), (D) and (E) are schematic views showing steps of manufacturing according to the second embodiment of the present invention in stages.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dielectric base | substrate 2 Resin mask 3 Etching surface 4 Conductive layers 41 and 42 Conductive layer

Claims (2)

合成樹脂材料からなる所定形状の誘電体基体の表面上に、導電性材料からなる所定パターンの導体層が形成されている立体回路基板の製造方法において、
無電解めっきに対する触媒が混入してある触媒入り合成樹脂材料により前記所定形状の誘電体基体を形成する工程、
この誘電体基体の表面のうち、前記所定パターンの導体層が形成されるべき表面部分を露出させて、これ以外の表面部分を覆うようにこの誘電体基体に樹脂マスクを形成する工程、
上記樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している上記誘電体基体の全表面を粗面化処理する工程、
上記誘電体基体の粗面化処理された面と上記樹脂マスクの全表面に導電層を無電解めっきにより形成する工程、
並びに上記誘電体基体から上記樹脂マスクを除去する工程を含み、さらに、
上記誘電体基体と上記樹脂マスクとの材料は相互に弱相溶性のものであって、
上記誘電体基体は熱可塑性の液晶ポリマーであり、上記樹脂マスクは常温で弾性を有する熱可塑性ポリエステル系エラストマーである
ことを特徴とする立体回路基板の製造方法。
In a method for manufacturing a three-dimensional circuit board, in which a conductor layer having a predetermined pattern made of a conductive material is formed on the surface of a dielectric substrate having a predetermined shape made of a synthetic resin material,
Forming a dielectric substrate of the predetermined shape with a synthetic resin material containing a catalyst mixed with a catalyst for electroless plating;
A step of exposing a surface portion of the surface of the dielectric substrate on which the conductor layer of the predetermined pattern is to be formed and forming a resin mask on the dielectric substrate so as to cover the other surface portion;
A step of roughening the resin mask and the entire surface of the dielectric substrate exposed from the resin mask;
Forming a conductive layer by electroless plating on the roughened surface of the dielectric substrate and the entire surface of the resin mask;
And removing the resin mask from the dielectric substrate,
The material of the dielectric substrate and the resin mask der those mutually Yowasho soluble,
The method of manufacturing a three-dimensional circuit board, wherein the dielectric substrate is a thermoplastic liquid crystal polymer, and the resin mask is a thermoplastic polyester elastomer having elasticity at room temperature .
請求項の製造方法により製造された立体回路基板。A three-dimensional circuit board manufactured by the manufacturing method according to claim 1 .
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