JP4421322B2 - Cleaning method for goods - Google Patents

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本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、単に有機EL素子ともいう)を製造する際に使用されたメタルマスク等の有機EL素子材料が付着した物品から有機EL材料を除去する方法に関する。   The present invention relates to a method for removing an organic EL material from an article to which an organic EL element material such as a metal mask used in manufacturing an organic electroluminescence element (hereinafter also simply referred to as an organic EL element) is attached.

有機EL素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子としての用途が有望視され、現在、盛んに研究が行なわれている。一般に有機EL素子は、ガラス板等の透明基板上に、アノード電極(ITO)、ホール輸送層、有機層(発光層)、電子輸送層、カソード電極をこの順に積層し、表面に封止缶を配置した構成となっている。上記有機層(発光層)、ホール輸送層及び電子輸送層は(以下単に有機層等ともいう)は有機EL素子材料を含んでおり、有機EL素子材料としては、銅フタロシアニン(CuPc)、スターバースト(star-burst)分子などの低分子系材料とポリ(p−フェニレンビニレン)(PPV)、ポリアニリン(PANI)等の高分子系材料とが知られている。   The organic EL element is considered to be promising for use as a solid light-emitting and inexpensive large-area full-color display element, and is actively researched. In general, an organic EL element is formed by laminating an anode electrode (ITO), a hole transport layer, an organic layer (light emitting layer), an electron transport layer, and a cathode electrode in this order on a transparent substrate such as a glass plate, and a sealing can on the surface. The arrangement is arranged. The organic layer (light emitting layer), the hole transport layer, and the electron transport layer (hereinafter also simply referred to as an organic layer or the like) contain an organic EL element material. Examples of the organic EL element material include copper phthalocyanine (CuPc) and starburst. Low molecular weight materials such as (star-burst) molecules and high molecular weight materials such as poly (p-phenylene vinylene) (PPV) and polyaniline (PANI) are known.

有機EL材料として低分子系材料を用いた有機EL素子の製造工程において、有機層等の形成は、アノード電極層及び必要に応じてホール輸送層や有機層が形成された基板上に有機EL素子材料を真空蒸着することにより行われている。真空蒸着により有機層等を形成する場合には、各色の表示をするため或いは不要な発光を制御するために画素ごとのパターンニングをする必要がある。そして、このパターンニングにはスリットを有するメタルマスクが用いられている(特許文献1及び2参照)。   In the manufacturing process of an organic EL element using a low molecular material as the organic EL material, the organic layer and the like are formed on the substrate on which the anode electrode layer and, if necessary, the hole transport layer and the organic layer are formed. This is done by vacuum deposition of the material. When an organic layer or the like is formed by vacuum deposition, it is necessary to perform patterning for each pixel in order to display each color or to control unnecessary light emission. A metal mask having slits is used for this patterning (see Patent Documents 1 and 2).

ところで、上記のような蒸着法により有機層等を形成した場合、メタルマスクの表面には有機EL素子材料が付着する。有機EL素子材料が付着したメタルマスクを使用し続けるとメタルマスク自体が変形したり堆積した有機EL素子材料によりスリットが塞がれたりして高精度のパターンニングができなくなる。このため、メタルマスクを繰り返して使用するためには、定期的にメタルマスクを洗浄して表面に付着した有機EL材料を取り除く必要がある。このときの洗浄方法としては、人手により有機溶剤を用いて拭き取る方法、超臨界流体を用いる方法等が知られている(特許文献3参照)。なお、前者の方法においては、有機溶媒としては洗浄力の高さから塩化メチレン等のハロゲン系の有機溶媒が用いられることが多い。また、メタルマスクの洗浄ではないが、インクジェット方式で有機層(発光層)を形成する場合において、有機EL素子材料が付着したノズルに水、アルコールおよび溶剤(具体的にはシクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等)を順次通液して洗浄する方法が知られている(特許文献4参照)。   By the way, when an organic layer etc. are formed by the above vapor deposition methods, organic EL element material adheres to the surface of a metal mask. If the metal mask to which the organic EL element material is adhered is used continuously, the metal mask itself is deformed or the slit is blocked by the deposited organic EL element material, so that highly accurate patterning cannot be performed. For this reason, in order to repeatedly use the metal mask, it is necessary to periodically remove the organic EL material adhering to the surface by cleaning the metal mask. As a cleaning method at this time, a method of manually wiping with an organic solvent, a method of using a supercritical fluid, and the like are known (see Patent Document 3). In the former method, a halogen-based organic solvent such as methylene chloride is often used as the organic solvent because of its high detergency. In addition, when the organic layer (light emitting layer) is formed by an ink jet method, although not cleaning the metal mask, water, alcohol, and a solvent (specifically, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran) are applied to the nozzle to which the organic EL element material is attached. , Trimethylbenzene, tetramethylbenzene, etc.) are sequentially passed through and washed (see Patent Document 4).

特開2003−332057号公報JP 2003-332057 A 特開2003−297566号公報JP 2003-297666 A 特開2003−305421号公報JP 2003-305421 A 特開2003−182095号公報JP 2003-182095 A

有機EL素子材料が付着したメタルマスクの洗浄に関し、前記した超臨界流体を用いる方法は、有機EL素子材料のリサイクルが可能であるという長所がある反面、加圧装置が必要であるばかりでなく、洗浄効率や操作性の観点で問題がある。   Regarding the cleaning of the metal mask to which the organic EL element material is adhered, the above-described method using a supercritical fluid has the advantage that the organic EL element material can be recycled, but not only a pressure device is required, There are problems in terms of cleaning efficiency and operability.

洗浄剤を用いる方法は、自動システムを組むことが可能であり、多くの分野で採用されていることからも分かるように工業的に有利な方法である。しかしながら該方法においては、環境問題や人体に対する安全性の観点から、ハロゲン系有機媒やベンゼン誘導体の使用が問題となっている。したがって、洗浄剤を用いる方法においてはこれらの有機溶媒を使用しない洗浄剤であって、有機EL素子材料に対する洗浄力が高い洗浄剤を見出すことが必要である。   The method using the cleaning agent is an industrially advantageous method as can be seen from the fact that it is possible to build an automatic system and is adopted in many fields. However, in this method, the use of a halogen-based organic medium or a benzene derivative is a problem from the viewpoint of environmental problems and safety to the human body. Therefore, in a method using a cleaning agent, it is necessary to find a cleaning agent that does not use these organic solvents and has a high cleaning power for the organic EL element material.

そこで、本発明は、このような要求を満足する洗浄剤を見出し、メタルマスク等の有機EL素子材料が付着した物品から有機EL材料を効率的に除去する方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for efficiently removing an organic EL material from an article to which an organic EL element material such as a metal mask is attached, by finding a cleaning agent that satisfies such requirements.

本発明者等は上記課題を解決するため、多くの洗浄剤について有機EL材料に対する洗浄力を調べると共に、洗浄後のメタルマスクの清浄度について検討を行なった。その結果、(i)アルキレングリコールアルキルエーテル又はそのエステル誘導体はアルコールや他の炭化水素系溶媒に比べて有機EL材料に対する洗浄力高いこと、(ii)洗浄剤が水を含んでいたり水リンスを行なったりした場合には、メタルマスクの表面に水酸化物や酸化物が形成され、有機EL素子を製造する場合においてメタルマスクの位置合わせを行なう際のメタルマスクと下地との摩擦によってこれが剥離して汚染物質となり製品の歩留まりを低下させることがあること、(iii)洗浄剤が無機塩等の水溶性不揮発成分を含む場合には、水リンスを行なわないとメタルマスク表面にこれら成分が残渣として残り(ii)の場合と同様に汚染の原因となることがあることを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors examined the cleaning power of many cleaning agents for organic EL materials and examined the cleanliness of the metal mask after cleaning. As a result, (i) alkylene glycol alkyl ether or its ester derivative has higher detergency for organic EL materials than alcohol and other hydrocarbon solvents, and (ii) the detergent contains water or rinses with water. In such a case, a hydroxide or an oxide is formed on the surface of the metal mask, and this peels off due to friction between the metal mask and the base when aligning the metal mask when manufacturing an organic EL element. (Iii) When the cleaning agent contains water-soluble non-volatile components such as inorganic salts, these components remain as residues on the metal mask surface without water rinsing. As in the case of (ii), it has been found that it may cause contamination, and the present invention has been completed.

即ち、第一の本発明は、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを主成分とし、水及び水溶性不揮発性添加剤を実質的に含有しない洗浄剤を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子材料が付着した物品を洗浄することにより当該物品に付着した有機EL素子材料を除去することを特徴とする物品の洗浄方法である。なお、ここで”主成分”とは最も含有率が高い成分という意味であり、上記洗浄剤は単一成分からなる場合も含む(この点は、後述の第三の本発明においても同じである)。 That is, the first aspect of the present invention cleans an article to which an organic electroluminescent element material is adhered, using a cleaning agent mainly composed of dipropylene glycol monomethyl ether and substantially free of water and a water-soluble nonvolatile additive. This is a method for cleaning an article, characterized in that the organic EL element material adhering to the article is removed. Here, “main component” means a component having the highest content, and the cleaning agent includes a case where the cleaning agent is composed of a single component (this is the same in the third invention described later). ).

また、第二の本発明は、表面の一部がメタルマスクで被覆された基板を有機EL素子材料の蒸気と接触させることによりメタルマスクで被覆されていない部分の基板表面に有機EL素子材料を蒸着する工程を含み、且つ該工程でメタルマスクの表面に付着した有機EL素子材料を除去してメタルマスクを再利用する有機EL素子の製造方法において、メタルマスクの表面に付着した有機EL素子材料を除去する方法が、前記本発明の洗浄方法であることを特徴とする前記方法である。   The second aspect of the present invention provides an organic EL element material on a portion of the substrate surface not covered with a metal mask by bringing a substrate whose surface is covered with a metal mask into contact with the vapor of the organic EL element material. An organic EL element material that adheres to the surface of a metal mask in a method of manufacturing an organic EL element that includes a step of vapor deposition and that removes the organic EL element material that adheres to the surface of the metal mask in the process and reuses the metal mask The method for removing water is the cleaning method of the present invention.

更に第三の本発明は、 ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを主成分とし、水及び水溶性不揮発性添加剤を実質的に含有しない液体からなる有機EL素子材料除去用洗浄剤である。 The third aspect of the present invention is a cleaning agent for removing an organic EL element material comprising a liquid mainly composed of dipropylene glycol monomethyl ether and substantially free of water and a water-soluble nonvolatile additive.

本発明の洗浄方法によれば、メタルマスク等の物品に付着した有機EL素子材料を効率よく除去することができる。しかも、このとき用いる本発明の洗浄剤は水及び水溶性不揮発性添加剤を実質的に含有しないため、水リンスを行わなくても清浄面が得られる。このため、洗浄後のメタルマスクに有機EL素子製造時の汚染物質となるような酸化物等や残渣が付着することもない。   According to the cleaning method of the present invention, the organic EL element material attached to an article such as a metal mask can be efficiently removed. In addition, since the cleaning agent of the present invention used at this time does not substantially contain water and water-soluble nonvolatile additives, a clean surface can be obtained without water rinsing. For this reason, the oxide etc. which become a contaminant at the time of organic electroluminescent element manufacture, and a residue do not adhere to the metal mask after washing | cleaning.

本発明の洗浄方法では、有機EL素子材料が付着した物品を洗浄して当該物品付着した有機EL素子材料を除去する。ここで、有機EL素子材料とは、有機EL素子を製造する際に使用される正孔注入材料、発光材料及び電子注入材料を意味する。一般に有機EL素子材料としては低分子系のものと高分子系のものが知られているが、本発明の方法の効果(特に本発明の洗浄剤による除去性が高いという効果)の観点から、除去される有機EL素子材料は低分子系のものであるのが好適である。低分子系の有機EL材料としては、有機EL素子製造過程で蒸着法により基板に蒸着されるものとして使用されているものが何ら制限無く使用できる。このような有機EL材料を例示すれば、正孔注入材料としては、2Me−TPD、α−NPD等のベンジジン型の材料、m−MTDATA等のスターバースト型アミン、ベンジジン型アミンの多量体(TPTE)、銅フタロシアニン(CuPc)、FTPD、spiro−TPD等のフルオレン基を有するもの、シクロアルキレン型アミンのオリゴマー(OTPAC)などが挙げられる。また、発光材料としては、DPVBi、Alq、Bebq、Comuarin6、Q、NMQ、Rubrene、DCM−2、TMS−SiPc等を挙げることができる。更に電子注入材としてはZnPBT、PBD、TAZ等を挙げることができる。なおこれら材料の具体的構造は、例えば榎田年男、「有機EL材料の開発動向」(「電子材料」1999年12月号39−44頁)に記載されている。 In the cleaning method of the present invention, an article to which the organic EL element material is adhered is washed to remove the organic EL element material to which the article is adhered. Here, the organic EL element material means a hole injecting material, a light emitting material, and an electron injecting material used when manufacturing the organic EL element. In general, low molecular weight and high molecular weight materials are known as organic EL element materials, but from the viewpoint of the effect of the method of the present invention (particularly the effect of high removability by the cleaning agent of the present invention), The organic EL element material to be removed is preferably a low molecular material. As the low molecular weight organic EL material, any material that is used as a material deposited on a substrate by a vapor deposition method in the course of manufacturing an organic EL element can be used without any limitation. As an example of such an organic EL material, as a hole injection material, a benzidine type material such as 2Me-TPD and α-NPD, a starburst type amine such as m-MTDATA, and a multimer of benzidine type amine (TPTE). ), Copper phthalocyanine (CuPc), those having a fluorene group such as FTPD, spiro-TPD, oligomers of cycloalkylene amine (OTPAC), and the like. Examples of the light emitting material include DPVBi, Alq 3 , Bebq 2 , Comuarin 6, Q, NMQ, Rubrene, DCM-2, TMS-SiPc, and the like. Furthermore, examples of the electron injecting material include ZnPBT, PBD, TAZ and the like. Specific structures of these materials are described in, for example, Toshio Tomita, “Development Trend of Organic EL Materials” (“Electronic Materials”, December 1999, pages 39-44).

また、このような有機EL素子材料が付着する物品は特に限定されず、有機EL素子材料の製造工程或いは有機EL素子の製造工程で使用され、その過程で有機EL素子材料が付着する可能性のある器具、治具、装置及び製品等が挙げられる。これらの中でも、大量に有機EL素子材料が付着するメタルマスクは、本は発明の洗浄方法を適用するメリットが大きい。メタルマスクとしては、有機EL素子材料製造工程で使用される公知のものが何ら制限無く使用される。このようなメタルマスクは、で例えば特開2004−39628号公報、特開2003−332057号公報等に記載されている様に、スリットや窓部を有する厚さ10〜1000μmの金属シートからなる。なお、メタルマスクの材質としては、通常、ステンレス、インバー合金、Ni又はNi合金等が使用されている。   Further, the article to which the organic EL element material adheres is not particularly limited, and is used in the manufacturing process of the organic EL element material or the manufacturing process of the organic EL element, and the organic EL element material may adhere in the process. Some instruments, jigs, devices, products, etc. Among these, a metal mask to which a large amount of organic EL element material adheres has a great merit in applying the cleaning method of the present invention. As the metal mask, a known mask used in the organic EL element material manufacturing process is used without any limitation. Such a metal mask is made of a metal sheet having a thickness of 10 to 1000 μm having slits and windows as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-39628 and 2003-332057. As a material for the metal mask, stainless steel, invar alloy, Ni, Ni alloy or the like is usually used.

本発明の洗浄方法では、アルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体を主成分とし、水及び水溶性不揮発性添加剤を実質的に含有しない液体からなる洗浄剤(本発明の洗浄剤)を用いて有機EL素子材料が付着した物品を洗浄して当該物品に付着した有機EL素子材料を除去する。このような洗浄剤を用いることにより、物品表面に有機EL素子製造時の汚染物質となるような酸化物や水酸化物或いは洗浄残渣を付着させることなく有機EL材料をきれいに除去することができる。   In the cleaning method of the present invention, a cleaning agent (cleaning agent of the present invention) comprising a liquid mainly containing alkylene glycol alkyl ether and / or an ester derivative thereof and substantially free of water and water-soluble nonvolatile additives is used. Then, the article to which the organic EL element material is attached is washed to remove the organic EL element material attached to the article. By using such a cleaning agent, it is possible to cleanly remove the organic EL material without adhering to the surface of the article an oxide, hydroxide, or cleaning residue that becomes a contaminant during the manufacture of the organic EL element.

以下、本発明の洗浄剤および該洗浄剤を用いた本発明の洗浄方法によりメタルマスク等の被洗浄物を洗浄する方法について説明する。   Hereinafter, the cleaning agent of the present invention and a method of cleaning an object to be cleaned such as a metal mask by the cleaning method of the present invention using the cleaning agent will be described.

本発明の洗浄剤はアルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体を主成分とし、水及び水溶性不揮発性の添加剤を実質的に含有しない液体からなる洗浄剤であって、被洗浄物から該被洗浄物に付着した有機EL素子材料を除去するために使用される洗浄剤であれば特に限定されない。ここで、水を実質的に含有しないとは、不可避的に混入する場合は除き、水を積極的に添加しないという意味であり、より具体的には水の含有量が1重量%以下、好ましくは0.1重量%以下であることを意味する。また、水溶性の不揮発性添加剤を実質的に含有しないとは、不可避的に混入する場合は除き界面活性剤や塩類等の水溶性の不揮発成分を積極的に添加しないという意味であり、より具体的には、水溶性不揮発成分の含有量がJIS−K0067に規定される蒸発残分で0.001g/ml以下、好適には0.0005g/ml以下であることを意味する。   The cleaning agent of the present invention is a cleaning agent comprising a liquid mainly comprising an alkylene glycol alkyl ether and / or an ester derivative thereof, and substantially free of water and water-soluble non-volatile additives. The cleaning agent is not particularly limited as long as it is a cleaning agent used for removing the organic EL element material adhering to the object to be cleaned. Here, “substantially not containing water” means that water is not actively added unless it is inevitably mixed, and more specifically, the water content is 1% by weight or less, preferably Means 0.1% by weight or less. Further, substantially not containing water-soluble non-volatile additives means that water-soluble non-volatile components such as surfactants and salts are not positively added unless inevitably mixed. Specifically, it means that the content of the water-soluble nonvolatile component is 0.001 g / ml or less, preferably 0.0005 g / ml or less in terms of the evaporation residue defined in JIS-K0067.

アルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体は、所謂水系洗浄剤若しくは準水系洗浄剤の成分としてよく知られたものであり、該成分を含む洗浄剤は水と混合して使用され、しかも水リンス工程を伴って使用されるのが一般的である。また、洗浄力を高めるために、脂肪酸塩等の水溶性の不揮発成分が添加されることも多い。本発明は、水溶性不揮発成分を含まないことにより水リンスを不要とし、アルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体を通常では用いられない非水系洗浄剤(水を含まずリンス工程でも水を使用しない洗浄剤)として使用し、その有機EL素子材料に対する高い洗浄力を見出したものによってなされたものである。   Alkylene glycol alkyl ethers and / or ester derivatives thereof are well-known as components of so-called aqueous detergents or semi-aqueous detergents, and detergents containing these components are used by being mixed with water, and water rinses. It is generally used with a process. Further, in order to enhance the detergency, water-soluble nonvolatile components such as fatty acid salts are often added. The present invention eliminates the need for water rinsing by not containing a water-soluble nonvolatile component, and does not normally use alkylene glycol alkyl ethers and / or ester derivatives thereof. Used as a cleaning agent that does not clean the organic EL element, and has been found to have a high detergency for the organic EL element material.

本発明で好適に使用できるアルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体を例示すれば、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノプロピルエーテル等の水に難溶性のアルキレングリコールモノアルキルエーテル又はそのエステル誘導体、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等水に易溶性のアルキレングリコールモノアルキルエーテル又はそのエステル誘導体を挙げることができる。本発明の洗浄剤におけるアルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体としては、有機EL素子材料に対する洗浄力の高さの観点から25℃における水の溶解度(25℃におけるアルキレングリコールアルキルエーテル又はそのエステル誘導体に溶解する水の重量%)が30重量%以上であるもの、特に水に対してmiscibleなものを使用するのが好適である。このようなアルキレングリコールアルキルエーテル及びそのエステル誘導体を具体的に例示すれば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることができる。   Examples of alkylene glycol alkyl ethers and / or ester derivatives thereof that can be suitably used in the present invention include water such as dipropylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether acetate, and butylene glycol monopropyl ether. Insoluble water-soluble alkylene glycol monoalkyl ether or its ester derivative, ethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. it can. As the alkylene glycol alkyl ether and / or ester derivative thereof in the cleaning agent of the present invention, the solubility of water at 25 ° C. (alkylene glycol alkyl ether or ester derivative thereof at 25 ° C. from the viewpoint of high detergency to the organic EL device material) It is preferable to use those which are 30% by weight or more, particularly those which are miscible with respect to water. Specific examples of such alkylene glycol alkyl ethers and ester derivatives thereof include dipropylene glycol monomethyl ether.

また、本発明の洗浄剤は、廃液のリサイクル性等を考慮すると、単一のアルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体からなるのが好ましいが、複数種のアルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体を混合して使用してもよい。また、アルキレングリコールアルキルエーテル及び/又はそのエステル誘導体以外の有機溶媒を含有していてもよい。このとき使用できる有機溶媒を例示すれば、N―メチルピロリドン、N―エチルピロリドンなどのピロリドン化合物、ジメチルスルホキシド、1,3―ジメチル−2−イミダゾリジノン、γ―ブチロラクトン、またはこれら等か選ばれる任意の2種以上の混合物等を挙げることができる。これら有機溶媒の含有量は洗浄力の観点から、0〜60重量%、特に、0〜25重量%であるのが好ましい。   In addition, the cleaning agent of the present invention is preferably composed of a single alkylene glycol alkyl ether and / or an ester derivative thereof in consideration of the recyclability of the waste liquid, but a plurality of types of alkylene glycol alkyl ethers and / or esters thereof. A mixture of derivatives may be used. Moreover, you may contain organic solvents other than alkylene glycol alkyl ether and / or its ester derivative. Examples of organic solvents that can be used at this time include pyrrolidone compounds such as N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, γ-butyrolactone, and the like. An arbitrary mixture of two or more types can be mentioned. The content of these organic solvents is preferably 0 to 60% by weight, particularly preferably 0 to 25% by weight, from the viewpoint of detergency.

本発明の洗浄剤を用いて、物品の表面に付着した有機EL素子材料を除去する方法は、洗浄剤として本発明の洗浄剤を用いる以外は特に限定されず、例えば洗浄剤に被洗浄物である物品を浸漬し超音波を照射する方法、噴流等流れのある洗浄剤の中に被洗浄物を浸漬する方法、被洗浄物にスプレー等で洗浄剤を吹き付ける方法等の公知の洗浄方法が何ら制限なく採用できる。   The method for removing the organic EL element material adhering to the surface of the article using the cleaning agent of the present invention is not particularly limited except that the cleaning agent of the present invention is used as the cleaning agent. There are known cleaning methods such as a method of immersing an article and irradiating ultrasonic waves, a method of immersing an object to be cleaned in a flowing cleaning agent such as a jet, and a method of spraying a cleaning agent on the object to be cleaned by spraying. Can be used without restriction.

本発明の洗浄方法では、上記のようにして洗浄を行なった後、そのまま乾燥を行なうこともできるが、本発明の洗浄剤の乾燥性は必ずしも良好ではないので、本発明の洗浄液を溶解する有機溶媒からなるリンス液でリンスしてから乾燥を行なうのが好適である。ただし、リンス液が水を含む場合には被洗浄物の腐食(被洗浄物が金属製品である場合には金属水酸化物や金属酸化物の形成)の問題があるので、リンス液は水を実質的に含有しないのが好適である(別言すれば、本発明の洗浄剤は非水系洗浄剤として使用するのが好適である)。なお、ここで、洗浄液を溶解するとは、25℃におけるリンス液1(l)に対して溶解する洗浄剤の量が10g以上であることを意味する。リンス液としては、乾燥性の観点から沸点50〜100℃の有機溶媒を使用するのが好適である。   In the cleaning method of the present invention, after the cleaning as described above, the drying can be performed as it is. However, since the drying property of the cleaning agent of the present invention is not necessarily good, the organic solvent that dissolves the cleaning liquid of the present invention is used. It is preferable to carry out drying after rinsing with a rinsing liquid comprising a solvent. However, when the rinse liquid contains water, there is a problem of corrosion of the object to be cleaned (when the object to be cleaned is a metal product, formation of metal hydroxide or metal oxide). It is preferable that it is not substantially contained (in other words, the cleaning agent of the present invention is preferably used as a non-aqueous cleaning agent). Here, dissolving the cleaning solution means that the amount of the cleaning agent dissolved in the rinsing solution 1 (l) at 25 ° C. is 10 g or more. As the rinsing liquid, it is preferable to use an organic solvent having a boiling point of 50 to 100 ° C. from the viewpoint of drying properties.

本発明において、リンス液として好適に使用できる有機溶媒を例示すれば、メタノール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセトン等のケトン類;ジクロロメタン等の塩素系溶媒;1,1,1,3,3,4,4−ヘプタフルオロブタン、1,1,1,2,4,4,4−ヘプタフルオロブタン、1,1,1,2,4,4,4−ヘプタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ブタン、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンタン、1,1,1,2,2,5,5,6,6,6−デカフルオロヘキサン、1,1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロヘキサン等のハイドロフルオロカーボン(HFC)、:1−クロロ−1,2,2−トリフルオロエチルメチルエーテル、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロピルメチルエーテル、1,1−ジフルオロエチルエチルエーテル、1,1,2,2−テトラフルオロエチルエチルエーテル、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロピルn−プロピルエーテル等のハイドロフルオロエーテル(HFE)等のフッ素系溶媒を挙げることができる。これらの中でも、液置換性、及び取扱い性が良いという理由からイソプロピルアルコール、HFC又はHFEを使用するのが好適である。特にHFC及びHFEは不燃性であるため、安全性の観点からはHFC及び/又はHFEを使用するのが好ましい。   Examples of organic solvents that can be suitably used as the rinsing liquid in the present invention include alcohols such as methanol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol; ketones such as acetone; chlorinated solvents such as dichloromethane; 1,1,1,3 , 3,4,4-heptafluorobutane, 1,1,1,2,4,4,4-heptafluorobutane, 1,1,1,2,4,4,4-heptafluoro-2- (tri Fluoromethyl) butane, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentane, 1,1,1,2,2,5,5,6,6,6-decafluorohexane, , 1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorohexane and other hydrofluorocarbons (HFCs): 1-chloro-1,2,2-trifluoroethyl methyl ether, 1,1,1 , 2,3,3- Such as oxafluoropropyl methyl ether, 1,1-difluoroethyl ethyl ether, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl ethyl ether, 1,1,1,2,3,3-hexafluoropropyl n-propyl ether, etc. Fluorinated solvents such as hydrofluoroether (HFE) can be mentioned. Among these, it is preferable to use isopropyl alcohol, HFC or HFE for the reason that the liquid replacement property and the handleability are good. In particular, since HFC and HFE are nonflammable, it is preferable to use HFC and / or HFE from the viewpoint of safety.

リンス工程におけるリンス方法は特に限定されず、例えばリンス液に被洗浄物を浸漬し超音波を照射する方法、噴流等流れのあるリンス液の中に被洗浄物を浸漬する方法等の公知の方法により好適に行なうことができる。   The rinsing method in the rinsing process is not particularly limited. For example, a known method such as a method of immersing an object to be cleaned in a rinsing liquid and irradiating ultrasonic waves, a method of immersing an object to be cleaned in a rinsing liquid having a flow such as a jet. It can carry out more suitably.

また、リンス後に乾燥によりリンス液を除去する方法は特に限定されないが、液じみを無くす等の清浄度の維持という理由から、リンス工程で用いたリンス液を用いた蒸気乾燥により行なうのが好適である。このような蒸気乾燥は、図1に示すような蒸気乾燥装置を用いて好適に行うことができる。図1に示す蒸気乾燥装置1は、上部に冷却管2を有する槽からなり、その内部にはリンス液と同じ組成の沸騰液3が貯留されている。沸騰液3は図示しない外部熱源からの加熱により沸騰状態に保たれ、冷却管2より下方の槽内に蒸気層4が形成される。この蒸気層4の中に蒸気温度より低い被洗浄物5を入れると、蒸気は被洗浄物表面で凝縮するが、被洗浄物温度は上昇し、最終的に被洗浄物温度と蒸気温度が等しくなった時点で被洗浄物を槽の外へ取り出すことにより乾燥が可能となる。   The method of removing the rinsing liquid by drying after rinsing is not particularly limited, but it is preferable to carry out by steam drying using the rinsing liquid used in the rinsing step for the purpose of maintaining cleanliness such as elimination of liquid bleeding. is there. Such steam drying can be suitably performed using a steam drying apparatus as shown in FIG. A steam drying apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a tank having a cooling pipe 2 at an upper portion, and a boiling liquid 3 having the same composition as the rinse liquid is stored therein. The boiling liquid 3 is kept in a boiling state by heating from an external heat source (not shown), and a vapor layer 4 is formed in the tank below the cooling pipe 2. If an object 5 having a temperature lower than the vapor temperature is placed in the vapor layer 4, the vapor condenses on the surface of the object to be cleaned, but the temperature of the object to be cleaned rises, and finally the temperature of the object to be cleaned is equal to the vapor temperature. At that time, the object can be dried by taking it out of the tank.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in more detail, this invention is not limited to these Examples.

尚、実施例及び比較例で使用する化合物の略号を以下に示す。
[アルキレングリコールアルキレンエーテル類]
DPM :ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
DPP :ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル
PB :プロピレングリコールモノブチルエーテル
DEDE :ジエチレングリコールジエチルエーテル
DEMP :ジエチレングリコールメチルiso−プロピルエーテル
[その他溶媒]
NMP :N−メチルピロリドン
[水溶性不揮発性添加剤]
EAC :カプリン酸モノエタノールアミン塩
[アルコール類]
IPA :イソプロピルアルコール
MeOH :メタノール
実施例1
サンプル(被洗浄物)として50mm角のニッケルメッキした金属片に真空蒸着で有機EL素子材料(Alqを用いた)を塗布したものを準備し、このサンプルをDPMからなる洗浄剤で洗浄後、IPAでリンスを行い更にIPAによる蒸気乾燥を行った。なお、洗浄は、液温50℃のDPM(1000ml)にサンプルを浸漬し、10分間超音波照射することにより行った。次いで、洗浄性を評価するために、次のようにして、乾燥後のサンプルに残留している有機EL量の測定を行った。即ち、乾燥済サンプル表面に付着している有機EL素子材料を塩素系溶剤であるジクロロメタン50mlを用いて抽出した後に、抽出液に含まれる有機ELの濃度を液体クロマトグラフィにて測定した。その結果、有機EL素子材料の濃度は0.05ppmであり、本実施例の洗浄性は極めて良好であることが確認された。
In addition, the symbol of the compound used by an Example and a comparative example is shown below.
[Alkylene glycol alkylene ethers]
DPM: Dipropylene glycol monomethyl ether DPP: Dipropylene glycol monopropyl ether PB: Propylene glycol monobutyl ether DDE: Diethylene glycol diethyl ether DMP: Diethylene glycol methyl iso-propyl ether [other solvents]
NMP: N-methylpyrrolidone [water-soluble non-volatile additive]
EAC: capric acid monoethanolamine salt [alcohols]
IPA: isopropyl alcohol MeOH: methanol Example 1
As a sample (object to be cleaned), a 50 mm square nickel-plated metal piece coated with an organic EL element material (using Alq 3 ) by vacuum deposition was prepared, and after washing this sample with a cleaning agent comprising DPM, Rinse with IPA and further steam drying with IPA. Washing was performed by immersing the sample in DPM (1000 ml) having a liquid temperature of 50 ° C. and irradiating with ultrasonic waves for 10 minutes. Subsequently, in order to evaluate detergency, the amount of organic EL remaining in the dried sample was measured as follows. That is, after extracting the organic EL element material adhering to the dried sample surface using 50 ml of dichloromethane, which is a chlorinated solvent, the concentration of the organic EL contained in the extract was measured by liquid chromatography. As a result, the concentration of the organic EL element material was 0.05 ppm, and it was confirmed that the cleaning property of this example was very good.

実施例2
DPMによる洗浄を2段階とし、リンスを行なわずに洗浄後に80℃の温風を用いて乾燥させるほかは実施例1と同様にしてサンプルの洗浄および洗浄性の評価を行った。その結果を表1に示す。洗浄性は良好であったが、乾燥に長時間を要した。なお、表1における「洗浄性評価」は、ジクロロメタンで抽出した時の抽出液に含まれる有機EL素子材料の濃度を実施例1の場合を1として相対的に示したものである。
Example 2
The samples were washed and evaluated for washability in the same manner as in Example 1, except that washing with DPM was performed in two stages, and rinsing was performed and drying was performed using warm air of 80 ° C. after washing. The results are shown in Table 1. Although the detergency was good, drying took a long time. The “detergency evaluation” in Table 1 indicates the relative concentration of the organic EL element material contained in the extract when extracted with dichloromethane as 1 in Example 1.

実施例3、および比較例8〜11
表1に示す組成の本発明の洗浄剤を用い、洗浄後リンスを行わずに80℃の温風を用いて乾燥させた以外は実施例1と同様にして試料の洗浄、乾燥および乾燥後の評価を行った。その結果を表1に示す。
Example 3 and Comparative Examples 8-11
The sample was washed, dried and dried in the same manner as in Example 1 except that the cleaning agent of the present invention having the composition shown in Table 1 was used and dried using hot air of 80 ° C. without rinsing after washing. Evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

比較例1〜7
表1に示す組成の洗浄剤を用いた以外は実施例1と同様にしてサンプルの洗浄、乾燥および乾燥後の評価を行った。その結果を表1に示す。
Comparative Examples 1-7
The sample was washed, dried and evaluated after drying in the same manner as in Example 1 except that the detergent having the composition shown in Table 1 was used. The results are shown in Table 1.

Figure 0004421322
Figure 0004421322

本図は、代表的な蒸気乾燥装置の断面図である。This figure is a sectional view of a typical steam drying apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・蒸気乾燥装置
2・・・冷却管
3・・・沸騰液(リンス液)
4・・・蒸気層
5・・・被洗浄物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Steam dryer 2 ... Cooling pipe 3 ... Boiling liquid (rinsing liquid)
4 ... Steam layer 5 ... Object to be cleaned

Claims (3)

ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを主成分とし、水及び水溶性不揮発性添加剤を実質的に含有しない洗浄剤を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子材料が付着した物品を洗浄することにより当該物品に付着した有機エレクトロルミネッセンス素子材料を除去することを特徴とする物品の洗浄方法。 By washing an article to which the organic electroluminescent element material is adhered using a cleaning agent mainly composed of dipropylene glycol monomethyl ether and substantially free of water and a water-soluble nonvolatile additive, A method for cleaning an article, comprising removing a luminescent element material. 表面の一部がメタルマスクで被覆された基板を有機エレクトロルミネッセンス素子材料の蒸気と接触させることによりメタルマスクで被覆されていない部分の基板表面に有機エレクトロルミネッセンス素子材料を蒸着する工程を含み且つ該工程でメタルマスクの表面に付着した有機エレクトロルミネッセンス素子材料を除去してメタルマスクを再利用する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
メタルマスクの表面に付着した有機エレクトロルミネッセンス素子材料を除去する方法が、請求項1に記載の方法であることを特徴とする前記方法。
Depositing an organic electroluminescent device material on a portion of the substrate surface not covered with a metal mask by contacting a substrate partially coated with a metal mask with a vapor of the organic electroluminescent device material, and In the manufacturing method of an organic electroluminescence element that removes the organic electroluminescence element material attached to the surface of the metal mask in the process and reuses the metal mask,
The method according to claim 1 , wherein the method of removing the organic electroluminescence element material attached to the surface of the metal mask is the method according to claim 1 .
ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを主成分とし、水及び水溶性不揮発性添加剤を実質的に含有しない液体からなる有機エレクトロルミネッセンス素子材料除去用洗浄剤。 A cleaning agent for removing an organic electroluminescent element material comprising a liquid mainly composed of dipropylene glycol monomethyl ether and substantially free of water and a water-soluble nonvolatile additive.
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