JP4415905B2 - Adhesive, wiring terminal connection method and wiring structure - Google Patents

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Description

本発明は、配線接続用の接着剤と、それを用いた配線端子の接続方法及び配線構造体とに関する。   The present invention relates to an adhesive for wiring connection, a method of connecting a wiring terminal using the same, and a wiring structure.

近年、精密電子機器の分野では配線の高密度化が進んでおり、電極幅及び電極間隔がきわめて狭くなっているため、配線の脱落、剥離や位置ずれが生じる恐れがある。この問題を解決するため、低温速硬化性に優れ、かつ、可使時間を有する電気・電子用の接着剤組成物が開発されている(例えば特開平11−97825号公報)。   In recent years, the density of wiring has been increased in the field of precision electronic equipment, and the electrode width and the electrode interval have become extremely narrow. In order to solve this problem, an adhesive composition for electric and electronic use having excellent low-temperature fast curing properties and having a pot life has been developed (for example, JP-A-11-97825).

しかし、これら従来の配線接続部材は、接続する配線を構成する材料の種類により接着強度が異なるという問題があった。特に、配線端子を支持する基板がポリイミド樹脂等の絶縁性有機物やガラスの場合、又は、配線部材表面に窒化シリコン、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂がコーティングされ若しくは付着している場合、著しく接着強度が低下するという問題があった。   However, these conventional wiring connecting members have a problem that the adhesive strength differs depending on the type of material constituting the wiring to be connected. In particular, when the substrate supporting the wiring terminals is an insulating organic material such as polyimide resin or glass, or when silicon nitride, silicone resin, or polyimide resin is coated or adhered to the surface of the wiring member, the adhesive strength is significantly reduced. There was a problem to do.

本発明は、電気・電子用に適し、特に配線端子を支持する基板が絶縁性有機物又はガラスからなる配線部材や、表面の少なくとも一部に窒化シリコン、シリコーン樹脂及び/又はポリイミド樹脂を備える配線部材を接着する場合であっても高い接着強度を得ることができる接着剤と、それを用いた配線端子の接続方法及び配線構造体とを提供することを目的とする。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitable for electric and electronic use, and in particular, a wiring member in which a substrate supporting a wiring terminal is made of an insulating organic material or glass, or a wiring member having silicon nitride, silicone resin and / or polyimide resin on at least a part of its surface It is an object of the present invention to provide an adhesive capable of obtaining a high adhesive strength even when adhering, a wiring terminal connection method using the same, and a wiring structure.

本発明では、(1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤と、(2)ラジカル重合性物質と、(3)シリコーン粒子とを含有する配線端子接続用の接着剤が提供される。本発明の接着剤は、表面に設けられた配線端子が対向するように配置された配線基板の間に介在させ、この配線基板を加圧しつつ加熱することにより、端子間を電気的に接続するのに用いることができる。なお、本明細書において、端子は電極であってもよい。   The present invention provides an adhesive for connecting a wiring terminal, which includes (1) a curing agent that generates free radicals upon heating, (2) a radical polymerizable substance, and (3) silicone particles. The adhesive of the present invention is interposed between wiring boards arranged so that wiring terminals provided on the surface face each other, and the wiring boards are heated while being pressed to electrically connect the terminals. Can be used. In the present specification, the terminal may be an electrode.

本発明の接着剤は、(4)フィルム形成材をさらに含んでいてもよい。フィルム形成材としては、フェノキシ樹脂が好適である。   The adhesive of the present invention may further contain (4) a film forming material. A phenoxy resin is suitable as the film forming material.

また、本発明の接着剤は、(5)導電性粒子をさらに含んでいてもよい。導電性粒子は、少なくともその表面が、金、銀及び白金族金属のうちの少なくともいずれかを含むことが好ましく、これらの金属のいずれかにより表面が覆われていることが望ましい。   The adhesive of the present invention may further contain (5) conductive particles. It is preferable that at least the surface of the conductive particles includes at least one of gold, silver, and a platinum group metal, and the surface is preferably covered with any of these metals.

本発明の接着剤におけるシリコーン粒子の含有量は、ラジカル重合性物質100重量部に対し(フィルム形成材を含む場合は、ラジカル重合性物質とフィルム形成材との合計100重量部に対し)、5〜200重量部であることが好ましい。   The content of the silicone particles in the adhesive of the present invention is 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the radical polymerizable substance (when including the film forming material, the total of 100 parts by weight of the radical polymerizable substance and the film forming material). It is preferable that it is -200 weight part.

また、本発明の接着剤に用いられるシリコーン粒子は、25℃(室温)での弾性率が0.1〜100MPaであることが望ましい。   The silicone particles used in the adhesive of the present invention desirably have an elastic modulus of 0.1 to 100 MPa at 25 ° C. (room temperature).

また、本発明では、(1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、(2)ラジカル重合性物質及び(3)シリコーン粒子を含有する組成物からなる第1の層と、(5)導電性粒子、(2)ラジカル重合性物質及び(3)シリコーン粒子を含有する組成物からなる第2の層とが積層されている、配線端子接続用接着フィルムが提供される。   In the present invention, (1) a curing agent that generates free radicals upon heating, (2) a first layer comprising a composition containing a radical polymerizable substance and (3) silicone particles, and (5) conductivity. Provided is an adhesive film for connecting a wiring terminal, in which particles, (2) a radical polymerizable substance, and (3) a second layer made of a composition containing silicone particles are laminated.

さらに、本発明では、二以上の配線部材にそれぞれ設けられた接続端子の間を、本発明の接着剤を用いて電気的に接続する配線端子の接続方法が提供される。   Furthermore, in this invention, the connection method of the wiring terminal which electrically connects between the connection terminals each provided in two or more wiring members using the adhesive agent of this invention is provided.

本発明の接続方法は、間に本発明の接着剤を介在させた状態で互いに端子が対向するように配置された第一の接続端子を有する第一の配線部材と第二の接続端子を有する第二の配線部材とを、接着方向に加圧しつつ加熱して、第一の接続端子と第二の接続端子を電気的に接続させるものである。   The connection method of the present invention includes a first wiring member having a first connection terminal and a second connection terminal arranged so that the terminals face each other with the adhesive of the present invention interposed therebetween. The second wiring member is heated while being pressed in the bonding direction to electrically connect the first connection terminal and the second connection terminal.

本発明の接続方法は、特に、接続端子の少なくとも一つが、表面が金、銀、錫、白金族の金属、及び/又は、インジュウム−錫酸化物(ITO)からなる場合に好適である。また、本発明の接続方法は、配線部材のうちの少なくとも一つが、絶縁性有機物及び/又はガラスを含む基板を備える場合に好適である。さらに、本発明の接続方法は、配線部材の少なくとも一つが、表面に、窒化シリコン、シリコーン化合物及びポリイミド樹脂のうちの少なくともいずれかを備える場合であっても、優れた接着強度を得ることができる。   The connection method of the present invention is particularly suitable when at least one of the connection terminals has a surface made of gold, silver, tin, a platinum group metal, and / or indium-tin oxide (ITO). In addition, the connection method of the present invention is suitable when at least one of the wiring members includes a substrate containing an insulating organic material and / or glass. Furthermore, the connection method of the present invention can provide excellent adhesive strength even when at least one of the wiring members includes at least one of silicon nitride, silicone compound, and polyimide resin on the surface. .

さらに、本発明では、それぞれ接続端子を有する二以上の配線部材を備え、配線部材の接続端子間が本発明の接着剤を用いて電気的に接続されている配線構造体が提供される。   Furthermore, the present invention provides a wiring structure that includes two or more wiring members each having a connection terminal, and the connection terminals of the wiring members are electrically connected using the adhesive of the present invention.

本発明の配線構造体は、例えば、間に本発明の接着剤の硬化物を介在させた状態で、第一の接続端子を有する第一の配線部材と、第二の接続端子を有する第二の配線部材とが、第一の接続端子と第二の接続端子が対向配置され、第一の接続端子と第二の接続端子が電気的に接続されているという構造を有する。   The wiring structure of the present invention includes, for example, a first wiring member having a first connection terminal and a second connection terminal having a second connection terminal with a cured product of the adhesive of the present invention interposed therebetween. The wiring member has a structure in which the first connection terminal and the second connection terminal are arranged to face each other, and the first connection terminal and the second connection terminal are electrically connected.

(図面の簡単な説明)図1及び図2は、配線端子の接続工程を示す説明図である。   BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 and FIG. 2 are explanatory views showing a connection process of wiring terminals.

(1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤
本発明の接着剤に含まれる、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤は、過酸化物、アゾ化合物などの加熱により分解して遊離ラジカルを発生する物質である。この硬化剤は、目的とする接続温度、接続時間、ポットライフ等により適宜選定することができるが、反応性の高さ及びポットライフの長さの点から、半減期10時間の温度が40℃以上、かつ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化物が好ましく、半減期10時間の温度が60℃以上、かつ、半減期1分の温度が170℃以下の有機過酸化物がより好ましい。
(1) Curing agent that generates free radicals upon heating The curing agent that generates free radicals upon heating contained in the adhesive of the present invention decomposes upon heating of peroxides, azo compounds, and the like to generate free radicals. It is a substance. This curing agent can be appropriately selected depending on the intended connection temperature, connection time, pot life, etc., but the temperature of the half-life of 10 hours is 40 ° C. in terms of the high reactivity and the length of the pot life. Organic peroxides having a half-life temperature of 180 ° C. or less are preferred, organic peroxides having a half-life of 10 hours of 60 ° C. or more and a half-life of 1 minute of 170 ° C. or less Is more preferable.

接続時間を10秒以下とする場合、硬化剤の配合量は、十分な反応率を得るためにラジカル重合性物質(フィルム形成材が配合されている場合は、ラジカル重合性物質とフィルム形成材との合計)100重量部に対して、0.1〜30重量部とすることが好ましく、1〜20重量部がより好ましい。硬化剤の配合量が0.1重量部未満では、十分な反応率を得ることができず良好な接着強度や小さな接続抵抗が得られにくくなる傾向にある。配合量が30重量部を超えると、接着剤の流動性が低下したり、接続抵抗が上昇したり、接着剤のポットライフが短くなる傾向にある。   When the connection time is 10 seconds or less, the curing agent is blended in a radical polymerizable substance (in the case where a film forming material is blended, the radical polymerizable substance and the film forming material in order to obtain a sufficient reaction rate). Is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight. When the blending amount of the curing agent is less than 0.1 parts by weight, a sufficient reaction rate cannot be obtained, and good adhesive strength and small connection resistance tend to be difficult to obtain. When the blending amount exceeds 30 parts by weight, the fluidity of the adhesive is lowered, the connection resistance is increased, or the pot life of the adhesive tends to be shortened.

本発明に好適な硬化剤としては、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドなどが挙げられる。   Suitable curing agents for the present invention include diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silyl peroxide and the like.

配線部材の接続端子の腐食を押さえるため、硬化剤中に含有される塩素イオンや有機酸は5000ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。具体的には、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドなどが好適である。特に、高反応性が得られるパーオキシエステルから硬化剤を選定することが望ましい。硬化剤は、1種類の化合物を用いてもよく、2種以上の化合物を適宜併用してもよい。   In order to suppress corrosion of the connection terminals of the wiring member, the chlorine ions and organic acids contained in the curing agent are preferably 5000 ppm or less, and more preferably those that generate less organic acid after thermal decomposition. Specifically, peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, silyl peroxides and the like are suitable. In particular, it is desirable to select a curing agent from peroxyesters that can provide high reactivity. As the curing agent, one type of compound may be used, or two or more types of compounds may be appropriately used in combination.

本発明に好適なパーオキシエステルとしては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート等が挙げられる。   Peroxyesters suitable for the present invention include cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate. Ate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5 -Di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy- 2-ethylhexanonate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) silane Rhohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m- Toluoyl peroxy) hexane, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate and the like.

本発明に好適なジアルキルパーオキサイドとしては、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。   Dialkyl peroxides suitable for the present invention include α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy). Hexane, t-butyl cumyl peroxide, etc. are mentioned.

本発明に好適なハイドロパーオキサイドとしては、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。   Suitable hydroperoxides for the present invention include diisopropylbenzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and the like.

本発明に好適なジアシルパーオキサイドとしては、イソブチルパーオキサイド、2,4―ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。   Diacyl peroxides suitable for the present invention include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, sucrose. Sinic peroxide, benzoyl peroxytoluene, benzoyl peroxide and the like can be mentioned.

本発明に好適なパーオキシジカーボネートとしては、ジ(n−プロピル)パーオキシジカーボネート、ジ(イソプロピル)パーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート等が挙げられる。   Peroxydicarbonates suitable for the present invention include di (n-propyl) peroxydicarbonate, di (isopropyl) peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di (2- And ethoxyethyl) peroxydicarbonate, di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (methoxybutyl) peroxydicarbonate, and di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate.

パーオキシケタールとしては、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1―ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。   Peroxyketals include 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t- Butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane and the like.

シリルパーオキサイドとしては、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジアリルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)アリルシリルパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of silyl peroxides include t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, and tris (t-butyl). Examples thereof include vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, and tris (t-butyl) allylsilyl peroxide.

これらの加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤は、そのうち1種類の化合物を単独で用いてもよく、2種以上の化合物を併用してもよい。また、これらの硬化剤に分解促進剤、抑制剤等を併用してもよい。   Of these curing agents that generate free radicals upon heating, one type of compound may be used alone, or two or more types of compounds may be used in combination. Moreover, you may use a decomposition accelerator, an inhibitor, etc. together with these hardening | curing agents.

これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系などの高分子化合物等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可使時間が延長されるために本発明に好適である。   A material obtained by coating these curing agents with a polymer compound such as polyurethane or polyester and microencapsulating them is suitable for the present invention because the pot life is extended.

(2)ラジカル重合性物質
本発明の接着剤に含まれるラジカル重合性物質は、ラジカルにより重合することのできる官能基を有する物質である。このラジカル重合性物質としては、アクリレート、メタクリレート、マレイミド化合物等が挙げられ、モノマー及びオリゴマーのいずれの状態でもよい。モノマーとオリゴマーとを併用することもできる。
(2) Radical polymerizable substance The radical polymerizable substance contained in the adhesive of the present invention is a substance having a functional group that can be polymerized by radicals. Examples of the radical polymerizable substance include acrylates, methacrylates, maleimide compounds, and the like, and any state of monomers and oligomers may be used. Monomers and oligomers can be used in combination.

本発明の接着剤に好適なアクリレート及びメタクリレートの具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレート等、及びこれらに相当するメタクリレートが挙げられる。   Specific examples of acrylates and methacrylates suitable for the adhesive of the present invention include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diaacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclo Examples include pentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate, and the like and corresponding methacrylates. It is.

本発明の接着剤に好適なマレイミド化合物は、分子中にマレイミド基を少なくとも2個以上含有するものである。このようなマレイミド化合物としては、例えば、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレイミド、N,N’−m−トルイレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチル−ビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−3,3’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビス{3−s−ブチル−4,8−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}プロパン、1,1−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス{1−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。   The maleimide compound suitable for the adhesive of the present invention contains at least two maleimide groups in the molecule. Examples of such maleimide compounds include 1-methyl-2,4-bismaleimide benzene, N, N′-m-phenylene bismaleimide, N, N′-p-phenylene bismaleimide, N, N′-m. -Toluylene bismaleimide, N, N'-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-dimethyl-biphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3′-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N ′ -4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N'-3,3'-diphenylsulfone bismaleimide, N, N'-4,4-diphenyl ether bisma Imido, 2,2-bis {4- (4-maleimidophenoxy) phenyl} propane, 2,2-bis {3-s-butyl-4,8- (4-maleimidophenoxy) phenyl} propane, 1,1- Bis {4- (4-maleimidophenoxy) phenyl} decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis {1- (4-maleimidophenoxy) phenyl} -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis {4- ( 4-maleimidophenoxy) phenyl} hexafluoropropane and the like.

これらのラジカル重合性物質のうち、ジシクロペンテニル基、トリシクロデカニル基及びトリアジン環のうちの少なくとも一つ以上を有する化合物は、接着剤硬化物の耐熱性が向上するため好ましい。   Of these radically polymerizable substances, a compound having at least one of a dicyclopentenyl group, a tricyclodecanyl group and a triazine ring is preferable because the heat resistance of the cured adhesive is improved.

なお、これらのラジカル重合性物質は、1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。必要によっては、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン類などの重合禁止剤を適宜用いてもよい。   In addition, these radically polymerizable substances may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. If necessary, a polymerization inhibitor such as hydroquinone or methyl ether hydroquinone may be used as appropriate.

また、上述のラジカル重合性物質に、下記化学式(I)で表わされるリン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質を併用すると、金属等の無機物表面での接着強度が向上するので好ましい。   In addition, it is preferable to use a radical polymerizable substance having a phosphate ester structure represented by the following chemical formula (I) in combination with the above-mentioned radical polymerizable substance because the adhesive strength on the surface of an inorganic substance such as a metal is improved.

Figure 0004415905

(ただし、nは1,2又は3である)
Figure 0004415905

(Where n is 1, 2 or 3)

このようなリン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質は、無水リン酸と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとを反応させることにより得られ、具体的には、モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドフォスフェート、ジ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドフォスフェート等が挙げられる。これらは1種類の化合物を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Such a radically polymerizable substance having a phosphoric ester structure is obtained by reacting anhydrous phosphoric acid with 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, specifically, mono (2-methacryloyloxyethyl) acid. Examples thereof include phosphate and di (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate. These may use one type of compound independently, and may use 2 or more types together.

リン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質の配合量は、ラジカル重合性物質の全量(フィルム形成材を含む場合は、フィルム形成材とラジカル重合性物質との合計)100重量部に対し、0.01〜50重量部用いるのが好ましく、0.5〜5重量部がより好ましい。0.01重量部未満では、金属等の無機物表面との接着強度の向上が得られにくく、50重量部を超えると期待される硬化特性が得られなくなる場合がある。   The blending amount of the radical polymerizable substance having a phosphate ester structure is 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable substance (in the case where the film forming material is included, the total of the film forming material and the radical polymerizable substance). It is preferable to use 01 to 50 parts by weight, and more preferably 0.5 to 5 parts by weight. If it is less than 0.01 part by weight, it is difficult to improve the adhesive strength with the surface of an inorganic material such as metal, and if it exceeds 50 parts by weight, the expected curing characteristics may not be obtained.

(3)シリコーン粒子
シリコーン粒子は、例えば、水酸化ナトリウムやアンモニア等の塩基性物質によりpHを9より大きく調整したアルコール水溶液に、シラン化合物(メチルトリアルコキシシラン、その部分加水分解縮合物など)を添加し、これを加水分解して重縮合させる方法や、オルガノシロキサンの共重合等により得ることができる。
(3) Silicone particles Silicone particles are prepared by, for example, adding a silane compound (methyltrialkoxysilane, partially hydrolyzed condensate thereof, etc.) to an alcohol aqueous solution whose pH is adjusted to be greater than 9 with a basic substance such as sodium hydroxide or ammonia. It can be obtained by adding, hydrolyzing and polycondensing this, or by copolymerization of organosiloxane.

本発明の接着剤には、フィルム形成材やラジカル重合性物質への分散性が向上するため、分子末端又は分子内側鎖に水酸基、エポキシ基、ケチミン、カルボキシル基、メルカプト基などの官能基を有するシリコーン粒子が好ましい。   The adhesive of the present invention has a functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group, a ketimine, a carboxyl group, or a mercapto group at the molecular terminal or inner molecular chain in order to improve dispersibility in a film-forming material or a radical polymerizable substance. Silicone particles are preferred.

本発明では、接着剤にシリコーン粒子を含有させることで、接続端子を支持する基板が絶縁性有機物又はガラスからなる配線部材であっても、また、表面が窒化シリコン、シリコーン化合物又はポリイミド樹脂を含む配線部材であっても、非常に高い接着強度が得られる。また、フィルム形成材を用いてフィルム状にした場合、支持材との剥離性が向上するため、このフィルム状接着剤を用いて接続する電子材料に対する転写性が向上する。   In this invention, even if the board | substrate which supports a connection terminal is a wiring member which consists of an insulating organic substance or glass by containing a silicone particle in an adhesive agent, the surface contains a silicon nitride, a silicone compound, or a polyimide resin. Even if it is a wiring member, very high adhesive strength is obtained. In addition, when the film forming material is used to form a film, the peelability from the support material is improved, so that the transferability to the electronic material to be connected using this film adhesive is improved.

本発明では、シリコーン粒子として球状又は不定形の微粒子を用いることができ、粒子の平均粒径が0.1μm〜20μmの微粒子を使用することが好ましい。また、平均粒径以下の粒子が微粒子の粒径分布の80重量%以上を占めるシリコーン粒子が好ましく、樹脂に対する分散性が向上するため、粒子表面をシランカップリング剤で処理したものが特に好ましい。   In the present invention, spherical or amorphous fine particles can be used as the silicone particles, and it is preferable to use fine particles having an average particle diameter of 0.1 μm to 20 μm. Further, silicone particles in which particles having an average particle size or less occupy 80% by weight or more of the particle size distribution of the fine particles are preferable, and those obtained by treating the particle surface with a silane coupling agent are particularly preferable because dispersibility in the resin is improved.

本発明の接着剤におけるシリコーン粒子の室温(25℃)における弾性率は0.1〜100MPaが好ましく、粒子の分散性や接続時の界面応力の低減のためには、1〜30MPaとすることがより好ましい。なお、ここで規定した弾性率は、シリコーン粒子の原料であるシラン化合物(アルコキシシラン化合物、その部分加水分解縮合物など)を重合させたシリコーンゴムの弾性率であり、動的広域粘弾性測定により測定される。   The elastic modulus at room temperature (25 ° C.) of the silicone particles in the adhesive of the present invention is preferably from 0.1 to 100 MPa, and in order to reduce the dispersibility of the particles and the interfacial stress at the time of connection, the elastic modulus is set to 1 to 30 MPa. More preferred. The elastic modulus specified here is the elastic modulus of silicone rubber obtained by polymerizing a silane compound (alkoxysilane compound, partially hydrolyzed condensate thereof, etc.) that is a raw material of silicone particles, and is measured by dynamic viscoelasticity measurement. Measured.

シリコーン粒子は、ラジカル重合性物質、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、フィルム形成材に直接混合することもできるが、フィルム形成材やラジカル重合性物質に容易に分散できるため、有機溶剤に分散させた後にこれらと混合することが好ましい。   Silicone particles can be directly mixed with radically polymerizable substances, curing agents that generate free radicals upon heating, and film-forming materials, but they can be easily dispersed in film-forming materials and radically polymerizable substances, so they are dispersed in organic solvents. It is preferable to mix with these after having been made.

シリコーン粒子の配合量は、ラジカル重合性物質の総量(フィルム形成材が含まれる場合には、ラジカル重合性物質とフィルム形成材との合計)100重量部に対し、5〜200重量部が好ましく、10〜50重量部がより好ましい。5重量部未満であると、接続端子を支持する基板や配線部材表面に対する良好な接着強度や支持材との剥離性が劣るようになる。また、200重量部を超えると、接着剤の凝集力が低下するため良好な接着が得られない恐れがある。   The blending amount of the silicone particles is preferably 5 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable substance (when the film forming material is included, the total of the radical polymerizable substance and the film forming material), 10-50 weight part is more preferable. When the amount is less than 5 parts by weight, good adhesion strength to the substrate supporting the connection terminals and the surface of the wiring member and releasability from the support material become inferior. On the other hand, when the amount exceeds 200 parts by weight, the cohesive force of the adhesive is lowered, and there is a possibility that good adhesion cannot be obtained.

(4)フィルム形成材
本発明に好適なフィルム形成材としては、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、キシレン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
(4) Film forming material Examples of the film forming material suitable for the present invention include polyvinyl formal resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, polyamide resin, xylene resin, phenoxy resin, polyurethane resin and the like.

フィルム形成材とは、液状の組成物を固形化してフィルム形状とした場合に、通常の状態でフィルムとしての取扱いができるようにするもの、すなわち、フィルムとしての良好な機械特性(形成されるフィルムの取扱いが容易であり、フィルムが容易に裂けたり、割れたり、べたついたりしないなどの特性)を形成されるフィルムに付与するものである。フィルムとしての取扱いの容易さから、特に自己支持性フィルムを形成することができるものが好ましい。   A film-forming material is a material that, when a liquid composition is solidified into a film shape, can be handled as a film in a normal state, that is, good mechanical properties as a film (film to be formed Is easy to handle, and the film is imparted with characteristics such as that the film is not easily torn, broken, or sticky. In view of ease of handling as a film, a film capable of forming a self-supporting film is particularly preferable.

このような特性を付与することのできる化合物の中でも、接着性、相溶性、耐熱性、機械強度に優れることから、フェノキシ樹脂を用いることが好ましい。フェノキシ樹脂は、二官能フェノール類とエピハロヒドリンとを高分子量まで反応させるか、又は、二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類を重付加させることにより得られる。   Among the compounds capable of imparting such characteristics, it is preferable to use a phenoxy resin because it is excellent in adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength. The phenoxy resin can be obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin to a high molecular weight, or by polyadding a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol.

具体的には、例えば、二官能フェノール類1モルとエピハロヒドリン0.985〜1.015モルとを、アルカリ金属水酸化物の存在下、非反応性溶媒中で40〜120℃で反応させることにより得ることができる。   Specifically, for example, by reacting 1 mol of a bifunctional phenol and 0.985 to 1.015 mol of epihalohydrin in a non-reactive solvent at 40 to 120 ° C. in the presence of an alkali metal hydroxide. Obtainable.

樹脂の機械的特性や熱的特性の点からは、特に、二官能性エポキシ樹脂と二官能性フェノール類との配合等量比をエポキシ基/フェノール水酸基=1/0.9〜1/1.1とし、アルカリ金属化合物、有機リン系化合物、環状アミン系化合物等の触媒の存在下で、沸点が120℃以上のアミド系、エーテル系、ケトン系、ラクトン系、アルコール系等の有機溶剤中で、反応固形分を50重量部以下とし、50〜200℃に加熱して重付加反応させて得たものが好ましい。   From the viewpoint of the mechanical properties and thermal properties of the resin, in particular, the mixing equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the difunctional phenols is epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9 to 1/1. 1 in an organic solvent such as an amide, ether, ketone, lactone, or alcohol having a boiling point of 120 ° C. or higher in the presence of a catalyst such as an alkali metal compound, an organic phosphorus compound, or a cyclic amine compound. The reaction solid content is preferably 50 parts by weight or less, and is obtained by heating to 50 to 200 ° C. to cause a polyaddition reaction.

二官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などが挙げられる。二官能フェノール類は、2個のフェノール性水酸基を持つ化合物であり、例えば、ハイドロキノン類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS等のビスフェノール類などが挙げられる。フェノキシ樹脂はラジカル重合性の官能基により変性されていてもよい。   Examples of the bifunctional epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Bifunctional phenols are compounds having two phenolic hydroxyl groups, and examples thereof include hydroquinones, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, and bisphenol S. The phenoxy resin may be modified with a radical polymerizable functional group.

(5)導電性粒子
本発明の接着剤は、接続する配線端子の直接接触により導通が得られるため、特に導電性粒子を含んでいる必要はないが、導電性粒子を含有すると、より安定した接続が得られるため好ましい。
(5) Conductive Particles The adhesive of the present invention can be electrically connected by direct contact of the wiring terminals to be connected, and therefore does not need to contain conductive particles in particular. However, when the conductive particles are contained, the adhesive is more stable. This is preferable because a connection can be obtained.

本発明に好適な導電性粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属粒子や、カーボン粒子等が挙げられる。十分なポットライフを得るためには、Ni、Cu等の遷移金属類ではなくAu、Ag、白金属の貴金属類が表層であることが好ましく、特に表面がAuであることが好ましい。また、Ni等の遷移金属類の表面をAu等の貴金属類で被覆した粒子も、本発明に好適である。   Examples of the conductive particles suitable for the present invention include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, and solder, and carbon particles. In order to obtain a sufficient pot life, it is preferable that noble metals such as Au, Ag and white metals are the surface layer, not transition metals such as Ni and Cu, and the surface is particularly preferably Au. Further, particles in which the surface of a transition metal such as Ni is coated with a noble metal such as Au are also suitable for the present invention.

また、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等の粒子表面に、上述の金属からなる導通層を形成することにより、最外層を貴金属類とした複合粒子や、熱溶融金属粒子は、加熱加圧による変形性を有するので、接続時に電極との接触面積が増加し信頼性が向上することから、本発明に適している。   In addition, by forming a conductive layer made of the above-mentioned metal on the particle surface of non-conductive glass, ceramic, plastic, etc., composite particles with the outermost layer as noble metals and hot-melt metal particles are heated and pressurized. Therefore, it is suitable for the present invention because the contact area with the electrode increases at the time of connection and the reliability is improved.

なお、表面に貴金属類の被覆層を備える複合粒子を用いる場合、良好な抵抗を得るため、当該被覆層の厚さは100オングストローム以上とすることが好ましい。特に、Ni等の遷移金属の上に貴金属類の層をもうける場合、導電性粒子の混合分散時に生じる貴金属類層の欠損等により生じる酸化還元作用で遊離ラジカルが発生し保存性低下を引き起こすことを回避するため、貴金属類による被覆層の厚さは300オングストローム以上とすることが好ましい。ただし、1μmより厚くしても、効果が厚さに比例して改善されるものではないため、通常、被覆層の厚さは1μm以下にすることが望ましいが、本発明はこれに制限されるものではない。   When using composite particles having a noble metal coating layer on the surface, the thickness of the coating layer is preferably 100 angstroms or more in order to obtain good resistance. In particular, when a noble metal layer is formed on a transition metal such as Ni, free radicals are generated due to the redox effect caused by the loss of the noble metal layer generated when the conductive particles are mixed and dispersed, resulting in a decrease in storage stability. In order to avoid this, the thickness of the coating layer made of noble metals is preferably 300 angstroms or more. However, since the effect is not improved in proportion to the thickness even if it is thicker than 1 μm, it is usually desirable that the thickness of the coating layer be 1 μm or less, but the present invention is limited to this. It is not a thing.

導電性粒子は、接着剤樹脂成分100体積部に対して0.1〜30体積部の範囲で用途により使い分ける。過剰な導電性粒子による隣接配線の短絡等を防止するためには0.1〜10体積部とするのがより好ましい。   The conductive particles are properly used in the range of 0.1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the adhesive resin component. In order to prevent the adjacent wiring from being short-circuited by excessive conductive particles, the amount is more preferably 0.1 to 10 parts by volume.

なお、導電性粒子が硬化剤と接触しない構造とすると、さらにポットライフを向上させることができる。すなわち、導電性粒子を含まない本発明の接着剤からなる第1の層と、硬化剤に代えて導電性粒子を配合した接着剤からなる第2の層とを積層させた2層以上の多層構造のフィルム状接着剤は、さらにポットライフが長いため好ましい。   In addition, when it is set as the structure where electroconductive particle does not contact with a hardening | curing agent, a pot life can be improved further. That is, a multilayer of two or more layers in which a first layer made of the adhesive of the present invention containing no conductive particles and a second layer made of an adhesive containing conductive particles instead of a curing agent are laminated. A film-like adhesive having a structure is preferable because of its long pot life.

(6)その他の添加剤
本発明の接着剤には、接着強度改善のため、必要に応じてアリルアクリレート及び/又はアリルメタクリレートを配合してもよい。その配合量は、ラジカル重合性物質の総量(フィルム形成材を含有する場合は、フィルム形成材とラジカル重合性物質との合計)100重量部に対し、0.1〜10重量部とすることが好ましく、0.5〜5重量部とすることがより好ましい。0.1重量部未満であると接着強度改善の効果が十分発揮されず、10重量部を超えるとラジカル重合反応性が低いために反応不足が生じて良好な接着強度が得られにくくなる。
(6) Other additives In the adhesive of the present invention, allyl acrylate and / or allyl methacrylate may be blended as necessary for improving the adhesive strength. The blending amount may be 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable substance (when the film forming material is contained, the total of the film forming material and the radical polymerizable substance). Preferably, the amount is 0.5 to 5 parts by weight. If the amount is less than 0.1 parts by weight, the effect of improving the adhesive strength is not sufficiently exhibited. If the amount exceeds 10 parts by weight, the radical polymerization reactivity is low, resulting in insufficient reaction, making it difficult to obtain good adhesive strength.

また、本発明の接着剤には、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル及びアクリロニトリルのうち少なくとも一つをモノマー成分とした重合体又は共重合体を配合することができる。特に、グリシジルエーテル基を含有するグリシジルアクリレート及び/又はグリシジルメタクリレートモノマーを含む共重合体系アクリルゴムは、応力緩和に優れるため、配合することが好ましい。これらアクリルゴムの重量平均分子量は、接着剤の凝集力を高める点から20万以上が好ましい。   The adhesive of the present invention can be blended with a polymer or copolymer containing at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester and acrylonitrile as a monomer component. In particular, a copolymer-based acrylic rubber containing a glycidyl acrylate and / or glycidyl methacrylate monomer containing a glycidyl ether group is preferable because it is excellent in stress relaxation. The weight average molecular weight of these acrylic rubbers is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the adhesive.

本発明の接着剤には、さらに、充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤、樹脂類(フェノール樹脂やメラミン樹脂など)、及び、イソシアネート類等を配合してもよい。   The adhesive of the present invention further includes fillers, softeners, accelerators, anti-aging agents, colorants, flame retardants, thixotropic agents, coupling agents, resins (such as phenolic resins and melamine resins), And isocyanates etc. may be blended.

充填剤の配合は、接続信頼性等が向上するため好ましい。充填剤を用いる場合、その粒子の最大径は、導電性粒子の粒径未満とする。また、その配合量は、接着剤における樹脂成分100体積部に対して5〜60体積部とすることが好ましい。60体積部を超えると信頼性向上の効果が飽和することがあり、5体積部未満では添加の効果が少ない。   The blending of the filler is preferable because the connection reliability and the like are improved. When using a filler, the maximum diameter of the particles is less than the particle diameter of the conductive particles. Moreover, it is preferable that the compounding quantity shall be 5-60 volume parts with respect to 100 volume parts of resin components in an adhesive agent. If it exceeds 60 parts by volume, the effect of improving the reliability may be saturated, and if it is less than 5 parts by volume, the effect of addition is small.

カップリング剤としてはケチミン、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基含有物が、接着性の向上の点から本発明に好適である。   As the coupling agent, ketimine, vinyl group, acrylic group, amino group, epoxy group, and isocyanate group-containing material are suitable for the present invention from the viewpoint of improving adhesiveness.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silane coupling agent having an amino group include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-amino. Examples thereof include propyltriethoxysilane and N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane.

ケチミンを有するシランカップリング剤としては、上述のアミノ基を有するシランカップリング剤に、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物を反応させて得られたものが挙げられる。   Examples of the silane coupling agent having ketimine include those obtained by reacting the above-mentioned silane coupling agent having an amino group with a ketone compound such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

(7)用途
本発明の接着剤は、IC(集積回路)チップとチップ搭載基板との接着や、電気配線相互の接着用のフィルム状接着剤として使用することもできる。すなわち、接続端子が互いに対向するようにして配置された第一の接続端子を有する第一の配線部材と第二の接続端子を有する第二の配線部材との間に、フィルム状に成形した本発明の接着剤(フィルム状接着剤)を介在させ、加熱加圧して第一の接続端子と第二の接続端子とを電気的に接続させることができる。
(7) Applications The adhesive of the present invention can also be used as a film adhesive for bonding an IC (integrated circuit) chip and a chip mounting substrate, or for bonding electric wirings to each other. That is, a book formed into a film shape between a first wiring member having a first connection terminal and a second wiring member having a second connection terminal arranged so that the connection terminals face each other. The adhesive (film adhesive) of the invention is interposed, and the first connection terminal and the second connection terminal can be electrically connected by heating and pressing.

本発明による接続の対象として好適な配線部材としては、半導体チップ、抵抗体チップ、コンデンサチップといったチップ部品や、プリント基板等の基板などが挙げられる。これらの配線部材には、接続端子が通常は多数(場合によっては一つでもよい)設けられている。この配線部材の少なくとも1組を、それらに設けられた接続端子の少なくとも一部が対向するように、間に本発明の接着剤を介在させて配置し、加熱しつつ加圧して対向する接続端子間を電気的に接続することにより、2以上の配線部材を備える配線構造体(配線板など)を製造することができる。なお、これにより形成される配線端子の導通は、配線端子の直接接触により実現されてもよく、接着剤中の導電性粒子を介して実現されてもよい。   Examples of wiring members suitable for connection according to the present invention include chip components such as semiconductor chips, resistor chips, and capacitor chips, and substrates such as printed boards. These wiring members are usually provided with a large number of connection terminals (or one in some cases). At least one set of the wiring members is disposed with the adhesive of the present invention interposed therebetween so that at least a part of the connection terminals provided on the wiring members are opposed to each other, and the connection terminals are opposed to each other by applying pressure while heating. A wiring structure (such as a wiring board) including two or more wiring members can be manufactured by electrically connecting the two. In addition, conduction | electrical_connection of the wiring terminal formed by this may be implement | achieved by the direct contact of a wiring terminal, and may be implement | achieved through the electroconductive particle in an adhesive agent.

本発明の配線端子の接続は、例えば、第1の接続端子(回路電極)表面に接着剤層を形成し、この表面に、第2の接続端子(回路電極)を、接続端子どうしが対向するように位置合わせして配置し、加熱及び加圧することにより行うことができる。接着剤層の形成は、液状接着剤の塗布等により行ってもよく、また、フィルム状接着剤を載置することにより行ってもよい。   For the connection of the wiring terminals of the present invention, for example, an adhesive layer is formed on the surface of the first connection terminal (circuit electrode), and the connection terminal is opposed to the second connection terminal (circuit electrode) on this surface. Thus, it can be performed by aligning, heating and pressurizing. Formation of the adhesive layer may be performed by application of a liquid adhesive or the like, or may be performed by placing a film adhesive.

(8)接着剤の物性
本発明の接着剤は、接続時に溶融流動して相対向する配線端子を接続させた後、硬化してその接続を保持するものである。このため、接着剤の流動性は重要な因子である。本発明の接着剤は、厚さ0.7mm、15mm×15mmのガラス2枚の間に、厚さ35μm、5mm×5mmの本発明の接着剤を挟み、150℃、2MPa、10秒の条件で加熱及び加圧を行った場合に、初期の面積(A)と加熱加圧後の面積(B)を用いて表される流動性(B)/(A)の値が1.3〜3.0であることが好ましく、1.5〜2.5であることがより好ましい。1.3未満では流動性が悪く、良好な接続が得られない場合があり、3.0を超える場合は、気泡が発生しやすく信頼性に劣る場合がある。
(8) Physical properties of the adhesive The adhesive of the present invention melts and flows at the time of connection and connects opposite wiring terminals, and then hardens to maintain the connection. For this reason, the fluidity of the adhesive is an important factor. The adhesive of the present invention sandwiches the adhesive of the present invention having a thickness of 35 μm, 5 mm × 5 mm between two pieces of glass having a thickness of 0.7 mm and 15 mm × 15 mm, under the conditions of 150 ° C., 2 MPa, and 10 seconds. When heating and pressurization are performed, the value of fluidity (B) / (A) expressed using the initial area (A) and the area after heat pressurization (B) is 1.3 to 3. 0 is preferable, and 1.5 to 2.5 is more preferable. If it is less than 1.3, fluidity may be poor and good connection may not be obtained. If it exceeds 3.0, bubbles are likely to be generated and reliability may be poor.

また、本発明の接着剤は、硬化後の25℃での弾性率が100〜3000MPaであることが好ましく、300〜2000MPaであることがより好ましい。この範囲に弾性率がある場合、接続後の樹脂の内部応力が低減されるため接着力の向上に有利であり、かつ、良好な導通特性が得られる。   Moreover, it is preferable that the elasticity modulus in 25 degreeC after hardening is 100-3000 MPa, and, as for the adhesive agent of this invention, it is more preferable that it is 300-2000 MPa. When the elastic modulus is in this range, the internal stress of the resin after connection is reduced, which is advantageous for improving the adhesive force and good conduction characteristics can be obtained.

本発明の接着剤は、示差走査熱量計(DSC)による昇温速度10℃/分での測定において、発熱量の立ち上がり温度(Ta)が70℃〜110℃であり、ピーク温度(Tp)がTa+5〜30℃であり、かつ、終了温度(Te)が160℃以下であることが好ましい。   The adhesive of the present invention has a heating value rising temperature (Ta) of 70 ° C. to 110 ° C. and a peak temperature (Tp) in a measurement at a heating rate of 10 ° C./min with a differential scanning calorimeter (DSC). It is preferable that Ta + 5 to 30 ° C. and the end temperature (Te) is 160 ° C. or less.

A.接着剤の調製
<実施例1>
(1)ウレタンアクリレートの合成
平均分子量800のポリカプロラクトンジオール400重量部と、2−ヒドロキシプロピルアクリレート131重量部と、触媒としてジブチル錫ジラウレート0.5重量部と、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル1.0重量部とを、撹拌しながら50℃に加熱して混合した。次いで、イソホロンジイソシアネート222重量部を滴下し、さらに撹拌しながら80℃に昇温してウレタン化反応を行った。イソシアネート基の反応率が99%以上になったことを確認後、反応温度を下げてウレタンアクリレートAを得た。
A. Preparation of adhesive <Example 1>
(1) Synthesis of urethane acrylate 400 parts by weight of polycaprolactone diol having an average molecular weight of 800, 131 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate, 0.5 parts by weight of dibutyltin dilaurate as a catalyst, and hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor 0 part by weight was mixed by heating to 50 ° C. with stirring. Next, 222 parts by weight of isophorone diisocyanate was added dropwise, and the mixture was further heated to 80 ° C. with stirring to conduct a urethanization reaction. After confirming that the reaction rate of the isocyanate group reached 99% or more, the reaction temperature was lowered to obtain urethane acrylate A.

(2)シリコーン粒子の合成
シリコーン粒子は、20℃に保持したpH12のアルコール水溶液を300rpmで撹拌しつつ、これにメチルトリメトキシシランを添加して、加水分解及び縮合させることにより得た。得られたシリコーン粒子の25℃における弾性率は8MPa、平均粒径は2μmであった。
(2) Synthesis of Silicone Particles Silicone particles were obtained by adding methyltrimethoxysilane to an aqueous alcohol solution having a pH of 12 maintained at 20 ° C. while stirring at 300 rpm, followed by hydrolysis and condensation. The obtained silicone particles had an elastic modulus at 25 ° C. of 8 MPa and an average particle size of 2 μm.

(3)導電性粒子の調製
導電性粒子は、ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚さ0.2μmのニッケル層を設け、このニッケル層の外側に厚さ0.04μmの金層を設けることにより調製した。得られた導電性粒子の平均粒径は10μmであった。
(3) Preparation of conductive particles As for conductive particles, a nickel layer having a thickness of 0.2 μm is provided on the surface of particles having polystyrene as a core, and a gold layer having a thickness of 0.04 μm is provided outside the nickel layer. It was prepared by. The average particle diameter of the obtained conductive particles was 10 μm.

(4)接着剤の調製
工程(2)で得られたシリコーン粒子100重量部を、重量比でトルエン/酢酸エチル=50/50の混合溶剤100重量部に分散した。
(4) Preparation of adhesive 100 parts by weight of the silicone particles obtained in the step (2) were dispersed in 100 parts by weight of a mixed solvent of toluene / ethyl acetate = 50/50 by weight.

固形重量比で、工程(1)で得られたウレタンアクリレートAが99g、リン酸エステル型アクリレート(共栄化学株式会社製、商品名:P2M)が1g、シリコーン粒子が30g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート(遊離ラジカル発生剤)が5gとなるように配合し、さらに工程(3)で得られた導電性粒子を3体積%配合分散させて、液状の接着剤を得た。   In solid weight ratio, 99 g of urethane acrylate A obtained in step (1), 1 g of phosphate ester acrylate (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd., trade name: P2M), 30 g of silicone particles, t-hexylperoxy- The mixture was blended so that 2-ethylhexanonate (free radical generator) was 5 g, and further 3% by volume of the conductive particles obtained in the step (3) were mixed and dispersed to obtain a liquid adhesive.

<実施例2>
フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHC、平均分子量45000)50gを、重量比でトルエン(沸点110.6℃、SP値8.90)/酢酸エチル(沸点77.1℃、SP値9.10)=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分40重量%の溶液とした。
<Example 2>
50 g of phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name PKHC, average molecular weight 45000) in weight ratio with toluene (boiling point 110.6 ° C., SP value 8.90) / ethyl acetate (boiling point 77.1 ° C., SP value 9) .10) = dissolved in a 50/50 mixed solvent to obtain a solution having a solid content of 40% by weight.

固形重量比で、フェノキシ樹脂が50g、ウレタンアクリレートAが49g、リン酸エステル型アクリレートが1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネートが5g、シリコーン粒子が5gとなるように配合し、導電性粒子を3体積%配合分散させ、得られた液体を厚さ80μmの片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃の熱風により10分間乾燥させて、厚さ20μmのフィルム状接着剤を得た。   In a solid weight ratio, 50 g of phenoxy resin, 49 g of urethane acrylate A, 1 g of phosphate ester acrylate, 5 g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanate, 5 g of silicone particles, Conductive particles are mixed and dispersed at 3% by volume, and the resulting liquid is applied to a PET (polyethylene terephthalate) film having a surface treated on one side with a thickness of 80 μm using a coating device and dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes. Thus, a film adhesive having a thickness of 20 μm was obtained.

<実施例3〜5>
フェノキシ樹脂/ウレタンアクリレートA/リン酸エステル型アクリレート/シリコーン粒子/t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネートの固形重量比を50g/49g/1g/20g/5g(実施例3)、30g/69g/1g/10g/5g(実施例4)、30g/40g/30g/10g/5g(実施例5)とした他は実施例2と同様にしてフィルム状接着剤を得た。
<Examples 3 to 5>
The solid weight ratio of phenoxy resin / urethane acrylate A / phosphate ester acrylate / silicone particles / t-hexylperoxy-2-ethylhexanate was 50 g / 49 g / 1 g / 20 g / 5 g (Example 3), 30 g / A film adhesive was obtained in the same manner as in Example 2 except that 69 g / 1 g / 10 g / 5 g (Example 4) and 30 g / 40 g / 30 g / 10 g / 5 g (Example 5).

<比較例1>
ウレタンアクリレートA/リン酸エステル型アクリレート/t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネートの固形重量比を99g/1g/5gとし、シリコーン粒子を配合しなかった他は、実施例1の工程(4)と同様にして液状の接着剤を得た。
<Comparative Example 1>
The process of Example 1 except that the solid weight ratio of urethane acrylate A / phosphate ester acrylate / t-hexylperoxy-2-ethylhexanonate was 99 g / 1 g / 5 g and no silicone particles were added. A liquid adhesive was obtained in the same manner as in 4).

<比較例2>
シリコーン粒子を用いない他は、実施例2と同様にしてフィルム状接着剤を得た。
<Comparative example 2>
A film adhesive was obtained in the same manner as in Example 2 except that the silicone particles were not used.

B.接着剤の評価方法
(1)配線構造体の作製
まず、厚さ1.1mmのガラス11表面にインジュウム−錫酸化物(ITO)の配線12を蒸着により形成したITO基板(表面抵抗<20Ω/□)10(図1(a))の配線12が形成された面に、導電性粒子14を含む接着剤13(各実施例及び比較例において調製したもの)からなる接着剤層15を成膜した(図1(b))。
B. Evaluation Method of Adhesive (1) Fabrication of Wiring Structure First, an ITO substrate (surface resistance <20Ω / □) formed by vapor deposition of indium-tin oxide (ITO) wiring 12 on the surface of a glass 11 having a thickness of 1.1 mm. ) An adhesive layer 15 made of an adhesive 13 containing conductive particles 14 (prepared in each of the examples and comparative examples) was formed on the surface on which the wiring 12 of FIG. 10 (FIG. 1A) was formed. (FIG. 1 (b)).

なお、接着剤層15の成膜は、接着剤が液状の実施例1及び比較例1では、接着剤を塗布することにより行い、接着剤がフィルム状である実施例2〜5及び比較例2では、接着剤を貼り付け、70℃、0.5MPaで5秒間加熱及び加圧して仮接続し、その後、PETフィルムを剥離することにより行った。   The adhesive layer 15 is formed by applying an adhesive in Examples 1 and Comparative Example 1 where the adhesive is liquid, and Examples 2 to 5 and Comparative Example 2 in which the adhesive is a film. Then, it was performed by attaching an adhesive, heating and pressurizing at 70 ° C. and 0.5 MPa for 5 seconds for temporary connection, and then peeling the PET film.

この接着剤層15の表面に、ポリイミド層18と銅箔(厚さ18μm)とを接着剤17により貼り付け、銅箔をパターニングしてライン幅50μm、ピッチ100μmの配線16を形成したフレキシブル配線板(3層FPC)19を載置し(図1(c))、160℃、3MPaで10秒間加熱及び加圧して、幅2mmにわたり接続し、図1(d)に示す配線構造体21を得た。   A flexible wiring board in which a polyimide layer 18 and a copper foil (thickness: 18 μm) are attached to the surface of the adhesive layer 15 with an adhesive 17, and the copper foil is patterned to form wiring 16 having a line width of 50 μm and a pitch of 100 μm. (Three-layer FPC) 19 is placed (FIG. 1 (c)), heated and pressurized at 160 ° C. and 3 MPa for 10 seconds, and connected over a width of 2 mm to obtain a wiring structure 21 shown in FIG. 1 (d). It was.

また、3層FPCに代えて、ポリイミドフィルム(厚さ100μm)22の表面にライン幅50μm、ピッチ100μm、厚さ18μmの銅回路23を500本形成したフレキシブル配線板(2層FPC)24を用い(図2(a))、同様にしてITO基板と接続し、配線構造体25を得た(図2(b))。   In place of the three-layer FPC, a flexible wiring board (two-layer FPC) 24 in which 500 copper circuits 23 having a line width of 50 μm, a pitch of 100 μm, and a thickness of 18 μm are formed on the surface of a polyimide film (thickness 100 μm) 22 is used. (FIG. 2 (a)) was connected to the ITO substrate in the same manner to obtain a wiring structure 25 (FIG. 2 (b)).

(2)接続抵抗の測定
上述のようにして配線構造体を作製した後、配線接続部を含むFPCの隣接回路間の抵抗値を作製直後にマルチメータで測定し、さらに、配線構造体を85℃、85%RHの高温高湿槽中に500時間保持した後、同様に抵抗値を測定した。なお、抵抗値は隣接回路間の抵抗150点の平均で示した。
(2) Measurement of connection resistance After manufacturing the wiring structure as described above, the resistance value between adjacent circuits of the FPC including the wiring connection portion is measured with a multimeter immediately after the manufacturing. After holding for 500 hours in a high temperature and high humidity bath at 85 ° C. and 85% RH, the resistance value was measured in the same manner. The resistance value is shown as an average of 150 resistances between adjacent circuits.

(3)接着強度の測定
上述のようにして作製した配線構造体につき、剥離速度50mm/分での90度剥離の剥離試験を行い接着強度を測定した。
(3) Measurement of adhesive strength The wiring structure produced as described above was subjected to a 90-degree peeling test at a peeling speed of 50 mm / min to measure the adhesive strength.

(4)絶縁性の評価
まず、ライン幅50μm、ピッチ100μm、厚さ18μmの銅回路を交互に250本配置した櫛形回路を有するプリント基板の回路が形成された面に、(1)と同様にして接着剤層を成膜した。次に、この接着剤層の表面に、ライン幅50μm、ピッチ100μm、厚さ18μmの銅回路を500本有するフレキシブル配線板(FPC)を載置し、160℃、3MPaで10秒間加熱及び加圧して幅2mmにわたり接続し、配線構造体を得た。この配線構造体の櫛形回路に100Vの電圧を印加して絶縁抵抗値を測定し、さらに、85℃、85%RHの高温高湿試験を500時間実施した後の絶縁抵抗値を測定した。
(4) Evaluation of insulation First, on the surface on which the circuit of the printed circuit board having the comb-shaped circuit in which 250 copper circuits having a line width of 50 μm, a pitch of 100 μm, and a thickness of 18 μm are alternately arranged is formed in the same manner as in (1). Then, an adhesive layer was formed. Next, a flexible wiring board (FPC) having 500 copper circuits having a line width of 50 μm, a pitch of 100 μm, and a thickness of 18 μm is placed on the surface of the adhesive layer, and heated and pressed at 160 ° C. and 3 MPa for 10 seconds. And connected over a width of 2 mm to obtain a wiring structure. The insulation resistance value was measured by applying a voltage of 100 V to the comb circuit of this wiring structure, and the insulation resistance value after conducting a high temperature and high humidity test at 85 ° C. and 85% RH for 500 hours was measured.

(5)流動性の評価
15mm×15mm、厚さ0.7mmのガラス2枚の間に、5mm×5mm、厚さ35μmの評価対象接着剤を挟み、150℃、2MPaで10秒間加熱及び加圧し、初期の面積(A)と加熱加圧後の面積(B)とを用いて流動性(B)/(A)の値を求めた。
(5) Evaluation of fluidity An adhesive to be evaluated having a size of 5 mm × 5 mm and a thickness of 35 μm is sandwiched between two sheets of 15 mm × 15 mm and a thickness of 0.7 mm, and heated and pressed at 150 ° C. and 2 MPa for 10 seconds. The value of fluidity (B) / (A) was determined using the initial area (A) and the area (B) after heating and pressing.

(6)硬化後の弾性率
液状の接着剤(実施例1、比較例1)は、金型に流し込み、160℃で1分間加熱し、硬化させて棒状の硬化物を得た。フィルム状の接着剤(実施例2〜5、比較例2)は、160℃のオイル中に1分間浸漬し、硬化させフィルム状の硬化物を得た。これらの硬化物の貯蔵弾性率を、動的粘弾性測定装置を用いて測定(昇温速度5℃/分、10Hz)し、25℃の弾性率を求めた。
(6) Elastic modulus after curing The liquid adhesive (Example 1, Comparative Example 1) was poured into a mold, heated at 160 ° C. for 1 minute, and cured to obtain a rod-shaped cured product. Film-like adhesives (Examples 2 to 5 and Comparative Example 2) were immersed in 160 ° C. oil for 1 minute and cured to obtain a film-like cured product. The storage elastic modulus of these cured products was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (temperature increase rate 5 ° C./min, 10 Hz), and the elastic modulus at 25 ° C. was determined.

(7)DSCの測定
各実施例及び比較例で得られた接着剤を用い、示差走査熱量計(DSC、TAインスツルメント社製、商品名910型)で発熱反応の立ち上がり温度(Ta)、ピーク温度(Tp)、終了温度(Te)を求めた。なお、測定における昇温速度は10℃/分とした。
(7) Measurement of DSC Using the adhesive obtained in each Example and Comparative Example, the rising temperature (Ta) of the exothermic reaction with a differential scanning calorimeter (DSC, manufactured by TA Instruments, product name 910 type), Peak temperature (Tp) and end temperature (Te) were determined. The temperature increase rate in the measurement was 10 ° C./min.

C.結果
上述の各評価方法による結果を表1に示す。
C. Results Table 1 shows the results of the above evaluation methods.

Figure 0004415905
Figure 0004415905

比較例1、2の接着剤にはシリコーン粒子が配合されていない。これに対して、シリコーン粒子を配合した実施例1〜5は、接続端子を支持する基板表面にポリイミド樹脂が露出した2層FPC、接着剤が露出した3層FPCであっても、比較例に比べて接着力が大幅に向上した。また、吸湿後の接着力も大きかった。   Silicone particles are not blended in the adhesives of Comparative Examples 1 and 2. On the other hand, Examples 1-5 which mix | blended silicone particle | grains are comparative examples even if it is 2 layer FPC which the polyimide resin exposed to the board | substrate surface which supports a connection terminal, and 3 layer FPC which the adhesive agent exposed. Compared to this, the adhesive strength was greatly improved. Moreover, the adhesive force after moisture absorption was also large.

上述のように、本発明によれば、接続端子を支持する基板がポリイミド樹脂等の絶縁性有機物又はガラスからなる配線部材であっても、また、表面にシリコーン樹脂又はポリイミド樹脂を有する配線部材であっても、良好な接着強度を得ることができ、接続信頼性の高い配線構造体を製造することができる。   As described above, according to the present invention, even if the substrate supporting the connection terminal is a wiring member made of an insulating organic material such as polyimide resin or glass, the wiring member having a silicone resin or polyimide resin on the surface is also used. Even if it exists, favorable adhesive strength can be obtained and a wiring structure with high connection reliability can be manufactured.

配線端子の接続工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the connection process of a wiring terminal. 配線端子の接続工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the connection process of a wiring terminal.

Claims (14)

加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤と、
ラジカル重合性物質と、
25℃での弾性率が0.1〜100MPaであり、平均粒径が0.1〜20μmであるシリコーン粒子とを含有する、配線端子接続用接着剤。
A curing agent that generates free radicals upon heating;
A radical polymerizable substance;
An adhesive for connecting a wiring terminal, comprising silicone particles having an elastic modulus at 25 ° C. of 0.1 to 100 MPa and an average particle diameter of 0.1 to 20 μm.
上記シリコーン粒子の含有量は、
上記ラジカル重合性物質100重量部に対し、5〜200重量部である、請求項1に記載の配線端子接続用接着剤。
The content of the silicone particles is
The adhesive for connecting a wiring terminal according to claim 1, wherein the amount is 5 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the radical polymerizable substance.
フィルム形成材をさらに含有する、請求項1に記載の配線端子接続用接着剤。   The adhesive for connecting a wiring terminal according to claim 1, further comprising a film forming material. 上記フィルム形成材がフェノキシ樹脂である、請求項3記載の配線端子接続用接着剤。   The wiring terminal connecting adhesive according to claim 3, wherein the film forming material is a phenoxy resin. 上記シリコーン粒子の含有量は、
上記ラジカル重合性物質と上記フィルム形成材との合計100重量部に対し、5〜200重量部である、請求項3又は4に記載の配線端子接続用接着剤。
The content of the silicone particles is
The adhesive for connecting a wiring terminal according to claim 3 or 4, wherein the adhesive is 5 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight in total of the radical polymerizable substance and the film forming material.
導電性粒子をさらに含有する、請求項1〜5のいずれかに記載の配線端子接続用接着剤。   The adhesive for connecting a wiring terminal according to any one of claims 1 to 5, further comprising conductive particles. 上記シリコーン粒子の平均粒径が2〜20μmである、請求項1〜6のいずれかに記載の配線端子接続用接着剤。The adhesive for wiring terminal connection in any one of Claims 1-6 whose average particle diameter of the said silicone particle is 2-20 micrometers. 加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、ラジカル重合性物質、及び、25℃での弾性率が0.1〜100MPaであり、平均粒径が0.1〜20μmであるシリコーン粒子を含有する組成物からなる第1の層と、
導電性粒子、ラジカル重合性物質、及び、25℃での弾性率が0.1〜100MPaであり、平均粒径が0.1〜20μmであるシリコーン粒子を含有する組成物からなる第2の層とが積層されている、配線端子接続用フィルム状接着剤。
A composition comprising a curing agent that generates free radicals upon heating, a radical polymerizable substance, and silicone particles having an elastic modulus at 25 ° C. of 0.1 to 100 MPa and an average particle size of 0.1 to 20 μm. A first layer comprising:
A second layer comprising a conductive particle, a radical polymerizable substance, and a composition containing silicone particles having an elastic modulus at 25 ° C. of 0.1 to 100 MPa and an average particle size of 0.1 to 20 μm. A film-like adhesive for connecting a wiring terminal.
上記シリコーン粒子の平均粒径が2〜20μmである、請求項8に記載の配線端子接続用フィルム状接着剤。  The film adhesive for wiring terminal connection according to claim 8, wherein the silicone particles have an average particle diameter of 2 to 20 μm. 二以上の配線部材にそれぞれ設けられた接続端子の間を、請求項1〜のいずれかに記載の配線端子接続用接着剤を用いて電気的に接続する、配線端子の接続方法。 Between the connection terminals provided respectively in two or more wiring members are electrically connected with wiring terminals for connecting adhesive according to any one of claims 1 to 9 method of connecting wiring terminals. 上記接続端子の少なくとも一つは、
表面が金、銀、錫、白金族の金属、及び、インジュウム−錫酸化物から選ばれる少なくとも一種からなる、請求項10記載の配線端子の接続方法。
At least one of the connection terminals is
The method for connecting wiring terminals according to claim 10 , wherein the surface is made of at least one selected from gold, silver, tin, a platinum group metal, and indium-tin oxide.
上記配線部材のうちの少なくとも一つは、
絶縁性有機物及びガラスのうちの少なくともいずれかを含む基板を備える、請求項10又は11記載の配線端子の接続方法。
At least one of the wiring members is
The connection method of the wiring terminal of Claim 10 or 11 provided with the board | substrate containing at least any one of an insulating organic substance and glass.
上記配線部材の少なくとも一つは、
表面に、窒化シリコン、シリコーン化合物及びポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも一種を備える、請求項1012のいずれかに記載の配線端子の接続方法。
At least one of the wiring members is
On the surface, silicon nitride, comprises at least one selected from silicone compounds and polyimide resins, a method of connecting wiring terminals according to any one of claims 10-12.
それぞれ接続端子を有する二以上の配線部材を備え、上記配線部材の上記接続端子間が、請求項1〜のいずれかに記載の配線端子接続用接着剤を用いて電気的に接続されている配線構造体。 Two or more wiring members each having a connection terminal are provided, and the connection terminals of the wiring members are electrically connected using the wiring terminal connection adhesive according to any one of claims 1 to 9 . Wiring structure.
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