JP4409930B2

JP4409930B2 - Coating nozzle cleaning device

Info

Publication number: JP4409930B2
Application number: JP2003425916A
Authority: JP
Inventors: 紀雄森井
Original assignee: Hirano Tecseed Co Ltd
Current assignee: Hirano Tecseed Co Ltd
Priority date: 2003-12-22
Filing date: 2003-12-22
Publication date: 2010-02-03
Anticipated expiration: 2023-12-22
Also published as: JP2005177707A

Description

本発明は、塗工装置の塗工ノズルが対象物へ塗工を行っていないときに、塗工ノズルから吐出される塗工液を除去する塗工ノズル清浄装置に関するものである。 The present invention relates to a coating nozzle cleaning device that removes a coating liquid discharged from a coating nozzle when a coating nozzle of the coating device is not coating an object.

本出願人は、先に毛管現象を利用して塗工液を基材に薄く塗工できる塗工装置を提供した（特許文献１）。 The present applicant has previously provided a coating apparatus that can apply a coating liquid thinly on a substrate by utilizing a capillary phenomenon (Patent Document 1).

この塗工装置は、基材を塗工ノズルに対し移動させながら、塗工タンクから塗工ノズルの毛管状隙間に塗工液を供給し、塗工タンクの塗工液の高さを調整することによって、吐出口から塗工液を基材の下面に接液させ、所定位置まで塗工が終了すると、塗工タンクを下げて離液を行うものである。
特開２００３−１１７１公報 This coating apparatus adjusts the height of the coating liquid in the coating tank by supplying the coating liquid from the coating tank to the capillary gap of the coating nozzle while moving the substrate relative to the coating nozzle. Thus, the coating liquid is brought into contact with the lower surface of the substrate from the discharge port, and when the coating is completed to a predetermined position, the coating tank is lowered to perform liquid separation.
JP 2003-1171 A

上記構成の塗工装置において、塗工作業の待機時間においては、塗工ノズルは基材に塗工を行っていないため、吐出口は大気に開放された状態となっている。そのため、この吐出口の付近に塗工液が乾燥あるいはゲル化して塗工液が付着し、その後塗工作業を行うと基材の塗工面に縦筋が生じたり、異物の付着を招き、製品の品質を劣化させるという問題点がある。 In the coating apparatus having the above configuration, during the standby time for the coating operation, the coating nozzle is not applied to the base material, so that the discharge port is open to the atmosphere. For this reason, the coating liquid dries or gels in the vicinity of this discharge port, and the coating liquid adheres to it, and if the coating operation is performed thereafter, vertical streaks occur on the coated surface of the base material, or foreign matter adheres to the product. There is a problem of deteriorating the quality of the product.

そのため、従来は塗工作業を行う前に人の手によって塗工ノズルの付近に付着した塗工液をウエスなどで拭き取り、吐出口の周りを洗浄している。 Therefore, conventionally, before the coating operation is performed, the coating liquid adhering to the vicinity of the coating nozzle is wiped off with a waste cloth by a human hand, and the area around the discharge port is washed.

しかしながら、このような塗工作業を行う前に人手によって洗浄作業を行うことは煩雑であり、また、生産効率も低下するという問題点があった。 However, it is troublesome to manually perform the cleaning operation before performing such a coating operation, and there is a problem in that the production efficiency is lowered.

そこで、本発明は上記問題点に鑑み、塗工装置の塗工ノズルが基材へ塗工を行っていないときに、塗工ノズルから吐出される塗工液を除去できる塗工ノズル清浄装置を提供するものである。 Therefore, in view of the above problems, the present invention provides a coating nozzle cleaning device that can remove the coating liquid discharged from the coating nozzle when the coating nozzle of the coating device is not coating the substrate. It is to provide.

請求項１に係る発明は、塗工装置の塗工ノズルが、サクションテーブルに吸着された板状の基材へ塗工を行っていないときに、前記塗工ノズルから吐出される塗工液を清浄する塗工ノズル清浄装置であって、前記サクションテーブルが連結部材の一端に回転自在に配され、除去ローラが前記連結部材の他端に回転自在に配され、前記サクションテーブルの上面に前記基材が吸着され、前記サクションテーブルを１８０度回転させて前記基材を前記サクションテーブルの下方に配し、前記サクションテーブルを移動させつつ前記塗工ノズルによって前記基材の下面に塗工が行われ、塗工終了後に前記除去ローラが前記塗工ノズルの吐出口の上方に配され、前記サクションテーブルを１８０度回転させて前記サクションテーブルの上面に前記塗工液を塗工した前記基材を回転移動させ、前記除去ローラの表面に付着した塗工液を取り除く取り除き手段が配され、前記除去ローラを回転させて前記吐出口から吐出された塗工液を前記除去ローラの表面に付着させ、前記付着した塗工液を前記取り除き手段によって取り除くことを特徴とする塗工ノズル清浄装置である。 The invention according to claim 1 is a coating liquid discharged from the coating nozzle when the coating nozzle of the coating apparatus is not coating the plate-like substrate adsorbed by the suction table. A coating nozzle cleaning device for cleaning, wherein the suction table is rotatably disposed at one end of the connecting member, a removal roller is rotatably disposed at the other end of the connecting member, and the base is disposed on an upper surface of the suction table. The material is adsorbed, the suction table is rotated 180 degrees, the base material is disposed below the suction table, and the lower surface of the base material is coated by the coating nozzle while moving the suction table. the removing roller after coating end disposed above the discharge port of the coating nozzle, the coating on the upper surface of the suction table is rotated 180 degrees the suction table The rotate moving a substrate was coated with the removal coating solution means remove remove adhering to the surface of the roller is arranged, wherein the coating liquid discharged from said discharge port by rotating the removing roller The coating nozzle cleaning device is characterized in that it adheres to the surface of a removal roller, and the attached coating liquid is removed by the removing means.

請求項２に係る発明は、前記除去ローラの表面に付着した塗工液に洗浄液を噴射する噴射手段が設けられ、前記除去ローラの付着した塗工液に洗浄液を前記噴射手段で噴射した後に前記取り除き手段によって塗工液を取り除くことを特徴とする請求項１記載の塗工ノズル清浄装置である。 According to a second aspect of the present invention, there is provided spraying means for spraying the cleaning liquid onto the coating liquid adhered to the surface of the removal roller, and after the cleaning liquid is sprayed onto the coating liquid adhered to the removal roller, 2. The coating nozzle cleaning device according to claim 1, wherein the coating liquid is removed by a removing means.

請求項３に係る発明は、前記取り除き手段は、前記除去ローラの表面に接触して、前記除去ローラの表面に付着した塗工液を掻き取るドクターブレードと、前記ドクターブレードによって掻き取られた塗工液を吸引する吸引手段とを有することを特徴とする請求項１記載の塗工ノズル清浄装置である。 The invention according to claim 3 is characterized in that the removing means contacts the surface of the removing roller and scrapes the coating liquid adhering to the surface of the removing roller, and the coating scraped off by the doctor blade. 2. The coating nozzle cleaning device according to claim 1, further comprising suction means for sucking the working liquid.

請求項４に係る発明は、前記除去ローラの表面を洗浄する洗浄手段が、前記取り除き手段の次に設けられ、前記洗浄手段は、前記除去ローラの表面を覆うチャンバーと、前記チャンバー内に洗浄液を送る洗浄液送出手段と、前記チャンバー内にあって前記除去ローラの表面に付着した洗浄液を掻き取るドクターブレードと、前記ドクターブレードによって掻き取られた塗工液を吸引する洗浄液吸引手段とを有することを特徴とする請求項１記載の塗工ノズル清浄装置である。 According to a fourth aspect of the present invention, cleaning means for cleaning the surface of the removal roller is provided next to the removal means, and the cleaning means includes a chamber covering the surface of the removal roller, and a cleaning liquid in the chamber. A cleaning liquid sending means for sending, a doctor blade for scraping the cleaning liquid adhered to the surface of the removal roller in the chamber, and a cleaning liquid suction means for sucking the coating liquid scraped off by the doctor blade. 2. The coating nozzle cleaning device according to claim 1, wherein the coating nozzle cleaning device is a coating nozzle cleaning device.

請求項５に係る発明は、前記除去ローラは、前記塗工ノズルの吐出口の上方に配されていることを特徴とする請求項１記載の塗工ノズル清浄装置である。 The invention according to claim 5 is the coating nozzle cleaning device according to claim 1, wherein the removal roller is arranged above the discharge port of the coating nozzle.

請求項６に係る発明は、前記除去ローラは、前記塗工ノズルの吐出口の下方に配されていることを特徴とする請求項１記載の塗工ノズル清浄装置である。 The invention according to claim 6 is the coating nozzle cleaning device according to claim 1, wherein the removal roller is disposed below the discharge port of the coating nozzle.

請求項７に係る発明は、前記塗工ノズルは毛管状隙間を有し、前記毛管状隙間の端部が吐出口であり、毛細管現象によって塗工液を前記対象物に塗工することを特徴とする請求項１記載の塗工ノズル清浄装置である。 The invention according to claim 7 is characterized in that the coating nozzle has a capillary gap, an end of the capillary gap is a discharge port, and a coating liquid is applied to the object by a capillary phenomenon. The coating nozzle cleaning device according to claim 1.

請求項８に係る発明は、塗工装置の塗工ノズルが、サクションテーブルに吸着された板状の基材へ塗工を行っていないときに、前記塗工ノズルから吐出される塗工液を清浄する塗工ノズル清浄装置であって、前記サクションテーブルが連結部材の一端に回転自在に配され、除去ローラが前記連結部材の他端に回転自在に配され、前記サクションテーブルの上面に前記基材が吸着され、前記サクションテーブルを１８０度回転させて前記基材を前記サクションテーブルの下方に配し、前記サクションテーブルを移動させつつ前記塗工ノズルによって前記基材の下面に塗工が行われ、塗工終了後に前記除去ローラが前記塗工ノズルの吐出口の上方に配され、前記サクションテーブルを１８０度回転させて前記サクションテーブルの上面に前記塗工液を塗工した前記基材を回転移動させ、前記除去ローラによって拭き取りウエブを走行させ、前記吐出口から吐出された塗工液を前記拭き取りウエブに付着させることを特徴とする塗工ノズル清浄装置である。 According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a coating liquid discharged from the coating nozzle when the coating nozzle of the coating apparatus is not coating the plate-like substrate adsorbed by the suction table. A coating nozzle cleaning device for cleaning, wherein the suction table is rotatably disposed at one end of the connecting member, a removal roller is rotatably disposed at the other end of the connecting member, and the base is disposed on an upper surface of the suction table. The material is adsorbed, the suction table is rotated 180 degrees, the base material is disposed below the suction table, and the lower surface of the base material is coated by the coating nozzle while moving the suction table. the removing roller after coating end disposed above the discharge port of the coating nozzle, the coating on the upper surface of the suction table is rotated 180 degrees the suction table In the said substrate which is coated by rotational movement, to travel web wiping by said removing roller, the coating nozzle cleaning apparatus characterized by depositing a coating liquid discharged from the discharge port to the web wiping the is there.

請求項１に係る発明の塗工ノズル清浄装置について説明する。 The coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 1 will be described.

塗工装置の塗工ノズルが対象物へ塗工を行っていないときに、除去ローラを回転させて吐出口から吐出された塗工液を除去ローラの表面に付着させ、付着した塗工液を取り除き手段によって取り除く。これによって、塗工ノズルから吐出される塗工液を除去でき、吐出口の周りを洗浄することができる。また、取り除き手段によって除去ローラの表面も洗浄されるため、除去ローラの表面に付着した塗工液が１回転して再び塗工ノズルの吐出口に付着したりすることがない。 When the coating nozzle of the coating device is not coating the target, rotate the removal roller to attach the coating liquid discharged from the discharge port to the surface of the removal roller, and remove the adhered coating liquid. Remove by removal means. As a result, the coating liquid discharged from the coating nozzle can be removed, and the area around the discharge port can be cleaned. Further, since the surface of the removing roller is also cleaned by the removing means, the coating liquid adhering to the surface of the removing roller does not rotate once and adhere to the discharge port of the coating nozzle again.

請求項２に係る塗工ノズル清浄装置について説明する。 A coating nozzle cleaning device according to claim 2 will be described.

塗工ノズルの吐出口から除去ローラの表面に付着した塗工液に噴射手段が洗浄液を噴射し、その後取り除き手段によってこの洗浄液が噴射された塗工液を取り除く。そのため、取り除き手段によって塗工液を確実に取り除くことができる。請求項３に係る発明の塗工ノズル清浄装置について説明する。 The spraying means sprays the cleaning liquid onto the coating liquid adhering to the surface of the removing roller from the discharge port of the coating nozzle, and then the coating liquid sprayed with the cleaning liquid is removed by the removing means. Therefore, the coating liquid can be reliably removed by the removing means. The coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 3 will be described.

取り除き手段が、ドクターブレードと、ドクターブレードによって掻き取られた塗工液を吸引する吸引手段とよりなり、除去ローラの表面にドクターブレードが接触してその表面に付着している塗工液を掻き取り、掻き取られた塗工液を吸引手段が吸引することにより、塗工液を確実に掻き取ることができると共に、連続して塗工液を掻き取ることができる。 The removing means comprises a doctor blade and a suction means for sucking the coating liquid scraped off by the doctor blade. The doctor blade comes into contact with the surface of the removing roller and scrapes the coating liquid adhering to the surface. When the suction means sucks the applied and scraped coating liquid, the coating liquid can be reliably scraped and the coating liquid can be scraped continuously.

請求項４に係る発明の塗工ノズル清浄装置について説明する。 The coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 4 will be described.

取り除き手段の次に除去ローラの表面を洗浄する洗浄手段を設け、この洗浄手段がチャンバー内部に洗浄液を送り、この除去ローラ表面に付着している洗浄液及び塗工液をドクターブレードによって掻き取って吸引することによってより確実に除去ローラの表面を洗浄することができる。 A cleaning means for cleaning the surface of the removing roller is provided next to the removing means, and the cleaning means sends cleaning liquid into the chamber, and the cleaning liquid and coating liquid adhering to the surface of the removing roller are scraped and sucked by a doctor blade. By doing so, the surface of the removing roller can be more reliably cleaned.

請求項５に係る発明の塗工ノズル清浄装置であると、除去ローラを塗工ノズルの吐出口の上方に配することにより、塗工ノズルの吐出口の上端部から吐出された塗工液を確実に除去することができる。 In the coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 5, by disposing the removing roller above the discharge port of the coating nozzle, the coating liquid discharged from the upper end portion of the discharge port of the coating nozzle It can be removed reliably.

請求項６に係る発明の塗工ノズル清浄装置であると、除去ローラが塗工ノズルの吐出口の下方に配されることにより、塗工ノズルの吐出口の下端から吐出される塗工液を確実に除去することができる。 In the coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 6, the removal roller is arranged below the discharge port of the coating nozzle so that the coating liquid discharged from the lower end of the discharge port of the coating nozzle is It can be removed reliably.

請求項７に係る発明の塗工ノズル清浄装置においては、塗工ノズルから毛細管現象によって塗工液が吐出されるため、この毛細管現象によって吐出した塗工液を除去ローラによって確実に除去することができる。 In the coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 7, since the coating liquid is discharged by the capillary phenomenon from the coating nozzle, the coating liquid discharged by the capillary phenomenon can be reliably removed by the removing roller. it can.

請求項８に係る発明の塗工ノズル清浄装置について説明する。 The coating nozzle cleaning device of the invention according to claim 8 will be described.

塗工装置の塗工ノズルが対象物へ塗工を行っていないときに、除去ローラを塗工ノズルの吐出口の近傍に配し、除去ローラによって拭き取りウエブを走行させ、吐出口から吐出された塗工液を前記拭き取りウエブに付着させる。これによって、吐出口付近の塗工液を確実に除去することができる。 When the coating nozzle of the coating device is not coating the object, the removal roller is placed near the discharge port of the coating nozzle, the wiping web is run by the removal roller, and discharged from the discharge port. A coating solution is adhered to the wiping web. Thereby, the coating liquid near the discharge port can be reliably removed.

（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態の塗工装置１０と塗工ノズル清浄装置５０について図１及び図２に基づいて説明する。 (First embodiment)
The coating apparatus 10 and the coating nozzle cleaning apparatus 50 of the 1st Embodiment of this invention are demonstrated based on FIG.1 and FIG.2.

本実施形態の塗工装置１０は、板状の基材Ｗに塗工液を塗工するものである。例えば、液晶表示装置の製造工程において、ガラス板の表面にフォトレジストや反射防止層や保護膜を形成するためのものであり、その塗工厚さはドライ状態で０．０１μｍ〜１０μｍである。なお、これは例示であり、液晶セルのガラス板に限らず、板状の基材Ｗであれば塗工可能であり、また、塗工液の種類も限定されない。 The coating apparatus 10 of this embodiment applies a coating liquid to the plate-shaped substrate W. For example, in the manufacturing process of a liquid crystal display device, it is for forming a photoresist, an antireflection layer, and a protective film on the surface of a glass plate, and the coating thickness is 0.01 μm to 10 μm in a dry state. In addition, this is an illustration, and it is not restricted to the glass plate of a liquid crystal cell, but if it is a plate-shaped base material W, it can coat and the kind of coating liquid is not limited.

塗工ノズル清浄装置５０は、塗工装置１０が基材Ｗに対し塗工を行っていないとき、即ち、待機時間において、吐出される塗工液を除去するものである。 The coating nozzle cleaning device 50 removes the discharged coating liquid when the coating device 10 is not coating the substrate W, that is, during the standby time.

（１）塗工装置１０の構成
図２は、塗工装置１０の構成図である。 (1) Configuration of Coating Device 10 FIG. 2 is a configuration diagram of the coating device 10.

ガラス板等の板状である基材Ｗは、下面に複数の吸引口を有したサクションテーブルに吸引された状態で支持されたものであり、このサクションテーブル１２は、モータ１３によって前後方向（図２においては、右側から左側）に移動可能となっている。 The substrate W having a plate shape such as a glass plate is supported in a state of being sucked by a suction table having a plurality of suction ports on the lower surface. 2 is movable from the right side to the left side.

サクションテーブル１２の下方には、基材Ｗの下面に塗工液を塗工するための塗工ノズル１４が配されている。この塗工ノズル１４は、上部がくちばし状に尖った形状をなし、左右方向に沿って毛管状隙間１６が設けられ、この毛管状隙間１６の上端部が塗工液の吐出口１８となっている。また、毛管状隙間１６の下端部には、供給された塗工液を左右方向に均等に配分する空間である液溜め部１９が設けられている。 Below the suction table 12, a coating nozzle 14 for coating the coating liquid on the lower surface of the substrate W is disposed. The coating nozzle 14 has a beak-shaped upper portion, and a capillary gap 16 is provided along the left-right direction. The upper end of the capillary gap 16 serves as a discharge port 18 for the coating liquid. Yes. In addition, a liquid reservoir 19 is provided at the lower end of the capillary gap 16 and is a space for evenly distributing the supplied coating liquid in the left-right direction.

塗工ノズル１４は、その下方に配されたエアシリンダまたはモータよりなる上下動装置２０によって上下動可能となっている（図２における点線の状態から実線の状態）。 The coating nozzle 14 can be moved up and down by a vertical movement device 20 including an air cylinder or a motor disposed below the coating nozzle 14 (from a dotted line state to a solid line state in FIG. 2).

塗工ノズル１４の外部には、塗工液を供給するための塗工タンク２２が設けられている。すなわち、塗工ノズル１４の壁に固定された支持部２４には垂直方向にネジ棒２６が回転自在に配され、このネジ棒２６にラック２８が設けられている。このラック２８に前記した塗工タンク２２が取り付けられている。ネジ棒２６は減速機付きのモータ３０によって回動自在であり、モータ３０を回動させるとネジ棒２６は回転し、それと共にラック２８、すなわち、塗工タンク２２が塗工ノズル１４に対し上下動する。また、支持部２４は塗工ノズル１４に固定されているため、塗工ノズル１４が上下動装置２０によって上下動するとそれと共に塗工タンク２２も上下動する。 A coating tank 22 for supplying a coating liquid is provided outside the coating nozzle 14. That is, a screw rod 26 is rotatably arranged in a vertical direction on the support portion 24 fixed to the wall of the coating nozzle 14, and a rack 28 is provided on the screw rod 26. The coating tank 22 is attached to the rack 28. The screw rod 26 can be freely rotated by a motor 30 with a speed reducer. When the motor 30 is rotated, the screw rod 26 rotates, and the rack 28, that is, the coating tank 22 moves up and down with respect to the coating nozzle 14. Move. Moreover, since the support part 24 is being fixed to the coating nozzle 14, if the coating nozzle 14 moves up and down by the vertical movement apparatus 20, the coating tank 22 will also move up and down with it.

塗工タンク２２は、塗工液が貯留されており、その上部が開口し、大気に開放された状態となっている。 The coating tank 22 stores a coating liquid, and an upper part thereof is open and is open to the atmosphere.

塗工タンク２２の底面から、塗工ノズル１４の側面に向かって塗工液を供給するための供給パイプ３４が設けられている。この供給パイプ３４から供給された塗工液は液溜め部１９に至る。 A supply pipe 34 for supplying the coating liquid from the bottom surface of the coating tank 22 toward the side surface of the coating nozzle 14 is provided. The coating liquid supplied from the supply pipe 34 reaches the liquid reservoir 19.

支持部２４の上部から非接触式（例えば、光学式）の液面センサ３２が突出している。この液面センサ３２は、塗工タンク２２に溜まっている塗工液の液面高さを検出する。 A non-contact (for example, optical) liquid level sensor 32 projects from the upper portion of the support portion 24. The liquid level sensor 32 detects the height of the coating liquid accumulated in the coating tank 22.

塗工タンク２２に塗工液を供給するための補充タンク３６が設けられている。この補充タンク３６から塗工タンク２２の上部に向かって補充パイプ３８が延びている。補充パイプ３８には、不図示のフィルターと電磁弁３９が設けられている。また、補充タンク３６は密閉式であり、コンプレッサなどの圧送装置４０から送られてくるイナートガス（例えば、不活性ガス、窒素ガス（Ｎ_２））により塗工液を補充パイプ３８へ供給する。そして、電磁弁３９を操作することにより、一定量の塗工液を塗工タンク２２に供給する。ここで、不活性ガスを送るのは防爆のためであるが、防爆を目的としない場合は、空気などのその他の気体でもよい。 A replenishment tank 36 for supplying the coating liquid to the coating tank 22 is provided. A refill pipe 38 extends from the refill tank 36 toward the upper part of the coating tank 22. The replenishing pipe 38 is provided with a filter (not shown) and an electromagnetic valve 39. The replenishing tank 36 is hermetically sealed, and the coating liquid is supplied to the replenishing pipe 38 by an inert gas (for example, inert gas or nitrogen gas (N ₂ )) sent from a pressure feeding device 40 such as a compressor. Then, by operating the electromagnetic valve 39, a certain amount of coating liquid is supplied to the coating tank 22. Here, the inert gas is sent for explosion prevention, but other gases such as air may be used when explosion prevention is not aimed.

この塗工装置１０を制御するためにマイクロコンピュータよりなる制御部４２が設けられている。この制御部４２には、サクションテーブル１２の移動を行うモータ１３、上下動装置２０、塗工タンク２２を上下動させるモータ３０、液面センサ３２、電磁弁３９、圧送装置４０が接続されている。 In order to control the coating apparatus 10, a control unit 42 made of a microcomputer is provided. Connected to the control unit 42 are a motor 13 that moves the suction table 12, a vertical movement device 20, a motor 30 that moves the coating tank 22 up and down, a liquid level sensor 32, an electromagnetic valve 39, and a pressure feeding device 40. .

制御部４２は、液面センサ３２によって塗工液の液面高さを検出して、その検出したデータに基づいてモータ３０を駆動させて塗工タンク２２を上下動させ、そして、塗工タンク２２内の液面高さを所定の設定値になるようにフィードバック制御する。 The control unit 42 detects the liquid level of the coating liquid by the liquid level sensor 32, drives the motor 30 based on the detected data to move the coating tank 22 up and down, and the coating tank. Feedback control is performed so that the liquid level in 22 becomes a predetermined set value.

また、塗工によって塗工液が少なくなり、液面センサ３２によって検出した液面高さが基準値より低くなった場合には、制御部４２は、圧送装置４０を作動させてイナートガスによって圧力をかけ、補充タンク３６から補充パイプ３８を介して塗工液を送り、電磁弁３９を操作することにより所定量補充して、常に塗工タンク２２内部には、基準値以上の塗工液を貯留させる。 In addition, when the coating liquid is reduced by coating and the liquid level detected by the liquid level sensor 32 is lower than the reference value, the control unit 42 operates the pressure feeding device 40 to increase the pressure by the inert gas. The coating liquid is sent from the replenishing tank 36 through the replenishing pipe 38, and a predetermined amount is replenished by operating the electromagnetic valve 39, so that the coating liquid exceeding the reference value is always stored in the coating tank 22. Let

（２）塗工ノズル清浄装置５０の構成
図１は、塗工ノズル清浄装置５０の説明図である。以下、この図面に基づいて塗工ノズル清浄装置５０の構成について説明する。 (2) Configuration of Coating Nozzle Cleaning Device 50 FIG. 1 is an explanatory diagram of the coating nozzle cleaning device 50. Hereinafter, the configuration of the coating nozzle cleaning device 50 will be described with reference to this drawing.

上記で説明した塗工装置１０が塗工を行っていない待機時間において、塗工ノズル１４の上方に除去ローラ５２が移動する。この移動の構成については後から説明する。 The removal roller 52 moves above the coating nozzle 14 during the standby time when the coating apparatus 10 described above does not perform coating. The configuration of this movement will be described later.

除去ローラ５２は回転モータ５４によって一定速度で走行できる。また、この除去ローラ５２の軸方向の長さは、塗工ノズル１４の幅方向と略同じ長さであり、少なくとも、吐出口１８よりも長い寸法となっている。 The removal roller 52 can travel at a constant speed by a rotary motor 54. Further, the length of the removal roller 52 in the axial direction is substantially the same as the width direction of the coating nozzle 14 and is at least longer than the discharge port 18.

除去ローラ５２の上方には、スプレー装置５６が設けられている。このスプレー装置５６は、除去ローラ５２の軸方向全てに洗浄液を噴射するものであり、洗浄液タンク５８からポンプ６０を介して噴射される。また、この噴射のタイミングは、電磁弁６２によって制御する。この洗浄液としては、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、または、ＫＯＨ（水酸化カリウム）が挙げられる。 A spray device 56 is provided above the removal roller 52. The spray device 56 sprays the cleaning liquid in the entire axial direction of the removing roller 52, and is sprayed from the cleaning liquid tank 58 via the pump 60. The timing of this injection is controlled by the electromagnetic valve 62. Examples of this cleaning liquid include PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) or KOH (potassium hydroxide).

除去ローラ５２の上方であって、上記で説明したスプレー装置５６よりも更に後方には、バキュームドクター装置６４が設けられている。このバキュームドクター装置６４は、除去ローラ５２の軸方向に対して全てに渡って設けられており、ドクターブレード６６によって掻き取られた塗工液を、吸引タンク６８へバキューム装置７０によって吸引する。 A vacuum doctor device 64 is provided above the removal roller 52 and further behind the spray device 56 described above. The vacuum doctor device 64 is provided over the entire axial direction of the removing roller 52, and sucks the coating liquid scraped off by the doctor blade 66 into the suction tank 68 by the vacuum device 70.

上記で説明したポンプ６０、電磁弁６２、バキューム装置７０は、制御部４２に接続され、この制御部４２によって制御される。 The pump 60, the electromagnetic valve 62, and the vacuum device 70 described above are connected to the control unit 42 and controlled by the control unit 42.

次に、図３に基づいて、除去装置５０と塗工装置１０との関係について説明する。 Next, the relationship between the removing device 50 and the coating device 10 will be described with reference to FIG.

サクションテーブル１２は、１８０°回転可能となっており、上面に基材Ｗを吸着した後に１８０°回転して基材Ｗが下面に配される。塗工を行う際には、塗工と共にサクションテーブル１２は水平方向に移動する。 The suction table 12 can be rotated 180 °, and after the substrate W is adsorbed on the upper surface, the suction table 12 is rotated 180 ° so that the substrate W is disposed on the lower surface. When coating is performed, the suction table 12 moves in the horizontal direction together with coating.

除去ローラ５２は、サクションテーブル１２と一体となっており、サクションテーブル１２の移動と共に塗工ノズル１４に対し相対的に移動する。スプレー装置５６及びバキュームドクター装置６４も同時に除去ローラ５２と共に移動する。 The removal roller 52 is integrated with the suction table 12 and moves relative to the coating nozzle 14 as the suction table 12 moves. The spray device 56 and the vacuum doctor device 64 also move together with the removing roller 52.

（３）塗工工程及び待機工程
上記で説明した塗工装置１０及び塗工ノズル清浄装置５０の塗工工程及び待機工程について図３に基づいて説明する。 (3) Coating process and standby process The coating process and the standby process of the coating apparatus 10 and the coating nozzle cleaning apparatus 50 which were demonstrated above are demonstrated based on FIG.

（３−１）第１工程
第１工程は、待機工程であり、この状態では、塗工ノズル１４から塗工液が吐出された状態となっているため、除去ローラ５２に塗工液を付着させて吐出口１８付近に塗工液が付着しないようにしている。この除去作業については後から詳しく説明する。また、サクションテーブル１２の上面に基材Ｗを載置し吸着させる。 (3-1) First Step The first step is a standby step. In this state, the coating liquid is discharged from the coating nozzle 14, so that the coating liquid is attached to the removal roller 52. This prevents the coating liquid from adhering to the vicinity of the discharge port 18. This removal operation will be described in detail later. Further, the base material W is placed on the upper surface of the suction table 12 and adsorbed thereon.

（３−２）第２工程
第２工程においては、サクションテーブル１２を１８０°回転させ、基材Ｗをサクションテーブル１２の下方に配する。塗工ノズル１４を所定の高さに下降させる・
（３−３）第３工程
第３工程においては、サクションテーブル１２を移動させ、塗工ノズル１４を塗工開始位置に移動させる。 (3-2) Second Step In the second step, the suction table 12 is rotated 180 °, and the base material W is disposed below the suction table 12. Lower the coating nozzle 14 to a predetermined height.
(3-3) Third Step In the third step, the suction table 12 is moved, and the coating nozzle 14 is moved to the coating start position.

塗工ノズル１４を上下動装置２０によって所定の高さから上昇させ、吐出口１８を塗工開始位置における基材Ｗの下面の近傍に停止させる。 The coating nozzle 14 is raised from a predetermined height by the vertical movement device 20, and the discharge port 18 is stopped in the vicinity of the lower surface of the substrate W at the coating start position.

この場合に、塗工ノズル１４と共に塗工タンク２２も上昇するが、その上昇分に加えて、モータ３０を用いて塗工タンク２２に収納されている塗工液の液面高さを、塗工ノズル１４の毛管状隙間１６における上端部の位置（すなわち、吐出口の位置）になるように設定する。この設定には、図２に示すように、毛管状隙間１６の液高さが、ｈ１だけ塗工タンク２２に収納された液高さよりも高くなることを考慮する。このｈ１の高低差がある理由は、毛管状隙間１６では毛細管現象によって塗工ノズル１４の上端まで塗工液が上昇するからである。以下、この塗工タンク２２内の液高さを「待機高さ設定値」という。 In this case, the coating tank 22 also rises together with the coating nozzle 14, but in addition to the rise, the liquid level of the coating liquid stored in the coating tank 22 is applied using the motor 30. It sets so that it may become the position (namely, position of a discharge port) of the upper end part in the capillary gap 16 of the process nozzle 14. FIG. For this setting, as shown in FIG. 2, it is considered that the liquid height of the capillary gap 16 is higher than the liquid height stored in the coating tank 22 by h1. The reason why there is a difference in height of h1 is that the coating liquid rises to the upper end of the coating nozzle 14 due to the capillary phenomenon in the capillary gap 16. Hereinafter, the liquid height in the coating tank 22 is referred to as a “standby height set value”.

図３（３）に示すように、液面センサ３２で検知しながら塗工タンク２２をモータ３０によって塗工ノズル１４に対し上昇させ、塗工タンク２２内の液面高さを待機高さ設定値よりも上昇させて、吐出口１８から塗工液が基材Ｗの下面に接液させる。以下、この塗工タンク２２内の液面高さを「接液高さ設定値」という。これによって、接液を速く確実に行うことができる。 As shown in FIG. 3 (3), the coating tank 22 is raised with respect to the coating nozzle 14 by the motor 30 while being detected by the liquid level sensor 32, and the liquid level in the coating tank 22 is set to a standby height. The coating liquid is brought into contact with the lower surface of the substrate W from the discharge port 18 by raising the value above the value. Hereinafter, the liquid level in the coating tank 22 is referred to as a “wet height setting value”. As a result, the liquid contact can be performed quickly and reliably.

（３−４）第４工程
図３（４）に示すように、塗工液が基材Ｗの下面に接液した状態のままで塗工タンク２２の高さをモータ３０によって微調整して目的の塗工厚さになるように塗工タンク２２内の液面高さを下げる。以下、この高さを「塗工高さ設定値」という。この塗工高さ設定値を液面センサ３２で検知しながらフィードバック制御により維持しつつ、基材Ｗの下面に塗工液を塗工しながらサクションテーブル１２をモータ１３によって塗工開始位置から塗工終了位置へ移動させる。これによって、基材Ｗの下面に塗工液が塗工される。 (3-4) Fourth Step As shown in FIG. 3 (4), the height of the coating tank 22 is finely adjusted by the motor 30 while the coating liquid is in contact with the lower surface of the substrate W. The liquid level in the coating tank 22 is lowered so as to achieve the desired coating thickness. Hereinafter, this height is referred to as a “coating height setting value”. While the coating height set value is detected by the liquid level sensor 32 and maintained by feedback control, the suction table 12 is applied from the coating start position by the motor 13 while applying the coating liquid to the lower surface of the substrate W. Move to the finishing position. As a result, the coating liquid is applied to the lower surface of the substrate W.

基材Ｗの塗工終了位置まで塗工が終了すると、液面センサ３２で検知しながら塗工タンク２２の高さをモータ３０によって下降させ、塗工タンク２２内の液面高さを離液高さ設定値まで下げて、吐出口１８から塗工液を吸引するようにして、基材Ｗの下面から塗工液を離液させる。この離液高さ設定値は、接液高さ設定値と塗工高さ設定値よりも低い値であればよく、例えば、待機高さ設定値と同じ高さでもよい。 When coating is completed up to the coating end position of the substrate W, the height of the coating tank 22 is lowered by the motor 30 while being detected by the liquid level sensor 32, and the liquid level in the coating tank 22 is separated. The coating liquid is lowered from the lower surface of the substrate W by lowering the height to the set value and sucking the coating liquid from the discharge port 18. The liquid separation height setting value may be a value lower than the liquid contact height setting value and the coating height setting value, and may be, for example, the same height as the standby height setting value.

（３−５）第５工程
サクションテーブル１２及び除去ローラ５２を移動させ、除去ローラ５２の下方に塗工ノズルを移動させる。 (3-5) Fifth Step The suction table 12 and the removal roller 52 are moved, and the coating nozzle is moved below the removal roller 52.

（３−６）第６工程
サクションテーブル１２を１８０°回転させ、サクションテーブル１２の上面に塗工液を塗工した基材Ｗを回転移動させ、吸着を終了してこの基材Ｗを回収する。一方、塗工ノズル１４を除去ローラ５２の位置まで上昇させて、吐出口１８付近の塗工液を除去作業を行う。この除去作業は第１工程の作業と同じであり、以下で説明する。 (3-6) Sixth Step The suction table 12 is rotated by 180 °, the base material W coated with the coating liquid is rotated on the upper surface of the suction table 12, the suction is finished, and the base material W is recovered. . On the other hand, the coating nozzle 14 is raised to the position of the removal roller 52, and the coating liquid near the discharge port 18 is removed. This removal operation is the same as the operation in the first step, and will be described below.

（４）除去作業
上記で説明した待機工程において塗工ノズル１４の塗工液を除去する作業について、図１に基づいて説明する。 (4) Removal Work The work of removing the coating liquid from the coating nozzle 14 in the standby process described above will be described with reference to FIG.

第１工程及び第６工程で説明したように、除去ローラ５２の下方に塗工ノズル１４を移動させ、まず上下動装置２０によって待機高さ設定値まで上昇させる。 As described in the first step and the sixth step, the coating nozzle 14 is moved below the removal roller 52 and is first raised to the standby height set value by the vertical movement device 20.

除去ローラ５２を所定の速度で回転させ、塗工ノズル１４を接液高さまで上昇させて、除去ローラ５２の表面に塗工液を接液する。 The removal roller 52 is rotated at a predetermined speed, the coating nozzle 14 is raised to the liquid contact height, and the coating liquid is in contact with the surface of the removal roller 52.

その後、上下動装置２０によって、塗工高さ設定値まで下降させる。これによって、吐出口１８から吐出される塗工液は全て除去ローラ５２の表面に付着する。 Thereafter, the vertical movement device 20 lowers the coating height to the set value. As a result, all coating liquid discharged from the discharge port 18 adheres to the surface of the removal roller 52.

除去ローラ５２の表面に付着した塗工液は除去ローラ５２の回転と共に回転し、上方の位置にくるとスプレー装置５６によって洗浄液が噴射され洗浄され易い状態となる。 The coating liquid adhering to the surface of the removing roller 52 rotates with the rotation of the removing roller 52, and when it comes to an upper position, the cleaning liquid is sprayed by the spray device 56 and is easily cleaned.

その洗浄液が噴射された塗工液がさらに回転し、バキュームドクター装置６４の位置までくると、ドクターブレード６６によって掻き取られ、バキューム装置７０によって吸引タンク６８に吸引される。 When the coating liquid sprayed with the cleaning liquid further rotates and reaches the position of the vacuum doctor device 64, it is scraped off by the doctor blade 66 and sucked into the suction tank 68 by the vacuum device 70.

その後、除去ローラ５２の表面には、エアーフロー装置８４によって空気が吹き付けられ乾燥させられる。 Thereafter, air is blown onto the surface of the removing roller 52 by the airflow device 84 and dried.

これによって、除去ローラ５２の表面には塗工液の付着がなくなり、再び塗工ノズルの位置までくると新たに塗工液を付着する。この場合に、塗工液の付着は除去されているため塗工ノズル１４が汚れたりすることがない。 As a result, the coating liquid no longer adheres to the surface of the removal roller 52, and when it reaches the position of the coating nozzle again, the coating liquid newly adheres. In this case, since the adhesion of the coating liquid is removed, the coating nozzle 14 is not soiled.

待機工程が終了し塗工を開始する場合には、塗工ノズル１４を離液高さまで下降させ、離液を行う。その後、上記で説明した第２工程に進む。 When the standby process is completed and coating is started, the coating nozzle 14 is lowered to the liquid separation height to perform liquid separation. Thereafter, the process proceeds to the second step described above.

以上により、待機工程においては塗工ノズル１４から吐出される塗工液は全て除去ローラ５２に付着するため、吐出口付近で付着してゲル化したりすることがなく、また、人手によって除去したりする必要もない。 As described above, since all the coating liquid discharged from the coating nozzle 14 adheres to the removing roller 52 in the standby process, it does not adhere and gel in the vicinity of the discharge port, and can be removed manually. There is no need to do.

そして、吐出口に塗工液が付着していないため、次の塗工工程においても品質の良い塗工を行うことができる。 And since the coating liquid does not adhere to the discharge port, it is possible to perform high quality coating in the next coating process.

（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態の塗工ノズル清浄装置５０について説明する。 (Second Embodiment)
The coating nozzle cleaning apparatus 50 of the 2nd Embodiment of this invention is demonstrated.

本実施形態と第１の実施形態の異なる点は、除去ローラ５２の表面であって、かつ、バキュームドクター装置６４の後ろに、チャンバドクター装置７２を設けている点にある。 The difference between this embodiment and the first embodiment is that a chamber doctor device 72 is provided on the surface of the removing roller 52 and behind the vacuum doctor device 64.

このチャンバードクター装置７２は、除去ローラ５２の表面を覆うチャンバー室７４と、ドクターブレード７１と、このチャンバー室７４に洗浄液を送るポンプ７６と、チャンバー室７４に溜まった洗浄液を吸引して、循環タンク７８に送るポンプ８０とよりなる。なお、ポンプ７６は、循環タンク７８内の塗工液を送るものである。 The chamber doctor device 72 sucks the cleaning liquid accumulated in the chamber chamber 74 by sucking the cleaning liquid accumulated in the chamber chamber 74, a chamber 76 that covers the surface of the removal roller 52, a doctor blade 71, a pump 76 that sends the cleaning liquid to the chamber chamber 74. And a pump 80 for sending to 78. The pump 76 feeds the coating liquid in the circulation tank 78.

このチャンバードクター装置７２の役割は、バキュームドクター装置６４で洗浄された除去ローラ５２の表面を更に洗浄する。 The role of the chamber doctor device 72 is to further clean the surface of the removal roller 52 cleaned by the vacuum doctor device 64.

すなわち、除去ローラ５２の表面がチャンバー室７４に至ると、ポンプ７６で噴射された洗浄液が噴射されその表面を洗浄される。これによって完全に塗工液が除去される。この噴射された洗浄液はチャンバー室７４の下方に溜まり、ポンプ８０によって循環タンク７８に送られる。この場合に洗浄液には塗工液が混じっているため、フィルター８２を通して循環タンク７８に戻す。また、除去ローラ５２の表面をドクターブレード７１で更に洗浄する。 That is, when the surface of the removal roller 52 reaches the chamber chamber 74, the cleaning liquid sprayed by the pump 76 is sprayed to clean the surface. As a result, the coating solution is completely removed. The sprayed cleaning liquid accumulates below the chamber chamber 74 and is sent to the circulation tank 78 by the pump 80. In this case, since the coating liquid is mixed in the cleaning liquid, the liquid is returned to the circulation tank 78 through the filter 82. Further, the surface of the removing roller 52 is further cleaned with the doctor blade 71.

そして、第１の実施形態と同様にエアーフロー装置８４によって除去ローラ５２の表面を乾燥させる。 And the surface of the removal roller 52 is dried by the airflow apparatus 84 similarly to 1st Embodiment.

本実施形態であると、チャンバードクター装置７２によって更に除去ローラ５２を洗浄するため、より確実に塗工液が除去ローラに残ることがない。 In this embodiment, since the removal roller 52 is further cleaned by the chamber doctor device 72, the coating liquid does not remain on the removal roller more reliably.

（第３の実施形態）
第３の実施形態の塗工ノズル清浄装置５０について図５に基づいて説明する。 (Third embodiment)
The coating nozzle cleaning apparatus 50 of 3rd Embodiment is demonstrated based on FIG.

本実施形態では、除去ローラ５２の表面に拭き取り用ウエブ８６を走行させ、この拭き取り用ウエブ８６の表面に塗工ノズル１４を近接させて、吐出口１８から吐出される塗工液を付着させる。そして、塗工液が付着した拭き取り用ウエブ８６は回収ローラ８８によって回収する。 In the present embodiment, the wiping web 86 is run on the surface of the removing roller 52, the coating nozzle 14 is brought close to the surface of the wiping web 86, and the coating liquid discharged from the discharge port 18 is attached. Then, the wiping web 86 to which the coating liquid is attached is collected by the collection roller 88.

本実施形態であっても、拭き取り用ウエブ８６によって塗工液が除去されるため、塗工ノズル１４の吐出口１８近傍に塗工液が残ることがない。 Even in the present embodiment, since the coating liquid is removed by the wiping web 86, the coating liquid does not remain in the vicinity of the discharge port 18 of the coating nozzle 14.

（第４の実施形態）
第４の実施形態の塗工ノズル清浄装置５０について図６に基づいて説明する。 (Fourth embodiment)
The coating nozzle cleaning apparatus 50 of 4th Embodiment is demonstrated based on FIG.

本実施形態では、第３の実施形態とは異なり拭き取り用ウエブ８６を複数の案内ローラ９０によって案内し、２つの案内ローラ９０，９０の間を通過する拭き取り用ウエブ８６の下方に塗工ノズル１４が位置するようにする。そして、この近接位置の上方からポンプ９２によってタンク９４内の洗浄液をスプレー装置９６によって噴射する。 In this embodiment, unlike the third embodiment, the wiping web 86 is guided by a plurality of guide rollers 90, and the coating nozzle 14 is disposed below the wiping web 86 passing between the two guide rollers 90, 90. To be located. The cleaning liquid in the tank 94 is sprayed by the spray device 96 from above the proximity position by the pump 92.

本実施形態であると、拭き取り用ウエブ８６の下面に塗工ノズル１４からの塗工液が付着し、かつ、スプレー装置９６から拭き取り用ウエブの上面に洗浄液が噴射されるため、その拭き取りを確実に行うことができる。 In this embodiment, since the coating liquid from the coating nozzle 14 adheres to the lower surface of the wiping web 86 and the cleaning liquid is sprayed from the spray device 96 onto the upper surface of the wiping web, the wiping is ensured. Can be done.

この拭き取り用ウエブ８６は同じく回収ローラ８８によって回収する。 The wiping web 86 is also collected by the collection roller 88.

（第５の実施形態）
第５の実施形態の塗工装置１０について説明する。 (Fifth embodiment)
A coating apparatus 10 according to a fifth embodiment will be described.

第１の実施形態から第４の実施形態の塗工装置１０は、毛細管現象を利用して塗工ノズル１４の上端に開口した吐出口１８から吐出される塗工液を除去する構造である。 The coating apparatus 10 according to the first to fourth embodiments has a structure that removes the coating liquid discharged from the discharge port 18 opened at the upper end of the coating nozzle 14 using a capillary phenomenon.

これに対し本実施形態は、図７に示すように、毛細管現象とサイフォン現象を利用し、塗工ノズル１４の下端から吐出される塗工液を除去ローラ５２によって除去する。なお、この塗工ノズル清浄装置５０の構造は第１の実施形態と同様である。 On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 7, the coating liquid discharged from the lower end of the coating nozzle 14 is removed by the removing roller 52 using the capillary phenomenon and the siphon phenomenon. The structure of the coating nozzle cleaning device 50 is the same as that of the first embodiment.

塗工ノズル１４は、塗工ノズル１４の幅方向に毛管状隙間１６が設けられ、その下端に吐出口１８が設けられている。塗工タンク２２から供給された塗工液が、サイフォン管１０６、塗工ノズル１４の側部にある液入口９８に至り、この液入口９８から連結空間１００、連結口１０２を経て毛管状隙間１６に至る。このときに塗工タンク２２が大気に開放され、毛管状隙間１６の上端部も大気に開放され、かつ、塗工タンク２２内の塗工液の液高さが毛管状隙間１６の連結口１０２より高いためサイフォン現象により塗工液を吐出口１８から塗工できる。 The coating nozzle 14 is provided with a capillary gap 16 in the width direction of the coating nozzle 14, and a discharge port 18 is provided at the lower end thereof. The coating liquid supplied from the coating tank 22 reaches the liquid inlet 98 on the side of the siphon tube 106 and the coating nozzle 14, and the capillary gap 16 passes from the liquid inlet 98 through the connection space 100 and the connection port 102. To. At this time, the coating tank 22 is opened to the atmosphere, the upper end of the capillary gap 16 is also opened to the atmosphere, and the height of the coating liquid in the coating tank 22 is the connection port 102 of the capillary gap 16. Since it is higher, the coating liquid can be applied from the discharge port 18 by the siphon phenomenon.

なお、サイフォン現象を利用する場合に塗工タンク２２の高さを調整することにより、吐出口１８における塗工液に対する圧力が変化して塗工厚さを調整する。 In addition, when using the siphon phenomenon, the pressure with respect to the coating liquid in the discharge port 18 changes by adjusting the height of the coating tank 22, and the coating thickness is adjusted.

本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレー装置などの平面表示装置や半導体や長尺状のウエブに塗工液を塗工する塗工装置に好適である。 The present invention is suitable for flat display devices such as liquid crystal display devices, organic EL devices, and plasma display devices, and coating devices that apply a coating solution to a semiconductor or a long web.

第１の実施形態における塗工ノズル清浄装置の説明図である。It is explanatory drawing of the coating nozzle cleaning apparatus in 1st Embodiment. 同じく塗工装置の説明図である。It is explanatory drawing of a coating apparatus similarly. 塗工工程と待機工程を説明する図である。It is a figure explaining a coating process and a standby process. 第２の実施形態の塗工ノズル清浄装置の説明図である。It is explanatory drawing of the coating nozzle cleaning apparatus of 2nd Embodiment. 第３の実施形態の塗工ノズル清浄装置の説明図である。It is explanatory drawing of the coating nozzle cleaning apparatus of 3rd Embodiment. 第４の実施形態の塗工ノズル清浄装置の説明図である。It is explanatory drawing of the coating nozzle cleaning apparatus of 4th Embodiment. 第５の実施形態の塗工装置の説明図である。It is explanatory drawing of the coating apparatus of 5th Embodiment.

Explanation of symbols

１０塗工装置
１２サクションテーブル
１４塗工ノズル
１６毛管状隙間
１８吐出口
２２塗工タンク
３２液面センサ
３４供給パイプ
５０塗工ノズル清浄装置
５２除去ローラ
５４回転モータ
５６スプレー装置
５８洗浄液タンク
６０ポンプ
６２電磁弁
６４バキュームドクター装置
６６ドクターブレード
６８吸引タンク
７０バキューム装置
７２チャンバードクター装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Coating apparatus 12 Suction table 14 Coating nozzle 16 Capillary gap 18 Discharge port 22 Coating tank 32 Liquid level sensor 34 Supply pipe 50 Coating nozzle cleaning apparatus 52 Removal roller 54 Rotating motor 56 Spray apparatus 58 Cleaning liquid tank 60 Pump 62 Solenoid valve 64 Vacuum doctor device 66 Doctor blade 68 Suction tank 70 Vacuum device 72 Chamber doctor device

Claims

A coating nozzle cleaning device that cleans the coating liquid discharged from the coating nozzle when the coating nozzle of the coating device is not coating the plate-like substrate adsorbed by the suction table. There,
The suction table is rotatably disposed at one end of the connecting member, a removal roller is rotatably disposed at the other end of the connecting member, the base material is adsorbed on the upper surface of the suction table, and the suction table is rotated 180 degrees. The substrate is rotated and disposed below the suction table, and the coating nozzle is applied to the lower surface of the substrate while moving the suction table. Disposed above the discharge port of the work nozzle, rotated the suction table 180 degrees to rotate and move the substrate coated with the coating liquid on the upper surface of the suction table,
A removing means for removing the coating liquid adhering to the surface of the removing roller is arranged,
The coating nozzle cleaning apparatus, wherein the removing roller is rotated to cause the coating liquid discharged from the discharge port to adhere to the surface of the removing roller, and the attached coating liquid is removed by the removing means.

A spraying means for spraying a cleaning liquid onto the coating liquid attached to the surface of the removing roller is provided,
The coating nozzle cleaning apparatus according to claim 1, wherein the coating liquid is removed by the removing means after the cleaning liquid is sprayed to the coating liquid to which the removing roller is adhered.

The removing means is
A doctor blade that contacts the surface of the removal roller and scrapes off the coating liquid adhering to the surface of the removal roller;
The coating nozzle cleaning device according to claim 1, further comprising: a suction unit that sucks the coating liquid scraped off by the doctor blade.

Cleaning means for cleaning the surface of the removing roller is provided next to the removing means;
The cleaning means includes
A chamber covering the surface of the removal roller;
Cleaning liquid delivery means for sending the cleaning liquid into the chamber;
A doctor blade that scrapes off the cleaning liquid adhering to the surface of the removal roller in the chamber;
The coating nozzle cleaning apparatus according to claim 1, further comprising: a cleaning liquid suction unit that sucks the coating liquid scraped off by the doctor blade.

The said removal roller is distribute | arranged above the discharge outlet of the said coating nozzle. The coating nozzle cleaning apparatus of Claim 1 characterized by the above-mentioned.

The coating nozzle cleaning device according to claim 1, wherein the removing roller is disposed below a discharge port of the coating nozzle.

The coating nozzle has a capillary gap, and an end of the capillary gap is a discharge port,
The coating nozzle cleaning apparatus according to claim 1, wherein a coating liquid is applied to the object by a capillary phenomenon.

A coating nozzle cleaning device that cleans the coating liquid discharged from the coating nozzle when the coating nozzle of the coating device is not coating the plate-like substrate adsorbed by the suction table. There,
The suction table is rotatably disposed at one end of the connecting member, a removal roller is rotatably disposed at the other end of the connecting member, the base material is adsorbed on the upper surface of the suction table, and the suction table is rotated 180 degrees. The substrate is rotated and disposed below the suction table, and the coating nozzle is applied to the lower surface of the substrate while moving the suction table. Disposed above the discharge port of the work nozzle, rotated the suction table 180 degrees to rotate and move the substrate coated with the coating liquid on the upper surface of the suction table,
A wiping web is run by the removing roller, and the coating liquid discharged from the discharge port is attached to the wiping web.