JP4406232B2 - Ultraviolet curable polyester resin and method for producing the same, ultraviolet curable resin composition, cured product thereof and printed wiring board - Google Patents

Ultraviolet curable polyester resin and method for producing the same, ultraviolet curable resin composition, cured product thereof and printed wiring board Download PDF

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Description

本発明は、エチレン性不飽和基とカルボキシル基を併有する紫外線硬化性ポリエステル樹脂及びその製造方法、このポリエステル樹脂を含有する紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物及びこの硬化物からなる層を有するプリント配線板に関するものである。 The present invention relates to an ultraviolet curable polyester resin having both an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group and a production method thereof, an ultraviolet curable resin composition containing the polyester resin, a cured product of the ultraviolet curable resin composition, and the The present invention relates to a printed wiring board having a layer made of a cured product.

従来、フォトソルダーレジストインクからなる永久保護膜がベース基板上に形成されたプリント配線板が使用されている。このフォトソルダーレジストインクとしては、民生用及び産業用の各種プリント配線板の導体パターンの微細・高密度化に対応するために、解像性及び寸法精度等に優れた現像可能な液状のフォトソルダーレジストインク等が好んで用いられている。   Conventionally, a printed wiring board in which a permanent protective film made of photo solder resist ink is formed on a base substrate has been used. This photo solder resist ink is a developable liquid photo solder with excellent resolution and dimensional accuracy in order to cope with the fine and high density of the conductor pattern of various printed wiring boards for consumer and industrial use. Resist ink or the like is preferably used.

このようなプリント配線板は、従来、難燃成分として臭化物等のハロゲン化物を含んでいるため、燃焼時に有毒ガスを発生するものであったが、近年における環境問題や人体に対する安全性への関心の高まりに伴って、燃焼時に有毒ガスを発生しないプリント配線板が求められており、例えば脱ハロゲン化されたガラスエポキシ銅張積層板が開発されている。このような脱ハロゲン化されたベース基板には、ハロゲン系に替わる難燃剤としてリン系等の難燃剤が用いられたものが提案されている。   Such printed wiring boards have conventionally generated halides such as bromide as a flame retardant component, and thus generate toxic gases during combustion. However, in recent years, there has been concern for environmental problems and human safety. Along with this increase, printed wiring boards that do not generate toxic gas during combustion have been demanded. For example, dehalogenated glass epoxy copper clad laminates have been developed. As such a dehalogenated base substrate, a substrate in which a phosphorus-based flame retardant is used as a flame retardant instead of a halogen-based one has been proposed.

そして、更なる難燃性向上とハロゲン含有量低減への要請が高まるにつれて、永久保護被膜を形成するためのフォトソルダーレジストについても、難燃性を向上すると共にハロゲン含有量を低減することが求められるようになってきている。このような要請に応えるため、従来、難燃性成分としてリン化合物を含有したフォトソルダーレジストインクが提案されている。   As the demand for further flame retardancy improvement and halogen content reduction increases, the photo solder resist for forming a permanent protective film is also required to improve flame retardancy and reduce halogen content. It is getting to be. In order to meet such a demand, conventionally, a photo solder resist ink containing a phosphorus compound as a flame retardant component has been proposed.

このようなフォトソルダーレジストは、リンを含有することによりハロゲンに依存せずに難燃性を達成すると共に、露光・現像特性等の、フォトソルダーレジストとしての諸特性を兼ね備えている必要がある。   Such a photo solder resist needs to have various properties as a photo solder resist such as exposure / development characteristics as well as achieving flame retardance without depending on halogen by containing phosphorus.

このようなフォトソルダーレジストインクとしては、例えば特許文献1に開示されているものが提案されている。このフォトソルダーレジストインクは、エポキシ樹脂と不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させて得られる不飽和基含有ジオール化合物と、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル又はその重縮合体と、任意成分として前記以外のポリオール化合物と、1分子中に酸無水物基を少なくとも二つ有する化合物とを反応させて得られる不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を、樹脂成分として含有するものである。   As such a photo solder resist ink, for example, one disclosed in Patent Document 1 has been proposed. This photo solder resist ink comprises an unsaturated group-containing diol compound obtained by reacting an epoxy resin with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, and 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10. -Phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) -ester or a polycondensate thereof, a polyol compound other than the above as an optional component, and at least two acid anhydride groups in one molecule It contains an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin obtained by reacting a compound having two as a resin component.

このフォトソルダーレジストインクでは、主として、エポキシ樹脂と不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させて得られる不飽和基含有ジオール化合物によって不飽和結合が付与されることで露光硬化性が付与され、多塩基酸無水物によって水又は希アルカリ溶液に対する溶解性が付与され、更に2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル又はその重縮合体によって難燃性が付与される。   In this photo solder resist ink, exposure curability is imparted mainly by imparting an unsaturated bond by an unsaturated group-containing diol compound obtained by reacting an epoxy resin with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. The solubility in water or dilute alkaline solution is imparted by the basic acid anhydride, and 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthren-10-yl) methylsuccinic acid-bis- Flame retardancy is imparted by (2-hydroxyethyl) -ester or a polycondensate thereof.

ところでフォトソルダーレジストインクの性能を決める要因としては紫外線硬化性樹脂の酸価、分子量、二重結合当量等があり、酸価については低すぎると現像性不良となり、高すぎると電気特性、耐電蝕性及び耐水性等の低下の問題を生じる可能性がある。また、分子量については低すぎると感度が不足し易く、高すぎると現像性の低下の問題を生じる可能性が有る。また二重結合当量については、高すぎると感度が不足しやすくなる。これらの理由から紫外線硬化性樹脂を設計する際は、使用用途に応じて適度な酸価、分子量、二重結合当量等を持たせる必要が有る。
特開2000−327758号公報
By the way, the factors that determine the performance of the photo solder resist ink include the acid value, molecular weight, double bond equivalent, etc. of the UV curable resin. If the acid value is too low, developability will be poor, and if it is too high, the electrical characteristics and anticorrosion resistance will be. May cause problems such as deterioration in water resistance and water resistance. On the other hand, if the molecular weight is too low, the sensitivity tends to be insufficient, and if it is too high, there is a possibility of causing a problem of deterioration in developability. In addition, if the double bond equivalent is too high, the sensitivity tends to be insufficient. For these reasons, when designing an ultraviolet curable resin, it is necessary to have an appropriate acid value, molecular weight, double bond equivalent, etc. according to the intended use.
JP 2000-327758 A

上記の特許文献1に開示されているような不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂では、不飽和基含有ジオール化合物と、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル又はその重縮合体とは、共に1分子中に酸無水物基を少なくとも二つ有する化合物とのみ、反応するものであるから、得られる樹脂中の二重結合量を向上するために不飽和基含有ポリオール化合物の比率を上げようとすると、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル又はその重縮合体の比率が下がって難燃性が低下し、またこのリン化合物の比率を上げて難燃性を向上しようとすると、不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の比率を下げなければならず、二重結合当量が低下するものであった。また、これらの化合物の使用比率を変化させることによって、酸価、分子量も同時に変動し、所望の酸価を有する樹脂を得ることが困難であった。   In the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin as disclosed in Patent Document 1, the unsaturated group-containing diol compound and 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phos Faphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) -ester or a polycondensate thereof reacts only with a compound having at least two acid anhydride groups in one molecule. Therefore, when an attempt is made to increase the ratio of the unsaturated group-containing polyol compound in order to improve the double bond amount in the resulting resin, 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10- The ratio of phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) -ester or its polycondensate decreases, flame retardancy decreases, and When you try to improve the flame retardancy by increasing the proportion of the phosphorus compound, it is necessary to lower the proportion of unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin was achieved, double bond equivalent decreases. Further, by changing the use ratio of these compounds, the acid value and the molecular weight also fluctuate at the same time, and it was difficult to obtain a resin having a desired acid value.

以上のことから、上記の特許文献1に開示されているような手法では、所望の特性を有する樹脂を得るための原料の組み合わせは限られていて、使用する原料が同一であれば得られる樹脂の特性を所望のものに適宜制御することは困難なものであり、材料設計の自由度が低くなってしまうものであった。また、このため、材料の設計変更を行う場合には、まず原料の選択から検討し直さなければならず、非常に煩雑な手間がかかると共に、安定した原料調達を行うことも困難になってしまうものであった。   From the above, in the method as disclosed in Patent Document 1 above, the combination of raw materials for obtaining a resin having desired characteristics is limited, and the resin obtained if the raw materials to be used are the same Therefore, it is difficult to appropriately control the characteristics to desired ones, and the degree of freedom in material design is reduced. For this reason, when changing the design of a material, it is necessary to first reexamine the selection of raw materials, which is very troublesome and makes it difficult to procure stable raw materials. It was a thing.

本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、解像性、感度、半田耐熱性、基板密着性、耐薬品性、耐電蝕性等の諸特性に優れると共に、特に優れた難燃性を示す硬化物を形成することができ、且つ、酸価、分子量、二重結合当量等とリン含有量を独立して設計することが容易となって、材料設計の自由度が高く、特にフォトソルダーレジストインク、プリント配線板の層間絶縁材料、カラーフィルター用レジストインクとして好適に用いることができる希アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂組成物を調製することができる紫外線硬化性ポリエステル樹脂及びその製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above points, and is excellent in various properties such as resolution, sensitivity, solder heat resistance, substrate adhesion, chemical resistance, and corrosion resistance, and particularly excellent flame retardancy. Can be formed, and the acid value, molecular weight, double bond equivalent, etc. and phosphorus content can be easily designed independently, and the degree of freedom in material design is high. UV curable polyester resin capable of preparing an ultraviolet curable resin composition developable with a dilute alkaline aqueous solution that can be suitably used as a photo solder resist ink, an interlayer insulating material for a printed wiring board, and a resist ink for a color filter, and The object is to provide a manufacturing method thereof.

更に本発明は、上記紫外線硬化性ポリエステル樹脂にて調製され、フォトソルダーレジストインク、プリント配線板の層間絶縁材料、カラーフィルター用等のレジストインク等に使用することができ、特に脱ハロゲン化ベース基板と組み合わせてプリント配線板とした際の難燃性を向上し得るフォトソルダーレジストインクとして好適に用いることができる希アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物にて形成される硬化物、及びこの硬化物による層が形成されたプリント配線板を提供することを目的とするものである。 Furthermore, the present invention is prepared with the above ultraviolet curable polyester resin, and can be used for a photo solder resist ink, an interlayer insulating material for a printed wiring board, a resist ink for a color filter, and the like. UV curable resin composition developable with dilute alkaline aqueous solution that can be suitably used as a photo solder resist ink that can improve flame retardancy when used as a printed wiring board in combination with the UV curable resin composition It is an object of the present invention to provide a cured product formed in this manner and a printed wiring board on which a layer of the cured product is formed.

本発明に係るポリエステル樹脂の製造方法は、下記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)とを反応させた後、この反応で得られる化合物における一部のカルボキシル基に1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)を反応させることを特徴とするものである。1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)は、無水ピロメリット酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物から選択される。1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)はグリシジルメタクリレートである。 The method for producing a polyester resin according to the present invention comprises reacting a polyol compound (a) having a structure represented by the following structural formula (1) with a compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule. Then, a monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule is reacted with some of the carboxyl groups in the compound obtained by this reaction. Compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule is pyromellitic anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1, Selected from 2-dicarboxylic anhydride. The monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule is glycidyl methacrylate.

Figure 0004406232
Figure 0004406232

また本発明に係るポリエステル樹脂は、上記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)とを反応させて得られる化合物における一部のカルボキシル基に1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)を反応させて得られることを特徴とするものである。1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)は、無水ピロメリット酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物から選択される。1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)はグリシジルメタクリレートである。 The polyester resin according to the present invention is obtained by reacting a polyol compound (a) having the structure represented by the structural formula (1) with a compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule. It is obtained by reacting a monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule with some of the carboxyl groups in the obtained compound. Compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule is pyromellitic anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1, Selected from 2-dicarboxylic anhydride. The monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule is glycidyl methacrylate.

また本発明に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記の紫外線硬化性ポリエステル樹脂Aと、光重合開始剤Dと、希釈剤Eとの各成分を含有することを特徴とするものである。 Moreover, the ultraviolet curable resin composition which concerns on this invention contains each component of said ultraviolet curable polyester resin A, the photoinitiator D, and the diluent E, It is characterized by the above-mentioned.

また上記紫外線硬化性樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合を有する紫外線硬化性樹脂Bを含有しても良い。   Moreover, the said ultraviolet curable resin composition may contain the ultraviolet curable resin B which has an ethylenically unsaturated bond.

また上記紫外線硬化性樹脂組成物は、多官能エポキシ化合物Cを含有しても良い。   The ultraviolet curable resin composition may contain a polyfunctional epoxy compound C.

また上記紫外線硬化性樹脂組成物は、プリント配線板用フォトソルダーレジストインクとして調製されても良い。   Moreover, the said ultraviolet curable resin composition may be prepared as a photo soldering resist ink for printed wiring boards.

また本発明に係る硬化物は、上記のような紫外線硬化性樹脂組成物を硬化成形して成ることを特徴とする。   The cured product according to the present invention is obtained by curing and molding the ultraviolet curable resin composition as described above.

また、本発明に係るプリント配線板は、上記のような硬化物からなる層を有することを特徴とするものである。   Moreover, the printed wiring board according to the present invention is characterized by having a layer made of the cured product as described above.

本発明に係る紫外線硬化性ポリエステル樹脂及びその製造方法では、上記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)とを反応させた後、この反応で得られる化合物における一部のカルボキシル基に1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)を反応させることで紫外線硬化性ポリエステル樹脂を得るため、この紫外線硬化性ポリエステル樹脂に紫外線硬化性とアルカリ可溶性とを付与すると共に、その硬化物に良好な解像性、感度、半田耐熱性、基板密着性、耐薬品性、耐電蝕性等の諸特性を付与することができ、更に、ハロゲンを含有することなく優れた難燃性を示す硬化物を形成することができるものである。 In the ultraviolet curable polyester resin and the method for producing the same according to the present invention, the polyol compound (a) having the structure represented by the structural formula (1) and the compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule ) And then reacting with a monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule with a part of the carboxyl groups in the compound obtained by this reaction . to obtain the polyester resin, thereby imparting an ultraviolet-curable and an alkali soluble in the ultraviolet-curing polyester resin, good resolution in the cured product, sensitivity, solder heat resistance, substrate adhesion, chemical resistance, withstanding Various properties such as corrosion can be imparted, and further, a cured product exhibiting excellent flame retardancy can be formed without containing halogen.

しかも、酸価、分子量、二重結合当量等とリン含有量を独立して設計することが容易となって、材料設計の自由度が高くなるものである。   In addition, it becomes easy to design the acid content, molecular weight, double bond equivalent, etc. and phosphorus content independently, and the degree of freedom in material design is increased.

従って、この紫外線硬化性ポリエステル樹脂は、特にフォトソルダーレジストインク、プリント配線板の層間絶縁材料、カラーフィルター用レジストインクとして好適な紫外線硬化性樹脂組成物を調製するために好適に用いることができるものである。 Therefore, this ultraviolet curable polyester resin can be suitably used for preparing an ultraviolet curable resin composition particularly suitable as a photo solder resist ink, an interlayer insulating material for printed wiring boards, and a resist ink for color filters. It is.

また、本発明に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、上記の紫外線硬化性ポリエステル樹脂Aと、光重合開始剤Dと、希釈剤Eとの各成分を含有するため、紫外線硬化性とアルカリ可溶性とを兼ね備え、且つその硬化物には優れた硬度、耐熱性、及び基材への密着性が付与されるものであり、また特にその硬化物には、ハロゲンを含有することなく優れた難燃性を付与することができ、特にプリント配線板のソルダーレジスト形成用途に好適に用いることができるものである。 Moreover, since the ultraviolet curable resin composition according to the present invention contains the components of the ultraviolet curable polyester resin A, the photopolymerization initiator D, and the diluent E, the ultraviolet curable and alkali-soluble components are included. In addition, the cured product has excellent hardness, heat resistance, and adhesion to the substrate, and the cured product particularly has excellent flame retardancy without containing halogen. In particular, it can be suitably used for a solder resist forming application of a printed wiring board.

しかも、紫外線硬化性ポリエステル樹脂Aの合成時には酸価、分子量、二重結合当量等とリン含有量を独立して設計することが容易となって、材料設計の自由度が高くなるものである。 Moreover, at the time of synthesis of the ultraviolet curable polyester resin A, it becomes easy to independently design the acid value, molecular weight, double bond equivalent and the phosphorus content, and the degree of freedom in material design is increased.

また、上記紫外線硬化性樹脂組成物には、エチレン性不飽和結合を有する紫外線硬化性樹脂Bを含有させることができ、これにより、紫外線硬化性の調整、及び硬化物の物性の調整を行うことができるものである。   Further, the ultraviolet curable resin composition can contain an ultraviolet curable resin B having an ethylenically unsaturated bond, thereby adjusting the ultraviolet curable property and the physical properties of the cured product. It is something that can be done.

また、上記紫外線硬化性樹脂組成物には、多官能エポキシ化合物Cを含有させることもでき、これにより、紫外線硬化性樹脂に熱硬化性を付与することができ、紫外線硬化後に更に熱硬化させることにより硬化物の強度、硬度、耐薬品性等の硬化物特性を更に向上することができるものである。   In addition, the ultraviolet curable resin composition may contain a polyfunctional epoxy compound C, whereby thermosetting can be imparted to the ultraviolet curable resin, and further heat-cured after ultraviolet curing. Thus, the cured product properties such as strength, hardness and chemical resistance of the cured product can be further improved.

また、上記紫外線硬化性樹脂組成物は、プリント配線板用フォトソルダーレジストインクとして調製されても良く、この場合、プリント配線板のソルダーレジスト形成用途として優れた特性を有し、特に難燃性に優れたソルダーレジストを形成することができるものである。   Further, the ultraviolet curable resin composition may be prepared as a photo solder resist ink for a printed wiring board. In this case, the ultraviolet curable resin composition has excellent characteristics as a solder resist forming application for a printed wiring board, particularly in flame retardancy. An excellent solder resist can be formed.

また、本発明に係る硬化物は、上記のような紫外線硬化性樹脂組成物を硬化成形したものであり、これにより、プリント配線板のソルダーレジスト用途として優れた特性を有し、特に難燃性に優れるものである。   Further, the cured product according to the present invention is obtained by curing and molding the ultraviolet curable resin composition as described above, and thereby has excellent characteristics as a solder resist application for a printed wiring board, particularly flame retardant. It is excellent.

また、本発明に係るプリント配線板は、上記のような硬化物からなる層を有するものであり、この硬化物からなる層によってプリント配線板に、優れた難燃性を有する共に良好な皮膜特性を有するソルダーレジストを形成することができるものである。   Moreover, the printed wiring board according to the present invention has a layer made of the cured product as described above, and the layer made of the cured product has excellent flame retardancy on the printed wiring board. The solder resist which has can be formed.

以下、本発明の実施の形態を説明する。尚、本明細書において、(メタ)アクリ−とある場合は、アクリ−とメタクリ−を総称するものであり、例えば(メタ)アクリル酸とある場合は、アクリル酸とメタクリル酸を総称したものである。   Embodiments of the present invention will be described below. In this specification, (meth) acrylic is a generic term for acrylic and methacrylic. For example, (meth) acrylic acid is a generic term for acrylic acid and methacrylic acid. is there.

〔A.紫外線硬化性ポリエステル樹脂〕
本発明に係るポリエステル樹脂Aは、下記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)とを反応させて得られる化合物における一部のカルボキシル基に1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)を反応させることによって得られる。
[A. (UV curable polyester resin)
The polyester resin A according to the present invention is obtained by reacting a polyol compound (a) having a structure represented by the following structural formula (1) with a compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule. It can be obtained by reacting some of the carboxyl groups in the resulting compound with a monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.

Figure 0004406232
Figure 0004406232

上記の(a)乃至(d)の各成分としては、ポリエステル樹脂に対して所望の性能を付与することができるように、適宜のものを選択して使用することができるが、例えば次に示すようなものを用いることができる。   As each of the above components (a) to (d), an appropriate one can be selected and used so that desired performance can be imparted to the polyester resin. Such a thing can be used.

上記の反応において、ポリオール化合物(a)と化合物(c)とを反応させる際には、併せて前記ポリオール化合物(a)以外のポリオール化合物(b)も共に反応させても良い。   In the above reaction, when the polyol compound (a) and the compound (c) are reacted, the polyol compound (b) other than the polyol compound (a) may be reacted together.

また、ポリオール化合物(a)と化合物(c)との化合物、又はポリオール化合物(a)とポリオール化合物(b)と化合物(c)との化合物にモノエポキシ化合物(d)を反応させる際には、併せてモノエポキシ化合物(d)以外のモノエポキシ化合物(e)を反応させても良い。

〈ポリオール化合物(a)〉
上記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)は、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸或いはその酸無水物と、エチレングリコールとの縮重合物、又は2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル、或いはその重縮合によって得られる重合物である。
When the monoepoxy compound (d) is reacted with the compound of the polyol compound (a) and the compound (c) or the compound of the polyol compound (a), the polyol compound (b) and the compound (c), In addition, a monoepoxy compound (e) other than the monoepoxy compound (d) may be reacted.

<Polyol compound (a)>
The polyol compound (a) having the structure represented by the above structural formula (1) is 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid or its A polycondensation product of an acid anhydride and ethylene glycol, or 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthren-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxy) Ethyl) -ester, or a polymer obtained by polycondensation thereof.

上記重縮合反応は、具体的に説明すると、例えば2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルを反応容器に加えて徐々に昇温加熱し、次いで例えば6.7hPa(5mmHg)以下の減圧下、反応の進行により生成するエチレングリコールを反応系外に留去しながら、160〜280℃の温度範囲内で加熱を行うことで、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの共重合物が得られる。   The polycondensation reaction will be specifically described. For example, 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) ) -Ester is added to the reaction vessel, and the temperature is gradually raised and heated. 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) by heating within the temperature range of ° C. An ester copolymer is obtained.

なお、この反応においては、任意の時期に触媒として、従来公知のチタン、アンチモン、鉛、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、マンガン、アルカリ金属等を加えても良い。   In this reaction, conventionally known titanium, antimony, lead, zinc, magnesium, calcium, manganese, alkali metal, or the like may be added as a catalyst at any time.

〈ポリオール化合物(b)〉
ポリオール化合物(a)以外のポリオール化合物(b)は、耐熱性やフレキシブル性等の諸特性の向上を図るためなどに、適宜任意に用いられる。このようなポリオール化合物(b)としては、適宜のものを用いることができ、特に制限はされないが、例えば1分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(s)と、1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸(t)とを反応させて得られる不飽和基含有ポリオール化合物(b1)と、前記不飽和基含有ポリオール化合物(b1)以外のポリオール化合物(b2)を挙げることができる。
<Polyol compound (b)>
The polyol compound (b) other than the polyol compound (a) is appropriately used arbitrarily in order to improve various properties such as heat resistance and flexibility. As such a polyol compound (b), an appropriate one can be used and is not particularly limited. For example, a compound (s) having two epoxy groups in one molecule and one in one molecule An unsaturated group-containing polyol compound (b 1 ) obtained by reacting the above monocarboxylic acid (t) having an ethylenically unsaturated group and a polyol compound other than the unsaturated group-containing polyol compound (b 1 ) ( b 2 ).

1分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(s)としては、ジグリシジルエーテル類、ジグリシジルエステル類、ジグリシジルアミン類等を用いることができる。 ジグリシジルエーテル類は、ポリオール化合物のジグリシジルエーテルであり、例えばポリオール化合物とエピクロルヒドリンとを反応させることにより得られる。ポリオール化合物としては適宜のものを選択して用いられるが、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA等のビスフェノール類;前記ビスフェノール類の水添物、エチレンオキサイド変性物、ポリエチレンオキサイド変性物、プロピレンオキサイド変性物、ポリプロピレンオキサイド変性物、カプロラクトン変性物、ポリカプロラクトン変性物等;ビフェノール、テトラメチルビスフェノール、テトラアルキルビフェノール等のビフェノール類;エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の(ポリ)アルキレングリコール類;ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ナフタレンジオール等を挙げることができる。   As the compound (s) having two epoxy groups in one molecule, diglycidyl ethers, diglycidyl esters, diglycidyl amines and the like can be used. Diglycidyl ethers are diglycidyl ethers of polyol compounds, and can be obtained, for example, by reacting a polyol compound with epichlorohydrin. As the polyol compound, an appropriate one can be selected and used. For example, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and tetrabromobisphenol A; hydrogenated products of the bisphenols, ethylene oxide modified products, polyethylene oxide modified products Products, propylene oxide modified products, polypropylene oxide modified products, caprolactone modified products, polycaprolactone modified products, etc .; biphenols such as biphenol, tetramethylbisphenol, tetraalkylbiphenol; ethylene glycol, propylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene (Poly) alkylene glycols such as glycol and polytetramethylene glycol; neopentyl glycol, 1,6- Hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol may be mentioned 1,4-cyclohexanedimethanol, naphthalene diol and the like.

グリシジルエステル類は、ポリカルボキシル化合物のジグリシジルエステルであり、例えばポリカルボン酸とエピクロルヒドリンとを反応させることにより得られる。ポリカルボキシル化合物としては適宜のものが用いられるが、例えばフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、コハク酸、マレイン酸等を挙げることができる。   Glycidyl esters are diglycidyl esters of polycarboxyl compounds, and can be obtained, for example, by reacting polycarboxylic acid with epichlorohydrin. As the polycarboxyl compound, an appropriate one is used, and examples thereof include phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, succinic acid, maleic acid and the like. .

またジグリシジルアミン類は、例えばポリアミノ化合物とエピクロルヒドリンとを反応させることにより得られる。ポリアミノ化合物としては、例えばアニリン、o−トルイジン等が挙げられる。   Diglycidylamines can be obtained, for example, by reacting a polyamino compound and epichlorohydrin. Examples of the polyamino compound include aniline and o-toluidine.

1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸(t)としては、適宜のものが用いられるが、例えば(メタ)アクリル酸類、二塩基酸無水物と水酸基含有(メタ)アクリレート類とを反応させて得られる半エステル類、二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート類とを反応させて得られる半エステル類等を挙げることができる。   As the monocarboxylic acid (t) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule, suitable ones are used. For example, (meth) acrylic acid, dibasic acid anhydride and hydroxyl group-containing (meth) Examples include half esters obtained by reacting acrylates, half esters obtained by reacting dibasic acids and monoglycidyl (meth) acrylates, and the like.

(メタ)アクリル酸類としては、例えば、(メタ)アクリル酸、アクリル酸の二量体、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸等が挙げられる。   Examples of (meth) acrylic acids include (meth) acrylic acid, dimers of acrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-furfurylacrylic acid, and the like.

二塩基酸無水物と水酸基含有(メタ)アクリレート類とを反応させて得られる半エステル類の調製に用いられる二塩基酸無水物としては、適宜の飽和または不飽和の二塩基酸無水物を使用することができ、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。また水酸基含有(メタ)アクリレート類も適宜のものが使用できるが、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、フェニルグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As a dibasic acid anhydride used for the preparation of half esters obtained by reacting a dibasic acid anhydride with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, an appropriate saturated or unsaturated dibasic acid anhydride is used. For example, succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, methylendomethylenetetrahydroanhydride Examples include phthalic acid. Further, suitable hydroxyl group-containing (meth) acrylates can be used. For example, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, glycerin di ( Examples thereof include (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and (meth) acrylate of phenylglycidyl ether.

また二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート類とを反応させて得られる半エステル類の調製に用いられる二塩基酸としては、適宜の飽和又は不飽和の二塩基酸を使用することができ、例えばコハク酸、マレイン酸、アジピン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、イタコン酸、フマル酸等が挙げられる。またモノグリシジル(メタ)アクリレート類も適宜のものを使用することができ、例えばグリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等があげられる。またその他としては、クロトン酸、桂皮酸等が挙げられる。   Moreover, as a dibasic acid used for the preparation of half esters obtained by reacting a dibasic acid with monoglycidyl (meth) acrylates, an appropriate saturated or unsaturated dibasic acid can be used, Examples include succinic acid, maleic acid, adipic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, itaconic acid, fumaric acid and the like. Monoglycidyl (meth) acrylates can also be used as appropriate. For example, glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, (3,4 -Epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate and the like. Other examples include crotonic acid and cinnamic acid.

これらのモノカルボン酸(t)のうち、特に(メタ)アクリル酸を用いることが好ましい。   Of these monocarboxylic acids (t), it is particularly preferable to use (meth) acrylic acid.

上記のような1分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(s)と、1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸(t)とを反応させて不飽和基含有ポリオール化合物(b1)を得るにあたっては、(s)成分と(t)成分との反応比率は特に制限されないが、特に(s)成分の1エポキシ当量に対して(t)成分の化学当量が0.7〜1.2の範囲となるようにすることが好ましい。 A compound (s) having two epoxy groups in one molecule as described above and a monocarboxylic acid (t) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule are reacted to produce an unsaturated group. In obtaining the contained polyol compound (b 1 ), the reaction ratio between the (s) component and the (t) component is not particularly limited, but in particular, the chemical equivalent of the (t) component with respect to 1 epoxy equivalent of the (s) component. Is preferably in the range of 0.7 to 1.2.

このときの化学反応式の一例を下記に示す。尚、式中のR4〜R8は任意の置換基を示す。 An example of the chemical reaction formula at this time is shown below. In addition, R < 4 > -R < 8 > in a formula shows arbitrary substituents.

Figure 0004406232
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この(s)成分と(t)成分との反応時には、希釈剤として、光重合性単量体及び有機溶剤のうちの一方又は双方を用いることができる。   At the time of reaction of this (s) component and (t) component, one or both of a photopolymerizable monomer and an organic solvent can be used as a diluent.

このような希釈剤として光重合性単量体を用いる場合は、適宜のものが用いられるが、例えばN−ビニルピロリドン、(メタ)アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、メラミン(メタ)アクリレート、及びジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロペンテニルモノ(メタ)アクリレート、シクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、シクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、及びポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   When a photopolymerizable monomer is used as such a diluent, an appropriate one is used. For example, N-vinylpyrrolidone, (meth) acryloylmorpholine, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, melamine (meth) acrylate, and diethylene glycol di (meth) acrylate, tri Ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl ) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclopentenyl mono (meth) acrylate, cyclopentanyl di (meth) acrylate, cyclopentenyl di (meth) acrylate, and Examples thereof include polyester (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate.

また希釈剤として有機溶剤を用いる場合には、適宜のものが用いられるが、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;スワゾールシリーズ(丸善石油化学社製)、ソルベッソシリーズ(エクソン・ケミカル社製)等の石油系芳香族系混合溶剤;プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類;ジアルキルグリコールエーテル類等を挙げることができ、これらを一種単独で用い、又は二種以上を併用することができる。   In addition, when an organic solvent is used as a diluent, appropriate ones are used. For example, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene Petroleum-based aromatic mixed solvents such as Swazol series (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) and Solvesso series (manufactured by Exxon Chemical Co.); propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol Glycol ethers such as diethyl ether; Acetic esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate; Dialkyl glycol Ether, and the like can be exemplified, and these used alone or may be used in combination of two or more.

更に、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましい。触媒としてはベンジルジメチルアミン、トリメチルアミン等の第3級アミン類;トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライドとの第4級アンモニウム塩類;トリフェニルフォスフィン、トリフェニルスチビン等が挙げられる。   Furthermore, it is preferable to use a catalyst to accelerate the reaction. Examples of the catalyst include tertiary amines such as benzyldimethylamine and trimethylamine; quaternary ammonium salts with trimethylbenzylammonium chloride and methyltriethylammonium chloride; triphenylphosphine and triphenylstibine.

このような触媒の使用量は、反応原料混合物に対して好ましくは0.1〜10重量%である。   The amount of such a catalyst used is preferably 0.1 to 10% by weight based on the reaction raw material mixture.

また反応中の重合を防止する目的で重合禁止剤を使用することも好ましい。重合禁止剤としてハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等が挙げられる。また重合禁止剤の使用量は、反応原料混合物に対して0.01〜1重量%が好ましい。   It is also preferable to use a polymerization inhibitor for the purpose of preventing polymerization during the reaction. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether. The amount of the polymerization inhibitor used is preferably 0.01 to 1% by weight based on the reaction raw material mixture.

(s)成分と(t)成分を反応させて不飽和基含有ポリオール化合物(b1)を得るにあたっては、常法により、好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃の反応温度で反応させる。また反応時間は好ましくは5〜60時間とする。 In obtaining the unsaturated group-containing polyol compound (b 1 ) by reacting the component (s) with the component (t), the reaction temperature is preferably 60 to 150 ° C., particularly preferably 80 to 120 ° C., by a conventional method. React. The reaction time is preferably 5 to 60 hours.

また前記不飽和基含有ポリオール化合物(b1)以外のポリオール化合物(b2)としては、例えばアルキルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリブタジエンポリオール、フェノーリックポリオール、シリコーンポリオール、ウレタンポリオール等を挙げることができ、これらのうちの一種を用い、又は二種以上を併用することができる。 Examples of the polyol compound (b 2 ) other than the unsaturated group-containing polyol compound (b 1 ) include alkyl polyols, polyester polyols, polyether polyols, polybutadiene polyols, phenolic polyols, silicone polyols and urethane polyols. One of these can be used, or two or more can be used in combination.

上記のアルキルポリオールとしては、例えば1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等が挙げられる。   Examples of the alkyl polyol include 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl 1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. Dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid and the like.

またポリエステルポリオールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングルコール等;ビスフェノールA、水添ビスフェノールA、ビスフェノールF、水添ビスフェノールF等のビスフェノール類のエチレンオキサイド変性物、プロピレンオキサイド変性物等を挙げることができる。   Polyester polyols include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, etc .; bisphenols such as bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, hydrogenated bisphenol F, and the like. Examples thereof include oxide-modified products and propylene oxide-modified products.

またポリブタジエンポリオールは、末端に水酸基を有するブタジエンのホモ又はコポリマーであり、またフェノーリックポリオールは、分子内にフェノール分子を含有するポリオールであり、またシリコーンポリオールは末端に水酸基を有するシロキサン化合物である。   The polybutadiene polyol is a butadiene homo- or copolymer having a hydroxyl group at the terminal, the phenolic polyol is a polyol containing a phenol molecule in the molecule, and the silicone polyol is a siloxane compound having a hydroxyl group at the terminal.

またウレタンポリオールとしては、上記に列挙したようなポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物との反応物を挙げることができる。ポリオールと反応させるポリイソシアネート化合物としては、2,4−及び/又は2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ポリメリックMDI、1,5−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添XDI、水添MDI、リジンジイソシアネート等が挙げられる。これらポリイソシアネート化合物は、単独で用い又は2種以上を併用することができる。   Moreover, as a urethane polyol, the reaction material of a polyol compound as enumerated above and a polyisocyanate compound can be mentioned. Examples of the polyisocyanate compound to be reacted with the polyol include 2,4- and / or 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), polymeric MDI, 1,5-naphthylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, Examples include 1,6-hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, hydrogenated MDI, and lysine diisocyanate. These polyisocyanate compounds can be used alone or in combination of two or more.

反応によりウレタンポリオールを調製する場合には、前記ポリオール化合物の水酸基1当量に対して、ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基の当量が0.5当量以上1.0当量未満になるように反応させることが好ましい。このウレタン化反応は常法により、反応温度は好ましくは50〜90℃で1〜20時間反応させる。このとき、トリエチルアミン、ジブチルスズラウレート、ジブチルスズジアセテート等の触媒を添加しても良い。   When preparing urethane polyol by reaction, it is preferable to react so that the equivalent of the isocyanate group of the polyisocyanate compound is 0.5 equivalent or more and less than 1.0 equivalent with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group of the polyol compound. . This urethanization reaction is carried out by a conventional method, and the reaction temperature is preferably 50 to 90 ° C. for 1 to 20 hours. At this time, a catalyst such as triethylamine, dibutyltin laurate or dibutyltin diacetate may be added.

その他としてはグリセロールモノ(メタ)アクリレートを挙げることができる。   Other examples include glycerol mono (meth) acrylate.

〈1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)〉
1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)としては、適宜のものが用いられるが、例えば無水ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物(大日本インキ化学工業株式会社製;品番「エピクロンB−4400」)、新日本理化株式会社製の品番「リカシッドTDA−100」及び品番「TMTA−C」等が挙げられる。
<Compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule>
As the compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule, suitable compounds can be used. For example, pyromellitic anhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride , Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, diphenylmethane tetracarboxylic dianhydride, butane tetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl ) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, product number "EPICLON B-4400"), New Japan Chemical Co., Ltd. No. "likasi head TDA -100 "and product number" TMTA-C ".

〈モノエポキシ化合物(d)〉
1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)としては、適宜のものが用いられるが、例えばグリシジル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、エポキシ化ステアリルアクリレート(新日本理化株式会社製;品番「リカレジンESA」)等を挙げることができる。
<Mono epoxy compound (d)>
The monoepoxy compound having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule (d), although those suitable are used, for example, glycidyl (meth) acrylate, (3,4-epoxy Shishi Kurohekishiru) methyl ( (Meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, allyl glycidyl ether, epoxidized stearyl acrylate (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd .; product number “Rikaresin ESA”) Can do.

〈モノエポキシ化合物(e)〉
上記の1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)以外のモノエポキシ化合物(e)、すなわちエチレン性不飽和基を有さないモノエポキシ化合物(e)としては、適宜のものが用いられるが、例えば、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、sec−ブチルグルシジルエーテルp−ターシャリーブチルフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、高級アルコールグリシジルエーテル(坂本薬品工業株式会社製;品番「SY−35M」及び「SY−25L」)等のアルキルグリシジルエーテル類;エチレンオキサイド変性フェニルグリシジルエーテル(ナガセ化成工業株式会社製;品番「デナコールEX−145」)、エチレンオキサイド変性ラウリルグリシジルエーテル(ナガセ化成工業株式会社製;品番「デナコールEX−171」)等のエチレンオキサイド変性アルキルグリシジルエーテル類;品番AOEシリーズ(ダイセル化学工業株式会社製)等の長鎖アルキル基を有するモノエポキシ化合物;モノカルボン酸とエピクロルヒドリンとの反応により得られるモノグリシジルエステル類;その他グリシドール、スチレンオキサイド、グリシジルフタルイミド等を挙げることができ、これらを単独で又は組み合わせて用いることができる。
<Mono epoxy compound (e)>
As the monoepoxy compound (e) other than the monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule, that is, the monoepoxy compound (e) having no ethylenically unsaturated groups, For example, methyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, sec-butyl glycidyl ether p-tertiary butyl phenyl glycidyl Alkyl glycidyl ethers such as ether, cresyl glycidyl ether, higher alcohol glycidyl ether (manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd .; product numbers “SY-35M” and “SY-25L”); ethylene oxide-modified phenyl glycy Ethylene oxide-modified alkyl glycidyl ethers such as Ruether (manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd .; product number “Denacol EX-145”), ethylene oxide-modified lauryl glycidyl ether (manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd .; product number “Denacol EX-171”); Monoepoxy compounds having a long-chain alkyl group such as part number AOE series (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.); monoglycidyl esters obtained by reaction of monocarboxylic acid and epichlorohydrin; other glycidol, styrene oxide, glycidyl phthalimide, etc. These can be used alone or in combination.

〈合成〉
上記のポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)とを反応させる場合の化学反応式の一例を次に示す。尚、式中のR1、R2は任意の置換基である。
<Synthesis>
An example of a chemical reaction formula in the case of reacting the above polyol compound (a) with the compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule is shown below. In the formula, R 1 and R 2 are arbitrary substituents.

Figure 0004406232
Figure 0004406232

上記の反応は、ポリオール化合物(a)と化合物(c)とを反応させる際に、併せて前記ポリオール化合物(a)以外のポリオール化合物(b)も共に反応させた場合を示している。   Said reaction has shown the case where polyol compound (b) other than the said polyol compound (a) is made to react together, when making a polyol compound (a) and a compound (c) react.

ここで、上記式中の(a’)、(b’)及び(c’)は生成される化合物の構成単位であり、x、y、zは化合物中の各構成単位の数を示すが、上記の式は便宜的なものであり、この化合物中では、(a’)に対しては(c’)のみが結合され、(b’)に対しては(c’)のみが結合され、(c’)に対しては(a’)、(b’)が結合される。   Here, (a ′), (b ′) and (c ′) in the above formula are structural units of the compound to be produced, and x, y and z represent the number of each structural unit in the compound, The above formula is convenient, and in this compound, only (c ′) is bound to (a ′), only (c ′) is bound to (b ′), (C ') is combined with (a') and (b ').

このような反応の際には、(a)成分((b)成分を併用する場合は(a)成分及び(b)成分)の水酸基の合計に対して、水酸基1当量あたり前記(c)成分の酸無水物基を0.1以上1.0未満当量反応させるのが好ましい。このときの反応温度は好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃とし、反応時間は1〜10時間とすることが好ましい。この反応時には、トリエチルアミン等の触媒を0.1〜10重量%の範囲で添加してもよい。   In the case of such a reaction, the component (c) per equivalent of hydroxyl groups with respect to the total of hydroxyl groups of the component (a) (when the component (b) is used in combination, the component (a) and the component (b)) It is preferable to react the acid anhydride group of at least 0.1 and less than 1.0 equivalent. The reaction temperature at this time is preferably 60 to 150 ° C., particularly preferably 80 to 120 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 10 hours. During this reaction, a catalyst such as triethylamine may be added in the range of 0.1 to 10% by weight.

そして、上記の(a)成分及び(c)成分((b)成分を併用する場合は(a)成分、(b)成分及び(c)成分)を反応させて得られる化合物に対して、上記

(d)成分((e)成分を併用する場合は(d)成分及び(e)成分)を反応させることにより、ポリエステル樹脂Aが得られる。この反応は、前記化合物中のカルボキシル基の一部に(d)成分((e)成分を併用する場合は(d)成分或いは(e)成分)を付加させることにより行われ、このとき(d)成分(及び(e)成分)の反応量を調整することによりポリエステル樹脂Aに残存するカルボキシル基量を調整し、所望の酸価を有するポリエステル樹脂Aを容易に得ることができるものである。
And with respect to the compound obtained by making said (a) component and (c) component ((b) component use together, (a) component, (b) component, and (c) component) react), the above-mentioned

The polyester resin A is obtained by reacting the component (d) (when the component (e) is used in combination, the component (d) and the component (e)). This reaction is carried out by adding component (d) (or component (d) or component (e) when component (e) is used in combination) to part of the carboxyl group in the compound. The amount of carboxyl groups remaining in the polyester resin A is adjusted by adjusting the reaction amount of the component (and component (e)), and the polyester resin A having a desired acid value can be easily obtained.

このときの化学反応式の一例を次に示す。尚、式中のR1〜R3は任意の置換基である。また、(d)成分、(e)成分は、脂環式のエポキシ樹脂である場合もある。 An example of the chemical reaction formula at this time is shown below. In addition, R < 1 > -R < 3 > in a formula is arbitrary substituents. Moreover, (d) component and (e) component may be an alicyclic epoxy resin.

Figure 0004406232
Figure 0004406232

ここで、上記式中の(a’)、(b’)及び(c”)は生成されるポリエステル樹脂Aの構成単位であり、x、y、zは化合物中の各構成単位の数を示すが、上記の式は便宜的なものであり、この化合物中では、(a’)に対しては(c”)のみが結合され、(b’)に対しては(c”)のみが結合され、(c”)に対しては(a’)、(b’)が結合される。また構成単位(c”)においては、二つのカルボキシル基を含むが上記のようにそのうちの一つのカルボキシル基に対してモノエポキシ化合物(d)或いはモノエポキシ化合物(e)が反応したもののほか、二つのカルボキシル基にそれぞれモノエポキシ化合物(d)或いはモノエポキシ化合物(e)が反応している場合と、カルボキシル基が二つともモノエポキシ化合物(d)及びモノエポキシ化合物(e)と反応せずに残存している場合もある。   Here, (a ′), (b ′) and (c ″) in the above formula are structural units of the produced polyester resin A, and x, y and z represent the number of each structural unit in the compound. However, the above formula is convenient, and in this compound, only (c ″) is bonded to (a ′), and only (c ″) is bonded to (b ′). (A ′) and (b ′) are coupled to (c ″). In addition, the structural unit (c ″) contains two carboxyl groups. As described above, the monoepoxy compound (d) or the monoepoxy compound (e) reacts with one of the carboxyl groups as described above. When the monoepoxy compound (d) or the monoepoxy compound (e) is reacted with each of the two carboxyl groups, both of the carboxyl groups do not react with the monoepoxy compound (d) and the monoepoxy compound (e). It may remain.

(d)成分及び(e)成分の使用量は、上記のように反応により得られるポリエステル樹脂Aが所望の酸価を有することとなるように調整されるため、(a)〜(c)成分を反応させて得られる化合物中のカルボキシル基の含有量と、所望のポリエステル樹脂Aの酸価とに基づいて決定される。このときポリエステル樹脂Aを用いて調製される紫外線硬化性樹脂組成物が良好な現像性(アルカリ可溶性)を有するようになるためには、ポリエステル樹脂Aの酸価が20〜200mgKOH/gの範囲になるようにすることが好ましい。この酸価が20より小さいと現像性不良となり、またこれが200より大きいと、硬化後の紫外線硬化性樹脂組成物中の残存カルボキシル基に起因して、形成されるべき硬化皮膜の電気特性、耐電蝕性及び耐水性等の低下の問題を生じるおそれがある。また特にこの酸価が30〜150mgKOH/gの範囲であると最適な効果が得られる。   Since the amount of the component (d) and the component (e) used is adjusted so that the polyester resin A obtained by the reaction has a desired acid value as described above, the components (a) to (c) Is determined based on the content of the carboxyl group in the compound obtained by reacting and the acid value of the desired polyester resin A. At this time, in order for the ultraviolet curable resin composition prepared using the polyester resin A to have good developability (alkali solubility), the acid value of the polyester resin A is in the range of 20 to 200 mgKOH / g. It is preferable to do so. If the acid value is less than 20, developability is poor, and if it is greater than 200, the electrical characteristics and electric resistance of the cured film to be formed due to residual carboxyl groups in the cured UV curable resin composition. There is a risk of causing problems such as corrosion and water resistance. In particular, when the acid value is in the range of 30 to 150 mgKOH / g, the optimum effect can be obtained.

このように、(d)成分((e)成分を併用する場合は(d)成分及び(e)成分)の反応量を調整することでポリエステル樹脂Aの酸価を調整することができることから、ポリエステル樹脂Aを合成するために用いられる上記の(a)〜(c)成分の選択の幅が広がることとなる。   Thus, since the acid value of the polyester resin A can be adjusted by adjusting the reaction amount of the component (d) (when the component (e) is used in combination, the component (d) and the component (e)), The range of selection of the above-described components (a) to (c) used for synthesizing the polyester resin A will be widened.

またこのように上記の(a)〜(c)成分の選択の幅が広がることで、(a)〜(c)成分を適宜選択することによりポリエステル樹脂Aの分子量設計を容易に行うことができ、これによりポリエステル樹脂Aを用いて調製される紫外線硬化性樹脂組成物に更に優れた現像性(アルカリ可溶性)を付与することができる。このときポリエステル樹脂Aは、重量平均分子量が800〜100000の範囲となるように調製することが好ましい。   Moreover, the molecular weight design of the polyester resin A can be easily performed by appropriately selecting the components (a) to (c) by expanding the selection range of the components (a) to (c). Thus, further excellent developability (alkali solubility) can be imparted to the ultraviolet curable resin composition prepared using the polyester resin A. At this time, the polyester resin A is preferably prepared such that the weight average molecular weight is in the range of 800 to 100,000.

また、エチレン性不飽和基を有する(d)成分の種類及びその反応量を適宜選択することにより、所望の二重結合当量を有するポリエステル樹脂Aを容易に調整することもできる。ここで、ポリエステル樹脂の二重結合当量は、このポリエステル樹脂Aを含む紫外線硬化性樹脂組成物の硬化成形時の反応性や、硬化成形により得られる硬化皮膜の皮膜強度に影響を与えるものであり、このため、(d)成分及びその反応量を適宜選択することにより、ポリエステル樹脂Aを含む紫外線硬化性樹脂組成物に優れた反応性を付与すると共に、この紫外線硬化性樹脂組成物から形成される硬化皮膜に優れた強度を付与することが可能となるものである。このときポリエステル樹脂Aの二重結合当量は、250〜10000の範囲となるようにすることが好ましい。   Moreover, the polyester resin A which has a desired double bond equivalent can also be easily adjusted by selecting suitably the kind of (d) component which has an ethylenically unsaturated group, and its reaction amount. Here, the double bond equivalent of the polyester resin affects the reactivity at the time of curing molding of the ultraviolet curable resin composition containing the polyester resin A and the film strength of the cured film obtained by the curing molding. Therefore, by appropriately selecting the component (d) and the reaction amount thereof, the ultraviolet curable resin composition containing the polyester resin A is imparted with excellent reactivity and formed from the ultraviolet curable resin composition. It is possible to impart excellent strength to the cured film. At this time, the double bond equivalent of the polyester resin A is preferably in the range of 250 to 10,000.

(a)〜(c)成分を反応させて得られる化合物と(d)成分((e)成分を併用する場合は(d)成分及び(e)成分)とを反応させるにあたっては、常法により、好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃の反応温度で、1〜30時間反応させる。このとき、トリエチルアミン等の3級アミン類、トリエチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩類、トリフェニルフォスフィン等の触媒を0.1〜10重量%添加しても良い。   In reacting the compound obtained by reacting the components (a) to (c) with the component (d) (the component (d) and the component (e) when the component (e) is used in combination), the conventional method is used. The reaction is preferably carried out at a reaction temperature of 60 to 150 ° C., particularly preferably 80 to 120 ° C. for 1 to 30 hours. At this time, a tertiary amine such as triethylamine, a quaternary ammonium salt such as triethylammonium chloride, and a catalyst such as triphenylphosphine may be added in an amount of 0.1 to 10% by weight.

〔B.紫外線硬化性樹脂〕
エチレン性不飽和結合を有する紫外線硬化性樹脂Bとしては、特に制限されず、従来から知られている紫外線硬化性樹脂を含め、適宜のものを用いることができ、例えば次の(1)〜(4)に示すものを挙げることができる。
[B. (UV curable resin)
The ultraviolet curable resin B having an ethylenically unsaturated bond is not particularly limited, and appropriate ones including conventionally known ultraviolet curable resins can be used. For example, the following (1) to ( 4) can be mentioned.

(1) グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等のようなエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を重合単位として含む重合体又は共重合体に、(メタ)アクリル酸等のようなエチレン性不飽和モノカルボン酸、及び無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等のような不飽和又は飽和の多塩基酸無水物を付加して得られる紫外線硬化性樹脂。 (1) glycidyl (meth) acrylate, 2-methyl glycidyl (meth) acrylate, (3,4-epoxy Kurohekishiru) methyl (meth) polymerized units ethylenically unsaturated monomer having an epoxy group such as acrylate As a polymer or copolymer containing as an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid such as (meth) acrylic acid, and the like, succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, etc. An ultraviolet curable resin obtained by adding an unsaturated or saturated polybasic acid anhydride.

(2) フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA−ノボラック型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキジフェニル)メタンベースの多官能エポキシ樹脂等のような、少なくとも二個のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物と、(メタ)アクリル酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸と、無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の不飽和又は飽和の多塩基酸無水物とを付加することにより得られる紫外線硬化性樹脂。   (2) at least two such as phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A-novolak type epoxy resin, tris (hydroxydiphenyl) methane based polyfunctional epoxy resin, etc. Unsaturated or saturated polyfunctional epoxy compound having epoxy group, ethylenically unsaturated monocarboxylic acid such as (meth) acrylic acid, succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, etc. An ultraviolet curable resin obtained by adding a polybasic acid anhydride.

(3) 無水マレイン酸等の不飽和多塩基酸無水物と、スチレン等のビニル基を有する芳香族炭化水素又はビニルアルキルエーテル等との共重合体に、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキジブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のような分子中に一個のヒドロキシル基及び一個の光反応性のエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂。   (3) 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, a copolymer of an unsaturated polybasic acid anhydride such as maleic anhydride and an aromatic hydrocarbon or vinyl alkyl ether having a vinyl group such as styrene; -One in a molecule such as hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxydibutyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, dibutylene glycol mono (meth) acrylate, etc. An ultraviolet curable resin obtained by reacting a compound having a hydroxyl group and one photoreactive ethylenically unsaturated group.

(4) アルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート等のエチレングリコールエステル系(メタ)アクリレート等のようなカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和単量体と、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等のようなカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体とからなる共重合体中のカルボキシル基の一部に、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等のようなエポキシ基を一個のみ有するエチレン性不飽和化合物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂。 (4) an ethylenically unsaturated monomer having no carboxyl group, such as an ethylene glycol ester (meth) acrylate such as alkyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, and the like; Glycidyl (meth) acrylate in a part of the carboxyl group in the copolymer composed of an ethylenically unsaturated monomer having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, maleic acid, crotonic acid, itaconic acid, etc. , 2-methyl glycidyl (meth) acrylate, (3,4-epoxy Kurohekishiru) methyl (meth) ethylenically unsaturated compounds are reacted with an ultraviolet curable resin obtained having an epoxy group only one such as acrylate.

ここで、上記のポリエステル樹脂Aと紫外線硬化性樹脂Bは、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物の樹脂成分となるが、この樹脂成分としては、ポリエステル樹脂Aのみを含有させてもよく、またポリエステル樹脂Aと紫外線硬化性樹脂Bとを併用するようにしても良い。   Here, the above-mentioned polyester resin A and ultraviolet curable resin B are resin components of the ultraviolet curable resin composition of the present invention. As this resin component, only polyester resin A may be contained, The polyester resin A and the ultraviolet curable resin B may be used in combination.

ここで、紫外線硬化性樹脂組成物中における樹脂成分の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物の良好な感光性及び作業性、並びに最終的に形成される硬化皮膜の良好な物性を確保するためには、紫外線硬化性樹脂組成物の全量(紫外線硬化性樹脂組成物中に希釈剤Eとして有機溶剤が含有されている場合には、有機溶剤を除いた紫外線硬化性樹脂組成物の全量)に対して、10〜80重量%の範囲となるようにすることが好ましい。また、ポリエステル樹脂Aと紫外線硬化性樹脂Bとの配合重量比は、(A成分の重量):(B成分の重量)=100:0〜1:99の範囲となるようにすることが望ましい。   Here, the content of the resin component in the ultraviolet curable resin composition is to ensure good photosensitivity and workability of the ultraviolet curable resin composition, and good physical properties of the finally formed cured film. The total amount of the ultraviolet curable resin composition (when the organic solvent is contained as the diluent E in the ultraviolet curable resin composition, the total amount of the ultraviolet curable resin composition excluding the organic solvent) On the other hand, it is preferable to be in the range of 10 to 80% by weight. The blending weight ratio of the polyester resin A and the ultraviolet curable resin B is desirably in the range of (weight of component A) :( weight of component B) = 100: 0 to 1:99.

〔C.多官能エポキシ化合物〕
紫外線硬化性樹脂組成物中に多官能エポキシ化合物Cを配合する場合、この多官能エポキシ化合物Cとしては、溶剤難溶性エポキシ化合物、汎用の溶剤可溶性エポキシ化合物等を用いることができる。
[C. Multifunctional epoxy compound)
When the polyfunctional epoxy compound C is blended in the ultraviolet curable resin composition, as the polyfunctional epoxy compound C, a solvent-insoluble epoxy compound, a general-purpose solvent-soluble epoxy compound, or the like can be used.

具体的には、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA−ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、品番「YX4000」(ジャパンエポキシレジン(株)製)、ソルビトールポリグリシジルエーテル、N−グリシジル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂(例えばダイセル化学工業(株)製の品番「EHPE−3150」)、ポリオールポリグリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、N−グリシジル型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキジフェニル)メタンベースの多官能エポキシ樹脂(例えば日本化薬社製の品番「EPPN−502H」、ダウケミカル社製の品番「TACTIX−742」「XD−9053」等)、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、エポキシ基を有するビニル重合ポリマー、多官能グリシジル化合物のポリイソシアネート変性物等が挙げられ、これらは単独で又は組み合わせて用いることができる。   Specifically, for example, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A-novolac type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, product number “YX4000” (Japan) Epoxy Resin Co., Ltd.), sorbitol polyglycidyl ether, N-glycidyl type epoxy resin, alicyclic epoxy resin (for example, product number “EHPE-3150” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), polyol polyglycidyl ether compound, glycidyl Ester compound, N-glycidyl type epoxy resin, tris (hydroxydiphenyl) methane based polyfunctional epoxy resin (for example, product number “EPPN-502H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product number “ ACTIX-742 ”,“ XD-9053 ”, etc.), hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, vinyl polymer having epoxy group, polyisocyanate modification of polyfunctional glycidyl compound The thing etc. are mentioned, These can be used individually or in combination.

これらのうちでも、特にトリグリシジルイソシアヌレート、品番「YX4000」、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA−ノボラック型エポキシ樹脂等を用いることが望ましい。   Of these, triglycidyl isocyanurate, product number “YX4000”, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A-novolak type epoxy resin, and the like are particularly desirable.

このような多官能エポキシ化合物Cを紫外線硬化性樹脂組成物中に配合する場合は、その配合量は、紫外線硬化性樹脂組成物の全量(紫外線硬化性樹脂組成物中に希釈剤Eとして有機溶剤が含有されている場合には、有機溶剤を除いた紫外線硬化性樹脂組成物の全量)に対して、0.1〜50重量%であることが望ましく、特に0.1〜30重量%の範囲において最適な効果を得られる。   When such a polyfunctional epoxy compound C is blended in the ultraviolet curable resin composition, the blending amount is the total amount of the ultraviolet curable resin composition (the organic solvent as the diluent E in the ultraviolet curable resin composition). Is preferably 0.1 to 50% by weight, particularly in the range of 0.1 to 30% by weight, based on the total amount of the ultraviolet curable resin composition excluding the organic solvent) The optimal effect can be obtained.

〔D.光重合開始剤〕
光重合開始剤Dとしては、特に制限されないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラー(t−ブチルペルオキシルカルボニル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類又はキサントン類;2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、4,4’−ビス−ジエチルアミノベンゾフェノン等の窒素原子を含むもの;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
[D. Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator D is not particularly limited, and examples thereof include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether and alkyl ethers thereof; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, Acetophenones such as 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone and 2-amylanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, Thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone; Ketals such as dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxylcarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl- Benzophenones or xanthones such as 4′-methyldiphenyl sulfide; 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butanone-1,4,4′-bis-diethylaminobenzophenone and the like containing nitrogen atoms; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like.

これらの光重合開始剤Dは紫外線硬化性樹脂組成物中に、各々単独で又は適宜互いに組み合わせて配合することができる。   These photopolymerization initiators D can be blended in the ultraviolet curable resin composition alone or in combination with each other as appropriate.

またこれらの光重合開始剤Dに加えて、安息香酸系又はp−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート等の第三級アミン系等の公知の光重合促進剤及び増感剤等を併用しても良い。   In addition to these photopolymerization initiators D, known benzoic acids or tertiary amines such as p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, 2-dimethylaminoethylbenzoate, etc. These photopolymerization accelerators and sensitizers may be used in combination.

また、例えばレーザ露光法用増感剤として7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン、4,6−ジエチル−7−エチルアミノクマリン等のクマリン誘導体、その他カルボシアニン色素系、キサンテン色素系等を適宜選択して配合したり、また可視光、近赤外線露光用等の光重合開始剤を配合することで本発明の紫外線硬化性樹脂組成物を可視光又は近赤外線硬化性のものとすることができ、紫外線硬化性を有する限りにおいてこれらを用いたものも本発明の紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる。   Further, for example, as a sensitizer for laser exposure method, coumarin derivatives such as 7-diethylamino-4-methylcoumarin, 4,6-diethyl-7-ethylaminocoumarin, other carbocyanine dyes, xanthene dyes, etc. are appropriately selected. The ultraviolet curable resin composition of the present invention can be made visible or near infrared curable by adding a photopolymerization initiator for visible light, near infrared exposure, etc. As long as it has sclerosis | hardenability, what used these is also contained in the ultraviolet curable resin composition of this invention.

光重合開始剤Dの、紫外線硬化性樹脂組成物中の配合量は、適宜設定されるものであるが、紫外線硬化性樹脂組成物の感光性と、得られる硬化皮膜の物性の良好なバランスを得るためには、紫外線硬化性樹脂組成物の全量(紫外線硬化性樹脂組成物中に希釈剤Eとして有機溶剤が含有されている場合には、有機溶剤を除いた紫外線硬化性樹脂組成物の全量)に対して、0.1〜30重量%の範囲とすることが望ましい。   The blending amount of the photopolymerization initiator D in the ultraviolet curable resin composition is appropriately set. However, a good balance between the photosensitivity of the ultraviolet curable resin composition and the physical properties of the resulting cured film is obtained. To obtain the total amount of the ultraviolet curable resin composition (when the organic solvent is contained as the diluent E in the ultraviolet curable resin composition, the total amount of the ultraviolet curable resin composition excluding the organic solvent) ) To 0.1 to 30% by weight.

〔E.希釈剤〕
希釈剤Eとしては、光重合性単量体及び有機溶剤の一方を用い、或いは双方を併用することができる。
[E. Diluent)
As the diluent E, one of a photopolymerizable monomer and an organic solvent can be used, or both can be used in combination.

上記光重合性単量体として、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、(メタ)アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、シクロペンタニルモノ(メタ)アクリレート、シクロペンテニルモノ(メタ)アクリレート、シクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、シクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、多塩基酸とヒドロキジアルキル(メタ)アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等、ポリエステル(メタ)アクリレートやウレタン(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート単量体等が挙げられる。   Examples of the photopolymerizable monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, (meth) acryloylmorpholine, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, Methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N- Dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) Acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclopenta Nyl mono (meth) acrylate, cyclopentenyl mono (meth) acrylate, cyclopentanyl di (meth) acrylate , Cyclopentenyl di (meth) acrylate, mono-, di-, tri- or higher polyesters of polybasic acid and hydroxyalkyl (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, etc. ( And a (meth) acrylate monomer.

このような光重合性単量体は一種のみを用い或いは二種以上を適宜互いに組み合わせて使用することができる。   Such photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more as appropriate.

また上記有機溶剤としては、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、2−ブチルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、2級あるいは多価のアルコール類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;スワジールシリーズ(丸善石油化学社製)、ソルベッソシリーズ(エクソン・ケミカル社製)等の石油系芳香族系混合溶剤;セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類;プロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロゾルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類;ジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。   Examples of the organic solvent include linear, branched, secondary or polyhydric alcohols such as ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, isobutyl alcohol, 2-butyl alcohol, hexanol and ethylene glycol; methyl ethyl ketone and cyclohexanone. Ketones such as toluene; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; petroleum-based aromatic mixed solvents such as swazil series (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) and solvesso series (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.); cellosolve, butyl cellosolve Cellosolvs such as carbitol, carbitol such as butyl carbitol; propylene glycol alkyl ethers such as propylene glycol methyl ether; polypropylene glycol such as dipropylene glycol methyl ether Lumpur alkyl ethers; ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve sol blanking acetate, butyl carbitol acetate, acetic acid esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate; dialkyl glycol ethers, and the like.

このような有機溶剤は一種のみを用い或いは二種以上を適宜互いに組み合わせて使用することができる。   Such organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

上記光重合性単量体は、紫外線硬化性樹脂組成物の樹脂成分を希釈して塗布し易い状態にすると共に、紫外線硬化性樹脂組成物の酸価を調整する機能を有し、また紫外線硬化性樹脂組成物に更なる光重合性を付与する機能も有する。また、上記有機溶剤は、紫外線硬化性樹脂組成物の樹脂成分を溶解、希釈して紫外線硬化性樹脂組成物を液状として塗布可能な状態にするものであり、また紫外線硬化性樹脂組成物の塗布後には乾燥により揮散して乾燥塗膜を造膜させる。   The photopolymerizable monomer has a function of diluting the resin component of the ultraviolet curable resin composition so that it can be easily applied and adjusting the acid value of the ultraviolet curable resin composition. It also has a function of imparting further photopolymerization to the functional resin composition. The organic solvent dissolves and dilutes the resin component of the ultraviolet curable resin composition so that the ultraviolet curable resin composition can be applied as a liquid, and the ultraviolet curable resin composition is applied. Later, it evaporates by drying to form a dry coating film.

尚、上記希釈剤Eとして配合される光重合性単量体等の光重合性を有する成分は、紫外線硬化性樹脂組成物中に必ずしも配合する必要はないが、配合する場合におけるその配合量は、紫外線硬化性樹脂組成物の全量(紫外線硬化性樹脂組成物中に希釈剤Eとして有機溶剤が含有されている場合には、有機溶剤を除いた紫外線硬化性樹脂組成物の全量)に対して、50重量%以下であることが望ましい。これを50重量%を超えて配合した場合は乾燥塗膜の表面粘着性が強くなり過ぎ、パターンを描いたネガマスクを乾燥した塗膜表面に直接当てがって露光するときにネガマスクの汚損等の問題を生じ易い。   In addition, although the component which has photopolymerizability, such as a photopolymerizable monomer mix | blended as the said diluent E, does not necessarily need to be mix | blended in an ultraviolet curable resin composition, the compounding quantity in the case of mix | blending is , With respect to the total amount of the ultraviolet curable resin composition (when the organic solvent is contained as the diluent E in the ultraviolet curable resin composition, the total amount of the ultraviolet curable resin composition excluding the organic solvent) 50% by weight or less is desirable. When blended in excess of 50% by weight, the surface tackiness of the dried coating film becomes too strong, and when the negative mask on which the pattern is drawn is directly applied to the surface of the dried coating film and exposed, Prone to problems.

一方、希釈剤Eとして配合される有機溶剤は、特に紫外線硬化性樹脂組成物を希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクとして調製する場合には必須成分となるものであり、予備乾燥時に速やかに揮散し、乾燥塗膜に残存しないように適宜選択して配合する必要がある。紫外線硬化性樹脂組成物中における有機溶剤の好適な配合量は塗布方法により異なるので、選択される塗布方法に応じて適宜調節することが好ましい。   On the other hand, the organic solvent blended as the diluent E is an essential component particularly when the ultraviolet curable resin composition is prepared as a photo solder resist ink that can be developed with a dilute alkaline solution, and is promptly used during preliminary drying. It is necessary to select and mix appropriately so as not to volatilize and remain in the dry coating film. Since the suitable compounding quantity of the organic solvent in an ultraviolet curable resin composition changes with coating methods, it is preferable to adjust suitably according to the coating method selected.

〔他の成分〕
紫外線硬化性樹脂組成物中には、特にフォトソルダーレジストインクとして調製する場合には、上記各成分のほかに、例えばカプロラクタム、オキシム、マロン酸エステル等でブロックされたトリレンジイソシアネート、モルホリンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート系のブロックドイソシアネート、及びn−ブチル化メラミン樹脂、イソブチル化メラミン樹脂、ブチル化尿素樹脂、ブチル化メラミン尿素共縮合樹脂、ベンゾグアテミン系共縮合樹脂等のアミノ樹脂等の熱硬化成分、及び紫外線硬化性エポキシアクリレート又は紫外線硬化性エポキシメタクリレート、例えばビスフェノールA型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、脂環型等エポキシ樹脂にアクリル酸又はメタクリル酸を付加したもの、並びにスチレン−(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂等の高分子化合物を加えることができる。
[Other ingredients]
In the ultraviolet curable resin composition, particularly when prepared as a photo solder resist ink, in addition to the above components, for example, tolylene diisocyanate, morpholine diisocyanate, isophorone blocked with caprolactam, oxime, malonic acid ester, etc. Thermal curing of diisocyanates, hexamethylene diisocyanate-based blocked isocyanates, and amino resins such as n-butylated melamine resins, isobutylated melamine resins, butylated urea resins, butylated melamine urea cocondensation resins, and benzoguatemine cocondensation resins Ingredients and UV curable epoxy acrylate or UV curable epoxy methacrylate such as bisphenol A type, phenol novolac type, cresol novolak type, alicyclic type epoxy resin, acrylic acid or High additions such as those with added crylic acid, styrene- (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic acid resin, diallyl phthalate resin, phenoxy resin, melamine resin, urethane resin, fluorine resin, etc. Molecular compounds can be added.

また上記フォトソルダーレジストインクには、必要に応じて、さらにイミダゾール誘導体、ポリアミン類、グアナミン類、3級アミン類、4級アンモニウム塩類、ポリフェノール類、多塩基酸無水物、メラミン、ジシアンジアミド等のエポキシ樹脂硬化剤及び硬化促進剤類;硫酸バリウム、酸化珪素、タルク、クレー、炭酸カルシウム等の充填剤及び着色剤;シリコンやアクリレート共重合体、フッ素系界面活性剤等のレベリング剤;シランカップリング剤等の密着性付与剤;アエロジル等のチクソトロピー剤;ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、フェノチアジン等の重合禁止剤;ハレーション防止剤、難燃剤、消泡剤、酸化防止剤等の各種添加剤;分散安定性を向上させるための界面活性剤や高分子分散剤等を加えても良い。   In addition, if necessary, the above-mentioned photo solder resist ink further includes epoxy resins such as imidazole derivatives, polyamines, guanamines, tertiary amines, quaternary ammonium salts, polyphenols, polybasic acid anhydrides, melamine, dicyandiamide and the like. Curing agents and curing accelerators; fillers and colorants such as barium sulfate, silicon oxide, talc, clay, calcium carbonate; leveling agents such as silicon, acrylate copolymers, fluorosurfactants; silane coupling agents, etc. Adhesion-imparting agent; thixotropic agent such as aerosil; polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, t-butylcatechol, phenothiazine; various additions such as antihalation agent, flame retardant, antifoaming agent, antioxidant Agent; for improving dispersion stability Surface active agent and a polymer dispersant may be added.

〔紫外線硬化性樹脂組成物の調製〕
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は、上記の各成分を適宜の手法により混合して調製される。例えば、各配合成分及び添加剤等を三本ロール、ボールミル、サンドミル等を用いる公知の混練方法によって調製することができる。
[Preparation of UV curable resin composition]
The ultraviolet curable resin composition of the present invention is prepared by mixing the above-described components by an appropriate technique. For example, each compounding component and additive can be prepared by a known kneading method using a three-roll, ball mill, sand mill or the like.

〔紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物及びプリント配線板の作製〕
本発明の紫外線硬化性樹脂組成物は、フォトレジストインク、プリント配線板の層間絶縁材料、カラーフィルター用レジスト等の種々の用途に使用することができ、特にプリント配線板に対して層状に形成してレジストパターンを形成するために、好適に使用される。
[Preparation of cured product of UV curable resin composition and printed wiring board]
The ultraviolet curable resin composition of the present invention can be used for various applications such as a photoresist ink, an interlayer insulating material for a printed wiring board, a resist for a color filter, and the like. In order to form a resist pattern, it is preferably used.

紫外線硬化性樹脂組成物を使用して基板上にレジストパターンを形成する方法は特に限定されないが、その中で最も一般的な方法を例示すれば以下の通りである。   A method for forming a resist pattern on a substrate using an ultraviolet curable resin composition is not particularly limited, and the most general method is exemplified as follows.

例えば、フォトソルダーレジストインクとして調製された紫外線硬化性樹脂組成物を、基板上に浸漬法、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、カーテンコーター又はスクリーン印刷等により塗布した後、希釈剤Eである有機溶剤を揮発させるために例えば60〜120℃で予備乾燥を行い、予備乾燥皮膜を形成する。   For example, an ultraviolet curable resin composition prepared as a photo solder resist ink is applied on a substrate by dipping, spraying, spin coater, roll coater, curtain coater, screen printing or the like, and then an organic solvent which is diluent E In order to volatilize, for example, preliminary drying is performed at 60 to 120 ° C. to form a preliminary drying film.

次にパターンを描画したネガマスクを予備乾燥皮膜の塗膜表面に直接又は間接的に当てがい、ケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射した後、現像によりパターンを形成する。そして、多官能エポキシ化合物Cを配合している場合には、さらに例えば120〜180℃で30〜90分程度の加熱により熱硬化させることでレジストの皮膜強度、硬度及び耐薬品性等の諸特性を向上させることができるのである。   Next, apply a negative mask with a pattern drawn directly or indirectly to the surface of the pre-dried film, using a chemical lamp, low-pressure mercury lamp, medium-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultra-high-pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, etc. After irradiation with ultraviolet rays, a pattern is formed by development. And when the polyfunctional epoxy compound C is mix | blended, various characteristics, such as the film strength of a resist, hardness, and chemical resistance, are further thermoset by heating for about 30 to 90 minutes at 120-180 degreeC, for example. Can be improved.

上記現像工程で使用されるアルカリ溶液としては、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液などを例示することができる。このアルカリ溶液の溶媒としては、水又は水とアルコール系等の親水性のある有機溶媒との混合物を用いることができる。   Examples of the alkaline solution used in the development step include a sodium carbonate aqueous solution and a potassium carbonate aqueous solution. As the solvent of the alkaline solution, water or a mixture of water and an alcoholic organic solvent such as alcohol can be used.

以下に本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下に使用される「部」及び「%」は、特に示さない限り、全て重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited thereto. Note that “parts” and “%” used below are all based on weight unless otherwise specified.

また、「重量平均分子量」は、下記測定条件に基づき、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)により測定されたものである。   The “weight average molecular weight” is measured by GPC (gel permeation chromatography) based on the following measurement conditions.

各試料を固形分について10mg/mlとなるようにTHF(テトラヒドロフラン)溶液を調製し、各々インジェクション量100μlにて測定した。   A THF (tetrahydrofuran) solution was prepared so that each sample had a solid content of 10 mg / ml, and each sample was measured with an injection amount of 100 μl.

(測定条件)
・GPC測定装置:昭和電工株式会社製 SHODEX SYSTEM 11
・カラム:SHODEX KF−800P,KF−805,KF−803,KF−801の四本直列
・移動層:THF
・流量:1ml/min
・カラム温度:45℃
・検出器:RI
・換算:ポリスチレン
〔合成例1〕
温度計、減圧ポンプ、及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェノン−10−イル)−メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製;品番「M−ester」)688.9部を加え、混合しながら昇温した。
(Measurement condition)
GPC measuring device: SHODEX SYSTEM 11 manufactured by Showa Denko KK
Column: Four series of SHODEX KF-800P, KF-805, KF-803 and KF-801. Moving layer: THF
・ Flow rate: 1 ml / min
-Column temperature: 45 ° C
・ Detector: RI
Conversion: Polystyrene [Synthesis Example 1]
To a four-necked flask equipped with a thermometer, a vacuum pump, and a stirrer was added 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenone-10-yl) -methylsuccinic acid-bis-. 688.9 parts of a 63% ethylene glycol solution of (2-hydroxyethyl) ester (manufactured by Sanko Co., Ltd .; product number “M-ester”) was added, and the temperature was increased while mixing.

続いて200℃で徐々に減圧し、200℃、0.5mmHg(66.8Pa)の条件下でエチレングリコールを系外に留去した。   Subsequently, the pressure was gradually reduced at 200 ° C., and ethylene glycol was distilled out of the system under conditions of 200 ° C. and 0.5 mmHg (66.8 Pa).

続いて、反応器内を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製、品番「PMDA」)196.2部、カルビトールアセテート515部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にグリシジルメタクリレート142部を加えて、100℃で10時間反応させてポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(A−1)溶液)を得た。   Subsequently, the inside of the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, 196.2 parts pyromellitic anhydride (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., product number “PMDA”), 515 parts carbitol acetate, hydroquinone 0.5 part and 0.5 part of dimethylbenzylamine were added and reacted at 80 ° C. for 8 hours. Then, 142 parts of glycidyl methacrylate was further added and reacted at 100 ° C. for 10 hours to obtain a 60% polyester resin solution ( A 60% polyester resin (A-1) solution) was obtained.

〔合成例2〕
温度計、減圧ポンプ及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製、品番「M−ester」)1737部及び触媒としてシュウ酸チタンカリウム0.3部を加え、撹拌混合しながら昇温した。
[Synthesis Example 2]
A four-necked flask equipped with a thermometer, vacuum pump and stirrer was charged with 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2 -Hydroxyethyl) -ester 63% ethylene glycol solution (manufactured by Sanko Co., Ltd., product number “M-ester”) 1737 parts and 0.3 parts of potassium titanium oxalate as a catalyst were added, and the temperature was increased while stirring and mixing.

続いて250℃で徐々に減圧し、250℃、0.5mmHg(66.7Pa)の条件下で15分間重縮合反応を行い、数平均分子量1000、式(1)中のnの平均値2.5の、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル重合物を得た。   Subsequently, the pressure was gradually reduced at 250 ° C., and a polycondensation reaction was performed for 15 minutes under the conditions of 250 ° C. and 0.5 mmHg (66.7 Pa), the number average molecular weight was 1000, and the average value of n in formula (1). 5, 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) -ester polymer was obtained.

続いて、反応器内を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製、品番「PMDA」)218部、カルビトールアセテート845部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にグリシジルメタクリレート142部を加えて、100℃で10時間反応させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(A−2)溶液)を得た。   Subsequently, the inside of the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, 218 parts of pyromellitic anhydride (product number “PMDA” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), 845 parts of carbitol acetate, 5 parts and 0.5 parts of dimethylbenzylamine were added and reacted at 80 ° C. for 8 hours. Then, 142 parts of glycidyl methacrylate was further added and reacted at 100 ° C. for 10 hours to obtain a 60% solution of polyester resin (60 % Polyester resin (A-2) solution).

〔合成例3〕
温度計、減圧ポンプ及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製、品番「M−ester」)688.9部を加え、混合しながら昇温した。
[Synthesis Example 3]
A four-necked flask equipped with a thermometer, a vacuum pump and a stirrer was charged with 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthren-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2- 688.9 parts of a 63% ethylene glycol solution of hydroxyethyl) -ester (manufactured by Sanko Co., Ltd., product number “M-ester”) was added, and the temperature was increased while mixing.

続いて200℃で徐々に減圧し200℃、0.5mmHg(66.7Pa)の条件下でエチレングリコールを系外に留去した。   Subsequently, the pressure was gradually reduced at 200 ° C., and ethylene glycol was distilled out of the system under conditions of 200 ° C. and 0.5 mmHg (66.7 Pa).

続いて、反応器を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物(大日本インキ化学工業株式会社製;品番「エピクロンB−4400」)237.6部、カルビトールアセテート542部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にグリシジルメタクリレート142部を加えて、100℃で10時間反応させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(A−3)溶液)を得た。   Subsequently, the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, and 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid was attached. Add 237.6 parts of anhydride (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd .; product number “Epiclon B-4400”), 542 parts of carbitol acetate, 0.5 part of hydroquinone, 0.5 part of dimethylbenzylamine, and add 80 ° C. Then, 142 parts of glycidyl methacrylate was further added and reacted at 100 ° C. for 10 hours to obtain a 60% polyester resin solution (60% polyester resin (A-3) solution).

〔合成例4〕
温度計、減圧ポンプ及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製、品番「M−ester」)482.2部を加え、混合しながら昇温した。
[Synthesis Example 4]
A four-necked flask equipped with a thermometer, vacuum pump and stirrer was charged with 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2 -Hydroxyethyl) -ester 63% ethylene glycol solution (manufactured by Sanko Co., Ltd., product number “M-ester”) 482.2 parts was added, and the temperature was raised while mixing.

続いて、200℃で徐々に減圧し200℃、0.5mmHg(66.7Pa)の条件下でエチレングリコールを系外に留去した。   Subsequently, the pressure was gradually reduced at 200 ° C., and ethylene glycol was distilled out of the system under the conditions of 200 ° C. and 0.5 mmHg (66.7 Pa).

続いて反応器内を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA(三洋化成工業株式会社製;品番「ニューポールBP−3P」)120.67部、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製;品番「PMDA」)196.2部、カルビトールアセテート510部、ハイドロキノン0.5部ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にグリシジルメタクリレート142部を加えて100℃で10時間版凹させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(A−4)溶液)を得た。   Subsequently, the inside of the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, ethylene oxide-modified bisphenol A (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .; product number “New Pole BP-3P”) 120.67 parts, anhydrous pyromerit 196.2 parts of acid (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .; product number “PMDA”), 510 parts of carbitol acetate, 0.5 part of hydroquinone and 0.5 part of dimethylbenzylamine were added and reacted at 80 ° C. for 8 hours. Further, 142 parts of glycidyl methacrylate was added and the plate was indented at 100 ° C. for 10 hours to obtain a 60% polyester resin solution (60% polyester resin (A-4) solution).

〔合成例5〕
温度計、減圧ポンプ及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製、品番「M−ester」)688.9部を加え、混合しながら昇温した。続いて200℃で徐々に減圧し200℃、0.5mmHg(66.7Pa)の条件下で、エチレングリコールを系外に留去した。
[Synthesis Example 5]
A four-necked flask equipped with a thermometer, vacuum pump and stirrer was charged with 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2 -Hydroxyethyl) -ester 63% ethylene glycol solution (manufactured by Sanko Co., Ltd., product number “M-ester”) 688.9 parts was added, and the temperature was increased while mixing. Subsequently, the pressure was gradually reduced at 200 ° C., and ethylene glycol was distilled out of the system under the conditions of 200 ° C. and 0.5 mmHg (66.7 Pa).

続いて、反応器内を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製;品番「PMDA」)196.2部、カルビトールアセテート518部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にグリシジルメタクリレート113.6部及びフェニルグリシジルエーテル(ナガセ化成工業株式会社製;品番「デナコールEX−141」)30.8部を加えて、100℃で10時間反応させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(A−5)溶液)を得た。   Subsequently, the inside of the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, pyromellitic anhydride (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .; product number “PMDA”) 196.2 parts, carbitol acetate 518 parts, hydroquinone 0.5 part and 0.5 part of dimethylbenzylamine were added and reacted at 80 ° C. for 8 hours. Then, 113.6 parts of glycidyl methacrylate and phenyl glycidyl ether (manufactured by Nagase Chemical Industries Ltd .; product number “Denacol EX- 141 ") 30.8 parts was added and reacted at 100 ° C for 10 hours to obtain a 60% polyester resin solution (60% polyester resin (A-5) solution).

〔合成例6〕
還流冷却器、温度計、窒素導入用ガラス管及び攪拌機を取付けた四つ口フラスコに、グリシジルメタクリレート70部、メチルメタクリレート10部、t−ブチルメタクリレート20部、カルビトールアセテート100部、ラウリルメルカプタン0.3部、アゾビスイソブチロニトリル3部を加えて、窒素気流下に加熱し、75℃において5時間重合を行い、50%共重合体溶液を得た。
[Synthesis Example 6]
In a four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a glass tube for introducing nitrogen and a stirrer, 70 parts of glycidyl methacrylate, 10 parts of methyl methacrylate, 20 parts of t-butyl methacrylate, 100 parts of carbitol acetate, lauryl mercaptan 3 parts and 3 parts of azobisisobutyronitrile were added, heated under a nitrogen stream, and polymerized at 75 ° C. for 5 hours to obtain a 50% copolymer solution.

上記50%共重合体溶液に、ハイドロキノン0.05部、アクリル酸37部、ジメチルベンジルアミン0.2部を加え、105℃で24時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸38部及びカルビトールアセテート72部を加えて、100℃で3時間反応させ、重合平均分子量が22000の50%紫外線硬化性樹脂(B)溶液を得た。またこれの酸価は80mgKOH/gであった。   To the above 50% copolymer solution, 0.05 part of hydroquinone, 37 parts of acrylic acid and 0.2 part of dimethylbenzylamine were added, followed by addition reaction at 105 ° C. for 24 hours, followed by 38 parts of tetrahydrophthalic anhydride and 72 parts of tall acetate was added and reacted at 100 ° C. for 3 hours to obtain a 50% UV curable resin (B) solution having a polymerization average molecular weight of 22,000. Moreover, the acid value of this was 80 mgKOH / g.

〔比較合成例1〕
還流冷却器、温度計、減圧ポンプ及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA(三洋化成工業株式会社製;品番「ニューポールBP−3P」)402.2部、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製;品番「PMDA」)196.2部、カルビトールアセテート495部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にグリシジルメタクリレート142部を加えて、100℃で10時間反応させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステ樹脂(F−1)溶液)を得た。
[Comparative Synthesis Example 1]
A four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a vacuum pump, and a stirrer is equipped with 402.2 parts of ethylene oxide-modified bisphenol A (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .; product number “New Pole BP-3P”), anhydrous pyromerit 196.2 parts of acid (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .; product number “PMDA”), 495 parts of carbitol acetate, 0.5 part of hydroquinone and 0.5 part of dimethylbenzylamine were added and reacted at 80 ° C. for 8 hours. Thereafter, 142 parts of glycidyl methacrylate was further added and reacted at 100 ° C. for 10 hours to obtain a 60% polyester resin solution (60% polyester resin (F-1) solution).

〔比較合成例2〕
温度計、減圧ポンプ及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製、品番「M−ester」)688.9部を加え、混合しながら昇温した。
[Comparative Synthesis Example 2]
A four-necked flask equipped with a thermometer, vacuum pump and stirrer was charged with 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2 -Hydroxyethyl) -ester 63% ethylene glycol solution (manufactured by Sanko Co., Ltd., product number “M-ester”) 688.9 parts was added, and the temperature was increased while mixing.

続いて、200℃で徐々に減圧し200℃、0.5mmHg(66.7Pa)の条件下でエチレングリコールを系外に留去した。   Subsequently, the pressure was gradually reduced at 200 ° C., and ethylene glycol was distilled out of the system under the conditions of 200 ° C. and 0.5 mmHg (66.7 Pa).

続いて、反応器内を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製;品番「PMDA」)196.2部、カルビトールアセテート524部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させた後、更にフェニルグリシジルエーテル(ナガセ化成工業株式会社製;品番「デナコールEX−141」)154部を加えて、100℃で100時間反応させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(F−2)溶液)を得た。   Subsequently, the inside of the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, pyromellitic anhydride (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .; product number “PMDA”) 196.2 parts, carbitol acetate 524 parts, hydroquinone After adding 0.5 part and 0.5 part of dimethylbenzylamine and reacting at 80 ° C. for 8 hours, 154 parts of phenylglycidyl ether (manufactured by Nagase Chemicals Co., Ltd .; product number “Denacol EX-141”) is further added. The mixture was reacted at 100 ° C. for 100 hours to obtain a 60% polyester resin solution (60% polyester resin (F-2) solution).

〔比較合成例3〕
還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製;品番「エピクロン850」)370部、アクリル酸144部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加え、100℃で15時間反応を行い、不飽和基含有ポリオール化合物(b1−1)を得た。
[Comparative Synthesis Example 3]
In a four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirrer, 370 parts of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .; product number “Epiclon 850”), 144 parts of acrylic acid, 0.5 of hydroquinone And 0.5 part of dimethylbenzylamine were added and reacted at 100 ° C. for 15 hours to obtain an unsaturated group-containing polyol compound (b 1 -1).

〔比較合成例4〕
温度計、減圧ポンプ、及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコに、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステルの63%エチレングリコール溶液(三光株式会社製、品番「M−ester」)127.3部及び触媒としてシュウ酸チタンカリウム0.3部を加え、撹拌混合しながら昇温した。
[Comparative Synthesis Example 4]
A four-necked flask equipped with a thermometer, a vacuum pump, and a stirrer was charged with 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- ( 2-hydroxyethyl) -ester 63% ethylene glycol solution (manufactured by Sanko Co., Ltd., product number “M-ester”) 127.3 parts and 0.3 parts of potassium titanium oxalate as a catalyst were added, and the temperature was increased while stirring and mixing. did.

続いて250℃で徐々に減圧し、250℃、0.5mmHg(66.7Pa)の条件下で25分間重縮合反応を行い、数平均分子量2500、式(1)中のnの平均値6.6の2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル重合物を得た。   Subsequently, the pressure was gradually reduced at 250 ° C., and a polycondensation reaction was performed for 25 minutes under the conditions of 250 ° C. and 0.5 mmHg (66.7 Pa). 6- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide 10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid-bis- (2-hydroxyethyl) -ester polymer was obtained.

続いて、反応器内を常圧に戻し、反応器に還流冷却器を取り付け、比較合成例3で得た不飽和基含有ポリオール化合物(b1−1)514部、無水ピロメリット酸(三菱ガス化学株式会社製、品番「PMDA」)150部、カルビトールアセテート490部、ハイドロキノン0.5部、ジメチルベンジルアミン0.5部を加えて、80℃で8時間反応させて、ポリエステル樹脂の60%溶液(60%ポリエステル樹脂(F−3)溶液)を得た。 Subsequently, the inside of the reactor was returned to normal pressure, a reflux condenser was attached to the reactor, 514 parts of the unsaturated group-containing polyol compound (b 1 -1) obtained in Comparative Synthesis Example 3, pyromellitic anhydride (Mitsubishi Gas) Chemical Co., Ltd., product number “PMDA”) 150 parts, carbitol acetate 490 parts, hydroquinone 0.5 parts, dimethylbenzylamine 0.5 parts, and reacted at 80 ° C. for 8 hours, 60% of the polyester resin A solution (60% polyester resin (F-3) solution) was obtained.

〔実施例1〜7、比較例1〜3〕
上記のようにして得られたポリエステル樹脂(A−1)〜(A−5)溶液、紫外線硬化性樹脂(B)溶液、及びポリエステル樹脂(F−1)〜(F−3)溶液を用い、下記表1に示す配合組成により、各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物(フォトソルダーレジストインク)を調製した。
[Examples 1-7, Comparative Examples 1-3]
Using the polyester resin (A-1) to (A-5) solution, the ultraviolet curable resin (B) solution, and the polyester resin (F-1) to (F-3) solution obtained as described above, A photosensitive resin composition (photo solder resist ink) of each example and comparative example was prepared according to the composition shown in Table 1 below.

尚、表1中の「エピクロンN−695」(商品名)は大日本インキ化学工業株式会社製のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂であり、「イルガキュアー907」(商品名)はチバスペシャルティーケミカルズ社製の光重合開始剤であり、また「カヤキュアー」(商品名)は日本化薬株式会社製の光重合開始剤であり、「モダフロー」(商品名)はモンサント社製のレベリング剤である。また「DPHA」はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを示す。   In Table 1, “Epiclon N-695” (trade name) is a cresol novolac type epoxy resin manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., and “Irgacure 907” (trade name) is manufactured by Ciba Specialty Chemicals. “Kayacure” (trade name) is a photopolymerization initiator manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and “Modaflow” (trade name) is a leveling agent manufactured by Monsanto. “DPHA” represents dipentaerythritol hexaacrylate.

また、「青色顔料」はノンハロゲン青色顔料「C.I.Pigment Blue 15:3」を、「黄色顔料」はノンハロゲン青色顔料「C.I.Pigment Yellow 147」を、「緑色顔料」は含ハロゲン緑色顔料「C.I.Pigment Green 7」を、それぞれ示す。   The “blue pigment” is a non-halogen blue pigment “CI Pigment Blue 15: 3”, the “yellow pigment” is a non-halogen blue pigment “CI Pigment Yellow 147”, and the “green pigment” is a halogen-containing green color. The pigment “CI Pigment Green 7” is shown respectively.

〔レジストインクの性能評価〕
−残存ステップ段−
各実施例及び比較例のフォトレジストインクを、厚み35μmの銅箔のガラスエポキシ基材とからなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために80℃で乾燥時間20分間の乾燥条件で予備乾燥を行い、膜厚20μmの予備乾燥塗膜を有する試験片を作製した。
[Evaluation of resist ink performance]
-Remaining step stage-
The photoresist inks of the examples and comparative examples were applied by screen printing on the entire surface of a copper clad laminate comprising a 35 μm thick copper foil glass epoxy substrate, and a drying time of 20 at 80 ° C. in order to volatilize the solvent. Preliminary drying was performed under a drying condition of minutes, and a test piece having a preliminary drying coating film having a thickness of 20 μm was produced.

次いで、オーク製作所製の減圧密着型両面露光機「ORC HMW680GW」にて、日立化成工業社製の露光用テストマスク「ステップタブレットPHOTEC21段」を予備乾燥塗膜に直接あてがうと共に減圧密着させ、各々50及び150mJ/cm2の紫外線を照射し、続いて現像液として1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像したものについて、残存ステップ段を求めた。 Next, with a reduced pressure contact type double-side exposure machine “ORC HMW680GW” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., an exposure test mask “Step Tablet PHOTEC 21 steps” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. was directly applied to the pre-dried coating film and adhered under reduced pressure. The remaining step was determined for those developed by irradiation with 150 mJ / cm 2 of ultraviolet light and subsequently developed using a 1% aqueous sodium carbonate solution as a developer.

〔プリント配線板の性能評価〕
各感光性樹脂組成物により製造されるプリント配線板の性能を確認するため、順次下記I〜Vの工程を経ることによりテストピースを作成した。
[Performance evaluation of printed wiring board]
In order to confirm the performance of the printed wiring board manufactured with each photosensitive resin composition, the test piece was created by passing through the process of following IV sequentially.

<I.塗布工程>
各実施例及び比較例のフォトソルダーレジストインクを、厚み35μmの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板及びこれを予めエッチングしてパターンを形成しておいたプリント配線基板の全面にスクリーン印刷により塗布し、基板表面にレジストインク層を形成させた。
<I. Application process>
The photo solder resist ink of each example and comparative example was screened on the entire surface of a copper-clad laminate composed of a 35 μm-thick copper foil glass epoxy substrate and a printed wiring board on which a pattern was formed in advance by etching. It was applied by printing to form a resist ink layer on the substrate surface.

<II.予備乾燥工程>
塗布工程の後、基板表面のレジストインク層中の溶剤を揮発させるために80℃で予備乾燥を20分行い、膜厚20μmの乾燥塗膜を得た。
<II. Pre-drying process>
After the coating step, preliminary drying was performed at 80 ° C. for 20 minutes in order to volatilize the solvent in the resist ink layer on the substrate surface to obtain a dry coating film having a thickness of 20 μm.

<III.露光工程>
その後、パターンを描いたマスクを乾燥塗膜表面に直接当てがうとともに各フォトソルダーレジストインクにおける最適露光量の紫外線を照射し、基板表面上の乾燥塗膜の選択的露光を行った。
<III. Exposure process>
Thereafter, the mask on which the pattern was drawn was directly applied to the surface of the dried coating film, and the optimal exposure amount of each photo solder resist ink was irradiated with ultraviolet rays to selectively expose the dried coating film on the substrate surface.

<IV.現像工程>
露光工程後の乾燥塗膜において、選択的に未露光となっている部分を、1%炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより除去し、基板上に露光硬化された乾燥塗膜のパターンを形成させた。
<IV. Development process>
In the dried coating film after the exposure process, the selectively unexposed portion is removed by developing with a 1% aqueous sodium carbonate solution as a developing solution, and the pattern of the dried coating film exposed and cured on the substrate is removed. Formed.

<V.ポストベーク工程>
現像工程で得られた、露光硬化された乾燥塗膜のパターンが形成されている基板を150℃で30分間加熱し、乾燥塗膜の硬化を行い、テストピースを得た。
<V. Post-bake process>
The substrate on which the pattern of the exposure-cured dry coating film formed in the development process was formed was heated at 150 ° C. for 30 minutes to cure the dry coating film, thereby obtaining a test piece.

上記工程で得られたテストピースについて以下の評価を行った。結果を表1に示す。   The following evaluation was performed about the test piece obtained at the said process. The results are shown in Table 1.

−解像性−
線幅及び線間が共に40μmの同心円で構成されるマスクパターンによって形成されるレジストパターンの形成状態を観察した。
-Resolution-
The formation state of the resist pattern formed by a mask pattern composed of concentric circles having a line width and a line spacing of 40 μm was observed.

解像性の評価方法は次の通りである。
×:パターンが形成されなかった。
△:パターンは形成されているが、その一部が欠落していた。
○:シャープなパターンを得ることができた。
The evaluation method of resolution is as follows.
X: A pattern was not formed.
(Triangle | delta): Although the pattern was formed, the one part was missing.
○: A sharp pattern could be obtained.

−鉛筆硬度−
鉛筆硬度は、三菱ハイユニ(三菱鉛筆社製)を用いて、JIS K 5400に準拠して測定して評価した。
-Pencil hardness-
Pencil hardness was measured and evaluated according to JIS K 5400 using Mitsubishi High Uni (manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.).

−表面光沢−
各テストピースについて、JIS Z8741による入射角60°での鏡面光沢度を、株式会社堀場製作所製「GLOSS CHECKER」を用いて測定し、次の評価基準にて評価した。
○:光沢値100以上
△:光沢値50以上、100未満
×:光沢値50未満
−密着性−
JIS D−0202の試験方法に従って、テストピースに碁盤目状にクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリング試験後の剥がれの状態を目視により次の基準に従い判定した。
○:クロスカット部分の剥離を生じなかった。
△:クロスカット部分の一部が剥離した。
×:クロスカット部分が全て剥離した。
-Surface gloss-
For each test piece, the specular gloss at an incident angle of 60 ° according to JIS Z8741 was measured using “GLOSS CHECKER” manufactured by Horiba, Ltd., and evaluated according to the following evaluation criteria.
○: Gloss value of 100 or more Δ: Gloss value of 50 or more and less than 100 ×: Gloss value of less than 50 —Adhesion—
According to the test method of JIS D-0202, the test piece was cross-cut in a checkered pattern, and then peeled after the peeling test using the cellophane adhesive tape was visually determined according to the following criteria.
○: No peeling of the crosscut portion occurred.
(Triangle | delta): A part of crosscut part peeled.
X: All cross-cut portions were peeled off.

−はんだ耐熱性−
フラックスとしてLONCO 3355−11(ロンドンケミカル社製の水溶性フラックス)を用い、まずテストピースにフラックスを塗布し、次いでこれを260℃の溶融はんだ浴に15秒間浸漬し、その後水洗した。このサイクルを1回あるいは6回おこなった後の表面白化の程度を観察した。また、クロスカットによるセロハン粘着テープ剥離試験をJIS D 0202に準拠して行い、密着状態の変化を観察した。
-Solder heat resistance-
LONCO 3355-11 (water-soluble flux manufactured by London Chemical Co., Ltd.) was used as a flux. First, the flux was applied to the test piece, and then immersed in a molten solder bath at 260 ° C. for 15 seconds, and then washed with water. The degree of surface whitening after one or six cycles of this cycle was observed. Moreover, the cellophane adhesive tape peeling test by the cross cut was done based on JISD0202, and the change of the adhesion state was observed.

表面白化の評価方法は次の通りである。
×:著しく白化した。
△:僅かに白化が認められた。
○:異常を生じなかった。
The evaluation method of surface whitening is as follows.
X: Remarkably whitened.
Δ: Slight whitening was observed.
○: No abnormality occurred.

また密着性の評価方法は次の通りである。
×:クロスカット試験をするまでもなく、レジストの膨れ又は剥離を生じた。
△:テープ剥離時にクロスカット部分に一部剥離が生じた。
○:クロスカット部分の剥離を生じなかった。
Moreover, the evaluation method of adhesiveness is as follows.
X: Resist swelling or peeling occurred without performing a cross-cut test.
(Triangle | delta): Partial peeling occurred in the crosscut part at the time of tape peeling.
○: No peeling of the crosscut portion occurred.

−耐溶剤性−
室温において1時間、2−プロパノール及び1,1,1−トリクロロエタン中に浸漬し、基板を観察して評価した。
-Solvent resistance-
It was immersed in 2-propanol and 1,1,1-trichloroethane at room temperature for 1 hour, and the substrate was observed and evaluated.

耐溶剤性の評価方法は次の通りである。
○:異常を生じないもの。
△:僅かに変化が見られるもの。
×:塗膜に剥がれが見られるもの。
The evaluation method of solvent resistance is as follows.
○: No abnormality occurs.
Δ: Slight change is observed.
X: The film is peeled off.

−耐酸性−
室温において1時間、10%の塩酸に浸漬し、基板を観察して評価した。
-Acid resistance-
The substrate was immersed in 10% hydrochloric acid for 1 hour at room temperature, and the substrate was observed and evaluated.

耐酸性の評価方法は次の通りである。
○:異常を生じないもの。
△:僅かに変化が見られるもの。
×:塗膜に剥がれが見られるもの。
The acid resistance evaluation method is as follows.
○: No abnormality occurs.
Δ: Slight change is observed.
X: The film is peeled off.

−耐電蝕性−
テストピースに代えて、IPC B−25のくし型電極Bクーポンを用い、上記の条件で評価基板を作製し、くし電極にDC100Vのバイアス電圧を印加し、40℃、90%R.H.の条件下にて500時間後のマイグレーションの有無を確認して評価した。
-Resistance to electric corrosion-
In place of the test piece, an IPC B-25 comb-type electrode B coupon was used to produce an evaluation substrate under the above conditions, a bias voltage of DC 100 V was applied to the comb electrode, and 40 ° C., 90% R.D. H. Under the above conditions, the presence or absence of migration after 500 hours was confirmed and evaluated.

耐電蝕性の評価方法は次の通りである。
○:全くマイグレーションが確認できないもの。
△:ほんの僅かにマイグレーションが確認できるもの。
×:マイグレーションが発生しているもの。
The evaluation method of the electric corrosion resistance is as follows.
○: Migration cannot be confirmed at all.
Δ: A slight migration can be confirmed.
×: Migration has occurred.

−難燃性−
厚み0.4mmのノンハロゲン基材上に、上記テストピース形成時と同様の条件で塗膜を形成し、UL94の燃焼試験方法に準拠して試験、評価を行った。
-Flame resistance-
A coating film was formed on a non-halogen base material having a thickness of 0.4 mm under the same conditions as in the test piece formation, and tests and evaluations were performed in accordance with the UL94 combustion test method.

Figure 0004406232
Figure 0004406232

Claims (8)

下記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)である無水ピロメリット酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物から選択されるものとを反応させた後、この反応で得られる化合物における一部のカルボキシル基に1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)であるグリシジルメタクリレートを反応させることを特徴とする紫外線硬化性ポリエステル樹脂の製造方法。
Figure 0004406232
Polymellitic anhydride, which is a polyol compound (a) having a structure represented by the following structural formula (1), and a compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule , 5- (2,5- After reacting with dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, some of the carboxyl groups in the compound obtained by this reaction A method for producing an ultraviolet curable polyester resin, comprising reacting glycidyl methacrylate which is a monoepoxy compound (d) having one or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
Figure 0004406232
上記構造式(1)で示される構造を有するポリオール化合物(a)と、1分子中に酸無水物基を少なくとも2個有する化合物(c)である無水ピロメリット酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物から選択されるものとを反応させて得られる化合物における一部のカルボキシル基に1分子中に1個以上のエチレン性不飽和基を有するモノエポキシ化合物(d)であるグリシジルメタクリレートを反応させて得られることを特徴とする紫外線硬化性ポリエステル樹脂。 5- (2,5-pyromellitic anhydride, which is a polyol compound (a) having the structure represented by the structural formula (1), and a compound (c) having at least two acid anhydride groups in one molecule; Dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride is reacted with a compound selected from a portion of the carboxyl groups in a compound obtained by reacting 1 in 1 molecule. An ultraviolet curable polyester resin obtained by reacting glycidyl methacrylate which is a monoepoxy compound (d) having at least one ethylenically unsaturated group. A.請求項2に記載の紫外線硬化性ポリエステル樹脂
D.光重合開始剤
E.希釈剤
の各成分を含有することを特徴とする紫外線硬化性樹脂組成物。
A. The ultraviolet curable polyester resin according to claim 2. Photoinitiator E.E. An ultraviolet curable resin composition comprising each component of a diluent.
B.エチレン性不飽和結合を有する紫外線硬化性樹脂
を含有することを特徴とする請求項3に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
B. The ultraviolet curable resin composition according to claim 3, comprising an ultraviolet curable resin having an ethylenically unsaturated bond.
C.多官能エポキシ化合物
を含有することを特徴とする請求項3又は4に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
C. The ultraviolet curable resin composition according to claim 3, comprising a polyfunctional epoxy compound.
プリント配線板用フォトソルダーレジストインクとして調製されて成ることを特徴とする請求項3乃至5のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物。   6. The ultraviolet curable resin composition according to claim 3, wherein the ultraviolet curable resin composition is prepared as a photo solder resist ink for a printed wiring board. 請求項3乃至6のいずれかに記載の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化成形して成ることを特徴とする硬化物。   A cured product obtained by curing and molding the ultraviolet curable resin composition according to claim 3. 請求項7に記載の硬化物からなる層を有することを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising a layer made of the cured product according to claim 7.
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