JP4401524B2 - CZ method single crystal pulling equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チョクラルスキー法(以下、CZ法)によって原料融液から単結晶を引き上げるためのCZ法単結晶引上げ装置に関する。また本発明は特に、ダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置、より具体的には先端部を予め加熱溶解させた種結晶を原料融液に着液させることによってダッシュネック法を用いずに無転位化シリコン単結晶を製造するのに好適なCZ法単結晶引上げ装置であって、特に種結晶の先端部を予め加熱溶解させるのに好適な機構を備えたCZ法単結晶引上げ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
種結晶を原料融液に着液させると、その際の熱衝撃によって種結晶に転位(スリップ転位)が導入されることとなるが、この転位は、一般的には、ダッシュネック法を用いて種結晶から排除している。
【0003】
ここで、ダッシュネック法というのは、原料融液に着液させた種結晶を引上げ、その際に一旦種結晶の直径を細く絞る(いわゆる種絞り)操作を行うことによって、着液の際に種結晶中に導入された転位を結晶外周部に向かわせて無転位化を図る方法であり、種絞りが行われて種結晶が細る分だけ、種結晶部分の引っ張り強度が低下する。
【0004】
しかし、近年の引上結晶の大口径化とそれに伴う重量化によってダッシュネック部に加わる応力が強度を越えてしまい、引上げ中の結晶落下事故が生じる可能性が危惧されている。このため、種結晶部分を細らせることなく無転位化結晶育成を行う方法が検討された。
【0005】
このような背景の中にあって、種結晶の溶解ならびに再固化だけでは転位導入が無いことが最初に発見され、この現象をFZ結晶法に応用した技術が、種結晶の細径化を伴わずに無転位化結晶育成を行う技術として提案された(特許第1257980号)。
【0006】
この技術は当然のことながらCZ法への応用が試みられ、いくつかの応用例が提示された。その中で、種結晶先端部の溶解法を改良したものを代表的な例として挙げると、WO97‐32059号公報や特開平8‐319192号公報にはレーザーを用いて種結晶先端部の溶解を行う方法が開示されており、US特許第5885344号には抵抗加熱ヒータを用いて種結晶先端部の溶解を行うものが開示されている。
【0007】
ここで、レーザーを用いた方法では、レーザーの照射面積が大きいために高価な装置が必要であり、また、発信器の占有スペースが大きいため、量産工場での使用には不向きである。このため、量産工場での使用ということを考えた場合には、抵抗加熱式のヒータを用いて種結晶先端部の溶解を行う方法のほうに矛先が向くことになる。
【0008】
しかしながら、抵抗加熱式のヒータを用いて種結晶先端部の溶解を行う方法の場合には、炉外から電力を供給して種結晶を加熱溶解する機能、シーディング工程以後に引上結晶との干渉を避ける為にヒータを移動させる機能、並びにそれらの機能を制御するための制御系が必要となり、この課題を如何にして解決するかが、抵抗加熱式のヒータを用いて種結晶先端部の溶解を行う方法を採用する場合のキーポイントとなる。
【0009】
これに関し、ヒータを移動させる機能については、US特許第5885344号にはそれについての詳細な記述は存在しないものの、実施例においては、上部の真空チャンバー内より二段で鉛直方向に伸縮可能な剛性体の鉛直棒に抵抗加熱ヒーターを取り付け、鉛直棒の伸縮によって抵抗加熱ヒーターを上下動させるものが示唆されている。
【0010】
しかしながら、このような機構を実際の引上作業に適応させるようにすると、結晶の成長に伴って抵抗加熱ヒーターも上昇させねばならないため、抵抗加熱ヒーターの移動幅については、結晶成長が行われる長さに相当する移動幅を取るようにしなければならず、このためには、図8に示されるように剛性体の鉛直棒を2段・3段と鉛直方向に伸縮させるような構成とするか、図9に示されるように1段で鉛直方向に移動させるような構成としなければならない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、仮想される図8及び図9の方式にしても、いずれも、電極椀部Qが長いものとなってしまい、種結晶13に対して抵抗加熱ヒーター23の中心位置精度が悪くなり、種結晶先端の溶解に必要以上の電力を必要としたり、均一な溶解が困難となってしまうという問題がある。
【0012】
また、仮想される図8の方式では、抵抗加熱ヒーター23を単結晶17の成長に合わせて上昇させなければならないため、ワイヤー巻き取りドラムを電極椀部Qと干渉しない位置まで上方に移さなければならなくなり、Si融液界面からワイヤー巻き取りドラムまでのワイヤー14の長さが長くなり、結晶軸回転の共振点に影響を与え、単結晶成長が困難となってしまうという問題もある。これについては、仮想される図9の方式でも同様であり、上部チャンバーが軸方向にも大きくなってしまうため、必然的にSi融液界面からワイヤー巻き取りドラムまでのワイヤー長さが長くなり、結晶軸回転の共振点に影響を与えて、単結晶成長が困難となってしまう。
【0013】
更には、仮想される図8の方式にしても、図9の方式にしても、上部チャンバーのサイズが軸方向並びに円周方向にも大きくなってしまい、装置コストが大幅にアップしてしまうとともに、引き上げ室(クリーンルーム)の高さも大きくせねばならず、全体的なコストアップと初期投資額の増大につながってしまうという問題がある。
【0014】
加えて、図8及び図9のいずれの方式にしても、Si融液の上方に電極椀部Qの摺動部が設置されることとなるので、汚染源が増えるという問題がある。また更に、抵抗加熱ヒーター23が種結晶先端を溶解した後も結晶軸上に存在することとなるので、結晶軸上部から流れる不活性ガスの流路が抵抗加熱ヒーター23によって阻害され、結晶軸の円方向で不均一なガス流れとなり、これが単結晶の品質・生産性等に大きな影響を与えるという懸念もある。
【0015】
本発明は以上のような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、先端部を予め加熱溶解させた種結晶を原料融液に着液させることによってダッシュネック法を用いずに無転位化シリコン単結晶を製造するのに好適なCZ法単結晶引上げ装置であって、抵抗加熱ヒーターによって種結晶先端部の加熱溶解を円滑に行えるような機構を備えるCZ法単結晶引上げ装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
以上のような目的を達成するために、本発明においては、抵抗加熱ヒーターの形状を種結晶を取り囲むU字形状とし、種結晶先端を加熱した後には引上結晶と干渉しない位置に待避させるために斜め上方にヒーターを移動させる機構をCZ法単結晶引上げ装置に備えさせることとしている。
【0017】
より具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【0018】
(1) 先端部を予め加熱溶解させた種結晶を原料融液に着液させることによってダッシュネック法を用いずに単結晶を製造するCZ法単結晶引上げ装置であって、種結晶先端部の加熱溶解に係る加熱供用部材が取り付けられ、各種炉内品を収容するチャンバーを貫通して当該チャンバーに備え付けられる斜方向移動装置であって、前記取り付けられた加熱供用部材を斜め方向に移動させる斜方向移動装置を備えることを特徴とするCZ法単結晶引上げ装置。
【0019】
なお、加熱供用部材は、種結晶先端部の加熱溶解に係るものであれば如何なるものでもよく、そのようなものとしては、例えば、抵抗発熱によって加熱を行う抵抗加熱体や原料融液輻射光の集光によって加熱を行う凹面鏡のようなものが挙げられる。また、本発明によってダッシュネック法を用いずに製造される単結晶はシリコン単結晶、特に、ダッシュネック法を用いて引き上げられたシリコン単結晶と同程度にスリップ転位が存在しない無転位化シリコン単結晶である。
【0020】
(2) 前記斜方向移動装置は、その端部に前記加熱供用部材が取り付けられるアーム体を備え、このアーム体は、所定の斜角をもって前記チャンバー内に配置されていると共に、気密状態を保持したまま摺動する状態で前記チャンバーを貫通していることを特徴とする(1)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0021】
(3) 前記斜方向移動装置は、その端部に前記加熱供用部材が取り付けられるアーム体と、このアーム体に連結された架橋部材と、この架橋部材に螺合された螺子棒体と、この螺子棒体を回動させる駆動体と、からなり、前記アーム体は、所定の斜角をもって前記チャンバー内に配置されていると共に、気密状態を保持したまま摺動する状態で前記チャンバーを貫通していることを特徴とする(1)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0022】
(4) 前記斜方向移動装置は、前記アーム体が前記チャンバーを貫通する部分を覆い、かつ、前記チャンバー内から引き出されてきたアーム体を収容する伸縮自在の蛇腹部材を備えることを特徴とする(2)または(3)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0023】
(5) 前記蛇腹部材の上端から不活性ガスを導入する不活性ガス導入孔をさらに具備することを特徴とする(4)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0024】
(6) 前記アーム体の端部に取り付けられる加熱供用部材は、前記種結晶を加熱して溶解させるための抵抗加熱体であることを特徴とする(2)から(4)いずれか記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0025】
(7) 前記抵抗加熱体はU字形状であることを特徴とする(6)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0026】
(8) 前記アーム体の端部に取り付けられる加熱供用部材は、前記原料融液から発せられる熱光線を種結晶に集光させて当該種結晶を溶解させるための熱光線反射体であることを特徴とする(2)から(4)いずれか記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0027】
(9) 前記熱光線反射体は、凹面鏡体であることを特徴とする(8)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0028】
(10) 2以上の斜方向移動装置を備えることを特徴とする(6)または(9)記載のCZ法単結晶引上げ装置。
【0029】
また、本発明は、基本的には以下のような方法であると把握することもできる。
(11) 種結晶を加熱する加熱手段をCZ炉内で移動させる移動装置であって、原料融液から引上げられる単結晶とは干渉しない位置に前記加熱手段を退避させることが可能な外付けタイプの移動装置を現行のCZ法単結晶引上げ装置に取り付けることにより、現行のCZ法単結晶引上げ装置の改造を殆ど行なうこと無く、ダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置に転換する方法。
【0030】
更に本発明は、ダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置だけでなく、ダッシュネック法を採用する通常のCZ法単結晶引上げ装置に対しても適用することができる。そして、そのような装置の構成は、例えば以下のようなものである。
【0031】
(12) チョクラルスキー法(CZ法)によって原料融液から単結晶を引き上げるためのCZ法単結晶引上げ装置であって、原料融液から単結晶を引き上げるための各種炉内品と、前記原料融液及び前記各種炉内品をその内部に収容しこれらを外部から隔離するチャンバーと、を備え、前記チャンバーには、当該チャンバーを貫通して当該チャンバーに備え付けられる斜方向移動装置であって、その端部に取り付けられた各種炉内部材を斜め方向に移動させて、引上げられている単結晶に対して当該単結晶の引上げに干渉しない位置にまで当該「端部に取り付けられた各種炉内部材」を退避させ得る斜方向移動装置を備えることを特徴とするCZ法単結晶引上げ装置。
【0032】
ここで、「引上げられている単結晶に対して当該単結晶の引上げに干渉しない位置」というのは、いわゆるチャンバーの肩の部分など、引上げられている単結晶と衝突等の物理的な干渉を引き起こさない位置のことを意味する。また、「退避させ得る」というのは、斜方向に移動するも、前記「引上げられている単結晶に対して当該単結晶の引上げに干渉しない位置」にまで移動させることができる可能性を潜在的に備えていることを意味する。
【0033】
なお、このようなダッシュネック法を採用する通常のCZ法単結晶引上げ装置に対しても、上記の(1)〜(10)に示される各構成を適宜採用することができる。この場合において、上記(2)〜上記(5)に示される具体的な斜方向移動装置については、上記(2)〜上記(5)に示されるそのままの形態で採用することができる。また、上記(6)及び(7)のように、端部に取り付けられた各種炉内部材として抵抗加熱体を取り付けることも、上記(8)及び(9)のように、端部に取り付けられた各種炉内部材として熱光線反射体を取り付けることもできる。そして、そのようにした場合には、抵抗加熱体による加熱あるいは熱光線反射体からの反射光によって単結晶の所定の部位の温度上昇が引き起こされ、これによって単結晶の所定部位の温度調整を適宜行うことができるようになり、単結晶の温度勾配の調整のフレキシビリティが増加する。
【0034】
更に言えば、ダッシュネック法を採用する通常のCZ法単結晶引上げ装置においても、上記(10)のように、複数の斜方向移動装置を備えることも勿論可能である。
【0035】
【発明を実施するための形態】
図1は、本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置全体の概要を示すブロック図である。
【0036】
図1に示されるように、本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置においては、通常のCZ法単結晶引上げ装置と同様に、原料融液を貯留するルツボ11と、末端に取り付けられた種結晶13を上下方向に自在に移動させるワイヤ14と、がチャンバー15内に収容されている。なお、実際のCZ法単結晶引上げ装置には、ルツボ11を加熱するためのヒーターやルツボ11を昇降させるための昇降装置、引上げられた単結晶に対する融液からの熱輻射を遮蔽する熱遮蔽体、引上げられた単結晶を冷却するためのクーラーその他の炉内部材が収容されているが、説明を容易にするために、本明細書の各図面においてはこれらの部材の図示が省略されている。
【0037】
本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置においては、通常のCZ法単結晶引上げ装置と同様に、チャンバー15の内側は真空状態に減圧されており、その状態で原料融液から単結晶が引き上げられることとなるが、特徴的な構成として、チャンバー15の外壁に斜方向移動装置20が取り付けられていることである。
【0038】
この実施の形態において、方向移動装置20は、チャンバー15の外壁を気密状態を保ったまま摺動する状態で貫通しているアーム体21を備えており、このアーム体21の先端部分には、抵抗加熱体23が取り付けられており、この抵抗加熱体23によって種結晶13の先端部分を加熱溶解し、当該加熱溶解された種結晶を原料融液16に着液させるようにしている。そして、このように加熱溶解された種結晶を原料融液16に着液させるようにしているため、着液時の熱衝撃によって種結晶中に転位が走らなくなるので、ダッシュネック法を用いて転位を排除するような操作を行う必要がなくなる。
【0039】
ここで、本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置においては、抵抗加熱体23が種結晶13の先端部分を囲繞した状態で加熱が行われ、種結晶13の先端部分が加熱溶解されるが(図1A)、抵抗加熱体23による種結晶13の先端部分の加熱溶解が十分に行われた後は、アーム体21が斜め上方向にスライドし、単結晶の引上げの障害にならない位置にまで退避させられる(図1B)。
【0040】
このように、本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置においては、抵抗加熱体23を斜め方向に移動させる斜方向移動装置20がチャンバー15の肩の部分の外壁に取り付けられているため、種結晶先端部分の加熱処理を行った後に、CZ炉内において、抵抗加熱体23を単結晶の引上げの障害にならない位置にまで退避させることができ、しかも図8や図9のような装置とは異なり、チャンバー15が縦方向にも横方向にも拡張されず、コスト面では非常に有利である。
【0041】
更に言えば、斜方向移動装置20は、既存のCZ法単結晶引上げ装置に取り付けることができるため、既存設備の維持・利用という点でも好ましい。なお、既存のCZ法単結晶引上げ装置に取り付ける場合には、通常のCZ法単結晶引上げ装置に設けられている観察窓等を利用して取り付けることができる。また、図4に示されるように、通常は複数個設けられている観察窓等を利用して、複数個の斜方向移動装置20を取り付けることも可能である。
【0042】
次に、斜方向移動装置20の構成について詳細に説明すると、既に説明をした通り、斜方向移動装置20のアーム体21の先端部分には抵抗加熱体23が取り付けられているが、図1に示されるように、アーム体21の他端はチャンバー15を貫通して外部に突き出ている。そして、アーム体21の他端は架橋部材24に連結されており、この架橋部材24は螺子棒体25と螺合している。また、螺子棒体25は、モータ26の駆動力によって回動するようにされており、螺子棒体25が回動すると、それに伴って架橋部材24が螺子棒体25の軸方向に移動させられることとなり、その動きに連動してアーム体21がチャンバー15内から引き出されたり、チャンバー15内に押し込まれたりする。
【0043】
ここで、アーム体21は斜めに設定されているので、アーム体21がチャンバー15内に押し込まれると、種結晶13の周囲を抵抗加熱体23が囲繞する位置にまで当該抵抗加熱体23が斜め方向に下降移動する一方で、アーム体21がチャンバー15内から引き出されると、単結晶17の引上げに際して障害とならない位置にまで抵抗加熱体23が斜め方向に上昇移動することができる。
【0044】
特に、抵抗加熱体23が斜め方向に上昇移動して、最終的にはチャンバー15のショルダー部分の下に格納され、単結晶17の引上げに際して全く障害とならなくなるというのは、アーム体21が斜めに設定されていることに基づく有為な効果である。加えて、アーム体21が斜めに設定されているために、アーム体21がチャンバー15を貫通する部分がるつぼ11の真上に位置しなくなるため、アーム体21がチャンバー15の貫通部分において摺動を繰り返した場合でも、当該部分がルツボに対する汚染源となる危険性が著しく低減される。
【0045】
アーム体21がチャンバー15を貫通する部分については、気密性が保たれるような摺動構造となっているが、気密性保持の万全を図るために、本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置においては、アーム体21がチャンバー15を貫通する部分を覆い、かつ、チャンバー15内から引き出されてきたアーム体21の露出部分を格納する蛇腹部材27を備えている。そして、この蛇腹部材27の内側には、アルゴンなどの不活性ガスが適宜供給される。
【0046】
ここで、図2は、斜方向移動装置20のアーム体21の先端部分に取り付けられている抵抗加熱体23の構成を説明するための図である。この図2に示される用に、アーム体21の先端部分に取り付けられている抵抗加熱体23は、電線23a及び23bと、抵抗加熱部23cと、からなり、抵抗加熱部23cの形状は円弧状若しくはU字型である。
【0047】
このような形状としたのは、種結晶13の加熱後に斜め上方向に移動した場合に、抵抗加熱部23cが円形であると、当該種結晶13が邪魔になって移動ができなくなってしまうからである。即ち、抵抗加熱部23cを円弧状若しくはU字型にすることにより、抵抗加熱体23が斜め上方向に移動したときには、種結晶13が切り欠き部分を抜けて行くので、スムーズな移動が可能となる。
【0048】
ここで、抵抗加熱部23cの形状について更に言及すれば、種結晶13の先端部分を十分かつ均一に加熱するために、抵抗加熱部23cの形状は、基本的には種結晶13を取り囲む形状とする必要があるが、図2Aのような小円弧状のものよりも、図2BのようなU字形状のもののほうが、種結晶13の先端部分の十分かつ均一な加熱という観点からは好ましい。
【0049】
また、図2Cのような半円弧状のものとした場合には、図4に示されるような斜方向移動装置20を2個備えたCZ法単結晶引上げ装置とした場合には、2個の斜方向移動装置20からそれぞれ伸びてきた抵抗加熱体23が、種結晶13の先端部分の加熱溶解を行う部分で一体となって真円状を形成するようにすることができる。
【0050】
次に、斜方向移動装置20の実施形態について更に詳細に説明をする。図3は、本発明の好適な実施形態に係る斜方向移動装置20の詳細な構成を図示したものであり、図3Aは側面図、図3Bは図3AのA-A断面図、図3Cは上面図、図3Dは図3CのB-B断面図である。
【0051】
まず、図3A及び図3Bに示されるように、好適な実施形態に係る斜方向移動装置20においては、アーム体21の長さ方向の移動をさせる螺子棒体25に対してベローズ上端フランジ24’(架橋部材24に相当する部材)がその端部24’aの部分において螺合しているだけでなく、ベローズ上端フランジ24’の移動方向をガイドするためのガイドレール31及びガイドブロック33がそれぞれ設けられている。
【0052】
また、図3Aに示されるように、好適な実施形態に係る斜方向移動装置20においては、アーム体21の熱膨張による抵抗加熱体23の位置決め精度の狂いの防止や適確な温度制御、或いは装置自体の過熱防止等の目的から冷却水が通されるが、図3C及び図3Dに示されるように、好適な実施形態においては冷却水を通すための冷却水管34a及び34bはそれぞれ二重管であり、しかもその二重管の内側から冷却水が供給されて、外側から冷却水が排出される形式を取る。
【0053】
このような構造を採用することによって、供給される冷却水が排出される冷却水によってシールドされながら供給されることとなるので、冷却効果が向上する。なお、この好適な実施形態においては、電線23a及び23bを介して抵抗加熱部23cに電力を供給するための電源ケーブル35a及び35bはそれぞれ冷却水管34a及び34bに接続されており、冷却水管34a及び34bとベローズ上端フランジ24’の間は、絶縁材36a及び36bによって絶縁されている。
【0054】
図5および図6は、本発明の別の実施形態に係る斜方向移動装置を2個備えたCZ法単結晶引上げ装置を示す図である。なお、図1〜図4に示される構成要素と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【0055】
図5に示される別の実施形態に係る斜方向移動装置においては、アーム体21の先端部分に凹面鏡が取り付けられている。ここで、この実施形態に係る一対の斜方向移動装置をそれぞれ120a及び120bとし、それらのアーム体の先端部分に取り付けられている凹面鏡をそれぞれ40a及び40bとすると、図6A及び図6Bに示されるように、凹面鏡40a及び40bがそれぞれ合わさって一体となった場合には、一つの湾曲状の凹面鏡体40を形成する。
【0056】
ここで、凹面鏡40a及び40bは、図6に示されるように、種結晶13を取り込むための穴41が設けられており、凹面鏡40a及び40bの形状は、一つの湾曲状の凹面鏡体40を形成したときに原料融液からの輻射光を集光して所定の箇所で焦点を結ぶように設定されている。
【0057】
このような構成を備える本実施形態に係る斜方向移動装置においては、種結晶13の先端部分が凹面鏡体40の焦点のところに位置するまで種結晶13が降ろされて行き、次に斜め上から凹面鏡40a及び40bが斜め下方向にそれぞれ移動してきて、一つの湾曲状の凹面鏡体40を形成する。そして、一つの湾曲状の凹面鏡体40が形成されると、図6Dに示されるように、種結晶13の先端部分に焦点が結ばれるので、これによって種結晶13の先端部分を溶解させることができる。そしてその後は、抵抗加熱ヒーターの場合と同様に、溶解された種結晶を原料融液に着液し、通常のCZ法のプロセデュアーに従い、単結晶を引き上げることとなる。
【0058】
なお、上記の実施の形態では、本発明をダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置に適用した場合ついて説明してきたが、本発明は、ダッシュネック法を採用する通常のタイプのCZ法単結晶引上げ装置に適用することもできる。
【0059】
図7は、ダッシュネック法を採用する通常のタイプのCZ法単結晶引上げ装置に本発明を適用した場合の実施形態を示す図であり、アーム体21の先端には、炉内部材として平板反射体50が取り付けられている。なお、アーム体21は、既に説明してきた斜方向移動装置20の一部分であり、その他端は斜方向移動装置20の各部材と連結されている(図示せず)。
【0060】
そして、この図7から明らかなように、種結晶13を原料融液16に着液させて種絞りをした後、原料融液16から単結晶17を引き上げるにあたって、単結晶17の肩の部分が出ている状態(図7A)では、平板反射体50からの反射光によって単結晶17の肩の部分が加熱される。
【0061】
そして、単結晶17がある程度引き上げられると、それに応じて平板反射体50は斜め方向に退避する。そして、単結晶17の引き上げに干渉しない位置で、単結晶17の側面を反射光によって加熱し、単結晶側面の温度勾配の調整に貢献することとなる。このように、本発明に係る斜方向移動装置20は、ダッシュネック法を採用する通常のタイプのCZ法単結晶引上げ装置においても、必要な炉内部材を移動させるためのツールとして用いることができる。
【0062】
【発明の効果】
以上のような本発明によれば、CZ法単結晶引上げ装置の炉内部材を斜め方向に簡易に移動させることができるので、結晶の引上げの障害とならない位置にまで手際良く移動させることができる。
【0063】
また、本発明によれば、斜方向移動装置を設置するだけで、現行のCZ法単結晶引上げ装置の改造をほとんどすること無く、ダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置に転換するようなことが可能となり、ダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置の製造にあたってのイニシャルコストを抑えることができ、装置の改造停止期間を最小限に抑えることができるという大きな利点を有する。
【0064】
そして、本発明が適用されたダッシュネック法不採用タイプのCZ法単結晶引上げ装置は特に、以下のような有為な効果を有する。
【0065】
種結晶の加熱溶解が必要な場合には斜め下方向に加熱供用部材が降りてくる一方で、種結晶の加熱溶解が終了したときには、斜め上方向に移動して単結晶の引上げを妨げない位置まで退避するので、円滑に種結晶の加熱溶解と単結晶の引き上げを行うことができる。
【0066】
抵抗加熱ヒーターの存在が、Si融液界面からワイヤー巻取りドラムまでのワイヤー長さに影響しないため、結晶軸回転の共振点がずれず、抵抗加熱ヒーターの有無による単結晶成長パラメーターの変更を行わなくてもよい。また、駆動源が炉外にあり、最小限の発塵に抑えたシステムとなり、抵抗加熱ヒーターの存在が引き上げ可能結晶長に影響しない。
【0067】
電極椀部(アーム体)が冷却され、且つ、斜めにすることでその長さも最小限に抑えられるため、高温下においても抵抗加熱ヒーターの中心位置精度がよい。
【0068】
電極椀部の冷却にホースを炉内に設置しない為、水蒸気爆発等の心配が少ないシステムとすることができる。
【0069】
抵抗加熱ヒーターが種結晶の先端を溶解した後は当該種結晶軸上から離れて存在することとなり、引き上げ軸上部から流れる不活性ガスの流路が抵抗加熱ヒーターによって阻害されず、引き上げ結晶の円方向で均一なガス流れが提供でき、引き上げ結晶の品質・生産性等に影響を与えることが無い。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るCZ法単結晶引上げ装置全体の概要を示すブロック図である。
【図2】 斜方向移動装置20のアーム体21の先端部分に取り付けられている抵抗加熱体23の構成を説明するための図である。
【図3】 本発明の好適な実施形態に係る斜方向移動装置20の詳細な構成を図示したものであり、図3Aは側面図、図3Bは図3AのA-A断面図、図3Cは上面図、図3Dは図3CのB-B断面図である。
【図4】 2個の斜方向移動装置20を取り付けたCZ法単結晶引上げ装置の実施形態を示した図である。
【図5】 本発明の別の実施形態に係る斜方向移動装置を2個備えたCZ法単結晶引上げ装置を示す図であって、CZ法単結晶引上げ装置全体の概要を示すブロック図である。
【図6】 本発明の別の実施形態に係る斜方向移動装置を2個備えたCZ法単結晶引上げ装置を示す図であって、凹面鏡体40の機能構成を説明するための図である。特に、図6Aは2つの凹面鏡40a及び40bが接近していく様子を図示した上面図、図6Bは2つの凹面鏡40a及び40bが合わさって一体となった状態を示す上面図、図6Cは2つの凹面鏡40a及び40bが合わさって一体となった状態を示す側面図、図6Dは原料融液からの輻射光が焦点に集光されて種結晶先端部分が加熱溶解される様子を説明するための断面図である。
【図7】 ダッシュネック法を採用する通常のタイプのCZ法単結晶引上げ装置に本発明を適用した場合の実施形態を示す図である。
【図8】 US特許第5885344号に示された図から仮想される抵抗加熱ヒーターの移動機構を図示した図である。
【図9】 US特許第5885344号に示された図から仮想される抵抗加熱ヒーターの移動機構を図示した図であって、図8に示されるものとは別の形態に係る移動機構を図示した図である。
【符号の説明】
11 ルツボ
13 種結晶
14 ワイヤ
15 チャンバー
16 原料融液
17 単結晶
20 斜方向移動装置
21 アーム体
23 抵抗加熱体
23a及び23b 電線
23c 抵抗加熱部
24 架橋部材
24’ ベローズ上端フランジ
24a’ ベローズ上端フランジ24’の端部
25 螺子棒体
26 モータ
27 蛇腹部材
31 ガイドレール
33 ガイドブロック
34a及び34b 冷却水管
35a及び35b 電源ケーブル
36a及び36b 絶縁材
120a及び120b 一対の斜方向移動装置
40a及び40b 凹面鏡
40 一つの湾曲状の凹面鏡体
41 種結晶13を取り込むための穴
50 平板反射体[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a CZ method single crystal pulling apparatus for pulling a single crystal from a raw material melt by the Czochralski method (hereinafter, CZ method). Further, the present invention particularly uses the dash neck method by adopting a dash neck method non-adopting type CZ method single crystal pulling apparatus, more specifically, by seeding a seed crystal in which the tip portion is heated and dissolved in advance into the raw material melt. CZ method single crystal pulling apparatus suitable for producing a dislocation-free silicon single crystal, and in particular, a CZ method single crystal pulling apparatus equipped with a mechanism suitable for preheating and melting the tip of the seed crystal About.
[0002]
[Prior art]
When the seed crystal is deposited on the raw material melt, dislocations (slip dislocations) are introduced into the seed crystal due to thermal shock at that time, and this dislocation is generally performed using the dash neck method. Excluded from seed crystals.
[0003]
Here, the dash neck method is a method of pulling up a seed crystal that has been deposited on a raw material melt and then narrowing the diameter of the seed crystal once (so-called seed squeezing). This is a method in which dislocations introduced into the seed crystal are directed toward the outer periphery of the crystal so as to eliminate dislocations, and the tensile strength of the seed crystal portion is reduced by the amount that the seed crystal is thinned by performing seed drawing.
[0004]
However, there is a fear that the stress applied to the dash neck portion may exceed the strength due to the recent increase in diameter of the pulling crystal and the accompanying weight increase, and a crystal falling accident may occur during pulling. For this reason, a method for growing a dislocation-free crystal without thinning the seed crystal portion has been studied.
[0005]
Against this background, it was first discovered that there was no introduction of dislocations only by dissolution and resolidification of the seed crystal, and a technology that applied this phenomenon to the FZ crystal method was accompanied by a reduction in the diameter of the seed crystal. The technology has been proposed as a technique for growing dislocation-free crystals without any modification (Japanese Patent No. 1257980).
[0006]
As a matter of course, this technique has been tried to be applied to the CZ method, and several application examples have been presented. Among them, typical examples of improved seed crystal tip melting methods are disclosed in WO97-32059 and JP-A-8-319192 using a laser to dissolve the seed crystal tip. US Pat. No. 5,885,344 discloses a method in which the tip of the seed crystal is dissolved using a resistance heater.
[0007]
Here, in the method using a laser, an expensive apparatus is required because the irradiation area of the laser is large, and the occupied space of the transmitter is large, so that it is not suitable for use in a mass production factory. For this reason, when considering use in a mass production factory, the method of melting the seed crystal tip using a resistance heating type heater is more suitable.
[0008]
However, in the case of the method of melting the seed crystal tip using a resistance heating type heater, the function of heating and melting the seed crystal by supplying electric power from outside the furnace, with the pulling crystal after the seeding step In order to avoid interference, a function for moving the heater and a control system for controlling these functions are required. How to solve this problem is that the resistance heating type heater is used for the tip of the seed crystal. This is a key point when adopting the method of melting.
[0009]
In this regard, although there is no detailed description of the function of moving the heater in US Pat. No. 5,885,344, in the embodiment, the rigidity that can expand and contract in the vertical direction in two steps from the inside of the upper vacuum chamber. It has been suggested that a resistance heater is attached to the vertical bar of the body, and the resistance heater is moved up and down by expansion and contraction of the vertical bar.
[0010]
However, if such a mechanism is adapted to the actual pulling operation, the resistance heater must also be raised with the growth of the crystal. Therefore, the movement width of the resistance heater is long enough for the crystal growth to be performed. In order to achieve this, it is necessary to adopt a configuration in which the vertical bar of the rigid body is expanded and contracted vertically in two or three stages as shown in FIG. As shown in FIG. 9, it must be configured to move in the vertical direction in one step.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
However, in both of the hypothetical methods shown in FIGS. 8 and 9, the electrode collar portion Q becomes long, the accuracy of the center position of the
[0012]
Further, in the hypothetical method of FIG. 8, the
[0013]
Furthermore, both the hypothetical method of FIG. 8 and the method of FIG. 9 increase the size of the upper chamber both in the axial direction and in the circumferential direction, greatly increasing the cost of the apparatus. In addition, the height of the lifting room (clean room) must be increased, leading to an increase in overall cost and an increase in initial investment.
[0014]
In addition, in any of the systems shown in FIGS. 8 and 9, the sliding portion of the electrode flange portion Q is installed above the Si melt, and there is a problem that the number of contamination sources increases. Furthermore, since the
[0015]
The present invention has been made in view of the problems as described above, and its purpose is to perform dislocation-free without using the dash-neck method by causing a seed crystal having a tip portion heated and dissolved in advance to land on a raw material melt. A CZ method single crystal pulling apparatus suitable for producing a silicon nitride single crystal, comprising a mechanism that can smoothly heat and dissolve a seed crystal tip by a resistance heater is provided. There is.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, in the present invention, the shape of the resistance heater is a U shape surrounding the seed crystal, and after heating the tip of the seed crystal, it is retracted to a position where it does not interfere with the pulling crystal. The CZ method single crystal pulling apparatus is provided with a mechanism for moving the heater obliquely upward.
[0017]
More specifically, the present invention provides the following.
[0018]
(1) A CZ method single crystal pulling apparatus for producing a single crystal without using a dash neck method by causing a seed crystal in which the tip portion is heated and dissolved in advance to adhere to a raw material melt. A slanting direction moving device that is provided with a heating service member related to heating and melting and that is installed in the chamber through a chamber that houses various in-furnace items, and that moves the mounted heating service member in a slanting direction. A CZ method single crystal pulling apparatus comprising a direction moving device.
[0019]
The heating member may be any member as long as it relates to the dissolution of the tip of the seed crystal. Examples of such a member include a resistance heating body that performs heating by resistance heating and a raw material melt radiation light. Examples include a concave mirror that heats by condensing light. In addition, the single crystal produced without using the dash neck method according to the present invention is a silicon single crystal, in particular, a dislocation-free silicon single crystal having no slip dislocation as much as a silicon single crystal pulled using the dash neck method. It is a crystal.
[0020]
(2) The oblique movement device includes an arm body to which the heating service member is attached at an end thereof, and the arm body is disposed in the chamber with a predetermined oblique angle and maintains an airtight state. The CZ method single crystal pulling apparatus according to (1), wherein the chamber passes through the chamber while sliding.
[0021]
(3) The oblique direction moving device includes an arm body to which the heating service member is attached at an end thereof, a bridging member coupled to the arm body, a screw rod body screwed to the bridging member, A drive body for rotating a screw rod body, and the arm body is disposed in the chamber with a predetermined oblique angle and penetrates the chamber while sliding while maintaining an airtight state. (1) The CZ method single crystal pulling apparatus according to (1).
[0022]
(4) The oblique direction moving device includes a telescopic bellows member that covers a portion where the arm body penetrates the chamber and accommodates the arm body drawn out from the chamber. The CZ method single crystal pulling apparatus according to (2) or (3).
[0023]
(5) The CZ method single crystal pulling apparatus according to (4), further comprising an inert gas introduction hole for introducing an inert gas from an upper end of the bellows member.
[0024]
(6) The CZ according to any one of (2) to (4), wherein the heating service member attached to the end of the arm body is a resistance heating body for heating and dissolving the seed crystal. Single crystal pulling device.
[0025]
(7) The CZ method single crystal pulling apparatus according to (6), wherein the resistance heating body is U-shaped.
[0026]
(8) The heating service member attached to the end of the arm body is a heat beam reflector for condensing the seed crystal by condensing the heat beam emitted from the raw material melt onto the seed crystal. The CZ method single crystal pulling apparatus according to any one of (2) to (4).
[0027]
(9) The CZ method single crystal pulling apparatus according to (8), wherein the heat ray reflector is a concave mirror.
[0028]
(10) The CZ method single crystal pulling apparatus according to (6) or (9), comprising two or more oblique movement devices.
[0029]
In addition, the present invention can basically be grasped as the following method.
(11) A moving device for moving the heating means for heating the seed crystal in the CZ furnace, and capable of retracting the heating means to a position where it does not interfere with the single crystal pulled from the raw material melt. A method of converting to a CZ method single crystal pulling apparatus that does not employ the dash neck method, with almost no modification of the current CZ method single crystal pulling apparatus, by attaching the moving device to the current CZ method single crystal pulling apparatus .
[0030]
Furthermore, the present invention can be applied not only to a CZ method single crystal pulling apparatus that does not employ the dash neck method but also to a normal CZ method single crystal pulling apparatus that employs the dash neck method. And the structure of such an apparatus is as follows, for example.
[0031]
(12) A CZ method single crystal pulling apparatus for pulling a single crystal from a raw material melt by the Czochralski method (CZ method), various in-furnace products for pulling a single crystal from the raw material melt, and the raw material A chamber that houses the melt and the various in-furnace items inside and isolates them from the outside, and the chamber is an oblique movement device that is provided in the chamber through the chamber, The various furnace internal members attached to the end are moved in an oblique direction to the position where the single crystal being pulled does not interfere with the pulling of the single crystal. A CZ method single crystal pulling apparatus, comprising a slanting direction moving apparatus capable of retracting a material.
[0032]
Here, “a position that does not interfere with the pulling of the single crystal with respect to the pulled single crystal” means that the physical interference such as a collision with the pulled single crystal such as a shoulder portion of a so-called chamber. It means the position that does not cause. In addition, “can be retracted” means that there is a possibility that it can be moved to the “position where it does not interfere with the pulling of the single crystal with respect to the pulled single crystal” although it moves in the oblique direction. It means that you are prepared.
[0033]
In addition, each structure shown in said (1)-(10) is suitably employable also with respect to the normal CZ method single crystal pulling apparatus which employ | adopts such a dash neck method. In this case, the specific oblique direction moving devices shown in (2) to (5) above can be employed in the same forms as shown in (2) to (5) above. Further, as in the above (6) and (7), it is also possible to attach a resistance heating body as various in-furnace members attached to the end as in (8) and (9). In addition, a heat ray reflector can be attached as various furnace members. In such a case, the temperature of the predetermined portion of the single crystal is increased by the heating by the resistance heater or the reflected light from the heat ray reflector, thereby appropriately adjusting the temperature of the predetermined portion of the single crystal. And the flexibility of adjusting the temperature gradient of the single crystal is increased.
[0034]
Furthermore, even in a normal CZ method single crystal pulling apparatus that employs the dash neck method, it is of course possible to include a plurality of oblique movement devices as in (10) above.
[0035]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a block diagram showing an overview of the entire CZ method single crystal pulling apparatus according to the present invention.
[0036]
As shown in FIG. 1, in the CZ method single crystal pulling apparatus according to the present invention, the
[0037]
In the CZ method single crystal pulling apparatus according to the present invention, like the ordinary CZ method single crystal pulling apparatus, the inside of the
[0038]
In this embodiment, the
[0039]
Here, in the CZ method single crystal pulling apparatus according to the present invention, heating is performed in a state where the
[0040]
As described above, in the CZ method single crystal pulling apparatus according to the present invention, since the
[0041]
Furthermore, since the oblique
[0042]
Next, the configuration of the oblique
[0043]
Here, since the
[0044]
In particular, the
[0045]
The portion through which the
[0046]
Here, FIG. 2 is a view for explaining the configuration of the
[0047]
The reason for this shape is that if the
[0048]
Here, the shape of the
[0049]
In addition, in the case of a semicircular arc shape as shown in FIG. 2C, in the case of a CZ method single crystal pulling device provided with two
[0050]
Next, an embodiment of the
[0051]
First, as shown in FIGS. 3A and 3B, in the oblique
[0052]
Further, as shown in FIG. 3A, in the
[0053]
By adopting such a structure, since the supplied cooling water is supplied while being shielded by the discharged cooling water, the cooling effect is improved. In this preferred embodiment,
[0054]
5 and 6 are views showing a CZ method single crystal pulling apparatus including two oblique movement apparatuses according to another embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the component shown by FIGS. 1-4, and the description is abbreviate | omitted.
[0055]
In the oblique movement device according to another embodiment shown in FIG. 5, a concave mirror is attached to the distal end portion of the
[0056]
Here, as shown in FIG. 6, the
[0057]
In the oblique movement apparatus according to the present embodiment having such a configuration, the
[0058]
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to a dash neck method non-adopting type CZ method single crystal pulling apparatus has been described, but the present invention is a normal type CZ employing the dash neck method. It can also be applied to a process single crystal pulling apparatus.
[0059]
FIG. 7 is a view showing an embodiment in which the present invention is applied to a normal type CZ method single crystal pulling apparatus that employs the dash neck method. A
[0060]
Then, as apparent from FIG. 7, after the
[0061]
And if the
[0062]
【The invention's effect】
According to the present invention as described above, since the in-furnace member of the CZ method single crystal pulling apparatus can be easily moved in an oblique direction, it can be moved to a position that does not hinder crystal pulling. .
[0063]
In addition, according to the present invention, by simply installing the oblique movement device, the present CZ method single crystal pulling apparatus is converted into a CZ method single crystal pulling apparatus that does not adopt the dash neck method, with little modification. The initial cost for manufacturing the CZ method single crystal pulling apparatus that does not employ the dash neck method can be reduced, and the modification stop period of the apparatus can be minimized. .
[0064]
The dash neck method non-adopting type CZ method single crystal pulling apparatus to which the present invention is applied particularly has the following significant effects.
[0065]
When the seed crystal needs to be heated and dissolved, the heating service member descends diagonally downward, while when the seed crystal is heated and melted, it moves diagonally upward and does not hinder the pulling of the single crystal. Therefore, the seed crystal can be heated and dissolved smoothly and the single crystal can be pulled up smoothly.
[0066]
Since the presence of the resistance heater does not affect the wire length from the Si melt interface to the wire take-up drum, the resonance point of crystal axis rotation does not shift, and the single crystal growth parameters are changed depending on the presence or absence of the resistance heater. It does not have to be. In addition, the drive source is outside the furnace, resulting in a system that minimizes dust generation, and the presence of the resistance heater does not affect the crystal length that can be raised.
[0067]
Since the electrode flange (arm body) is cooled and inclined, the length thereof can be minimized, so that the center position accuracy of the resistance heater is good even at high temperatures.
[0068]
Since a hose is not installed in the furnace for cooling the electrode flange, it is possible to provide a system that is less susceptible to steam explosions.
[0069]
After the resistance heater melts the tip of the seed crystal, it exists away from the seed crystal axis, and the flow path of the inert gas flowing from the upper part of the pulling shaft is not obstructed by the resistance heater, and the circle of the pulling crystal is Uniform gas flow can be provided in any direction, without affecting the quality and productivity of the pulled crystal.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing an outline of an entire CZ method single crystal pulling apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a diagram for explaining a configuration of a
3 illustrates a detailed configuration of an
FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of a CZ method single crystal pulling apparatus to which two
FIG. 5 is a diagram showing a CZ method single crystal pulling apparatus including two oblique movement devices according to another embodiment of the present invention, and is a block diagram showing an outline of the entire CZ method single crystal pulling apparatus. .
6 is a view showing a CZ method single crystal pulling apparatus including two oblique movement apparatuses according to another embodiment of the present invention, and is a view for explaining a functional configuration of a
FIG. 7 is a diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to a normal type CZ method single crystal pulling apparatus employing a dash neck method.
FIG. 8 is a diagram illustrating a moving mechanism of a resistance heater hypothesized from the diagram shown in US Pat. No. 5,885,344.
FIG. 9 is a diagram illustrating a moving mechanism of a resistance heater hypothesized from the diagram shown in US Pat. No. 5,885,344, and illustrates a moving mechanism according to a form different from that shown in FIG. FIG.
[Explanation of symbols]
11 crucible
13 seed crystals
14 wires
15 chambers
16 Raw material melt
17 Single crystal
20 Oblique direction moving device
21 Arm body
23 Resistance heating element
23a and 23b electric wire
23c Resistance heating unit
24 Cross-linking member
24 'Bellows top flange
24a 'end of bellows upper end flange 24'
25 Screw rod
26 Motor
27 Bellows member
31 Guide rail
33 Guide block
34a and 34b cooling water pipes
35a and 35b Power cable
36a and 36b insulation
120a and 120b A pair of oblique movement devices
40a and 40b concave mirrors
40 One concave concave mirror
41 Hole for taking in
50 Flat reflector
Claims (6)
前記チャンバーを貫通して当該チャンバーの肩の部分の外壁に設けられる斜方向移動装置を備え、
前記斜方向移動装置は、種結晶の先端部を加熱して溶解する加熱供用部材を有し、前記加熱供用部材を単結晶の引上げ方向に対して斜め方向に移動させ、
前記加熱供用部材は、種結晶の先端部を囲繞した状態で加熱が可能なU字形状又は円弧状の抵抗加熱体を有することを特徴とするCZ法単結晶引上げ装置。A CZ method single crystal pulling apparatus for producing a single crystal without using the dash neck method by bringing a seed crystal in which the tip is heated and dissolved in the inside of the chamber into a raw material melt and pulling up the single crystal Because
Includes an oblique direction moving device provided in the outer wall of the shoulder portion of the chamber through said chamber,
The oblique direction moving device has a heating service member that heats and melts the tip of the seed crystal , moves the heating service member in an oblique direction with respect to the pulling direction of the single crystal ,
The heating in service member, CZ method single crystal pulling apparatus, characterized by have a resistive heating element state heating of U-shaped or arc-shaped capable of the tip and surrounds the seed crystal.
このアーム体は、所定の斜角をもって前記チャンバーの内部に配置されていると共に、気密状態を保持したまま摺動する状態で前記チャンバーを貫通していることを特徴とする請求項1記載のCZ法単結晶引上げ装置。The oblique movement device includes an arm body to which the heating member is attached at an end thereof,
2. The CZ according to claim 1, wherein the arm body is disposed inside the chamber with a predetermined oblique angle and penetrates the chamber while sliding while maintaining an airtight state. Single crystal pulling device.
前記アーム体は、所定の斜角をもって前記チャンバーの内部に配置されていると共に、気密状態を保持したまま摺動する状態で前記チャンバーを貫通していることを特徴とする請求項1記載のCZ法単結晶引上げ装置。The oblique direction moving device includes an arm body to which the heating service member is attached at an end thereof, a bridging member coupled to the arm body, a screw bar body screwed to the bridging member, and the screw bar body And a driving body for rotating the
2. The CZ according to claim 1, wherein the arm body is disposed inside the chamber with a predetermined oblique angle, and penetrates the chamber while sliding while maintaining an airtight state. Single crystal pulling device.
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