JP4365068B2 - Conductive adhesive, component bonding structure, and component bonding method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、導電性被覆層を有した粒子状フィラーを含む導電性接着剤、並びにこれを用いた部品接合構造および方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から表面実装部品などの電子部品を基板に接合するに際しては、一般的に、ハンダにより接合する方式が採用されている。しかし、近年、後述の理由により、ハンダ材料に代えて、樹脂組成物から構成される接着剤を用いた接合方式が望まれることが多くなってきた。特に、表面実装部品を基板に搭載する場合には、実装部品の電極と基板の電極との導通を図るべく、導電性を有する接着剤が使用されている。そのような導電性接着剤としては、たとえば特開平10−265748号公報または特開平11−45618号公報に開示されるように、熱硬化性樹脂および/または熱可塑性樹脂に導電性粒子である銀や銅などの金属フィラーを分散させたものが広く使用されている。
【0003】
ハンダに代えて、接着剤、特に導電性接着剤を用いる理由は次のとおりである。ハンダの融点は183℃であるので、接合部を183℃以上に加温して接合する必要がある。このため、200℃以上の高温の炉を通す方法が一般的であり、電子部品および基板は大きな熱応力を受ける。また、電子部品の電極は、アルミニウムで構成されていることも多いが、ハンダとアルミニウムの接合性が悪いので、電極がアルミニウムで構成されている電子部品をハンダで接合する際は、ハンダとの接合性に優れた金属(バリアメタル)を予めアルミニウムで構成された電極上に形成しておく必要があり、手間がかかるとともにコスト的にも不利である。加えて、ハンダは鉛を含んでおり、対環境性の観点からも使用は好ましくない。
【0004】
そこで、ハンダにおける上記のような問題点を解消するために導電性接着剤を用いた接合が行われるようになったが、従来の導電性接着剤には以下のような問題点がある。
【0005】
接着剤を構成する樹脂、たとえばエポキシなどの熱硬化性樹脂は、電子部品や基板との熱膨張率の差が大きい。そのため、上記樹脂に熱をかけると熱応力がかかり、電子部品などにダメージを与える。そこで、熱膨張率の違いを緩和するために、接着剤には一般的にシリカ粒子やアルミナ粒子などの熱膨張調整材粒子が添加されている。また、接着剤に導電性を付与するために、導電性粒子をさらに添加しているので、導電性接着剤の製造コストは高くなる。特に、導電性粒子として好ましいAgを用いる場合は高価となる。
【0006】
また、接合をハンダで行っていた場合は、複数の電子部品を搭載後、上記ハンダを一括で溶融固化させることにより、実装することができるのに対し(ハンダペーストのリフロー接合)、接合を導電性接着剤で行う場合は、個々の電子部品を基板に搭載する毎に導電性接着剤の硬化を行う必要があるのに加え、この硬化に要する時間は通常数十秒必要であり、生産性が悪い。また、電子部品の実装後の導通検査において、良好な導通が確認できなかった場合、ハンダは溶融させるだけで容易にリワークが可能であるのに対して、熱硬化性樹脂を含む導電性接着剤により接合を行う場合、接合強度が高いために、リワークが困難である。また、熱可塑性樹脂を含む導電性接着剤においては、加熱によりリワークが可能であるが、熱や溶剤に対する耐性が弱くなるため、必要な接合強度が得られない場合がある。ここでリワークとは、たとえば基板に接合された電子部品を当該基板から取り外し、再度同じ箇所に取り付ける、もしくは取り外した箇所に新しい電子部品を取り付けることである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本願発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、従来の接着剤において、導電性を付与するために必要であった導電性粒子の代わりに、熱膨張調整材の表面に導電性被覆層を形成した粒子状フィラーを用いることにより導電性を確保しつつ、導電性粒子を省くことにより導電性接着剤の低コスト化を達成する導電性接着剤を提供することを課題としている。
【0008】
本願発明の他の課題としては、接着剤を硬化させずに導通検査を可能にすることにより、リワーク性の点で優れた導電性接着剤を提供することを課題としている。
【0009】
【発明の開示】
本願発明では、上記した課題を解決すべく、次の技術的手段を講じている。
【0010】
すなわち、本願発明の第1の側面により提供される導電性接着剤は、樹脂成分および粒子状フィラーを含み、上記フィラーは、熱膨張調整材粒子と、この熱膨張調整材粒子の表面を被覆する導電性被覆層とを有していることを特徴としている。
【0011】
本願発明の導電性接着剤の組成物である上記フィラーは、熱膨張調整材粒子と、この熱膨張調整材粒子の表面を被覆する導電性被覆層とを有しているので、熱膨張調整材として本来有している熱膨張調整機能に加え、上記フィラーの導電性被覆層を相互接触させると電気的導通が図れるので、導電性も付与されている。そのため、従来接着剤に導電性を付与するために混入されてきた導電性粒子が必要なくなり、導電性接着剤の低コスト化が図れる。また、従来は熱膨張調整材と導電性粒子との2種類を混入する必要性があったが、本願発明においては、上記フィラーのみを混入すればよく、導電性接着剤の製造工程における作業効率がよくなる。
【0012】
好ましくは、熱膨張調整材は、シリカ粒子および/またはアルミナ粒子である。また、導電性被覆層は、In,Sn,Zn,Pb,Sb,Biから選択される1種または2種以上を含む金属で形成できるが、リワーク性付与を考慮するとInにより形成するのが好ましい。粒子状フィラーの配合割合は、接着剤全体の20〜60体積%の範囲であるのが好ましい。
【0013】
上記導電性接着剤に対する加圧により上記フィラーは相互接触するが、特にInは軟質であるため、導電性被覆層は容易に変形する。そのため、接着剤を加圧するだけで上記フィラー粒子間における導電性被覆層の相互接触面積が大きくなり、良好な電気的導通が確立できる。また、加圧するだけで良好な電気的導通が確立できるので、たとえばICチップを基板に搭載する際に行われる導通検査などを樹脂成分を硬化させずに行うことができ、導通不良時でもリワークを容易に行うことができる。
【0014】
樹脂成分として好ましくは、熱硬化性樹脂であり、これは主剤と硬化剤からなる。主剤としては、たとえばエポキシが挙げられる。硬化剤としては、たとえばイミダゾール系硬化剤が挙げられる。硬化剤の添加量は、達成すべき硬化速度、あるいはポットライフ(接着剤の調製後の使用可能期間)などの種々の要因を考慮して決定され、たとえば主剤100重量部に対して、好ましくは20〜60重量部の範囲である。
【0015】
好ましくは、導電性接着剤は、さらにカップリング剤を含有している。カップリング剤を混入することにより導電性接着剤を構成する樹脂成分と、フィラーとの親和性が高まり、フィラーを樹脂成分中に安定かつ均一に分散させることができる。カップリング剤としては、シリコーン系カップリング剤が好ましく、その含有量は、たとえば主剤100重量部に対して0.5〜2.0重量部の範囲である。
【0016】
本願発明の第2の側面により提供される上記導電性接着剤を用いた電子部品接合構造は、導電性接着剤を用いて、第1接合対象部品と第2接合対象部品とを接合させる構造であって、上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品との間に上記導電性接着剤を介在させて両接合対象部品を接合させるとともに、両接合対象部品の接合対象部品間において上記フィラーの導電性被覆層を相互接触させることにより、両接合対象部品を導通させた構造を有していることを特徴としている。
【0017】
上記導電性接着剤を用いて第1接合対象部品と第2接合対象部品を圧着させることにより、第1接合対象部品と第2接合対象部品との間に介在する導電性接着剤に含まれる上記フィラーが相互接触し、第1接合対象部品と第2接合対象部品とが相互接触するフィラー粒子の導電性被覆層を介して導通する。したがって、従来のように熱膨張の調整を主目的とするフィラーに加えて、導電性付与のみを目的とする導電性粒子を別途添加する必要はなく、低コスト化が図れる。
【0018】
本願発明の第3の側面により提供される導電性接着剤を用いた電子部品接合方法は、第1接合対象部品と第2接合対象部品とを接合し、固定する方法であるが、上記導電性被覆層がInからなることを前提にしている。具体的には、当該方法は、上記導電性接着剤を上記第1接合対象部品および/または第2接合対象部品に塗布し、上記第1接合対象部品と第2接合対象部品との位置を合わせるとともに、これらの間に上記導電性接着剤を介在させることにより両接合対象部品を仮接合し、上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品との間の導通検査を行い、上記導通検査において、良好な導通が確認されない場合、上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品とを分離し、再度接着剤塗布から導通検査に至るまでを繰り返し、上記導通検査において、良好な導通が確認された場合、上記導電性接着剤を硬化させることにより、第1接合対象部品と第2接合対象部品と本接合させることを特徴としている。
【0019】
第1接合対象部品と第2接合対象部品との間に本願発明の導電性接着剤を介在させ、圧着することにより両接合対象部品の仮接合を行う場合、両接合対象部品間に介在する導電性接着剤において、上記フィラーの導電性被覆層が相互接触するが、導電性被覆層を構成するInは軟質であり加圧により容易に変形するため、より大きな接触面積が確保でき、良好な電気的導通が確立できる。そのため、従来の接着剤は、圧着だけでは導通検査を行うのに必要な電気的導通が得られず、接着剤を硬化させることにより加わる樹脂の収縮力も必要であったために、導通検査を行う前に接着剤を硬化させる必要があったが、本願発明の導電性接着剤においては、導通検査前に硬化させる必要性がなく、リワーク性が向上する。また、作業効率的に有利なのに加え、従来のハンダ接合とは異なりリワークするのに熱を加える必要性がなく、リワークの段階で部品に熱によるダメージを与えることを抑制できる。さらに、リワークされた部品の再利用も容易なので、新しい部品に必ずしも置き換える必要がなく、コスト的にも有利である。
【0020】
本願発明のその他の利点および特徴については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかとなるであろう。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。
【0022】
図1は、本願発明の導電性接着剤10を用いて、表面実装部品として構成されている電子部品1(たとえば、半導体チップ)を基板2に接合する工程を示す概略図であり、図1(a)は、塗布工程を表し、図1(b)は接合工程を表している。
【0023】
図1(a)の塗布工程では、電子部品1において複数の電極部1aが形成されている接合面1Aと、基板2において複数の電極部2aを含む配線パターンが形成されている接合面2Aとに導電性接着剤10が塗布される。なお、この導電性接着剤10の塗布は、いずれか一方の接合面のみへの塗布であってもよい。
【0024】
上述のように導電性接着剤10により図1(a)の塗布工程を行った後、図1(b)に示すように、電子部品1と基板2とを接合する。この接合工程は常温で行われる。このとき、電子部品1の電極部1aが基板2の電極部2aに対向するように、電子部品1および基板2を位置決めしつつ、基板2に対して電子部品1を押圧する。電極部1a,2aは、それぞれの接合面1A,2Aから若干突出しており、これら電極部1a,2aが相互に対向する箇所の間隔はその分小さくなる。したがって、電子部品1の押圧により、電子部品1と基板2との間には、導電性接着剤10の高圧縮部20と低圧縮部21が形成される。
【0025】
図2に示したように、本実施の形態において導電性接着剤10は、樹脂成分3と、熱膨張調整材4の表面に導電性被覆層5が形成された粒子状フィラー6とを含んでいる。したがって、図2に良く表れているように、高圧縮部20においては、粒子状フィラー6は過密状態であり、粒子状フィラー6の導電性被覆層5が相互接触することにより、電子部品1における電極部1aと基板2における電極部2aとが導電性被覆層5を介して電気的に導通される。一方、低圧縮部21においては、粒子状フィラー6は、粒子状フィラー6の導電性被覆層5が相互接触できるほど過密状態ではなく、低圧縮部21において導通しない。
【0026】
樹脂成分3としては、たとえば熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などが挙げられる。特に熱硬化性樹脂が好ましく用いられる。熱硬化性樹脂は、主剤および硬化剤を含んで構成されている。主剤としては、たとえばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ユリア樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。特にエポキシ樹脂が好ましく用いられる。硬化剤としては、たとえばイミダゾール系硬化剤、酸無水物硬化剤、アミン系硬化剤などが挙げられる。硬化剤の添加量は、使用すべき硬化剤の種類や達成すべき硬化速度、あるいは接着剤のポットライフなどの種々の要因を考慮して適宜設定すべきであり、主剤100重量部に対して、20〜60重量部の範囲とされる。
【0027】
熱膨張調整材4としては、シリカ粒子およびアルミナ粒子などが挙げられる。これらの熱膨張率は小さいので、硬化状態における導電性接着剤10の熱膨張率を低下させたり、ヤング率を高める作用がある。また、導電性被覆層5を構成する材料としては、In,Sn,Zn,Pb,Sb,Biから選択される1種または2種以上を含む金属が挙げられる。特にInが好ましく用いられる。
【0028】
導電性接着剤10は、さらにカップリング剤を含んでいてもよい。カップリング剤としては、たとえばシリコーン系カップリング剤などが挙げられる。導電性接着剤10にシリコーン系カップリング剤を添加することによって、導電性接着剤10の硬化状態における導電性接着剤10と接合対象物との接着性を高めることができる。好ましくは、シリコーン系カップリング剤の添加量は、主剤100重量部に対して0.5〜2.0重量部の範囲とされる。
【0029】
次に、本願発明の実施例について説明する。
【0030】
【実施例1】
本実施例では、主剤としてエポキシ樹脂(商品名:830LVP、大日本インキ製)100重量部と、硬化剤としてイミダゾール系硬化剤(商品名:HX3921、旭チバ製)50重量部と、導電性フィラーとして、熱膨張調整材として平均粒径3μmのシリカ粒子(商品名:SO−E5、アドマテックス製)の表面をInで被覆した導電性被覆層を有する粒子状フィラー100重量部と、添加剤としてシリコーン系カップリング剤(商品名:MAC2101、日本ユニカー製)1重量部と、を均一に攪拌混合して、本実施例の導電性接着剤を調整した。
【0031】
<電子部品の接合>
上述のようにして調整した導電性接着剤を352個のバンプ、すなわち電極部(125μmピッチ)が設けられている電子部品としてのSiチップ(12.5×12.5mm)の接合面、および対応するピッチおよび数で電極部が設けられている接合面を有する基板に対して、図1(a)に示すように塗布した。次に、図1(b)に示すように、基板の電極部に対してSiチップの電極部を位置合わせしつつ、Siチップを基板に10kgfで圧着した。この接合工程は常温で行う。このようにして本実施例の良品サンプルを30サンプル作製した。また、基板の電極部に対してSiチップの電極部を、位置をずらして圧着した不良品サンプルも同様の方法で30サンプル作製した。
【0032】
<電子部品の固定化、もしくはリワーク後の固定化>
作製した良品サンプルについては、導通検査後、恒温槽で150℃、5minの条件で導電性接着剤を硬化させた。不良品サンプルについては、圧着されたSiチップを取り外し、基板上の導電性接着剤の残さをアセトンで拭き取った。拭き取り後の基板に導電性接着剤を再度塗布し、これに新しいSiチップを上記と同様の方法で再度圧着した。圧着後、導通検査を行い、恒温槽で150℃、5minの条件で導電性接着剤を硬化させ、再搭載サンプルを作製した。
【0033】
<接合の信頼性の評価>
上述のようにして作製した良品サンプルおよび再搭載サンプルを各30個、計60個用意し、これらについて接合安定性を調べた。具体的には、各サンプルにおいてSiチップ電極と基板電極とが接続された352個の電気的接続点の初期導通抵抗を測定した後に、−65〜125℃の範囲で温度サイクル試験を行い、再び導通抵抗を測定した。温度サイクル試験においては、まずサンプルを−65℃で15分間冷却し、次に室温まで温度を上昇させて10分間放置し、さらに125℃まで温度を上昇させて15分間過熱することを1サイクルとし、このサイクルを所定回数繰り返した。本実施例では、サイクル数を500とした。その結果、良品サンプル30個および再搭載サンプル30個のサンプル全ての電気的接続点において、サイクル試験後の抵抗の上昇はサイクル試験前の抵抗に対して10%以下と良好であり、導通不良も確認されなかった。このように、本実施例の導電性接着剤および接合方法で接合したSiチップと基板とは、温度が変化しても安定して接合されることが確認された。
【0034】
【実施例2】
実施例1の再搭載において、新しいSiチップの代わりに、取り外されたSiチップに付着した導電性接着剤をアセトンで洗浄したものを用いて再搭載を行った以外は、実施例1と同様にして、良品サンプルおよび再搭載サンプルを各30個作製した。これらのサンプルについて実施例1と同一の温度サイクル試験により接合信頼性を調べたところ、30個のサンプル全ての電気的接続点において、サイクル試験後の抵抗の上昇はサイクル試験前の抵抗に対して10%以下と良好であり、導通不良も確認されなかった。このように、本実施例のようにSiチップを再使用しても、Siチップと基板とは安定して接合されることが確認された。
【0035】
【実施例3】
実施例1で導電性接着剤を作製する際に使用したシリカ粒子の代わりに平均粒径1μmアルミナ粒子(商品名:A0902、アドマテックス製)を用いた以外は、実施例1と同様にして、良品サンプルおよび再搭載サンプルを各30個作製した。これらのサンプルについて実施例1と同一の温度サイクル試験により接合信頼性を調べたところ、30個のサンプル全ての電気的接続点において、サイクル試験後の抵抗の上昇はサイクル試験前の抵抗に対して10%以下と良好であり、導通不良も確認されなかった。このように、本実施例の熱膨張調整剤がシリカもしくはアルミナのいずれを用いても、Siチップと基板とは安定して接合されることが確認された。
【0036】
以上のまとめとして、本願発明の構成および、そのバリエーションについて、以下に付記として列挙する。
【0037】
(付記1)樹脂成分および粒子状フィラーを含み、
上記フィラーは、熱膨張調整材粒子と、この熱膨張調整材粒子の表面を被覆する導電性被覆層とを有していることを特徴とする、導電性接着剤。
(付記2)上記熱膨張調整材粒子は、シリカ粒子および/またはアルミナ粒子である、付記1に記載の導電性接着剤。
(付記3)上記導電性被覆層は、Inからなる、付記1または2に記載の導電性接着剤。
(付記4)上記樹脂成分は、主剤および硬化剤からなる熱硬化性樹脂である、付記1ないし3のいずれかに記載の導電性接着剤。
(付記5)上記主剤は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ユリア樹脂、フェノール樹脂から選択される、付記4に記載の導電性接着剤。
(付記6)上記硬化剤は、イミダゾール系硬化剤である、付記4または5に記載の導電性接着剤。
(付記7)上記導電性接着剤の全体におけるイミダゾール系硬化剤の含有量は、主剤100重量部に対して、20〜60量部である、付記6に記載の導電性接着剤。
(付記8)上記導電性接着剤は、さらにカップリング剤を含有している、付記1ないし7のいずれかに記載の導電性接着剤。
(付記9)上記カップリング剤は、シリコーン系カップリング剤である、付記8に記載の導電性接着剤。
(付記10)上記導電性接着剤の全体におけるシリコーン系カップリング剤の含有量は、主剤100重量部に対して0.5〜2.0重量部である、付記9に記載の導電性接着剤。
(付記11)付記1ないし10のいずれかに記載の導電性接着剤を用いて、第1接合対象部品と第2接合対象部品とを接合させる構造であって、
上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品との間に上記導電性接着剤を介在させて両接合対象部品を接合させるとともに、両接合対象部品の接合対象部品間において上記フィラーの導電性被覆層を相互接触させることにより、両接合対象部品を導通させた構造を有していることを特徴とする、部品接合構造。
(付記12)付記3に記載の導電性接着剤を用いて、第1接合対象部品と第2接合対象部品とを接合し、固定する方法であって、
上記導電性接着剤を上記第1接合対象部品および/または第2接合対象部品に塗布し、
上記第1接合対象部品と第2接合対象部品との位置を合わせるとともに、これらの間に上記導電性接着剤を介在させることにより両接合対象部品を仮接合し、
上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品との間の導通検査を行い、
上記導通検査において、良好な導通が確認されない場合、上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品とを分離し、再度接着剤塗布から導通検査に至るまでを繰り返し、
上記導通検査において、良好な導通が確認された場合、上記導電性接着剤を硬化させることにより、第1接合対象部品と第2接合対象部品とを本接合させることを特徴とする、部品接合方法。
【0038】
【発明の効果】
以上に述べたように、本願発明によると、導電性接着剤10に含まれる粒子状フィラー6として、熱膨張調整材4の表面に導電性被覆層5を形成したものを使用することにより、従来必要であった銀や銅などの粒子である導電性粒子が必要なくなり、導電性接着剤10の低コスト化が図れる。
【0039】
また、電子部品1と基板2との間に本願発明の導電性接着剤10を介在させ、圧着することにより電子部品1と基板2との仮接合を行う場合、これらの間に介在する導電性接着剤10において、粒子状フィラー6の導電性被覆層5が相互接触するが、導電性被覆層5がInの場合には、その材質が軟質であり加圧により容易に変形するため、より大きな接触面が確保でき、良好な電気的導通が確立できる。そのため、従来は圧着だけでは導通検査を行うのに必要な電気的導通が得られず、接着剤を硬化させることにより加わる樹脂の収縮力も必要であったために、導通検査を行う前に接着剤を硬化させる必要があったが、本願発明の導電性接着剤10においては、導通検査前に硬化させる必要性がないため、リワーク性が向上する。したがって、作業効率的に有利なのに加え、従来のハンダ接合とは異なり、リワークするのに熱を加える必要性はなくなり、リワークの段階で電子部品1や基板2などに熱によるダメージを与えることを抑制できる。さらに、リワークされた部品1,2の再利用も容易なので、新しい部品1,2に必ずしも置き換える必要がなく、コスト的にも有利である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明に係る導電性接着剤を用いて、電子部品を基板に接合する方法を表す概略説明図である。
【図2】本願発明に係る導電性接着剤を用いて、電子部品を基板に接合する方法を表す概略説明図の要部拡大図である。
【符号の説明】
1 電子部品
1a 電極部
2 基板
2a 電極部
3 樹脂成分
4 熱膨張調整材
5 導電性被覆層
6 粒子状フィラー
10 導電性接着剤[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a conductive adhesive including a particulate filler having a conductive coating layer, and a component joining structure and method using the same.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, when electronic components such as surface mount components are bonded to a substrate, a method of bonding by solder is generally employed. However, in recent years, for the reasons described later, a joining method using an adhesive composed of a resin composition instead of a solder material has been increasingly desired. In particular, when a surface mount component is mounted on a substrate, a conductive adhesive is used in order to achieve electrical connection between the electrode of the mount component and the electrode of the substrate. As such a conductive adhesive, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-265748 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-45618, silver which is conductive particles in a thermosetting resin and / or a thermoplastic resin. Those in which metal fillers such as copper and copper are dispersed are widely used.
[0003]
The reason for using an adhesive, particularly a conductive adhesive, in place of solder is as follows. Since the melting point of the solder is 183 ° C., it is necessary to join the joint by heating the joint to 183 ° C. or higher. For this reason, a method of passing through a furnace having a high temperature of 200 ° C. or higher is common, and the electronic component and the substrate are subjected to a large thermal stress. In addition, the electrodes of electronic parts are often made of aluminum, but since the bondability between solder and aluminum is poor, when joining electronic parts whose electrodes are made of aluminum with solder, It is necessary to form a metal (barrier metal) excellent in bondability on an electrode made of aluminum in advance, which is troublesome and disadvantageous in terms of cost. In addition, the solder contains lead, which is not preferable from the viewpoint of environmental friendliness.
[0004]
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems in solder, joining using a conductive adhesive has been performed. However, conventional conductive adhesives have the following problems.
[0005]
A resin constituting the adhesive, for example, a thermosetting resin such as epoxy, has a large difference in thermal expansion coefficient from the electronic component or the substrate. Therefore, when heat is applied to the resin, thermal stress is applied and damages electronic components and the like. Therefore, in order to alleviate the difference in thermal expansion coefficient, thermal expansion adjusting material particles such as silica particles and alumina particles are generally added to the adhesive. Moreover, in order to provide electroconductivity to an adhesive agent, since the electroconductive particle is further added, the manufacturing cost of an electroconductive adhesive agent becomes high. In particular, when Ag preferable as the conductive particles is used, it becomes expensive.
[0006]
In addition, when bonding is performed with solder, mounting can be performed by melting and solidifying the solder in a lump after mounting a plurality of electronic components (solder paste reflow bonding). When using an adhesive, it is necessary to cure the conductive adhesive each time an individual electronic component is mounted on the board. In addition, the time required for this curing is usually several tens of seconds, which increases productivity. Is bad. In addition, in the continuity inspection after mounting electronic components, if good continuity is not confirmed, solder can be easily reworked simply by melting, while conductive adhesive containing a thermosetting resin When joining by means of reworking is difficult due to the high joining strength. Moreover, in the conductive adhesive containing a thermoplastic resin, although rework is possible by heating, since the tolerance with respect to a heat | fever and a solvent becomes weak, required joint strength may not be obtained. Here, reworking refers to, for example, removing an electronic component bonded to a substrate from the substrate and attaching it again to the same location, or attaching a new electronic component to the removed location.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been conceived under such circumstances, and in the conventional adhesive, in place of the conductive particles necessary for imparting conductivity, a thermal expansion adjusting material is used. To provide a conductive adhesive that achieves cost reduction of a conductive adhesive by omitting conductive particles while ensuring conductivity by using a particulate filler having a conductive coating layer formed on the surface. It is an issue.
[0008]
Another object of the present invention is to provide a conductive adhesive that is superior in terms of reworkability by enabling continuity inspection without curing the adhesive.
[0009]
DISCLOSURE OF THE INVENTION
In the present invention, the following technical means are taken in order to solve the above-described problems.
[0010]
That is, the conductive adhesive provided by the first aspect of the present invention includes a resin component and a particulate filler, and the filler covers the thermal expansion adjusting material particles and the surface of the thermal expansion adjusting material particles. It is characterized by having a conductive coating layer.
[0011]
Since the filler which is the composition of the conductive adhesive of the present invention has the thermal expansion adjusting material particles and the conductive coating layer covering the surface of the thermal expansion adjusting material particles, the thermal expansion adjusting material In addition to the inherent thermal expansion adjustment function, electrical conductivity can be achieved by bringing the filler conductive coating layers into contact with each other. Therefore, the conductive particles that have been mixed for imparting conductivity to the conventional adhesive are not necessary, and the cost of the conductive adhesive can be reduced. Conventionally, it has been necessary to mix two types of thermal expansion adjusting material and conductive particles. However, in the present invention, only the filler need be mixed, and work efficiency in the manufacturing process of the conductive adhesive is reduced. Will be better.
[0012]
Preferably, the thermal expansion adjusting material is silica particles and / or alumina particles. The conductive coating layer can be formed of a metal including one or more selected from In, Sn, Zn, Pb, Sb, and Bi, but is preferably formed of In in consideration of imparting reworkability. . The mixing ratio of the particulate filler is preferably in the range of 20 to 60% by volume of the entire adhesive.
[0013]
The fillers are brought into contact with each other by pressurization to the conductive adhesive, but in particular, since In is soft, the conductive coating layer is easily deformed. Therefore, simply pressurizing the adhesive increases the mutual contact area of the conductive coating layer between the filler particles, and can establish good electrical conduction. In addition, since good electrical continuity can be established simply by applying pressure, for example, continuity inspection performed when an IC chip is mounted on a substrate can be performed without curing the resin component, and rework can be performed even when continuity is poor. It can be done easily.
[0014]
The resin component is preferably a thermosetting resin, which comprises a main agent and a curing agent. Examples of the main agent include epoxy. Examples of the curing agent include imidazole-based curing agents. The addition amount of the curing agent is determined in consideration of various factors such as a curing speed to be achieved or a pot life (a usable period after preparation of the adhesive). It is in the range of 20 to 60 parts by weight.
[0015]
Preferably, the conductive adhesive further contains a coupling agent. By mixing the coupling agent, the affinity between the resin component constituting the conductive adhesive and the filler is increased, and the filler can be dispersed stably and uniformly in the resin component. As the coupling agent, a silicone-based coupling agent is preferable, and the content thereof is, for example, in the range of 0.5 to 2.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main agent.
[0016]
The electronic component bonding structure using the conductive adhesive provided by the second aspect of the present invention is a structure in which the first bonding target component and the second bonding target component are bonded using the conductive adhesive. In addition, the conductive adhesive is interposed between the first joining target part and the second joining target part to join the two joining target parts, and the filler between the joining target parts of both the joining target parts. It is characterized by having a structure in which the parts to be joined are made conductive by bringing the conductive coating layers into contact with each other.
[0017]
The above-mentioned conductive adhesive contained in the conductive adhesive interposed between the first bonding target component and the second bonding target component by crimping the first bonding target component and the second bonding target component using the conductive adhesive. The fillers are brought into contact with each other, and the first joining target part and the second joining target part are electrically connected through the conductive coating layer of filler particles. Therefore, it is not necessary to separately add conductive particles only for the purpose of imparting conductivity in addition to the filler that mainly adjusts the thermal expansion as in the prior art, and the cost can be reduced.
[0018]
The electronic component bonding method using the conductive adhesive provided by the third aspect of the present invention is a method of bonding and fixing the first bonding target component and the second bonding target component. It is assumed that the coating layer is made of In. Specifically, in the method, the conductive adhesive is applied to the first joining target part and / or the second joining target part, and the first joining target part and the second joining target part are aligned. In addition, both the parts to be joined are temporarily joined by interposing the conductive adhesive therebetween, and a continuity test is performed between the first part to be joined and the second part to be joined, and the continuity test is performed. In the case where good conduction is not confirmed, the first joining target part and the second joining target part are separated and repeated from the adhesive application to the conduction inspection again. When it is confirmed, the conductive adhesive is cured, whereby the first joining target component and the second joining target component are finally joined.
[0019]
When the conductive adhesive of the present invention is interposed between the first bonding target component and the second bonding target component and the temporary bonding of both the bonding target components is performed by pressure bonding, the conductivity interposed between both the bonding target components. In the conductive adhesive, the conductive coating layers of the filler are in contact with each other. However, since In constituting the conductive coating layer is soft and easily deforms by pressurization, a larger contact area can be secured and good electrical properties can be secured. Continuity can be established. For this reason, conventional adhesives do not provide electrical continuity necessary for conducting a continuity test only by crimping, and also require a shrinkage force of the resin applied by curing the adhesive. However, in the conductive adhesive of the present invention, there is no need to cure before the continuity test, and reworkability is improved. In addition to being advantageous in terms of work efficiency, unlike conventional solder bonding, there is no need to apply heat to rework, and it is possible to suppress damage to parts due to heat at the stage of rework. Furthermore, since the reworked part can be easily reused, it is not always necessary to replace it with a new part, which is advantageous in terms of cost.
[0020]
Other advantages and features of the present invention will become more apparent from the following description of embodiments of the invention.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
[0022]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a process of bonding an electronic component 1 (for example, a semiconductor chip) configured as a surface mount component to a
[0023]
In the coating step of FIG. 1A, a bonding surface 1A on which a plurality of electrode portions 1a are formed in the electronic component 1, and a
[0024]
After performing the application step of FIG. 1A with the conductive adhesive 10 as described above, the electronic component 1 and the
[0025]
As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the
[0026]
Examples of the resin component 3 include a thermosetting resin and a thermoplastic resin. In particular, a thermosetting resin is preferably used. The thermosetting resin includes a main agent and a curing agent. Examples of the main agent include epoxy resin, polyimide resin, polyurethane resin, urea resin, and phenol resin. In particular, an epoxy resin is preferably used. Examples of the curing agent include imidazole curing agents, acid anhydride curing agents, and amine curing agents. The addition amount of the curing agent should be appropriately set in consideration of various factors such as the type of curing agent to be used, the curing speed to be achieved, or the pot life of the adhesive, and is based on 100 parts by weight of the main agent. The range is 20 to 60 parts by weight.
[0027]
Examples of the thermal
[0028]
The conductive adhesive 10 may further contain a coupling agent. Examples of the coupling agent include silicone coupling agents. By adding a silicone-based coupling agent to the
[0029]
Next, examples of the present invention will be described.
[0030]
[Example 1]
In this example, 100 parts by weight of an epoxy resin (trade name: 830 LVP, manufactured by Dainippon Ink) as a main agent, 50 parts by weight of an imidazole-based curing agent (trade name: HX3921, manufactured by Asahi Ciba) as a curing agent, and a conductive filler As a thermal expansion modifier, 100 parts by weight of a particulate filler having a conductive coating layer in which the surface of silica particles having an average particle size of 3 μm (trade name: SO-E5, manufactured by Admatex) is coated with In, and as an additive A conductive adhesive of this example was prepared by uniformly stirring and mixing 1 part by weight of a silicone coupling agent (trade name: MAC2101, manufactured by Nihon Unicar).
[0031]
<Bonding of electronic parts>
The bonding surface of the Si chip (12.5 × 12.5 mm) as an electronic component provided with 352 bumps, that is, electrode portions (125 μm pitch), and the corresponding adhesive adhesive prepared as described above, and corresponding It apply | coated as shown to Fig.1 (a) with respect to the board | substrate which has a joining surface in which the electrode part is provided by the pitch and number which do. Next, as shown in FIG. 1B, the Si chip was pressure-bonded to the substrate with 10 kgf while the electrode part of the Si chip was aligned with the electrode part of the substrate. This joining process is performed at room temperature. In this way, 30 good quality samples of this example were produced. In addition, 30 samples of defective products in which the electrode portion of the Si chip was crimped by shifting the position relative to the electrode portion of the substrate were produced in the same manner.
[0032]
<Immobilization of electronic parts or immobilization after rework>
About the produced non-defective sample, the conductive adhesive was cured under conditions of 150 ° C. and 5 min in a thermostatic chamber after the continuity test. For the defective sample, the pressure-bonded Si chip was removed, and the residue of the conductive adhesive on the substrate was wiped off with acetone. A conductive adhesive was again applied to the substrate after wiping, and a new Si chip was again pressure-bonded thereto by the same method as described above. After crimping, a continuity test was performed, and the conductive adhesive was cured in a constant temperature bath at 150 ° C. for 5 minutes to prepare a re-mounted sample.
[0033]
<Evaluation of bonding reliability>
30 non-defective samples and re-mounted samples prepared as described above were prepared for a total of 60 samples, and the bonding stability of these samples was examined. Specifically, after measuring the initial conduction resistance of 352 electrical connection points where the Si chip electrode and the substrate electrode were connected in each sample, a temperature cycle test was performed in the range of −65 to 125 ° C., and again The conduction resistance was measured. In the temperature cycle test, the sample is first cooled at −65 ° C. for 15 minutes, then the temperature is raised to room temperature, left for 10 minutes, and further heated to 125 ° C. and heated for 15 minutes as one cycle. This cycle was repeated a predetermined number of times. In this example, the number of cycles was 500. As a result, the increase in resistance after the cycle test is as good as 10% or less with respect to the resistance before the cycle test at the electrical connection points of all 30 good products and 30 reloaded samples. It was not confirmed. As described above, it was confirmed that the Si chip and the substrate bonded by the conductive adhesive and the bonding method of this example were stably bonded even when the temperature was changed.
[0034]
[Example 2]
In the remounting of Example 1, in the same manner as in Example 1, except that the conductive adhesive adhering to the removed Si chip was washed with acetone instead of the new Si chip, and remounted. Thus, 30 non-defective samples and 30 reloaded samples were produced. When the reliability of these samples was examined by the same temperature cycle test as in Example 1, the increase in resistance after the cycle test was compared to the resistance before the cycle test at the electrical connection points of all 30 samples. It was as good as 10% or less, and no conduction failure was confirmed. As described above, it was confirmed that the Si chip and the substrate were stably bonded even when the Si chip was reused as in this example.
[0035]
[Example 3]
In the same manner as in Example 1 except that alumina particles having an average particle diameter of 1 μm (trade name: A0902, manufactured by Admatex) were used instead of the silica particles used in preparing the conductive adhesive in Example 1, 30 non-defective samples and 30 reloaded samples were produced. When the reliability of these samples was examined by the same temperature cycle test as in Example 1, the increase in resistance after the cycle test was compared to the resistance before the cycle test at the electrical connection points of all 30 samples. It was as good as 10% or less, and no conduction failure was confirmed. As described above, it was confirmed that the Si chip and the substrate were stably bonded regardless of whether the thermal expansion modifier of this example was silica or alumina.
[0036]
As a summary of the above, the configurations of the present invention and variations thereof are listed below as supplementary notes.
[0037]
(Appendix 1) Including resin component and particulate filler,
The filler has a thermal expansion adjusting material particle and a conductive coating layer that covers the surface of the thermal expansion adjusting material particle.
(Appendix 2) The conductive adhesive according to Appendix 1, wherein the thermal expansion adjusting material particles are silica particles and / or alumina particles.
(Supplementary note 3) The conductive adhesive according to
(Supplementary note 4) The conductive adhesive according to any one of supplementary notes 1 to 3, wherein the resin component is a thermosetting resin composed of a main agent and a curing agent.
(Additional remark 5) The said main ingredient is a conductive adhesive of
(Additional remark 6) The said hardening | curing agent is a conductive adhesive of
(Additional remark 7) Content of the imidazole type hardening | curing agent in the whole said conductive adhesive is a conductive adhesive of
(Appendix 8) The conductive adhesive according to any one of appendices 1 to 7, wherein the conductive adhesive further contains a coupling agent.
(Additional remark 9) The said coupling agent is a conductive adhesive of Additional remark 8 which is a silicone type coupling agent.
(Supplementary note 10) The conductive adhesive according to supplementary note 9, wherein the content of the silicone coupling agent in the whole of the conductive adhesive is 0.5 to 2.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main agent. .
(Appendix 11) A structure in which the first bonding target component and the second bonding target component are bonded using the conductive adhesive according to any one of the additional notes 1 to 10,
The conductive adhesive is interposed between the first part to be joined and the second part to be joined to join the parts to be joined, and the conductivity of the filler between the parts to be joined of both parts to be joined. A component joining structure characterized by having a structure in which the parts to be joined are brought into conduction by bringing the covering layers into mutual contact.
(Supplementary Note 12) Using the conductive adhesive according to Supplementary Note 3, the first joining target component and the second joining target component are joined and fixed.
Applying the conductive adhesive to the first joining target part and / or the second joining target part;
While aligning the position of the first joining target part and the second joining target part, by interposing the conductive adhesive between them, both joining target parts are temporarily joined,
Conducting a continuity test between the first part to be joined and the second part to be joined,
In the continuity test, when good continuity is not confirmed, the first part to be joined and the second part to be joined are separated and repeated from the adhesive application to the continuity test again.
In the continuity inspection, when good continuity is confirmed, the first bonding target component and the second bonding target component are finally bonded by curing the conductive adhesive, and the component bonding method .
[0038]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, as the
[0039]
In addition, when the electronic component 1 and the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic explanatory diagram illustrating a method for bonding an electronic component to a substrate using a conductive adhesive according to the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of a schematic explanatory diagram showing a method for joining an electronic component to a substrate using the conductive adhesive according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electronic component
Claims (1)
上記第1接合対象部品および上記第2接合対象部品の間に上記導電性接着剤を介在させて当該第1および第2接合対象部品を常温で仮接合する仮接合工程と、A temporary bonding step of temporarily bonding the first and second bonding target components at room temperature by interposing the conductive adhesive between the first bonding target component and the second bonding target component;
上記第1接合対象部品および上記第2接合対象部品の間の導通検査を行う導通検査工程と、を備え、A continuity test step for performing a continuity test between the first part to be joined and the second part to be joined,
上記導通検査において、良好な導通が確認されない場合、上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品とを分離し、上記塗布工程、上記仮接合工程、および上記導通検査工程を行い、In the continuity test, when good continuity is not confirmed, the first bonding target component and the second bonding target component are separated, and the application step, the temporary bonding step, and the continuity checking step are performed.
上記導通検査において、良好な導通が確認された場合、上記導電性接着剤を硬化させることにより、上記第1接合対象部品と上記第2接合対象部品とを本接合する工程を行い、In the continuity test, when good continuity is confirmed, by curing the conductive adhesive, performing a step of main joining the first joining target component and the second joining target component,
上記導電性接着剤は、樹脂成分および粒子状フィラーを含み、The conductive adhesive includes a resin component and a particulate filler,
上記フィラーは、シリカ粒子およびアルミナ粒子の少なくとも一方である粒子と、この粒子の表面を被覆するInからなる層とを有していることを特徴とする、部品接合方法。The above-mentioned filler has a particle which is at least one of silica particles and alumina particles, and a layer which consists of In which coats the surface of this particle, The component joining method characterized by things.
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