JP4308558B2 - Head chip and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、圧電デバイス、水晶デバイスなどに用いられて、圧電セラミック、水晶振動子片などの機能的に動作する機能部材が固定されるセラミック基板及びその製造方法に関し、特にプリンタ、ファックス及びオンデマンド印刷機などに利用されるインクジェット式記録装置に搭載されるヘッドチップ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、インクジェット式記録装置に搭載されるヘッドチップなどの圧電デバイス、水晶素子などの微少回路基板等には、圧電セラミック、水晶振動子片などの機能的に動作する機能部材が固定されるセラミック材料からなるセラミック基板が用いられている。
【0003】
このようなセラミック基板を用いたヘッドチップとしては、例えば、セラミック基板に凹部を設け、この凹部内に機能部材が固定されている。
【0004】
ここで、機能部材が固定される凹部を有するセラミック基板を用いたヘッドチップとしては、絶縁材料からなると共に一方面に凹部が設けられた基板本体と、基板本体の凹部内に設けられてその長手方向とは直交する方向に亘って複数の溝が形成された圧電セラミックからなる機能部材とを具備する基板と、基板に凹部の開口側を塞ぐように接合されたノズル開口を有するノズルプレートを具備し、圧電セラミックの側面に電極を形成することで、電極に電圧を印加して溝内に充填されたインクをノズル開口から吐出するものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
また、セラミック基板を用いたヘッドチップとしては、絶縁材料からなると共に一端面及び一方面に開口する凹部が設けられた基板本体と、凹部内に埋設された圧電セラミックとを具備する基板に、基板本体と圧電セラミックとに亘って、且つ凹部の長手方向に亘って複数の溝が側壁により区画され、基板の溝が開口する一端面に各溝に対応する領域にノズル開口が形成されたノズルプレートが接合されているものも提案されている(例えば、特許文献2参照)。
【0006】
しかしながら、前者のヘッドチップでは、基板本体の凹部の底面の所定位置に圧電セラミックを位置決め接合しなくてはならず、高精度な位置決めが困難であるという問題がある。
【0007】
また、圧電セラミックに溝を形成する際に溝を区画する側壁が折れやすく、歩留まりが悪いという問題がある。
【0008】
さらに、後者のヘッドチップでは、高速印字や高密度印字を行うため、ノズル開口を増やすには、ヘッドチップを並設しなくてはならず、ヘッドチップが大型化してしまうと共に高コストになってしまうという問題がある。
【0009】
このような問題を解決するため、絶縁性の基板の一方面側に基準方向に延びる複数列の圧電セラミックを埋め込んで基板とし、圧電セラミックの列方向に亘って所定間隔で溝を形成することにより側壁を設け、側壁の圧電セラミックの領域に電極をそれぞれ独立して設けることで複数のノズル列を有する構造のヘッドチップとすることで、溝の形成時に溝を区画する側壁が折れるのを確実に防止して製造歩留まりを向上すると共に圧電セラミックを基板本体に埋め込むことによって、圧電セラミックの所定位置への位置決めを行う必要がなく、容易に且つ高精度なヘッドチップを形成することができるものを提案した(特願2002−347688)。
【0010】
【特許文献1】
特表2000−512233号公報(第9〜14頁、第3図及び第6図)
【0011】
【特許文献2】
特開2000−296618号公報(第4〜6頁、第1〜10図)
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、セラミック材料からなるセラミック基板に圧電セラミックなどの機能部材を埋め込む凹部を形成する方法として、ダイシングによる形成では、高精度な凹部が形成できるものの、高コストになってしまうという問題がある。
【0013】
このため、凹部を有するセラミック基板を成形及び焼成して形成することで低コストでの量産を実現することができるが、この成形及び焼成による形成では、凹部の側面及び底面が凹凸状に形成されてしまう。この凹部内に圧電セラミックなどの機能部材を接着により固定する際に、圧電セラミックを凹部の少なくとも一方の側面を基準面としてこの基準面に当接させて接合するため、凹部の基準面と圧電セラミックとの間の接着剤の厚みにばらつきが生じてしまう。これにより、圧電セラミックを駆動する際に変位量にばらつきが生じ、各ノズル開口によってインク吐出特性にばらつきが生じてしまうという問題がある。
【0014】
また、セラミック基板を成形及び焼成により形成する場合、焼成の際の収縮率を考慮して寸法を設定するので、寸法精度に問題がある。また、凹部の基準面と底面との角部が曲面状に形成されてしまい、この凹部に圧電セラミックを埋め込む際に圧電セラミックの高さ制御が困難であり、セラミック基板へのノズルプレートの接合が困難であるという問題がある。
【0015】
このため、圧電セラミックのセラミック基板から突出した領域を研削する工程が必要となり、製造工程が煩雑になると共に高コストになってしまうという問題がある。
【0016】
さらに、セラミック基板の凹部に圧電セラミックを接合する際に用いられる接着剤がセラミック基板のノズルプレートとの接合面側に流出し、この接着剤によってノズルプレートの接合が困難になるという問題がある。
【0017】
なお、このような問題は、ヘッドチップ及びその製造方法のみでなく、機能部材が埋め込まれる凹部を有するセラミック基板及びその製造方法においても同様に存在する。
【0018】
本発明は、このような事情に鑑み、機能部材を高精度に埋め込むことができる凹部を有するセラミック基板及びその製造方法並びにヘッドチップ及びその製造方法を提供することを課題とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第1の態様は、基準方向に延びる複数の凹部を有し、これら凹部内に機能的に動作する機能部材を固着して用いるセラミック基板において、前記凹部の形状が成形及び焼成することにより形成され、当該凹部の少なくとも一方面が研削により平坦化された基準面となっていることを特徴とするセラミック基板にある。
【0020】
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記基準面が前記凹部の両側面に形成されていることを特徴とするセラミック基板にある。
【0021】
本発明の第3の態様は、第1又は2の態様において、前記凹部の底面の少なくとも前記基準面側には、当該凹部よりも幅狭で且つ前記基準面と面一となる第1の凹部が設けられていることを特徴とするセラミック基板にある。
【0022】
本発明の第4の態様は、第1〜3の何れかの態様において、前記凹部の少なくとも前記基準面側の開口縁部には、前記凹部に連通し且つ当該凹部より浅い基準面に開口する第2の凹部が設けられていることを特徴とするセラミック基板にある。
【0023】
本発明の第5の態様は、第1〜4の何れかの態様において、前記凹部の前記基準方向の少なくとも一方の端面が塞がれた形状となるように成形及び焼成により形成されると共に、前記基準面が当該凹部の前記基準方向の両端部に亘って形成されていることを特徴とするセラミック基板にある。
【0024】
本発明の第6の態様は、第1〜5の何れかの態様のセラミック基板と、このセラミック基板の前記凹部に接着剤を介して固定された圧電セラミックからなる機能部材とを具備し、当該機能部材の列方向に亘って所定間隔で溝を形成することにより該溝を区画する側壁を設け且つ当該側壁の前記機能部材の領域に電極をそれぞれ設けることにより独立して駆動する駆動部を形成し、前記セラミック基板の一方面にノズルプレートを接合すると共に、該ノズルプレートの前記溝の各駆動部に対応する位置に前記溝内のインクを吐出するノズル開口をそれぞれ設けて複数のノズル列を形成したことを特徴とするヘッドチップにある。
【0025】
本発明の第7の態様は、第6の態様において、前記セラミック基板の他方面側の前記機能部材に対応しない領域には、前記溝にインクを供給するインク供給孔及び当該溝内のインクを排出するインク排出孔が設けられていることを特徴とするヘッドチップにある。
【0026】
本発明の第8の態様は、第6又は7の態様において、前記セラミック基板の他方面側の前記機能部材に対向しない領域には、前記基準方向と同方向で且つ前記溝の並設方向に亘って当該溝の底部に連通する複数の共通溝が形成されており、該共通溝と前記溝とが連通する連通孔が前記インク供給孔及び前記インク排出孔であることを特徴とするヘッドチップにある。
【0027】
本発明の第9の態様は、第6〜8の何れかの態様において、前記セラミック基板には、前記圧電セラミックが2個並設されていると共に、前記電極が前記側壁上に前記溝の両端部から前記駆動部に対向する領域までそれぞれ独立して設けられていることを特徴とするヘッドチップにある。
【0028】
本発明の第10の態様は、第6〜9の何れかの態様において、前記セラミック基板には、前記圧電セラミックが前記溝の底面に達する深さで前記凹部が設けられていることを特徴とするヘッドチップにある。
【0029】
本発明の第11の態様は、基準方向に延びる複数の凹部を有し、これら凹部内に機能的に動作する機能部材を固着して用いるセラミック基板の製造方法において、成形及び焼成して前記凹部を形成する工程と、該凹部の少なくとも一方の側面側を研削することにより、平坦化された基準面を形成する工程とを具備することを特徴とするセラミック基板の製造方法にある。
【0030】
本発明の第12の態様は、第11の態様において、前記基準面を形成する工程では、前記凹部の底面を同時に研削することで、前記凹部の底面の少なくとも前記基準面側に当該凹部よりも幅狭で且つ前記基準面と面一となる側面を有する第1の凹部を形成することを特徴とするセラミック基板の製造方法にある。
【0031】
本発明の第13の態様は、第11又は12の態様において、前記凹部を形成及び焼成により形成する工程では、当該凹部の前記基準方向の少なくとも一方の端面が塞がれた形状となるように形成し、前記基準面を形成する工程では、前記凹部の長手方向の両端部に亘って研削することで形成することを特徴とするセラミック基板の製造方法にある。
【0032】
本発明の第14の態様は、第11〜13の何れかの態様において、前記基準面を形成する工程では、さらに、前記凹部の少なくとも前記基準面側の開口縁部に前記凹部に連通し、且つ当該凹部より浅い第2の凹部を形成することを特徴とするセラミック基板の製造方法にある。
【0033】
本発明の第15の態様は、第11〜14の何れかの態様において、前記凹部を成形及び焼成により形成する工程では、上部凹部と、該上部凹部の底面に前記機能部材よりも大きな幅を有する下部凹部とで構成される当該凹部を形成すると共に、前記基準面を形成する工程では、前記下部凹部の少なくとも一方の側面に形成することを特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
【0034】
本発明の第16の態様は、第11〜15の何れかの態様のセラミック基板の製造方法により形成された前記セラミック基板の前記凹部に圧電セラミックからなる前記機能部材を接着剤を介して固定する工程と、前記機能部材の列方向に亘って所定間隔で溝を形成して該溝を区画する側壁を形成する工程と、該側壁の前記機能部材の領域にそれぞれ電極を形成することにより独立して駆動する駆動部を形成する工程と、ノズル開口が前記溝の各駆動部に対応する位置にそれぞれ等間隔で複数列設けられたノズルプレートを前記セラミック基板の一方面に接合する工程とを具備することを特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
【0035】
本発明の第17の態様は、第16の態様において、前記凹部を成形及び焼成により形成する工程では、前記セラミック基板の前記凹部が設けられた面とは反対側の面の前記機能部材に対向しない領域に、前記凹部の長手方向と同方向で且つ前記溝の並設方向に亘って当該溝の底部に連通する複数の共通溝を形成することを特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
【0036】
本発明の第18の態様は、第11〜17の何れかの態様において、前記凹部を成形及び焼成により形成する工程では、当該凹部を前記機能部材が前記溝の底面に達する深さで形成することを特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
【0037】
本発明の第19の態様は、第18の態様において、前記圧電セラミックが前記溝の深さ方向の略中央で分極方向が異なると共に、前記駆動部を形成する工程では、前記電極を前記圧電セラミックの露出した前記側壁の全面に設けることを特徴とするヘッドチップの製造方法にある。
【0038】
かかる本発明では、凹部を有するセラミック基板を成形及び焼成することで、量産を実現できると共に、凹部の少なくとも一方面に機能部材が固定される平坦化された基準面を研削することにより形成することで、機能部材が基準面に対して均一に固定され、機能部材の動作に悪影響を与えることがない。また、基準面のみを研削で形成することで、低コストで形成することができる。
【0039】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
【0040】
(実施形態1)
本実施形態では、セラミック基板を用いたヘッドチップについて例示する。
【0041】
図1は、本発明の実施形態1に係るヘッドチップの分解斜視図であり、図2は、実施形態1に係るヘッドチップの底面側の平面図であり、図3は、図2のA−A′断面図である。
【0042】
図示するように、本実施形態のヘッドチップ10は、セラミック材料からなるセラミック基板21の一方面に基準方向に延びるように複数列、本実施形態では2列の圧電セラミック22が接着剤23を介して埋め込まれた基板20と、基板20の一方面に接合されたノズル開口41を有するノズルプレート40とを具備する。
【0043】
セラミック基板21の一方面には、基準方向に延びるように、圧電セラミック22と略同等の形状の凹部24が複数列、本実施形態では、2列形成されており、この凹部24内に圧電セラミック22がセラミック基板21の一方面と面一となるように接着剤23を介して接合されている。
【0044】
ここで、凹部24の形状は成形及び焼成により形成され、この凹部24の少なくとも一方の側面は、圧電セラミック22が当接されて接着剤23を介して固定される基準面25となっており、この基準面25は凹部24の側面を基準方向に亘って研削することで平坦に形成されている。本実施形態では、凹部24の両側面に研削により平坦化された基準面25を設けた。
【0045】
なお、圧電セラミック22は、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)からなり、セラミック基板21は、圧電セラミック22との接合後の熱膨張及び収縮による変形等を考えると、PZTからなる圧電セラミック22と線膨張率の近似した材料、例えば、アルミナ等のセラミック材料を用いるのが好ましい。また、加工性がPZTと同等なフォレステライトを用いるのも可能である。
【0046】
さらに、本実施形態の圧電セラミック22は、凹部24の深さ方向に分極方向が同一となるように設けられている。
【0047】
このようなセラミック基板21は、詳しくは後述するが、凹部24を有するセラミック基板21を押出成形などの成形により形成後、1200℃以上で焼成させることで形成される。
【0048】
このように成形及び焼成により凹部24を有するセラミック基板21を形成すると、凹部24の側面及び底面を高寸法精度で形成することができず、場合によっては凹凸状に形成されてしまうが、凹部24の両側の側面を基準方向に亘って研削することで高精度に位置決めされ且つ平坦な基準面25を形成することができる。なお、凹部24の基準面25を形成する研削方法は、平坦な基準面25を形成することができれば特に限定されず、例えば、円盤状のダイシングブレードを用いたダイサーや、複数のワイヤを用いたワイヤソーなどを用いることができ、これにより、基準面25は、個別に又は複数個同時に形成することができる。
【0049】
このように、セラミック基板21の凹部24に、圧電セラミック22が当接されて接合される平坦な基準面25を設けることにより、基準面25と圧電セラミック22との間に厚さが均一な接着剤23を形成することができる。
【0050】
また、この際の基準面25を底部と面一になるまで研削することによって底面と側面(基準面25)との角部の寸法精度を向上させることができる。すなわち、R形状に形成された角部による圧電セラミック22の浮き上がりを防止することができる。なお、このような効果を得るためには、凹部24が圧電セラミック22と略同等の大きさで形成された本実施形態では、基準面25を凹部24の両側の側面に設ける必要がある。
【0051】
なお、基準面25を研削により形成する際に、基準面25を凹部24の底面と面一より少し深く底面を研削して僅かな凹部を形成するようにしてもよく、このような僅かな凹部も凹部24に含まれる。
【0052】
また、基板20には、基準方向と直交する方向に圧電セラミック22の列方向に亘って溝26が側壁27により区画されて形成されている。
【0053】
すなわち、基板20の側壁27の一部が圧電セラミック22で構成された領域が各溝26に2箇所設けられている。
【0054】
なお、圧電セラミック22は、基板20に溝26を形成した際に、側壁27の一部に設けられた圧電セラミック22が基準方向に亘って溝26の底面で連続する厚さで形成されている。これにより、圧電セラミック22は、セラミック基板21から剥がれ難く剛性を向上することができる。
【0055】
また、各溝26の長手方向両端部は、基板20の基準方向とは直交する方向の両端部まで深さが徐々に浅くなるように延設されている。この各溝26の浅くなった両端部側は、詳しくは後述するノズルプレート40を接合する際に用いられる接着剤42によって封止されている。
【0056】
このような各溝26は、基準面25と同様に、円盤状のダイシングブレードを用いたダイサーや複数のワイヤを用いたワイヤソーなどにより個別に又は複数個同時に形成される。本実施形態では、円盤状のダイシングブレードを用いたダイサーにより各溝26を形成することにより、溝26の浅くなった両端部側をダイシングブレードの形状を利用して形成した。
【0057】
さらに、各溝26を区画する側壁27の一部を構成する圧電セラミック22には、溝26の内面に開口側に亘って電極28が設けられ、この電極28によって側壁27の一部を構成する圧電セラミック22が独立して駆動する駆動部29となる。
【0058】
また、各溝26の2つの駆動部29の電極28は、側壁27上にそれぞれ溝26の浅くなった両端部まで延設されて設けられており、各駆動部29の間の側壁27上には、それぞれの電極28が絶縁されるように不連続となっている。
【0059】
これにより、各溝26の2つの駆動部29の電極28に選択的に電圧を印加して独立して駆動することができる。
【0060】
また、本実施形態の圧電セラミック22は、凹部24の深さ方向で分極方向が同一となるように設けられているため、溝26を区画する側壁27の両側に電極28を設けて電圧を印加することで発生される駆動電界は、分極方向と直交する方向に印加される。これにより、側壁28は、剪断方向に変形する所謂シェアモードとなっている。
【0061】
なお、側壁27は、底面及び側面がセラミック基板21によって固定されると共に、上面が詳しくは後述するノズルプレート40に接合されて固定されるため、駆動電界の印加による側壁28の剪断方向の変形は、溝26方向への撓み変形となる。このシェアモードを用いた駆動は、分極方向と同一方向に駆動電界を印加するダイレクトモードに比べ大きな変形を得ることができ、溝26の容積を小さくしてもインク吐出量及びインク吐出速度等のインク吐出特性を向上することができる。
【0062】
また、本実施形態の圧電セラミック22は、凹部24の深さ方向で分極方向が同一となるように設けられているため、電極28は、側壁27の開口側に亘って設けるようにしたが、特にこれに限定されるものではなく、例えば、凹部24の深さ方向で分極方向が異なる圧電セラミック22を用いた場合には、側壁27の全面に亘って電極を設けるようにすればよい。
【0063】
一方、基板20の溝26が形成された一方面とは反対の他方面側には、圧電セラミック22に対向しない領域に溝26の並設方向、すなわち基準方向に亘って各溝26の底部に連通する複数列の共通溝30〜32が設けられている。
【0064】
本実施形態では、溝26の長手方向で、2つの駆動部29の間に共通溝30を設け、2つの駆動部29と溝26の長手方向両端部との間にそれぞれ共通溝31及び32を設けた。すなわち、本実施形態では、3列の共通溝30〜32を設けるようにした。
【0065】
この共通溝30〜32の内、2つの駆動部29の間に設けられた共通溝30と各溝26とが連通する連通孔を各溝26にインクを供給するインク供給孔33とし、2つの駆動部29よりも溝26の長手方向両端部側に設けられた共通溝31及び32と各溝26とが連通する連通孔を溝26内に供給されたインクを排出するインク排出孔34及び35とした。
【0066】
すなわち、共通溝30から供給されたインクは、インク供給孔33から溝26内に供給され、溝26の両端部側に設けられたインク排出孔34及び35まで流れることによって、インク供給孔33とインク排出孔34及び35との間にそれぞれ設けられた駆動部29にインクを供給することができる。
【0067】
なお、各共通溝30〜32には、図示しないインクタンク等のインク貯留部がインク供給管等を介して接続され、共通溝31及び32から排出されたインクはインク貯留部に戻されるようになっている。これにより、インク貯留部内のインクは共通溝30、溝26及び共通溝31、32を通り循環するようになっている。
【0068】
また、このような共通溝30〜32を形成する際に、共通溝30〜32を基板20の基準方向に亘って両端部まで形成する場合は、共通溝30〜32の長手方向両端部側を接着剤等の封止層で封止する必要がある。
【0069】
また、各溝26を、例えば、ブラック(B)、イエロー(Y)、マゼンダ(M)、シアン(C)の4色のインクに対応したグループに分ける場合は、共通溝30〜32を色毎に封止層で4つに区画する必要がある。
【0070】
さらに、このような共通溝30〜32は、量産性及び作業効率を考えると、凹部24を有するセラミック基板21を成形及び焼成により形成する際に、同時に形成するのが好ましいが、セラミック基板21を成形及び焼成により形成した後に、研削により形成するようにしてもよい。
【0071】
一方、基板20の一方面には、ノズルプレート40が接着剤42を介して接合されている。このノズルプレート40の各駆動部29に対応する領域にはノズル開口41が形成されている。
【0072】
このようなノズル開口41は、本実施形態では、基板20の基準方向に並設された駆動部29が2列設けられているため、基準方向に並設されたノズル開口41のノズル列が2列形成されている。
【0073】
また、ノズル開口41は、例えば、吐出側に向かって内径が漸小するテーパ形状に形成されており、このようなノズル開口41は、基板20とノズルプレート40とを接合する前又は接合後に、レーザ等で形成することができる。
【0074】
さらに、図示しないが、ノズルプレート40の被記録媒体に対向する面には、インクの付着等を防止する撥水性を有する撥水膜や親水性を有する滑落膜などが設けられている。
【0075】
なお、このようなノズルプレート40は、単一層又は複数層で構成され、例えば、ノズルプレート40が複数層で構成される場合は、金属板やその表面に絶縁処理を施したもの、或いはガラス板、プラスチックの表面に剛性のある膜で被覆した厚さが10〜50μmの第1のノズルプレートに、ノズル開口よりも大きな開口を形成すると共に第1のノズルプレート上にポリイミド等のプラスチック又は金属箔板の第2のノズルプレートを接着することで形成することができる。
【0076】
このようなヘッドチップ10では、セラミック基板21の凹部24に、圧電セラミック22が当接される平坦な基準面25を設けることにより、基準面25と圧電セラミック22との間に均一な厚さの接着剤23を形成することができる。これにより、駆動部29の側壁27で、インク吐出時に変形する圧電セラミック22がセラミック基板21によって均一に拘束されるため、各駆動部29での圧電セラミック22の変形を均一にして、各駆動部29におけるインク吐出特性を安定させることができる。
【0077】
また、セラミック基板21に圧電セラミック22を複数埋め込み、溝26を圧電セラミック22の列に亘って設けるようにしたため、溝26を形成時に溝26を区画する側壁27が折れるのを確実に防止して製造歩留まりを向上することができる。
【0078】
さらに、圧電セラミック22をセラミック基板21に埋め込むことによって、圧電セラミック22の所定位置への位置決めを行う必要がなく、容易に高精度なヘッドチップ10を形成することができる。
【0079】
また、ノズル開口41の並設されたノズル列を複数列設けることで、高速印字を実現できる。
【0080】
以下に、このようなヘッドチップの製造方法について説明する。なお、図4及び図5は、実施形態1に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【0081】
まず、図4(a)に示すように、セラミック材料を成形及び焼成して凹部24及び共通溝30〜32を有するセラミック基板21を形成する。
【0082】
詳しくは、セラミック基板21を成形する際に、一方面に基準方向に延びる凹部24と、他方面の隣接する凹部24の間に対応した領域に基準方向に延びる共通溝30〜32とを形成する。
【0083】
このように凹部24及び共通溝30〜32の設けられたセラミック基板21を1200℃以上で焼成する。
【0084】
なお、ここで形成される凹部24は、後の工程で、基準面25が形成される際に側面側が研削されるため、予めセラミック基板21に接合される圧電セラミック22の幅よりも若干狭い幅で形成する。
【0085】
次に、図4(b)に示すように、セラミック基板21の凹部24の両側の側面を基準方向に亘って研削することにより平坦な基準面25を形成する。
【0086】
このような基準面25は、例えば、ダイシングブレードを用いたダイサーや、複数のワイヤを用いたワイヤソーなどにより個別に又は複数個同時に形成することができる。本実施形態では、ダイシングブレード50を用いたダイサーにより凹部24の両側面を研削することで、凹部24の両側面に基準面25を形成した。
【0087】
また、ダイシングブレード50による基準面25の研削では、凹部24の側面を底面と面一又は少し底面を研削して僅かな凹部を形成するまで行う。
【0088】
このように基準面25を研削により形成することで、セラミック基板21を成形及び焼成で形成した際に凹部24の側面及び底面が高寸法精度で形成することができず、場合によっては凹凸状に形成されても、凹凸状の側面を研削により除去して高精度に位置決めされ且つ平坦な基準面25を高精度に形成することができる。また、基準面25を凹部24の底面と面一又は少し底面を研削することで、底面と基準面25と角部の寸法精度を向上することができる。すなわち、R形状に形成された角部による圧電セラミック22の浮き上がりを防止することができる。
【0089】
また、このように基準面25は、次の工程で埋め込まれる圧電セラミック22よりも若干大きな幅を有する凹部24となるように形成する。
【0090】
次に、図5(a)に示すように、セラミック基板21の一方面に形成した凹部24に、凹部24と略同等の形状で形成された圧電セラミック22を接着剤23を介して埋め込み、基板20を形成する。
【0091】
この圧電セラミック22は、セラミック基板21の一方面と面一とするため、例えば、セラミック基板21に凹部24の深さよりも厚い圧電セラミック22を接合後、セラミック基板21をその一方面から突出した圧電セラミック22と共にラッピングして平坦に加工するようにしてもよい。
【0092】
この圧電セラミック22のセラミック基板21への接着では、凹部24の両側面が平坦な基準面25で形成されているため、基準面25と圧電セラミック22との間に均一な厚さの接着剤23を形成することができる。
【0093】
次に、図5(b)に示すように、基板20の一方面に基準方向とは直交する方向に所定間隔で複数の溝26を形成する。
【0094】
この各溝26の形成は、例えば、円盤状のダイシングブレードを用いたダイサーや複数のワイヤを用いたワイヤソーにより個別に又は複数個同時に形成することができる。
【0095】
本実施形態では、各溝26が基板20の基準方向とは直交する方向の両端部側で深さが徐々に浅くなるように形成するため、円盤状のダイシングブレード(図示なし)を利用して溝26を形成した。
【0096】
また、溝26を形成することで、各溝26の底部と共通溝30〜32の底部とを連通して、インク供給孔33及びインク排出孔34及び35を同時に形成することができる。
【0097】
その後、各溝26を区画する側壁27上の所定位置に電極28を形成することで駆動部29を形成し、基板20の一方面にノズルプレート40を接合することで、図3に示すような本実施形態のヘッドチップを形成することができる。
【0098】
なお、電極28の形成は、例えば、公知の斜め蒸着により形成後、各駆動部29間の電極をレーザ等により除去するようにしてもよく、また、基板20の表面にレジストを塗布してから溝26の加工を行い、電極28を形成後にレジストを剥離するリフトオフ工程を行うことにより、必要な部分のみ電極28を形成するようにしてもよい。
【0099】
このように、本発明では、成形及び焼成により形成された凹部24の両側面を研削することにより、圧電セラミック22が当接される平坦な基準面25を形成するようにしたため、圧電セラミック22を凹部24に接着剤23を介して埋め込む際に、圧電セラミック22と基準面25との間に均一な接着剤23を形成でき、各駆動部29でセラミック基板21に圧電セラミック22が均一に拘束される。これにより、各駆動部29の電極28に電圧を印加して圧電セラミック22を変形させた際に、圧電セラミック22が均一に変位することができ、各駆動部29に連通するノズル開口41から吐出されるインク滴のインク吐出特性を均一化することができる。これにより、印刷品質を向上することができる。
【0100】
また、凹部24の両側面に基準面25を設けることで、凹部24を成形及び焼成により形成した際に、底面と側面との角部がR形状に形成されたとしても、R形状に形成された角部による圧電セラミック22の浮き上がりを防止することができる。
【0101】
さらに、成形及び焼成により凹部24を形成すると共に、基準面25のみを研削により形成することで、高精度な凹部24を低コストで且つ量産することができる。
【0102】
(実施形態2)
図6は、本発明の実施形態2に係るヘッドチップの分解斜視図であり、図7は、ヘッドチップの溝の長手方向の断面図である。
【0103】
図示するように、本実施形態では、ヘッドチップ10Aのセラミック基板21Aには基準方向に延びる複数の凹部24Aが形成され、この凹部24Aの少なくとも一方の側面は、研削されることで平坦に形成された基準面25Aが設けられている。
【0104】
また、凹部24Aの底面の少なくとも基準面25A側には、凹部24Aよりも幅狭で且つ凹部24Aの基準面25Aと面一となる側面を有する第1の凹部60が形成されている。
【0105】
このような第1の凹部60は、凹部24Aの側壁を研削して基準面25Aを形成する際に、同時に凹部24Aの底面をセラミック基板21Aが貫通しない程度の所定深さで研削することで形成することができる。
【0106】
なお、本実施形態では、凹部24Aの両側の側壁をそれぞれ研削することで、凹部24Aの両側面が基準面25Aとなるようにしたため、第1の凹部60を凹部24Aの底面の両側面側にそれぞれ独立して形成した。
【0107】
また、基準面25A及び第1の凹部60を、本実施形態では、円盤状のダイシングブレードを用いたダイサーにより研削することで形成した。
【0108】
このようなセラミック基板21Aの凹部24A内に圧電セラミック22を接着剤23を介して埋め込むことで、基板20Aを形成する際に、第1の凹部60内には接着剤23が充填されるようになっている。
【0109】
また、凹部24Aの底面の両側の側面側に第1の凹部60を設けることで、凹部25Aを成形及び焼成により形成した際に、底面と側面との角部がR形状に形成されたとしても、R形状に形成された角部による圧電セラミック22の浮き上がりを防止することができる。
【0110】
以下に、本実施形態のヘッドチップの製造方法について説明する。なお、図8及び図9は、実施形態2に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【0111】
まず、図8(a)に示すように、上述した実施形態1と同様にセラミック材料を成形及び焼成して凹部24A、共通溝30〜32を有するセラミック基板21Aを形成する。
【0112】
次に、図8(b)に示すように、セラミック基板21Aの凹部24Aの両側の側面及び底面を基準方向に亘って研削することで、基準面25A及び第1の凹部60を形成する。
【0113】
本実施形態では、ダイシングブレード50を用いたダイサーにより研削した。
【0114】
このダイシングブレード50により、セラミック基板21の凹部24Aの側面を基準方向に亘って所定の厚さで研削すると共に、凹部24Aよりも深く研削することで、ダイシングブレード50の刃厚と同じ幅の第1の凹部60を形成する。
【0115】
このように第1の凹部60は、基準面25Aを形成するための研削により同時に形成されるため、基準面25Aと第1の凹部60の側面とは面一で形成される。
【0116】
このように、セラミック基板21Aに基準面25A及び第1の凹部60を形成する研削では、ダイシングブレード50の一方面のみをセラミック基板21Aに当接させて基準面25Aを形成するのではなく、ダイシングブレード50の両面をセラミック基板21Aに当接させて基準面25Aと第1の凹部60とを形成するため、ダイシングブレード50の片当たりによる変形による破壊を確実に防止できる。なお、ダイシングブレード50が変形して破壊されると、ダイシングブレード50の破片が共通溝30〜32や、第1の凹部60内などに飛散してしまう。このように飛散した破片は、セラミック基板21A内から除去し難く、ヘッドチップ10Aを組み立てた後にノズル開口41の目詰まり等が生じてしまうという問題もある。本実施形態では、ダイシングブレード50の破壊を防止することでノズル開口41の目詰まりを防止することができるという効果も奏する。
【0117】
次に、図9(a)に示すように、セラミック基板21Aの一方面に形成した凹部24Aに、凹部24Aと略同等の形状で形成された圧電セラミック22を接着剤23を介して埋め込み、基板20Aを形成する。
【0118】
本実施形態では、凹部24Aの底面に第1の凹部60が形成されているため、第1の凹部60内が接着剤23で充填されるように圧電セラミック22をセラミック基板21Aに埋め込む。
【0119】
次に、図9(b)に示すように、上述した実施形態1と同様に基板20Aの一方面に基準方向とは直交する方向に所定間隔で複数の溝26を形成する。
【0120】
その後、各溝26を区画する側壁27上の所定位置に電極28を形成することで駆動部29を形成し、基板20Aの一方面にノズルプレート40を接合することで、図6に示すような本実施形態のヘッドチップ10Aを形成することができる。
【0121】
(実施形態3)
図10は、本発明の実施形態3に係るヘッドチップの分解斜視図であり、図11は、実施形態3に係るヘッドチップの溝の長手方向の断面図である。
【0122】
図示するように、本実施形態では、ヘッドチップ10Bのセラミック基板21Bには基準方向に延びる複数の凹部24Bが形成され、この凹部24Bの少なくとも一方の側面には、研削されることで平坦に形成された基準面25Bが設けられている。
【0123】
また、セラミック基板21Bの凹部24Bの少なくとも基準面25B側の開口縁部には、基準方向に亘って凹部24Bよりも浅く、且つ凹部24Bの基準面25Bに開口して連通する第2の凹部61が設けられている。
【0124】
本実施形態では、凹部24Bの両側の側面をそれぞれ研削することで、凹部24Bの両側面が基準面25Bとなるようにしたため、第2の凹部61を凹部24Bの幅方向両側の開口縁部に形成した。
【0125】
また、第2の凹部61の形成方法は、特に限定されず、例えば、凹部24Bを有するセラミック基板21Bを成形及び焼成時に同時に形成するようにしてもよく、また、基準面25Bと同様に研削により形成するようにしてもよい。
【0126】
本実施形態では、詳しくは後述するが、ダイシングブレードを用いたダイサーにより形成した。
【0127】
このような第2の凹部61を凹部24Bの開口縁部に設けることで、凹部24B内に圧電セラミック22を接着剤23を介して埋め込んだ際に、余分な接着剤23が第2の凹部61内に流れ込み、余分な接着剤がセラミック基板21Bのノズルプレート40との接合面側にはみ出るのを防止して、ノズルプレート40との接合を良好に行うことができる。
【0128】
以下に、本実施形態のヘッドチップの製造方法について説明する。なお、図12及び図13は、実施形態3に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【0129】
上述した実施形態1の図4(a)に示す工程と同様の工程を行うことにより、図12(a)に示す、凹部24Bの両側面に基準面25Bが形成されたセラミック基板21Bを形成する。
【0130】
次に、図12(b)に示すように、凹部24Bの開口縁部を基準方向に亘って研削することにより第2の凹部61を形成する。
【0131】
本実施形態では、円盤状のダイシングブレード50を用いたダイサーによって、凹部24Bの開口縁部を基準方向に沿って研削することで、第2の凹部61を形成した。
【0132】
次に、図13(a)に示すように、セラミック基板21Bの一方面に形成した凹部24Bに、凹部24Bと略同等の形状で形成された圧電セラミック22を接着剤23を介して埋め込み、基板20Bを形成する。
【0133】
このとき、凹部24Bと圧電セラミック22との間の接着剤23の余分なものが、セラミック基板21Bのノズルプレート40との接合面側に流れ出るが、本実施形態では、凹部24Bの開口縁部に第2の凹部61が形成されているため、この第2の凹部61内に余分な接着剤が流れ込む。このため、セラミック基板21Bのノズルプレート40との接合面側に余分な接着剤が流れでるのを防止して、セラミック基板21Bとノズルプレート40との接合を良好に行うことができる。
【0134】
次に、図13(b)に示すように、上述した実施形態1と同様に基板20Bの一方面に基準方向とは直交する方向に所定間隔で複数の溝26を形成する。
【0135】
その後、各溝26を区画する側壁27上の所定位置に電極28を形成することで駆動部29を形成し、基板20Bの一方面にノズルプレート40を接合することで、図10に示すような本実施形態のヘッドチップ10Bを形成することができる。
【0136】
なお、本実施形態では、第2の凹部61をセラミック基板21Bを成形及び焼成して形成した後に研削により形成するようにしたが、第2の凹部61は、セラミック基板21Bと圧電セラミック22とを接着時に余分な接着剤を流れ込ませるだけで、高精度に形成する必要はない。このため、例えば、凹部24Bを有するセラミック基板21Bを成形及び焼成により形成する際に、同時に第2の凹部61を形成するようにしてもよい。なお、このような場合、セラミック基板21Bを研削して基準面25Bを形成した際に、同時に研削されて無くならないような大きさで形成しておく必要がある。
【0137】
また、本実施形態では、実施形態1のヘッドチップ10の他の例を示したが、このような第2の凹部61有する構成及び製造方法は、実施形態1に限定されるものではなく、実施形態2に適用しても同様の効果を得られるものである。
【0138】
(実施形態4)
図14及び図15は、本発明の実施形態2に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【0139】
まず、図14(a)に示すように、凹部24Cを有するセラミック基板21Cを成形及び焼成により形成する。
【0140】
このとき、凹部24Cをセラミック基板21Cの基準方向の少なくとも一方の端面が塞がれるような形状で形成する。本実施形態では、凹部24Cの両端部が塞がれるような形状、すなわち、基準方向の断面が凹形状となるように形成することで、凹部24Cの基準方向の両端部にブレ防止壁63を形成した。
【0141】
次に、図14(b)に示すように、凹部24Cの側面をセラミック基板21Cの基準方向の両端部に亘って研削することで、基準面25Cを形成する。
【0142】
本実施形態では、ブレ防止壁63が設けられているため、ダイシングブレード50によって一方のブレ防止壁63から研削を始め、他方のブレ防止壁63に達するまで研削することで、基準面25Cを形成する。
【0143】
このように、凹部24Cを基準方向の断面が凹状となるように形成することでブレ防止壁63を設け、このブレ防止壁63からダイシングブレード50によって研削することで、研削始めに、ダイシングブレード50の両面がブレ防止壁63を研削するため、ダイシングブレード50が片当たりすることなく、ダイシングブレード50の変形による破壊を防止することができる。
【0144】
その後、図15(a)及び(b)に示すように、上述した実施形態1〜3と同様に、凹部24C内に圧電セラミック22を接着剤23を介して埋め込むことで基板20Cを形成すると共に、基板20Cに圧電セラミック22の列方向に亘って溝26を形成する。
【0145】
その後、各溝26を区画する側壁27上の所定位置に図示しない電極を形成することで駆動部を形成し、基板20Cの一方面にノズルプレートを接合することで、ヘッドチップを形成することができる。
【0146】
なお、本実施形態では、実施形態1の他の例を示したが、このような凹部24Cを有する構成及び製造方法は、実施形態1に限定されるものではなく、実施形態2〜3に適用しても、同様の効果を得られるものである。
【0147】
(実施形態5)
図16は、本発明の実施形態5に係るヘッドチップの分解斜視図であり、図17は、実施形態2に係るヘッドチップの溝の長手方向の断面図である。
【0148】
図示するように、本実施形態のヘッドチップ10Dは、絶縁性のセラミック基板21Dの一方面に基準方向に延びるように複数列、本実施形態では2列の圧電セラミック22Aが接着剤23を介して埋め込まれた基板20Dと、基板20Dの一方面に接合されたノズル開口41を有するノズルプレート40とを具備する。
【0149】
セラミック基板21Dの一方面には、基準方向に延びるように、上部凹部64と、この上部凹部64の底面の略中央部に圧電セラミック22Aが基準方向と直交する方向に離れて埋め込まれる下部凹部65とを有する凹部24Dが形成されている。
【0150】
また、下部凹部65の底面の両側面は、圧電セラミック22Aがそれぞれ当接されて接着剤23を介して固定される基準面25Dとなっており、この基準面25Dは、下部凹部65の側面を基準方向に亘って研削することで平坦に形成されている。
【0151】
なお、この上部凹部64及び下部凹部65を有する凹部24Dを有するセラミック基板21Dは、上述した実施形態1と同様に、セラミック材料を成形及び焼成することで形成されている。
【0152】
また、凹部24Dの基準方向両端部には、圧電セラミック22Aが基準面25Dに当接して固定された際に、圧電セラミック22Aの間で、溝25D内のインクが流出しないように流出防止壁71が設けられている。
【0153】
ここで、圧電セラミック22A及びセラミック基板21Dは、上述した実施形態1と同じ材料が使用されるが、圧電セラミック22Aは、詳しくは後述する溝26Aの深さ方向の略中央部で分極方向が異なる。
【0154】
また、基板20Dには、基準方向と直交する方向に圧電セラミック22Aの列方向に亘って溝26Aが側壁27Aにより区画されて形成されている。
【0155】
この溝26Aは、本実施形態では、基準方向と直交する方向に亘って同一深さで形成されている。また、セラミック基板21Dの基準方向と直交する方向の両端部側には、上部凹部64と同一の深さの段差部66が設けられている。
【0156】
このように、溝26Aを同一深さとすると共に溝26Aの両端部側のセラミック基板21Dに段差部66を設けることによって、溝26Aを形成する際に、複数のワイヤを用いたワイヤソーにより複数個同時に加工することができ、量産性を向上することができる。
【0157】
また、上部凹部64を設けることにより、溝26Aを画成する側壁27Aは、圧電セラミック22Aのみで構成される領域と、セラミック基板21Dのみで構成される領域とが不連続となるように形成され、各溝26A毎に圧電セラミック22Aのみで構成される駆動部29Aが2箇所設けられている。
【0158】
さらに、各溝26Aの内面には電極28Aが形成されている。この電極28Aは、溝26Aの底面及び側壁27Aの圧電セラミック22Aのみで構成される側壁27Aに連続して形成されて、溝26Aの長手方向で隣接する駆動部29Aの間には、それぞれの電極28Aが絶縁されるように不連続となっている。これにより、各駆動部29Aに選択的に電圧を印加することができ、独立して駆動させることができる。
【0159】
なお、本実施形態では、圧電セラミック22Aが溝26Aの深さ方向の略中央で分極方向が異なるようにしたため、電極28Aを圧電セラミック22Aのみで構成される側壁27Aの全面に亘って形成することで、上述した実施形態1〜4の側壁27に比べて低い電圧で大きな変形を得ることができる。
【0160】
さらに、各溝26Aの長手方向両端部側には、セラミック基板21Dのみで構成される側壁27Aに当接する四角柱状のスペーサ70が基準方向に2列設けられている。
【0161】
このスペーサ70は、溝26Aの両端部を封止して、溝26A内に供給されたインクが溝26Aの両端部から排出されないようにするものである。
【0162】
このようなスペーサ70は、基板20Dと、ノズルプレート40との間に接着剤を介して接合されている。
【0163】
なお、ノズル開口41及び滑落膜等は上述した実施形態1と同様であり、ノズルプレート40は、単一層又は複数層で形成することができる。
【0164】
一方、セラミック基板21Dの溝26Aが形成された一方面とは反対の他方面側には、圧電セラミック22Aに対向しない領域に溝26Aの並設方向、すなわち基準方向に亘って各溝26Aの底部に連通する3列の共通溝30A、31及び32が設けられている。
【0165】
本実施形態では、共通溝30Aを下部凹部65の底部に設けることにより、この共通溝30Aが各溝26Aに連通して、各溝26Aにインクを供給するインク供給孔となっている。
【0166】
また、共通溝31及び32を、溝26Aを区画する側壁27Aのセラミック基板21Dのみで構成される領域に設けることにより、各溝26Aと共通溝31及び32とを連通孔で連通させ、この連通孔を溝26A内に供給されたインクを排出するインク排出孔34及び35とした。
【0167】
なお、本実施形態では、各溝29Aと共通溝31及び32とが、各溝26Aの底面でインク排出孔34及び35を介して連通するようにしたが、本実施形態の基準方向に隣接する溝26A同士は、側壁27Aのセラミック基板21Dのみで構成される領域と、圧電セラミック22Aのみで構成される領域との間で連通しているため、溝26Aと共通溝31及び32とを連通するインク排出孔34及び35は、溝26Aの何れか1つと連通するようにしてもよい。
【0168】
このように駆動部29Aを圧電セラミック22Aのみで構成し、その両側がセラミック基板21Dで拘束されないようにすることで、駆動部29Aの側壁27Aを大きく変形させることができる。また、駆動部29Aで圧電セラミック22Aを変形することにより発生した衝撃波は、主に駆動部29Aのみで反射し、溝26Aを共有する他の駆動部29Aへの衝撃波による影響を無くすことができる。
【0169】
以下に、このようなヘッドチップ10Dの製造方法について説明する。なお、図18及び図19は、ヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【0170】
まず、図18(a)に示すように、セラミック材料を成形及び焼成して上部凹部64及び下部凹部65からなる凹部24Dと、段差部66と、共通溝30A、31及び32とを有するセラミック基板21Dを形成する。
【0171】
詳しくは、セラミック基板21Dを成形する際に、一方面に基準方向に延びる上部凹部64と下部凹部65とからなる凹部24Dと、セラミック基板21Dの基準方向と直交する両端部側に上部凹部64と同一深さで基準方向に延びる段差部66とを形成すると共に、他方面に下部凹部65の底面と連通する共通溝30Aと、他方面の上部凹部64と段差部66との間の領域に共通溝31及び32を形成する。
【0172】
また、このとき、凹部24Dの基準方向両端部には、溝26A内のインクの流出を防止する流出防止壁71を形成する。
【0173】
次に、図18(b)に示すように、上述した実施形態1と同様に、セラミック基板21Dの下部凹部65の両側の側面を基準方向に亘って研削するこにより平坦な基準面25Dを形成する。本実施形態では、上述した実施形態1と同様に、図示しないダイシングブレードを用いた。
【0174】
次に、図19(a)に示すように、セラミック基板21Dの一方面に形成した下部凹部65に、四角柱形状を有する圧電セラミック22Aを接着剤23を介して埋め込み、基板20Dを形成する。
【0175】
次に、図19(b)に示すように、基板20Dの一方面に基準方向とは直交する方向に所定間隔で複数の溝26Aを形成する。
【0176】
本実施形態では、セラミック基板21Dの基準方向と直交する方向の両端部側に、段差部66を設けたため、基準方向と直交する方向に亘って同一の深さの溝26Aを形成した。
【0177】
また、このような溝26Aは、同一の深さで形成するため、複数のワイヤを用いたワイヤソーにより複数個同時に研削して形成することができる。
【0178】
また、溝26Aを形成することにより、各溝26Aと共通溝31及び32とが連通し、各溝26Aと共通溝31及び32とを連通させてインク排出孔34及び35を形成する。
【0179】
その後、各溝26Aの内側に電極28Aを形成することで、駆動部29Aを形成し、両端の段差部にスペーサ70を接合すると共に、基板20Dの一方面にノズル開口41の設けられたノズルプレート40を接合することで、図16に示すような本実施形態のヘッドチップ10Dを形成することができる。
【0180】
なお、電極28Aの形成は、公知のスパッタ、蒸着、電鋳により形成後、各駆動部29A間の電極をレーザ等により除去するようにしてもよく、また、基板20Dの表面にレジスト等の犠牲膜を塗布してから溝26Aの加工を行い、電極28Aを形成後に犠牲膜を剥離するリフトオフ工程を行うことにより、必要な部分のみ電極28Aを形成するようにしてもよい。
【0181】
また、本実施形態では、実施形態1のヘッドチップ10の他の例を示したが、このような構成のヘッドチップに上述した実施形態2〜4の構成を適用しても同様の効果を得られるものである。
【0182】
(他の実施形態)
以上、本発明の各実施形態について説明したが、ヘッドチップの基本的な構成は上述したものに限定されるものではなく、また、各実施形態1〜5を組み合わせた構成としてもよい。
【0183】
例えば、上述した実施形態1〜5では、溝26、26Aを基準方向と直交する方向に圧電セラミック22、22Aの列方向に亘って形成するようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、溝を基準方向と直交する方向から所定角度傾斜する方向に形成することで、ノズル列の基準方向の位置が全て異なるようにしてもよい。
【0184】
このようにノズル列の基準方向の位置を全て異なるようにすることで、ノズル開口の基準方向のピッチを半分のピッチとすることができ、ヘッドチップが固定されるライン型のインクジェット式記録装置に用いても、高密度印刷を行うことができる。
【0185】
また、例えば、上述した実施形態1〜5では、共通溝30、30A、31及び32が各溝26、26Aに連通し、各溝26、26Aにインクが充填されるようにしたため、水性インク等の導電性のインクを用いた場合、溝26、26A内の駆動部29、29Aの対向する電極28、28Aが導通してしまい、インクを吐出することができない。このため、例えば、電極28、28Aとインクとが触れる領域にポリイミド、酸化膜、パリレン等の絶縁膜を設けることで導電性のインクを用いることも可能である。
【0186】
また、水性インク等の導電性のインクを用いる場合には、深さの異なる溝を交互に配設することで、共通溝に連通する深さを有する溝(チャンバ)と、共通溝に連通しない深さを有する溝(ダミーチャンバ)とを交互に配設した構造とし、インクが充填されないダミーチャンバ内の電極を個別電極とすると共にチャンバ内の電極を共通電極とすることで、ダミーチャンバ内の対向する電極同士が短絡することなく、チャンバの駆動部毎に独立して駆動することもできる。
【0187】
また、上述した実施形態1〜5では、ヘッドチップ10〜10Dに駆動部29、29Aを各溝26、26Aの長手方向に亘って2箇所設けるようにしたが、駆動部の数及び位置は特に限定されず、駆動部を多く設けることによってさらに複数のノズル列を形成することができ、さらに高密度及び高速印刷を行うことができる。なお、駆動部を3箇所以上設ける場合は、各駆動部の電極同士が短絡しないように溝内から引き出す必要があり、例えば、ノズルプレート側やインク供給孔及びインク排出孔側等から引き出すようにすればよい。
【0188】
さらに、上述した実施形態1〜5では、ヘッドチップ10〜10Dを例示したが、本発明のセラミック基板及びその製造方法は、ヘッドチップ及びその製造方法に限定されるものではなく、例えば、水晶振動子片や圧電セラミック等の機能部材を有する水晶発振デバイスを含む圧電発振デバイスなどにも用いることができる。
【0189】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、凹部を有するセラミック基板を成形及び焼成することで、量産を実現できると共に、凹部の少なくとも一方面に機能部材が固定される平坦化された基準面を研削することにより形成することで、機能部材が基準面に対して均一に固定され、機能部材の動作に悪影響を与えることがない。また、基準面のみを研削で形成することで、低コストで形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1に係るヘッドチップの分解斜視図である。
【図2】本発明の実施形態1に係るヘッドチップの底面側の平面図である。
【図3】本発明の実施形態1に係るヘッドチップの断面図である。
【図4】本発明の実施形態1に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図5】本発明の実施形態1に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図6】本発明の実施形態2に係るヘッドチップの分解斜視図である。
【図7】本発明の実施形態2に係るヘッドチップの断面図である。
【図8】本発明の実施形態2に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図9】本発明の実施形態2に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図10】本発明の実施形態3に係るヘッドチップの分解斜視図である。
【図11】本発明の実施形態3に係るヘッドチップの断面図である。
【図12】本発明の実施形態3に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図13】本発明の実施形態3に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図14】本発明の実施形態4に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図15】本発明の実施形態4に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図16】本発明の実施形態5に係るヘッドチップの分解斜視図である。
【図17】本発明の実施形態5に係るヘッドチップの断面図である。
【図18】本発明の実施形態5に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【図19】本発明の実施形態5に係るヘッドチップの製造方法を示す斜視図である。
【符号の説明】
10、10A、10B、10D ヘッドチップ
20、20A、20B、20C、20D 基板
21、21A、21B、21C、21D セラミック基板
22、22A 圧電セラミック
23 接着剤
24、24A、24B、24C、24D 凹部
25、25A、25B、25C、25D 基準面
26、26A 溝
27、27A 側壁
28、28A 電極
29、29A 駆動部
30、30A、31、32 共通溝
33 インク供給孔
34、35 インク排出孔
40 ノズルプレート
41 ノズル開口
50 ダイシングブレード
60 第1の凹部
61 第2の凹部
63 ブレ防止壁
64 上部凹部
65 下部凹部
70 スペーサ
71 流出防止壁[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a ceramic substrate used for a piezoelectric device, a quartz device, and the like, to which a functional member such as a piezoelectric ceramic and a quartz resonator piece is fixed, and a method for manufacturing the same. The present invention relates to a head chip mounted on an ink jet recording apparatus used in a printing machine or the like and a method for manufacturing the head chip.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a piezoelectric device such as a head chip mounted on an ink jet recording apparatus, a microcircuit substrate such as a crystal element, or the like is a ceramic on which a functional member such as a piezoelectric ceramic or a crystal resonator piece is fixed. A ceramic substrate made of a material is used.
[0003]
As a head chip using such a ceramic substrate, for example, a recess is provided in the ceramic substrate, and a functional member is fixed in the recess.
[0004]
Here, as a head chip using a ceramic substrate having a concave portion to which a functional member is fixed, a substrate body made of an insulating material and provided with a concave portion on one surface, and a longitudinal portion provided in the concave portion of the substrate main body. A substrate having a functional member made of piezoelectric ceramic in which a plurality of grooves are formed in a direction orthogonal to the direction; and a nozzle plate having a nozzle opening joined to the substrate so as to close the opening side of the recess. In addition, there has been proposed one in which an electrode is formed on a side surface of a piezoelectric ceramic so that a voltage is applied to the electrode and ink filled in the groove is ejected from a nozzle opening (see, for example, Patent Document 1).
[0005]
In addition, as a head chip using a ceramic substrate, the substrate includes a substrate body made of an insulating material and provided with a concave portion opened on one end surface and one surface, and a piezoelectric ceramic embedded in the concave portion. A nozzle plate in which a plurality of grooves are defined by side walls across the main body and the piezoelectric ceramic and in the longitudinal direction of the recesses, and nozzle openings are formed in regions corresponding to the grooves on one end surface where the grooves of the substrate open. Have also been proposed (see, for example, Patent Document 2).
[0006]
However, in the former head chip, there is a problem that the piezoelectric ceramic has to be positioned and bonded to a predetermined position of the bottom surface of the concave portion of the substrate body, and it is difficult to perform highly accurate positioning.
[0007]
Further, when forming grooves in the piezoelectric ceramic, there is a problem in that the side walls defining the grooves are easily broken and the yield is poor.
[0008]
Furthermore, since the latter head chip performs high-speed printing and high-density printing, in order to increase the nozzle openings, the head chips must be arranged in parallel, which increases the size and cost of the head chip. There is a problem of end.
[0009]
In order to solve such a problem, by embedding a plurality of rows of piezoelectric ceramics extending in the reference direction on one side of the insulating substrate to form a substrate, and forming grooves at predetermined intervals along the row direction of the piezoelectric ceramics. A head chip having a structure having a plurality of nozzle arrays by providing a side wall and independently providing electrodes in the piezoelectric ceramic region of the side wall ensures that the side wall that divides the groove is broken when the groove is formed. Providing a head chip that can be formed easily and with high accuracy without the need to position the piezoelectric ceramic in place by embedding the piezoelectric ceramic in the substrate body. (Japanese Patent Application 2002-347688).
[0010]
[Patent Document 1]
JP 2000-512233 A (pages 9 to 14, FIGS. 3 and 6)
[0011]
[Patent Document 2]
JP 2000-296618 A (pages 4-6, FIGS. 1-10)
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
However, as a method of forming a recess for embedding a functional member such as a piezoelectric ceramic in a ceramic substrate made of a ceramic material, the formation by dicing has a problem that although a highly accurate recess can be formed, the cost is increased.
[0013]
For this reason, low-cost mass production can be realized by forming and firing a ceramic substrate having a recess. However, in this formation by forming and firing, the side and bottom surfaces of the recess are formed in an uneven shape. End up. When a functional member such as a piezoelectric ceramic is fixed in the recess by bonding, the piezoelectric ceramic is bonded to the reference surface with at least one side surface of the recess as a reference surface. Variation in the thickness of the adhesive between the two. As a result, when the piezoelectric ceramic is driven, the amount of displacement varies, and there is a problem that the ink ejection characteristics vary due to the nozzle openings.
[0014]
In addition, when the ceramic substrate is formed by molding and firing, there is a problem in dimensional accuracy because the dimensions are set in consideration of the shrinkage rate during firing. In addition, the corner between the reference surface and the bottom surface of the recess is formed into a curved surface, and it is difficult to control the height of the piezoelectric ceramic when embedding the piezoelectric ceramic in the recess, and the nozzle plate cannot be bonded to the ceramic substrate. There is a problem that it is difficult.
[0015]
For this reason, the process of grinding the area | region which protruded from the ceramic substrate of the piezoelectric ceramic is needed, and there exists a problem that a manufacturing process will become complicated and it will become high-cost.
[0016]
Furthermore, there is a problem that the adhesive used when bonding the piezoelectric ceramic to the concave portion of the ceramic substrate flows out to the bonding surface side of the ceramic substrate with the nozzle plate, which makes it difficult to bond the nozzle plate.
[0017]
Such a problem exists not only in the head chip and the manufacturing method thereof, but also in the ceramic substrate having a recess in which the functional member is embedded and the manufacturing method thereof.
[0018]
In view of such circumstances, it is an object of the present invention to provide a ceramic substrate having a recess in which a functional member can be embedded with high accuracy, a manufacturing method thereof, a head chip, and a manufacturing method thereof.
[0019]
[Means for Solving the Problems]
A first aspect of the present invention that solves the above problems is a ceramic substrate having a plurality of recesses extending in a reference direction, and a functional member that operates functionally in the recesses, and the shape of the recesses is The ceramic substrate is formed by molding and firing, and at least one surface of the concave portion is a reference surface flattened by grinding.
[0020]
According to a second aspect of the present invention, there is provided the ceramic substrate according to the first aspect, wherein the reference surface is formed on both side surfaces of the recess.
[0021]
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, at least the reference surface side of the bottom surface of the recess is a first recess that is narrower than the recess and flush with the reference surface. Is provided on the ceramic substrate.
[0022]
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, at least an opening edge portion of the concave portion on the reference surface side communicates with the concave portion and opens to a reference surface shallower than the concave portion. A ceramic substrate is provided with a second recess.
[0023]
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the concave portion is formed by molding and firing so that at least one end face in the reference direction is closed. In the ceramic substrate, the reference surface is formed across both end portions of the concave portion in the reference direction.
[0024]
A sixth aspect of the present invention includes the ceramic substrate according to any one of the first to fifth aspects, and a functional member made of a piezoelectric ceramic fixed to the concave portion of the ceramic substrate with an adhesive. By forming grooves at predetermined intervals along the row direction of the functional members, side walls that partition the grooves are provided, and electrodes are provided in the functional member regions of the side walls to form independent driving units. In addition, a nozzle plate is joined to one surface of the ceramic substrate, and a plurality of nozzle rows are provided by respectively providing nozzle openings for discharging ink in the groove at positions corresponding to the driving portions of the groove of the nozzle plate. The head chip is characterized by being formed.
[0025]
According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect, an ink supply hole for supplying ink to the groove and an ink in the groove are provided in a region not corresponding to the functional member on the other surface side of the ceramic substrate. An ink discharge hole for discharging is provided in the head chip.
[0026]
According to an eighth aspect of the present invention, in the sixth or seventh aspect, the region on the other surface side of the ceramic substrate that does not face the functional member is in the same direction as the reference direction and in the direction in which the grooves are juxtaposed. A plurality of common grooves communicating with the bottom of the groove are formed, and the communication holes connecting the common groove and the groove are the ink supply hole and the ink discharge hole. It is in.
[0027]
According to a ninth aspect of the present invention, in any one of the sixth to eighth aspects, two piezoelectric ceramics are arranged side by side on the ceramic substrate, and the electrodes are disposed on the sidewalls at both ends of the groove. The head chip is provided independently from a portion to a region facing the driving portion.
[0028]
According to a tenth aspect of the present invention, in any one of the sixth to ninth aspects, the concave portion is provided in the ceramic substrate at a depth that allows the piezoelectric ceramic to reach a bottom surface of the groove. To the head chip.
[0029]
An eleventh aspect of the present invention is a method of manufacturing a ceramic substrate having a plurality of recesses extending in a reference direction and using a functional member that operates functionally in these recesses. And a step of forming a flattened reference surface by grinding at least one side surface of the concave portion.
[0030]
In a twelfth aspect of the present invention, in the eleventh aspect, in the step of forming the reference surface, the bottom surface of the recess is ground at the same time, so that at least the reference surface side of the bottom surface of the recess is closer to the reference surface. A method of manufacturing a ceramic substrate is characterized in that a first recess having a narrow side surface that is flush with the reference surface is formed.
[0031]
In a thirteenth aspect of the present invention, in the eleventh or twelfth aspect, in the step of forming the concave portion by forming and baking, at least one end surface of the concave portion in the reference direction is closed. In the step of forming and forming the reference surface, the ceramic substrate is manufactured by grinding over both end portions in the longitudinal direction of the concave portion.
[0032]
In a fourteenth aspect of the present invention, in any one of the first to thirteenth aspects, in the step of forming the reference surface, further, at least an opening edge of the recess on the reference surface side communicates with the recess, In addition, the present invention resides in a method for manufacturing a ceramic substrate, wherein a second recess shallower than the recess is formed.
[0033]
According to a fifteenth aspect of the present invention, in any one of the first to fourteenth aspects, in the step of forming the concave portion by molding and baking, the upper concave portion and the bottom surface of the upper concave portion have a larger width than the functional member. In the method of manufacturing the head chip, the step of forming the concave portion including the lower concave portion and forming the reference surface on at least one side surface of the lower concave portion.
[0034]
According to a sixteenth aspect of the present invention, the functional member made of piezoelectric ceramic is fixed to the concave portion of the ceramic substrate formed by the method for manufacturing a ceramic substrate according to any one of the first to fifteenth aspects via an adhesive. A step of forming grooves at predetermined intervals in the row direction of the functional members to form side walls for partitioning the grooves, and forming electrodes in the functional member regions of the side walls. And a step of joining a nozzle plate having a plurality of rows of nozzle openings provided at equal intervals in positions corresponding to the respective driving portions of the groove to one surface of the ceramic substrate. There is a method for manufacturing a head chip.
[0035]
According to a seventeenth aspect of the present invention, in the sixteenth aspect, in the step of forming the concave portion by molding and firing, the ceramic substrate faces the functional member on a surface opposite to the surface on which the concave portion is provided. A method of manufacturing a head chip is characterized in that a plurality of common grooves that communicate with the bottom of the groove are formed in a region not to be formed in the same direction as the longitudinal direction of the recess and in the direction in which the grooves are arranged side by side.
[0036]
In an eighteenth aspect of the present invention, in any one of the first to seventeenth aspects, in the step of forming the concave portion by molding and firing, the concave portion is formed at a depth at which the functional member reaches the bottom surface of the groove. There is a method for manufacturing a head chip.
[0037]
According to a nineteenth aspect of the present invention, in the eighteenth aspect, in the step of forming the driving unit, the piezoelectric ceramic is different in polarization direction at a substantially center in the depth direction of the groove. The head chip manufacturing method is characterized in that the head chip is provided on the entire exposed side wall.
[0038]
In the present invention, by forming and firing a ceramic substrate having a recess, mass production can be realized, and it is formed by grinding a flattened reference surface on which a functional member is fixed to at least one surface of the recess. Thus, the functional member is fixed uniformly with respect to the reference surface, and the operation of the functional member is not adversely affected. Moreover, it can form at low cost by forming only a reference surface by grinding.
[0039]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.
[0040]
(Embodiment 1)
In the present embodiment, a head chip using a ceramic substrate is illustrated.
[0041]
FIG. 1 is an exploded perspective view of a head chip according to
[0042]
As shown in the figure, the
[0043]
On one surface of the
[0044]
Here, the shape of the
[0045]
The piezoelectric ceramic 22 is made of, for example, lead zirconate titanate (PZT), and the
[0046]
Furthermore, the
[0047]
As will be described in detail later, such a
[0048]
When the
[0049]
As described above, by providing the
[0050]
Further, by grinding the
[0051]
When the
[0052]
Further, the
[0053]
That is, two regions each having a part of the
[0054]
The piezoelectric ceramic 22 is formed in such a thickness that when the
[0055]
In addition, both end portions in the longitudinal direction of each
[0056]
Similar to the
[0057]
Furthermore, the piezoelectric ceramic 22 that constitutes a part of the
[0058]
In addition, the
[0059]
Thereby, a voltage can be selectively applied to the
[0060]
In addition, since the
[0061]
Since the
[0062]
Further, since the
[0063]
On the other hand, on the other side of the
[0064]
In the present embodiment, a
[0065]
Among the
[0066]
In other words, the ink supplied from the
[0067]
An ink reservoir such as an ink tank (not shown) is connected to each of the
[0068]
Further, when forming such
[0069]
For example, when the
[0070]
Further, in consideration of mass productivity and work efficiency, the
[0071]
On the other hand, a
[0072]
In the present embodiment,
[0073]
In addition, the
[0074]
Further, although not shown, a surface of the
[0075]
Such a
[0076]
In such a
[0077]
Further, since the plurality of
[0078]
Further, by embedding the piezoelectric ceramic 22 in the
[0079]
Also, by providing a plurality of nozzle rows in which the
[0080]
Below, the manufacturing method of such a head chip is demonstrated. 4 and 5 are perspective views showing the method of manufacturing the head chip according to the first embodiment.
[0081]
First, as shown to Fig.4 (a), a ceramic material is shape | molded and baked, and the
[0082]
Specifically, when the
[0083]
Thus, the
[0084]
The
[0085]
Next, as shown in FIG. 4B, the
[0086]
Such a
[0087]
Further, the grinding of the
[0088]
By forming the
[0089]
Further, in this way, the
[0090]
Next, as shown in FIG. 5 (a), a piezoelectric ceramic 22 formed in substantially the same shape as the
[0091]
Since the piezoelectric ceramic 22 is flush with one surface of the
[0092]
In bonding the piezoelectric ceramic 22 to the
[0093]
Next, as shown in FIG. 5B, a plurality of
[0094]
The
[0095]
In the present embodiment, each
[0096]
Further, by forming the
[0097]
Thereafter, an
[0098]
The
[0099]
As described above, in the present invention, the both sides of the
[0100]
Further, by providing the reference surfaces 25 on both side surfaces of the
[0101]
Furthermore, by forming the
[0102]
(Embodiment 2)
FIG. 6 is an exploded perspective view of the head chip according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a longitudinal sectional view of the groove of the head chip.
[0103]
As shown in the drawing, in the present embodiment, a plurality of
[0104]
Further, a
[0105]
The first
[0106]
In the present embodiment, the side walls on both sides of the
[0107]
Further, in this embodiment, the
[0108]
By embedding the piezoelectric ceramic 22 in the
[0109]
Further, by providing the
[0110]
Below, the manufacturing method of the head chip of this embodiment is explained. 8 and 9 are perspective views showing a method of manufacturing the head chip according to the second embodiment.
[0111]
First, as shown in FIG. 8A, a
[0112]
Next, as illustrated in FIG. 8B, the
[0113]
In this embodiment, grinding was performed by a dicer using a
[0114]
With this
[0115]
Thus, since the 1st recessed
[0116]
As described above, in the grinding for forming the
[0117]
Next, as shown in FIG. 9A, a piezoelectric ceramic 22 formed in a shape substantially equivalent to the
[0118]
In the present embodiment, since the
[0119]
Next, as shown in FIG. 9B, a plurality of
[0120]
Thereafter, an
[0121]
(Embodiment 3)
FIG. 10 is an exploded perspective view of the head chip according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a longitudinal sectional view of the groove of the head chip according to the third embodiment.
[0122]
As shown in the drawing, in the present embodiment, a plurality of
[0123]
In addition, at least an opening edge of the
[0124]
In the present embodiment, the side surfaces on both sides of the
[0125]
Moreover, the formation method of the 2nd recessed
[0126]
In the present embodiment, as will be described in detail later, it is formed by a dicer using a dicing blade.
[0127]
By providing such a
[0128]
Below, the manufacturing method of the head chip of this embodiment is explained. 12 and 13 are perspective views illustrating a method of manufacturing the head chip according to the third embodiment.
[0129]
By performing the same process as the process shown in FIG. 4A of the first embodiment described above, the
[0130]
Next, as shown in FIG. 12B, the
[0131]
In the present embodiment, the
[0132]
Next, as shown in FIG. 13 (a), a piezoelectric ceramic 22 formed in a shape substantially equivalent to the
[0133]
At this time, an excess of the adhesive 23 between the
[0134]
Next, as shown in FIG. 13B, a plurality of
[0135]
Thereafter, an
[0136]
In the present embodiment, the
[0137]
Further, in the present embodiment, another example of the
[0138]
(Embodiment 4)
14 and 15 are perspective views showing a method of manufacturing a head chip according to the second embodiment of the present invention.
[0139]
First, as shown to Fig.14 (a), the
[0140]
At this time, the
[0141]
Next, as illustrated in FIG. 14B, the
[0142]
In this embodiment, since the
[0143]
Thus, the
[0144]
Thereafter, as shown in FIGS. 15A and 15B, as in
[0145]
Thereafter, an electrode (not shown) is formed at a predetermined position on the
[0146]
In addition, in this embodiment, although the other example of
[0147]
(Embodiment 5)
FIG. 16 is an exploded perspective view of a head chip according to the fifth embodiment of the present invention, and FIG. 17 is a longitudinal sectional view of a groove of the head chip according to the second embodiment.
[0148]
As shown in the figure, the head chip 10D of the present embodiment has a plurality of rows of
[0149]
On one surface of the
[0150]
Further, both side surfaces of the bottom surface of the lower
[0151]
The
[0152]
Further, at both ends in the reference direction of the
[0153]
Here, the piezoelectric ceramic 22A and the
[0154]
Further, the
[0155]
In this embodiment, the
[0156]
In this way, by forming the
[0157]
Further, by providing the upper
[0158]
Further, an
[0159]
In this embodiment, since the piezoelectric ceramic 22A has a different polarization direction at the approximate center in the depth direction of the
[0160]
Further, two rows of square
[0161]
The
[0162]
Such a
[0163]
The
[0164]
On the other hand, on the other surface side opposite to the one surface on which the
[0165]
In the present embodiment, by providing the
[0166]
Further, by providing the
[0167]
In the present embodiment, each
[0168]
Thus, the
[0169]
Below, the manufacturing method of such a head chip 10D is demonstrated. 18 and 19 are perspective views showing a method for manufacturing the head chip.
[0170]
First, as shown in FIG. 18 (a), a ceramic substrate having a
[0171]
Specifically, when the
[0172]
At this time, the
[0173]
Next, as shown in FIG. 18B, as in the first embodiment, the
[0174]
Next, as shown in FIG. 19A, a piezoelectric ceramic 22A having a quadrangular prism shape is embedded in the
[0175]
Next, as shown in FIG. 19B, a plurality of
[0176]
In this embodiment, since the
[0177]
In addition, since
[0178]
Further, by forming the
[0179]
Thereafter, an
[0180]
The
[0181]
Further, in the present embodiment, another example of the
[0182]
(Other embodiments)
Although the embodiments of the present invention have been described above, the basic configuration of the head chip is not limited to that described above, and may be a configuration in which the first to fifth embodiments are combined.
[0183]
For example, in
[0184]
Thus, by making all the positions of the nozzle rows in the reference direction different, the pitch of the nozzle openings in the reference direction can be halved, and the line type ink jet recording apparatus to which the head chip is fixed can be realized. Even when used, high-density printing can be performed.
[0185]
For example, in
[0186]
In addition, when conductive ink such as water-based ink is used, grooves having different depths are alternately arranged so that the grooves (chambers) having a depth communicating with the common groove do not communicate with the common groove. A structure in which grooves having a depth (dummy chambers) are alternately arranged, electrodes in the dummy chamber not filled with ink are used as individual electrodes, and electrodes in the chamber are used as common electrodes, so that The opposing electrodes can be driven independently for each driving part of the chamber without short-circuiting each other.
[0187]
In the first to fifth embodiments described above, the
[0188]
Further, in the above-described first to fifth embodiments, the head chips 10 to 10D are exemplified, but the ceramic substrate and the manufacturing method thereof according to the present invention are not limited to the head chip and the manufacturing method thereof. It can also be used for a piezoelectric oscillation device including a crystal oscillation device having a functional member such as a child piece or a piezoelectric ceramic.
[0189]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to realize mass production by molding and firing a ceramic substrate having a recess, and to provide a flattened reference surface on which a functional member is fixed to at least one surface of the recess. By forming by grinding, the functional member is fixed uniformly with respect to the reference surface, and the operation of the functional member is not adversely affected. Moreover, it can form at low cost by forming only a reference surface by grinding.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an exploded perspective view of a head chip according to a first embodiment of the invention.
FIG. 2 is a plan view of the bottom surface side of the head chip according to the first embodiment of the invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the head chip according to the first embodiment of the invention.
FIG. 4 is a perspective view showing the method for manufacturing the head chip according to the first embodiment of the invention.
FIG. 5 is a perspective view showing the method for manufacturing the head chip according to the first embodiment of the invention.
FIG. 6 is an exploded perspective view of a head chip according to a second embodiment of the invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view of a head chip according to a second embodiment of the invention.
FIG. 8 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the second embodiment of the invention.
FIG. 9 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the second embodiment of the invention.
FIG. 10 is an exploded perspective view of a head chip according to a third embodiment of the invention.
FIG. 11 is a cross-sectional view of a head chip according to a third embodiment of the invention.
FIG. 12 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the third embodiment of the invention.
FIG. 13 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the third embodiment of the invention.
FIG. 14 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the fourth embodiment of the invention.
FIG. 15 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the fourth embodiment of the invention.
FIG. 16 is an exploded perspective view of a head chip according to a fifth embodiment of the invention.
FIG. 17 is a cross-sectional view of a head chip according to a fifth embodiment of the invention.
FIG. 18 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the fifth embodiment of the invention.
FIG. 19 is a perspective view showing a method for manufacturing a head chip according to the fifth embodiment of the invention.
[Explanation of symbols]
10, 10A, 10B, 10D Head chip
20, 20A, 20B, 20C, 20D substrate
21, 21A, 21B, 21C, 21D Ceramic substrate
22, 22A Piezoelectric ceramic
23 Adhesive
24, 24A, 24B, 24C, 24D Recess
25, 25A, 25B, 25C, 25D Reference plane
26, 26A Groove
27, 27A side wall
28, 28A electrode
29, 29A Drive unit
30, 30A, 31, 32 Common groove
33 Ink supply hole
34, 35 Ink discharge hole
40 Nozzle plate
41 Nozzle opening
50 Dicing blade
60 first recess
61 Second recess
63 Anti-shake wall
64 Top recess
65 Lower recess
70 spacer
71 Outflow prevention wall
Claims (17)
前記凹部の形状が成形及び焼成することにより形成され、当該凹部の少なくとも一方面が研削により平坦化された基準面となっていることを特徴とするヘッドチップ。A ceramic substrate having a plurality of recesses extending in a reference direction and having a functional member made of piezoelectric ceramic that operates functionally in the recesses is provided, and grooves are formed at predetermined intervals in the row direction of the functional members. By forming a side wall for partitioning the groove and forming an electrode to be driven independently by providing an electrode in the functional member region of the side wall, a nozzle plate is bonded to one surface of the ceramic substrate. And a head chip for forming a nozzle row by providing nozzle openings for ejecting ink in the grooves at positions corresponding to the respective driving portions of the grooves of the nozzle plate.
A head chip, wherein the shape of the recess is formed by molding and firing, and at least one surface of the recess is a reference surface flattened by grinding.
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