JP4290379B2 - Irradiation type curing device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は所定波長の電磁波を照射して被処理物体の硬化を行う照射型硬化装置に関するものであって、更に詳細には、紫外線を照射して基板上に形成されているコーティング等の硬化を行う照射型硬化装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
紫外線を照射してコーティングを硬化させる技術は公知である。紫外線硬化技術においては、フリーラジカル系フォーミュレート材料が最も多く使用されているが、フリーラジカル系の紫外線硬化反応を大気中で行った場合には、特に空気中の酸素により硬化反応が阻害されること(所謂「酸素阻害」)が知られている。この様な酸素阻害に対処するためには、硬化反応が行なわれる雰囲気から酸素を除去すれば良い分けであるが、そのための一つの従来技術は硬化反応が行なわれる雰囲気を窒素等の不活性ガスで充満させることである。この様な従来技術の一例としては米国特許第6,223,453号に記載されている紫外線硬化装置がある。
【0003】
上記米国特許に記載されている紫外線硬化装置においては、紫外線照射機構を具備する硬化チャンバの入口側と出口側とに一対のノズル組立体を設けて硬化チャンバ内を不活性ガスで充満させる構成を有している。この従来技術の装置は酸素阻害を取り除く上においては極めて効果的なものであるが、コーティング等の被処理物体を搬送する搬送用ウエブは常に一定方向に移動しており、且つ一対のノズル組立体は硬化チャンバの入口側と出口側とに配設されているので、夫々のノズルから供給される窒素等の不活性ガスの一部は硬化チャンバ内に供給されずに大気中に放出されることとなる。従って、不活性ガスの消費量が比較的多量となる傾向があるという問題が存在している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は以上の点に鑑みなされたものであって、上述した如き従来技術の欠点を解消し、不活性ガスの消費量を減少させることを可能とした照射型硬化装置を提供することを目的とする。
【0005】
本発明の別の目的とするところは、低純度の不活性ガスを使用することが可能な照射型硬化装置を提供することである。
【0006】
本発明の更に別の目的とするところは、処理雰囲気を比較的一様な不活性ガスの濃度とさせることが可能な照射型硬化装置を提供することである。
【0007】
本発明の更に別の目的とするところは、比較的構造が簡単であり且つ廉価な照射型硬化装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、
所定の経路に沿って被処理物体を搬送する搬送手段、
前記所定の経路の上方に位置されており前記被処理物体に対して所定波長の電磁波を照射して硬化処理を行うために下部を少なくとも部分的に開放した処理チャンバ、
前記所定の経路の上方で且つ前記処理チャンバの入口側に隣接して位置されており下部を少なくとも部分的に開放した入口チャンバ、
前記入口チャンバ又は前記処理チャンバの少なくとも一方へ不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段、
を有していることを特徴とする照射型硬化装置が提供される。
【0009】
好適には、前記照射型硬化装置は、前記所定の経路の上方で且つ前記処理チャンバの出口側に隣接して位置されており前記処理チャンバから流出してくる不活性ガスが流入可能であるように下部を少なくとも部分的に開放した出口チャンバ、
を有している。1実施形態においては、前記出口チャンバ内にエアーカーテンノズルが配設されており、前記エアーカーテンノズルは前記所定の経路を横断して延在しており前記処理チャンバから前記出口チャンバ内に流入した不活性ガスを前記出口チャンバ内に閉じ込める傾向とさせるエアーカーテンを形成する。
【0010】
好適には、前記入口チャンバ内に互いに離隔されており且つ前記所定の経路を横切って延在している複数個の仕切板が配設されている。更に好適には、前記複数個の仕切板によって画定される複数個の区画室の内で少なくとも隣接する一対の区画室間においてガスが流れることが可能であるように連通空間が設けられている。1実施形態においては、前記連通空間が前記仕切板と前記入口チャンバの上部壁との間の隙間である。一方、別の実施形態においては、前記連通空間が前記仕切板に形成されている少なくとも1個の穿孔である。
【0011】
好適には、前記搬送手段が、
一対のローラ間に掛け渡されているエンドレスベルト、
前記エンドレスベルトの両側に配設されており前記エンドレスベルトの搬送表面から所定の高さに位置されている一対の支持表面、
を具備しており、前記処理チャンバ及び前記出口チャンバが前記一対の支持表面上に支持されている。
【0012】
好適には、前記不活性ガス供給手段が、窒素ガス供給手段と、前記窒素ガス供給手段に連通している窒素ガス供給パイプとを具備している。1実施形態においては、前記窒素ガス供給手段が空気から窒素ガスを分離させる少なくとも1個の窒素ガス発生モジュールを具備している。
【0013】
【発明の実施の態様】
本発明の1実施例に基づいて構成された照射型硬化装置1を図1に斜視図で示してある。本硬化装置1は、大略、被処理物体12(図5参照)を所定の経路に沿って搬送する搬送機構2と、搬送機構2上に装着されている処理チャンバ3、入口チャンバ4、出口チャンバ5とを有している。
【0014】
搬送機構2は、一対のローラ21,21と該一対のローラ間に掛け渡されているエンドレスベルト(搬送ベルト)22とを具備しており、該一対のローラの内の少なくとも一方が所定の方向に駆動回転され、それによりエンドレスベルト22を所定の方向に回動させる。エンドレスベルト22の上面は搬送面を形成しており、図1に示した実施例においては、矢印Aで示した方向がエンドレスベルト22の搬送方向である。従って、被処理物体はエンドレスベルト22の右側端部近くにおいて搬送面上に載置され、矢印Aで示したようにほぼ右から左へ向かって搬送される。搬送機構2は、更に、エンドレスベルト22の搬送面を水平状態に一定に維持するためにエンドレスベルト22の上側部分の裏面を案内する平坦なガイドプレート23を具備している。更に、図3に示されるように、搬送機構2は、ガイドプレート23を固定支持し且つ一対のローラ21を回転可能に支承する一対のガイドフレーム24,24を有しており、各ガイドフレーム24の上部には長尺状の支持プレート25が固着されている。各支持プレート25の上部表面はその上に処理チャンバ3、入口チャンバ4、出口チャンバ5を載置させることが可能な支持表面25aを提供している。後に詳述するように、これらの支持表面25aはエンドレスベルト22の搬送表面から所定の高さに設定されている。更に、図1に示されるように、カバー26によって支持フレーム24,24が被覆されている。
【0015】
図示例においては、処理チャンバ3は、エンドレスベルト22上に載置されて搬送されてくるコーティング等の被処理物体に対して紫外線を照射してコーティングを硬化させる紫外線硬化処理チャンバである。従って、処理チャンバ3には紫外線ランプ装置6が取付けられている。処理チャンバ3は、図示例においては、大略矩形状の箱型形状をしており、その上部壁上に紫外線ランプ装置6が取付けられており、一方その下部は開放状態となっている。図3において最も良く示されるように、処理チャンバ3の両側の端部は対応する支持表面25a上に接触しており、従って処理チャンバ3の側部は支持表面25aと密封状態にある。
【0016】
処理チャンバ3の入口側(即ち、搬送方向Aに対して上流側)に隣接して入口チャンバ4が配設されており、入口チャンバ4も大略矩形状の箱型でありその底部は開放されている。入口チャンバ4には不活性ガス供給パイプ7が取付けられており、不活性ガス供給パイプ7を介して外部から窒素等の不活性ガスが入口チャンバ4内に供給される。図3に示した図示例においては、不活性ガス供給パイプ7は入口チャンバ4内を搬送方向Aを横切る方向に延在しており、図7に示したように、不活性ガス供給パイプ7の入口チャンバ4内に延在する部分には多数の噴出孔7aが大略下方向に向けて穿設されている。更に、図1及び3に示した好適実施例においては、不活性ガス供給パイプ7は、入口チャンバ4内を延在しており且つ処理チャンバ3の近傍に位置されているが、所望により、別の実施例においては、不活性ガス供給パイプ7を処理チャンバ3内に位置させることも可能であり、更に、処理チャンバ3と入口チャンバ4の両方に別々の不活性ガス供給パイプを位置させることも可能である。尚、図7に示した図示例においては、噴出孔7aを2列に配列した場合を示しているが、これは2列より少ないか又は多い列とすることが可能であり、又パイプの長手軸に沿って延在する1個又はそれ以上の連続スリット形状とすることも可能である。
【0017】
図1に示したように、本発明によれば、処理チャンバ3の入口側に隣接して別の入口チャンバ4を配設しており、処理チャンバ3又は入口チャンバ4の少なくとも一方へ外部から窒素ガスなどの不活性ガスを供給する構成としている。この様な構成とすることにより、処理チャンバ3内の雰囲気は窒素ガスなどの不活性ガスで充満された状態を維持することが可能となり、該雰囲気の不活性ガス純度はほぼ均一な状態に維持される。従って、紫外線照射による被処理物体の硬化処理を安定的に且つ一様な状態で行うことが確保される。この様な入口チャンバ4の主要な機能としては、(1)被処理物体が入口チャンバ4下方を搬送される間に被処理物体及びエンドレスベルト22表面に付着する空気を入口チャンバ4内の不活性ガスと置換させること、及び(2)外部の大気の乱れ等によって処理チャンバ3内の不活性ガスの純度が変化することを防止すること、を包含している。尚、図1に示した好適な実施例においては、処理チャンバ3の出口側に隣接して別の出口チャンバ5が配設されている。この出口チャンバ5も大略矩形状の箱型をしており下部が開放されている。出口チャンバ5の主要な機能としては、処理チャンバ3から流出してくる不活性ガスを流入させて保持し、処理チャンバ3内の不活性ガスの純度が変化することを防止することである。即ち、入口チャンバ4と出口チャンバ5とは、処理チャンバ3の前後に配設されて処理チャンバ3内の不活性ガスの純度が一定に維持されるようなダンパー作用を行うものである。従って、この様に処理チャンバ3の前後に入口チャンバ4及び出口チャンバ5を設けた場合には、それらを設けることの無い従来技術の構成と比較して、不活性ガスの消費量を約1/5〜1/10程度に減少させることが可能である。
【0018】
尚、入口チャンバ4の搬送方向の長さがあまりにも短いと外気(人が本装置付近を通過した際に起こる風やエアコンからの風など)が入口チャンバ4内に侵入して該チャンバ内の不活性ガスの純度を変化させ、そのために処理チャンバ3内の不活性ガスの純度が影響されることがあり、又入口チャンバ4の長さがあまりにも短いと被処理物体の通過時間が短いために被処理物体の表面や搬送ベルトの表面に付着している空気と入口チャンバ内の不活性ガスとの置換が不充分となり、そのために処理チャンバ4内の不活性ガスの純度が低下したり変動したりすることとなる。搬送速度が非常に遅い場合であれば、外気の乱れによる影響を防ぐためには、入口チャンバ4の入口開口部の高さ(即ち入口チャンバ4の前方端壁の下端と搬送ベルト22の搬送表面との間の距離)が3cm程度の場合には、入口チャンバ4の長さは50cm程度とすることが可能である。最も、不活性ガスの供給量を多くすれば、入口チャンバ4の長さはこれよりも短くすることも可能であり、不活性ガスの供給量によってはこの半分程度の長さに設定することも可能である。しかしながら、被処理物体の表面に付着している空気を不活性ガスと置換させるためには或る程度の時間が必要であり、少なくとも0.7秒以上の時間がないと十分な置換が行なわれない可能性がある。従って、例えば搬送速度が毎分60mの場合には、入口チャンバ4の長さは0.7m〜1m程度に設定することが適切である。注意すべきことであるが、入口チャンバ4の長さは搬送ベルト22の最高速度に依存して変えることが必要であり、被処理物体が入口チャンバ4を通過する時間が0.7秒以上となるように設定することが好適である。
【0019】
図1に示した実施例においては、不活性ガス供給パイプ7が入口チャンバ4と連通されており、不活性ガスとして窒素ガスが入口チャンバ4内に供給される。入口チャンバ4内に供給された不活性ガスは入口チャンバ4の入口開口部を介して外部へ流出するが、搬送ベルト22は矢印Aで示した方向に移動しているので、入口チャンバ4の入口開口部からの不活性ガスの流出は阻止される傾向となる。従って、入口チャンバ4内に供給された不活性ガスのより多くの部分は入口チャンバ4の出口側開口部を介して流出し処理チャンバ3内に流れ込む傾向となる。図1には示していないが、高純度の窒素ガスを収容するガスボンベから高純度の窒素ガスを不活性ガス供給パイプ7へ供給させる構成とすることも可能である。図1に示した実施例においては、不活性ガス供給パイプ7は、流量計8及び流量制御バルブ9を介して複数個(図示例では4個)の窒素ガス発生モジュール10の出口側へ連通されている。窒素ガス発生モジュール10の入口側には不図示の空気圧縮機から圧縮空気11が供給される。この窒素ガス発生モジュール10は、圧縮空気から窒素を分離することが可能な機能を有しており、窒素ガス発生モジュール10の円筒部を介して空気中の主に酸素を通過させ窒素を通過させない機能を有している。
【0020】
窒素ガス発生モジュール10によって空気から窒素を分離させる原理は、合成樹脂内への分子の溶解、拡散(浸透)速度が物質(分子)の種類によって異なることを利用したものであり、その概要を図2(A)及び(B)に示してある。即ち、特定の合成樹脂で構成されている中空糸の入口側から加圧された空気を送ると、中空糸の樹脂中に(空気中の酸素や窒素などの)ガスが溶解し、拡散(浸透)するが、窒素分子の浸透速度が酸素分子の浸透速度よりも遅いために、酸素は中空糸の外側に浸み出し、中空糸の出口側からは窒素濃度の高い空気がでてくる。
【0021】
従って,圧縮空気が窒素ガス発生モジュール10を介して通過する間に、空気中の酸素が除去され窒素濃度の高いガスが得られる。この様な窒素ガス発生モジュール10としては市販のものを使用することが可能であり、例えば大日本インキ化学工業株式会社製の中空糸膜モジュールSEPAREL(商標名)を使用することが可能である。この様な窒素ガス発生モジュール10を使用した場合には、窒素ガス供給源として空気を使用するものであるから別に高純度の窒素ガスを用意することが必要ではなく、ランニングコスト的には極めて有利である。そして、窒素ガス発生モジュール10により発生される窒素ガスの純度は比較的低いものであるが、本発明においては、処理チャンバ3に隣接して入口チャンバ4を配設しているので、供給される窒素ガスの純度が比較的低いものであっても処理チャンバ3によって画定される処理雰囲気中における窒素ガスの純度は所望のレベルに且つ一定に維持することが可能である。
【0022】
次に、本発明の入口チャンバ4の種々の実施例について図3乃至6を参照して説明する。図3に示した実施例においては、入口チャンバ4は、平坦な上部壁4aと、前端壁4bと、後端壁4cと、一対の左右側壁4d,4eとから箱型形状に構成されている。尚、後端壁4cは、処理チャンバ3(入口チャンバ4と同様に上部壁3aと、前端壁3bと、後端壁3c(不図示)と、一対の左右側壁3d,3e(不図示)とから箱型形状に構成されている)の前端壁3bの一部とすることも可能である。そして、一対の左右側壁4d,4eの夫々の下端部から外側へ延在してタブ4f,4fが設けられており、これらのタブ4f,4fが対応する支持表面25a上に載置されている。従って、入口チャンバ4は、基本的に、内部空洞を形成している。図4に示した実施例においては、入口チャンバ4の内部空洞内に互いに離隔されており且つ搬送ベルト22の搬送方向に垂直に配設して複数個の仕切板41が設けられている。従って、入口チャンバ4の内部空洞は、複数個の仕切板41によって複数個の区画室42に分割されている。更に、不活性ガス供給パイプ7が処理チャンバ3の近傍に位置して入口チャンバ4内を仕切板41と平行に延在している。
【0023】
複数個の仕切板41は、入口チャンバ4内のガスが該チャンバ内の前後方向に自由に移動することを阻止することを目的としており、例えば、該チャンバ内のガスが搬送ベルト22やその上に載置されている被処理物体につられて移動することを阻止することである。安定した硬化処理を行うためには、処理チャンバ3内の不活性ガスの純度を一定に維持することが望ましいが、この場合に、入口チャンバ4内に仕切板41が存在しない場合には、入口チャンバ4内のガスが自由に移動し、そのために外気の影響を受け易い入口チャンバ4入口付近の純度の低い不活性ガスが処理チャンバ3の近くに移動して処理チャンバ3内の不活性ガスの純度を低下させる可能性がある。入口チャンバ4内に仕切板41を配設する目的は正にこの様な状態に対処するためのものであり、仕切板41によって入口チャンバ4内のガスの移動を可及的に阻止し、それにより該チャンバ内の不活性ガスと被処理物体及び搬送ベルト22に付着している空気との摩擦を増大させ、該付着している空気と該チャンバ内の不活性ガスとの置換を促進させ、処理チャンバ3内における不活性ガスの純度を安定して一定に維持させるものである。
【0024】
不活性ガス供給パイプ7から入口チャンバ4内の処理チャンバ3の近傍に供給される不活性(窒素)ガスは、該チャンバ内に配設されている複数個の仕切板41を順次通過して入口チャンバ4の入口開口部に到達し、最終的には該入口開口部から大気中に放出される。入口チャンバ4の入口開口部に近い仕切板41によって画定される区画室42内の不活性ガスは外気と混ざり合い易いためにその純度は低くなり、一方不活性ガス供給パイプ7に近づくに従って順次不活性ガスの純度は高くなり、且つ純度の変動も小さくなる。従って、仕切板41は搬送ベルト22の搬送方向に対して可及的に垂直であるように配設することが望ましい。
【0025】
図3に示した入口チャンバ4の構成の詳細を図4に拡大して示してある。図4に示したように、入口チャンバ4の前端壁4bの下端と搬送ベルト22の表面との間の垂直距離Hは入口開口部の高さを画定しており、この高さHは支持表面25aの設定位置によって規定される。図4に示した実施例においては、複数個の仕切板41を一定のピッチ間隔Sで入口チャンバ4内に配設している。このピッチ間隔Sは入口チャンバ4の長さや大きさに応じて適宜決定すべきことであるが、1例としては、入口チャンバ4の内部空洞を少なくとも10個の区画室42に分割し、各区画室42はその高さよりも幅(ピッチ間隔S)が小さくなるように設定することが望ましい。要するに、これらの仕切板41は、それによって画定される区画室42内のガスが外気の乱れや被処理物体及び搬送ベルト22の運動によって可及的に移動されることがないようにそのピッチ間隔Sを設定することが望ましい。1例として、長さが1mであり高さが95mmである入口チャンバ4の場合には、仕切板41のピッチ間隔Sを20〜50mmの範囲に設定すると良い。
【0026】
更に、図4に示されているように、各仕切板41の上端と入口チャンバ4の上部壁4aとの間には隙間Gが設定されており、従って複数個の仕切板41によって画定されている複数個の区画室42はこの隙間Gを介して互いに連通している。前述した如く、入口チャンバ4内においてガスが自由に移動することは好ましいことではないが、装置の稼動開始時においての立上りを速くしたり、安定した動作を確保するためには、不活性ガス供給パイプ7から供給された不活性ガスが入口チャンバ4内の全ての区画室42内へ速やかに充填されることが必要である。この様な隙間Gが存在しない場合には、稼動開始時の立ち上がり初期において、空気が各区画室42内に残存するために不活性ガスの純度が上昇する時間が長くなり、従って稼動開始期間が長くなり、一方残存する空気が不規則的に流出するために不活性ガスの純度が不安定になる等の問題が発生する可能性がある。更に、搬送ベルト22上に載置されている立体的な被処理物体12の処理を行う場合に、図5(A)に示したように隙間Gが設けられていない場合には、各区画室42内のガスの逃げ場がないために、被処理物体12の矢印で示した移動によるピストン効果のために被処理物体12の前面に存在するガスが搬送方向に押されることとなる。そのために入口チャンバ4内の不活性ガスの純度の安定性に悪影響を与える可能性がある。一方、図5(B)に示したように、隙間Gが存在する場合には、各区画室42内のガスがその前後の区画室42内に逃げ込む(移動する)ことが可能であるために、被処理物体12の前方のガスは対応する区画室42内に入り込むことが可能であり、そのために搬送方向に押されるガスの量は著しく少なくなり、ほぼ無視可能な程度となる。
【0027】
この様な隙間Gは大きすぎると仕切板41を設けた効果が低下し、一方隙間Gが小さすぎると隙間Gによる種々の効果が低下する。従って、適切な隙間Gの効果を確保するためには、仕切板41のピッチ間隔Sと各仕切板41の高さから隙間Gの大きさを決定することが必要である。1例として、隙間Gは、仕切板41の間隔Sの20〜80%、仕切板41の高さの5〜50%の範囲に設定することが好適である。
【0028】
図6(A)及び(B)は仕切板41の別の実施例を示している。図6(A)に示した仕切板41は複数個の穿孔41aが穿設されており、一方図6(B)に示した仕切板41は金属板に所定の形状41b,41cの穴を多数全体的に穿設したものである。尚、これらの実施例による仕切板41を使用する場合には、隙間Gを省略することが可能であるが、その場合には、隙間Gを設けた場合と同等の開口率となるように設定することが望ましい。又、隙間Gと共にこれらの穿孔41a,41b,41cを設けることも可能であり、その場合には、隙間Gを比較的小さくすることが可能である。
【0029】
尚、上述した説明においては、入口チャンバ4内に複数個の仕切板41を設けた場合であるが、出口チャンバ5内においても同様の仕切板41を設けることが可能であることは勿論である。即ち、基本的には、出口チャンバ5は入口チャンバ4と同等の構成とすることが可能である。
【0030】
図1を再度参照すると、出口チャンバ5の出口側に位置してエアーカーテンパイプ15が出口チャンバ5内に挿通しており、出口チャンバ5内に配設されているエアーカーテンノズル16に連通している。エアーカーテンパイプ15は圧力調整ダンパ18を介して送風機17に連通している。エアーカーテンノズル16は出口チャンバ5の出口開口部近傍に空気を吹き出して空気の膜(エアーカーテン)を形成し、出口チャンバ5内の不活性ガスが外部に流出することを阻止する傾向とさせ、不活性ガスの消費量を減少させることに貢献する。エアーカーテンノズル16からの空気の吹き出し量を搬送ベルト22の搬送速度に応じて適切に設定することによって処理チャンバ3内の不活性ガスの純度を更に一定に維持させることが可能である。
【0031】
図8(A)に示した如く、搬送ベルト22が動いており且つエアーカーテンが存在しない場合には、出口チャンバ5内の不活性ガスは搬送ベルト22又は被処理物体によって外部へ持ち出され、一方外部から空気が出口チャンバ5内に侵入することとなる。一方、図8(B)に示した如く、搬送ベルト22が静止している状態でエアーカーテンノズル16から空気が噴出されると、噴出された空気は搬送ベルト22又は被処理物体に衝突して前後に分かれ、出口チャンバ5内の不活性ガスと混ざり合って不活性ガスの純度を低下させ、その一部は処理チャンバ3の方向へ流れて処理チャンバ3内の不活性ガスの純度を低下させる。更に、図8(C)に示した如く、搬送ベルト22が動いている状態でエアーカーテンノズル16から空気が噴出されるがその噴出量が少ない場合には、出口チャンバ5内の不活性ガスは搬送ベルト22又は被処理物体によって外部に持ち去られる。この場合は、装置の全チャンバ内のガスの量が少なくなり、その量を補うために入口チャンバ4内に外部の空気が侵入し、処理チャンバ3を経て出口チャンバ5へ流れることとなる。そのために、処理チャンバ3内の不活性ガスの純度は低下することとなる。更に、図8(D)に示した如く、エアーカーテンノズル16からのエアーの噴出し量が搬送ベルト22の搬送速度に見合ったように適切に設定されている場合には、出口チャンバ5内の不活性ガスの外部への流出が阻止される傾向となり、エアーカーテンノズル16からのエアーや外気からの空気が処理チャンバ3内に侵入することを可及的に防止することが可能となる。搬送ベルト22の搬送速度に対するエアーカーテンノズル16内のエアー圧力の最適設定値の1例を以下の表1に示してある。尚、使用する窒素ガスの量やエアーカーテンのエア−量は搬送ベルトの幅、被処理物体出入り口高さ、搬送ベルトの搬送速度、処理チャンバ3内の残存酸素濃度等によって異なるものである。
【0032】
【表1】
【0033】
エアーカーテンノズル16のノズル部16aは、吹き出される空気が幕を形成するように一定方向に安定して空気を吹き出す構造であることが望ましく、吹き出される空気が拡散されることが無いような構造であることが望ましい。従って、ノズル部16aは小さな穴を多数配列したものよりも、スリット状の連続した開口部の構造であり、一定の厚みのあるスリットで断面は、図9(A)に示した如く、可及的に平行であることが望ましい。図9(B)及び(C)に示した如くに断面が鋭利な角部を持つものは吹き出された空気が拡散する傾向となるのでエアーカーテンの形成には好適であるとはいえない。
【0034】
入口チャンバ4、処理チャンバ3、出口チャンバ5が十分に機能を発揮するためには、搬送ベルト22の下側や側面から不活性ガスが漏れたり外部の空気が各チャンバ内に侵入しない構造とすることが重要である。そのためには、搬送ベルト22の下部及び側面が外部の大気から離隔される構造とさせることが必要である。本装置においては、平坦なガイドプレート23の左右に一対の支持プレート25をガイドプレート23の上表面から所定の高さに設定して溝形状を構成し、搬送ベルト22の下部はカバー26によって被覆すると共に、全てのチャンバ4,3,5を互いに密接して配置させると共に支持プレート25の支持表面25a上に密着して装着している。従って、図10(A)及び(B)に示されるように、本装置は、被処理物体の出入り口以外には外部大気と実質的に連通する開口部を持たない全体的にトンネル状の構造を構成している。
【0035】
更に、搬送ベルト22の構造について説明すると、搬送ベルト22が荒い編目を有するものであったり、表面に大きな凹凸があるものであると、搬送ベルト22による外部大気中の空気の各チャンバへの持ち込み作用や各チャンバからの不活性ガスの持ちだし量が顕著となる場合がある。従って、搬送ベルト22としては、可及的に平面が平滑なものを使用することが望ましい。1例として、平織りタイプのガラスクロスにフッ素樹脂を含侵焼成し織り目にフッ素樹脂が埋め込まれているようなベルト(例えば、本多産業製HGS−P514)を使用することが望ましい。
【0036】
以上、本発明の具体的実施の態様について詳細に説明したが、本発明はこれらの具体的実施の態様にのみ制限されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱すること無しに種々の変形が可能であることは勿論である。
【0037】
【発明の効果】
本発明によれば、不活性ガスの消費量を減少させることが可能である。更に、低純度の不活性ガスを使用することが可能であり、高純度の不活性ガスを別に用意することは特に必要ではない。更に、処理雰囲気を比較的一様な不活性ガスの濃度とさせることが可能である。更に、比較的構造が簡単であり且つ廉価な照射型化装置を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の1実施例に基いて構成した照射型硬化装置の全体的構成を示した概略斜視図。
【図2】 (A)及び(B)は図1の装置における窒素ガス発生モジュール10において使用されている中空糸膜の窒素分離原理を説明するために有用な各概略図。
【図3】 図1の装置における入口チャンバ4内に複数個の仕切板41を設けた場合の1実施例を示した一部破断概略斜視図。
【図4】 入口チャンバ4の1実施例を示した概略断面図。
【図5】 (A)及び(B)は入口チャンバ4の壁と仕切板41との間に隙間が存在しない場合と存在する場合とのガスの流れの違いを説明するように有用な各概略図。
【図6】 (A)及び(B)は仕切板41の夫々別の実施例を示した各概略斜視図。
【図7】 (A)及び(B)は、夫々、不活性ガス供給パイプ7の1実施例を示した概略斜視図及び概略断面図。
【図8】 (A)乃至(D)は出口チャンバ5の出口側に形成したエアーカーテンの作用を説明するのに有用な各概略図。
【図9】 (A)乃至(C)はエアーカーテンノズル16のノズル部16aに形成されるエアー噴出用の開口の形状を説明するのに有用な各概略断面図。
【図10】 (A)及び(B)は、夫々、本装置の搬送機構と各チャンバとによって大略トンネル構造の搬送経路が画定されている状態を示した概略斜視図及び概略側面図。
【符号の説明】
1:照射型硬化装置
2:搬送機構
3:処理チャンバ
4:入口チャンバ
5:出口チャンバ
6:紫外線ランプ装置
7:不活性ガス供給パイプ
10:窒素ガス発生モジュール
15:エアーカーテンパイプ
16:エアーカーテンノズル
22:搬送ベルト(エンドレスベルト)
23:ガイドプレート
25:支持プレート
26:カバー
41:仕切板
42:区画室[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an irradiation type curing apparatus that cures an object to be processed by irradiating an electromagnetic wave with a predetermined wavelength. More specifically, the present invention relates to curing of a coating or the like formed on a substrate by irradiating ultraviolet rays. The present invention relates to an irradiation type curing apparatus to be performed.
[0002]
[Prior art]
Techniques for irradiating ultraviolet rays to cure the coating are known. In the UV curing technology, free radical formula materials are most often used. However, when the free radical UV curing reaction is performed in the air, the curing reaction is inhibited by oxygen in the air. This is known (so-called “oxygen inhibition”). In order to cope with such oxygen inhibition, it is only necessary to remove oxygen from the atmosphere in which the curing reaction is performed. However, one prior art for this purpose uses an inert gas such as nitrogen as the atmosphere in which the curing reaction is performed. It is to be filled with. An example of such a conventional technique is an ultraviolet curing device described in US Pat. No. 6,223,453.
[0003]
In the ultraviolet curing apparatus described in the above U.S. patent, a configuration is provided in which a pair of nozzle assemblies are provided on the inlet side and the outlet side of a curing chamber having an ultraviolet irradiation mechanism to fill the curing chamber with an inert gas. Have. Although this prior art apparatus is extremely effective in removing oxygen inhibition, a transport web for transporting an object to be treated such as a coating always moves in a certain direction, and a pair of nozzle assemblies Are disposed on the inlet side and outlet side of the curing chamber, so that a part of the inert gas such as nitrogen supplied from each nozzle is not supplied into the curing chamber but released into the atmosphere. It becomes. Therefore, there is a problem that the consumption of the inert gas tends to be relatively large.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to provide an irradiation type curing apparatus that can eliminate the disadvantages of the prior art as described above and reduce the consumption of inert gas. And
[0005]
Another object of the present invention is to provide an irradiation type curing apparatus capable of using a low purity inert gas.
[0006]
Still another object of the present invention is to provide an irradiation type curing apparatus capable of making the treatment atmosphere have a relatively uniform inert gas concentration.
[0007]
Still another object of the present invention is to provide an irradiation type curing apparatus that is relatively simple in structure and inexpensive.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention,
Conveying means for conveying an object to be processed along a predetermined path;
A processing chamber positioned above the predetermined path and having a lower portion at least partially opened to irradiate the object to be processed with an electromagnetic wave having a predetermined wavelength to perform a curing process;
An inlet chamber located above the predetermined path and adjacent to the inlet side of the processing chamber and having at least a partially open bottom;
An inert gas supply means for supplying an inert gas to at least one of the inlet chamber or the processing chamber;
There is provided an irradiation type curing apparatus characterized by comprising:
[0009]
Preferably, the irradiation type curing device is positioned above the predetermined path and adjacent to the outlet side of the processing chamber so that an inert gas flowing out of the processing chamber can flow in. An outlet chamber with at least a partially open bottom,
have. In one embodiment, an air curtain nozzle is disposed in the outlet chamber, and the air curtain nozzle extends across the predetermined path and flows from the processing chamber into the outlet chamber. An air curtain is formed that tends to trap the inert gas within the outlet chamber.
[0010]
Preferably, a plurality of partition plates are disposed in the inlet chamber and are spaced apart from each other and extend across the predetermined path. More preferably, a communication space is provided so that gas can flow between at least a pair of adjacent compartments among the plurality of compartments defined by the plurality of partition plates. In one embodiment, the communication space is a gap between the partition plate and the upper wall of the inlet chamber. On the other hand, in another embodiment, the communication space is at least one perforation formed in the partition plate.
[0011]
Preferably, the conveying means is
An endless belt stretched between a pair of rollers,
A pair of support surfaces disposed on both sides of the endless belt and positioned at a predetermined height from the conveying surface of the endless belt;
The processing chamber and the outlet chamber are supported on the pair of support surfaces.
[0012]
Preferably, the inert gas supply means includes a nitrogen gas supply means and a nitrogen gas supply pipe communicating with the nitrogen gas supply means. In one embodiment, the nitrogen gas supply means includes at least one nitrogen gas generation module that separates nitrogen gas from air.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
An irradiation
[0014]
The
[0015]
In the illustrated example, the processing chamber 3 is an ultraviolet curing processing chamber that irradiates an object to be processed such as a coating placed on the
[0016]
An
[0017]
As shown in FIG. 1, according to the present invention, another
[0018]
If the length of the
[0019]
In the embodiment shown in FIG. 1, an inert
[0020]
The principle of separating nitrogen from air by the nitrogen
[0021]
Therefore, while compressed air passes through the nitrogen
[0022]
Various embodiments of the
[0023]
The plurality of
[0024]
The inert (nitrogen) gas supplied from the inert
[0025]
Details of the configuration of the
[0026]
Further, as shown in FIG. 4, a gap G is set between the upper end of each
[0027]
If such a gap G is too large, the effect of providing the
[0028]
FIGS. 6A and 6B show another embodiment of the
[0029]
In the above description, a plurality of
[0030]
Referring again to FIG. 1, the
[0031]
As shown in FIG. 8A, when the
[0032]
[Table 1]
[0033]
The
[0034]
In order for the
[0035]
Further, the structure of the
[0036]
Although specific embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention should not be limited to these specific embodiments, and various modifications can be made without departing from the technical scope of the present invention. Of course, it is possible to modify this.
[0037]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to reduce the consumption of inert gas. Further, it is possible to use a low purity inert gas, and it is not particularly necessary to prepare a high purity inert gas separately. Furthermore, it is possible to make the treatment atmosphere have a relatively uniform inert gas concentration. Furthermore, it is possible to provide an irradiation type apparatus that is relatively simple in structure and inexpensive.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of an irradiation type curing apparatus configured according to one embodiment of the present invention.
2A and 2B are schematic views useful for explaining the principle of nitrogen separation of a hollow fiber membrane used in the nitrogen
3 is a partially broken schematic perspective view showing one embodiment in the case where a plurality of
4 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the
FIGS. 5A and 5B are schematic views useful for explaining the difference in gas flow between the case where there is no gap and the case where there is no gap between the wall of the
6A and 6B are schematic perspective views showing different embodiments of the
7A and 7B are a schematic perspective view and a schematic cross-sectional view showing an embodiment of an inert
8A to 8D are schematic views useful for explaining the operation of an air curtain formed on the outlet side of the
FIGS. 9A to 9C are schematic cross-sectional views useful for explaining the shape of an air ejection opening formed in the
FIGS. 10A and 10B are a schematic perspective view and a schematic side view showing a state where a transfer path of a generally tunnel structure is defined by a transfer mechanism and each chamber of the apparatus, respectively.
[Explanation of symbols]
1: Irradiation type curing device
2: Transport mechanism
3: Processing chamber
4: Inlet chamber
5: Outlet chamber
6: UV lamp device
7: Inert gas supply pipe
10: Nitrogen gas generation module
15: Air curtain pipe
16: Air curtain nozzle
22: Conveyor belt (endless belt)
23: Guide plate
25: Support plate
26: Cover
41: Partition plate
42: compartment
Claims (9)
所定の経路に沿って被処理物体を搬送する搬送手段、
前記所定の経路の上方に位置されており前記被処理物体に対して所定波長の電磁波を照射して硬化処理を行うために下部を少なくとも部分的に開放した処理チャンバ、
前記所定の経路の上方で且つ前記処理チャンバの入口側に隣接して位置されており下部を少なくとも部分的に開放した入口チャンバ、
前記入口チャンバ又は前記処理チャンバの少なくとも一方へ不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段、
を有しており、前記入口チャンバ内には互いに離隔されており且つ前記所定の経路を横切って延在している複数個の仕切板が配設されて複数個の区画室を画定しており、各区画室はその高さよりも幅(複数個の仕切板のピッチ間隔)が小さくなるように設定され、且つ前記入口チャンバの長さは前記搬送手段によって搬送される前記被処理物体が前記入口チャンバを通過する時間が0.7秒以上であるように設定されて、いることを特徴とする照射型硬化装置。In irradiation type curing equipment,
Conveying means for conveying an object to be processed along a predetermined path;
A processing chamber positioned above the predetermined path and having a lower portion at least partially opened to irradiate the object to be processed with an electromagnetic wave having a predetermined wavelength to perform a curing process;
An inlet chamber located above the predetermined path and adjacent to the inlet side of the processing chamber and having at least a partially open bottom;
An inert gas supply means for supplying an inert gas to at least one of the inlet chamber or the processing chamber;
And a plurality of partition plates spaced apart from each other and extending across the predetermined path are disposed in the inlet chamber to define a plurality of compartments. Each compartment is set to have a width (pitch interval between a plurality of partition plates) smaller than its height , and the length of the inlet chamber is set so that the object to be processed is transported by the transport means. The irradiation type curing apparatus is characterized in that it is set so that a time of passing through the nozzle is 0.7 seconds or more.
前記所定の経路の上方で且つ前記処理チャンバの出口側に隣接して位置されており前記処理チャンバから流出してくる不活性ガスが流入可能であるように下部を少なくとも部分的に開放した出口チャンバ、
を有していることを特徴とする照射型硬化装置。In claim 1, further comprising:
An outlet chamber located above the predetermined path and adjacent to the outlet side of the processing chamber and at least partially opened at a lower portion so that an inert gas flowing out of the processing chamber can flow in ,
Irradiation type curing apparatus characterized by comprising:
一対のローラ間に掛け渡されているエンドレスベルト、
前記エンドレスベルトの両側に配設されており前記エンドレスベルトの搬送表面から所定の高さに位置されている一対の支持表面、
を具備しており、前記処理チャンバ及び前記出口チャンバが前記一対の支持表面上に支持されていることを特徴とする照射型硬化装置。In any one of Claims 1 thru | or 6, the said conveyance means is
An endless belt stretched between a pair of rollers,
A pair of support surfaces disposed on both sides of the endless belt and positioned at a predetermined height from the conveying surface of the endless belt;
An irradiation type curing apparatus, wherein the processing chamber and the outlet chamber are supported on the pair of support surfaces.
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