JP4264627B2 - Manufacturing method of flat panel display - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
【0002】
本発明は、発光ダイオードディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイなど、いわゆる点光源をマトリックス状に配列してなるフラットパネルディスプレイの製造方法に関する。
【従来の技術】
この種のフラットパネルディスプレイは、高性能でコンパクトなディスプレイを実現し得るものとして期待されている。特に、発光効率に優れたLEDディスプレイでは、赤、緑、青それぞれのパッケージングされたLEDを二次元的にアレイにして並べることで、高輝度、高コントラストのディスプレイが実現でき、たとえば各種電子機器の表示装置や野外での大画面のフルカラーディスプレイとして用いることができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、発光効率が高い点光源を用いた場合には光源の微小化が可能であるものの、このように発光領域面積を微小にすると、ディスプレイを近くで見たときに光源が点状に見えるので、かえって画像が粗くなってしまうといった問題がある。
【0004】
このため、点光源からの発光光を適当に拡散させることが検討されている。たとえば、特許文献1では、ガラスや樹脂などの光透過性シートに、微細な光透過性ビーズを分散させた光吸収性バインダを塗布して乾燥させることで、ディスプレイからの発光光を拡散させるための光拡散シートを得ることが開示されている。
【0005】
しかしながら、特許文献1により得られる光拡散シートは製造工程が多工程になるとともに、微細ビーズを均一に分散させる工程管理が困難である。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−298205号公報
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、簡易な製造工程で優れた光拡散性を発揮でき、点光源の発光光を好適に分散させることで発光素子の微小化を可能とするフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
(1)本発明によれば、基板上に点状発光素子がマトリックス状に設けられたフラットパネルディスプレイの製造方法において、前記点状発光素子を直接的または間接的に被覆するように圧力膨縮性樹脂を塗布して光拡散層を成膜する工程と、前記光拡散層を含む基板を、前記成膜工程の気圧に対して低圧または高圧の環境下に保持する工程と、を有することを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法が提供される。
【0008】
本発明では、点状発光素子を直接的または間接的に被覆するように圧力膨縮性樹脂を塗布し、この樹脂が硬化する前に基板を低圧環境下または高圧環境下に保持する。これにより、得られる光拡散層の表面に微細な凹凸が形成される。そして、この微細な凹凸によって点状発光素子からの発光光は適度に拡散することになり、発光素子を微小化しても画像が粗く見えてしまうことはない。特に、光拡散層を成膜して減圧環境下または増圧環境下に保持するだけで微細な凹凸が形成されるので、製造工程を著しく簡略化することができる。
【0009】
本発明において、光拡散層を構成する圧力膨縮性樹脂は、点状発光素子を直接的に被覆するように塗布してもよく、または他の層を介して間接的に塗布してもよい。要するに、本発明の光拡散層の形成位置は、発光光が光拡散層を透過する位置に形成されていればよい。
【0010】
本発明において、光拡散層を含む基板を保持する気圧は、圧力膨縮性樹脂の成膜工程の気圧に対して低圧、高圧の何れでもよい。塗布時の気圧に対して圧力変動を生じさせると光拡散層の表面に凹凸が形成されることになる。
【0011】
本発明に用いられる圧力膨縮性樹脂とは、圧力変動に応じて膨張または収縮する特性を有する樹脂であって、特に限定されないが、カルド型ポリマーを例示することができる。カルド型ポリマーとは、図5に示すように主鎖Mと嵩高い側鎖Sが一つの元素(これがカルド(ラテン語で蝶番の意)に相当する。)で繋がれた構造をもつ高分子の総称名である。こうしたカルド型ポリマーに代表される圧力膨縮性樹脂を低圧環境または高圧環境下に保持すると、表面に微細な凹凸が発現し、これを硬化させることで、或いは低圧環境または高圧環境下に保持しながら硬化させることで、表面に微細な凹凸を有する光拡散層を得ることができる。
【0012】
圧力膨縮性樹脂を低圧または高圧環境に保持する場合、その気圧差および到達時間が重要となるが、用いる圧力膨縮性樹脂の特性や目的とする光拡散層の表面粗度により、これらの気圧差および到達時間を適宜決定することが好ましい。本発明の好ましい実施形態としては、大気圧下において圧力膨縮性樹脂を塗布し、大気圧から少なくとも1×10−3Paまで2分以内の排気速度で減圧する。これにより、光拡散層の表面には表面粗度が1μm〜10μmの微細な凹凸が形成される。
【0013】
本発明の製造方法に係るフラットパネルディスプレイは、発光ダイオードディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイなど、いわゆる点光源をマトリックス状に配列してなるフラットパネルディスプレイであれば全てに適用することができる。
(2)特に、発光ダイオードディスプレイなどのように発光効率に優れた点状発光素子では、発光素子を微小化したときに画像が粗く見えるといった問題が顕著になることから、以下の製造方法により製造することが好ましい。
【0014】
すなわち、本発明の実施形態として、基板上に点状発光素子をマトリックス状に配列する工程と、前記基板および前記点状発光素子上に層間絶縁層を形成する工程と、前記層間絶縁層上に前記点状発光素子に電気的に接続される配線層を形成する工程と、前記層間絶縁層および前記配線層上に圧力膨縮性樹脂を塗布して光拡散層を成膜する工程と、前記光拡散層を含む基板を前記成膜工程の気圧に対して低圧または高圧の環境下に保持する工程と、を有するフラットパネルディスプレイの製造方法が提供される。
【0015】
また、本発明の他の実施形態として、基板上に点状発光素子をマトリックス状に配列する工程と、前記基板および前記点状発光素子上に絶縁性を有する圧力膨縮性樹脂を塗布して光拡散層を形成する工程と、前記光拡散層上に前記点状発光素子に電気的に接続される配線層を形成する工程と、前記光拡散層を含む基板を前記成膜工程の気圧に対して低圧または高圧の環境下に保持する工程と、を有するフラットパネルディスプレイの製造方法が提供される。
【0016】
これら実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法において、前者の製造方法では配線層および層間絶縁層の上に圧力膨縮性樹脂からなる光拡散層を形成するのに対し、後者の製造方法では、点状発光素子と配線層とを絶縁するための層間絶縁層を光拡散層とするので、後者の製造方法の方がより製造工程が短くなる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【0018】
第1実施形態
図1は本発明の第1実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示す工程図、図2は本発明の第1実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示すパネル断面図である。本例では点状発光素子として赤(R)、青(B)および緑(G)の発光ダイオード(以下、LEDともいう。)を用いたLEDカラーディスプレイを例に挙げて本発明を説明する。
【0019】
本例に係るLEDカラーディスプレイ1の1単位を図2(F)に示すが、ガラスなどで構成される基板11上に、赤、青および緑の3色の何れかのLED12と、このLEDを駆動するための駆動回路素子13とが接着剤などを用いて実装されている。3色のLED12は、この順序で縦横に配列され、基板11全体としてLED12がマトリックス状に配列されている。1組の赤、青および緑のLED12およびこれらの駆動回路素子13が実装された領域がディスプレイ1における1画素を構成する。
【0020】
LED12および駆動回路素子13が実装された基板11の表面には、LED12,駆動回路素子13との絶縁性を確保するための層間絶縁層14が形成されている。この層間絶縁層14は絶縁性を有するポリマーなどで構成することができる。
【0021】
層間絶縁層14の表面には、LED12の接点および駆動回路素子13の接点との電気的接続をとるための接続孔(ビアホール)15を介して、配線層16が形成されている。
【0022】
接続孔15は、層間絶縁層14にレーザー光などを用いて小孔を形成するか、あるいはパターニングなどの手法により小孔を形成したのち、配線層16を形成する際に同時に導体で埋められる。
【0023】
配線層16は、LED12や駆動回路素子13へ電力を供給したり、制御信号を送出するための配線パターンが形成されたものであり、導体をスパッタリングやパターニング等することにより形成される。
【0024】
特に本例のディスプレイ1は、層間絶縁層14および配線層16の表面に、カルド型ポリマーからなる光拡散層17が形成されている。この光拡散層17の表面は、後述する本発明に係る製造方法によって、表面粗度が1μm〜10μmの微細な凹凸を有している。
【0025】
次に本例のLEDカラーディスプレイ1の製造方法について説明する。
まず、図2(A)に示すように、ガラス製基板11の上面にLED12と駆動回路素子13とを接着剤などを用いてマトリックス状に実装する(LED実装工程101)。次いで、同図(B)に示すようにLED12および駆動回路素子13が実装された基板11の上面に、LED12および駆動回路素子13を覆うように絶縁性樹脂を塗布し、これを硬化させることで層間絶縁層14を形成する(層間絶縁層形成工程102)。
【0026】
次いで、同図(C)に示すように、層間絶縁層14の所定位置にレーザー光を用いて接続孔15を開設し、LED12および駆動回路素子13の接点を露出させる(接続孔形成工程103)。
【0027】
次いで、同図(D)に示すように、層間絶縁層14の表面の所定位置(配線パターンに相当する位置)および接続孔15に対して、スパッタリングにより金属を蒸着させ、パターニングにより所定の配線パターンに形成する(配線層形成工程104)。これにより、接続孔15が金属で埋まるとともに配線層16が形成されて、LED12および駆動回路素子13と、配線層16との電気的接続が行われる。
【0028】
次いで、同図(E)に示すように、配線層16が形成された層間絶縁層14の上面に、カルド型ポリマーをスピンコートなどで塗布し、光拡散層17を成膜する(光拡散層成膜工程105)。この状態では、カルド型ポリマーは未硬化である。また、以上の工程は大気圧環境下において行われる。
【0029】
上記光拡散層成膜工程105を終了したら、光拡散層17を構成するカルド型ポリマーを硬化させる(光拡散層硬化工程106)。この硬化工程は、用いられるカルド型ポリマーが熱硬化型ポリマーである場合はそのポリマーの硬化に必要とされる熱量(温度×時間)を与え、用いられるカルド型ポリマーが光硬化型ポリマーである場合はそのポリマーの硬化に必要とされる光量(強度×時間)を与える。
【0030】
最後に、光拡散層17が硬化したら、同図(E)に示す状態の基板11を真空装置(不図示)へ入れ、大気圧から少なくとも1×10−3Paまで、2分以内の排気速度で減圧し、この状態を所定時間維持する(減圧保持工程107)。この急速減圧により、同図(F)に示すように、未硬化の光拡散層17の表面が収縮して微細な凹凸が発現することとなる。
【0031】
以上の工程により得られるディスプレイ1では、光拡散層17の表面に1μm〜10μm程度の微細な凹凸が形成されているので、LED12から発せられた発光光は、光拡散層17を通過する際にこの微細な凹凸で拡散し、その結果、LED12の点光源を視認する領域が大きくなる。したがって、LEDを微小化した場合、たとえばディスプレイを近くで見たとしても画像が粗く見えるといった従来の問題が解消される。
【0032】
本発明者は、以上の工程にて製造されたLEDディスプレイと、光拡散層17を形成しない従来のLEDディスプレイを作製し、光源の視認状態を目視にて評価したが、本例のLEDディスプレイは画像が粗くなるといった不具合は全く見られず、同時に作製した従来のLEDディスプレイに比べてきわめて良好であった。
【0033】
第2実施形態
図3は本発明の第2実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示す工程図、図4は本発明の第2実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示すパネル断面図である。本例も点状発光素子として赤(R)、青(B)および緑(G)の発光ダイオード(以下、LEDともいう。)を用いたLEDカラーディスプレイを例に挙げて本発明を説明する。
【0034】
本例に係るLEDカラーディスプレイ1の1単位を図4(E)に示すが、ガラスなどで構成される基板11上に、赤、青および緑の3色の何れかのLED12と、このLEDを駆動するための駆動回路素子13とが接着剤などを用いて実装されている。3色のLED12は、この順序で縦横に配列され、基板11全体としてLED12がマトリックス状に配列されている。1組の赤、青および緑のLED12およびこれらの駆動回路素子13が実装された領域がディスプレイ1における1画素を構成する。
【0035】
LED12および駆動回路素子13が実装された基板11の表面には、LED12,駆動回路素子13との絶縁性を確保するために絶縁性を有する光拡散層17が形成されている。この光拡散層17は絶縁性を有するとともに、後述するように圧力膨縮性を有するポリマーで構成することができ、本例ではカルド型ポリマーで構成されている。この光拡散層17の表面は、後述する本発明に係る製造方法によって、表面粗度が1μm〜10μmの微細な凹凸を有している。
【0036】
光拡散層17の表面には、LED12の接点および駆動回路素子13の接点との電気的接続をとるための接続孔(ビアホール)15を介して、配線層16が形成されている。
【0037】
接続孔15は、光拡散層17にレーザー光などを用いて小孔を形成するか、あるいはパターニングなどの手法により小孔を形成したのち、配線層16を形成する際に同時に導体で埋められる。
【0038】
配線層16は、LED12や駆動回路素子13へ電力を供給したり、制御信号を送出するための配線パターンが形成されたものであり、導体をスパッタリングやパターニング等することにより形成される。
【0039】
次に本例のLEDカラーディスプレイ1の製造方法について説明する。
まず、図4(A)に示すように、ガラス製基板11の上面にLED12と駆動回路素子13とを接着剤などを用いてマトリックス状に実装する(LED実装工程201)。次いで、同図(B)に示すようにLED12および駆動回路素子13が実装された基板11の上面に、LED12および駆動回路素子13を覆うようにカルド型ポリマーをスピンコートなどで塗布し、光拡散層17を成膜する(光拡散層成膜202)。この状態では、カルド型ポリマーは未硬化である。また、以上の工程は大気圧環境下において行われる。
【0040】
次いで、同図(C)に示すように、光拡散層17の所定位置にレーザー光を用いて接続孔15を開設し、LED12および駆動回路素子13の接点を露出させる(接続孔形成工程203)。
【0041】
次いで、同図(D)に示すように、光拡散層17の表面の所定位置(配線パターンに相当する位置)および接続孔15に対して、スパッタリングにより金属を蒸着させ、パターニングにより所定の配線パターンに形成する(配線層形成工程204)。これにより、接続孔15が金属で埋まるとともに配線層16が形成されて、LED12および駆動回路素子13と、配線層16との電気的接続が行われる。
【0042】
上記配線層形成工程204を終了したら、光拡散層17を構成するカルド型ポリマーを硬化させる(光拡散層硬化工程205)。この硬化工程は、用いられるカルド型ポリマーが熱硬化型ポリマーである場合はそのポリマーの硬化に必要とされる熱量(温度×時間)を与え、用いられるカルド型ポリマーが光硬化型ポリマーである場合はそのポリマーの硬化に必要とされる光量(強度×時間)を与える。
【0043】
最後に、光拡散層17が硬化したら、同図(D)に示す状態の基板11を真空装置(不図示)へ入れ、大気圧から少なくとも1×10−3Paまで、2分以内の排気速度で減圧し、この状態を所定時間維持する(減圧保持工程206)。この急速減圧により、同図(E)に示すように、未硬化の光拡散層17の表面が収縮して微細な凹凸が発現することとなる。
【0044】
以上の工程により得られるディスプレイ1では、光拡散層17の表面に1μm〜10μm程度の微細な凹凸が形成されているので、LED12から発せられた発光光は、光拡散層17を通過する際にこの微細な凹凸で拡散し、その結果、LED12の点光源を視認する領域が大きくなる。したがって、LEDを微小化した場合、たとえばディスプレイを近くで見たとしても画像が粗く見えるといった従来の問題が解消される。
【0045】
また、本例の製造方法は、上述した第1実施形態に比べて層間絶縁層形成工程を省略することができるので、より一層簡略な製造工程でLEDフラットパネルディスプレイを得ることができる。
【0046】
本発明者は、以上の工程にて製造されたLEDディスプレイと、光拡散層17を形成しない従来のLEDディスプレイを作製し、光源の視認状態を目視にて評価したが、本例のLEDディスプレイは画像が粗くなるといった不具合は全く見られず、同時に作製した従来のLEDディスプレイに比べてきわめて良好であった。
【0047】
なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【0048】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、簡易な製造工程で優れた光拡散性を発揮でき、点光源の発光光を好適に分散させることで発光素子の微小化を可能とするフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示す工程図である。
【図2】本発明の第1実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示すパネル断面図である。
【図3】本発明の第2実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示す工程図である。
【図4】本発明の第2実施形態に係るフラットパネルディスプレイの製造方法を示すパネル断面図である。
【図5】本発明に係るカルド型ポリマーの分子構造を示す模式図である。
【符号の説明】
1…フラットパネルディスプレイ
11…基板
12…LED素子(点状発光素子)
13…駆動回路素子
14…層間絶縁層
15…接続孔
16…配線層
17…光拡散層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
[0002]
The present invention relates to a method for producing a flat panel display in which so-called point light sources are arranged in a matrix, such as a light emitting diode display, a plasma display, a liquid crystal display, and an organic electroluminescence display.
[Prior art]
This type of flat panel display is expected to realize a high-performance and compact display. In particular, an LED display with excellent luminous efficiency can realize a high-brightness, high-contrast display by arraying red, green, and blue packaged LEDs in a two-dimensional array, such as various electronic devices. It can be used as a large-screen full-color display in the field.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, if a point light source with high luminous efficiency is used, the light source can be miniaturized. However, if the area of the light emitting region is made small in this way, the light source looks like a dot when the display is viewed nearby. On the contrary, there is a problem that the image becomes rough.
[0004]
For this reason, it has been studied to appropriately diffuse light emitted from a point light source. For example, in Patent Document 1, a light-absorbing binder in which fine light-transmitting beads are dispersed is applied to a light-transmitting sheet such as glass or resin and dried to diffuse light emitted from the display. It is disclosed to obtain a light diffusion sheet.
[0005]
However, the light diffusing sheet obtained from Patent Document 1 has a multi-step manufacturing process, and it is difficult to manage the process of uniformly dispersing fine beads.
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2000-298205
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a manufacturing method of a flat panel display that can exhibit excellent light diffusibility by a simple manufacturing process and that enables miniaturization of light emitting elements by suitably dispersing light emitted from a point light source. Objective.
(1) According to the present invention, in a method of manufacturing a flat panel display in which dot-like light emitting elements are provided in a matrix on a substrate, pressure expansion / contraction is performed so as to directly or indirectly cover the dot-like light emitting elements. A step of forming a light diffusion layer by applying a functional resin, and a step of maintaining the substrate including the light diffusion layer in a low or high pressure environment with respect to the atmospheric pressure of the film formation step. A featured flat panel display manufacturing method is provided.
[0008]
In the present invention, a pressure-expandable resin is applied so as to directly or indirectly cover the point light emitting element, and the substrate is held in a low-pressure environment or a high-pressure environment before the resin is cured. Thereby, fine unevenness | corrugation is formed in the surface of the obtained light-diffusion layer. The light emitted from the point light-emitting element is appropriately diffused by the fine unevenness, and the image does not look rough even if the light-emitting element is miniaturized. In particular, since the fine irregularities are formed simply by forming the light diffusion layer and holding it in a reduced pressure environment or an increased pressure environment, the manufacturing process can be greatly simplified.
[0009]
In the present invention, the pressure-expandable resin constituting the light diffusion layer may be applied so as to directly cover the point light emitting element, or may be applied indirectly via another layer. . In short, the light diffusion layer of the present invention may be formed at a position where the emitted light passes through the light diffusion layer.
[0010]
In the present invention, the atmospheric pressure for holding the substrate including the light diffusion layer may be either a low pressure or a high pressure relative to the atmospheric pressure in the film forming process of the pressure-expandable resin. When pressure fluctuation is caused with respect to the atmospheric pressure during coating, irregularities are formed on the surface of the light diffusion layer.
[0011]
The pressure-expandable resin used in the present invention is a resin having a property of expanding or contracting in response to pressure fluctuation, and is not particularly limited, but examples thereof include cardo type polymers. As shown in FIG. 5, a cardo type polymer is a polymer having a structure in which a main chain M and a bulky side chain S are connected by one element (this corresponds to a cardo (latin meaning of a hinge)). It is a generic name. When a pressure-expandable resin typified by such a cardo type polymer is held in a low-pressure environment or a high-pressure environment, fine irregularities appear on the surface, and this can be cured or maintained in a low-pressure environment or a high-pressure environment. By curing it, a light diffusion layer having fine irregularities on the surface can be obtained.
[0012]
When maintaining the pressure-expandable resin in a low-pressure or high-pressure environment, the pressure difference and the arrival time are important, but depending on the characteristics of the pressure-expandable resin used and the surface roughness of the desired light diffusion layer, It is preferable to appropriately determine the pressure difference and the arrival time. In a preferred embodiment of the present invention, a pressure-expandable resin is applied under atmospheric pressure, and the pressure is reduced from atmospheric pressure to at least 1 × 10 −3 Pa at an exhaust speed within 2 minutes. Thereby, fine irregularities having a surface roughness of 1 μm to 10 μm are formed on the surface of the light diffusion layer.
[0013]
The flat panel display according to the production method of the present invention is applicable to all flat panel displays in which so-called point light sources are arranged in a matrix, such as a light emitting diode display, a plasma display, a liquid crystal display, and an organic electroluminescence display. Can do.
(2) In particular, a point-like light emitting device having excellent luminous efficiency such as a light emitting diode display has a problem that an image looks rough when the light emitting device is miniaturized. It is preferable to do.
[0014]
That is, as an embodiment of the present invention, a step of arranging point light emitting elements on a substrate in a matrix, a step of forming an interlayer insulating layer on the substrate and the point light emitting elements, and a step of forming on the interlayer insulating layer a step of forming a light diffusion layer by coating and forming a wiring layer electrically connected to said point-like light emitting element, the pressure inflation and deflation resin in the interlayer insulating layer and the wiring layer, wherein And a step of holding a substrate including a light diffusing layer in a low or high pressure environment with respect to the atmospheric pressure of the film forming step.
[0015]
As another embodiment of the present invention, a step of arranging point light emitting elements on a substrate in a matrix form, and applying a pressure-expandable resin having insulation on the substrate and the point light emitting elements are applied. A step of forming a light diffusion layer, a step of forming a wiring layer electrically connected to the point light emitting element on the light diffusion layer, and a substrate including the light diffusion layer at an atmospheric pressure of the film formation step. method of manufacturing a flat panel display having the steps of holding the environment of low or high pressure is provided for.
[0016]
In the manufacturing method of the flat panel display according to these embodiments, in the former manufacturing method, a light diffusion layer made of a pressure-expandable resin is formed on the wiring layer and the interlayer insulating layer, whereas in the latter manufacturing method, Since the interlayer insulating layer for insulating the point light emitting element and the wiring layer is a light diffusion layer, the manufacturing method of the latter method becomes shorter.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0018]
First Embodiment FIG. 1 is a process diagram showing a method for manufacturing a flat panel display according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a method for manufacturing a flat panel display according to the first embodiment of the present invention. It is a panel sectional view shown. In this example, the present invention will be described by taking an LED color display using red (R), blue (B) and green (G) light emitting diodes (hereinafter also referred to as LEDs) as point light emitting elements.
[0019]
One unit of the LED color display 1 according to this example is shown in FIG. 2 (F). On a
[0020]
On the surface of the
[0021]
A
[0022]
The
[0023]
The
[0024]
In particular, in the display 1 of this example, a
[0025]
Next, the manufacturing method of the LED color display 1 of this example is demonstrated.
First, as shown in FIG. 2A, the
[0026]
Next, as shown in FIG. 3C, a
[0027]
Next, as shown in FIG. 4D, metal is deposited by sputtering on a predetermined position (position corresponding to the wiring pattern) on the surface of the interlayer insulating
[0028]
Next, as shown in FIG. 5E, a cardo type polymer is applied by spin coating or the like on the upper surface of the interlayer insulating
[0029]
When the light diffusion
[0030]
Finally, after the
[0031]
In the display 1 obtained by the above steps, fine irregularities of about 1 μm to 10 μm are formed on the surface of the
[0032]
Although this inventor produced the LED display manufactured by the above process, the conventional LED display which does not form the light-
[0033]
Second Embodiment FIG. 3 is a process diagram showing a method for manufacturing a flat panel display according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 4 shows a method for manufacturing a flat panel display according to the second embodiment of the present invention. It is a panel sectional view shown. In this example, the present invention will be described by taking an LED color display using red (R), blue (B) and green (G) light emitting diodes (hereinafter also referred to as LEDs) as point light emitting elements.
[0034]
One unit of the LED color display 1 according to this example is shown in FIG. 4 (E). On a
[0035]
On the surface of the
[0036]
A
[0037]
The
[0038]
The
[0039]
Next, the manufacturing method of the LED color display 1 of this example is demonstrated.
First, as shown in FIG. 4A, the
[0040]
Next, as shown in FIG. 3C, a
[0041]
Next, as shown in FIG. 4D, metal is deposited by sputtering on a predetermined position (position corresponding to the wiring pattern) on the surface of the
[0042]
When the wiring
[0043]
Finally, when the
[0044]
In the display 1 obtained by the above steps, fine irregularities of about 1 μm to 10 μm are formed on the surface of the
[0045]
Moreover, since the manufacturing method of this example can omit an interlayer insulation layer formation process compared with 1st Embodiment mentioned above, an LED flat panel display can be obtained with a much simpler manufacturing process.
[0046]
Although this inventor produced the LED display manufactured by the above process, the conventional LED display which does not form the light-
[0047]
The embodiment described above is described for facilitating the understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
[0048]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, an excellent light diffusibility can be exhibited by a simple manufacturing process, and a flat panel display capable of miniaturizing a light emitting element by suitably dispersing light emitted from a point light source. A manufacturing method can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a process diagram showing a method of manufacturing a flat panel display according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a panel cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a flat panel display according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a process diagram showing a method for manufacturing a flat panel display according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a panel cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a flat panel display according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a schematic diagram showing the molecular structure of a cardo polymer according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記点状発光素子を直接的または間接的に被覆するように圧力膨縮性樹脂を塗布して光拡散層を成膜する工程と、
前記光拡散層を含む基板を、前記成膜工程の気圧に対して低圧または高圧の環境下に保持する工程と、を有することを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。In a method for manufacturing a flat panel display in which point light emitting elements are provided in a matrix on a substrate,
Applying a pressure-expandable resin so as to directly or indirectly cover the point light emitting element to form a light diffusion layer;
And a step of holding the substrate including the light diffusing layer in a low or high pressure environment relative to the atmospheric pressure of the film forming step.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004184754A JP2004184754A (en) | 2004-07-02 |
JP4264627B2 true JP4264627B2 (en) | 2009-05-20 |
Family
ID=32754169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4264627B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070035234A (en) * | 2005-09-27 | 2007-03-30 | 삼성전자주식회사 | Method and apparatus for manufacturing display substrate |
JP6738802B2 (en) * | 2015-03-30 | 2020-08-12 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Electronic device and method of manufacturing electronic device |
-
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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