JP4256236B2 - Control apparatus and control method - Google Patents

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本発明は、プロセス制御技術に係り、特に代表的な制御系とそれ以外の制御系とから構成されるマルチループ制御系の制御装置および制御方法に関するものである。   The present invention relates to a process control technique, and particularly to a control device and a control method for a multi-loop control system including a typical control system and other control systems.

コントローラを用いて複数の制御ループ(以下、マルチループと呼ぶ)の系を制御する場合、基本的には各制御ループを完全に独立した制御系として扱うのが最も簡単な実装形式になる。
しかしながら、例えば温度制御における昇温工程の際に、「複数の制御ループの昇温時間をほぼ同一にする」というような、マルチループならではの要求や制約がある場合が多い。この「昇温時間をほぼ同一にする」という制約を解決する手段としては、最も遅く昇温する制御ループに他の制御ループを自動的に同調させる制御装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
When a controller is used to control a system of a plurality of control loops (hereinafter referred to as multi-loops), it is basically the simplest implementation form to treat each control loop as a completely independent control system.
However, for example, in the temperature raising process in temperature control, there are many demands and restrictions unique to the multi-loop, such as “the temperature raising times of the plurality of control loops are substantially the same”. As a means for solving the restriction that “the temperature rising times are substantially the same”, a control device that automatically tunes another control loop to the control loop that heats up the latest has been proposed (for example, Patent Documents). 1).

また、マルチループの各制御系の間には干渉という現象が発生する場合がある。例えば温度制御において、1つの制御系の動作が隣接する他の制御系の温度に影響を与えるような場合が、干渉系に相当する。この場合、各制御ループを完全に独立した制御系として扱うと、干渉による制御系の乱れが適切に除去できず、結果的に制御特性を劣化させることになる。このような各制御系の干渉を解決する手段としては、マルチループの制御系をまとめて多変数の制御系としてコントローラを設計する設計装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, a phenomenon called interference may occur between multi-loop control systems. For example, in temperature control, the case where the operation of one control system affects the temperature of another adjacent control system corresponds to the interference system. In this case, if each control loop is handled as a completely independent control system, the disturbance of the control system due to interference cannot be properly removed, resulting in deterioration of the control characteristics. As means for solving such interference of each control system, a design apparatus has been proposed in which a multi-loop control system is combined to design a controller as a multi-variable control system (see, for example, Patent Document 2).

なお、出願人は、本明細書に記載した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を出願時までに発見するには至らなかった。
特開2002−49406号公報 特開2001−109504号公報
The applicant has not yet found prior art documents related to the present invention by the time of filing other than the prior art documents specified by the prior art document information described in this specification.
JP 2002-49406 A JP 2001-109504 A

例えば、図5に示すようなマルチループ制御系があり、熱的に温度干渉があるものとする。図5の例は、焼成炉21の内部の温度をコントローラ24,25によって制御するものであり、コントローラ24は焼成炉21内のA1の領域の温度を測定して操作量を算出し、焼成炉21内のヒータ22はコントローラ24から出力された操作量に応じて領域A1を加熱する。また、コントローラ25は焼成炉21内のA2の領域の温度を測定して操作量を算出し、焼成炉21内のヒータ23はコントローラ25から出力された操作量に応じて領域A2を加熱する。すなわち、コントローラ24と焼成炉21とが1つの制御系を構成し、コントローラ25と焼成炉21とが別の制御系を構成している。   For example, it is assumed that there is a multi-loop control system as shown in FIG. In the example of FIG. 5, the temperature inside the firing furnace 21 is controlled by the controllers 24 and 25, and the controller 24 measures the temperature of the area A <b> 1 in the firing furnace 21 to calculate the operation amount, and the firing furnace The heater 22 in 21 heats the area A <b> 1 according to the operation amount output from the controller 24. The controller 25 measures the temperature of the area A2 in the firing furnace 21 to calculate the operation amount, and the heater 23 in the firing furnace 21 heats the area A2 according to the operation amount output from the controller 25. That is, the controller 24 and the firing furnace 21 constitute one control system, and the controller 25 and the firing furnace 21 constitute another control system.

このようなマルチループ制御系において、2つの制御系の熱的特性が全く異なり、制御系間の温度干渉が少なく、かつ前述のような「各制御ループの昇温時間をほぼ同一にする」という制約がある場合には、特許文献1のような手法が有効である。
また、2つの制御系を全く異なるタイミングで全く異なる温度に変更しなければならない場合には、特許文献2の手法で設計したコントローラが有効である。
In such a multi-loop control system, the thermal characteristics of the two control systems are completely different, there is little temperature interference between the control systems, and “the temperature rise time of each control loop is substantially the same” as described above. In the case where there is a restriction, the technique as in Patent Document 1 is effective.
In addition, when the two control systems must be changed to completely different temperatures at completely different timings, a controller designed by the method of Patent Document 2 is effective.

しかしながら、図5に示したマルチループ制御系は、協調系を構成している。協調系とは、複数の制御系の設定値が略同じタイミングで略同じ値に変更されるような系のことである。つまり、図5に示した焼成炉21は複数の焼成物を同時に焼成するといった目的に使用されるものであり、また2つの制御系の熱的特性がかなり類似しているので、各制御系に与えられる設定値は略同じタイミングで略同じ値に変更される。   However, the multi-loop control system shown in FIG. 5 constitutes a cooperative system. A cooperative system is a system in which setting values of a plurality of control systems are changed to substantially the same value at substantially the same timing. That is, the firing furnace 21 shown in FIG. 5 is used for the purpose of firing a plurality of fired products simultaneously, and the thermal characteristics of the two control systems are quite similar. The given set value is changed to substantially the same value at substantially the same timing.

このような協調系において複数の制御系間の干渉が強い場合、特許文献1の手法では干渉の影響により制御が乱れやすくなるという問題点があった。特に問題になるのは、複数の制御系間の相互干渉の繰り返しによる共振状態のような制御の乱れであり、この場合、制御量(図5の例では温度)の乱れが長く継続してしまう。このような制御の乱れが発生する要因は、各制御系の操作量の上下動がちぐはぐになるためである。   In such a cooperative system, when the interference between a plurality of control systems is strong, the method of Patent Document 1 has a problem that the control is easily disturbed due to the influence of the interference. Particularly problematic is disturbance in control such as a resonance state due to repeated mutual interference between a plurality of control systems. In this case, disturbance in the control amount (temperature in the example of FIG. 5) continues for a long time. . The reason why such control disturbance occurs is that the up and down movement of the operation amount of each control system is staggered.

一方、特許文献2の設計装置によれば、協調系において複数の制御系間の干渉が強い場合であっても、この干渉を抑制するように制御を行うコントローラを設計することができるが、コントローラの設計の手間が煩雑で、高度な専門的知識が要求されるという問題点があった。すなわち、単純な特性で単純な動作に限られた協調系に対する制御手法としては、設計の煩雑さや専門性は極めて過剰なものであり現実的ではない。   On the other hand, according to the design apparatus of Patent Document 2, a controller that performs control can be designed so as to suppress this interference even when there is strong interference between a plurality of control systems in a cooperative system. There is a problem that the design effort of the system is complicated and a high level of specialized knowledge is required. In other words, as a control method for a cooperative system limited to simple operations with simple characteristics, design complexity and expertise are extremely excessive and are not realistic.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、干渉系かつ協調系であるマルチループ制御系において、制御系間の相互干渉の繰り返しによる制御の乱れを抑制し、かつ設計の煩雑さや高度な専門的知識の必要性を生じさせない制御装置および制御方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and in a multi-loop control system that is an interference system and a cooperative system, control disturbance due to repeated mutual interference between the control systems is suppressed, and the complexity of the design is reduced. It is an object of the present invention to provide a control device and a control method that do not cause the need for highly specialized knowledge.

本発明は、代表的な第1の制御系C1 とこの第1の制御系以外のn(nは1以上の整数)個の第2の制御系Ci (iは2から2+n−1までの整数)とから構成されるマルチループ制御系の制御装置において、前記第1の制御系C1 の制御量PVm を計測するメイン計測部と、前記第1の制御系C1 の設定値SPm を設定するメイン設定部と、前記制御量PVm および設定値SPm に基づいて前記第1の制御系C1 の操作量MVm を算出するメイン制御演算部と、前記第2の制御系Ci の制御量PVuiを計測するn個のサブ計測部と、前記第2の制御系Ci の設定値SPuiを設定するn個のサブ設定部と、前記制御量PVuiおよび設定値SPuiに基づいて前記第2の制御系Ci の操作量MVuiを算出するn個のサブ制御演算部と、前記メイン制御演算部から出力された操作量MVm に所定の係数Ruiを乗じるn個の係数処理部と、この係数処理部によって係数処理された操作量RuiMVm と前記サブ制御演算部から出力された操作量MVuiとを加算するn個の加算処理部と、前記メイン制御演算部から出力された操作量MVm を前記第1の制御系C1 の制御対象に出力するメイン出力部と、前記加算処理部によって加算処理された操作量RuiMVm +MVuiを前記第2の制御系Ci の制御対象に出力するn個のサブ出力部とを備え前記メイン制御演算部の演算はPID演算であり、前記サブ制御演算部の演算はPI演算であり、前記サブ制御演算部の制御特性が前記メイン制御演算部の制御特性よりも低感度に調整されるようにしたものである。 The present invention relates to a typical first control system C1 and n (n is an integer of 1 or more) second control systems Ci (i is an integer from 2 to 2 + n-1) other than the first control system. ), A main measurement unit for measuring the control amount PVm of the first control system C1, and a main setting for setting the set value SPm of the first control system C1. , A main control calculation unit for calculating the operation amount MVm of the first control system C1 based on the control amount PVm and the set value SPm, and n pieces for measuring the control amount PVui of the second control system Ci Sub-measurement unit, n sub-setting units for setting the set value SPui of the second control system Ci, and the manipulated variable MVui of the second control system Ci based on the control amount PVui and the set value SPui. N sub-control operation units for calculating the main control operation unit The n coefficient processing units for multiplying the output manipulated variable MVm by a predetermined coefficient Rui, the manipulated variable RuiMVm coefficient-processed by this coefficient processor, and the manipulated variable MVui output from the sub-control computing unit are added. n addition processing units, a main output unit that outputs the operation amount MVm output from the main control calculation unit to the control target of the first control system C1, and the operation amount that is added by the addition processing unit a n sub output section for outputting the RuiMVm + MVui the control target of the second control system Ci, operation of the main control arithmetic unit is PID calculation, calculation of the sub-control arithmetic unit in the PI operation In addition, the control characteristic of the sub-control calculation unit is adjusted to be less sensitive than the control characteristic of the main control calculation unit.

また、本発明の制御方法は、前記第1の制御系C1 の制御量PVm を計測するメイン計測手順と、前記第1の制御系C1 の設定値SPm を設定するメイン設定手順と、前記制御量PVmおよび設定値SPmに基づいて前記第1の制御系C1 の操作量MVm を算出するメイン制御演算手順と、前記第2の制御系Ci の制御量PVuiを計測するサブ計測手順と、前記第2の制御系Ci の設定値SPuiを設定するサブ設定手順と、前記制御量PVuiおよび設定値SPuiに基づいて前記第2の制御系Ci の操作量MVuiを算出するサブ制御演算手順と、前記メイン制御演算手順によって算出された操作量MVm に所定の係数Ruiを乗じる係数処理手順と、この係数処理手順によって係数処理された操作量RuiMVm と前記サブ制御演算手順によって算出された操作量MVuiとを加算する加算処理手順と、前記メイン制御演算手順によって算出された操作量MVm を前記第1の制御系C1 の制御対象に出力するメイン出力手順と、前記加算処理手順によって加算処理された操作量RuiMVm +MVuiを前記第2の制御系Ci の制御対象に出力するサブ出力手順とを備え前記メイン制御演算手順の演算はPID演算であり、前記サブ制御演算手順の演算はPI演算であり、前記サブ制御演算手順による制御特性が前記メイン制御演算手順による制御特性よりも低感度に調整されるようにしたものである。 The control method of the present invention includes a main measurement procedure for measuring the control amount PVm of the first control system C1, a main setting procedure for setting the set value SPm of the first control system C1, and the control amount. A main control calculation procedure for calculating the manipulated variable MVm of the first control system C1 based on PVm and the set value SPm, a sub-measurement procedure for measuring the control variable PVui of the second control system Ci, and the second A sub-setting procedure for setting the set value SPui of the control system Ci, a sub-control calculation procedure for calculating the manipulated variable MVui of the second control system Ci based on the control amount PVui and the set value SPui, and the main control A coefficient processing procedure for multiplying the operation amount MVm calculated by the calculation procedure by a predetermined coefficient Rui, an operation amount RuiMVm coefficient-processed by this coefficient processing procedure, and an operation amount calculated by the sub-control calculation procedure An addition processing procedure for adding Vui, a main output procedure for outputting the manipulated variable MVm calculated by the main control calculation procedure to the control target of the first control system C1, and an addition processing procedure by the addition processing procedure an operation amount RuiMVm + MVui a sub output procedure to output the control target of the second control system Ci, operation of the main control algorithm is PID calculation, calculation of the sub-control algorithm is the PI calculation The control characteristic according to the sub-control calculation procedure is adjusted to be less sensitive than the control characteristic according to the main control calculation procedure.

本発明によれば、係数処理部と加算処理部とを第2の制御系毎に設けることにより、代表的な第1の制御系の操作量を他の第2の制御系に分配し、更に分配する操作量の過不足分を補うために、第2の制御系にサブ制御演算部を設けているので、複数の制御系間の相互干渉の繰り返しによる共振状態のような制御の乱れを抑制することができる。また、1入力1出力型のコントローラ(メイン制御演算部とサブ制御演算部)が、マルチループの制御系の数のみ必要になるだけなので、コントローラの設計が煩雑になることがなく、高度な専門的知識も必要としない。   According to the present invention, by providing the coefficient processing unit and the addition processing unit for each second control system, the operation amount of the representative first control system is distributed to the other second control system, In order to compensate for the excess or deficiency of the operation amount to be distributed, a sub-control operation unit is provided in the second control system, so control disturbance such as a resonance state due to repetitive mutual interference between multiple control systems is suppressed. can do. Moreover, since only one multi-loop control system is required for the 1-input 1-output type controller (main control operation unit and sub-control operation unit), the controller design does not become complicated and it is highly specialized. It does not require technical knowledge.

[第1の実施の形態]
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。まず、本発明の基本原理について説明する。本発明は、干渉系(ある制御系の操作量MVの変更が他の制御系の制御系PVに強く影響する系)、かつ協調系(複数の制御系の設定値SPが略同じタイミングで略同じ値に変更される系)であるマルチループ制御系を適用対象とするものである。また、マルチループ制御系の全てがPIDで言うところの逆動作をする(操作量MVの増加に応じて制御量PVが上昇する)か、あるいはマルチループ制御系の全てがPIDで言うところの正動作をする(操作量MVの増加に応じて制御量PVが下降する)ことを必須の条件としている。
[First Embodiment]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, the basic principle of the present invention will be described. The present invention provides an interference system (a system in which a change in the operation amount MV of a certain control system strongly affects the control system PV of another control system) and a cooperative system (the set values SP of a plurality of control systems are substantially the same timing). This applies to a multi-loop control system that is a system that is changed to the same value). In addition, all the multi-loop control systems perform the reverse operation as indicated by PID (the control amount PV increases as the manipulated variable MV increases), or all of the multi-loop control systems indicate the normal operation as indicated by PID. It is an indispensable condition to operate (the control amount PV decreases as the operation amount MV increases).

このようなマルチループ制御系において、1つの重要な制御系を代表的制御系C1 として、この代表的制御系C1 に対し1入力1出力型のコントローラCNm (例えばPIDコントローラ)を設置し、この代表的制御系C1 に対しては、通常の制御を実行するように構成する。ここで、全ての制御系が逆動作する協調系あるいは全ての制御系が正動作する協調系の場合、代表的制御系C1 以外の制御系C2 の操作量MVu2が、代表的制御系C1 の操作量MVm と概ね同じ動きになることに着目し、制御系C2 に対して操作量MVm に適当な正の値の比率Ru2を乗じた操作量MVu2’=Ru2MVm を適用する。   In such a multi-loop control system, one important control system is a representative control system C1, and a one-input one-output type controller CNm (for example, a PID controller) is installed for this representative control system C1. The general control system C1 is configured to execute normal control. Here, in the case of a cooperative system in which all the control systems operate in reverse or a cooperative system in which all the control systems operate normally, the operation amount MVu2 of the control system C2 other than the representative control system C1 is the operation amount of the representative control system C1. Focusing on the fact that the movement is almost the same as the amount MVm, the operation amount MVu2 ′ = Ru2MVm obtained by multiplying the operation amount MVm by an appropriate positive ratio Ru2 is applied to the control system C2.

しかし、操作量MVm に比率Ru2を乗じただけでは制御系C2 の制御量PVu2が設定値SPu2に収束する保証がないので、操作量MVu2’を補正するために、制御系C2 に1入力1出力型のコントローラCNu2を代表的制御系C1 と同様に設置する。このとき、コントローラCNm とコントローラCNu2との関係は、コントローラCNm が支配的になるように設計する(例えば、PIDコントローラCNm に対して、コントローラCNu2を低感度に調整したPIコントローラとする)。そして、コントローラCNu2により算出される操作量MVu2を補正量と考え、前記操作量MVu2’をMVu2’=Ru2MVm+MVu2 のように補正する。   However, there is no guarantee that the control amount PVu2 of the control system C2 will converge to the set value SPu2 just by multiplying the operation amount MVm by the ratio Ru2, and therefore, to correct the operation amount MVu2 ', the control system C2 has one input and one output. A type controller CNu2 is installed in the same manner as the representative control system C1. At this time, the relationship between the controller CNm and the controller CNu2 is designed so that the controller CNm is dominant (for example, a PI controller in which the controller CNu2 is adjusted to a low sensitivity with respect to the PID controller CNm). Then, the operation amount MVu2 calculated by the controller CNu2 is considered as a correction amount, and the operation amount MVu2 'is corrected as follows: MVu2' = Ru2MVm + MVu2.

以上のように、代表的制御系C1 に適用するコントローラCNm の操作量MVm を協調系の支配的操作量として、代表的制御系C1 以外の制御系C2 の操作量については、補正のためのコントローラCNu2による補正量を合わせた操作量MVu2’=Ru2MVm+MVu2 を適用することにより、マルチループの制御系における個々の制御系に与えられる操作量が概ね同じ挙動になるようにすることができる。これにより、相互干渉の繰り返しによる共振状態のような乱れを抑制することができる。   As described above, with the operation amount MVm of the controller CNm applied to the representative control system C1 as the dominant operation amount of the cooperative system, the operation amount of the control system C2 other than the representative control system C1 is the controller for correction. By applying the operation amount MVu2 ′ = Ru2MVm + MVu2 combined with the correction amount by CNu2, the operation amounts given to the individual control systems in the multi-loop control system can be made substantially the same behavior. Thereby, disturbances such as a resonance state due to repeated mutual interference can be suppressed.

以上の原理に基づき、本実施の形態の制御装置の構成について説明する。図1は本発明の第1の実施の形態となる制御装置の構成を示すブロック図、図2は図1の制御装置の動作を示すフローチャートである。本実施の形態の制御装置は、代表的制御系C1 の制御量PVm を計測するメイン計測部1と、代表的制御系C1 の設定値SPm を設定するメイン設定部2と、制御量PVm および設定値SPm に基づいて代表的制御系C1 の操作量MVm を算出するメイン制御演算部3と、代表的制御系C1 以外の制御系C2 の制御量PVu2を計測するサブ計測部4と、制御系C2 の設定値SPu2を設定するサブ設定部5と、制御量PVu2および設定値SPu2に基づいて制御系C2 の操作量MVu2を算出するサブ制御演算部6と、メイン制御演算部3から出力された操作量MVm に所定の係数Ru2を乗じる係数処理部7と、係数処理部7によって係数処理された操作量Ru2MVm とサブ制御演算部6から出力された操作量MVu2とを加算する加算処理部8と、メイン制御演算部3から出力された操作量MVm を代表的制御系C1 の制御対象に出力するメイン出力部9と、加算処理部8によって加算処理された操作量Ru2MVm +MVu2を制御系C2 の制御対象に出力するサブ出力部10とを備えている。このような制御装置は、演算装置、記憶装置及びインタフェースを備えたコンピュータとこれらのハードウェア資源を制御するプログラムによって実現することができる。   Based on the above principle, the structure of the control apparatus of this Embodiment is demonstrated. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a control device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the control device of FIG. The control apparatus according to the present embodiment includes a main measuring unit 1 that measures the control amount PVm of the representative control system C1, a main setting unit 2 that sets the set value SPm of the representative control system C1, and the control amount PVm and the setting. Based on the value SPm, the main control calculation unit 3 that calculates the manipulated variable MVm of the representative control system C1, the sub-measurement unit 4 that measures the control amount PVu2 of the control system C2 other than the representative control system C1, and the control system C2 The sub-setting unit 5 for setting the set value SPu2 of the control system, the sub-control calculation unit 6 for calculating the operation amount MVu2 of the control system C2 based on the control amount PVu2 and the set value SPu2, and the operation output from the main control calculation unit 3 A coefficient processing unit 7 that multiplies the amount MVm by a predetermined coefficient Ru2, an addition processing unit 8 that adds the operation amount Ru2MVm coefficient-processed by the coefficient processing unit 7 and the operation amount MVu2 output from the sub-control operation unit 6; Main control calculation The main output unit 9 that outputs the operation amount MVm output from 3 to the control target of the representative control system C1, and the sub that outputs the operation amount Ru2MVm + MVu2 added by the addition processing unit 8 to the control target of the control system C2 And an output unit 10. Such a control device can be realized by a computer having an arithmetic device, a storage device, and an interface, and a program for controlling these hardware resources.

次に、図1の制御装置の動作を図2を用いて説明する。代表的制御系C1 の制御対象に対する設定値SPm は、制御装置のオペレータによって設定される。この設定値SPm はメイン設定部2を介してメイン制御演算部3に入力される(図2ステップ101)。メイン計測部1は、代表的制御系C1 の制御対象の制御量PVm を計測するセンサを備えており、センサによって計測された制御量PVm は、メイン制御演算部3に入力される(ステップ102)。   Next, the operation of the control device of FIG. 1 will be described with reference to FIG. The set value SPm for the control target of the representative control system C1 is set by the operator of the control device. This set value SPm is input to the main control calculation unit 3 via the main setting unit 2 (step 101 in FIG. 2). The main measuring unit 1 includes a sensor for measuring the control amount PVm to be controlled by the representative control system C1, and the control amount PVm measured by the sensor is input to the main control calculation unit 3 (step 102). .

メイン制御演算部3は、その制御アルゴリズムが例えばPIDであり、次式のようなラプラス演算子sを用いた伝達関数表現で表される制御演算を行う(ステップ103)。
MVm=(100/Pbm){1+(1/Tims)+Tdms}(SPm−PVm)
・・・(1)
The main control calculation unit 3 performs a control calculation represented by a transfer function expression using a Laplace operator s as in the following equation, for example, whose control algorithm is PID (step 103).
MVm = (100 / Pbm) {1+ (1 / Tims) + Tdms} (SPm-PVm)
... (1)

式(1)において、Pbm は比例帯、Tim は積分時間、Tdm は微分時間である。ステップ103のメイン制御演算処理において、メイン制御演算部3は、式(1)により操作量MVm を算出した後、次式のような上下限リミット処理を行い、リミット処理後の操作量MVm を係数処理部7およびメイン出力部9に出力する。
if MVm>MVHm then MVm=MVHm ・・・(2)
if MVm<MVLm then MVm=MVLm ・・・(3)
In equation (1), Pbm is a proportional band, Tim is an integration time, and Tdm is a differentiation time. In the main control calculation process of step 103, the main control calculation unit 3 calculates the manipulated variable MVm according to equation (1), then performs upper and lower limit processing as shown in the following equation, and calculates the manipulated variable MVm after the limit process as a coefficient. The data is output to the processing unit 7 and the main output unit 9.
if MVm> MVHm then MVm = MVHm (2)
if MVm <MVLm then MVm = MVLm (3)

式(2)、式(3)において、MVHm は操作量MVm の上限値(本実施の形態では例えば100%)、MVLm は操作量MVm の下限値(例えば0%)である。式(2)は、算出した操作量MVm が操作量上限値MVHm より大きい場合、操作量上限値MVHm を操作量MVm とするリミット処理が行われることを意味している。また、式(3)は、算出した操作量MVm が操作量下限値MVLm より小さい場合、操作量下限値MVLm を操作量MVm とするリミット処理が行われることを意味している。   In the expressions (2) and (3), MVHm is the upper limit value (for example, 100% in the present embodiment) of the manipulated variable MVm, and MVLm is the lower limit value (for example, 0%) of the manipulated variable MVm. Equation (2) means that when the calculated operation amount MVm is larger than the operation amount upper limit value MVHm, limit processing is performed in which the operation amount upper limit value MVHm is set to the operation amount MVm. Further, equation (3) means that when the calculated operation amount MVm is smaller than the operation amount lower limit value MVLm, limit processing is performed in which the operation amount lower limit value MVLm is set to the operation amount MVm.

代表的制御系C1 以外の制御系C2 の制御対象に対する設定値SPu2も、設定値SPm と同様にオペレータによって設定される。この設定値SPu2は、サブ設定部5を介してサブ制御演算部6に入力される(ステップ104)。サブ計測部4は、制御系C2 の制御対象の制御量PVu2を計測するセンサを備えており、センサによって計測された制御量PVu2は、サブ制御演算部6に入力される(ステップ105)。   The set value SPu2 for the control target of the control system C2 other than the representative control system C1 is also set by the operator in the same manner as the set value SPm. This set value SPu2 is input to the sub control calculation unit 6 via the sub setting unit 5 (step 104). The sub-measurement unit 4 includes a sensor that measures the control amount PVu2 to be controlled by the control system C2, and the control amount PVu2 measured by the sensor is input to the sub-control calculation unit 6 (step 105).

サブ制御演算部6は、その制御アルゴリズムが例えばPIであり、次式のようなラプラス演算子sを用いた伝達関数表現で表される制御演算を行う(ステップ106)。
MVu2=(100/Pbu2){1+(1/Tiu2s)}(SPu2−PVu2)
・・・(4)
The sub-control operation unit 6 has a control algorithm of PI, for example, and performs a control operation represented by a transfer function expression using a Laplace operator s as in the following equation (step 106).
MVu2 = (100 / Pbu2) {1+ (1 / Tiu2s)} (SPu2-PVu2)
... (4)

式(4)において、Pbu2は比例帯、Tiu2は積分時間である。ステップ106のサブ制御演算処理において、サブ制御演算部6は、式(4)により操作量MVu2を算出した後、次式のような上下限リミット処理を行い、リミット処理後の操作量MVu2を加算処理部8に出力する。
if MVu2>MVHu2 then MVu2=MVHu2 ・・・(5)
if MVu2<MVLu2 then MVu2=MVLu2 ・・・(6)
In Expression (4), Pbu2 is a proportional band, and Tiu2 is an integration time. In the sub-control calculation process of step 106, the sub-control calculation unit 6 calculates the manipulated variable MVu2 by Expression (4), then performs upper / lower limit processing as shown in the following expression, and adds the manipulated variable MVu2 after the limit process. Output to the processing unit 8.
if MVu2> MVHu2 then MVu2 = MVHu2 (5)
if MVu2 <MVLu2 then MVu2 = MVLu2 (6)

式(5)、式(6)において、MVHu2は操作量MVu2の上限値(本実施の形態では例えば10%)、MVLu2は操作量MVu2の下限値(例えば−10%)である。式(5)は、算出した操作量MVu2が操作量上限値MVHu2より大きい場合、操作量上限値MVHu2を操作量MVu2とするリミット処理が行われることを意味している。また、式(6)は、算出した操作量MVu2が操作量下限値MVLu2より小さい場合、操作量下限値MVLu2を操作量MVu2とするリミット処理が行われることを意味している。   In the expressions (5) and (6), MVHu2 is the upper limit value (for example, 10% in the present embodiment) of the manipulated variable MVu2, and MVLu2 is the lower limit value (for example, −10%) of the manipulated variable MVu2. Equation (5) means that when the calculated operation amount MVu2 is larger than the operation amount upper limit value MVHu2, limit processing is performed in which the operation amount upper limit value MVHu2 is set to the operation amount MVu2. Further, equation (6) means that when the calculated operation amount MVu2 is smaller than the operation amount lower limit value MVLu2, limit processing is performed in which the operation amount lower limit value MVLu2 is set to the operation amount MVu2.

メイン制御演算部3にPID演算機能を持たせているのに対し、サブ制御演算部6にPI演算機能を持たせている理由は、前述の基本原理で説明したように、サブ制御演算部6の制御特性をメイン制御演算部3の制御特性よりも低感度にする(メイン制御演算部3が演算する操作量MVm を協調系の支配的操作量とする)ためである。また、同理由により、式(4)の比例帯Pbu2を例えばPbu2=2Pbm 、積分時間Tiu2を例えばTiu2=2Tim とし、メイン制御演算部3の操作量上限値MVHm =100%、操作量下限値MVLm =0%に対して、操作量上限値MVHu2を例えば10%、操作量下限値MVLu2を例えば−10%としている。   The reason why the sub-control operation unit 6 is provided with the PI operation function while the main control operation unit 3 is provided with the PID operation function is as described in the basic principle described above. This is because the control characteristic of the control control unit 3 is made to be less sensitive than the control characteristic of the main control calculation unit 3 (the operation amount MVm calculated by the main control calculation unit 3 is the dominant operation amount of the cooperative system). For the same reason, the proportional band Pbu2 of the equation (4) is set to Pbu2 = 2Pbm, the integration time Tiu2 is set to Tiu2 = 2Tim, for example, the operation amount upper limit value MVHm = 100% of the main control calculation unit 3, With respect to 0%, the manipulated variable upper limit value MVHu2 is, for example, 10%, and the manipulated variable lower limit value MVLu2 is, for example, -10%.

係数処理部7は、メイン制御演算部3から出力された操作量MVm に予め規定された係数Ru2(Ru2は正の実数)を乗じる係数処理を実行し、この係数処理の結果Ru2MVm を加算処理部8に出力する(ステップ107)。加算処理部8は、係数処理部7の出力Ru2MVm とサブ制御演算部6から出力された操作量MVu2とを加算する処理を実行し、この加算処理の結果を制御系C2 の操作量MVu2’としてサブ出力部10に出力する(ステップ108)。   The coefficient processing unit 7 executes coefficient processing for multiplying the manipulated variable MVm output from the main control calculation unit 3 by a predetermined coefficient Ru2 (Ru2 is a positive real number), and adds the result Ru2MVm of the coefficient processing to the addition processing unit. 8 (step 107). The addition processing unit 8 executes a process of adding the output Ru2MVm of the coefficient processing unit 7 and the operation amount MVu2 output from the sub-control operation unit 6, and sets the result of this addition processing as the operation amount MVu2 ′ of the control system C2. The data is output to the sub output unit 10 (step 108).

メイン出力部9は、メイン制御演算部3から出力された操作量MVm を代表的制御系C1 の制御対象に出力し(ステップ109)、サブ出力部10は、加算処理部8から出力された操作量MVu2’を制御系C2 の制御対象に出力する(ステップ110)。メイン出力部9の実際の出力先は、代表的制御系C1 のヒータ等の制御アクチュエータであり、サブ出力部10の実際の出力先は、制御系C2 の制御アクチュエータである。
以上のようなステップ101〜110の動作がオペレータ等の指令によって制御が停止するまで(ステップ111においてYES)、1制御周期ごとに繰り返される。
The main output unit 9 outputs the operation amount MVm output from the main control calculation unit 3 to the control target of the representative control system C1 (step 109), and the sub output unit 10 operates the operation output from the addition processing unit 8. The quantity MVu2 ′ is output to the control target of the control system C2 (step 110). The actual output destination of the main output unit 9 is a control actuator such as a heater of the representative control system C1, and the actual output destination of the sub output unit 10 is a control actuator of the control system C2.
The operations in steps 101 to 110 as described above are repeated every control cycle until the control is stopped by an instruction from an operator or the like (YES in step 111).

マルチループの干渉系において、相互干渉の繰り返しによる共振状態のような乱れが発生する要因は、各制御系の操作量の上下動がちぐはぐになるためである。しかしながら、協調系では、適正に制御される動作を想定すると、基本的にそのようなちぐはぐな動作が必要になる状況はほとんどあり得ない。したがって、各制御系に与えられる操作量が、揃って上昇したり揃って下降したりするように構成されていれば十分である。   In a multi-loop interference system, a factor that causes a disturbance such as a resonance state due to repeated mutual interference is that the operation amount of each control system fluctuates up and down. However, in a cooperative system, assuming a properly controlled operation, there is almost no situation where such a quick operation is basically required. Therefore, it is sufficient that the operation amounts given to the respective control systems are configured to rise and fall together.

本実施の形態では、代表的制御系の操作量を他の制御系に分配することで、各制御系に与えられる操作量が揃って上昇したり下降したりする。そして、この分配する操作量の過不足分を補うために、代表的制御系以外の制御系には操作量の主たる上下動には寄与しない程度の低感度の制御特性を有するコントローラ(サブ制御演算部)を設ける。これにより、本実施の形態では、複数の制御系間の相互干渉の繰り返しによる共振状態のような制御の乱れを抑制することができる。また、本実施の形態では、1入力1出力型のコントローラ(メイン制御演算部とサブ制御演算部)が、マルチループの制御系の数のみ必要になるだけなので、コントローラの設計が煩雑になることがなく、高度な専門的知識も必要としない。   In the present embodiment, by distributing the operation amount of the representative control system to other control systems, the operation amounts given to the respective control systems are all increased or decreased. In order to compensate for the excess or deficiency of the operation amount to be distributed, the control system (sub-control computation) has a low sensitivity control characteristic that does not contribute to the main vertical movement of the operation amount in the control system other than the representative control system. Part). Thereby, in this Embodiment, disorder of control like the resonance state by repetition of the mutual interference between several control systems can be suppressed. Further, in the present embodiment, the controller design becomes complicated because only one multi-loop control system is required for the 1-input 1-output type controller (main control operation unit and sub-control operation unit). There is no need for advanced technical knowledge.

図3は本実施の形態の制御装置を図5に示した焼成炉の温度制御に適用した例を示す図である。焼成炉21内のヒータ22にはメイン出力部9から操作量MVm が出力され、ヒータ23にはサブ出力部10から操作量MVu2’が出力される。メイン計測部1とメイン設定部2とメイン制御演算部3とメイン出力部9と焼成炉21(ヒータ22)とは、代表的制御系C1 を構成し、サブ計測部4とサブ設定部5とサブ制御演算部6と係数処理部7と加算処理部8とサブ出力部10と焼成炉21(ヒータ23)とは、代表的制御系C1 以外の制御系C2 を構成している。   FIG. 3 is a diagram showing an example in which the control device of the present embodiment is applied to the temperature control of the firing furnace shown in FIG. An operation amount MVm is output from the main output unit 9 to the heater 22 in the firing furnace 21, and an operation amount MVu2 ′ is output from the sub output unit 10 to the heater 23. The main measurement unit 1, the main setting unit 2, the main control calculation unit 3, the main output unit 9, and the firing furnace 21 (heater 22) constitute a representative control system C1, and the sub measurement unit 4, the sub setting unit 5, The sub-control operation unit 6, the coefficient processing unit 7, the addition processing unit 8, the sub-output unit 10, and the firing furnace 21 (heater 23) constitute a control system C2 other than the representative control system C1.

[第2の実施の形態]
第1の実施の形態では、代表的制御系C1 以外の制御系をC2 のみとしたが、代表的制御系C1 以外の制御系が複数存在してもよい。図4は代表的制御系C1 以外の制御系が複数存在する場合の制御装置の構成を示すブロック図であり、図1と同一の構成には同一の符号を付してある。
[Second Embodiment]
In the first embodiment, the control system other than the representative control system C1 is only C2, but a plurality of control systems other than the representative control system C1 may exist. FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the control apparatus when there are a plurality of control systems other than the representative control system C1, and the same components as those in FIG. 1 are given the same reference numerals.

焼成炉21a内のヒータ22,23−2,23−3,23−4,23−5は、それぞれ焼成炉21a内の領域A1,A2,A3,A4,A5を加熱する。メイン計測部1とメイン設定部2とメイン制御演算部3とメイン出力部9と焼成炉21a(ヒータ22)とは、代表的制御系C1 を構成し、サブ計測部4−i(本実施の形態では、iは2〜5の整数)とサブ設定部5−iとサブ制御演算部6−iと係数処理部7−iと加算処理部8−iとサブ出力部10−iと焼成炉21a(ヒータ23−i)とは、代表的制御系C1 以外の制御系Ci を構成している。   The heaters 22, 23-2, 23-3, 23-4, and 23-5 in the firing furnace 21a heat the regions A1, A2, A3, A4, and A5 in the firing furnace 21a, respectively. The main measurement unit 1, the main setting unit 2, the main control calculation unit 3, the main output unit 9, and the firing furnace 21a (heater 22) constitute a representative control system C1, and the sub measurement unit 4-i (this embodiment) In the embodiment, i is an integer of 2 to 5), sub-setting unit 5-i, sub-control operation unit 6-i, coefficient processing unit 7-i, addition processing unit 8-i, sub-output unit 10-i, and firing furnace. 21a (heater 23-i) constitutes a control system Ci other than the representative control system C1.

本実施の形態においても、制御装置の動作は第1の実施の形態と同様であるので、図2を用いて説明する。メイン設定部2(ステップ101)、メイン計測部1(ステップ102)、メイン制御演算部3(ステップ103)およびメイン出力部9(ステップ109)の動作は第1の実施の形態と同じである。   Also in the present embodiment, the operation of the control device is the same as in the first embodiment, and will be described with reference to FIG. The operations of the main setting unit 2 (step 101), the main measurement unit 1 (step 102), the main control calculation unit 3 (step 103), and the main output unit 9 (step 109) are the same as those in the first embodiment.

代表的制御系C1 以外の制御系Ci の制御対象に対する設定値SPuiは、それぞれサブ設定部5−iを介してサブ制御演算部6−iに入力される(ステップ104)。サブ計測部4−iは、それぞれ制御系Ci の制御対象の制御量PVuiを計測するセンサを備えており、センサによって計測された制御量PVuiは、サブ制御演算部6−iに入力される(ステップ105)。   The set value SPui for the control target of the control system Ci other than the representative control system C1 is input to the sub-control operation unit 6-i via the sub-setting unit 5-i (step 104). Each of the sub-measurement units 4-i includes a sensor that measures a control amount PVui to be controlled by the control system Ci, and the control amount PVui measured by the sensor is input to the sub-control calculation unit 6-i ( Step 105).

サブ制御演算部6−iは、第1の実施の形態のサブ制御演算部6と同様に操作量MVuiを算出した後、第1の実施の形態と同様の上下限リミット処理を行い、リミット処理後の操作量MVuiを加算処理部8−iに出力する(ステップ106)。係数処理部7−iは、メイン制御演算部3−iから出力された操作量MVm に予め規定された係数Rui(Ruiは正の実数)を乗じる係数処理を実行し、この係数処理の結果RuiMVm を加算処理部8−iに出力する(ステップ107)。   The sub-control calculation unit 6-i calculates the manipulated variable MVui in the same manner as the sub-control calculation unit 6 of the first embodiment, and then performs upper / lower limit processing similar to that of the first embodiment, and performs limit processing. The subsequent manipulated variable MVui is output to the addition processing unit 8-i (step 106). The coefficient processing unit 7-i executes coefficient processing by multiplying the manipulated variable MVm output from the main control calculation unit 3-i by a predetermined coefficient Rui (Rui is a positive real number), and the result of this coefficient processing RuiMVm Is output to the addition processing unit 8-i (step 107).

加算処理部8−iは、係数処理部7−iの出力RuiMVm とサブ制御演算部6−iから出力された操作量MVuiとを加算する処理を実行し、加算処理の結果を制御系Ci の操作量MVui’としてサブ出力部10−iに出力する(ステップ108)。サブ出力部10−iは、加算処理部8−iから出力された操作量MVui’を制御系Ci の制御対象に出力する(ステップ110)。サブ出力部10−iの実際の出力先はヒータ23−iである。
以上により、代表的制御系C1 以外の制御系Ci が複数存在する場合においても、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
The addition processing unit 8-i executes a process of adding the output RuiMVm of the coefficient processing unit 7-i and the operation amount MVui output from the sub-control calculation unit 6-i, and the result of the addition process is obtained from the control system Ci. The operation amount MVui ′ is output to the sub output unit 10-i (step 108). The sub output unit 10-i outputs the operation amount MVui ′ output from the addition processing unit 8-i to the control target of the control system Ci (step 110). The actual output destination of the sub output unit 10-i is the heater 23-i.
As described above, even when there are a plurality of control systems Ci other than the representative control system C1, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

本発明は、プロセス制御に適用することができる。   The present invention can be applied to process control.

本発明の第1の実施の形態となる制御装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control apparatus used as the 1st Embodiment of this invention. 図1の制御装置の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of the control apparatus of FIG. 図1の制御装置を温度制御のマルチループ制御系に適用した例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example which applied the control apparatus of FIG. 1 to the multiloop control system of temperature control. 本発明の第2の実施の形態となる制御装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control apparatus used as the 2nd Embodiment of this invention. 従来のマルチループ制御系の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the conventional multiloop control system.

符号の説明Explanation of symbols

1…メイン計測部、2…メイン設定部、3…メイン制御演算部、4…サブ計測部、5…サブ設定部、6…サブ制御演算部、7…係数処理部、8…加算処理部、9…メイン出力部、10…サブ出力部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Main measurement part, 2 ... Main setting part, 3 ... Main control calculating part, 4 ... Sub measuring part, 5 ... Sub setting part, 6 ... Sub control calculating part, 7 ... Coefficient processing part, 8 ... Addition processing part, 9 ... main output unit, 10 ... sub output unit.

Claims (2)

代表的な第1の制御系C1 とこの第1の制御系以外のn(nは1以上の整数)個の第2の制御系Ci (iは2から2+n−1までの整数)とから構成されるマルチループ制御系の制御装置において、
前記第1の制御系C1 の制御量PVm を計測するメイン計測部と、
前記第1の制御系C1 の設定値SPm を設定するメイン設定部と、
前記制御量PVm および設定値SPm に基づいて前記第1の制御系C1 の操作量MVm を算出するメイン制御演算部と、
前記第2の制御系Ci の制御量PVuiを計測するn個のサブ計測部と、
前記第2の制御系Ci の設定値SPuiを設定するn個のサブ設定部と、
前記制御量PVuiおよび設定値SPuiに基づいて前記第2の制御系Ci の操作量MVuiを算出するn個のサブ制御演算部と、
前記メイン制御演算部から出力された操作量MVm に所定の係数Ruiを乗じるn個の係数処理部と、
この係数処理部によって係数処理された操作量RuiMVm と前記サブ制御演算部から出力された操作量MVuiとを加算するn個の加算処理部と、
前記メイン制御演算部から出力された操作量MVm を前記第1の制御系C1 の制御対象に出力するメイン出力部と、
前記加算処理部によって加算処理された操作量RuiMVm +MVuiを前記第2の制御系Ci の制御対象に出力するn個のサブ出力部とを備え
前記メイン制御演算部の演算はPID演算であり、前記サブ制御演算部の演算はPI演算であり、前記サブ制御演算部の制御特性は前記メイン制御演算部の制御特性よりも低感度に調整されることを特徴とする制御装置。
A representative first control system C1 and n (n is an integer of 1 or more) second control systems Ci (i is an integer from 2 to 2 + n-1) other than the first control system. In the control device of the multi-loop control system,
A main measuring unit for measuring a control amount PVm of the first control system C1,
A main setting unit for setting a set value SPm of the first control system C1;
A main control calculation unit for calculating an operation amount MVm of the first control system C1 based on the control amount PVm and a set value SPm;
N sub-measuring units for measuring the control amount PVui of the second control system Ci;
N sub-setting units for setting the set value SPui of the second control system Ci;
N sub-control operation units for calculating an operation amount MVui of the second control system Ci based on the control amount PVui and a set value SPui;
N coefficient processing units for multiplying the manipulated variable MVm output from the main control calculation unit by a predetermined coefficient Rui;
N addition processing units for adding the operation amount RuiMVm coefficient-processed by the coefficient processing unit and the operation amount MVui output from the sub-control operation unit;
A main output unit for outputting the manipulated variable MVm output from the main control calculation unit to a control target of the first control system C1,
N sub-output units that output the manipulated variable RuiMVm + MVui added by the addition processing unit to a control target of the second control system Ci ;
The calculation of the main control calculation unit is a PID calculation, the calculation of the sub control calculation unit is a PI calculation, and the control characteristics of the sub control calculation unit are adjusted to be less sensitive than the control characteristics of the main control calculation unit. control device and wherein the that.
代表的な第1の制御系C1 とこの第1の制御系以外のn(nは1以上の整数)個の第2の制御系Ci (iは2から2+n−1までの整数)とから構成されるマルチループ制御系の制御方法において、A representative first control system C1 and n (n is an integer of 1 or more) second control systems Ci (i is an integer from 2 to 2 + n-1) other than the first control system. In the control method of the multi-loop control system,
前記第1の制御系C1 の制御量PVm を計測するメイン計測手順と、A main measurement procedure for measuring the control amount PVm of the first control system C1,
前記第1の制御系C1 の設定値SPm を設定するメイン設定手順と、A main setting procedure for setting the set value SPm of the first control system C1;
前記制御量PVmおよび設定値SPmに基づいて前記第1の制御系C1 の操作量MVm を算出するメイン制御演算手順と、A main control calculation procedure for calculating an operation amount MVm of the first control system C1 based on the control amount PVm and a set value SPm;
前記第2の制御系Ci の制御量PVuiを計測するサブ計測手順と、A sub-measurement procedure for measuring the control amount PVui of the second control system Ci;
前記第2の制御系Ci の設定値SPuiを設定するサブ設定手順と、A sub-setting procedure for setting the set value SPui of the second control system Ci;
前記制御量PVuiおよび設定値SPuiに基づいて前記第2の制御系Ci の操作量MVuiを算出するサブ制御演算手順と、A sub-control calculation procedure for calculating an operation amount MVui of the second control system Ci based on the control amount PVui and a set value SPui;
前記メイン制御演算手順によって算出された操作量MVm に所定の係数Ruiを乗じる係数処理手順と、A coefficient processing procedure for multiplying the manipulated variable MVm calculated by the main control calculation procedure by a predetermined coefficient Rui;
この係数処理手順によって係数処理された操作量RuiMVm と前記サブ制御演算手順によって算出された操作量MVuiとを加算する加算処理手順と、An addition processing procedure for adding the operation amount RuiMVm coefficient-processed by the coefficient processing procedure and the operation amount MVui calculated by the sub-control operation procedure;
前記メイン制御演算手順によって算出された操作量MVm を前記第1の制御系C1 の制御対象に出力するメイン出力手順と、A main output procedure for outputting the manipulated variable MVm calculated by the main control calculation procedure to the controlled object of the first control system C1;
前記加算処理手順によって加算処理された操作量RuiMVm +MVuiを前記第2の制御系Ci の制御対象に出力するサブ出力手順とを備え、A sub-output procedure for outputting the manipulated variable RuiMVm + MVui added by the addition processing procedure to a control target of the second control system Ci;
前記メイン制御演算手順の演算はPID演算であり、前記サブ制御演算手順の演算はPI演算であり、前記サブ制御演算手順による制御特性は前記メイン制御演算手順による制御特性よりも低感度に調整されることを特徴とする制御方法。The calculation of the main control calculation procedure is a PID calculation, the calculation of the sub control calculation procedure is a PI calculation, and the control characteristics according to the sub control calculation procedure are adjusted to be less sensitive than the control characteristics according to the main control calculation procedure. The control method characterized by the above-mentioned.
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