JP4252295B2 - Metal mask cleaning method and apparatus - Google Patents

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JP4252295B2 JP2002356673A JP2002356673A JP4252295B2 JP 4252295 B2 JP4252295 B2 JP 4252295B2 JP 2002356673 A JP2002356673 A JP 2002356673A JP 2002356673 A JP2002356673 A JP 2002356673A JP 4252295 B2 JP4252295 B2 JP 4252295B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は有機エレクトロルミネッセンス(EL)材料を用いたディスプレイの製造工程であるメタルマスクを使用した蒸着工程において、余剰の有機EL材料が蒸着したメタルマスクの洗浄に関する洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
有機EL基板の製造に関しては、有機EL基板の裏面に磁石配置し、表面にメタルマスクを配備するとメタルマスクは磁石によって有機EL基板に吸着する。その状態で、複数の発光材料を個々の蒸気圧に合わせて真空蒸着する。そこで、所定の発光層が形成されるが、同時に当該メタルマスクに余剰の有機物である有機EL材料が多く付着する。このメタルマスクに蒸着した余剰の有機EL材料を除去する洗浄については人手により有機溶剤を用いてなされている。また、人手による洗浄の為、多量の有機溶剤を用い、その洗浄に用いた有機溶剤は有機EL材料と共に廃棄しているのが現状である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
Niおよびその合金やステンレスからなるメタルマスクは高精度加工された薄板形状であるため、人手による洗浄では、メタルマスクを損傷することが多発していた。また、メタルマスクの細孔部等に付着した有機EL材料を洗浄するのは困難であった。さらに、人手による有機溶剤洗浄の為洗浄剤としての有機溶剤を多量に使用され、その洗浄剤を処理するのが大変であった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、従来の損傷が多発していた人手による洗浄作業から、超臨界又は亜臨界流体を用いてメタルマスク洗浄を行う方法を見出すとともに、使用する超臨界又は亜臨界流体、それに添加されるモディファイア及び有機物である有機EL材料の回収が容易で且つ再使用が可能なことから、環境汚染物質を排出することなくメタルマスクの洗浄を効率よく行うことができることを見出した。
【0005】
有機EL材料が蒸着されたメタルマスクを超臨界又は亜臨界流体を用いて洗浄した後、有機EL材料が溶解した超臨界又は亜臨界流体の温度及び/又は圧力を変動させることにより、溶解した有機EL材料を超臨界又は亜臨界流体から抽出した後、超臨界又は亜臨界流体を再度洗浄に使用する様に超臨界又は亜臨界流体循環方式とすることにより、環境汚染物質を排出することなくメタルマスクの洗浄を効率よく行い、且つ、有機EL材料を回収する。
【0006】
上記洗浄工程において、有機EL材料が蒸着されたメタルマスクを超臨界又は亜臨界流体を用いて洗浄した後、超臨界又は亜臨界流体の超臨界又は亜臨界状態を解いた流体をタンクに回収し、該流体を循環して使用する。
【0007】
超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加することにより、超臨界又は亜臨界流体の溶解度を制御し、超臨界又は亜臨界流体の分離特性を上げ効率良くメタルマスクから有機EL材料を溶解させる。
【0008】
洗浄を行う高圧セル内において、モディファイアが有機EL材料蒸着面に接触するように高圧セルの超臨界又は亜臨界流体の入口と出口を配置する。
【0009】
高圧セルの入口と出口の位置については、モディファイアが超臨界又は亜臨界状態の溶媒よりも軽いものを使用した場合は入口を高圧セルの下側に、出口を高圧セルの上側に設けることが望ましい。逆に、モディファイアが超臨界又は亜臨界状態の溶媒より重い場合は、入口を高圧セルの上側に、出口を高圧セルの下側に設けることが望ましい。超臨界又は亜臨界状態の溶媒とモディファイアの密度がほぼ同じ時は、入口及び出口ともに上側あるいは、下側に設ける装置構成が望ましい。
【0010】
高圧セル内で超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加した流体のモディファイア相と超臨界又は亜臨界流体相とを分離させ、メタルマスクをモディファイア相で溶解洗浄させ、その後超臨界又は亜臨界相ですすぐことにより更に洗浄効果を上げることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の実施の形態にかかる超臨界又は亜臨界流体によるメタルマスク1に蒸着された有機EL材料2を洗浄するためのメタルマスク1の洗浄装置を簡略的に示すものである。メタルマスク1を高圧セル5内に配置させ洗浄を行う。溶媒タンク3a内の溶媒を使用し、バルブ10a、バルブ10b、バルブ10c、バルブ10d、バルブ10e、ベントバルブ12a、ベントバルブ12b、ベントバルブ12cを操作し、溶媒を循環させ、装置内部に入っている空気を除去する。その後、下記の手順により、高圧セル5内を洗浄流体で満たす。
【0012】
まず、溶媒としての超臨界又は亜臨界流体からなる洗浄流体(以下溶媒と記載する。)は溶媒タンク3aよりバルブ10aを通り溶媒供給ポンプ4aにより供給される。そのとき溶媒の圧力は背圧弁13aにより調整され、溶媒は溶媒供給ポンプ4aによりバルブ10bに供給される。
【0013】
溶媒の溶解度を増大させる効果のあるモディファイアはモディファイアタンク3bからモディファイア供給ポンプ4bによって供給される。そのときモディファイアの圧力は背圧弁13bにより調整される。その後モディファイアはバルブ10cを通り、溶媒とモディファイアは合流し、スタティックミキサー6により混合され、高圧セル5内に入り、ヒータ7で加熱され超臨界または亜臨界状態となる。言うまでもないが、高圧セル5に入る前に加熱し、配管中で超臨界又は亜臨界状態の流体としてもよい。
【0014】
超臨界又は亜臨界状態の溶媒とモディファイアとの組み合わせにより、高圧セル5に配置する入口と出口の配置は溶媒とモディファイアの密度により入口を下側に設け出口を上側に設けるなど適宜構成される。図1はモディファイアが超臨界又は亜臨界状態の溶媒よりも密度が低いものを使用した場合で、超臨界又は亜臨界状態の溶媒に溶け込んだモディファイアがメタルマスク1に接触し、モディファイアが高圧セル5の上部に移動するという装置構成とした。モディファイアが超臨界又は亜臨界状態の溶媒より密度が高い場合は、高圧セル5への入口を上側に設け出口を下側に設ける構成が望ましい。超臨界又は亜臨界状態の溶媒とモディファイアの密度がほぼ同じ時は、入口及び出口ともに上側に設けるあるいは下側に設ける装置構成のどちらでもよい。また、ここでは記載していないが、撹拌スクリューにより高圧セル5内を撹拌してもよい。
【0015】
洗浄された有機EL材料2が上記溶媒とモディファイアからなる流体と共にバルブ10dを通り、トラップビーカ8に入る。ここで、減圧ポンプ14により超臨界又は亜臨界流体は減圧される。このときに溶媒もしくはモディファイアまたは両者とも、使用した物質により、洗浄された有機EL材料2と共に液化する場合がある。液化した溶媒およびモディファイアは常温、常圧において次第に気化する。気化した溶媒とモディファイアは減圧ポンプ14、流量計9を通り加圧ポンプ15により加圧され、溶媒とモディファイアは液化し混合液タンク3c内に入る。この溶媒とモディファイアの混合液は有機EL材料2を含まない混合液である。
【0016】
この混合液タンク3cに必要量の混合液が溜まったときにはバルブ10b、バルブ10cを閉じることにより、本装置は閉ループとなり、混合液タンク3c内の混合液は混合液供給ポンプ4cにより供給される。このときの圧力は背圧弁13cにより調整される。混合液はバルブ10eを通り、高圧セル5内に入り、再びメタルマスク1に蒸着された有機EL材料2を洗浄する。洗浄が完了次第、装置を止め、メタルマスク1を取り出す。これで洗浄が完了する。洗浄完了後、トラップビーカ8内に溜まった有機EL材料2を取り出す。
【0017】
また、図2のように溶媒にモディファイアを加えた状態で混合液タンク3につめ、上記と同様にして、閉ループで洗浄を行うこともできる。
【0018】
図3は高圧セル5の内部において、モディファイアと超臨界又は亜臨界流体である溶媒が、密度の違いにより分離することを利用して、洗浄を行う例を示す。有機EL材料2が蒸着したメタルマスク1を、高圧セル5内での分離したモディファイア相17に浸ける。モディファイア相17に有機EL材料2が溶解され、メタルマスク1が洗浄された後、高圧セル5内を減圧させ、有機EL材料2が溶解しているモディファイアを排出させる。その後メタルマスク1を超臨界又は亜臨界流体からなる溶媒相16ですすぐことにより、メタルマスク1に有機EL材料2の液滴が残すことなく洗浄することができる。
【0019】
これは密度の違いにより高圧セル5内で流体を分離させ、モディファイアにて溶解洗浄させることが目的である。言うまでもないがモディファイア相17と超臨界又は亜臨界流体である溶媒相16が密度の差により、上下逆になることもある。このときは高圧セル5内の入口出口の構成を前述の様に変更する必要がある。
【0020】
【実施例1】
実施例1として、図1に示す超臨界流体を用いた洗浄装置において有機EL材料の洗浄を行った例を示す。溶媒に二酸化炭素、モディファイアにエタノールを使用し、洗浄実験を行った。高圧セル5内において、有機EL材料2の蒸着された面に超臨界流体が接触するように蒸着面を下にし、メタルマスク1を配置した。
【0021】
二酸化炭素が入っている溶媒タンク3a内の状態は常温、圧力6MPaである。またエタノールが入っているモディファイアタンク3b内の状態は常温、常圧である。二酸化炭素とエタノールの供給量はバルブ10d、溶媒供給ポンプ4a、背圧弁13a、モディファイアポンプ4b、背圧弁13bにより、二酸化炭素は3.6g/min、エタノールは0.2g/minに設定した。高圧セル5内はヒータ7により、温度60℃に設定した。セル内の圧力は、背圧弁13a、背圧弁13bにより25MPaに設定した。(二酸化炭素の流速の単位については、二酸化炭素は圧力25MPa温度60℃の状態と常温・常圧とでは体積が大幅に異なる為、本出願においては、g/minを用いた。)
この状態において、二酸化炭素とエタノールは配管中に合流し、スタティックミキサー6によって混合され、高圧セル5内で有機EL材料2は超臨界流体となった二酸化炭素とその二酸化炭素に溶解したエタノールによって洗浄した。その後、有機EL材料2が溶解したエタノールを含む超臨界流体はバルブ10dを通り、トラップビーカに送られ、その後減圧ポンプ14により常圧にした。このとき、二酸化炭素とエタノールは分離し、エタノールと洗浄された有機EL材料2はトラップビーカ8内でエタノール溶液となった。
【0022】
二酸化炭素を減圧ポンプ14,流量計9を通り、加圧ポンプ15により常温で8MPaに加圧し、液化して混合液タンク3cに貯蔵した。トラップビーカ8内のエタノール溶液は常温、常圧において次第にエタノールのみ気化し、減圧ポンプ14、流量計9を通り、加圧ポンプ15により常温、8MPaに加圧し、液化して後混合液タンク3cに送った。この混合液タンク3cに二酸化炭素とエタノールの混合液が必要量供給した後、バルブ10b、バルブ10dを閉じ、閉ループとした。30分経過し、洗浄が終了後高圧セル5内を降温、減圧し、メタルマスク1を取り出した。洗浄流体として使用した二酸化炭素とエタノールは混合液タンク3cに貯蔵され、廃液は出なかった。
【0023】
また、2度目からの洗浄は図2のように混合液タンク3c内の混合液を使用することにより、二酸化炭素とエタノールを補給することなく洗浄することができた。
【0024】
【実施例2】
実施例2として、図1に示す亜臨界流体を用いた洗浄装置において有機EL材料の洗浄を行った例を示す。実施例2における高圧セル5の構成の詳細は図3の様になっている。溶媒に二酸化炭素、モディファイアとしてエタノールを使用し、洗浄を行った。高圧セル5内において、この溶媒とモディファイアの組み合わせは密度の違いにより分離する。高圧セル5内において、有機EL材料2が蒸着されたメタルマスク1をモディファイア相17となる装置上部に配置する。
【0025】
二酸化炭素が入っている溶媒タンク3a内の状態は常温で圧力6MPaである。またエタノールが入っているモディファイアタンク3b内の状態は常温且つ常圧である。バルブ10dを閉じた状態で、二酸化炭素とエタノールの供給を、溶媒供給ポンプ4a、背圧弁13a、モディファイアポンプ4b、背圧弁13bにより、高圧セル5内に二酸化炭素とエタノールを貯留する。高圧セル5内はヒータ7により、温度30℃に設定した。セル内の圧力を、背圧弁13a、背圧弁13bにより6.5MPaに設定した。
【0026】
高圧セル5内で二酸化炭素は亜臨界状態となり、エタノールと分離する。メタルマスク1に付着している有機EL材料2をエタノールにより溶解した。15分後にバルブ10dを開き、高圧セル5の上部に貯留したエタノールをトラップビーカ8に排出する。そのあと、溶媒相16の亜臨界状態である二酸化炭素ですすぐことにより、溶解した有機EL材料2がメタルマスク1上に残る液滴を防ぐことができた。
【0027】
高圧セル5内から排出されたエタノールと二酸化炭素は実施例1と同様に混合液タンク3cに貯溜され、次回の洗浄に使用する事が可能となった。メタルマスク1を取り出し、廃液無く洗浄処理が終了した。
【0028】
【発明の効果】
超臨界又は亜臨界流体が高い溶解性を持つことを活用し、有機EL材料が付着したメタルマスクに、超臨界又は亜臨界流体を接触させることにより溶解して、メタルマスクの有機EL材料を抽出し回収することにより、メタルマスクの損傷を防ぐことができる。また、使用する超臨界又は亜臨界流体、モディファイア、有機EL材料の回収が容易で且つ再使用が可能なことから環境汚染物質を排出することなくメタルマスクの洗浄を効率よく行うことができる。
【0029】
超臨界又は亜臨界流体を用いてメタルマスクの有機EL材料を溶解することにより、80℃以下(望ましくは60℃以下)という比較的低温での処理が可能となり、メタルマスクそのものの熱変形を防止することができ、安定した状態で、精度の高いメタルマスクを再利用することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態にかかる超臨界又は亜臨界流体による洗浄装置を簡略的に示す図である。
【図2】本発明の実施の形態にかかる超臨界又は亜臨界流体を混合液タンクに封印した洗浄装置を簡略的に示す図である。
【図3】高圧セル内で超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加した流体のモディファイア相と超臨界又は亜臨界流体相とを分離させた状態を示す図である。
【符号の説明】
1 メタルマスク
2 有機EL材料
3a 溶媒タンク
3b モデファイアタンク
3c 混合液タンク
4a 溶媒供給ポンプ
4b モデファイアポンプ
4c 混合液供給ポンプ
5 高圧セル
6 スタティックミキサー
7 ヒータ
8 トラップビーカー
9 流量計
10a、10b、10c、10d、10e バルブ
12a、12b、12c ベントバルブ
13a、13b、13c 背圧弁
14 減圧ポンプ
15 加圧ポンプ
16 溶液相
17 モディファイア相
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus for cleaning a metal mask on which an excess organic EL material is deposited in a deposition process using a metal mask, which is a manufacturing process of a display using an organic electroluminescence (EL) material.
[0002]
[Prior art]
Regarding the manufacture of the organic EL substrate, when a magnet is disposed on the back surface of the organic EL substrate and a metal mask is provided on the front surface, the metal mask is attracted to the organic EL substrate by the magnet. In this state, a plurality of light emitting materials are vacuum-deposited according to individual vapor pressures. Therefore, a predetermined light emitting layer is formed, but at the same time, a lot of organic EL material which is an excess organic substance adheres to the metal mask. Cleaning that removes excess organic EL material deposited on the metal mask is performed manually using an organic solvent. In addition, a large amount of organic solvent is used for manual cleaning, and the organic solvent used for the cleaning is discarded together with the organic EL material.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
Since a metal mask made of Ni, its alloy, or stainless steel has a thin plate shape processed with high precision, the metal mask is frequently damaged by manual cleaning. Moreover, it was difficult to clean the organic EL material adhering to the pores of the metal mask. Furthermore, a large amount of an organic solvent is used as a cleaning agent for manually cleaning the organic solvent, and it is difficult to process the cleaning agent.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
The present invention finds a method of performing metal mask cleaning using a supercritical or subcritical fluid from a conventional manual cleaning operation that frequently causes damage, and adds to the supercritical or subcritical fluid to be used. It has been found that the metal mask can be efficiently cleaned without discharging environmental pollutants because the modifier and the organic EL material, which is an organic substance, can be easily recovered and reused.
[0005]
After cleaning the metal mask on which the organic EL material is deposited using a supercritical or subcritical fluid, the temperature and / or pressure of the supercritical or subcritical fluid in which the organic EL material is dissolved is changed to change the dissolved organic After extracting the EL material from the supercritical or subcritical fluid, the supercritical or subcritical fluid circulation system is used so that the supercritical or subcritical fluid is used again for cleaning, thereby eliminating the environmental pollutant. The mask is efficiently cleaned and the organic EL material is recovered.
[0006]
In the above cleaning process, after cleaning the metal mask on which the organic EL material is deposited using a supercritical or subcritical fluid, the fluid that has solved the supercritical or subcritical state of the supercritical or subcritical fluid is recovered in a tank. The fluid is circulated and used.
[0007]
By adding a modifier to the supercritical or subcritical fluid, the solubility of the supercritical or subcritical fluid is controlled, the separation characteristics of the supercritical or subcritical fluid are increased, and the organic EL material is efficiently dissolved from the metal mask.
[0008]
In the high-pressure cell to be cleaned, the supercritical or subcritical fluid inlet and outlet of the high-pressure cell are arranged so that the modifier contacts the organic EL material deposition surface.
[0009]
As for the position of the inlet and outlet of the high pressure cell, if the modifier is lighter than the solvent in the supercritical or subcritical state, the inlet should be provided below the high pressure cell and the outlet should be provided above the high pressure cell. desirable. Conversely, if the modifier is heavier than the supercritical or subcritical solvent, it is desirable to provide an inlet on the upper side of the high pressure cell and an outlet on the lower side of the high pressure cell. When the density of the solvent and the modifier in the supercritical or subcritical state is almost the same, an apparatus configuration in which both the inlet and the outlet are provided on the upper side or the lower side is desirable.
[0010]
In a high-pressure cell, the modifier phase of the fluid added with a modifier to the supercritical or subcritical fluid is separated from the supercritical or subcritical fluid phase, and the metal mask is dissolved and washed in the modifier phase, and then supercritical or subcritical. The cleaning effect can be further increased by rinsing with the critical phase.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 schematically shows a cleaning apparatus for a metal mask 1 for cleaning an organic EL material 2 deposited on the metal mask 1 using a supercritical or subcritical fluid according to an embodiment of the present invention. Cleaning is performed by placing the metal mask 1 in the high-pressure cell 5. Using the solvent in the solvent tank 3a, the valve 10a, the valve 10b, the valve 10c, the valve 10d, the valve 10e, the vent valve 12a, the vent valve 12b, and the vent valve 12c are operated to circulate the solvent and enter the inside of the apparatus. Remove air. Thereafter, the inside of the high pressure cell 5 is filled with the cleaning fluid by the following procedure.
[0012]
First, a cleaning fluid comprising a supercritical or subcritical fluid as a solvent (hereinafter referred to as a solvent) is supplied from a solvent tank 3a through a valve 10a by a solvent supply pump 4a. At that time, the pressure of the solvent is adjusted by the back pressure valve 13a, and the solvent is supplied to the valve 10b by the solvent supply pump 4a.
[0013]
A modifier effective to increase the solubility of the solvent is supplied from the modifier tank 3b by the modifier supply pump 4b. At that time, the pressure of the modifier is adjusted by the back pressure valve 13b. Thereafter, the modifier passes through the valve 10c, the solvent and the modifier merge, are mixed by the static mixer 6, enter the high-pressure cell 5, and are heated by the heater 7 to become a supercritical or subcritical state. Needless to say, the fluid may be heated before entering the high-pressure cell 5 to be a supercritical or subcritical fluid in the pipe.
[0014]
Depending on the combination of the supercritical or subcritical solvent and modifier, the arrangement of the inlet and outlet arranged in the high-pressure cell 5 is appropriately configured depending on the density of the solvent and modifier, such as providing the inlet on the lower side and the outlet on the upper side. The FIG. 1 shows a case where a modifier having a lower density than a supercritical or subcritical solvent is used. The modifier dissolved in the supercritical or subcritical solvent contacts the metal mask 1, and the modifier is The apparatus configuration is such that it moves to the upper part of the high-pressure cell 5. When the modifier has a higher density than the solvent in the supercritical or subcritical state, a configuration in which the inlet to the high pressure cell 5 is provided on the upper side and the outlet is provided on the lower side is desirable. When the supercritical or subcritical solvent and modifier have approximately the same density, either the inlet or outlet may be provided on the upper side or on the lower side. Further, although not described here, the inside of the high-pressure cell 5 may be stirred by a stirring screw.
[0015]
The washed organic EL material 2 enters the trap beaker 8 through the valve 10d together with the fluid composed of the solvent and the modifier. Here, the supercritical or subcritical fluid is decompressed by the decompression pump 14. At this time, the solvent or the modifier or both may be liquefied together with the washed organic EL material 2 depending on the substance used. The liquefied solvent and modifier gradually vaporize at normal temperature and normal pressure. The vaporized solvent and modifier are pressurized by the pressure pump 15 through the decompression pump 14 and the flow meter 9, and the solvent and modifier are liquefied and enter the mixed solution tank 3c. The mixed solution of the solvent and the modifier is a mixed solution that does not contain the organic EL material 2.
[0016]
When a necessary amount of liquid mixture has accumulated in the liquid mixture tank 3c, the valve 10b and the valve 10c are closed, so that the present apparatus becomes a closed loop, and the liquid mixture in the liquid mixture tank 3c is supplied by the liquid mixture supply pump 4c. The pressure at this time is adjusted by the back pressure valve 13c. The mixed solution passes through the valve 10e, enters the high-pressure cell 5, and again cleans the organic EL material 2 deposited on the metal mask 1. Upon completion of cleaning, the apparatus is stopped and the metal mask 1 is taken out. This completes the cleaning. After completion of the cleaning, the organic EL material 2 accumulated in the trap beaker 8 is taken out.
[0017]
Further, as shown in FIG. 2, the mixed liquid tank 3 can be filled with a modifier added to the solvent, and washing can be performed in a closed loop in the same manner as described above.
[0018]
FIG. 3 shows an example in which cleaning is performed using the fact that the modifier and the solvent, which is a supercritical or subcritical fluid, are separated by the difference in density inside the high pressure cell 5. The metal mask 1 on which the organic EL material 2 is deposited is immersed in the separated modifier phase 17 in the high-pressure cell 5. After the organic EL material 2 is dissolved in the modifier phase 17 and the metal mask 1 is cleaned, the inside of the high-pressure cell 5 is depressurized, and the modifier in which the organic EL material 2 is dissolved is discharged. Thereafter, by rinsing the metal mask 1 with a solvent phase 16 made of a supercritical or subcritical fluid, the metal mask 1 can be cleaned without leaving droplets of the organic EL material 2.
[0019]
The purpose of this is to separate the fluid in the high-pressure cell 5 due to the difference in density and dissolve and wash it with a modifier. Needless to say, the modifier phase 17 and the solvent phase 16 which is a supercritical or subcritical fluid may be turned upside down due to a difference in density. At this time, it is necessary to change the structure of the inlet / outlet in the high pressure cell 5 as described above.
[0020]
[Example 1]
As Example 1, an example in which the organic EL material is cleaned in the cleaning apparatus using the supercritical fluid shown in FIG. 1 will be described. Cleaning experiments were conducted using carbon dioxide as the solvent and ethanol as the modifier. In the high-pressure cell 5, the metal mask 1 was placed with the deposition surface facing down so that the supercritical fluid was in contact with the deposited surface of the organic EL material 2.
[0021]
The state in the solvent tank 3a containing carbon dioxide is normal temperature and a pressure of 6 MPa. The condition in the modifier tank 3b containing ethanol is normal temperature and normal pressure. The supply amounts of carbon dioxide and ethanol were set to 3.6 g / min for carbon dioxide and 0.2 g / min for ethanol by the valve 10d, the solvent supply pump 4a, the back pressure valve 13a, the modifier pump 4b, and the back pressure valve 13b. The inside of the high-pressure cell 5 was set to a temperature of 60 ° C. by the heater 7. The pressure in the cell was set to 25 MPa by the back pressure valve 13a and the back pressure valve 13b. (As for the unit of the flow rate of carbon dioxide, g / min is used in this application because carbon dioxide has a volume that differs greatly between the state of pressure 25 MPa, temperature 60 ° C., and normal temperature and normal pressure.)
In this state, carbon dioxide and ethanol merge into the pipe and are mixed by the static mixer 6, and the organic EL material 2 is washed with carbon dioxide that has become a supercritical fluid and ethanol dissolved in the carbon dioxide in the high-pressure cell 5. did. Thereafter, the supercritical fluid containing ethanol in which the organic EL material 2 was dissolved passed through the valve 10 d and was sent to the trap beaker, and then brought to normal pressure by the decompression pump 14. At this time, carbon dioxide and ethanol were separated, and the organic EL material 2 washed with ethanol became an ethanol solution in the trap beaker 8.
[0022]
Carbon dioxide was passed through the decompression pump 14 and the flow meter 9, pressurized to 8 MPa at room temperature by the pressure pump 15, liquefied, and stored in the mixed solution tank 3 c. The ethanol solution in the trap beaker 8 gradually vaporizes only at normal temperature and normal pressure, passes through the decompression pump 14 and the flow meter 9, and is pressurized to normal temperature and 8 MPa by the pressurization pump 15, liquefied, and then mixed into the mixed solution tank 3c. sent. After supplying a necessary amount of a mixed solution of carbon dioxide and ethanol to the mixed solution tank 3c, the valve 10b and the valve 10d were closed to form a closed loop. After 30 minutes, the temperature inside the high-pressure cell 5 was lowered and the pressure was reduced after the cleaning was completed, and the metal mask 1 was taken out. Carbon dioxide and ethanol used as the cleaning fluid were stored in the mixed solution tank 3c, and no waste solution was produced.
[0023]
Further, the second cleaning can be performed without supplying carbon dioxide and ethanol by using the mixed solution in the mixed solution tank 3c as shown in FIG.
[0024]
[Example 2]
Example 2 shows an example in which the organic EL material is cleaned in the cleaning apparatus using the subcritical fluid shown in FIG. The details of the configuration of the high-pressure cell 5 in the second embodiment are as shown in FIG. Cleaning was performed using carbon dioxide as a solvent and ethanol as a modifier. In the high pressure cell 5, the combination of the solvent and the modifier is separated due to the difference in density. In the high-pressure cell 5, the metal mask 1 on which the organic EL material 2 is deposited is disposed on the upper part of the apparatus that becomes the modifier phase 17.
[0025]
The state in the solvent tank 3a containing carbon dioxide is 6 MPa at room temperature. The condition in the modifier tank 3b containing ethanol is normal temperature and normal pressure. With the valve 10d closed, carbon dioxide and ethanol are stored in the high pressure cell 5 by the solvent supply pump 4a, the back pressure valve 13a, the modifier pump 4b, and the back pressure valve 13b. The inside of the high pressure cell 5 was set to a temperature of 30 ° C. by the heater 7. The pressure in the cell was set to 6.5 MPa by the back pressure valve 13a and the back pressure valve 13b.
[0026]
In the high-pressure cell 5, carbon dioxide becomes a subcritical state and is separated from ethanol. The organic EL material 2 adhering to the metal mask 1 was dissolved with ethanol. After 15 minutes, the valve 10 d is opened, and the ethanol stored in the upper part of the high-pressure cell 5 is discharged to the trap beaker 8. Thereafter, rinsing with carbon dioxide, which is a subcritical state of the solvent phase 16, could prevent droplets of the dissolved organic EL material 2 from remaining on the metal mask 1.
[0027]
Ethanol and carbon dioxide discharged from the high pressure cell 5 were stored in the mixed solution tank 3c in the same manner as in Example 1 and could be used for the next cleaning. The metal mask 1 was taken out and the cleaning process was completed without waste liquid.
[0028]
【The invention's effect】
Utilizing the high solubility of supercritical or subcritical fluid, the organic mask material is dissolved by bringing the supercritical or subcritical fluid into contact with the metal mask to which the organic EL material is attached, and the organic EL material of the metal mask is extracted. By recovering the metal mask, damage to the metal mask can be prevented. Further, since the supercritical or subcritical fluid, modifier, and organic EL material to be used can be easily recovered and reused, the metal mask can be efficiently cleaned without discharging environmental pollutants.
[0029]
Dissolving the organic EL material of the metal mask using a supercritical or subcritical fluid enables processing at a relatively low temperature of 80 ° C. or lower (preferably 60 ° C. or lower), and prevents thermal deformation of the metal mask itself. It is possible to reuse a highly accurate metal mask in a stable state.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cleaning apparatus using a supercritical or subcritical fluid according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram schematically showing a cleaning apparatus in which a supercritical or subcritical fluid according to an embodiment of the present invention is sealed in a mixed liquid tank.
FIG. 3 is a diagram showing a state in which a modifier phase and a supercritical or subcritical fluid phase of a fluid obtained by adding a modifier to a supercritical or subcritical fluid are separated in a high-pressure cell.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal mask 2 Organic EL material 3a Solvent tank 3b Modifier tank 3c Mixed liquid tank 4a Solvent supply pump 4b Modifier pump 4c Mixed liquid supply pump 5 High pressure cell 6 Static mixer 7 Heater 8 Trap beaker 9 Flowmeters 10a, 10b, 10c 10d, 10e Valves 12a, 12b, 12c Vent valves 13a, 13b, 13c Back pressure valve 14 Pressure reducing pump 15 Pressure pump 16 Solution phase 17 Modifier phase

Claims (10)

有機EL材料が蒸着されたメタルマスクを超臨界又は亜臨界流体を用いて洗浄した後、有機EL材料が溶解した超臨界又は亜臨界流体の温度及び/又は圧力を変動させることにより、溶解した有機EL材料を超臨界又は亜臨界流体から抽出した後、超臨界又は亜臨界流体を再度洗浄に使用することを特徴とするメタルマスクの洗浄方法。After cleaning the metal mask on which the organic EL material is deposited using a supercritical or subcritical fluid, the temperature and / or pressure of the supercritical or subcritical fluid in which the organic EL material is dissolved is changed to change the dissolved organic A method for cleaning a metal mask, comprising extracting an EL material from a supercritical or subcritical fluid and then using the supercritical or subcritical fluid again for cleaning. 有機EL材料が蒸着されたメタルマスクを超臨界又は亜臨界流体を用いて洗浄した後、超臨界又は亜臨界流体の超臨界又は亜臨界状態を解いた流体をタンクに回収し、該流体を循環して使用することを特徴とする請求項1記載のメタルマスクの洗浄方法。After cleaning the metal mask on which the organic EL material has been deposited using a supercritical or subcritical fluid, the supercritical or subcritical fluid is recovered from the supercritical or subcritical fluid in a tank, and the fluid is circulated. 2. The method of cleaning a metal mask according to claim 1, wherein the cleaning method is used. 超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加することを特徴とする請求項1又は2に記載のメタルマスクの洗浄方法。The metal mask cleaning method according to claim 1, wherein a modifier is added to the supercritical or subcritical fluid. 洗浄を行う高圧セル内において、モディファイアが有機EL材料蒸着面に接触するように高圧セルの超臨界又は亜臨界流体の入口と出口を配置することを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のメタルマスク洗浄方法。The supercritical or subcritical fluid inlet and outlet of the high pressure cell are arranged so that the modifier contacts the organic EL material deposition surface in the high pressure cell to be cleaned. The metal mask cleaning method of description. 高圧セル内で超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加した流体のモディファイア相と超臨界又は亜臨界流体相とを分離させ、メタルマスクをモディファイア相で溶解洗浄させ、その後超臨界又は亜臨界流体相ですすぐことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の洗浄方法。In a high-pressure cell, the modifier phase of the fluid added with the modifier to the supercritical or subcritical fluid is separated from the supercritical or subcritical fluid phase, and the metal mask is dissolved and washed in the modifier phase, and then supercritical or subcritical. The cleaning method according to claim 1, wherein the cleaning is performed with a critical fluid phase. 有機EL材料が蒸着されたメタルマスクを超臨界又は亜臨界流体を用いて洗浄した後、有機EL材料が溶解した超臨界又は亜臨界流体の温度及び/又は圧力を変動させることにより、溶解した有機EL材料を超臨界又は亜臨界流体から抽出した後、超臨界又は亜臨界流体を再度洗浄に使用することを特徴とするメタルマスクの洗浄装置。After cleaning the metal mask on which the organic EL material is deposited using a supercritical or subcritical fluid, the temperature and / or pressure of the supercritical or subcritical fluid in which the organic EL material is dissolved is changed to change the dissolved organic An apparatus for cleaning a metal mask, wherein after extracting an EL material from a supercritical or subcritical fluid, the supercritical or subcritical fluid is used again for cleaning. 有機EL材料が蒸着されたメタルマスクを超臨界又は亜臨界流体を用いて洗浄した後、超臨界又は亜臨界流体の超臨界又は亜臨界状態を解いた流体をタンクに回収し、該流体を循環して使用することを特徴とする請求項6記載のメタルマスクの洗浄装置。After cleaning the metal mask on which the organic EL material has been deposited using a supercritical or subcritical fluid, the supercritical or subcritical fluid is recovered from the supercritical or subcritical fluid in a tank, and the fluid is circulated. 7. The metal mask cleaning apparatus according to claim 6, wherein the metal mask cleaning apparatus is used. 超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加することを特徴とする請求項6又は7に記載のメタルマスクの洗浄装置。The metal mask cleaning apparatus according to claim 6 or 7, wherein a modifier is added to the supercritical or subcritical fluid. 洗浄を行う高圧セル内において、モディファイアが有機EL材料蒸着面に接触するように高圧セルの超臨界又は亜臨界流体の入口と出口を配置することを特徴とする請求項6ないし8のいずれかに記載のメタルマスク洗浄装置。9. The supercritical or subcritical fluid inlet and outlet of the high pressure cell are arranged in the high pressure cell to be cleaned so that the modifier contacts the organic EL material deposition surface. The metal mask cleaning device described in 1. 高圧セル内で超臨界又は亜臨界流体にモディファイアを添加した流体のモディファイア相と超臨界又は亜臨界流体相とを分離させ、メタルマスクをモディファイア相で溶解洗浄させ、その後超臨界又は亜臨界流体相ですすぐことを特徴とする請求項6ないし9のいずれかに記載の洗浄装置。In a high-pressure cell, the modifier phase of the fluid added with the modifier to the supercritical or subcritical fluid is separated from the supercritical or subcritical fluid phase, and the metal mask is dissolved and washed in the modifier phase, and then supercritical or subcritical. The cleaning device according to claim 6, wherein the cleaning device is rinsed with a critical fluid phase.
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