JP4224364B2 - Medal cleaning machine - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遊技用メダル・硬貨(以下メダルと総称する)の表面を自動的に洗浄研磨して油・脂・ゴミ・汚れを除去するメダル洗浄研磨装置に関し、詳しくは余剰の洗浄水を速やかに排水させてメダルの過剰な濡れを低減できる技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、メダル洗浄研磨装置としては、図10に示すように下面にブラシ毛24aを植毛した固定の上側ブラシ盤24と上面にブラシ毛25aを植毛した回転自在の下側ブラシ盤25を各ブラシ毛24a,25aが対向するように所定間隔おいて設け、同各ブラシ盤24,25間にメダルmを投入するメダル投入口22を設け、各ブラシ盤24,25の外周及び下側ブラシ盤25の下方を囲む筒体26を設け、同筒体26に各ブラシ盤24,25間のメダルmを排出するメダル排出口27を設け、下側ブラシ盤25を回転させるモータ30を設け、各ブラシ毛24a,25aの対向部分に洗浄水Wを給水する給水管34を設け、メダルmを濡らした状態で下側ブラシ盤25を回転させて自動的に洗浄研磨するようにした構造のものが知られている(例えば特許文献1参照)。
【0003】
ところで、前記構造のメダル洗浄研磨装置は、給水された洗浄水Wが多量の場合、余剰の洗浄水Wが筒体6の底部へ速やかに排水されずに下側ブラシ盤25上で滞留してメダルmを過剰に濡らした状態で排出し、その後の乾燥に時間を要してしまう問題があった。また、給水量を少量にすると、洗浄水Wがブラシ毛24a,25a全域に行き渡らずにメダルmの洗浄が不十分となる問題もあった。
【0004】
【特許文献1】
特開2001−113025号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、従来のこれらの問題点を解消し、充分な量の洗浄水を使用してメダルを確実に洗浄研磨し、しかも余剰の洗浄水を速やかに排水させてメダルの過剰な濡れを低減できるメダル洗浄研磨装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決した本発明の構成は、
1) 下面にブラシ毛を植毛した上側ブラシ盤と上面にブラシ毛を植毛した下側ブラシ盤を各ブラシ毛が対向するように所定間隔おいて設け、同各ブラシ盤間にメダルを投入するメダル投入口を設け、各ブラシ盤の外周及び下側ブラシ盤の下方を囲む筒体を設け、同筒体に各ブラシ盤間のメダルを排出するメダル排出口を設け、各ブラシ盤の両方を相対的に又は下側ブラシ盤を回転させる回転駆動手段を設け、各ブラシ盤のブラシ毛が対向する部分に洗浄水を給水する給水手段を設け、メダルを濡らした状態で各ブラシ盤を相対的に回転させて洗浄研磨するようにしたメダル洗浄研磨装置において、前記下側ブラシ盤の上面の中心部に所定径の平坦部を設け、同平坦部に複数の排水孔を開口し、給水された余剰分の洗浄水を排水孔から排水させるようにしたことを特徴とするメダル洗浄研磨装置
2) 平坦部の上面を突条で放射状に区画した前記1)記載のメダル洗浄研磨装置
3) 排水孔が、隣接する各突条間で且つ下側ブラシ盤の回転方向と反対側の突条近傍に開口したものである前記2)記載のメダル洗浄研磨装置
4) 突条の高さがメダルの厚さより低い高さである前記2)又は3)記載のメダル洗浄研磨装置
5) 下側ブラシ盤のブラシ毛を部分的に植毛し、他の部分にブラシ毛の上部先端の高さより低い位置にシート上面が配置されるように軟質シートを設け、且つ同軟質シートの摩擦係数を下側ブラシ盤のブラシ毛上面の摩擦係数と比較して大きくし、同軟質シートの摩擦でメダルを排出口へ確実に移送できるようにした前記1)〜4)いずれか記載のメダル洗浄研磨装置
にある。
【0007】
【作用】
本発明では、給水手段で各ブラシ毛の対向部分に洗浄水を給水し、回転駆動手段で各ブラシ盤を相対的に又は下側ブラシ盤を回転させる。この状態でメダルをメダル投入口を通じて各ブラシ盤間に投入すると、メダルは洗浄水に濡れて各ブラシ毛で洗浄研磨される。メダルは遠心力を受けて洗浄研磨されながら筒体の内周に沿って移行し、メダル排出口から排出される。
【0008】
洗浄水はメダル投入口を通じて下側ブラシ盤の上面に落水し、ブラシ毛の全域に行き渡る。余剰分の洗浄水は平坦部の排水孔を通じて下方の筒体へ速やかに排水され、メダルの水切りを良好にしてその後の乾燥を効率良く行えるようにする。
【0009】
平坦部を複数の突条で区画したものは、平坦部で滞留しようとする余剰の洗浄水を突条で回転方向へ送ることで排水孔へ積極的に誘導する。特に、排水孔を下側ブラシ盤の回転方向と反対側の突条寄りに開口したものは、突条で回転方向へ送り出した後、直に排水孔へ誘導して迅速に排水される。また、突条の高さをメダルの厚さより低い高さとしたものは、投入されたメダルが引っ掛かり無くブラシ毛へ移行して安定的に洗浄研磨される。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の各ブラシ盤の回転としては、下側ブラシ盤のみを回転させる方法、上側ブラシ盤と下側ブラシ盤をそれぞれ異なる方向へ回転させる方法、上側ブラシ盤と下側ブラシ盤を異なる速度で同方向へ回転させる方法があり、少なくとも上下のブラシ毛で相対的な摩擦を生じさせる回転であればよい。
【0011】
給水手段としては、メダル投入口からメダルの投入と同時に給水する構造が一般的であるが、各ブラシ盤のブラシ毛の植毛部分から吐水させる構造もあり、洗浄水をムラなく給水できて好ましい。洗浄水としては水又は水に洗浄用の薬剤を所要量混合させたものが一般的に用いられる。
【0012】
各ブラシ盤のブラシ毛は、ブラシ盤に同長さのものを面状となるように植毛したものや異なる長さのものを用いて凹凸となるように植毛したものなど、ブラシ状となるものであれば形状,ブラシ毛の太さ,材質は問わないが、メダル両面の油・脂・ゴミ・汚れを確実に除去し、しかもメダルの表面を傷付けにくいものが望ましい。
【0013】
本発明のメダル洗浄研磨装置は、単体で用いてもよいし、乾燥装置や他の装置と連結させて設備として用いてもよい。以下、本発明の実施例を図面に基づいて具体的に説明する。
【0014】
【実施例】
図1は実施例のメダル洗浄研磨装置の縦断面図、図2は実施例のメダル洗浄研磨装置の分解斜視図、図3は実施例の下側ブラシ盤の平面図、図4,5は実施例のメダル洗浄研磨装置の使用状態を示す説明図、図6は実施例の洗浄水の排水を示す説明図である。
【0015】
図中、1はカバー、2はメダル投入口、3は環状体、4は上側ブラシ盤、4aはメダル取入口、4bはブラシ毛、5は下側ブラシ盤、5aはブラシ毛、5bは平坦部、5cは突条、5dは排水孔、6は筒体、6aは排水孔、7はメダル排出口、8は回転軸、8aは従動ローラ、9はベアリング、10はモータ、10aは駆動ローラ、11は駆動ベルト、12は貯水タンク、13は給水ポンプ、14は給水管、14aは吐水口、15はキャビネット、mはメダル、Wは洗浄水である。
【0016】
本実施例のメダル洗浄研磨装置は、図1〜3に示すように錐体状のメダル投入口2が形成されたカバー1に環状体3を介して下面にブラシ毛4bが植毛された上側ブラシ盤4をそのメダル取入口4aとメダル投入口2とが連通するように取り付け、その下方同軸にブラシ毛5aが上面に植毛された下側ブラシ盤5を回転自在に軸支している。
【0017】
下側ブラシ盤5は、図3に示すように上面の中心部に上側ブラシ盤4のメダル取入口4aと略同径の平坦部5bを有しており、同平坦部5bにメダルmの厚さより低い高さ(約1mm)の突条5cを4本放射状に立設し、隣接する各突条5c間に小径の排水孔5dを回転方向と反対側の突条5c寄りに開口し、カバー1の下方には下面に排水孔6aと側面にメダル排出口7を備えた筒体6を上側ブラシ盤4の外周面と下側ブラシ盤5の外周面及び下方を囲むように設けている。
【0018】
下側ブラシ盤5の下面には従動ローラ8aが軸着された回転軸8を垂設してベアリング9で軸支し、従動ローラ8aと隣接したモータ10の駆動ローラ10aとの間に駆動ベルト11を掛架し、筒体6の排水孔6a下方に洗浄水Wを貯水する上方が開放された貯水タンク12を設け、貯水タンク12内の洗浄水Wを送り出す給水ポンプ13を取り付け、給水ポンプ13で送り出された洗浄水Wを上方へ送水する給水管14を配管し、給水管14の上端部を下方へ折曲して洗浄水Wをメダル投入口2へ吐水する吐水口14aを形成している。
【0019】
本実施例では、図4に示すようにモータ10を作動させると駆動ベルト11で駆動力を回転軸8に伝達して下側ブラシ盤5を回転させる。貯水タンク12には洗浄水Wを貯水しており、給水ポンプ13を作動させると洗浄水Wは給水管14を通じて吐水口14aよりメダル投入口2へ吐水されて上側ブラシ盤4のメダル取入口4aから各ブラシ毛4b,5a間に流入し、下側ブラシ盤5と筒体6との間の隙間から筒体6の底部に流れ落ちて排水孔6aを通じて貯水タンク12に回収され、再び給水して循環する。
【0020】
この状態でメダルmをメダル投入口2に投入すると、メダルmはメダル取入口4aを通じて下側ブラシ盤5上に落下し、各ブラシ毛4b,5aと洗浄水Wとで両面が洗浄研磨されながら図5に示すように下側ブラシ盤5の回転とその遠心力で外周方向へ移行する。
【0021】
その後、メダルmは洗浄研磨されながら遠心力で筒体6の内周に沿って移行し、油・脂・ゴミ・汚れが除去されたメダルmがメダル排出口7から排出され、除去した油・脂・ゴミ・汚れは洗浄水Wとともに排水孔6aから貯水タンク12へ排水される。
【0022】
ここで、洗浄水Wはメダル投入口2を通じて下側ブラシ盤5の平坦部5bに落水し、周囲のブラシ毛5aの全域に行き渡る。余剰分の洗浄水Wは下側ブラシ盤5の回転による遠心力及び突条5cによる回転方向への送りで排水孔5dを通じて下方の筒体6へ排水され、メダルmは充分に水切りされた状態で排出される。
【0023】
また、突条5cの高さをメダルmの厚さより低い高さとしたから、投入されたメダルmが引っ掛かり無くブラシ毛5aへ移行して安定的に洗浄研磨される。さらに、排水孔5dを下側ブラシ盤5の回転方向と反対側の突条5c寄りに開口したから、滞留しようとする洗浄水Wを突条5cで直に排水孔5dへ誘導して迅速に排水される。
【0024】
図7に示すのは実施例の下側ブラシ盤の他の例である。図7は実施例の他の例の下側ブラシ盤の平面図である。図7に示す下側ブラシ盤5は、突条5cを省略して排水孔5dを多数開口することで実施例と同等の排水性を付与したものである。その他、符号、構成は実施例と同じである。
【0025】
図8,9に示すのは実施例の下側ブラシ盤の他の例である。図8は実施例の他の例の下側ブラシ盤の平面図、図9は図8のA−A断面図である。図中、5eは軟質シートである。図8,9に示す下側ブラシ盤5は、ブラシ毛5aを小面積の円状に部分的に植毛し、その他の部分にブラシ毛5aの高さより0.5mm薄いウレタン樹脂からなる軟質シート5eを設けてブラシ毛5aを突出させている。
【0026】
従って、ブラシ毛5aの剛性やメダルmの重量によってはメダル排出口7への送り力不足でメダルmが不必要に滞留することがあるが、本実施例によれば軟質シート5eの摩擦でメダルmをメダル排出口7へ確実に移送し、メダルmの無駄な滞留時間を低減して洗浄研磨処理能力を向上できる。その他、符号、構成は実施例と同じである。
【0027】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば充分な量の洗浄水を使用してメダルを確実に洗浄研磨し、しかも余剰の洗浄水を速やかに排水させてメダルの過剰な濡れを低減し得るメダル洗浄研磨装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例のメダル洗浄研磨装置の縦断面図である。
【図2】実施例のメダル洗浄研磨装置の分解斜視図である。
【図3】実施例の下側ブラシ盤の平面図である。
【図4】実施例のメダル洗浄研磨装置の使用状態を示す説明図である。
【図5】実施例のメダル洗浄研磨装置の使用状態を示す説明図である。
【図6】実施例の洗浄水の排水を示す説明図である。
【図7】実施例の他の例の下側ブラシ盤の平面図である。
【図8】実施例の他の例の下側ブラシ盤の平面図である。
【図9】図8のA−A断面図である。
【図10】従来のメダル洗浄研磨装置の縦断面図である。
【符号の説明】
1 カバー
2 メダル投入口
3 環状体
4 上側ブラシ盤
4a メダル取入口
4b ブラシ毛
5 下側ブラシ盤
5a ブラシ毛
5b 平坦部
5c 突条
5d 排水孔
5e 軟質シート
6 筒体
6a 排水孔
7 メダル排出口
8 回転軸
8a 従動ローラ
9 ベアリング
10 モータ
10a 駆動モータ
11 駆動ベルト
12 貯水タンク
13 給水ポンプ
14 給水管
14a 吐水口
15 キャビネット
22 メダル投入口
24 上側ブラシ盤
24a ブラシ毛
25 下側ブラシ盤
25a ブラシ毛
26 筒体
27 メダル排出口
30 モータ
34 給水管
m メダル
W 洗浄水[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a medal cleaning and polishing apparatus that automatically cleans and polishes the surface of game medals and coins (hereinafter collectively referred to as medals) to remove oil, grease, dust, and dirt, and more particularly, quickly removes excess cleaning water. The present invention relates to a technique that can reduce the excessive wetting of medals by draining water.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a medal washing and polishing apparatus, as shown in FIG. 10, a fixed
[0003]
By the way, in the medal cleaning / polishing apparatus having the above structure, when a large amount of the cleaning water W is supplied, the excess cleaning water W stays on the
[0004]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-113025
[Problems to be solved by the invention]
The problem to be solved by the present invention is to solve these problems of the prior art, reliably wash and polish the medal using a sufficient amount of washing water, and drain the excess washing water promptly. An object of the present invention is to provide a medal cleaning and polishing apparatus that can reduce excessive wetting.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The configuration of the present invention that solves this problem is as follows.
1) A medal that inserts medals between each brush board by providing an upper brush board with brush bristles on the bottom and a lower brush board with brush bristles on the top so that the bristles face each other. A slot is provided, and a cylinder surrounding the outer circumference of each brush board and the lower brush board is provided, and a medal discharge opening for discharging medals between the brush boards is provided in the cylinder, and both brush boards are relative to each other. Rotation drive means for rotating the lower brush board is provided, and water supply means for supplying cleaning water is provided at the part where the brush bristles of each brush face are opposed to each other, and each brush disk is relatively moved with the medal wet. In the medal cleaning / polishing apparatus rotated and polished, a surplus portion is provided by providing a flat portion having a predetermined diameter at the center of the upper surface of the lower brush disc and opening a plurality of drain holes in the flat portion. Drain the wash water from the drain hole. The medal cleaning and polishing apparatus 2) characterized in that the medal cleaning and polishing apparatus 3) according to 1) above, wherein the upper surface of the flat portion is radially partitioned by ridges, and the drainage holes are provided between adjacent ridges and The medal cleaning and polishing apparatus 4) described in 2) above, which is open in the vicinity of the ridge opposite to the rotation direction of the lower brush board 2) or 2) above, wherein the height of the ridge is lower than the thickness of the medal. 3) Medal washing and polishing apparatus 5) The brush sheet of the lower brush board is partially planted, and the soft sheet is placed so that the upper surface of the sheet is placed at a position lower than the height of the upper end of the brush bristle in the other part. The above-mentioned 1) to which the coefficient of friction of the soft sheet is larger than the coefficient of friction of the upper surface of the lower bristle disc so that the medal can be reliably transferred to the discharge port by the friction of the soft sheet. 4) Any medal cleaning and polishing device is there.
[0007]
[Action]
In the present invention, the cleaning water is supplied to the facing portion of each brush hair by the water supply means, and each brush board is rotated relatively or the lower brush board is rotated by the rotation driving means. In this state, when a medal is inserted between each brush board through the medal insertion slot, the medal gets wet with cleaning water and is cleaned and polished by each brush hair. The medal receives centrifugal force, moves along the inner periphery of the cylinder while being cleaned and polished, and is discharged from the medal outlet.
[0008]
The washing water falls on the upper surface of the lower brush board through the medal slot and spreads over the entire area of the brush hair. The excess washing water is quickly drained to the lower cylinder through the drainage hole in the flat part, so that the medal is drained well and the subsequent drying can be performed efficiently.
[0009]
In the case where the flat portion is partitioned by a plurality of ridges, surplus cleaning water that tends to stay in the flat portion is actively guided to the drainage holes by sending the ridges in the rotation direction. In particular, a drainage hole opened near the protrusion on the opposite side to the rotation direction of the lower brush board is sent out in the rotation direction by the protrusion, and then immediately guided to the drainage hole and quickly drained. Further, when the height of the protrusion is lower than the thickness of the medal, the inserted medal is transferred to the brush hair without being caught and is stably cleaned and polished.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
As the rotation of each brush board of the present invention, a method of rotating only the lower brush board, a method of rotating the upper brush board and the lower brush board in different directions, and an upper brush board and a lower brush board at different speeds. There is a method of rotating in the same direction, and any rotation that causes relative friction with at least the upper and lower brush hairs may be used.
[0011]
As a water supply means, a structure in which water is supplied simultaneously with the insertion of a medal from the medal insertion opening is also preferable, but there is also a structure in which water is discharged from the brushed part of the brush hair of each brush board, which is preferable because the cleaning water can be supplied evenly. As the washing water, water or water in which a required amount of a washing chemical is mixed is generally used.
[0012]
The brush bristles of each brush board have a brush shape, such as those with the same length planted on the brush board so as to be planar, or those with different lengths planted so as to be uneven If so, the shape, thickness of the bristle, and material are not limited, but it is desirable to reliably remove oil, grease, dust, and dirt on both sides of the medal and to prevent damage to the surface of the medal.
[0013]
The medal cleaning and polishing apparatus of the present invention may be used alone, or may be used as equipment by being connected to a drying apparatus or another apparatus. Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.
[0014]
【Example】
1 is a longitudinal sectional view of the medal cleaning and polishing apparatus of the embodiment, FIG. 2 is an exploded perspective view of the medal cleaning and polishing apparatus of the embodiment, FIG. 3 is a plan view of the lower brush board of the embodiment, and FIGS. FIG. 6 is an explanatory view showing the drainage of the cleaning water of the embodiment. FIG.
[0015]
In the figure, 1 is a cover, 2 is a medal slot, 3 is an annular body, 4 is an upper brush board, 4a is a medal intake, 4b is brush hair, 5 is a lower brush board, 5a is brush hair, and 5b is flat. , 5c is a protrusion, 5d is a drain hole, 6 is a cylinder, 6a is a drain hole, 7 is a medal discharge port, 8 is a rotating shaft, 8a is a driven roller, 9 is a bearing, 10 is a motor, 10a is a drive roller , 11 is a drive belt, 12 is a water storage tank, 13 is a water supply pump, 14 is a water supply pipe, 14a is a water outlet, 15 is a cabinet, m is a medal, and W is washing water.
[0016]
The medal cleaning and polishing apparatus of the present embodiment has an upper brush in which
[0017]
As shown in FIG. 3, the
[0018]
A
[0019]
In this embodiment, when the
[0020]
When the medal m is inserted into the
[0021]
Thereafter, the medal m is moved along the inner periphery of the
[0022]
Here, the washing water W falls through the
[0023]
Further, since the height of the
[0024]
FIG. 7 shows another example of the lower brush board of the embodiment. FIG. 7 is a plan view of a lower brush board of another example of the embodiment. The
[0025]
8 and 9 show another example of the lower brush board of the embodiment. FIG. 8 is a plan view of a lower brush board of another example of the embodiment, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. In the figure, 5e is a soft sheet. The
[0026]
Therefore, depending on the rigidity of the brush bristles 5a and the weight of the medal m, the medal m may stay unnecessarily due to insufficient feeding force to the
[0027]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a medal that can reliably wash and polish a medal using a sufficient amount of washing water, and can quickly drain excess surplus water to reduce excessive wetting of the medal. A cleaning and polishing apparatus can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a medal cleaning and polishing apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is an exploded perspective view of the medal cleaning and polishing apparatus according to the embodiment.
FIG. 3 is a plan view of a lower brush board of the embodiment.
FIG. 4 is an explanatory view showing a usage state of the medal cleaning and polishing apparatus according to the embodiment.
FIG. 5 is an explanatory view showing a usage state of the medal cleaning and polishing apparatus of the embodiment.
FIG. 6 is an explanatory diagram showing drainage of cleaning water according to an example.
FIG. 7 is a plan view of a lower brush board of another example of the embodiment.
FIG. 8 is a plan view of a lower brush board of another example of the embodiment.
9 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
FIG. 10 is a longitudinal sectional view of a conventional medal cleaning and polishing apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (5)
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