JP4210738B2 - Soldering device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回路基板と回路部品から構成されるワークを搬送手段によって搬送しながら、溶融はんだとワークを接触させて回路基板のランド部に回路部品の端子を半田付けする半田付け装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、回路部品を仮止めした回路基板(以下、ワークともいう。)を搬送手段により搬送しながら回路基板に形成されたランド部に回路部品の端子を半田付けする半田付け装置は、半田付けを行う雰囲気中の酸素により半田の表面が酸化し、半田の濡れ性が低下し、ピンホールやブリッジ等の接続不良が生じすることを防止するため、低酸素雰囲気で、回路部品の端子の回路基板のランド部への半田付けを行う。
【0003】
例えば図9に示す半田付け装置101は、半田付けが行われる密閉空間部を構成するチャンバ102を有し、このチャンバ102に溶融された半田(以下、溶融半田ともいう。)が貯められる半田槽103が配設されてなる。チャンバ102は、上側カバー105と下側がバー106がワークの搬送機構を構成するフレーム104に結合されることにより密閉空間部を構成する。このチャンバ102内には、内部を予熱するプリヒータ107が複数配設されている。また、チャンバ102の内部には、内部を低酸素雰囲気にするため不活性ガスを注入するためのノズル108が配設されている。ノズル108は、図10に示すように、複数の小孔109が穿設されており、これら小孔109より不活性ガスが噴出される。チャンバ102内は、ノズル108の小孔109より不活性ガスが注入されることにより、低酸素雰囲気が形成される。半田槽103の底面には、図9に示すように、半田を溶融するヒータ110が配設されている。半田槽103内には、溶融半田を搬送機構により搬送されてくるワークに溶融半田を噴流するための第1の半田ヘッド111及び第2の半田ヘッド112が配設されている。
【0004】
また、チャンバ102には、ワークの入口用開口部113及びワークの出口用開口部114が設けられ、これら開口部113,114の周囲よりワークの搬送方向に延長して延長カバー115,116が設けられている。そして、チャンバのワークの出入口用の開口部113,114及び延長カバー115,116のワークの出入口用開口部117,118には、チャンバ102内の低酸素雰囲気を保持するためのシャッタ121,122,123,124が配設されている。
【0005】
以上のような半田付け装置101では、先ず、搬送機構によりワークが搬送されると、上流側のシャッタ117が開放され、次いで、上流側の延長カバー115内にワークが導入され、この後シャッタ117閉じられる。次に、チャンバ102の上流側の開口部113を閉塞するシャッタ121が開放され、延長カバー115内のワークは、チャンバ102内に搬送され、この後シャッタ121が閉じられる。チャンバ102内において、ワークには、第1及び第2の半田ヘッド111,112により溶融半田が接触され、半田付けが行われる。この後、チャンバ102の下流側の開口部114をシャッタ122が開放し、チャンバ102内のワークは、下流側の延長カバー116内に搬送され、次いでシャッタ122が閉じられる。そして、延長カバー116内のワークは、シャッタ124が延長カバー116の下流側の開口部118を開放することにより、半田付けされたワークが取り出される。
【0006】
以上のような半田付け装置101では、シャッタ121〜124が順に開閉動作することで、チャンバ102内の低濃度酸素雰囲気を保持しながらワークに対し半田付けを行い、搬送することができる。そして、半田付け装置101は、チャンバ102内が低酸素雰囲気に保持されることで、半田の酸化を防止することができ、確実に回路基板のランド部に回路部品の端子を半田付けすることができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、半田付け装置101は、半田付けの効率を向上させるため、チャンバ102内の酸素濃度を更に低くする必要がある。すなわち、半田付け装置101では、チャンバ102内の酸素濃度を更に低くすることで、接続不良を更になくすことができ、また、半田槽103に生じる半田の酸化物の発生を抑えることができ、この酸化物の除去作業の回数を減らし、生産性の向上を図ることができる。
【0008】
また、半田槽102には、半田の酸化物が堆積し、これらを除去する等のメンテナンスを行う必要があり、チャンバ102の内部、例えば半田槽103の液面を目視する必要がある。
【0009】
また、上述した半田付け装置101は、ワークのチャンバ102への挿入及びワークのチャンバ102からの取り出しにシャッタ121〜124を必要とし、これらを同期して操作させる必要があることから、シャッタ121〜124の開閉機構及び制御機構が必要となり、装置全体が複雑化し、装置全体の簡素化及び小型化を図ることができなかった。
【0010】
更に、半田付け装置101は、シャッタ121〜124の開閉機構及び制御機構を必要とし、装置全体が複雑で大型であることから、チャンバ102及び半田槽103のメンテナンスを行うのに多くの時間を要することになり、メンテナンスの作業効率の向上を図ることが困難であった。
【0011】
更にまた、半田付け装置101は、シャッタ121〜124を開閉することにより、ワークを搬送することから、ワークの搬送速度を上げることが困難であり、生産性の向上を図ることが困難であった。
【0012】
そこで、本発明は、半田の酸化を防止することで、確実に半田付けを行うことができる新規な半田付け装置を提供することを目的とする。
【0013】
また、本発明は、容易にチャンバ内部を目視することができる半田付け装置を提供することを目的とする。
【0014】
さらに、本発明は、半田付け速度を上げ生産効率の向上を図ることができる半田付け装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半田付け装置は、上述のような課題を解決すべく、溶融された半田が貯められる半田槽と、半田槽の上側であってワークを搬送する搬送手段の上側に位置する上側カバーと搬送手段の下側であって記半田槽の上側に位置する下側カバーとにより構成され、低酸素雰囲気が形成されるチャンバと、チャンバの底面より上側に鋭角に形成された側壁に、チャンバ内部を目視可能に設けられた窓部と、チャンバ内の上側に配設され、チャンバ内に不活性ガスを噴出する噴出部と、チャンバ内の搬送手段と噴出部との間に配設され、噴出部より噴射された不活性ガスをチャンバの上側に高濃度に保持し、チャンバの上側に高濃度に保持された不活性ガスをチャンバの下側に供給する開口部が形成された整流板とを備える。そして、チャンバの下部は、窓部より整流板の開口部を介して目視可能とされる。整流板は、上記開口部周囲が外周側より低く形成されることで、チャンバ上部の不活性ガスがこれに沿って緩やかに流れ、チャンバ下部に不活性ガスを供給する。チャンバ下部は、不活性ガスが緩やかに供給されることから、半田付けが行われるチャンバ下部の雰囲気を乱すことなく窒化ガスが供給され低酸素雰囲気を形成することができる。
【0016】
半田付け装置は、更に、ワークを出し入れするためチャンバのワークの搬送方向の壁面に形成された開口部と、この開口部よりワークの搬送方向に延長して上記ンバに設けられる延長カバーとを備え、延長カバーの下側に、ワークの搬送方向と直交する方向に、上記ンバー内の不活性ガスの流出を規制する規制板が設けられてなる。また、延長カバーの上側には、ワークの搬送方向と直交する方向に、チャンバ内の不活性ガスの流出を規制する可撓性を有する規制カーテンが配設されている。これにより、チャンバに設けられた出入口要開口部より不活性ガスが流出することが防止できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明が適用された半田付け装置について、図面を参照して説明する。この半田付け装置1は、図1に示すように、ワーク2の搬送方向を長手方向とするフレーム3を有し、この本体フレーム3にワーク2を搬送する搬送機構4が配設されてなる。また、半田付け装置1は、本体フレーム3の下側に半田槽5が配設され、この半田槽5とともに密閉空間部を構成し、低酸素雰囲気が形成されるチャンバ6が配設されてなる。この半田付け装置1は、搬送機構4によりチャンバ6内にワーク2が搬送されると、ワーク2に半田槽5内の溶融半田10が接触され、半田付けが行われる。
【0018】
半田付けを行うワーク2を搬送する搬送機構4は、図1乃至図3に示すように、本体フレーム3の内側に、ワーク2を搬送するための搬送ガイドレール7,8を有する。搬送ガイドレール7,8は、互いに平行に配設され、搬送するワーク2を保持する保持片9が取り付けられるチェーン11が内蔵されている。チェーン11は、ワーク2の搬送路の始端と終端に配設されたスプロケットホイール12に噛合され、スプロケットホイール12が図示しない駆動機構により回転駆動されることにより走行される。そして、チェーン11には、ブラケット13を介してワーク2を保持する保持片9が複数設けられている。保持片9は、図3に示すように、本体フレーム3の内方に向かって先端部が折曲され、ここにワーク2の搬送方向と平行な両側縁部に係止される係止部9aが形成されている。ワーク2は、搬送ガイドレール7,8のそれぞれに設けられた保持片9,9に保持されて、スプロケットホイール12が回転駆動されチェーン11が走行されることにより、図1中矢印X方向に搬送される。また、このような搬送機構4は、ワーク2の搬送方向である図1中X方向がやや上側を向くように傾斜して配設される。
【0019】
半田付け装置1に用いられる半田槽5は、図2及び図4に示すように、略矩形状に形成され、上面が開口されてなる。半田槽5は、外部容器16内に内部容器17が配設され、この内部容器17内に溶融半田10が貯められる。内部容器17の内面には、半田を加熱し溶融するヒータ18が配設されている。ヒータ18は、内部容器17を構成する側壁17aの内周面に配設され、半田の溶融温度まで内部容器17内を加熱する。
【0020】
この半田槽5内には、内部容器17内の溶融半田10を搬送機構4に保持されたワーク2に塗布するための第1の半田ヘッド21と第2の半田ヘッド22とが並んで配設されている。第1の半田ヘッド21は、搬送されるワーク2の全面に溶融半田10を噴射するヘッドであり、ワーク2の搬送方向の上手側に配設される。第2の半田ヘッド22は、第1の半田ヘッド21により付着された溶融半田10のうち余分な溶融半田10を除去する等第1の半田ヘッド21の補完的な役割を有するヘッドであり、ワークの搬送方向の下手側に配設される。これら第1の半田ヘッド21と第2の半田ヘッド22は、先端部が溶融半田10の液面Pよりやや突出し、ワーク2に塗布する位置よりやや下側に位置するよう配設される。
【0021】
このような第1の半田ヘッド21と第2の半田ヘッド22は、図2に示すように、ワーク2の搬送方向と直交する方向を長手方向とし、ワーク2の全面に溶融半田10を塗布することができるように少なくともワーク2の搬送方向と直交する辺より長くなるように形成されている。第1の半田ヘッド21及び第2の半田ヘッド22の先端部には、溶融半田10を噴射するためのスリット23,24が形成されている。また、詳細は省略するが第1の半田ヘッド21と第2の半田ヘッド22には、内部容器17内の溶融半田10を吸引し、スリット23,24より溶融半田10を噴射するための吸引機構が配設されている。
【0022】
以上のような半田槽5は、図2に示すように、支持台25に支持されている。支持台25は、半田槽5を移動操作することができるように、ワーク2の搬送方向と平行な図1及び図2中矢印X方向及び反矢印X方向並びにワーク2の搬送方向と直交する図1及び図2中矢印Y方向及び反矢印Y方向に移動可能にガイドされいる。半田槽5は、半田槽5のメンテナンスを行うとき、先ず図1及び図2中矢印X方向に移動される。このとき、搬送機構4が上手側が上を向くように傾斜して設けられていることから、半田槽5は、図1に示すように、搬送機構4に対してやや離間した状態となる。この状態で、半田槽5は、図1及び図2中反矢印Y方向に移動させることにより、チャンバ6より取り外される。また、半田槽5をチャンバ6に取り付ける場合、先ず、半田槽5は、図1及び図2中矢印Y方向に移動操作される。この後、半田槽5は、図1及び図2中反矢印X方向に移動されることにより、チャンバ6に圧着した状態で取り付けられる。このとき、詳細は後述するチャンバ6を構成する下側カバー27を本体フレーム3に圧着し、チャンバ6内の気密性を維持することができる。なお、半田槽5は、更に半田槽5を上下方向に移動操作することができる更なる支持台にも接続するようにしても良い。
【0023】
また、ワーク3に対して半田付けが行われるチャンバ6は、図3及び図4に示すように、本体フレーム3を介して上側に配設される上側カバー26と、本体フレーム3を介して下側に配設される下側カバー27とにより構成される。チャンバ6を構成する上側カバー26は、略矩形状に形成され、搬送機構4と対向する底面が開放されてなる。また、上側カバー26は、装置本体の正面側の側面が上側に向かって鋭角に傾斜した傾斜面部26aにより形成され、残る3側面が垂直な垂直面部26bにより形成されている。傾斜面部26aには、略中央に、チャンバ6内を目視するための矩形状の窓部28が形成されている。また、傾斜面部26aには、窓部28を開閉するドア29が回動可能に取り付けられている。ドア29には、開閉操作を容易に行うための操作部29aが一体に設けられている。チャンバ6内は、窓部28が傾斜面部26aに設けられていることから、容易に内部をみることができるとともに、チャンバ6の下部6bも容易に見ることができる。勿論、この窓部28は、他の側面も上側に向かって鋭角に傾斜する傾斜面部を形成し、傾斜面部を構成する側面にそれぞれ設けるようにしても良い。
【0024】
そして、このような上側カバー26は、チャンバ6内部のメンテナンス等を行うため本体フレーム3に着脱可能により取り付けられる。このとき、上側カバー26は、チャンバ6が密閉空間部を構成できるようにパッキングにより取り付けられる。
【0025】
この上側カバー26は、図3及び図5に示すように、チャンバ6内のメンテナンス等を行う際、移動操作機構31により背面側に移動操作することができる。この移動操作機構31は、図3に示すように、上側カバー26に取り付けられ、上側カバー26をワーク2の搬送方向と直交する図3中矢印Y方向でやや上方に向かって移動させるための一対のガイド部材32,33と、ガイド部材32,33が係合されるガイド溝34,35が形成され、上側カバー26を移動操作する際、上側カバー26を支持する支持部材36,37とを備える。ガイド部材32,33は、一端が上側カバー26のワーク2の搬送方向と直交する側の側壁26aに取り付けられ、他端がワーク2の搬送方向と直交する方向であってやや上方を向くように取り付けられる。上側カバー26を支持する支持部材36,37は、互いに対向する面にガイド部材32,33の他端側が係合するガイド溝34,35が形成されている。ガイド溝34,35は、上側カバー26をワーク2の搬送方向と直交する方向に移動操作した際、本体フレーム3と図3中Y方向に移動するとともに、本体フレーム3から離間する方向に移動することができるように、ガイド部材32,33の傾斜角に対応して設けられている。また、移動操作機構31は、上側カバー26をワーク2の搬送方向である図3中矢印X方向及び反矢印X方向に移動するためのガイド板38を有する。ガイド板38は、装置本体を構成するシャーシに固定され、このガイド板38には、支持部材36,37の基端側に設けられた係合部39,40が係合される。
【0026】
以上のような上側カバー26の移動操作機構31は、本体フレーム3と結合するパッキングを解除した後、図示しない駆動機構によりガイド溝34,35にガイド部材32,33が取り付けられた上側カバー26が図3中矢印Y方向でやや上方に向かって図5中二点鎖線で示す移動位置まで移動され、次いで、図示しない駆動機構により図3中矢印X方向又は反矢印X方向に移動される。これにより、上側カバー26は、本体フレーム3に衝突することなく円滑に移動操作することができ、また、下側カバー27と離間した位置まで移動されることから、容易に上側カバー26のメンテナンスを行うことができ、また、下側カバー27若しくは半田槽5のメンテナンスを行うことができる。また、上側カバー26は、移動位置まで直線的に移動することから、移動距離を短くすることができ、移動時間の短縮を図ることができる。なお、上側カバー26を移動操作する駆動機構は、モータ等であってもよく、また、手動であってもよい。
【0027】
また、チャンバ6を構成する下側カバー27は、上側カバー26と大きさがほぼ同じ略矩形状に形成され、搬送機構4と対向する上面が開放されてなる。下側カバー27は、側面が垂直壁27aにより形成されている。また、下側カバー27には、底面側より半田槽5が進入され、内部に第1及び第2の半田ヘッド21,22が臨まされている。下側カバー27には、半田槽5が着脱可能に取り付けられており、パッキングにより取り付けられることによりチャンバ6内の気密性を維持できるようにされている。また、下側カバー27は、これと同様に、本体フレーム3にも着脱可能に取り付けられており、パッキングにより取り付けられることによりチャンバ6内の気密性が維持できるようにされている。半田槽5は、上述したように、下側カバー27と本体フレーム3とのパッキング及び下側カバー27と半田槽5とのパッキングを外した後、支持台25を操作し、下側カバー27より取り外される。
【0028】
以上のような上側カバー26,下側カバー27及び本体フレーム3とにより構成されるチャンバ6は、本体フレーム3に対して上側カバー26と下側カバー27とがパッキングにより取り付けられることで気密性の保たれた密閉空間が内部に形成される。このように密閉空間部が形成されたチャンバ6内には、図3及び図4に示すように、上側カバー26側に、内部を低酸素雰囲気にするため、内部に不活性ガスを供給するためのガス供給パイプ41が設けられている。具体的に、ガス供給パイプ41は、図4に示すように、上側カバー26の上面側に、上面と側面とがなすコーナ部に沿って配管されている。そして、このガス供給パイプ41には、チャンバ6の下方に向かって不活性ガスを噴出するための噴出部42が等間隔に設けられている。例えば図3に示すように、噴出部42は、上側カバー26のワーク2の搬送方向と平行な長辺方向に、6つ等間隔に設けられ、上側カバー26のワーク2の搬送方向と直交する短辺方向には、等間隔に3つ設けられている。チャンバ6内は、噴出部42が等間隔に設けられることで、チャンバ6内の不活性ガスの濃度を均一にすることができる。
【0029】
ここで、チャンバ6内に注入される不活性ガスは、半田が酸化することを防止するために用いられることから、半田と化学反応を起こしにくく、酸化作用の低い気体が用いられる。この不活性ガスは、好ましくは窒素ガスであるが、他にヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、クセノン、ラドン等を用いることも可能であり、また、これらの混合ガスであってもよい。
【0030】
また、チャンバ6内の上側カバー26側には、図3及び図4に示すように、噴出部42より噴出された不活性ガスの気流を整流する整流板43が配設されている。この整流板43は、噴出部42と搬送機構4との間に、チャンバ6内を上部6aと下部6bに仕切るように配設される。この整流板43は、外側に設けられる外側平面部44と、外側平面部44と連続して下側に向かって折曲された傾斜面部45と、傾斜面部45と連続して内側に設けられる内側平面部46とからなり、内側平面部46の中央部に開口部47が設けられてなる。外側平面部44は、噴出部42と対向する位置に設けられる。また、整流板43は、図5に示すように、上側カバー26の正面側が、上面より垂下するように取り付けられるとともに、残る側面側が上側カバー26の垂直面部26bに接合されている。これにより、チャンバ6内は、上側カバー26の傾斜面部26aに設けられた窓部28よりチャンバ6の下部、例えば半田層5の液面をを、整流板43に邪魔されることなく見ることができる。
【0031】
以上のように取り付けられた整流板43は、チャンバ6の上部6aは、下部6bに比べて窒化ガスが高濃度に保持される。なお、開口部47は、窓部28よりチャンバ6内を目視した際、下部6bを目視することも可能としている。開口部47は、均等に下部6bに不活性ガスを供給できるように正方形に開口して形成され、例えば一辺が150mm×150mmの大きさに形成される。これにより、上部6aの不活性ガスは均等に下部6bへ供給される。勿論、この開口部47の形状は、正方形に限定されるものではなく、直方形等の矩形状や多角形、略円形等であっても良い。
【0032】
噴出部42より噴出された不活性ガスは、噴出部42より外側平面部44に向かって噴出され、外側平面部44により反射され、チャンバ6の上側へ向かう。これにより、チャンバ6内における不活性ガスの濃度は、上部6aが下部6bより高濃度になる。そして、流速が落ちた不活性ガスは、整流板43に沿って開口部47に向かって流れる。このとき、整流板43には、傾斜面部45が設けられていることから、緩やかに開口部47に向かって流れる。したがって、チャンバ6の下部6bには、不活性ガスが緩やかに供給され、下部6bの雰囲気を乱すことが防止でき、安定した窒化ガス雰囲気中で半田付けを行うことができる。
【0033】
以上のように構成されるチャンバ6の下部6bには、図3及び図4に示すように、搬送機構4により搬送されるワーク2を出し入れするための入口用開口部48と出口用開口部49とが設けられている。そして、チャンバ6には、入口用開口部48から搬送機構4を覆うように入口側カバー51が一体的に設けられ、出口用開口部49から搬送機構4を覆うように出口用カバー52が設けられている。
【0034】
入口用カバー48には、チャンバ6内の窒素ガスが入口用開口部48より流出すること規制する規制カーテン53が配設されている。規制カーテン53は、可撓性を有する耐熱性樹脂シートを略平紐状となるように切れ目を入れて形成されている。この規制カーテン51は、入口用カバー51の上部より吊された際、下端が搬送機構4に接触する長さに形成され、上部より垂下するように取り付けられる。規制カーテン53は、入口用カバー51より複数吊り下げられることで、チャンバ6内の不活性ガスが入口用開口部48より流出することを防止している。また、規制カーテン53は、可撓性を有することから、円滑にワーク2をチャンバ6内に搬送することができる。
【0035】
また、出口用カバー52には、チャンバ6内の窒素ガスが出口用開口部49より流出すること規制する規制カーテン54が設けられている。規制カーテン54は、可撓性を有する耐熱性樹脂シートを略平紐状となるように切れ目を入れて形成され、出口用カバー52の上部より吊された際、下端が搬送機構4に接触する長さに形成され、上部より垂下するように取り付けられる。規制カーテン54は、出口用カバー52より複数吊り下げられることで、チャンバ6内の不活性ガスが出口用開口部49の上部より流出することを防止している。また、規制カーテン54は、可撓性を有することから、円滑にワーク2をチャンバ6内に搬送することができる。また、出口用カバー52には、底部側から略垂直にチャンバ6内の窒化ガスが出口用開口部49より流出することを規制する規制板55が複数設けられている。規制板55は、チャンバ6内の不活性ガスが出口用開口部49の下部より流出することを防止している。すなわち、不活性ガスは、ワーク2の搬送方向となる出口用開口部49より流出しやすいことから、入口用カバー51側には、規制カーテン52が設けられているのみに対し、出口用カバー52には、規制カーテン54及び規制板55が設けられ、不活性ガスが出口用開口部49より不活性ガスが流出しにくくなっている。
【0036】
なお、この規制板55は、出口用カバー49側に設けるのみならず、入口用カバー51側に設けるようにしても良い。入口用カバー51側にも設けた場合には、さらに入口用開口部48からの不活性ガスの流出を防止することができる。
【0037】
以上のような半田付け装置1は、先ずチャンバ6内を低酸素の窒化ガスの雰囲気を形成した後、搬送機構4によりワーク2がチャンバ6内に搬送される。すなわち、チャンバ6内には、図3及び図4に示すように、図示しない不活性ガスの供給機構によりガス供給パイプ41に不活性ガスが供給され、噴出部42より不活性ガスが噴出されることにより不活性ガスが供給される。すると、この不活性ガスは、噴出部42より外側平面部44に向かって噴出され、外側平面部44により反射され、チャンバ6の上側へ向かう。これにより、不活性ガスは、流速が落ち、この後、整流板43に沿って開口部47に向かって流れる。このとき、整流板43には、傾斜面部45が設けられていることから、緩やかに開口部47に向かって流れる。かくして、チャンバ6内には、不活性ガスによる低酸素雰囲気が形成される。また、半田槽5では、半田がヒータ18により溶融半田10にされている。
【0038】
ここで、図6は、チャンバ6内に窒素ガスを200リットル/minで供給したときの、窒素ガスの供給時間(分)とチャンバ6内に残留する酸素の酸素濃度(ppm)との関係を示す図であり、ここでの酸素濃度は、実際に半田付けが行われるチャンバ6の下部6bの第1及び第2の半田ヘッド21,22より10mm上で測定したものである。図6に示すように、チャンバ6内では、窒素ガスの供給開始後約3分経過した後より酸素濃度を約1200ppm以下にすることができる。なお、図示しないが、このときのチャンバ6の上部6aの酸素濃度は、500ppm以下となる。また、図7は、チャンバ6内に供給する窒素ガスの供給量(リットル/min)とチャンバ6内に残留する酸素濃度(ppm)との関係を示す図である。図7に示すように、チャンバ6内(下部6bの第1及び第2の半田ヘッド21,22より10mm上)では、窒素ガスの供給量を増やすことで、低酸素雰囲気を効率よく形成することができる。すなわち、従来の半田付け装置において、半田付けは、チャンバ6内の酸素濃度が数千ppmの雰囲気で行われていたが、この半田付け装置1では、チャンバ6内に窒素ガスを200リットル/minで供給したとき、酸素濃度を1200ppm以下の低酸素雰囲気を形成することができ、半田付けを良好な半田付けを行うことができるとともに、半田槽5に生じる半田の酸化物であるドロスの発生量を抑えることができる。
【0039】
この後、チャンバ6内には、搬送機構4によりワーク2が搬送される。すなわち、ワーク2は、搬送ガイドレール7,8のそれぞれに設けられた保持片9,9に保持されて、スプロケットホイール12が回転駆動されチェーン11が走行されることにより、図1中矢印X方向に搬送される。このとき、入口用カバー51には、規制カーテン53が設けられていることから、チャンバ6内の不活性ガスが入口用開口部48より流出することが防止できる。また、規制カーテン53は、可撓性を有することから、ワーク2を円滑にチャンバ6内に搬送することができる。
【0040】
そして、チャンバ6内に搬送されたワーク2には、溶融半田10が噴流される。すなわち、溶融半田10は、第1の半田ヘッド21及び第2の半田ヘッド22より噴出され、ワークに接触される。このとき、チャンバ6内は、低酸素雰囲気が形成されていることから、半田の酸化を防止することができ、良好な半田付けを行うことができる。また、チャンバ6内は、低酸素雰囲気が形成されていることから、半田槽5内にドロスの発生量を抑えることができ、ドロスの除去作業等のメンテナンスの回数を減らすことができ、生産効率の向上を図ることができる。また、半田付け装置1は、ドロスの発生を押させることができることから、半田の使用量を減らすことができる。
【0041】
半田付けが行われたワーク2は、搬送機構4により出口用開口部49より排出される。このとき、出口用カバー52には、規制カーテン54及び規制板55が設けられていることから、不活性ガスの流出量を抑えることができる。
【0042】
また、この半田付け装置1は、上側カバー26の傾斜面部26aに設けられた窓部28よりチャンバ6の内部を目視することができ、また、チャンバ6の下部6bや半田槽5を目視することができる。このとき、窓部28は、上側カバー26の正面側の傾斜面部26aに形成されていることから、容易にチャンバ6内を目視することができる。
【0043】
そして、この半田付け装置1では、チャンバ6のメンテナンスを容易に行うことができる。すなわち、上側カバー26を取り外す場合には、本体フレーム3と上側カバー26とを結合するパッキングを解除し、この後、図示しない駆動機構によりガイド溝34,35にガイド部材32,33が取り付けられた上側カバー26を図3中矢印Y方向でやや上方に向かって移動操作し、図5中2点鎖線で示す移動位置まで移動する。この後、上側カバー26は、図示しない駆動機構により図3中矢印X方向に移動されることで、本体フレーム3より取り外される。これにより、上側カバー26は、本体フレーム3に衝突することなく円滑に移動操作することができ、また、下側カバー27と離間した位置まで移動されることから、容易に上側カバー26のメンテナンスを行うことができ、また、下側カバー27若しくは半田槽5のメンテナンスを行うことができる。なお、上側カバー26を本体フレーム3の所定位置に取り付ける場合には、先ず、上側カバー26を、図示しない駆動機構により図3中反矢印X方向に移動し、この後、反矢印Y方向に移動することで本体フレーム3の所定位置に移動され、この後、本体フレーム3と上側カバー26とをパッキングすることにより本体フレーム3に結合される。
【0044】
また、半田槽5に発生したドロスを除去する場合、半田槽5は、上述したように、下側カバー27と本体フレーム3とのパッキング及び下側カバー27と半田槽5とのパッキングを外した後、支持台25を操作し、下側カバー27より取り外される。すなわち、半田槽5は、先ず図1及び図2中矢印X方向に移動される。このとき、搬送機構4が上手側が上を向くように傾斜して設けられていることから、半田槽5は、図1に示すように、搬送機構4に対してやや離間した状態となる。この状態で、半田槽5は、図1及び図2中反矢印Y方向に移動させることにより、チャンバ6より取り外され、ドロスの除去作業を行うことができる。また、半田槽5をチャンバ6に取り付ける場合、先ず、半田槽5は、図1及び図2中矢印Y方向に移動操作され、この後、図1及び図2中矢印X方向に移動されることにより、チャンバ6に圧着した状態で取り付けられる。このとき、下側カバー27を本体フレーム3に圧着し、チャンバ6内の気密性を維持することができる。
【0045】
ここで、図8は、ドロスの発生量(kg/8h)とチャンバ6内に残存する酸素の酸素濃度(ppm)との関係を示す図であり、ここでの酸素濃度は、図6及び図7と同様に、実際に半田付けが行われるチャンバ6の下部6bの第1及び第2の半田ヘッド21,22より10mm上で測定したものである。図8に示すように、図6に示す条件、すなわち、チャンバ6内に窒素ガスを200リットル/minで供給し、1200ppmの酸素濃度では、約1kgのドロスが発生した。従来の半田付け装置では、図示しないが8時間で10kgのドロスが発生していたことから、約9kg減少させることができた。従来の半田付け装置では、半田槽よりドロスがあふれ出ることを防止するため、通常3,4時間に一度ラインを止めてドロスの除去作業を行っていたが、この半田付け装置1では、24時間の運転で1回のドロス除去作業を行えばよいことになり、生産効率の向上を図ることができる。
【0046】
【発明の効果】
本発明に係る半田付け装置によれば、チャンバ内を目視する窓部がチャンバの傾斜して形成された側面に設けられていることから、容易にチャンバの内部を目視することができ、また、整流板の開口部を介してチャンバの下部、例えば半田槽の液面を見ることができる。また、チャンバの内部には、整流板が配設され、半田付けが行われるチャンバの下部に整流板の開口部から不活性ガスが供給され、従来より酸素濃度の低い低酸素雰囲気を実現することができ、半田槽に半田の酸化物が発生することを抑えることができ、半田の使用量を減らすことができるとともに、この酸化物の除去作業の回数を減らすことができ、生産効率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用された半田付け装置の外観斜視図である。
【図2】上記半田付け装置の半田槽を示す斜視図である。
【図3】上記半田付け装置のチャンバの構成を示す斜視図である。
【図4】上記半田付け装置の断面図である。
【図5】上記半田付け装置をワークの上手側からみた側面図である。
【図6】チャンバ内に窒素ガスを200リットル/minで供給したときの、窒素ガスの供給時間(分)とチャンバ内に残留する酸素の酸素濃度(ppm)との関係を示す図である。
【図7】チャンバ内に供給する窒素ガスの供給量(リットル/min)とチャンバ内に残留する酸素濃度(ppm)との関係を示す図である。
【図8】ドロスの発生量(kg/8h)とチャンバ内に残存する酸素の酸素濃度(ppm)との関係を示す図である。
【図9】従来の半田付け装置の示す断面図である。
【図10】上記半田付け装置のチャンバ内に不活性ガスを供給するノズルの斜視図である。
【符号の説明】
1 半田付け装置、2 ワーク、3 本体フレーム、4 搬送機構、5 半田槽、6 チャンバ、6a 上部、6b 下部、18ヒータ、21 第1の半田ヘッド、22 第2の半田ヘッド、26 上側カバー、27 下側カバー、28 窓部、31 移動操作機構、41 ガス供給パイプ、42 噴出部、43 整流板、47 開口部、51 入口用カバー、52 出口用カバー、53,54 規制カーテン、55 規制板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a soldering apparatus for soldering a terminal of a circuit component to a land portion of a circuit board by bringing the molten solder into contact with the work while conveying the work constituted by the circuit board and the circuit component by a conveying means.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, a soldering apparatus that solders circuit component terminals to land portions formed on a circuit board while transporting a circuit board (hereinafter also referred to as a workpiece) temporarily fixed with the circuit parts by a transporting means is performed by soldering. In order to prevent the solder surface from being oxidized by the oxygen in the atmosphere, the wettability of the solder is reduced, and poor connection such as pinholes and bridges is generated. Solder to the land part.
[0003]
For example, a
[0004]
The chamber 102 is provided with a workpiece inlet opening 113 and a workpiece outlet opening 114, and extended
[0005]
In the soldering
[0006]
In the soldering
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Incidentally, the
[0008]
Further, it is necessary to perform maintenance such as removing solder oxide deposited on the solder bath 102, and it is necessary to visually observe the inside of the chamber 102, for example, the liquid level of the
[0009]
Further, the above-described
[0010]
Furthermore, the
[0011]
Furthermore, since the soldering
[0012]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel soldering apparatus that can perform soldering reliably by preventing the oxidation of the solder.
[0013]
Another object of the present invention is to provide a soldering apparatus that allows the inside of a chamber to be easily visually observed.
[0014]
Furthermore, an object of the present invention is to provide a soldering apparatus capable of increasing the soldering speed and improving the production efficiency.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, a soldering apparatus according to the present invention includes a solder tank in which molten solder is stored, and an upper cover that is located above the solder tank and above the conveying means that conveys the workpiece. And a lower cover positioned below the transfer means and above the solder tank, and a chamber in which a low oxygen atmosphere is formed, and a side wall formed at an acute angle above the bottom surface of the chamber, A window portion provided inside so as to be visible; an upper portion disposed in the chamber; and an ejection portion that ejects an inert gas into the chamber; and a conveying means and an ejection portion in the chamber, A rectifying plate in which an inert gas jetted from the ejection portion is held at a high concentration on the upper side of the chamber, and an opening for supplying the inert gas held at a high concentration on the upper side of the chamber to the lower side of the chamber; Is provided. And the lower part of a chamber can be visually confirmed through the opening part of a baffle plate from a window part. The rectifying plate is formed so that the periphery of the opening is lower than the outer peripheral side, so that the inert gas in the upper part of the chamber gently flows along this and supplies the inert gas to the lower part of the chamber. Since the inert gas is slowly supplied to the lower portion of the chamber, the nitriding gas is supplied without disturbing the atmosphere of the lower portion of the chamber where soldering is performed, so that a low oxygen atmosphere can be formed.
[0016]
The soldering apparatus further includes an opening formed on the wall surface in the workpiece transfer direction of the chamber for loading and unloading the workpiece, and an extension cover provided on the member extending from the opening in the workpiece transfer direction. A regulating plate for regulating the outflow of the inert gas in the chamber is provided below the extension cover in a direction perpendicular to the workpiece conveying direction. In addition, on the upper side of the extension cover, a flexible regulation curtain that regulates the outflow of the inert gas in the chamber is disposed in a direction perpendicular to the workpiece conveyance direction. Thereby, it is possible to prevent the inert gas from flowing out from the opening required for the entrance / exit provided in the chamber.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a soldering apparatus to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the soldering apparatus 1 has a
[0018]
As shown in FIGS. 1 to 3, the
[0019]
As shown in FIGS. 2 and 4, the
[0020]
In the
[0021]
As shown in FIG. 2, the
[0022]
The
[0023]
The
[0024]
Such an
[0025]
As shown in FIGS. 3 and 5, the
[0026]
The moving
[0027]
Further, the
[0028]
The
[0029]
Here, since the inert gas injected into the
[0030]
Further, on the side of the
[0031]
The rectifying
[0032]
The inert gas ejected from the
[0033]
As shown in FIGS. 3 and 4, the
[0034]
The
[0035]
Further, the
[0036]
The
[0037]
In the soldering apparatus 1 as described above, an atmosphere of a low-oxygen nitriding gas is first formed in the
[0038]
Here, FIG. 6 shows the relationship between the supply time (minutes) of nitrogen gas and the oxygen concentration (ppm) of oxygen remaining in the
[0039]
Thereafter, the
[0040]
Then,
[0041]
The
[0042]
In addition, the soldering apparatus 1 can visually observe the inside of the
[0043]
In the soldering apparatus 1, the
[0044]
Further, when removing dross generated in the
[0045]
Here, FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the amount of dross generated (kg / 8h) and the oxygen concentration (ppm) of oxygen remaining in the
[0046]
【The invention's effect】
According to the soldering apparatus according to the present invention, since the window portion for visually observing the inside of the chamber is provided on the side surface formed by tilting the chamber, the inside of the chamber can be easily visually observed, The lower part of the chamber, for example, the liquid level of the solder bath can be seen through the opening of the current plate. Also, a rectifying plate is disposed inside the chamber, and an inert gas is supplied from the opening of the rectifying plate to the lower part of the chamber where soldering is performed, thereby realizing a low oxygen atmosphere with a lower oxygen concentration than before. The generation of solder oxide in the solder bath can be suppressed, the amount of solder used can be reduced, and the number of operations for removing this oxide can be reduced, improving the production efficiency. Can be planned.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an external perspective view of a soldering apparatus to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a perspective view showing a solder tank of the soldering apparatus.
FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a chamber of the soldering apparatus.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the soldering apparatus.
FIG. 5 is a side view of the soldering apparatus as seen from the upper side of the workpiece.
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the supply time (minutes) of nitrogen gas and the oxygen concentration (ppm) of oxygen remaining in the chamber when nitrogen gas is supplied into the chamber at 200 liters / min.
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the supply amount (liter / min) of nitrogen gas supplied into the chamber and the oxygen concentration (ppm) remaining in the chamber.
FIG. 8 is a graph showing the relationship between the amount of dross generated (kg / 8h) and the oxygen concentration (ppm) of oxygen remaining in the chamber.
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a conventional soldering apparatus.
FIG. 10 is a perspective view of a nozzle that supplies an inert gas into the chamber of the soldering apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Soldering apparatus, 2 workpiece | work, 3 main body frame, 4 conveyance mechanism, 5 solder tank, 6 chamber, 6a upper part, 6b lower part, 18 heater, 21 1st solder head, 22 2nd solder head, 26 upper cover, 27 Lower cover, 28 Window part, 31 Moving operation mechanism, 41 Gas supply pipe, 42 Ejecting part, 43 Rectifier plate, 47 Opening part, 51 Cover for inlet, 52 Cover for outlet, 53,54 Regulatory curtain, 55 Regulatory plate
Claims (5)
上記半田槽の上側であってワークを搬送する搬送手段の上側に位置する上側カバーと上記搬送手段の下側であって上記半田槽の上側に位置する下側カバーとにより構成され、内部に低酸素雰囲気が形成されるチャンバと、
上記チャンバの底面より上側に鋭角に形成された側壁に、上記チャンバ内部を目視可能に設けられた窓部と、
上記チャンバ内の上側に配設され、上記チャンバ内に不活性ガスを噴出する噴出部と、
上記チャンバ内の上記搬送手段と上記噴出部との間に配設され、上記噴出部より噴射された不活性ガスを上記チャンバの上側に高濃度に保持し、上記チャンバの上側に高濃度に保持された不活性ガスを上記チャンバの下側に供給する開口部が形成された整流板とを備え、
上記チャンバの下部は、上記窓部より上記整流板の開口部を介して目視可能であることを特徴とする半田付け装置。A solder bath for storing molten solder;
The upper cover is located above the solder tank and above the transport means for transporting the work, and the lower cover is located below the transport means and above the solder tank. A chamber in which an oxygen atmosphere is formed;
On the side wall formed at an acute angle above the bottom surface of the chamber, a window portion provided so that the inside of the chamber can be visually observed,
An ejection portion disposed on the upper side of the chamber and ejecting an inert gas into the chamber;
The inert gas, which is disposed between the conveying means in the chamber and the ejection part and is injected from the ejection part, is held at a high concentration above the chamber and is kept at a high concentration above the chamber. A rectifying plate having an opening for supplying the inert gas to the lower side of the chamber,
The lower part of the chamber is visible from the window through the opening of the rectifying plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2000208924A JP2000208924A (en) | 2000-07-28 |
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---|---|---|---|
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