JP4195723B2 - Uniform wear polishing equipment - Google Patents

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JP4195723B2 JP21249398A JP21249398A JP4195723B2 JP 4195723 B2 JP4195723 B2 JP 4195723B2 JP 21249398 A JP21249398 A JP 21249398A JP 21249398 A JP21249398 A JP 21249398A JP 4195723 B2 JP4195723 B2 JP 4195723B2
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  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被研磨物の幅が、研磨砥石に対して、非常に小さく或いは薄い場合にも研磨砥石の摩耗が平均して得られ、常に平坦な研磨面を保持できる研磨装置に関する。詳細には、本発明は、ハードデイスク、先端部電子部品のような幅狭の先端部の被研磨物を研磨する研磨装置で、研磨砥石表面の摩耗が平均化され、均一にされるような研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ハードデイスクのような電子部品の幅狭い端部を研磨する必要がある場合、研磨砥石の表面は、幅狭い端部で、研磨されていくために、研磨砥石の幅方向に摺動させて、研磨砥石の表面の摩耗を、平均化させていく。然し乍ら、そうすると、研磨砥石の表面の摩耗がうまく平均化されず、研磨砥石の中央部のみが摩耗されてしまうか、或いは、研磨砥石の端部近くでは、より多く摩耗されてしまう。
【0003】
これは、研磨砥石の表面の中で、より研磨のために使用する面が、より摩耗してしまい、また、研磨砥石の表面は丸くなった方が、研磨はよりたやすくなるためである。また、研磨砥石の端部から、幅狭い被研磨物が落ちないように、被研磨物が、研磨砥石の端部に近くなったときには、もとに戻っていくように、摺動運動するようにすると、研磨砥石の中心部のみが摩耗され、極端に表すと、図3のBに示すような断面図の研磨砥石になる恐れがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
研磨砥石の幅に比べて極端に薄い被研磨物を研磨しなければならない場合に、研磨砥石の表面が不均一に摩耗してしまうことが多く、すると研磨砥石が全部使用しないのに、少し早くに取り替えなければならなくなる。従って、本発明は、研磨砥石の幅に比べて極端に薄い被研磨物を研磨する研磨装置において、摩耗が均一になる作用を有し、最後まで研磨砥石を利用できる、経済的に有利な研磨装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、摩耗が均一になると同時に先端形を容易に研磨することができる研磨装置を次のような構成により提供する。
【0006】
即ち、非常に幅狭の被研磨物を研磨するための回転砥石を有する研磨装置において、X方向及びY方向に独立に摺動可能なX、Y−ステージと、該X、Y−ステージのX方向略中央部において一端がY方向に露出しており、Y方向にのみ摺動する固定ステージとを備え、前記X、Y−ステージは、X方向に往復運動可能なX−ステージ,該X−ステージ上に配置されており、該X−ステージに対してはY方向に摺動可能であり、前記固定ステージに対しては前記X−ステージとともにX方向のみに摺動可能であって、前記回転砥石の軸を受ける構造体が載置されるY−ステージ,前記回転砥石の被研磨物への接触圧を調整するためのスプリング或いは空気圧手段,前記X−ステージを、X方向のみに前記回転砥石の幅以上の近似幅内に往復運動させる駆動手段,を有しており、前記X−ステージの一部をY方向に延長した固定ステージ基台上に、一端側が支持軸によって回転可能に軸支されており、前記X方向に対して傾斜した内側面と外側面を有するとともに、所定の間隔で配置された一対の傾斜カム,該一対の傾斜カムの間に挟まれるように前記固定ステージ上に固定されており、前記傾斜カムが回転したときに、その内側面と接触可能な固定ローラー,前記Y−ステージ上であって前記一対の傾斜カムの外側に設けられており、該傾斜カムの外側面と接触可能な一対の移動ローラーを備えるとともに、前記X−ステージのX方向への往復運動に伴って前記移動ローラーが前記傾斜カムの外側面を押圧し、該傾斜カムが回転して前記固定ローラーを押圧することによって、前記回転砥石の幅の端部から前記被研磨物の先端が外れると同時に前記Y−ステージに固定された回転砥石が前記被研磨物から離れるようにY−ステージをY方向へ移動させ、前記被研磨物が回転砥石上に載る際には、被研磨物先端に接触するように前記回転砥石がY方向に移動し、前記被研磨物が前記回転砥石端部に返送されることを特徴としている。これによって、砥石全幅に渡って摩耗の程度を同一にし、且つ、砥石が摩耗して、砥石の厚さが変わっても、同じように、幅狭の先端部の被研磨物を研磨することができる研磨装置である。
【0007】
主要な形態の一つは、記X、Y−ステージ及び固定ステージが、X方向及びY方向に位置調整可能な位置調整ステージの上に載置されることを特徴としており、幅狭の先端部の被研磨物、研磨材の研磨位置に調節することを容易にする。他の形態は、一対の移動ローラー及び固定ローラーの表面が、弾性材料で被われていることを特徴としており、前記カムに突き当るときに、移動ローラーへの力の配分が、より柔らかにされ、前記の調整がより円滑にされる。更に他の形態は、前記一対の傾斜カムは対称形であって、前記固定ステージ基台に軸支された一端側から他端側へ向けて幅広に形成されており、前記固定ローラーに接触する内側面の傾斜が、前記一対の移動ローラーに接触する外側面の傾斜よりも緩やかであることを特徴とする。これによって、前記傾斜カムによるY−ステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑にできる。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の研磨装置の実施例を図1及び2を参照して詳細に説明する。
本発明装置は、図示のような、非常に幅狭の被研磨物(2)を研磨する回転砥石(3)を備える研磨装置である。例えば、電子記憶装置のためのガラス製のハードデイスク基板の端部面(16、17、18:図1及び4参照)を正確に形成するため、ガラスディスク(2)の先端部を研磨する場合に、本発明の研磨装置を用いると都合がよい。なお、被研磨物(2)は、図1では、端面が3つ(16、17、1 8)に分けられ、各々の面が研磨されるが、図2その他の図では、被研磨物のそ のような3端面が略されている。
【0009】
従来の研磨装置では、図3のAに示すように、非常に幅狭の被研磨物(2)を回転研磨砥石(3)に接触させて、研磨すると、図3のBの断面図に示すように、中央部が凹んでしまい、砥石を全部使用しないで、取り変えなければならなくなる。これに対して、本発明の研磨装置では、図4のA、Bに示すように、被研磨物(2)に対して回転研磨砥石(3)が往復運動をして、図4のBの断面図に示すような断面で、即ち、常に摩耗した研磨砥石の表面が平坦になり、砥石が摩耗していく、即ち、均一に摩耗する研磨方式である。
【0010】
本発明によると、回転砥石(3)は、X−方向及びY−方向に独立に摺動運動できるX、Y−ステージの上に載置されている。そのX、Y−ステージは、回転砥石(3)が、被研磨物(2)への接触圧を調整するためのスプリング(図1の6で示 される)で常に上向きに(図1、2の面上において)引っ張られている。スプリング(6)の代わりに、空気圧手段を使用することもできる。本発明の研磨装置では、X−方向のみに回転砥石(3)の幅(d)以上の近似幅内(2a)に往復摺動運動させる。そのための駆動手段は、モータで駆動され、往復運動で動くレバー、車輪等からなる機構でよい。
【0011】
そして、回転砥石(3)は、被研磨物(2)への接触圧は、図1の(6)で示したスプリング或いは空気圧により、ステージ全体を上に(図1、2の面上で考えて)引っ張っている。その張力が、回転砥石(3)と被研磨物(2)との接触圧力を付与して、研磨していく。本発明の研磨装置(1)は、非常に幅狭の被研磨物(2)を研磨するためであるから、この接触圧力は非常に小さいものでよい。
【0012】
回転砥石(3)の上に、非常に幅狭の被研磨物(2)を、左右に往復運動させ、研磨材(3)の摩耗を平均化させていかなければならない。そのために、先ず、ほぼ研磨材(3)の幅dの間隔で左右に、回転砥石(3)を、往復運動させるモータ手段(図示せず)を備える。回転砥石は、X−方向及びY−方向に独立に摺動運動できるX、Y−ステージに載置されているので、被研磨物に対して自由に位置関係を設定できる。
【0013】
往復運動については、研磨砥石(3)の幅dだけの往復運動では、従来の研磨装置と同じく、研磨砥石の中央部分のみが摩耗してしまう。摩耗を均一にするには、研磨砥石(3)幅すべてを均一に利用して研磨しなければならない。そのためには、研磨砥石の端部まで摺動することが大切である。即ち、回転砥石の幅以上の近似の幅(d+α=2a:図1、5参照)の幅で往復運動させる。
【0014】
即ち、回転砥石(3)は、その回転軸(4)で回転され、その軸を受ける構造体は、図示のように、Y−ステージ(5)上に載置される。そして、Y−ステージ(5)は、X−ステージ(7)のレール(7’)に乗った4つのY方向に摺動するY方向ガイド(12)により、Y方向のみに摺動し、そして、固定ステージ(8)に対しては、X方向に摺動するガイド(13)により、X方向のみに摺動する。
【0015】
Y−ステージ(5)に対して、4つのY方向に摺動するY方向ガイド(12)により、Y方向にのみ摺動するX−ステージ(7)は、更に、X方向に摺動可能に、X方向ガイド(15)により、位置調整ステージ(9)に載置される。即ち、X−ステージ(7)は、−ステージ(5)を乗せるレール(7')と位置調整ステージ()にX方向に摺動可能な構造体(7")を有し、構造体(7")は、その下部は、固定ステージ基台(24)に伸びており、その上に一対の変形カム(22)(23)を載せ、そのための支持軸(25)で結合される。
【0016】
そして、回転砥石(3)が載置されたY−ステージ(5)は、X−ステージ(7)に左右往復運動駆動手段(図示せず)が結合され、左右にX方向に往復運動が付与されると、4つのガイド(12)を介して、X−ステージと共に、左右にX方向に往復運動して、砥石(3)の幅以上(2a=d+α)に渡り、移動する。そのために、被研磨物(2)は、砥石(3)の上をその幅以上に渡り移動し、その結果、砥石(3)は幅全体に渡り均一に摩耗される。
【0017】
2つの傾斜カム(22)(23)の間に位置された固定ローラー(20)は、図示では、前述の固定ステージ(8)に、支持軸で結合されている。更に、固定ステージ(8)は、図1の下部に示すように、下に伸びて(図1、2の面上で考えて)、Y方向のみに摺動するY方向摺動ガイド(14)(図示せず)を介して、位置調整ステージ(9)の上に結合される。そして、その2つの傾斜カム(22)(23)の外側の位置には、2つの移動ローラー(21)を備える。移動ローラー(21)は、Y−ステージ(5)の上に載置され、Y−ステージ(5)の往復運動による移動とともに、X−方向にのみに回転砥石の幅(d)以上の近似幅内で往復摺動運動する。
【0018】
従って、図示の下部に示される機構;ローラー(20)(21)(21)と対のカム(22)(23)から構成される機構により、Y−ステージ(5)の往復運動に伴い、外側の移動ローラー(21)(21)が、各々、カム(22)(23)の外側を押圧し、すると、カム(22)(23)が回転され、遂には、固定ローラー(20)を下方向に押圧する(図5参照)。固定ローラー(20)、固定ステージ(8)、X方向ガイド(13)を介して、Y−ステージ(5)を下方向に押し下げ(図1、2の面上)、すると、回転砥石(3)が下方向に少しズレる。このときは、回転砥石(3)の幅の端部から被研磨物(2)先端が、はずれるときである。即ち、被研磨物(2)先端が、回転砥石(3)からはずれると同時に回転砥石(3)は下にズレ、安全性を確保すると共に、また、逆に被研磨物(2)が回転砥石(3)上に載る際には、逆に、被研磨物(2)の下から回転砥石(3)が昇ってくる(図1、2の面上)ので、容易に砥石(3)の端部に容易に、柔らかく返送載置される。従って、砥石(3)の上を、被研磨物(2)先端が、等速度で進んでいき、その端部でも同様に柔らかく、被研磨物(2)先端が、はずれるので、砥石(3)の摩耗は、平均化され、図4に示すようになり、平坦な摩耗面となる。そのために、砥石(3)が全部摩耗するまで使用できるようになる。
【0019】
位置調整ステージ(9)(10)に対して、上述のように、図示の摺動溝により、X−ステージ(7)は図では方向に摺動でき、Y−ステージ(5)は方向に摺動できるが、回転砥石(3)は、この位置調整ステージ(9)(10)により、図1の平面上のX方向及びY方向に任意に位置合わせでき、例えば、位置合わせネジ(11')を回転して、ステージ(11)をX方向に摺動でき、被研磨物(2)に対して回転砥石を任意の位置に調整する。
【0020】
更に、1対のカム(22、23)は、図5に示されるように、先端になる程幅広い形状であり、対称形にあり、その間に、固定ローラー(20)が挟まれ、更に、それらのカム(22、23)の外側に各々移動ローラー(21)がある。
【0021】
次に、砥石(3)の全幅に渡って摩耗の程度を同一にし、更に、砥石(3)が摩耗して、砥石(3)の厚さが変わっても、同じように、幅狭の先端部の被研磨物(2)を研磨することができる。即ち、図5において、砥石(3)が摩耗して、ローラー(21)(20)(21)が、21”、20”、21”で示す位置になると、カム(2 2)(23)の軸(25)から遠い位置で、ローラー(21)(21)は、カム(22)(23)を押圧する。すると、摩耗がない位置より、長い距離移動しないとローラー(20”)に接触し押圧することができない。従って、(21)(20)(21)の位置 と同じ移動距離で、ローラー(20)に接触し押圧するには、カムの幅を広くしなければならない。従って、図示のように、2つのカムの形状(22)(23)は、先端になるほど幅広くなる。更に、カム(22)(23)の外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カム(22)(23)によりY−ステージ(5)の運動即ち、回転砥石(3)の運動は、より円滑にされる。
【0022】
即ち、所定間隔で軸支された2つの傾斜カム(22、23)の間に、Y−方向のみに移動する固定ローラー(20)を備え、更に、2つの傾斜カム(22、23)の外側に更に、各々移動ローラー(21、21)を備える。すると、例えば、回転砥石(3)が中央点からa(図5参照)だけ右へと移動し、図5に示されるように左のローラー(21)が(21’)の位置に移動すると、ローラー(21)が左のカム( 22)を押圧し、また、逆に反対にaだけ左に移動すると、右のローラー(21) が右のカム(23)を押圧し、ローラー(20)に接触し押圧するので、両方で、2a移動すると、逆転する。即ち、2a=d+αの距離移動する。それにより砥石幅dを少し外れた範囲で、研磨を継続することができる。即ち、ローラー(21)がカム(22)(23)の外側を押圧するようになり、カム(22)は右回転し、またカム(23)は左回転し、中央の固定ローラー(20)を内側縁で押圧すると、固定ローラー(20)を介して、Y−ステージ(5)が図で下方向に移動し、被研磨物( 2)から離れる傾向に入る。即ち、往復運動では、2つの移動ローラー(21)と 2つのカム(22)(23)は、左右の往復の端で、即ち、d+αの距離移動する毎に、中央の固定ローラー(20)を少し押し下げ、砥石(3)を被研磨物(2)から離れさせ、また、反転移動では、反対の移動がある。
【0023】
即ち、(25)の点で軸支されたカム(22)と(23)により挟まれて、固定ローラー(20)はY−方向にのみ移動できるので、図で下方向に移動する。すると、X−ステージ全体は下方向に移動し、結局、回転砥石(3)は、被研磨物(2)から離れる方向に、移動する傾向にある。従って、回転砥石(3)が被研磨物(2)から外れると同時にスプリング(6)の張力に逆らって回転砥石(3)は被研磨物(2)から離れる方向に動く。
【0024】
次に、ステージ(5)は反転移動し、被研磨物(2)は回転砥石(3)の上に載置されるように移動するが、そのときに、ステージ即ち、回転砥石(3)は、上述の運動と逆に動き、図において、上に移動し、被研磨物(2)に接触し、それを載置する。即ち、回転砥石(3)の幅の端部から被研磨物(2)先端がはずれても、容易に砥石(3)端部に返送載置され、そして、研磨材(3)が摩耗して、厚さが変わっても、即ち、Y−方向にステージ全体が移動しても、この関係;即ち、2つの傾斜カム(22、23)の間に、固定ローラー(20)と、カムの外側の移動ローラー( 21)の関係は変わらないので、同様に、往復運動を繰り返すことができる。
【0025】
この場合に、本発明の研磨装置によると、移動ローラー(21)(21)及び固定ローラー(20)は、表面が弾性材料である。その弾性材料はとくにゴムがよい。そのために、ステージ(5)(7)の左右への往復運動において、弾性材表面の移動ローラー(21)(21)が各々、カム(22)(23)の外側面に突き当り、押圧して、そして、更に、弾性材表面の固定ローラー(20)も両カム(22)(23)の内側面により押圧される。
【0026】
このときに、各ローラーの表面が、弾性材であるために、押圧に対して少し遅く移動するが、逆転して、戻るときに、弾性材料表面のために戻る速度が遅くなり、少し遅く、回転砥石(3)が上に移動するので、被研磨物(2)が回転砥石(3)の上の位置に戻ってから、回転砥石(3)が上に上がってくるので、容易に、幅狭の先端部の被研磨物(2)が、回転砥石(3)上に再び載置され、研磨が継続されていく。本発明の研磨装置においては、このような往復運動の繰り返しにより、研磨砥石(3)の上で、被研磨物(2)が左右往復運動が行われて、平均された砥石の摩耗が生じて、研磨が継続される。
【0027】
即ち、弾性材表面の固定ローラー(20)と移動ローラー(21)(21)とカム( 22)(23)の特定に配置された組合せは、X、Y−ステージ(5)(7)のX−方 向の運動、往復運動を、一定の近似幅内に規制し、同時に、被研磨物(2)が回転砥石(3)の上から外れる端部においても、均一に砥石(3)が摩耗し、更に、その厚さ(h)が変わっても、同じ間隔で、即ち、弾性材表面の固定ローラー(20)と移動ローラー(21)(21)とカム(22)(23)の特定の配置関係は変わらないので、一定幅内に同じ往復運動を行うことができるものである。
【0028】
即ち、回転砥石(3)の幅の端部から被研磨物先端(2)がはずれても、容易に砥石(3)の端部に返送載置され、そして、研磨材(3)が摩耗して、厚さ(h)が変わっても、幅狭の先端部の被研磨物(2)を研磨して、往復運動を同様に継続することができる。
【0029】
X、Y−ステージのX−方向の位置は、それに固定された固定ローラー(20)が、カム(22)(23)による突き当りにより、回転砥石(3)のY−方向での摺動運動が、調整され、砥石のX−方向での摺動に伴い、幅狭の先端部の被研磨物を研磨しても、砥石全表面において均一に摩耗される。
【0030】
以上のような構成の本発明の研磨装置では、回転砥石(3)の端部は、摩耗が強くならず、研磨砥石の摩耗が幅方向で均一にされる。
2つのカムの形状は、先端になるほど幅広くなってい、それにより、カムの外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カムによりステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑される。
【0031】
更に、本発明の研磨装置3セットを使用して、例えば、ハードデイスク(2)の円盤端部の3つの端面(16)(17)(18)(図1、4Aを参照)を同時に研磨処理することができる。即ち、3つの端面(16、17、18:図4参照)に対して各々上記のような本発明の研磨装置を取りつけると、1度にハードデイスク端面の仕上げができる。
【0032】
【発明の効果】
本発明の均一摩耗の研磨装置は、図示のような構成により、次のごとき技術的効果があった。
(1)X−方向及びY−方向に独立に摺動運動できるX、Y−ステージにより、X−方向の摺動幅を回転砥石の幅(d)以上の近似幅内(2a)に規制し、且つ、回転砥石の幅の端部から被研磨物先端がはずれても、容易に砥石端部に返送載置され、そして、研磨砥石が摩耗して、厚さが変わっても、同じ間隔で、幅狭の先端部の被研磨物を研磨することができる。
【0033】
(2)回転砥石と被研磨物との位置合わせが容易にできる。
(3)弾性材料で表面が被われたローラーのために戻る速度が遅くなり、容易に、幅狭の先端部の被研磨物が、回転砥石上に再び載置される。
(4)2つのカムの形状は、先端になるほど幅広くなっており、それにより、カムの外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カムによりステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の研磨装置の正面図である。
【図2】本発明の研磨装置の一部断面側面図である。
【図3】従来の幅狭の被研磨物(2)を研磨する研磨装置の様子を示す模式的説明図である。Aは研磨の様子を、Bは研磨で摩耗した研磨材の断面を示す。
【図4】本発明の研磨装置で、幅狭の被研磨物(2)を研磨する研磨操作を模式的に説明する。Aは、本発明による研磨の様子を、Bは研磨で摩耗した研磨材の断面を示す。
【図5】本発明の研磨装置での、固定ローラー(20)と移動ローラー(21)とそれを挟むカム(22、23)の作用を説明する図である。
【符号の説明】
1 研磨装置
2 幅狭の被研磨物
3 回転砥石
4 回転砥石の回転軸
5 Y−ステージ
6 スプリング
7 X−ステージ
8 固定ステージ
9、10、11 位置調整ステージ
12 Y方向摺動ガイド
13 X方向摺動ガイド
14 Y方向摺動ガイド
15 X方向摺動ガイド
16、17、18 ハードデイスクの形成すべき3つの端面
20 固定ローラー(Y方向にのみ移動)
21 移動ローラー(X方向にのみ移動)
22、23 変形カム
24 固定ステージ基台(7”によりX−ステージに結合)
25 カム回転軸
33 従来の研磨装置で摩耗された面
41 砥石の研磨面
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a polishing apparatus that can obtain the average wear of a polishing wheel even when the width of an object to be polished is very small or thin with respect to the polishing wheel and can always maintain a flat polishing surface. Specifically, the present invention is a polishing apparatus that polishes an object to be polished having a narrow tip such as a hard disk or a tip electronic component, and polishes such that the wear on the surface of the grinding wheel is averaged and made uniform. Relates to the device.
[0002]
[Prior art]
When it is necessary to polish the narrow end of an electronic component such as a hard disk, the surface of the grinding wheel is polished at the narrow end, so that it is slid in the width direction of the grinding wheel. The wear on the surface of the grindstone is averaged. However, in this case, the wear on the surface of the grinding wheel is not averaged well, and only the central part of the grinding wheel is worn, or more is worn near the end of the grinding wheel.
[0003]
This is because the surface used for polishing is more worn out of the surface of the polishing wheel, and the polishing becomes easier when the surface of the polishing wheel is rounded. In addition, when the object to be polished comes close to the end of the polishing grindstone so that it does not fall from the end of the polishing grindstone, it moves so as to return to the original position. In this case, only the center portion of the grinding wheel is worn, and in an extreme case, there is a risk that the grinding wheel having a sectional view as shown in FIG.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
When it is necessary to polish an object that is extremely thin compared to the width of the grinding wheel, the surface of the grinding wheel often wears unevenly. Will have to be replaced. Therefore, the present invention is an economically advantageous polishing that has an effect of uniform wear and a polishing wheel that can be used to the end in a polishing apparatus that polishes an object that is extremely thin compared to the width of the polishing wheel. An object is to provide an apparatus.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present invention provides a polishing apparatus that can polish the tip shape easily while at the same time providing uniform wear.
[0006]
That is, in a polishing apparatus having a rotating grindstone for polishing a very narrow workpiece , an X, Y-stage that can slide independently in the X direction and the Y direction, and the X of the X, Y-stage And a fixed stage that slides only in the Y direction. The X, Y-stage includes an X-stage that can reciprocate in the X direction. It is arranged on a stage, can slide in the Y direction with respect to the X-stage, and can slide only in the X direction with the X-stage with respect to the fixed stage, and the rotation spring or pneumatic means for adjusting Y- stage structure for receiving the shaft of the grinding wheel is mounted, the contact pressure to the workpiece of the grindstone, the grindstone the X- stage, only the X direction round trip more than the width of the approximation within the width Drive means for moving, have, the part of the X- stage on fixed stage base that extends in the Y-direction, one end being rotatably supported by the support shaft with respect to the X-direction A pair of inclined cams arranged at a predetermined interval, and fixed on the fixed stage so as to be sandwiched between the pair of inclined cams, A fixed roller that can come into contact with its inner surface when rotated, a pair of moving rollers that are provided on the Y-stage and outside the pair of inclined cams, and that can come into contact with the outer surfaces of the inclined cams the provided Rutotomoni by the movable roller I accompanied the reciprocating motion in the X direction of the X- stage presses the outer surface of the inclined cam, for pressing the fixing roller the inclined cam rotates ,in front The Y-stage is moved in the Y direction so that the rotating grindstone fixed to the Y-stage moves away from the object to be polished at the same time that the tip of the object to be removed is removed from the end of the width of the rotating grindstone. When the polishing object is placed on the rotating grindstone, the rotating grindstone moves in the Y direction so as to contact the tip of the object to be polished, and the object to be polished is returned to the end of the rotating grindstone . . As a result, even if the degree of wear is the same over the entire width of the grindstone, and the grindstone wears and the thickness of the grindstone changes, the object to be polished at the narrow tip can be similarly polished. It is a polishing device that can.
[0007]
One of the major form is pre Symbol X, Y- stage and the fixed stage, which features a Rukoto placed on the position-adjustable positioning stage in X and Y directions, the narrow tip It is easy to adjust the part of the object to be polished to the polishing position of the abrasive. Other forms, the surface of the pair of movable roller and the fixed roller, that is covered with resilient material is characterized by, when abuts on the cam, the distribution of force on the moving roller, is in softer , The adjustment is made smoother . In yet another embodiment, the pair of inclined cams are symmetrical, and are formed wide from one end side to the other end side that are pivotally supported by the fixed stage base, and contact the fixed roller. The inclination of the inner surface is gentler than the inclination of the outer surface contacting the pair of moving rollers. Thereby, the movement of the Y- stage by the inclined cam, that is, the movement of the rotating grindstone can be made smoother.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of the polishing apparatus of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
The apparatus of the present invention is a polishing apparatus provided with a rotating grindstone (3) for polishing a very narrow workpiece (2) as shown in the figure. For example, in order to accurately form the end surface (16, 17, 18; see FIGS. 1 and 4) of a glass hard disk substrate for an electronic storage device, the tip of the glass disk (2) is polished. It is convenient to use the polishing apparatus of the present invention. In FIG. 1, the object to be polished (2) is divided into three end faces (16, 17, 18) in FIG. 1, and each surface is polished. In FIG. Such three end faces are abbreviated.
[0009]
In the conventional polishing apparatus, as shown in FIG. 3A, when a very narrow object to be polished (2) is brought into contact with the rotating polishing grindstone (3) and polished, it is shown in a sectional view of FIG. 3B. In this way, the central portion is recessed and must be changed without using the entire grindstone. On the other hand, in the polishing apparatus of the present invention, as shown in FIGS. 4A and 4B, the rotary polishing grindstone (3) reciprocates with respect to the object to be polished (2). This is a polishing system in which the surface of a grinding wheel that is always worn becomes flat and the grinding wheel wears, that is, wears uniformly, as shown in a cross-sectional view.
[0010]
According to the present invention, the rotating grindstone (3) is placed on an X, Y-stage that can slide independently in the X-direction and the Y-direction. The X, Y-stage is a spring (indicated by 6 in FIG. 1) for adjusting the contact pressure to the object to be polished (2) by the rotating grindstone (3) always upward (FIGS. 1, 2). On the surface). Instead of the spring (6), pneumatic means can also be used. In the polishing apparatus of the present invention, the reciprocating sliding motion is performed within the approximate width (2a) equal to or greater than the width (d) of the rotating grindstone (3) only in the X-direction. The drive means for that purpose may be a mechanism comprising a lever, wheels, etc., driven by a motor and moved by reciprocating motion.
[0011]
In the rotating grindstone (3), the contact pressure to the object to be polished (2) is considered to be the whole stage up by the spring or air pressure shown in (6) of FIG. And pulling. The tension imparts a contact pressure between the rotating grindstone (3) and the workpiece (2) to polish. Since the polishing apparatus (1) of the present invention is for polishing a very narrow workpiece (2), this contact pressure may be very small.
[0012]
It is necessary to average the wear of the abrasive (3) by reciprocating the very narrow object (2) on the rotating grindstone (3) left and right. For this purpose, first, motor means (not shown) for reciprocating the rotating grindstone (3) are provided to the left and right at intervals of the width d of the abrasive (3). Since the rotating grindstone is mounted on the X and Y-stages that can be slid independently in the X-direction and the Y-direction, the positional relationship can be freely set with respect to the object to be polished.
[0013]
As for the reciprocating motion, the reciprocating motion of only the width d of the polishing grindstone (3) wears only the central portion of the polishing grindstone as in the conventional polishing apparatus. In order to make the wear uniform, it is necessary to polish using the entire width of the polishing wheel (3) uniformly. For that purpose, it is important to slide to the end of the grinding wheel. That is, the reciprocating motion is performed with an approximate width (d + α = 2a: see FIGS. 1 and 5) equal to or larger than the width of the rotating grindstone.
[0014]
That is, the rotating grindstone (3) is rotated by its rotating shaft (4), and the structure receiving the shaft is placed on the Y-stage (5) as shown in the figure. The Y-stage (5) is slid only in the Y direction by four Y-direction guides (12) sliding in the Y direction on the rail (7 ') of the X-stage (7), and The fixed stage (8) slides only in the X direction by the guide (13) sliding in the X direction.
[0015]
With respect to the Y-stage (5), the X-stage (7) sliding only in the Y direction can be further slid in the X direction by the four Y-direction guides (12) sliding in the Y direction. The X-direction guide (15) is placed on the position adjustment stage (9). That is, the X-stage (7) has a structure (7 ") slidable in the X direction on the rail (7 ') on which the Y -stage (5) is placed and the position adjustment stage ( 9 ). The lower portion of (7 ") extends to the fixed stage base (24), and a pair of deformation cams (22) and (23) are mounted thereon, and are coupled by a support shaft (25) therefor.
[0016]
The Y-stage (5) on which the rotating grindstone (3) is placed is coupled to the X-stage (7) with a left-right reciprocating motion driving means (not shown), and is given a reciprocating motion in the X direction to the left and right. Then, it reciprocates left and right in the X direction with the X-stage via the four guides (12) and moves over the width of the grindstone (3) (2a = d + α). Therefore, the object to be polished (2) moves over the width of the grindstone (3) over the width, and as a result, the grindstone (3) is evenly worn over the entire width.
[0017]
In the drawing, the fixed roller (20) positioned between the two inclined cams (22) and (23) is coupled to the above-described fixed stage (8) by a support shaft. Further, as shown in the lower part of FIG. 1, the fixed stage (8) extends downward (considering on the plane of FIGS. 1 and 2) and slides in the Y direction only (14). It is coupled on the position adjustment stage (9) via (not shown). Then, two moving rollers (21) are provided at positions outside the two inclined cams (22) and (23). The moving roller (21) is placed on the Y-stage (5), and is moved by reciprocating movement of the Y-stage (5), and an approximate width equal to or larger than the width (d) of the rotating grindstone only in the X-direction. Reciprocating sliding motion within.
[0018]
Accordingly, the mechanism shown in the lower part of the figure; the mechanism composed of the rollers (20), (21), (21) and the pair of cams (22), (23), the outer side of the Y-stage (5) is reciprocated. The moving rollers (21) and (21) respectively press the outer sides of the cams (22) and (23), and the cams (22) and (23) are rotated. Finally, the fixed rollers (20) are moved downward. (See FIG. 5). When the Y-stage (5) is pushed downward (on the surface of FIGS. 1 and 2) through the fixed roller (20), the fixed stage (8), and the X direction guide (13), the rotating grindstone (3) Is slightly shifted downward. At this time, the tip of the object to be polished (2) is detached from the end of the width of the rotating grindstone (3). That is, the tip of the object to be polished (2) is detached from the rotating grindstone (3), and at the same time, the rotating grindstone (3) is shifted downward to ensure safety. (3) On the contrary, since the rotating grindstone (3) rises from the bottom of the workpiece (2) (on the surface of FIGS. 1 and 2), the end of the grindstone (3) can be easily Easily returned and mounted on the part. Accordingly, the tip of the object to be polished (2) advances on the grindstone (3) at the same speed, and the tip of the object to be polished (2) is also softened at the end, so that the tip of the object to be polished (2) comes off. The wear is averaged, as shown in FIG. 4, resulting in a flat wear surface. Therefore, it can be used until the grindstone (3) is completely worn out.
[0019]
As described above, the X-stage (7) can be slid in the X direction in the drawing and the Y-stage (5) is in the Y direction, as described above, with respect to the position adjustment stages (9) and (10). The rotary grindstone (3) can be arbitrarily positioned in the X and Y directions on the plane of FIG. 1 by this position adjusting stage (9) (10). By rotating '), the stage (11) can be slid in the X direction, and the rotating grindstone is adjusted to an arbitrary position with respect to the workpiece (2).
[0020]
Further, as shown in FIG. 5, the pair of cams (22, 23) has a shape that becomes wider toward the tip and is symmetrical, and a fixed roller (20) is sandwiched between them. Each of the moving rollers (21) is outside the cams (22, 23).
[0021]
Next, even if the degree of wear is the same over the entire width of the grindstone (3), and the whetstone (3) is worn and the thickness of the grindstone (3) changes, the tip of the narrow width is the same. Part of the object to be polished (2) can be polished. That is, in FIG. 5, when the grindstone (3) is worn and the rollers (21), (20), (21) are in positions indicated by 21 ″, 20 ″, 21 ″, the cams (22), (23) At positions far from the shaft (25), the rollers (21) and (21) press the cams (22) and (23). It cannot be pressed. Therefore, in order to contact and press the roller (20) at the same movement distance as the positions (21), (20) and (21), the width of the cam must be widened. Therefore, as shown in the drawing, the shapes (22) and (23) of the two cams become wider as the tip ends. Further, the outer surfaces of the cams (22) and (23) are greatly inclined and the inner surfaces thereof are gently inclined. The cams (22) and (23) move the Y-stage (5), that is, the rotating grindstone (3). The movement is made smoother.
[0022]
In other words, a fixed roller (20) that moves only in the Y-direction is provided between two inclined cams (22, 23) that are pivotally supported at a predetermined interval, and further outside the two inclined cams (22, 23). Furthermore, each is provided with a moving roller (21, 21). Then, for example, when the rotating grindstone (3) moves to the right by a (see FIG. 5) from the center point, and the left roller (21) moves to the position (21 ′) as shown in FIG. When the roller (21) presses the left cam (22), and conversely moves to the left by a, the right roller (21) presses the right cam (23) and presses the roller (20). Since it touches and presses, if it moves 2a in both, it will reverse. That is, the distance moves by 2a = d + α. Thus, the polishing can be continued within a range slightly deviated from the grindstone width d. That is, the roller (21) presses the outside of the cams (22) and (23), the cam (22) rotates to the right, and the cam (23) rotates to the left, and the central fixed roller (20) is moved. When pressed at the inner edge, the Y-stage (5) moves downward in the figure via the fixed roller (20) and tends to move away from the workpiece (2). That is, in the reciprocating motion, the two moving rollers (21) and the two cams (22) and (23) move the center fixed roller (20) at the left and right reciprocating ends, that is, every time the distance moves by d + α. Pushing down a little causes the grindstone (3) to move away from the object to be polished (2).
[0023]
That is, the fixed roller (20) can be moved only in the Y-direction by being sandwiched between the cams (22) and (23) pivotally supported at the point (25), and therefore moves downward in the figure. Then, the entire X-stage moves downward, and eventually the rotating grindstone (3) tends to move away from the object to be polished (2). Accordingly, the rotating grindstone (3) moves away from the object to be polished (2) at the same time as the rotating grindstone (3) moves away from the object to be polished (2) against the tension of the spring (6).
[0024]
Next, the stage (5) is reversed and the workpiece (2) is moved so as to be placed on the rotating grindstone (3). At that time, the stage, that is, the rotating grindstone (3) is moved. It moves in the opposite direction to the above movement, moves up in the figure, contacts the object to be polished (2), and places it. That is, even if the tip of the object to be polished (2) is detached from the end of the width of the rotating grindstone (3), it is easily returned to the end of the grindstone (3) and the abrasive (3) is worn away. , Even if the thickness changes, i.e. the whole stage moves in the Y-direction; this relationship; i.e. between the two inclined cams (22, 23), the fixed roller (20) and the outside of the cam Since the relationship of the moving roller 21 is not changed, the reciprocating motion can be repeated in the same manner.
[0025]
In this case, according to the polishing apparatus of the present invention, the surfaces of the moving rollers (21) and (21) and the fixed roller (20) are made of an elastic material. The elastic material is particularly rubber. For this purpose, in the reciprocating movement of the stages (5) and (7) to the left and right, the moving rollers (21) and (21) on the surface of the elastic material respectively hit the outer surfaces of the cams (22) and (23) and press them. Furthermore, the fixed roller (20) on the surface of the elastic material is also pressed by the inner surfaces of both cams (22) and (23).
[0026]
At this time, because the surface of each roller is an elastic material, the roller moves a little slower than the pressure, but when reversing and returning, the returning speed for the elastic material surface is slow, a little slow, Since the rotating grindstone (3) moves upward, the rotating grindstone (3) rises upward after the workpiece (2) returns to the position above the rotating grindstone (3). The object to be polished (2) at the narrow tip is placed again on the rotating grindstone (3), and polishing is continued. In the polishing apparatus of the present invention, by repeating such reciprocating motion, the object to be polished (2) is reciprocated left and right on the polishing grindstone (3), and the average grindstone wear occurs. Polishing is continued.
[0027]
That is, the specific arrangement of the fixed roller (20), the moving rollers (21), (21) and the cams (22), (23) on the surface of the elastic material is X, X of the Y-stages (5), (7). -The movement in the direction and reciprocation are restricted within a certain approximate width, and at the same time, the grindstone (3) is evenly worn even at the end where the workpiece (2) comes off the rotating grindstone (3). Furthermore, even if the thickness (h) is changed, the specific intervals of the fixed roller (20), the moving rollers (21), (21), and the cams (22), (23) on the elastic material surface are the same. Since the positional relationship does not change, the same reciprocating motion can be performed within a certain width.
[0028]
That is, even if the tip of the object to be polished (2) is detached from the end of the width of the rotating grindstone (3), it is easily returned and placed on the end of the grindstone (3), and the abrasive (3) is worn away. Thus, even if the thickness (h) changes, the object (2) having a narrow tip can be polished and the reciprocating motion can be continued in the same manner.
[0029]
The position of the X, Y-stage in the X-direction is such that the fixed roller (20) fixed to the X- and Y-stages slides in the Y-direction of the rotating grindstone (3) by the abutment by the cams (22) and (23). As the grindstone slides in the X-direction, the entire surface of the grindstone is evenly worn even if the object to be polished at the narrow end is polished.
[0030]
In the polishing apparatus of the present invention configured as described above, the end portion of the rotating grindstone (3) is not worn strongly, and the wear of the grindstone is made uniform in the width direction.
The shape of the two cams becomes wider toward the tip, so that the inclination of the outer surface of the cam is severe and the inclination of the inner surface thereof is moderated, and the cam makes the movement of the stage, that is, the movement of the rotating grindstone more Smoothed.
[0031]
Further, using the three sets of the polishing apparatus of the present invention, for example, three end faces (16), (17), (18) (see FIGS. 1, 4A) of the disk end of the hard disk (2) are simultaneously polished. be able to. That is, when the polishing apparatus of the present invention is attached to each of the three end faces (16, 17, 18: see FIG. 4), the hard disk end face can be finished at a time.
[0032]
【The invention's effect】
The polishing apparatus for uniform wear of the present invention has the following technical effects by the configuration as shown in the figure.
(1) The X- and Y-stages that can be slid independently in the X-direction and the Y-direction regulate the sliding width in the X-direction within an approximate width (2a) that is greater than or equal to the width (d) of the rotating wheel. And even if the tip of the workpiece is detached from the end of the width of the rotating grindstone, it is easily returned and placed on the end of the grindstone. The object to be polished at the narrow end can be polished.
[0033]
(2) Positioning of the rotating grindstone and the workpiece can be easily performed.
(3) The speed at which the roller whose surface is covered with the elastic material is returned is slow, and the object to be polished at the narrow end is easily placed on the rotating grindstone.
(4) The shapes of the two cams become wider toward the tip, so that the inclination of the outer surface of the cam is severe and the inclination of the inner surface thereof is moderated. Exercise is smoother.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view of a polishing apparatus of the present invention.
FIG. 2 is a partial cross-sectional side view of the polishing apparatus of the present invention.
FIG. 3 is a schematic explanatory view showing a state of a conventional polishing apparatus for polishing an object (2) having a narrow width. A shows a state of polishing, and B shows a cross section of the abrasive material worn by polishing.
FIG. 4 schematically illustrates a polishing operation for polishing a narrow object (2) with the polishing apparatus of the present invention. A shows a state of polishing according to the present invention, and B shows a cross section of an abrasive material worn by polishing.
FIG. 5 is a view for explaining the operation of a fixed roller (20), a moving roller (21), and cams (22, 23) sandwiching the fixed roller (20) in the polishing apparatus of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polishing apparatus 2 Narrow to-be-polished object 3 Rotary grindstone 4 Rotary grindstone rotating shaft 5 Y-stage 6 Spring 7 X-stage 8 Fixed stage 9, 10, 11 Position adjustment stage 12 Y-direction sliding guide 13 X-direction sliding Moving guide 14 Y-direction sliding guide 15 X-direction sliding guides 16, 17, 18 Three end surfaces 20 to be formed with a hard disk 20 Fixed roller (moves only in the Y direction)
21 Moving roller (moving only in the X direction)
22, 23 Deformation cam 24 Fixed stage base (coupled to X-stage by 7 ")
25 Cam rotating shaft 33 Surface 41 worn by a conventional polishing apparatus Polishing surface of a grindstone

Claims (4)

非常に幅狭の被研摩物を研磨するための回転砥石を有する研磨装置において、
X方向及びY方向に独立に摺動可能なX、Y−ステージと、該X、Y−ステージのX方向略中央部において一端がY方向に露出しており、Y方向にのみ摺動する固定ステージとを備え、
前記X、Y−ステージは、
X方向に往復運動可能なX−ステージ,
該X−ステージ上に配置されており、該X−ステージに対してはY方向に摺動可能であり、前記固定ステージに対しては前記X−ステージとともにX方向のみに摺動可能であって、前記回転砥石の軸を受ける構造体が載置されるY−ステージ,
前記回転砥石の被研磨物への接触圧を調整するためのスプリング或いは空気圧手段
前記X−ステージを、X方向のみに前記回転砥石の幅以上の近似幅内に往復運動させる駆動手段
を有しており、
前記X−ステージの一部をY方向に延長した固定ステージ基台上に、一端側が支持軸によって回転可能に軸支されており、前記X方向に対して傾斜した内側面と外側面を有するとともに、所定の間隔で配置された一対の傾斜カム,
該一対の傾斜カムの間に挟まれるように前記固定ステージ上に固定されており、前記傾斜カムが回転したときに、その内側面と接触可能な固定ローラー
前記Y−ステージ上であって前記一対の傾斜カムの外側に設けられており、該傾斜カムの外側面と接触可能な一対の移動ローラー
を備えるとともに、
前記X−ステージのX方向への往復運動に伴って前記移動ローラーが前記傾斜カムの外側面を押圧し、該傾斜カムが回転して前記固定ローラーを押圧することによって、前記回転砥石の幅の端部から前記被研磨物の先端が外れると同時に前記Y−ステージに固定された回転砥石が前記被研磨物から離れるようにY−ステージをY方向へ移動させ、
前記被研磨物が回転砥石上に載る際には、被研磨物先端に接触するように前記回転砥石がY方向に移動し、前記被研磨物が前記回転砥石端部に返送されることを特徴とする研磨装置。
In a polishing apparatus having a rotating grindstone for polishing a very narrow workpiece,
X and Y-stages that can slide independently in the X and Y directions, and one end that is exposed in the Y direction at a substantially central portion in the X direction of the X and Y stages, and that can slide only in the Y direction With a stage,
The X, Y-stage is
An X-stage capable of reciprocating in the X direction,
Arranged on the X-stage, slidable in the Y direction with respect to the X-stage, and slidable only in the X direction with the X-stage with respect to the fixed stage; A Y-stage on which a structure for receiving the shaft of the rotating grindstone is placed;
Spring or pneumatic means for adjusting the contact pressure to the workpiece of the grinding wheel,
Wherein X- stage, drive means for forward Fukuun moving only in the grindstone width or more approximate the width of the X-direction,
Have
One end side is rotatably supported by a support shaft on a fixed stage base obtained by extending a part of the X-stage in the Y direction, and has an inner surface and an outer surface inclined with respect to the X direction. A pair of inclined cams arranged at predetermined intervals;
A fixed roller that is fixed on the fixed stage so as to be sandwiched between the pair of inclined cams, and that can come into contact with an inner surface thereof when the inclined cam rotates ;
A pair of moving rollers on the Y-stage and provided on the outside of the pair of inclined cams and capable of contacting the outer surface of the inclined cams ;
The equipped Rutotomoni,
Pressing the outer surface of the movable roller I accompanied the reciprocating motion in the X direction of the X- stage the inclined cam, by pressing the fixing roller the inclined cam rotates, the width of the grinding wheel The Y-stage is moved in the Y direction so that the rotating grindstone fixed to the Y-stage is separated from the object to be polished at the same time that the tip of the object is removed from the end of
When the object to be polished is placed on the rotating grindstone, the rotating grindstone moves in the Y direction so as to contact the tip of the object to be polished, and the object to be polished is returned to the end of the rotating grindstone. Polishing equipment.
記X、Y−ステージ及び固定ステージが、X方向及びY方向に位置調整可能な位置調整ステージの上に載置されていることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。Before Symbol X, Y- stage and the fixed stage, claim 1 Symbol placement of the polishing apparatus is characterized in that is placed on the position-adjustable positioning stage in X and Y directions. 前記一対の移動ローラー及び固定ローラーの表面が、弾性材料で被われていることを特徴とする請求項1又は2記載の研磨装置。The surface of the pair of movable roller and the fixed roller, a polishing apparatus according to claim 1 or 2 characterized in that it is covered with an elastic material. 前記一対の傾斜カムは対称形であって、前記固定ステージ基台に軸支された一端側から他端側へ向けて幅広に形成されており、
前記固定ローラーに接触する内側面の傾斜が、前記一対の移動ローラーに接触する外側面の傾斜よりも緩やかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の研磨装置。
The pair of inclined cams are symmetrical, and are formed to be wide from one end side to the other end side that are pivotally supported by the fixed stage base.
The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein an inclination of an inner surface that contacts the fixed roller is gentler than an inclination of an outer surface that contacts the pair of moving rollers .
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