JP4181233B2 - Method for producing pyrrolidine-2,4-dione derivative - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、抗菌化合物の合成原料として有用な化合物およびその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
式(III)
【0003】
【化29】
【0004】
[式中、R22はアミノ基の保護基を意味し、R4 およびR5 は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4 およびR5 が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0005】
【化30】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物(以下、化合物(III)として表し、他の番号の式で表される化合物も同様とする。)は抗菌性化合物の製造中間体として有用である(特開平5―1073号公報および特開平5―221947号公報参照)。
【0006】
その製法としては、アセト酢酸エチルエステルを原料とする方法(特開平3―95176号公報)があるが低収率であり、工業的製法としては不向きであった。また、ジケテンを原料とする方法(特開平5―221947号公報)があるが多くの工程を要する等の問題点があり、その工業的製造には未だ改良の余地があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、これら従来の技術の問題点を解決し、簡便に化合物(III)を得る製法を見い出すべく鋭意研究を行った。その結果、化合物(II)
【0008】
【化31】
[式中、R1 は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R22はアミノ基の保護基を意味し、R4 およびR5 は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4 およびR5 が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0009】
【化32】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
を製造中間体として用いることにより、化合物(III)が簡便に得られることを見い出し、本発明を完成させた。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、式(I)
【0011】
【化33】
[式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R2およびR3は各々独立して水素原子であるかまたは次の群:
ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、およびベンゾイル基
の基から選ばれる基を意味し(ただし、R 2 およびR 3 が同時に水素原子である場合を除く。)、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0012】
【化34】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物および式(III−1)
【0013】
【化35】
[式中、R21はホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、またはパラニトロベンジルオキシカルボニル基を意味し、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0014】
【化36】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物に関する。
【0015】
また、式(IV)
【0016】
【化37】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味する。)で表される化合物と式(V)
【0017】
【化38】
X1 ―(CH2 )n ―X2 (V)
(式中、nは2から5の整数を意味し、X1 およびX2 は各々独立して求核置換反応において脱離する原子または基を意味する。)
で表される化合物を塩基の存在下に処理することを特徴とする式(I−1)
【0018】
【化39】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、nは2から5の整数を意味する。)で表される化合物の製造法に関する。
【0019】
さらに、式(IV)
【0020】
【化40】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味する。)で表される化合物と式(VI)
【0021】
【化41】
R41―X3 (VI)
(式中、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味し、X3 は求核置換反応において脱離する原子または基を意味する。)
で表される化合物を塩基の存在下に処理することを特徴とする式(I−2)および/または式(I−3)
【0022】
【化42】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味する。)で表される化合物の製造法に関する。
【0023】
そして、式(IV)
【0024】
【化43】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味する。)で表される化合物と式(VI)
【0025】
【化44】
R41―X3 (VI)
(式中、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味し、X3 は求核置換反応において脱離する原子または基を意味する。)
で表される化合物を塩基の存在下に処理することを特徴とする式(I−3)
【0026】
【化45】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味する。)で表される化合物の製造法に関する。
【0027】
また、式(IV)
【0028】
【化46】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味する。)で表される化合物と式(VI)
【0029】
【化47】
R41―X3 (VI)
(式中、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味し、X3 は求核置換反応において脱離する原子または基を意味する。)
で表される化合物を塩基の存在下に処理することを特徴とする式(I−2)
【0030】
【化48】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味する。)で表される化合物の製造法に関する。
【0031】
さらに、式(IV)
【0032】
【化49】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味する。)で表される化合物と式(IV)の化合物に対して1当量の式(VI)
【0033】
【化50】
R41―X3 (VI)
(式中、R41は炭素数1から6の整数を意味し、X3 は求核置換反応において脱離する原子または基を意味する。)
で表される化合物を塩基の存在下に処理し、続いて式(VII)
【0034】
【化51】
R51―X4 (VII)
(式中、R51は炭素数1から6のアルキル基を意味し、X4 は求核置換反応において脱離する原子または基を意味する。)
で表される化合物を塩基の存在下に処理することを特徴とする式(I−4)
【0035】
【化52】
(式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R21はt - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R31は水素原子、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R41は炭素数1から6のアルキル基を意味し、R51は炭素数1から6のアルキル基を意味する。)で表される化合物の製造法に関する。
【0036】
あるいは、式(II)
【0037】
【化53】
[式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R22はベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0038】
【化54】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物を、塩基またはアルキルアルミニウム試薬の存在下処理することを特徴とする式(III)
【0039】
【化55】
[式中、R22はベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0040】
【化56】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物の製造法に関する。
【0041】
さらに、式(II)
【0042】
【化57】
[式中、R1は水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味し、R22はベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0043】
【化58】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物を、加熱下処理することを特徴とする式(III)
【0044】
【化59】
[式中、R22はベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基を意味し、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
【0045】
【化60】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)]
で表される化合物の製造法に関する。
【0046】
本発明で用いる置換基等を以下に説明する。
【0047】
アミノ基の保護基としては、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アラルキル基等を挙げることができる。
【0048】
アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t―ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等の脂肪族若しくは芳香族アシル基を挙げることができる。
【0049】
アルコキシカルボニル基としては、例えば、t―ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基を挙げることができる。
【0050】
アラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基等を挙げることができ、該フェニル基部分には、メチル基、エチル基等の低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子等が置換していてもよく、例えば、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基を挙げることができる。
【0051】
アラルキル基としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基等を挙げることができ、該フェニル基部分には、メチル基、エチル基等の低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子等が置換していてもよく、例えば、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基を挙げることができる。
【0052】
求核置換反応において脱離する原子または基としては、例えば、塩素、臭素もしくはヨウ素等のハロゲン原子、p−トルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等のスルホニルオキシ基、またはジメチルスルホニウム等のジアルキルスルホニウム基を挙げることができる。なお、ジアルキルスルホニウム基の場合は、カウンターアニオンとしてハロゲンの陰イオンを伴うことがある。
【0053】
本願明細書中の化合物の置換基について以下に詳しく説明する。
【0054】
まず、本発明化合物(I)の置換基R1 としては炭素数1から6のアルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が好ましい。置換基R2 およびR3 のアミノ基の保護基としては、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基およびアシル基が好ましく、特にホルミル基、アセチル基、ベンジル基、t−ブトキシカルボニル基およびベンジルオキシカルボニル基が好ましい。置換基R4 およびR5 としては、R4 およびR5 が一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造
【0055】
【化61】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)を形成したものが好ましく、特にnが2または3であるもの、さらにはnが2であるものが好ましい。
【0056】
本発明化合物(III−1)の置換基R21としては、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t―ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、t―ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基およびパラニトロベンジルオキシカルボニル基が好ましく、特にホルミル基、アセチル基、t−ブトキシカルボニル基およびベンジルオキシカルボニル基が好ましい。置換基R4 およびR5 としては、R4 およびR5 が一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造
【0057】
【化62】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)を形成したものが好ましく、特にnが2または3であるもの、さらにはnが2であるものが好ましい。
【0058】
化合物(IV)の置換基R1 としては炭素数1から6のアルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が好ましい。置換基R21としては、アルコキシカルボニル基およびアラルキルオキシカルボニル基が好ましく、特にt−ブトキシカルボニル基およびベンジルオキシカルボニル基が好ましい。置換基R31としては、水素原子およびアラルキル基が好ましく、特に水素原子およびベンジル基が好ましい。
【0059】
化合物(V)のnとしては2または3、特に2が好ましく、求核置換反応において脱離する原子または基を意味するX1 およびX2 としては、ハロゲン原子が好ましく、特に臭素原子が好ましい。
【0060】
化合物(VI)のR41としては、メチル基またはエチル基が好ましく、求核置換反応において脱離する原子または基を意味するX3 としては、ハロゲン原子が好ましく、特に臭素原子が好ましい。
【0061】
化合物(VII)のR51としては、メチル基またはエチル基が好ましく、求核置換反応において脱離する原子または基を意味するX4 としては、ハロゲン原子が好ましく、特に臭素原子が好ましい。
【0062】
化合物(II)の置換基R1 としては炭素数1から6のアルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が好ましい。置換基R22としては、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基およびアシル基が好ましく、特にホルミル基、アセチル基、ベンジル基、t−ブトキシカルボニル基およびベンジルオキシカルボニル基が好ましい。置換基R4 およびR5 としては、R4 およびR5 がポリメチレン鎖を形成し、次の構造
【0063】
【化63】
(式中、nは2から5の整数を意味する。)を形成したものが好ましく、特にnが2または3であるもの、さらにはnが2であるものが好ましい。
【0064】
次に本発明の製造方法を各工程ごとに説明する。
【0065】
まず、化合物(IV)と化合物(V)を反応させ、化合物(I−1)を製造する工程について説明する。
【0066】
化合物(I−1)は、化合物(IV)および化合物(V)を溶媒中、塩基存在下で処理することによって得ることができる。
【0067】
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限はないが、用いる塩基に応じて、好ましいものを選択すればよく、アルコール系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、その他、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、酢酸エステル、水等を用いることができる。また、これらを混合溶媒として使用することもできる。
【0068】
これらの溶媒のうち、ジメチルホルムアミド等のアミド系およびアセトンが好ましい。
【0069】
反応温度は塩基の種類や使用する溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸点の範囲で行えばよく、好ましくは室温から溶媒の沸点の範囲である。
【0070】
塩基としては、有機または無機のいずれであってもよく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウム、カルシウム等の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩およびアルコキサイド等、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム等の金属水素化物、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のアルキルリチウム試薬、トリエチルアミン、N,N―ジイソプロピルエチルアミン等の三級アミン類、その他、1,8―ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデセ―7―エン(DBU)、1,8―ジアザビシクロ[4.3.0] ノン―5―エン(DBN)、ジメチルアニリン、N−メチルモルフォリン等の複素環化合物を用いることができる。
【0071】
また、反応を促進させるためにテトラブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド等の四級アンモニウム塩やヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属のヨウ化物およびクラウンエーテル等の存在下で行うこともある。
【0072】
これらの塩基のうち、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の金属炭酸塩や水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物が好ましい。
【0073】
塩基の使用量は通常、化合物(IV)に対して1から30当量の範囲でよいが、過剰量を使用する方が反応効率が高く、好ましくは2から16当量程度である。
【0074】
化合物(IV)は、市販のものあるいは、アミノ基を保護したグリシンから導くことができる。
【0075】
次に、化合物(IV)と化合物(VI)を反応させ、化合物(I−2)および/または(I−3)を製造する工程について説明する。
【0076】
化合物(I−2)および/または化合物(I−3)は、化合物(IV)および化合物(VI)を溶媒中、塩基存在下で処理することによって得ることができる。
【0077】
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限はないが、用いる塩基に応じて、好ましいものを選択すればよく、アルコール系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、その他、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、酢酸エステル、水等を用いることができる。また、これらを混合溶媒として使用することもできる。
【0078】
反応温度は塩基の種類や使用する溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸点の範囲で行えばよく、好ましくは室温から溶媒の沸点の範囲である。
【0079】
塩基としては、有機または無機のいずれであってもよく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウム、カルシウム等の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩およびアルコキサイド等、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム等の金属水素化物、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のアルキルリチウム試薬、トリエチルアミン、N,N―ジイソプロピルエチルアミン等の三級アミン類、その他、1,8―ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデセ―7―エン(DBU)、1,8―ジアザビシクロ[4.3.0] ノン―5―エン(DBN)、ジメチルアニリン、N−メチルモルフォリン等の複素環化合物を用いることができる。
【0080】
また、反応を促進させるためにテトラブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド等の四級アンモニウム塩やヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属のヨウ化物およびクラウンエーテル等の存在下で行うこともある。
【0081】
これらの塩基のうち、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の金属炭酸塩や水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物が好ましい。
【0082】
本工程では、目的とする化合物により、化合物(VI)の使用量および/または塩基の使用量が異なってくる。
【0083】
すなわち、目的とする化合物が(I−3)の場合は、化合物(VI)を1当量を使用して反応させるか、または塩基1から1.2当量の存在下で反応させればよい。化合物(VI)を1当量使用する場合(理論上は1当量でよいが、実際に反応を行う場合は、やや過剰に用いてもよい。)は、塩基の量は1当量以上であればよいが、1から1.2当量が好ましい。塩基を1から1.2当量使用する場合は、化合物(VI)の量は1当量以上であればよいが、1当量(理論上は1当量でよいが、実際に反応を行う場合は、やや過剰に用いてもよい。)が好ましい。
【0084】
目的とする化合物が(I−2)の場合は、化合物(VI)および塩基を2当量以上使用すればよい。
【0085】
次に、化合物(IV)と化合物(IV)に対して1当量の化合物(VI)を反応させた後、化合物(VII)を反応させ化合物(I−4)を製造する工程について説明する。なお、化合物(VI)の量は理論上は1当量でよいが、実際に反応を行う場合は、やや過剰に用いてもよい。
【0086】
化合物(I−4)は、化合物(IV)および化合物(IV)に対して1当量の化合物(VI)を溶媒中、塩基存在下で処理し、その後、化合物(VII)を加え、塩基存在下で処理することによって得ることができる。
【0087】
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限はないが、用いる塩基に応じて、好ましいものを選択すればよく、アルコール系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、その他、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、アセトン、酢酸エステル、水等を用いることができる。また、これらを混合溶媒として使用することもできる。
【0088】
反応温度は塩基の種類や使用する溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸点の範囲で行えばよく、好ましくは室温から溶媒の沸点の範囲である。
【0089】
塩基としては、有機または無機のいずれであってもよく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウム、カルシウム等の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩およびアルコキサイド等、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム等の金属水素化物、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のアルキルリチウム試薬、トリエチルアミン、N,N―ジイソプロピルエチルアミン等の三級アミン類、その他、1,8―ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデセ―7―エン(DBU)、1,8―ジアザビシクロ[4.3.0] ノン―5―エン(DBN)、ジメチルアニリン、N−メチルモルフォリン等の複素環化合物を用いることができる。
【0090】
また、反応を促進させるためにテトラブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド等の四級アンモニウム塩やヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属のヨウ化物およびクラウンエーテル等の存在下で行うこともある。
【0091】
これらの塩基のうち、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の金属炭酸塩や水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物が好ましい。
【0092】
塩基は化合物(IV)に対して2から30当量、好ましくは2から16当量程度を反応の始めから使用してもよいが、化合物(VI)を反応させる段階と化合物(VII)を反応させる段階の2回に分けて使用してもよい。化合物(VI)を反応させる段階では1当量以上、好ましくは1から1.2当量の塩基を使用し、化合物(VII)を反応させる段階では1当量以上の塩基を使用すればよい。
【0093】
この化合物(I−4)を得る反応では、化合物(VI)を溶媒中、塩基存在下で処理して得られた化合物を一度単離した後、該化合物と化合物(VII)を溶媒中、塩基存在下で処理することによっても得ることができる。
【0094】
この反応でR41とR51が異なる化合物を製造する場合、炭素数が多い方(同じ場合は、分枝状の方)をR41として反応させ、その後炭素数が小さい方(同じ場合は、直鎖状の方)をR51として反応させるのが好ましい。
【0095】
化合物(III)は、化合物(II)を閉環することにより得ることができる。具体的には、化合物(II)を溶媒中、塩基存在下で処理することによって得ることができる。また、化合物(III)は、化合物(II)を溶媒中、アルキルアルミニウム試薬存在下で処理することによっても得ることができる。
【0096】
溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限はないが、用いる塩基、アルキルアルミニウム試薬に応じて、好ましいものを選択すればよく、アルコール系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、芳香族炭化水素系、その他、アセトニトリル、アセトン、酢酸エステル、水等を用いることができる。また、これらを混合溶媒として使用することもできる。
【0097】
これらの溶媒のうち、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系、塩化メチレン等のハロゲン化炭素系およびトルエン等の芳香族炭化水素系が好ましい。
【0098】
反応温度は塩基の種類や使用する溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸点の範囲で行えばよく、好ましくは0℃から溶媒の沸点の範囲である。反応は室温でも進行するが、加熱して反応を促進させてもよい。
【0099】
塩基の使用量は通常、化合物(II)に対して1から15当量の範囲でよく、好ましくは1から5当量程度である。
【0100】
アルキルアルミニウム試薬としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等が例示でき、特にトリメチルアルミニウムが好ましい。
【0101】
アルキルアルミニウム試薬の使用量は通常、化合物(II)に対して1から15当量の範囲でよく、好ましくは1から5当量程度である。
【0102】
さらに、化合物(III)は、化合物(II)を溶媒中、加熱下で処理することによっても得ることができる。
【0103】
溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限はないが、アルコール系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、芳香族炭化水素系、その他、アセトニトリル、アセトン、酢酸エステル、水等を用いることができる。また、これらを混合溶媒として使用することもできる。
【0104】
これらの溶媒のうち、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系、塩化メチレン等のハロゲン化炭素系およびトルエン等の芳香族炭化水素系が好ましい。
【0105】
反応温度は使用する溶媒により異なるが、40℃から溶媒の沸点の範囲で行えばよく、加熱還流下で行うのが好ましい。
【0106】
反応原料である化合物(II)は、化合物(I)のうちR2 がアミノ基の保護基でR3 が水素原子のものを使用すればよいが、R2 およびR3 が共にアミノ基の保護基である化合物(I)のアミノ基の保護基R3 を常法(ティー.ダブリュウ.グリーン(T.W.Green)等の「プロテクティブ グループ イン オルガニック シンセシス(Protective Group in Organic Synthesis)」 ウィリイ(Wiley), 1991等を参照。)にて脱保護することによっても得られる。例えば、R3 が、アシル基である場合には加水分解により、アルコキシカルボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基である場合には無溶媒あるいは溶媒中カチオンスカベンジャーの存在下あるいは非存在下、酸で処理することにより、また、フェニル基部分がメチル、エチル等の低級アルキル、メトキシ、エトキシ等の低級アルコキシ、ニトロ、場合によってはハロゲンが置換していても良いベンジル基類では、溶媒中、触媒を用いて酸またはアルカリ存在下あるいは非存在下、水素化分解することにより脱保護することができる。
【0107】
アミノ基の保護基がアシル基である場合には、酸またはアルカリを用いて行われ、酸性加水分解には塩酸、硫酸等の酸を、アルカリ性加水分解には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアルコラート等のアルカリを用い、これら酸またはアルカリの水溶液、もしくは、メタノール、エタノール等のアルコール系有機溶媒、あるいは含水有機溶媒による溶液として脱保護の反応に用いることができ、反応温度は室温から溶媒の沸点において行われる。
【0108】
アミノ基の保護基がアルコキシカルボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基の場合には、溶媒として脱保護の反応に不活性なものであれば特に制限はないが、アルコール系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、芳香族炭化水素系、その他、アセトニトリル、アセトン、酢酸エステル、水、酢酸等あるいはこれらを混合溶媒等を用いることができ、カチオンスカベンジャーとしては、たとえば、アニソール、チオアニソール等が挙げられ、酸としては、たとえば、p―トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。反応温度は氷冷下から溶媒の沸点において行われる。
【0109】
また、フェニル基部分がメチル、エチル等の低級アルキル、メトキシ、エトキシ等の低級アルコキシ、ニトロ、場合によってはハロゲンが置換していても良いベンジル基類の水素化分解では、溶媒として反応に不活性なものであれば特に制限はないが、アルコール系、アミド系、芳香族炭化水素系、その他、アセトニトリル、ギ酸、酢酸等を用いることができる。また、触媒としては、5%パラジウム炭素、10%パラジウム炭素、20%パラジウム炭素、ラネーニッケル等の含金属化合物が挙げられ、酸またはアルカリとしては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の鉱酸あるいは、p―トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニア水等の無機塩基が挙げられる。反応温度は室温から200℃の範囲で行えばよく、水素圧は常圧から150気圧の範囲において行われる。
【0110】
本発明の各工程で用いられる溶媒について説明する。
【0111】
芳香族炭化水素系としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。アルコール系としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール(IPA)、ブタノール、t―ブタノール等が挙げられる。エーテル系としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタン、1、4―ジオキサン等が挙げられる。アミド系としてはジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素系としては、クロロホルム、塩化メチレン、1、2―ジクロロエタン(EDC)等が挙げられる。
【0112】
ここで得られた化合物(III)は、特開平3―95176号公報、特開平4―149174号公報記載の方法により抗菌剤の合成中間体へ導くことができる。以下、実施例および参考例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0113】
【実施例】
実施例1:エチル 4− [ (tert−ブトキシカルボニル)アミノ ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート
エチル 4−[ (tert−ブトキシカルボニル)アミノ] −3−オクソブチレート(822.0mg)および1,2−ジブロモエタン(1.86g)をアセトン(33ml)に溶解した。室温にて、攪拌しながら炭酸カリウム(2.74g)を加え、反応液を9時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−トルエン=1:3)に付し、粗生成物653.8mgを得た。さらに、この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物547.4mgを無色油状物として得た。
【0114】
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.29(3H,t,J=7.0Hz),1.45(9H,s),1.57(4H,s),4.21(2H,q,J=7.0Hz),4.49(2H,d,J=5.0Hz),5.30(1H,brs)
MS(m/z):272,216,172,170,57
【0115】
実施例2:エチル 4− [ (ベンジルオキシカルボニル)アミノ ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート
エチル 4−[ (ベンジルオキシカルボニル)アミノ] −3−オクソブチレート(558.6mg)および1,2−ジブロモエタン(1.10g)をアセトン(20ml)に溶解した。室温にて、攪拌しながら炭酸カリウム(1.66g)を加え、反応液を9時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−トルエン=1:3)に付し、粗生成物227.7mgを得た。さらに、この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物189.9mgを無色油状物として得た。
【0116】
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.29(3H,t,J=7.0Hz),1.58(4H,s),4.21(2H,q,J=7.0Hz),4.59(2H,d,J=5.0Hz),5.12(2H,s),5.46(1H,brs),7.46〜7.39(5H,m)
MS(m/z):306,262,91
【0117】
実施例3:エチル 4− [ ベンジル(tert−ブトキシカルボニル)アミノ ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート
エチル 4−[ ベンジル(tert−ブトキシカルボニル)アミノ] −3−オクソブチレート(100.0mg)および1,2−ジブロモエタン(69.8mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(6ml)に溶解した。室温にて、攪拌しながら炭酸カリウム(98.6mg)を加え、そのままの温度で15時間30分攪拌した。反応液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−トルエン=1:3)に付し、粗生成物75.2mgを得た。さらに、この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物55.7mgを無色油状物として得た。
【0118】
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.19(3H,t,J=7.2Hz),1.38〜1.60(4H,m),1.46(9H,s),4.13(2H,q,J=7.2Hz),4.40,4.45(2H,s×2),4.48(2H,s),7.20〜7.38(5H,m)
【0119】
実施例4:エチル 4− [ ベンジル(tert−ブトキシカルボニル)アミノ ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート
エチル 4−[ ベンジル(tert−ブトキシカルボニル)アミノ] −3−オクソブチレート(100.0mg)および1,2−ジブロモエタン(167.5mg)をアセトン(6ml)に溶解した。室温にて、攪拌しながら炭酸カリウム(246.5mg)を加え、反応液を6時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−トルエン=1:3)に付し、粗生成物84.3mgを得た。さらに、この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物75.8mgを無色油状物として得た。NMRスペクトルは実施例3で得たものと一致した。
【0120】
実施例5:5−t−ブトキシカルボニル−4,7−ジオキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン
エチル 4−[ (tert−ブトキシカルボニル)アミノ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート(200.0mg)をテトラヒドロフラン(30ml)に溶解した。氷冷下攪拌しながら、60%水素化ナトリウム(43.8mg)を加え、そのままの温度で3時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物23.4mgを白色結晶として得た。
【0121】
融点 103〜105℃
1H−NMR(CDCl3 )δ: 1.57(9H,s),1.75〜1.87(4H,m),4.29(2H,s)
元素分析値: C11H15NO4 として
理論値(%): C 58.66; H 6.71; N 6.22
分析値(%): C 58.39; H 6.58; N 6.06
【0122】
実施例6:5−t−ブトキシカルボニル−4,7−ジオキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン
アルゴン気流下、エチル 4−[ (tert−ブトキシカルボニル)アミノ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート(137.1mg)をトルエン(10.1ml)に溶解した。氷冷下攪拌しながら、1.01Mトリメチルアルミニウムノルマルヘキサン溶液(1.10ml)を加え、そのままの温度で21時間攪拌した。反応液に1規定塩酸を加え、室温にて30分間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物46.0mgを白色結晶として得た。各種スペクトルデータは、実施例5で得たものと一致した。
【0123】
実施例7:5−ベンジルオキシカルボニル−4,7−ジオキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン
アルゴン気流下、エチル 4−[ (ベンジルオキシカルボニル)アミノ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート(200.0mg)をトルエン(13.1ml)に溶解した。氷冷下攪拌しながら、1.01Mトリメチルアルミニウム ノルマルヘキサン溶液(1.30ml)を加え、そのままの温度で21時間攪拌した。反応液に1規定塩酸を加え、室温にて30分間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物35.7mgを白色結晶として得た。
【0124】
融点 126〜128℃
1H−NMR(CDCl3 )δ: 1.76〜1.88(4H,m),4.35(2H,s),5.34(2H,s),7.28〜7.36(5H,m)
元素分析値: C14H13NO4 として
理論値(%): C 64.86; H 5.05; N 5.40
分析値(%): C 64.66; H 5.05; N 5.37
【0125】
実施例8:エチル 4−ベンジルアミノ−2−シクロプロピル−3−オクソブチレート
アルゴン気流下、エチル 4−[ (ベンジルオキシカルボニル)アミノ] −2−シクロプロピル−3−オクソブチレート(131.5mg)を塩化メチレン(1ml)に溶解した。氷冷下攪拌しながら、トリフルオロ酢酸(1.82ml)を加えた。反応液を室温で1時間30分攪拌した。反応液を留去し、残渣に1規定水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、標題化合物84.9mgを無色油状物質として得た。本品は精製することなく、次の工程に用いた。
【0126】
1H−NMR(CDCl3 )δ: 1.24(3H,t,J=7.2Hz),1.51(4H,s),3.77(2H,s),4.01(2H,s),4.16(2H,q,J=7.2Hz),7.20〜7.43(5H,m)
【0127】
実施例9:5−ベンジル−4,7−ジオキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン
エチル 4−ベンジルアミノ−2−シクロプロピル−3−オクソブチレートの粗体(84.9mg)をトルエン(5ml)に溶解し、反応液を30分間加熱還流した。反応液を留去後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−トルエン=1:4)に付し、標題化合物56.3mgを白色結晶として得た。
【0128】
融点 92〜94℃
1H−NMR(CDCl3 )δ: 1.60〜1.79(4H,m),3.79(2H,s),4.68(2H,s),7.26〜7.42(5H,m)
元素分析値:C13H13NO2 として
理論値(%):C 72.54; H 6.09; N 6.51
分析値(%):C 72.41; H 6.03; N 6.46
【0129】
参考例1:エチル 4− [ (tert−ブトキシカルボニル)アミノ ] −3−オクソブチレート
アルゴン気流下、N−t−ブトキシカルボニルグリシン350mgをテトラヒドロフラン(10ml)に溶解した。氷冷攪拌下、反応液に1,1’−カルボニルジイミダゾール(356.7mg)を加えた後、室温にて1時間攪拌した。−78℃にてこの反応液に別途、酢酸エチル(0.78ml)、1.6M n−ブチルリチウム ノルマルヘキサン溶液(5ml)およびジイソプロピルアミン(1.12ml)より調製したリチウムエノレートのテトラヒドロフラン溶液(10ml)を滴下し、そのままの温度で1時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:1)に付し、標題化合物185.6mgを無色油状物として得た。
【0130】
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.28(3H,t,J=7.2Hz),1.45(9H,s),3.49(2H,s),4.13(2H,d,J=5.0Hz),4.21(2H,q,J=7.2Hz),5.30 (1H,brs)
MS(m/z):246,190,146,144,57
【0131】
参考例2:エチル 4− [ (tert−ブトキシカルボニル)アミノ ] −3−オクソブチレート
アルゴン気流下、N−t−ブトキシカルボニルグリシン(1.75g)をテトラヒドロフラン(20ml)に溶解した。氷冷攪拌下、反応液に1,1’−カルボニルジイミダゾール(1.95g)を加えた後、室温にて1時間攪拌した。この反応液を別途、カリウムマロン酸エチル(2.55g)および塩化マグネシウム(920mg)により調製したマグネシウムマロネートのテトラヒドロフラン懸濁液(15ml)へ室温にて滴下し、そのままの温度で20時間攪拌した。反応液に飽和硫酸水素カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:1)に付し、標題化合物1.86gを無色油状物として得た。各種スペクトルデータは参考例1で得られたものと一致した。
【0132】
参考例3:エチル 4− [ (ベンジルオキシカルボニル)アミノ ] −3−オクソブチレート
アルゴン気流下、N−ベンジルオキシカルボニルグリシン(418.4mg)をテトラヒドロフラン(10ml)に溶解した。氷冷攪拌下、反応液に1,1’−カルボニルジイミダゾール(356.7mg)を加えた後、室温にて1時間攪拌した。−78℃にてこの反応液に別途、酢酸エチル(0.78ml)、1.6M n−ブチルリチウム ノルマルヘキサン溶液(5ml)およびジイソプロピルアミン(1.12ml)より調製したリチウムエノレートのテトラヒドロフラン溶液(10ml)を滴下し、そのままの温度で1時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:1)に付し、標題化合物216mgを無色油状物として得た。
【0133】
融点:22〜23℃
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.28(3H,t,J=7.2Hz),3.48(2H,s),4.20(2H,q,J=7.2Hz),4.22(2H,d,J=5.0Hz),5.12(2H,s),5.44 (1H,brs),7.31〜7.38(5H,m)
【0134】
参考例4:エチル 4− [ (ベンジルオキシカルボニル)アミノ ] −3−オクソブチレート
アルゴン気流下、N−ベンジルオキシカルボニルグリシン(2.09g)をテトラヒドロフラン(20ml)に溶解した。氷冷攪拌下、反応液に1,1’−カルボニルジイミダゾール(1.95g)を加えた後、室温にて2時間攪拌した。この反応液を別途、カリウムマロン酸エチル(2.55g)および塩化マグネシウム(920mg)により調製したマグネシウムマロネートのテトラヒドロフラン懸濁液(15ml)へ室温にて滴下し、そのままの温度で20時間攪拌した。反応液に飽和硫酸水素カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:1)に付し、標題化合物2.42gを無色油状物として得た。各種スペクトルデータは参考例3で得られたものと一致した。
【0135】
参考例5:N−ベンジル−N−(tert−ブトキシカルボニル)グリシン
ベンジルグリシン(606mg)をメタノール(60ml)に溶解した。室温にて、反応液にトリエチルアミン(8.36ml)およびジtert−ブチルジカルボネート(1.31g)のテトラヒドロフラン溶液(10ml)を加えた。そのままの温度で、反応液を20時間攪拌した。反応液を留去後、残渣に飽和硫酸水素カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=20:1)に付し、標準化合物1.04gを白色結晶として得た。
【0136】
融点:100〜102℃
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.48(9H,s),3.81,3.97(2H,s×2),4.53(2H,d,J=8.9Hz),7.20〜7.39(5H,m),10.59(1H,brs)
【0137】
参考例6:エチル 4−[ベンジル(tert−ブトキシカルボニル)アミノ]−3−オクソブチレート
アルゴン気流下、N−ベンジル−N−(tert−ブトキシカルボニル)グリシン(500.0mg)をテトラヒドロフラン(5ml)に溶解した。氷冷攪拌下、反応液に1,1’−カルボニルジイミダゾール(458.9mg)を加えた後、室温にて2時間攪拌した。この反応液を別途、カリウムマロン酸エチル(481.1mg)および塩化マグネシウム(173.3mg)により調製したマグネシウムマロネートのテトラヒドロフラン懸濁液(7ml)へ室温にて滴下し、そのままの温度で16時間攪拌した。反応液に飽和硫酸水素カリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ノルマルヘキサン=1:3)に付し、標題化合物530.8mgを無色油状物として得た。
【0138】
1H−NMR(CDCl3 )δ:1.25(3H,t,J=7.2Hz),1.46,1.47(9H,s×2),3.34,3.41(2H,s×2),3.93,4.07(2H,s×2),4.16(2H,q,J=7.2Hz),4.46,4.51(2H,s×2),7.26〜7.38(5H,m)[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a compound useful as a raw material for synthesizing antibacterial compounds and a method for producing the same.
[0002]
[Prior art]
Formula (III)
[0003]
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[0004]
[Wherein Rtwenty twoMeans an amino-protecting group, RFour And RFive Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFour And RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0005]
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(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
(Hereinafter referred to as compound (III), the same applies to compounds represented by the other formulas) are useful as intermediates for the production of antibacterial compounds (Japanese Patent Laid-Open No. 5-1073). Gazette and JP-A-5-221947).
[0006]
As a production method thereof, there is a method using ethyl acetoacetate as a raw material (Japanese Patent Laid-Open No. 3-95176), but the yield is low and it is not suitable as an industrial production method. Further, there is a method using diketene as a raw material (JP-A-5-221947), but there are problems such as requiring many steps, and the industrial production still has room for improvement.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The present inventor conducted intensive studies to solve the problems of the conventional techniques and find a production method for easily obtaining the compound (III). As a result, compound (II)
[0008]
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[Wherein R1 Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty twoMeans an amino-protecting group, RFour And RFive Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFour And RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0009]
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(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
As a production intermediate, it was found that compound (III) was easily obtained, and the present invention was completed.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a compound of formula (I)
[0011]
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[Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R2And RThreeEach independently represents a hydrogen atomOr the following group:
Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, and benzoyl group
Means a group selected from the group 2 And R Three Except when is simultaneously a hydrogen atom. ),RFourAnd RFiveEach independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFourAnd RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0012]
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(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
And a compound represented by formula (III-1)
[0013]
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[Wherein Rtwenty oneIsFormyl group, acetyl group, propanoyl group, butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or paranitrobenzyloxycarbonyl groupMeans RFourAnd RFiveEach independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFourAnd RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0014]
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(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
It relates to the compound represented by these.
[0015]
Further, the formula (IV)
[0016]
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(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans. And a compound represented by formula (V)
[0017]
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X1 -(CH2 )n ―X2 (V)
(In the formula, n means an integer of 2 to 5, and X1 And X2 Each independently represents an atom or group leaving in a nucleophilic substitution reaction. )
Wherein the compound represented by formula (I-1) is treated in the presence of a base.
[0018]
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(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupAnd n means an integer of 2 to 5. It is related with the manufacturing method of the compound represented.
[0019]
Furthermore, the formula (IV)
[0020]
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(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans. ) And a compound represented by formula (VI)
[0021]
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R41―XThree (VI)
(Wherein R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and XThree Means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction. )
Wherein the compound represented by formula (I-2) and / or formula (I-3) is treated in the presence of a base
[0022]
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(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. It is related with the manufacturing method of the compound represented.
[0023]
And formula (IV)
[0024]
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(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans. ) And a compound represented by formula (VI)
[0025]
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R41―XThree (VI)
(Wherein R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and XThree Means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction. )
Wherein the compound represented by formula (I-3) is treated in the presence of a base.
[0026]
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(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. It is related with the manufacturing method of the compound represented.
[0027]
Further, the formula (IV)
[0028]
Embedded image
(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans. ) And a compound represented by formula (VI)
[0029]
Embedded image
R41―XThree (VI)
(Wherein R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and XThree Means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction. )
Wherein the compound represented by formula (I-2) is treated in the presence of a base.
[0030]
Embedded image
(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. It is related with the manufacturing method of the compound represented.
[0031]
Furthermore, the formula (IV)
[0032]
Embedded image
(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans. ) And 1 equivalent of the formula (VI) with respect to the compound of the formula (IV)
[0033]
Embedded image
R41―XThree (VI)
(Wherein R41Means an integer having 1 to 6 carbon atoms, and XThree Means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction. )
Is treated in the presence of a base, followed by formula (VII)
[0034]
Embedded image
R51―XFour (VII)
(Wherein R51Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and XFour Means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction. )
Wherein the compound represented by formula (I-4) is treated in the presence of a base.
[0035]
Embedded image
(Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty oneIst - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R31Is a hydrogen atom,Benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans R41Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and R51Means an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. It is related with the manufacturing method of the compound represented.
[0036]
Alternatively, formula (II)
[0037]
Embedded image
[Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty twoIsBenzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans RFourAnd RFiveEach independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFourAnd RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0038]
Embedded image
(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
Wherein the compound represented by formula (III) is treated in the presence of a base or an alkylaluminum reagent.
[0039]
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[Wherein Rtwenty twoIsBenzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans RFourAnd RFiveEach independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFourAnd RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0040]
Embedded image
(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
It relates to the manufacturing method of the compound represented by these.
[0041]
Furthermore, the formula (II)
[0042]
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[Wherein R1Means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Rtwenty twoIsBenzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans RFourAnd RFiveEach independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFourAnd RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0043]
Embedded image
(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
Wherein the compound represented by formula (III) is treated under heating:
[0044]
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[Wherein Rtwenty twoIsBenzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group, paramethoxybenzyl group, t - Butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group , Butyroyl group, t - Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl groupMeans RFourAnd RFiveEach independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (provided that R representsFourAnd RFiveExcept when is simultaneously a hydrogen atom. ), Or together to form a polymethylene chain, may have the following structure:
[0045]
Embedded image
(In the formula, n means an integer of 2 to 5)]
It relates to the manufacturing method of the compound represented by these.
[0046]
The substituents used in the present invention will be described below.
[0047]
Examples of the amino-protecting group include an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, and an aralkyl group.
[0048]
Examples of the acyl group include formyl group, acetyl group, propanoyl group, butyroyl group, t-butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, and benzoyl group. An aliphatic or aromatic acyl group such as
[0049]
Examples of the alkoxycarbonyl group include a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group.
[0050]
Examples of the aralkyloxycarbonyl group include a benzyloxycarbonyl group, and the phenyl group moiety includes a lower alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a lower alkoxyl group such as a methoxy group and an ethoxy group, a nitro group, A halogen atom or the like may be substituted, and examples thereof include a paramethoxybenzyloxycarbonyl group and a paranitrobenzyloxycarbonyl group.
[0051]
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, an α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, and the like. The phenyl group moiety includes a lower alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, and the like. The lower alkoxyl group, nitro group, halogen atom and the like may be substituted, and examples thereof include a paranitrobenzyl group and a paramethoxybenzyl group.
[0052]
Examples of the atom or group eliminated in the nucleophilic substitution reaction include a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, a sulfonyloxy group such as p-toluenesulfonyloxy, methanesulfonyloxy, trifluoromethanesulfonyloxy, or dimethylsulfonium. And a dialkylsulfonium group. In the case of a dialkylsulfonium group, a halogen anion may be accompanied as a counter anion.
[0053]
The substituents of the compounds in the present specification will be described in detail below.
[0054]
First, the substituent R of the compound (I) of the present invention1 Is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a methyl group or an ethyl group. Substituent R2 And RThree As the amino-protecting group, an aralkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group and an acyl group are preferable, and a formyl group, an acetyl group, a benzyl group, a t-butoxycarbonyl group and a benzyloxycarbonyl group are particularly preferable. Substituent RFour And RFive As RFour And RFive Together form a polymethylene chain with the following structure:
[0055]
Embedded image
(Wherein n represents an integer of 2 to 5) is preferred, and those in which n is 2 or 3 and those in which n is 2 are particularly preferred.
[0056]
Substituent R of the present compound (III-1)twenty oneAs formyl, acetyl, propanoyl, butyroyl, t-butyroyl, methoxyacetyl, fluoroacetyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, chloroacetyl, pivaloyl, benzoyl, t-butoxy A carbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, and a paranitrobenzyloxycarbonyl group are preferable, particularly a formyl group, an acetyl group, A t-butoxycarbonyl group and a benzyloxycarbonyl group are preferred. Substituent RFour And RFive As RFour And RFive Together form a polymethylene chain with the following structure:
[0057]
Embedded image
(Wherein n represents an integer of 2 to 5) is preferred, and those in which n is 2 or 3 and those in which n is 2 are particularly preferred.
[0058]
Substituent R of Compound (IV)1 Is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a methyl group or an ethyl group. Substituent Rtwenty oneAs these, an alkoxycarbonyl group and an aralkyloxycarbonyl group are preferable, and a t-butoxycarbonyl group and a benzyloxycarbonyl group are particularly preferable. Substituent R31As a hydrogen atom and an aralkyl group, a hydrogen atom and a benzyl group are particularly preferable.
[0059]
N in the compound (V) is preferably 2 or 3, particularly 2 and means an atom or group which is eliminated in the nucleophilic substitution reaction.1 And X2 Is preferably a halogen atom, particularly preferably a bromine atom.
[0060]
R of compound (VI)41X is preferably a methyl group or an ethyl group, and means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction.Three Is preferably a halogen atom, particularly preferably a bromine atom.
[0061]
R of compound (VII)51X is preferably a methyl group or an ethyl group and means an atom or group that is eliminated in a nucleophilic substitution reaction.Four Is preferably a halogen atom, particularly preferably a bromine atom.
[0062]
Substituent R of Compound (II)1 Is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a methyl group or an ethyl group. Substituent Rtwenty twoAs these, an aralkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group and an acyl group are preferable, and a formyl group, an acetyl group, a benzyl group, a t-butoxycarbonyl group and a benzyloxycarbonyl group are particularly preferable. Substituent RFour And RFive As RFour And RFive Forms a polymethylene chain and has the following structure:
[0063]
Embedded image
(Wherein n represents an integer of 2 to 5) is preferred, and those in which n is 2 or 3 and those in which n is 2 are particularly preferred.
[0064]
Next, the manufacturing method of this invention is demonstrated for every process.
[0065]
First, the process for producing compound (I-1) by reacting compound (IV) with compound (V) will be described.
[0066]
Compound (I-1) can be obtained by treating compound (IV) and compound (V) in a solvent in the presence of a base.
[0067]
The reaction solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but a preferable one may be selected according to the base to be used. Alcohol-based, ether-based, halogenated hydrocarbon-based, amide-based, etc. , Dimethyl sulfoxide, acetonitrile, acetone, acetate ester, water and the like can be used. Moreover, these can also be used as a mixed solvent.
[0068]
Of these solvents, amides such as dimethylformamide and acetone are preferred.
[0069]
While the reaction temperature varies depending on the type of base and the solvent used, it may be in the range of −78 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.
[0070]
The base may be either organic or inorganic, alkali metal or alkaline earth metal, for example, sodium, potassium, lithium, magnesium, calcium and other hydroxides, carbonates, bicarbonates and alkoxides, Metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, alkyllithium reagents such as n-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, tertiary amines such as triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, etc. 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,8-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, N-methylmorphol Heterocyclic compounds such as phosphorus can be used.
[0071]
In order to accelerate the reaction, in the presence of quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide and benzyltriethylammonium chloride, alkali metal or alkaline earth metal iodides such as potassium iodide and sodium iodide, and crown ethers. Sometimes it is done.
[0072]
Of these bases, metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, and metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride are preferable.
[0073]
The amount of the base used is usually in the range of 1 to 30 equivalents relative to compound (IV), but the reaction efficiency is higher when an excess amount is used, preferably about 2 to 16 equivalents.
[0074]
Compound (IV) can be derived from a commercially available product or glycine having an amino group protected.
[0075]
Next, the process for producing compound (I-2) and / or (I-3) by reacting compound (IV) with compound (VI) will be described.
[0076]
Compound (I-2) and / or compound (I-3) can be obtained by treating compound (IV) and compound (VI) in a solvent in the presence of a base.
[0077]
The reaction solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but a preferable one may be selected according to the base to be used. Alcohol-based, ether-based, halogenated hydrocarbon-based, amide-based, etc. , Dimethyl sulfoxide, acetonitrile, acetone, acetate ester, water and the like can be used. Moreover, these can also be used as a mixed solvent.
[0078]
While the reaction temperature varies depending on the type of base and the solvent used, it may be in the range of −78 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.
[0079]
The base may be either organic or inorganic, alkali metal or alkaline earth metal, for example, sodium, potassium, lithium, magnesium, calcium and other hydroxides, carbonates, bicarbonates and alkoxides, Metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, alkyllithium reagents such as n-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, tertiary amines such as triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, etc. 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,8-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, N-methylmorphol Heterocyclic compounds such as phosphorus can be used.
[0080]
In order to accelerate the reaction, in the presence of quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide and benzyltriethylammonium chloride, alkali metal or alkaline earth metal iodides such as potassium iodide and sodium iodide, and crown ethers. Sometimes it is done.
[0081]
Of these bases, metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, and metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride are preferable.
[0082]
In this step, the amount of compound (VI) used and / or the amount of base used varies depending on the target compound.
[0083]
That is, when the target compound is (I-3), compound (VI) may be reacted using 1 equivalent, or may be reacted in the presence of 1 to 1.2 equivalents of base. When 1 equivalent of compound (VI) is used (in theory, 1 equivalent may be used, but in the case of actual reaction, it may be used in a slightly excessive amount), the amount of the base should be 1 equivalent or more. Is preferably 1 to 1.2 equivalents. When 1 to 1.2 equivalents of a base are used, the amount of the compound (VI) may be 1 equivalent or more, but 1 equivalent (theoretically 1 equivalent is sufficient, but in the actual reaction, it is somewhat May be used in excess).
[0084]
When the target compound is (I-2), 2 equivalents or more of compound (VI) and a base may be used.
[0085]
Next, a process for producing compound (I-4) by reacting compound (VII) with compound (VII) after reacting compound (IV) with compound (IV) with one equivalent of compound (VI) will be described. The amount of compound (VI) may theoretically be 1 equivalent, but may be used in a slightly excessive amount when actually reacting.
[0086]
Compound (I-4) is prepared by treating compound (IV) and compound (IV) with one equivalent of compound (VI) in a solvent in the presence of a base, and then adding compound (VII). Can be obtained by processing.
[0087]
The reaction solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but a preferable one may be selected according to the base to be used. Alcohol-based, ether-based, halogenated hydrocarbon-based, amide-based, etc. , Dimethyl sulfoxide, acetonitrile, acetone, acetate ester, water and the like can be used. Moreover, these can also be used as a mixed solvent.
[0088]
While the reaction temperature varies depending on the type of base and the solvent used, it may be in the range of −78 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.
[0089]
The base may be either organic or inorganic, alkali metal or alkaline earth metal, for example, sodium, potassium, lithium, magnesium, calcium and other hydroxides, carbonates, bicarbonates and alkoxides, Metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, alkyllithium reagents such as n-butyllithium, methyllithium, lithium diisopropylamide, tertiary amines such as triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, etc. 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,8-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, N-methylmorphol Heterocyclic compounds such as phosphorus can be used.
[0090]
In order to accelerate the reaction, in the presence of quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide and benzyltriethylammonium chloride, alkali metal or alkaline earth metal iodides such as potassium iodide and sodium iodide, and crown ethers. Sometimes it is done.
[0091]
Of these bases, metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, and metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride are preferable.
[0092]
The base may be used in an amount of 2 to 30 equivalents, preferably 2 to 16 equivalents, relative to compound (IV) from the beginning of the reaction. The step of reacting compound (VI) and the step of reacting compound (VII) May be used in two separate steps. In the step of reacting compound (VI), 1 equivalent or more, preferably 1 to 1.2 equivalents of base is used, and in the step of reacting compound (VII), 1 equivalent or more of base may be used.
[0093]
In the reaction to obtain this compound (I-4), the compound (VI) is treated in the presence of a base in the presence of a base, the compound obtained is isolated once, and then the compound and the compound (VII) are added to the base in the solvent. It can also be obtained by processing in the presence.
[0094]
R in this reaction41And R51In the case of producing compounds having different Rs, the one having more carbon atoms (in the same case, the branched one) is selected as R41Then, the one with the smaller carbon number (in the same case, the straight chain) is R51It is preferable to react as follows.
[0095]
Compound (III) can be obtained by ring-closing compound (II). Specifically, it can be obtained by treating compound (II) in a solvent in the presence of a base. Compound (III) can also be obtained by treating compound (II) in a solvent in the presence of an alkylaluminum reagent.
[0096]
The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but a preferable solvent may be selected according to the base and alkylaluminum reagent to be used. Alcohol-based, ether-based, halogenated hydrocarbon-based, amide Acetate, aromatic hydrocarbon, others, acetonitrile, acetone, acetate ester, water, etc. can be used. Moreover, these can also be used as a mixed solvent.
[0097]
Of these solvents, ethers such as tetrahydrofuran (THF), halogenated carbons such as methylene chloride, and aromatic hydrocarbons such as toluene are preferable.
[0098]
While the reaction temperature varies depending on the type of base and the solvent used, it may be in the range of −78 ° C. to the boiling point of the solvent, preferably 0 ° C. to the boiling point of the solvent. The reaction proceeds at room temperature, but the reaction may be promoted by heating.
[0099]
The amount of the base used is usually in the range of 1 to 15 equivalents, preferably about 1 to 5 equivalents, relative to compound (II).
[0100]
Examples of the alkylaluminum reagent include trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, and trimethylaluminum is particularly preferable.
[0101]
The amount of alkylaluminum reagent used is usually in the range of 1 to 15 equivalents, preferably about 1 to 5 equivalents, relative to compound (II).
[0102]
Furthermore, compound (III) can also be obtained by treating compound (II) in a solvent under heating.
[0103]
The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but alcohol, ether, halogenated hydrocarbon, amide, aromatic hydrocarbon, others, acetonitrile, acetone, acetate, water Etc. can be used. Moreover, these can also be used as a mixed solvent.
[0104]
Of these solvents, ethers such as tetrahydrofuran (THF), halogenated carbons such as methylene chloride, and aromatic hydrocarbons such as toluene are preferable.
[0105]
Although the reaction temperature varies depending on the solvent used, it may be carried out in the range of 40 ° C. to the boiling point of the solvent, and is preferably carried out under heating and reflux.
[0106]
Compound (II), which is a reaction raw material, is R among compounds (I).2 Is an amino protecting group RThree May be a hydrogen atom, but R2 And RThree Protecting group R of amino group of compound (I) in which both are protecting groups of amino groupThree Can also be obtained by deprotection using conventional methods (see “Protective Group in Organic Synthesis” such as TWGreen). It is done. For example, RThree Is an acyl group by hydrolysis, and when it is an alkoxycarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl group, by treatment with an acid in the absence or presence of a cation scavenger in a solvent or in a solvent, and In the case where the phenyl group is a lower alkyl such as methyl or ethyl, a lower alkoxy such as methoxy or ethoxy, nitro, or a benzyl group optionally substituted by a halogen, in a solvent in the presence of an acid or an alkali using a catalyst. Alternatively, it can be deprotected by hydrogenolysis in the absence.
[0107]
When the protecting group of the amino group is an acyl group, the reaction is carried out using an acid or alkali, acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid is used for acidic hydrolysis, and sodium hydroxide, potassium hydroxide or sodium is used for alkaline hydrolysis. An alkali such as alcoholate can be used for the deprotection reaction as an aqueous solution of these acids or alkalis, or an alcohol organic solvent such as methanol or ethanol, or a solution containing a water-containing organic solvent. Performed at the boiling point.
[0108]
When the amino-protecting group is an alkoxycarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl group, there is no particular limitation as long as it is inert to the deprotection reaction as a solvent, but alcohol-based, ether-based, halogenated hydrocarbon-based In addition, aromatic hydrocarbons, other solvents such as acetonitrile, acetone, acetic acid ester, water, acetic acid and the like, or mixed solvents thereof can be used. Examples of the cation scavenger include anisole and thioanisole. Examples thereof include p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, trifluoroacetic acid and the like. The reaction temperature is from under ice cooling to the boiling point of the solvent.
[0109]
In addition, in hydrogenolysis of benzyl groups which may be substituted with lower alkyl such as methyl and ethyl, lower alkoxy such as methyl and ethyl, lower alkoxy such as methoxy and ethoxy, and optionally halogen, inert to the reaction as a solvent There is no particular limitation as long as it is anything, but alcohols, amides, aromatic hydrocarbons, and others such as acetonitrile, formic acid, and acetic acid can be used. Examples of the catalyst include metal-containing compounds such as 5% palladium carbon, 10% palladium carbon, 20% palladium carbon, and Raney nickel. Examples of the acid or alkali include hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, nitric acid. And mineral acids such as sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as p-toluenesulfonic acid and methanesulfonic acid, and inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide and aqueous ammonia. The reaction temperature may be in the range of room temperature to 200 ° C., and the hydrogen pressure is in the range of normal pressure to 150 atm.
[0110]
The solvent used in each step of the present invention will be described.
[0111]
Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like. Examples of alcohols include methanol, ethanol, propanol, isopropanol (IPA), butanol, t-butanol and the like. Examples of the ether type include diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane, 1,4-dioxane and the like. Examples of the amide system include dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide (DMAc). Examples of halogenated hydrocarbons include chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane (EDC), and the like.
[0112]
The compound (III) obtained here can be led to an antibacterial synthetic intermediate by the methods described in JP-A-3-95176 and JP-A-4-149174. EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a reference example are given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited to these.
[0113]
【Example】
Example 1:ethyl 4- [ (Tert-Butoxycarbonyl) amino ] 2-cyclopropyl-3-oxobutyrate
Ethyl 4-[(tert-butoxycarbonyl) amino] -3-oxobutyrate (822.0 mg) and 1,2-dibromoethane (1.86 g) were dissolved in acetone (33 ml). At room temperature, potassium carbonate (2.74 g) was added with stirring, and the reaction was heated to reflux for 9 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous ammonium chloride solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-toluene = 1: 3) to obtain 653.8 mg of a crude product. Further, the crude product was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to obtain 547.4 mg of the title compound as a colorless oil.
[0114]
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.29 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.45 (9H, s), 1.57 (4H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz) , 4.49 (2H, d, J = 5.0 Hz), 5.30 (1H, brs)
MS (m / z): 272, 216, 172, 170, 57
[0115]
Example 2:ethyl 4- [ (Benzyloxycarbonyl) amino ] 2-cyclopropyl-3-oxobutyrate
Ethyl 4-[(benzyloxycarbonyl) amino] -3-oxobutyrate (558.6 mg) and 1,2-dibromoethane (1.10 g) were dissolved in acetone (20 ml). At room temperature, potassium carbonate (1.66 g) was added with stirring, and the reaction was heated to reflux for 9 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous ammonium chloride solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-toluene = 1: 3) to obtain 227.7 mg of a crude product. Further, the crude product was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to obtain 189.9 mg of the title compound as a colorless oil.
[0116]
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.29 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.58 (4H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz), 4.59 (2H, d, J = 5.0 Hz), 5.12 (2H, s), 5.46 (1H, brs), 7.46-7.39 (5H, m)
MS (m / z): 306, 262, 91
[0117]
Example 3:ethyl 4- [ Benzyl (tert-butoxycarbonyl) amino ] 2-cyclopropyl-3-oxobutyrate
Ethyl 4- [benzyl (tert-butoxycarbonyl) amino] -3-oxobutyrate (100.0 mg) and 1,2-dibromoethane (69.8 mg) were dissolved in N, N-dimethylformamide (6 ml). At room temperature, potassium carbonate (98.6 mg) was added with stirring, and the mixture was stirred at that temperature for 15 hours 30 minutes. Ice water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous ammonium chloride solution, water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-toluene = 1: 3) to obtain 75.2 mg of a crude product. Further, the crude product was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to obtain 55.7 mg of the title compound as a colorless oil.
[0118]
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.19 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.38 to 1.60 (4H, m), 1.46 (9H, s), 4.13 (2H, q, J = 7.2 Hz), 4.40, 4.45 (2H, s × 2), 4.48 (2H, s), 7.20-7.38 (5H, m)
[0119]
Example 4:ethyl 4- [ Benzyl (tert-butoxycarbonyl) amino ] 2-cyclopropyl-3-oxobutyrate
Ethyl 4- [benzyl (tert-butoxycarbonyl) amino] -3-oxobutyrate (100.0 mg) and 1,2-dibromoethane (167.5 mg) were dissolved in acetone (6 ml). At room temperature, potassium carbonate (246.5 mg) was added with stirring, and the reaction was heated to reflux for 6 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous ammonium chloride solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-toluene = 1: 3) to obtain 84.3 mg of a crude product. Further, the crude product was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to obtain 75.8 mg of the title compound as a colorless oil. The NMR spectrum was consistent with that obtained in Example 3.
[0120]
Example 5:5-t-Butoxycarbonyl-4,7-dioxo-5-azaspiro [2.4] heptane
Ethyl 4-[(tert-butoxycarbonyl) amino] -2-cyclopropyl-3-oxobutyrate (200.0 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (30 ml). While stirring with ice cooling, 60% sodium hydride (43.8 mg) was added and stirred at the same temperature for 3 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to give 23.4 mg of the title compound as white crystals.
[0121]
Melting point 103-105 ° C
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.57 (9H, s), 1.75 to 1.87 (4H, m), 4.29 (2H, s)
Elemental analysis value: C11H15NOFour As
Theoretical value (%): C 58.66; H 6.71; N 6.22
Analytical value (%): C 58.39; H 6.58; N 6.06
[0122]
Example 6:5-t-Butoxycarbonyl-4,7-dioxo-5-azaspiro [2.4] heptane
Ethyl 4-[(tert-butoxycarbonyl) amino] -2-cyclopropyl-3-oxobutyrate (137.1 mg) was dissolved in toluene (10.1 ml) under an argon stream. While stirring under ice cooling, 1.01 M trimethylaluminum normal hexane solution (1.10 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 21 hours. 1N Hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 30 min, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to give 46.0 mg of the title compound as white crystals. Various spectral data were consistent with those obtained in Example 5.
[0123]
Example 7:5-Benzyloxycarbonyl-4,7-dioxo-5-azaspiro [2.4] heptane
Ethyl 4-[(benzyloxycarbonyl) amino] -2-cyclopropyl-3-oxobutyrate (200.0 mg) was dissolved in toluene (13.1 ml) under an argon stream. While stirring with ice cooling, 1.01 M trimethylaluminum normal hexane solution (1.30 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 21 hours. 1N Hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 30 min, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to give 35.7 mg of the title compound as white crystals.
[0124]
Melting point 126-128 ° C
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.76 to 1.88 (4H, m), 4.35 (2H, s), 5.34 (2H, s), 7.28 to 7.36 (5H, m)
Elemental analysis value: C14H13NOFour As
Theoretical value (%): C 64.86; H 5.05; N 5.40
Analytical value (%): C 64.66; H 5.05; N 5.37
[0125]
Example 8:ethyl 4-Benzylamino-2-cyclopropyl-3-oxobutyrate
Ethyl 4-[(benzyloxycarbonyl) amino] -2-cyclopropyl-3-oxobutyrate (131.5 mg) was dissolved in methylene chloride (1 ml) under an argon stream. While stirring under ice cooling, trifluoroacetic acid (1.82 ml) was added. The reaction was stirred at room temperature for 1 hour 30 minutes. The reaction mixture was evaporated, 1N aqueous sodium hydroxide solution was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. After evaporating the solvent, 84.9 mg of the title compound was obtained as a colorless oil. This product was used in the next step without purification.
[0126]
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.24 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.51 (4H, s), 3.77 (2H, s), 4.01 (2H, s), 4.16 (2H) , Q, J = 7.2 Hz), 7.20-7.43 (5H, m)
[0127]
Example 9:5-Benzyl-4,7-dioxo-5-azaspiro [2.4] heptane
A crude product of ethyl 4-benzylamino-2-cyclopropyl-3-oxobutyrate (84.9 mg) was dissolved in toluene (5 ml), and the reaction solution was heated to reflux for 30 minutes. After the reaction solution was distilled off, the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-toluene = 1: 4) to obtain 56.3 mg of the title compound as white crystals.
[0128]
Melting point 92-94 ° C
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.60 to 1.79 (4H, m), 3.79 (2H, s), 4.68 (2H, s), 7.26 to 7.42 (5H, m)
Elemental analysis value: C13H13NO2 As
Theoretical value (%): C 72.54; H 6.09; N 6.51
Analytical value (%): C 72.41; H 6.03; N 6.46
[0129]
Reference example 1:ethyl 4- [ (Tert-Butoxycarbonyl) amino ] -3-Oxobutyrate
Under an argon stream, 350 mg of Nt-butoxycarbonylglycine was dissolved in tetrahydrofuran (10 ml). 1,1'-Carbonyldiimidazole (356.7 mg) was added to the reaction solution with stirring under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Separately from this reaction solution at −78 ° C., a tetrahydrofuran solution of lithium enolate prepared from ethyl acetate (0.78 ml), 1.6 M n-butyllithium normal hexane solution (5 ml) and diisopropylamine (1.12 ml) ( 10 ml) was added dropwise and stirred at the same temperature for 1 hour. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 1) to obtain 185.6 mg of the title compound as a colorless oil.
[0130]
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.28 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.45 (9H, s), 3.49 (2H, s), 4.13 (2H, d, J = 5.0 Hz) , 4.21 (2H, q, J = 7.2 Hz), 5.30 (1H, brs)
MS (m / z): 246, 190, 146, 144, 57
[0131]
Reference example 2:ethyl 4- [ (Tert-Butoxycarbonyl) amino ] -3-Oxobutyrate
Under an argon stream, Nt-butoxycarbonylglycine (1.75 g) was dissolved in tetrahydrofuran (20 ml). 1,1'-Carbonyldiimidazole (1.95 g) was added to the reaction solution with stirring under ice cooling, and then stirred at room temperature for 1 hour. This reaction solution was separately added dropwise to a tetrahydrofuran suspension (15 ml) of magnesium malonate prepared with ethyl potassium malonate (2.55 g) and magnesium chloride (920 mg) at room temperature and stirred at the same temperature for 20 hours. . A saturated aqueous potassium hydrogen sulfate solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 1) to give 1.86 g of the title compound as a colorless oil. Various spectral data were consistent with those obtained in Reference Example 1.
[0132]
Reference Example 3:ethyl 4- [ (Benzyloxycarbonyl) amino ] -3-Oxobutyrate
Under an argon stream, N-benzyloxycarbonylglycine (418.4 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (10 ml). 1,1'-Carbonyldiimidazole (356.7 mg) was added to the reaction solution with stirring under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Separately from this reaction solution at −78 ° C., a tetrahydrofuran solution of lithium enolate prepared from ethyl acetate (0.78 ml), 1.6 M n-butyllithium normal hexane solution (5 ml) and diisopropylamine (1.12 ml) ( 10 ml) was added dropwise and stirred at the same temperature for 1 hour. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 1) to obtain 216 mg of the title compound as a colorless oil.
[0133]
Melting point: 22-23 ° C
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.28 (3H, t, J = 7.2 Hz), 3.48 (2H, s), 4.20 (2H, q, J = 7.2 Hz), 4.22 (2H, d, J = 5.0 Hz), 5.12 (2H, s), 5.44 (1H, brs), 7.31-7.38 (5H, m)
[0134]
Reference example 4:ethyl 4- [ (Benzyloxycarbonyl) amino ] -3-Oxobutyrate
Under an argon stream, N-benzyloxycarbonylglycine (2.09 g) was dissolved in tetrahydrofuran (20 ml). 1,1'-Carbonyldiimidazole (1.95 g) was added to the reaction solution with stirring under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 2 hours. This reaction solution was separately added dropwise to a tetrahydrofuran suspension (15 ml) of magnesium malonate prepared with ethyl potassium malonate (2.55 g) and magnesium chloride (920 mg) at room temperature and stirred at the same temperature for 20 hours. . A saturated aqueous potassium hydrogen sulfate solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 1) to give 2.42 g of the title compound as a colorless oil. Various spectral data were consistent with those obtained in Reference Example 3.
[0135]
Reference example 5:N-benzyl-N- (tert-butoxycarbonyl) glycine
Benzylglycine (606 mg) was dissolved in methanol (60 ml). At room temperature, a tetrahydrofuran solution (10 ml) of triethylamine (8.36 ml) and ditert-butyl dicarbonate (1.31 g) was added to the reaction solution. The reaction solution was stirred for 20 hours at the same temperature. After the reaction solution was distilled off, a saturated aqueous potassium hydrogen sulfate solution was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (chloroform-methanol = 20: 1) to obtain 1.04 g of a standard compound as white crystals.
[0136]
Melting point: 100-102 ° C
1H-NMR (CDClThree ): 1.48 (9H, s), 3.81, 3.97 (2H, s × 2), 4.53 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.20 to 7.39 ( 5H, m), 10.59 (1H, brs)
[0137]
Reference Example 6:ethyl 4- [Benzyl (tert-butoxycarbonyl) amino] -3-oxobutyrate
Under an argon stream, N-benzyl-N- (tert-butoxycarbonyl) glycine (500.0 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (5 ml). 1,1'-Carbonyldiimidazole (458.9 mg) was added to the reaction solution with stirring under ice cooling, and then stirred at room temperature for 2 hours. This reaction solution was separately added dropwise to a tetrahydrofuran suspension (7 ml) of magnesium malonate prepared with ethyl potassium malonate (481.1 mg) and magnesium chloride (173.3 mg) at room temperature, and left at that temperature for 16 hours. Stir. A saturated aqueous potassium hydrogen sulfate solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-normal hexane = 1: 3) to obtain 530.8 mg of the title compound as a colorless oil.
[0138]
1H-NMR (CDClThree ) Δ: 1.25 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.46, 1.47 (9H, s × 2), 3.34, 3.41 (2H, s × 2), 3. 93, 4.07 (2H, s × 2), 4.16 (2H, q, J = 7.2 Hz), 4.46, 4.51 (2H, s × 2), 7.26 to 7.38. (5H, m)
Claims (28)
ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、t - ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基、t - ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、およびベンゾイル基
の基から選ばれる基を意味し(ただし、R 2 およびR 3 が同時に水素原子である場合を除く。)、R4およびR5は各々独立して水素原子または炭素数1から6のアルキル基を意味するか(ただし、R4およびR5が同時に水素原子となる場合を除く。)、または一緒になってポリメチレン鎖を形成し、次の構造となってもよい。
Benzyl, alpha-methylbenzyl, trityl, benzhydryl group, p-nitrobenzyl group, p-methoxybenzyl group, t - butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, Benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group, butyroyl group, t - butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoro Acetyl, chloroacetyl, pivaloyl, and benzoyl groups
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (except when R 2 and R 3 are simultaneously hydrogen atoms). (Provided that R 4 and R 5 are simultaneously hydrogen atoms), or together form a polymethylene chain, which may have the following structure:
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