JP4174201B2 - Linear motor, moving device and charged particle beam device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する分野】
本発明は、電子ビーム描画装置や走査電子顕微鏡等のステージ等を駆動するために用いられるリニアモーター及びこれを用いた移動装置及び荷電粒子ビーム装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子ビーム描画装置はIC素子の製造の一役を担っていることは良く知られている。この様な電子ビーム描画装置では、ICパターン描画データに基づいて被描画材料上の所定の箇所に電子ビームを照射することによりICパターンを描画している。
【0003】
一方、IC素子を検査するための走査型電子顕微鏡では、ICパターンが描かれた材料上の所定領域を電子ビームで走査し、該走査により検出された二次電子に基づいてICパターンの情報を得、該情報に基づいてICパターンの観察及び分析等を行っている。
【0004】
さて、前者の装置では被描画材料が、後者の装置ではICパターンが描かれた材料がステージ上に載せられ、該ステージをX,Yの二次元方向に適宜移動させることにより、電子ビーム光軸に対する材料の位置決めが行われている。
【0005】
この様な位置決めのための駆動手段として、位置決め精度と応答性が極めて良いリニアモーターが使用されている。
【0006】
このリニアモーターは磁石を備えた固定子(又は可動子)とコイルを備えた可動子(又は固定子)等から成り、前記磁石とコイルの磁気的な相互干渉(反発くは吸引力)に基づいて、可動子を固定子に沿って移動させるものである。
【0007】
図1及び図2はリニアモーターの一概略例を示している。尚、図2は図1のA―A断面図である。
【0008】
図中1は断面がコの字状のヨークで、その内側の上下面に、永久磁石2(2a,2b,2c,2d,…………)、3(3a,3b,3c,3d,…………)が固定されている。これらの永久磁石は極性(N極,S極)が交互になるようにヨーク内側の上下面の長手方向に並べられており、リニアモーターの固定子を成している。
【0009】
前記上下面に挟まれた空間部に、コイル4(4a,4b,4c)が前記永久磁石群の配列に沿って配置されている。尚、これらのコイルはコイル支持体5に支持されており、リニアモーターの可動子を成している。
【0010】
この様な構成のリニアモーターにおいて、各コイルに電流を流すことにより各コイルの周囲に発生する磁束と、上下面の永久磁石群間に発生する磁束との相互干渉に基づくローレンツ力が固定子と移動子の間に働き、各コイルに流れる電流の位相を適宜変化させることにより、可動子が前記永久磁石群の配列方向に沿って移動する。
【0011】
図3はこの様なリニアモーターをステージの移動を駆動する手段として用いた電子ビーム描画装置の概略を示したものである。
【0012】
図中11は電子銃で、該電子銃から発生した電子ビームは集束レンズ12によりステージ13上に載置された材料14上に集束される。又、該電子ビームは、制御装置(図示せず)からのパターン描画データに基づいて作動するX,Y偏向器15X,15Yにより前記材料14上の所定領域を走査するので、材料上の所定箇所に所定のパターンが描画される。この様なパターン描画において、偏向歪みが許容される範囲内で電子ビームは偏向器15X,15Yにより走査されるが、その範囲を越える場合にはステージ13を移動させる様にしている。
【0013】
そこで、前記リニアモーターがベッド16上に取り付けられ、コイル4を支持したコイル支持体5は、接続体17を介してステージ13の下面に固定された案内体18A,18Bの一方18Aに接続されている。これらの案内体はリニアモーターの永久磁石群2,3の配列方向に平行な柱状を成しており、その底面に永久磁石群の配列方向に平行な溝19A,19Bが設けられている。
【0014】
前記ベット16は断面がコの字状を成しており、その底壁16Bに垂直な両端の側壁16S1,16S2は、リニアモーターの永久磁石群の配列方向に平行な柱状を成しており、それら側壁の上面が前記案内体18A,18Bの下面とごく僅かな隙間を空けて対向配置されるように成っている。尚、この両側壁の上面にも、前記溝19A,19Bと対向するように溝20A,20Bが設けられており、該対向する溝の間には、例えば、ボール21A,21Bが挿入されている。
【0015】
ここで、例えば、ステージ13を紙面に対して垂直な方向(仮に、この方向をX方向とする)に移動させる場合、リニアモーターのコイル4(4a,4b,4c)に移動量に対応した大きさの電流を流し、コイル支持体5及び接続体17を介して案内体18A,18Bをベッドの側壁16S1,16S2上面上を移動させる。
【0016】
尚、ステージを二次元的に移動させる場合には、X,Y方向駆動用機構が必要になるが、その様な構成は極めて一般的なので、説明の便宜上、一方の方向のみの移動を駆動する場合についてのみ説明した。実際には、ステージ13をY方向に移動させるためのリニアモーターを具備したY方向駆動用機構も設けられおり、この機構によりステージのY方向の移動が行われる様になっている。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
所で、リニアモーターは位置決めのための駆動手段として、位置決め精度と応答性が極めて優れているが、リニアモーターから外部に漏れる磁束が問題となることがある。
【0018】
例えば、電子ビーム描画装置や走査型電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置のステージ移動の駆動機構にリニアモーターを使用した場合、そこからの漏洩磁束がステージ上の近傍に及ぶことがあり、その漏洩磁束により、材料上に照射される荷電粒子ビームが偏向されてしまう。この様な偏向が起こると、電子ビーム描画装置においては、所定の位置にパターンが描けない、走査型電子顕微鏡では所定の観察像が得られないという問題が発生する。
本発明は、この様な問題点を解決する為になされたもので、新規なリニアモーター、この様なリニアモーターを使用した移動装置及び荷電粒子ビーム装置を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明に基づくリニアモーターは、磁石とコイルとが相対移動する様に成したリニアモーターであって、内部が空間になっているヨークの相対する内壁面にそれぞれ複数の磁石を極性が交互するように移動方向に沿って配置し、該両磁石群の間に複数のコイルを移動方向に沿って配置したリニアモーターにおいて、前記磁石及びコイルが発生する磁束が外部に漏れない様に、前記ヨークの磁石群が配置される壁に垂直な壁の外周を囲う様に、リニアモーターにおける固定部材に対して移動可能な可動部材に遮蔽体を取り付け、該遮蔽部材が可動部材の移動と共に移動するように成したことを特徴とする。
【0020】
本発明に基づく荷電粒子ビーム装置は、前記移動装置に被照射物体をセットし、該被照射物体に荷電粒子ビームを照射出来るように成したことを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の態様の形態を詳細に説明する。
【0022】
図4は本発明の一例として示したリニアモーターの一概略図、図5は図4のB−B断面図である。
【0023】
図中22はヨーク1の上下面を除く全ての側面を僅かな隙間を空けて取り囲むように、その一部がコイル支持体5に取り付けられたシールド体である。該シールド体は、例えば、パーマロイの如き透磁率の高い材料から成る。
【0024】
前記ヨーク1の四隅部には回転軸23A、23B、23C、23Dが取り付けられており、各軸の上下には間隔を開けてそれぞれローラ24A1,24A2、24B1,24B2、ローラ24C1,24C2、24D1,24D2が取り付けられている(24C2、24D2尚は図示されていない)。尚、ローラが設けられているヨークの肉厚部には、ローラが挿入できるような穴が設けられている。
【0025】
尚、シールド壁22の、コイル支持体5が取り付けられる面には、コイル4に電流を流すためのリードを通す為の細孔が開けられている。
【0026】
この様な構成のリニアモーターにおいて、各コイル4(4a,4b,4c)に電流を流すことにより各コイルの周囲に発生する磁束と、上下面の間に発生する磁束との相互干渉に基づくローレンツ力が固定子(永久磁石群2,3)と可動子(各コイル4)の間に働き、可動子が前記永久磁石群の配列方向に沿って移動する。この時、可動子と一体化したコイル支持体5に取り付けられたシールド体22も同期して、ヨーク1の側面に沿って移動する。
【0027】
この様にして、シールド体22は常に、ヨーク1の全側面を囲っているので、ヨーク1の内部に発生している磁束が側部空間部から外部へと漏洩することが殆ど避けられる。
【0028】
従って、この様な構成のリニアモーターを、電子ビーム描画装置や走査型電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置のステージ移動の駆動機構に使用しても、リニアモーターからの漏洩磁束がステージ上の近傍に及ぶことがない。
【0029】
尚、前記シールド体22は、前記のようにベルト状にしてローラによってガイドするように成しても良いし、或いは、チェイン状に成して、スプロケットでガイドするように成しても良い。
【0031】
又、前記例では、リニアモーターを電子ビーム描画装置や検査用走査電子顕微鏡のステージの移動に使用する例を示したが、イオンビーム描画装置等他の荷電粒子ビーム装置のステージ移動等にも使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 リニアモーターの一概略例を示したものである。
【図2】 図1のA−A断面図である。
【図3】 リニアモーターを使用した電子ビーム描画装置の一概略例を示したものである。
【図4】 本発明のリニアモーターの一概略例を示したものである。
【図5】 図4のB−B断面図である。
【番号の説明】
1…ヨーク
2(2a,2b,2c,……………)…永久磁石
3(3a,3b,3c,……………)…永久磁石
4(4a,4b,4c)…コイル
5…コイル支持体
11…電子銃
12…集束レンズ
13…ステージ
14…材料
15X,15Y…偏向器
16…ベッド
16B…底壁
16S1,16S2…側壁
17…接続体
18A,18B…案内体
19A,19B,20A,20B…溝
21A,21B…ボール
22…シールド体
23A,23B,23C,23D…回転軸
24A1,24A2,24B1,24B2…ローラ
24C1,24C2,24D1,24D2…ローラ[0001]
[Field of the Invention]
The present invention relates to a linear motor used for driving a stage such as an electron beam drawing apparatus or a scanning electron microscope, a moving apparatus using the linear motor, and a charged particle beam apparatus.
[0002]
[Prior art]
It is well known that an electron beam drawing apparatus plays a role in manufacturing an IC element. In such an electron beam drawing apparatus, an IC pattern is drawn by irradiating a predetermined portion on a drawing material with an electron beam based on IC pattern drawing data.
[0003]
On the other hand, in a scanning electron microscope for inspecting an IC element, a predetermined region on a material on which an IC pattern is drawn is scanned with an electron beam, and information on the IC pattern is obtained based on secondary electrons detected by the scanning. Based on this information, the IC pattern is observed and analyzed.
[0004]
In the former apparatus, a material to be drawn is placed on a stage, and in the latter apparatus, a material on which an IC pattern is drawn is placed on a stage. By appropriately moving the stage in the two-dimensional directions of X and Y, an electron beam optical axis is obtained. The material is positioned with respect to.
[0005]
As a driving means for such positioning, a linear motor with extremely good positioning accuracy and responsiveness is used.
[0006]
This linear motor is composed of a stator (or mover) provided with a magnet, a mover (or stator) provided with a coil, and the like, and is based on magnetic mutual interference (repulsion or attractive force) between the magnet and the coil. The mover is moved along the stator.
[0007]
1 and 2 show a schematic example of a linear motor. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
[0008]
In the drawing,
[0009]
Coils 4 (4a, 4b, 4c) are arranged along the arrangement of the permanent magnet groups in the space between the upper and lower surfaces. These coils are supported by a
[0010]
In the linear motor having such a configuration, the Lorentz force based on the mutual interference between the magnetic flux generated around each coil by passing an electric current through each coil and the magnetic flux generated between the upper and lower permanent magnet groups is The mover moves along the arrangement direction of the permanent magnet group by working between the movers and appropriately changing the phase of the current flowing through each coil.
[0011]
FIG. 3 schematically shows an electron beam drawing apparatus using such a linear motor as means for driving the movement of the stage.
[0012]
In the figure, 11 is an electron gun, and an electron beam generated from the electron gun is focused on a
[0013]
Thus, the linear motor is mounted on the
[0014]
The
[0015]
Here, for example, when the
[0016]
When the stage is moved two-dimensionally, an X and Y direction driving mechanism is required. However, since such a configuration is very common, the movement in only one direction is driven for convenience of explanation. Only explained the case. Actually, a Y-direction driving mechanism having a linear motor for moving the
[0017]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the linear motor is extremely excellent in positioning accuracy and responsiveness as a driving means for positioning, but magnetic flux leaking from the linear motor to the outside may cause a problem.
[0018]
For example, when a linear motor is used for the stage movement drive mechanism of a charged particle beam apparatus such as an electron beam lithography apparatus or a scanning electron microscope, the leakage flux from the stage may reach the vicinity of the stage. As a result, the charged particle beam irradiated onto the material is deflected. When such a deflection occurs, the electron beam writing apparatus has a problem that a pattern cannot be drawn at a predetermined position, and a predetermined observation image cannot be obtained with a scanning electron microscope.
The present invention has been made to solve such problems, and an object thereof is to provide a novel linear motor, a moving apparatus using such a linear motor, and a charged particle beam apparatus.
[0019]
[Means for Solving the Problems]
The linear motor according to the present invention is a linear motor configured such that the magnet and the coil move relative to each other so that the polarities of the magnets alternate on the opposing inner wall surfaces of the yoke having a space inside. In the linear motor in which a plurality of coils are arranged along the moving direction between the two magnet groups, the yoke and the magnetic flux generated by the coils are not leaked to the outside. A shield is attached to a movable member movable with respect to the fixed member of the linear motor so as to surround the outer periphery of the wall perpendicular to the wall on which the magnet group is arranged , and the shield member moves with the movement of the movable member. It is characterized by that.
[0020]
The charged particle beam apparatus according to the present invention is characterized in that an object to be irradiated is set on the moving device, and the object to be irradiated can be irradiated with a charged particle beam.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0022]
FIG. 4 is a schematic diagram of a linear motor shown as an example of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.
[0023]
In the figure,
[0024]
Rotating
[0025]
In addition, in the surface of the
[0026]
In the linear motor having such a configuration, the Lorentz based on the mutual interference between the magnetic flux generated around each coil and the magnetic flux generated between the upper and lower surfaces by passing a current through each coil 4 (4a, 4b, 4c). A force acts between the stator (
[0027]
In this way, since the
[0028]
Therefore, even if a linear motor having such a configuration is used as a stage moving drive mechanism for a charged particle beam apparatus such as an electron beam lithography apparatus or a scanning electron microscope, the leakage magnetic flux from the linear motor is in the vicinity of the stage. It does not reach.
[0029]
The
[0031]
In the above example, the linear motor is used to move the stage of the electron beam lithography apparatus and the scanning electron microscope for inspection. However, the linear motor is also used to move the stage of other charged particle beam apparatuses such as an ion beam lithography apparatus. Is possible.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows a schematic example of a linear motor.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
FIG. 3 shows a schematic example of an electron beam drawing apparatus using a linear motor.
FIG. 4 shows a schematic example of the linear motor of the present invention.
5 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
[Explanation of numbers]
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