JP4168735B2 - Solder paste and electronic circuit - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子や表面実装電子部品をプリント配線基板等に搭載する際に用いるはんだペーストおよびそれらの電子部品を搭載した電子回路に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体素子や電子部品を基板に電気的に接合するのには、Sn−Pb共晶はんだが一般的に用いられてきた。その代表的なものが融点183℃のSn−37Pbである。
一方、地下水のPb汚染をはじめとする環境への影響の問題から、Pbの使用の規制が検討されはじめ、Pbを含まない種々のはんだが提案されており、実用に供されている。
【0003】
また、これらの電子部品を搭載する回路基板の電極としては、当初は主にCuが用いられてきた。さらに、電極が拡散することによって信頼性が低下することを抑制するために、従来から半導体チップの電極のバリア層として電解めっきによるNiが用いられていた。ところが、コストダウンの要求のために近年では安価に形成できる無電解めっきによるNiが主流になりつつある。
【0004】
Pbを含まないはんだ(以降、Pbフリーはんだと称す)の中でも、組成の90%以上がSnからなるPbフリーはんだは、Pb−Sn共晶はんだに比べ、電極材料であるCu、Niが拡散し易いので、はんだ溶融時に生じる液相拡散の問題が顕在化してきている。この問題は無電解めっき化の要求によってもさらに増長される。
【0005】
例えば、Pbフリーのはんだペーストとしては、できるだけ単純で少ない合金種を組み合わせることにより多様な需要への対応を可能とし、さらには製造工程における偏析の危険を防止することにより製造者の負担を軽減すると共に、多元素合金では得られない優れた特性を有するPbフリーのはんだペーストを提供することを目的としたもので、製造容易な共晶組成の2元系合金粉末およびInまたはInを含む合金粉末とフラックスとを混合することにより、偏析の危険を防止しているものがある(例えば、特許文献1参照。)。
【0006】
しかし、このPbフリーのはんだペーストを用いると、電極材料であるCuまたはNiが拡散し易いので、はんだが溶融する際に生じる液相拡散の問題がある。
また、濡れ性が良く、融点が低いPbフリーはんだを提供することを目的として、金属間化合物を形成し得る2種以上の金属の組み合わせを含む金属粉末からなり、金属間化合物を形成する前の未反応相および非晶質相を含むPbフリーはんだ粉末が提案されている。
【0007】
すなわち、有害な鉛を含まないため、はんだ付け作業の際の安全性に優れ、はんだを含む部品の廃棄の際しても環境に与える悪影響を抑えられ、また、金属間化合物を形成し得る2種以上の金属の組み合わせを含む金属粉末を未反応相および非晶質相の状態で含むために金属間化合物より融点が低いので、比較的低温度ではんだ付け作業を行うことができ、部品を損傷する可能性が少なくなるという効果がある。
【0008】
ここでいう未反応相とは、原料金属粉として少なくとも1種またはそれ以上の金属原子を含む合金粉末と、この合金粉末と融合することで金属間化合物を形成し得る金属単体あるいは第二の合金粉末とを組み合わせたものであり、金属間化合物を形成する前の合金粉末を意味している。
また、ここでいう非晶質相とは、2種の金属を溶かし合わせた場合に現れる中間相のことで、金属的性質の乏しいものを意味している(例えば、特許文献2参照。)。
【0009】
しかし、電極の拡散の問題には触れておらず、さらに加熱による金属単体あるいは合金粉末の酸化についても考慮していないので、はんだ粉末の酸化という問題がある。
一方、この問題は、Snを主体としたPbフリーはんだをNi電極上に接合するに際し、CuとZnを添加したPbフリーはんだを用いて接合することで電極上にCu−Zn−Ni化合物相を均一に形成させ、Ni電極の拡散を抑制できることが明らかになった(例えば、特許文献3参照。)。
【0010】
すなわち、回路基板上の接続電極と電子部品上の接続端子電極のうち少なくとも一方の少なくともPbフリーはんだと接触する部分が無電解Niめっきで形成されており、このNi部分とPbフリーはんだとの界面にCu−Zn−Ni相を存在させることによってNiの拡散を抑制するという効果を発現させている。
しかしながら、回路基板上の接続電極と電子部品上の接続端子電極のうち、少なくとも一方の電極上にPbフリーはんだの突起電極を作製するに際し、Pbフリーはんだの粉末形成時に一体化させるためには活性剤が必要となっている。
【0011】
また、Pbフリーはんだ粉末を用いたはんだペーストで形成したはんだバンプでも表面の酸化が大きく、たとえば回路基板上の接続電極と接合する際にも、濡れ性を促進させるために活性力の高いフラックスが必要である。
ところで、CuとZnを添加したPbフリーはんだ粉末を用いたはんだペーストで形成したはんだバンプであっても表面は酸化しているので、このはんだバンプを回路基板に接合する際に回路基板の電極との濡れ性を促進させるためには、活性力の高いフラックスが必要である。なお、ここでいう濡れ性とは、はんだ付性の評価方法としてASTM−B−545に規定されている規格に準拠して評価したものである。
【0012】
【特許文献1】
特開平11−138292号公報 (第4〜5頁、表1−1)
【0013】
【特許文献2】
特開2000−246483号公報 (第2〜3頁、第1図)
【0014】
【特許文献3】
特開2002−185130号公報 (第3頁、第1表)
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
このように、Sn−AgにCuとZnを添加したはんだを用いて電極と接合すると、電極上にCu−Zn−Ni化合物層を均一に形成することができ、これによりNi電極の拡散を抑制することができる。
しかし、CuとZnを添加したはんだを用いて形成したはんだバンプでもその表面が酸化している。そのため、このはんだバンプを回路基板に接合する際には回路基板の電極とのぬれ性を促進するために活性力の高いフラックスが必要であり、活性力の高いフラックスの使用はその使用量が増えるほど腐蝕性の高い残渣が生じるので電極の腐蝕に繋がり、信頼性を低下させるという問題がある。
【0016】
そこで、本発明は、Ni電極上に安定したCu−Zn−Ni化合物相を均一に形成することができると共に、はんだ粉末の酸化を抑制してはんだ付けの信頼性を向上させるはんだペーストおよび電子回路を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】
上に述べた課題は、本発明の請求項1によれば、Sn−AgまたはSn−Ag−Cuの少なくとも一つからなるはんだ粉末と、Cu−ZnまたはCu−Zn−Snの少なくとも一つからなる拡散抑制合金粉末と、フラックスとを含むはんだペーストとすることで達成される。
【0018】
すなわち、Sn−AgまたはSn−Ag−Cuの少なくとも一つからなるはんだ粉末に、Cu−ZnまたはCu−Zn−Snの少なくとも一つからなる拡散抑制合金粉末とフラックスとを含むはんだペーストとすることで、Sn−Agはんだ粉末にCu、Zn、Snの粉末を添加したはんだを用いると生じる接合時のZn粉末の表面酸化を防ぐことができ、フラックスの使用量を低減することができるので、はんだ付けの信頼性を向上させることができる。
【0019】
また、上に述べた課題は、本発明の請求項2によれば、前記はんだ粉末と、前記拡散抑制合金粉末とのそれぞれの粒径が20μmを超えない請求項1記載のはんだペーストとすることで達成される。
すなわち、はんだ粉末と拡散抑制合金粉末の粒径を20μm以下とすることによって、従来は多量のフラックスを使用することで濡れ性を向上させていたのを、小さな粒径の粉末であってもフラックスの使用量を減らして濡れ性を維持することができるという効果を生じる。
【0020】
一方、はんだ粉末および拡散抑制合金粉末が20μmより大きくなると、相互の粉末が溶けにくくなる。
また、上に述べた課題は、本発明の請求項3によれば、前記拡散抑制合金粉末の粒径が、前記はんだ粉末の粒径よりも小さい請求項1記載のはんだペーストとすることで達成される。
【0021】
すなわち、拡散抑制合金粉末の粒径がはんだ粉末の粒径と同程度かそれ以下の粒径とすることにより、両粉末を均一に混合することができるという効果を生じる。一方、拡散抑制合金粉末の方が大きいと、混合した両粉末での拡散抑制効果が、領域によってばらつきがでてくるので好ましくない。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〕
図1は、本発明の原理説明図である。また、図2は、従来の技術での問題点を示す図である。
【0023】
ここで、符号1は電子部品の一例として半導体素子を、2は無電解Niめっき電極を、31は本発明のはんだペーストを、32は従来のはんだペーストを、311ははんだ粉末を、312は拡散抑制合金粉末を、313はフラックスを、4は無電解Niめっき電極上に形成されるCu−Zn−Ni化合物相を、5ははんだバンプを、6は酸化膜を、それぞれ示している。
【0024】
半導体素子1の上に形成した直径0.7mmの無電解Niめっき電極2に、Sn−3.5Agはんだ粉末(平均粒径20μm以下)に60Cu−40Zn拡散抑制合金粉末(平均粒径15μm以下)を2重量%添加し、フラックスと重量比で90:10で混合した本発明のはんだペースト31をスクリーン印刷し、続いてピーク温度250℃の窒素リフローによりはんだ付けを行った。
【0025】
こうして作製したサンプルについて、250℃のホットプレート上で15分加熱したものの拡散量を調査を行ったところ、Ni電極の拡散はほとんど認められなかった。これにより、Sn系はんだで懸念される無電解Niめっき電極2の液相拡散はSn−Pb共晶はんだと同等であり、良好な接合部を保持できることがわかった。
【0026】
比較のために、Sn−3.5Agはんだ粉末(平均粒径20μm以下)だけをフラックスと重量比で90:10で混合した従来のはんだペースト32を用いてスクリーン印刷し、続いてピーク温度250℃の窒素リフローによりはんだ付けしたサンプルについて、250℃のホットプレート上で15分加熱を行い、Ni電極の拡散量を調査を行ったところ、拡散量は、Cu−Zn粉末を添加したものと比較して2倍以上であった。
【0027】
また、10mm四方の半導体素子上に形成された直径110μm、ピッチ250μmの電極上に、スクリーン印刷により実施例1で用いた本発明のはんだペースト31をスクリーン印刷してはんだの突起電極を形成した。この半導体素子を、ビルドアップ基板に、ピーク温度250℃の窒素リフローにより接合した。
このサンプルについて、−25℃から125℃の温度サイクル試験を1000サイクルまで行ったが、Sn−Pb共晶はんだと同様に正常に動作した。
【0028】
因みに、2000サイクルではSn−Pb共晶はんだでは一部に誤動作が発生したが、本サンプルでは誤動作は発生しなかった。
〔実施例2〕
Sn−3.5Agはんだ粉末(平均粒径20μm以下)に60Cu−40Zn拡散抑制合金粉末(平均粒径15μm以下)を2重量%混合し、フラックスと重量比で90:10で混合した本発明のはんだペースト31を、エッチングで窪みを形成したSi基板にスクリーン印刷し、続いてピーク温度250℃の窒素リフローによりはんだボールを作製した。
【0029】
フラックスを滴下したCu基板上にこのはんだボールを載せ、ホットプレート上で250℃に加熱してはんだ付けを行ったサンプルについて、ASTM−B−545に準拠して濡れ性の評価を実施した。
その結果、Sn−3.5Agはんだの濡れ性が78%であったのに対し、拡散抑制合金粉末を添加した本発明のはんだペースト31の濡れ性は72%と、ほとんど同等であった。
【0030】
比較のために、特許文献3で用いたSn−3.5Ag−0.5Cu−1Znのはんだ粉末を用いて作製したはんだボールでは61%と低い値を示した。
この結果により、Cu−Zn拡散抑制合金粉末を添加する効果が明らかになった。
(付記1) Sn−AgまたはSn−Ag−Cuの少なくとも一つからなるはんだ粉末と、前記はんだ粉末の2重量パーセントの、Cu−ZnまたはCu−Zn−Snの少なくとも一つからなる拡散抑制合金粉末と、フラックスとを含むことを特徴とするはんだペースト。
(付記2) 前記はんだ粉末と、前記拡散抑制合金粉末とのそれぞれの粒径が20μmを超えないことを特徴とする付記1記載のはんだペースト。
(付記3) 前記拡散抑制合金粉末の粒径が、前記はんだ粉末の粒径よりも小さいことを特徴とする付記1記載のはんだペースト。
(付記4) 付記1のはんだペーストを用いて形成された突起電極を有することを特徴とする電子回路。
(付記5) 前記突起電極は、Ni電極上に形成されていることを特徴とする付記4記載の電子回路。
(付記6) 前記フラックスが、ロジンからなることを特徴とする付記1記載のはんだペースト。
【0031】
【発明の効果】
本発明のはんだペーストを用いることによって、PbフリーのSn系はんだで懸念されている無電解Niめっきの液相拡散を、従来のSn−Pb共晶はんだと同等にでき、かつ、フラックスの使用量を抑えることで、信頼性の高いはんだ付け性を確保することができる。
【0032】
また、接合の信頼性も確保することが明らかとなり、安価な無電解Niめっきの使用を可能にするという効果があり、製品の高信頼化に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原理を説明する図。
【図2】 従来の技術での問題点を示す図。
【符号の説明】
1 半導体素子
2 無電解Niめっき電極
31 本発明のはんだペースト
311 はんだ粉末
312 拡散抑制合金粉末
313 フラックス
32 Sn−Ag−Cu−Zn系はんだペースト
321 Sn−Ag−Cu−Zn系はんだ粉末
4 Cu−Zn−Ni化合物相
5 はんだバンプ
6 酸化膜
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a solder paste used when a semiconductor element or a surface-mounted electronic component is mounted on a printed wiring board or the like, and an electronic circuit on which the electronic component is mounted.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, Sn—Pb eutectic solder has been generally used to electrically bond semiconductor elements and electronic components to a substrate. A typical example is Sn-37Pb having a melting point of 183 ° C.
On the other hand, restrictions on the use of Pb have begun to be studied due to problems of environmental influences including Pb contamination of groundwater, and various solders not containing Pb have been proposed and put into practical use.
[0003]
In addition, Cu has been mainly used as an electrode of a circuit board on which these electronic components are mounted. Furthermore, in order to suppress a decrease in reliability due to the diffusion of the electrodes, conventionally, Ni by electrolytic plating has been used as a barrier layer of the electrodes of the semiconductor chip. However, in recent years, Ni by electroless plating, which can be formed at a low cost, is becoming mainstream due to demand for cost reduction.
[0004]
Among solders that do not contain Pb (hereinafter referred to as Pb-free solder), Pb-free solder composed of Sn at 90% or more of the composition diffuses Cu and Ni as electrode materials compared to Pb-Sn eutectic solder. Since it is easy, the problem of the liquid phase diffusion which arises at the time of solder melting has become obvious. This problem is further exacerbated by the need for electroless plating.
[0005]
For example, as a Pb-free solder paste, it is possible to respond to various demands by combining as simple and few alloy types as possible, and further reduce the burden on the manufacturer by preventing the risk of segregation in the manufacturing process. In addition, an object of the present invention is to provide a Pb-free solder paste having excellent characteristics that cannot be obtained with a multi-element alloy, and an eutectic composition binary alloy powder and an alloy powder containing In or In There is one that prevents the risk of segregation by mixing the flux and the flux (for example, see Patent Document 1).
[0006]
However, when this Pb-free solder paste is used, Cu or Ni as the electrode material is easily diffused, which causes a problem of liquid phase diffusion that occurs when the solder melts.
In addition, for the purpose of providing a Pb-free solder having good wettability and a low melting point, it is made of a metal powder containing a combination of two or more metals that can form an intermetallic compound, and before the intermetallic compound is formed. Pb-free solder powder containing an unreacted phase and an amorphous phase has been proposed.
[0007]
That is, since it does not contain harmful lead, it has excellent safety during soldering operations, can suppress adverse effects on the environment even when discarding components containing solder, and can form an intermetallic compound 2 Since the metal powder containing a combination of more than one kind of metal is contained in an unreacted phase and an amorphous phase, the melting point is lower than that of the intermetallic compound, so the soldering operation can be performed at a relatively low temperature. This has the effect of reducing the possibility of damage.
[0008]
The unreacted phase as used herein refers to an alloy powder containing at least one or more metal atoms as a raw metal powder, and a single metal or a second alloy that can form an intermetallic compound by fusing with the alloy powder. It is a combination of powder and means an alloy powder before forming an intermetallic compound.
In addition, the amorphous phase referred to here is an intermediate phase that appears when two kinds of metals are melted together, and means one having poor metallic properties (for example, see Patent Document 2).
[0009]
However, there is a problem of oxidation of the solder powder because it does not touch on the problem of electrode diffusion and further does not consider the oxidation of the single metal or alloy powder by heating.
On the other hand, this problem is that when a Pb-free solder mainly composed of Sn is bonded onto a Ni electrode, a Cu-Zn-Ni compound phase is formed on the electrode by bonding using Pb-free solder to which Cu and Zn are added. It has been clarified that the Ni electrode can be uniformly formed and diffusion of the Ni electrode can be suppressed (for example, see Patent Document 3).
[0010]
That is, at least one of the connection electrode on the circuit board and the connection terminal electrode on the electronic component that is in contact with the Pb-free solder is formed by electroless Ni plating, and the interface between the Ni portion and the Pb-free solder In this case, the presence of the Cu—Zn—Ni phase causes the effect of suppressing the diffusion of Ni.
However, when producing a Pb-free solder bump electrode on at least one of the connection electrode on the circuit board and the connection terminal electrode on the electronic component, it is active to integrate the Pb-free solder powder during formation. An agent is needed.
[0011]
Also, solder bumps formed with a solder paste using Pb-free solder powder have a large surface oxidation. For example, when joining with a connection electrode on a circuit board, a high active flux is used to promote wettability. is necessary.
By the way, since the surface is oxidized even if it is a solder bump formed with a solder paste using Pb-free solder powder to which Cu and Zn are added, when this solder bump is joined to the circuit board, In order to promote the wettability, a flux with high activity is required. In addition, wettability here is evaluated based on the standard prescribed | regulated to ASTM-B-545 as an evaluation method of solderability.
[0012]
[Patent Document 1]
JP-A-11-138292 (pages 4-5, Table 1-1)
[0013]
[Patent Document 2]
JP 2000-246483 A (pages 2 and 3, FIG. 1)
[0014]
[Patent Document 3]
JP 2002-185130 A (page 3, table 1)
[0015]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, when the Sn—Ag solder with Cu and Zn added is used to join the electrode, the Cu—Zn—Ni compound layer can be uniformly formed on the electrode, thereby suppressing the diffusion of the Ni electrode. can do.
However, the surface of the solder bump formed using the solder added with Cu and Zn is oxidized. Therefore, when this solder bump is joined to the circuit board, a flux with high activity is required to promote wettability with the electrodes of the circuit board, and the use of flux with high activity increases the amount of use. As a highly corrosive residue is generated, the electrode is corroded, and there is a problem that reliability is lowered.
[0016]
Therefore, the present invention can uniformly form a stable Cu—Zn—Ni compound phase on a Ni electrode, and suppresses oxidation of solder powder to improve soldering reliability and an electronic circuit. The purpose is to provide.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
According to claim 1 of the present invention, the above-described problem is obtained from a solder powder composed of at least one of Sn-Ag or Sn-Ag-Cu and at least one of Cu-Zn or Cu-Zn-Sn. This is achieved by forming a solder paste containing a diffusion suppressing alloy powder and a flux.
[0018]
That is, a solder paste containing a diffusion-suppressing alloy powder consisting of at least one of Cu-Zn or Cu-Zn-Sn and a flux in a solder powder consisting of at least one of Sn-Ag or Sn-Ag-Cu. Therefore, when using solder in which Cu, Zn, Sn powder is added to Sn-Ag solder powder, it is possible to prevent surface oxidation of Zn powder at the time of joining, and to reduce the amount of flux used. The attachment reliability can be improved.
[0019]
Further, according to claim 2 of the present invention, the above-described problem is to provide the solder paste according to claim 1, wherein the respective particle sizes of the solder powder and the diffusion suppressing alloy powder do not exceed 20 μm. To be achieved.
That is, by making the particle size of the solder powder and the diffusion suppressing alloy powder 20 μm or less, the wettability has been improved by using a large amount of flux in the past. This produces an effect that the wettability can be maintained by reducing the amount of use.
[0020]
On the other hand, when the solder powder and the diffusion suppressing alloy powder are larger than 20 μm, the mutual powders are hardly melted.
According to claim 3 of the present invention, the above-described problem is achieved by providing the solder paste according to claim 1 wherein the particle size of the diffusion suppressing alloy powder is smaller than the particle size of the solder powder. Is done.
[0021]
That is, by setting the particle size of the diffusion-inhibiting alloy powder to be the same as or smaller than the particle size of the solder powder, there is an effect that both powders can be uniformly mixed. On the other hand, if the diffusion suppressing alloy powder is larger, the diffusion suppressing effect of both mixed powders is not preferable because it varies depending on the region.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these.
[Example 1]
FIG. 1 is an explanatory diagram of the principle of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing problems in the prior art.
[0023]
Here, reference numeral 1 is a semiconductor element as an example of an electronic component, 2 is an electroless Ni plating electrode, 31 is a solder paste of the present invention, 32 is a conventional solder paste, 311 is solder powder, and 312 is diffusion. Inhibitory alloy powder, 313 indicates a flux, 4 indicates a Cu—Zn—Ni compound phase formed on an electroless Ni plating electrode, 5 indicates a solder bump, and 6 indicates an oxide film.
[0024]
Electroless Ni-plated electrode 2 having a diameter of 0.7 mm formed on semiconductor element 1, Sn-3.5Ag solder powder (average particle size of 20 μm or less), 60Cu-40Zn diffusion suppression alloy powder (average particle size of 15 μm or less) 2% by weight, and the solder paste 31 of the present invention mixed with the flux at a weight ratio of 90:10 was screen-printed, and then soldered by nitrogen reflow at a peak temperature of 250 ° C.
[0025]
When the diffusion amount of the sample thus prepared was heated for 15 minutes on a 250 ° C. hot plate, the Ni electrode was hardly diffused. Thereby, it was found that the liquid phase diffusion of the electroless Ni-plated electrode 2, which is a concern with Sn-based solder, is equivalent to that of Sn—Pb eutectic solder and can maintain a good joint.
[0026]
For comparison, screen printing was performed using a conventional solder paste 32 in which only Sn-3.5Ag solder powder (average particle size of 20 μm or less) was mixed with flux at a weight ratio of 90:10, followed by a peak temperature of 250 ° C. When the sample soldered by nitrogen reflow was heated on a hot plate at 250 ° C. for 15 minutes and the diffusion amount of the Ni electrode was investigated, the diffusion amount was compared with that added with Cu—Zn powder. More than twice.
[0027]
Further, on the electrodes having a diameter of 110 μm and a pitch of 250 μm formed on a 10 mm square semiconductor element, the solder paste 31 of the present invention used in Example 1 was screen-printed by screen printing to form solder bump electrodes. This semiconductor element was joined to the build-up substrate by nitrogen reflow with a peak temperature of 250 ° C.
The sample was subjected to a temperature cycle test from −25 ° C. to 125 ° C. up to 1000 cycles, and operated normally in the same manner as the Sn—Pb eutectic solder.
[0028]
Incidentally, in 2000 cycles, a malfunction occurred in part in the Sn—Pb eutectic solder, but no malfunction occurred in this sample.
[Example 2]
The Sn-3.5Ag solder powder (average particle size 20 μm or less) is mixed with 2% by weight of 60Cu-40Zn diffusion suppression alloy powder (average particle size 15 μm or less) and mixed with the flux at a weight ratio of 90:10. The solder paste 31 was screen-printed on a Si substrate in which a recess was formed by etching, and then a solder ball was produced by nitrogen reflow at a peak temperature of 250 ° C.
[0029]
This solder ball was placed on a Cu substrate onto which flux was dropped, and the sample was soldered by heating to 250 ° C. on a hot plate, and wettability was evaluated in accordance with ASTM-B-545.
As a result, the wettability of the Sn-3.5Ag solder was 78%, whereas the wettability of the solder paste 31 of the present invention to which the diffusion suppressing alloy powder was added was almost equal to 72%.
[0030]
For comparison, a solder ball produced using the Sn-3.5Ag-0.5Cu-1Zn solder powder used in Patent Document 3 showed a low value of 61%.
This result revealed the effect of adding Cu—Zn diffusion suppressing alloy powder.
(Supplementary Note 1) Diffusion-inhibiting alloy comprising at least one of Sn-Ag or Sn-Ag-Cu and 2 weight percent of the solder powder, Cu-Zn or Cu-Zn-Sn A solder paste comprising a powder and a flux.
(Additional remark 2) The solder paste of Additional remark 1 characterized by each particle size of the said solder powder and the said diffusion suppression alloy powder not exceeding 20 micrometers.
(Additional remark 3) The solder paste of Additional remark 1 characterized by the particle size of the said diffusion suppression alloy powder being smaller than the particle size of the said solder powder.
(Additional remark 4) It has a protruding electrode formed using the solder paste of Additional remark 1, The electronic circuit characterized by the above-mentioned.
(Additional remark 5) The said protrusion electrode is formed on Ni electrode , The electronic circuit of Additional remark 4 characterized by the above-mentioned.
(Additional remark 6) The solder paste of Additional remark 1 characterized by the said flux consisting of rosin.
[0031]
【The invention's effect】
By using the solder paste of the present invention, the liquid phase diffusion of electroless Ni plating, which is a concern with Pb-free Sn-based solder, can be made equivalent to that of conventional Sn-Pb eutectic solder, and the amount of flux used By suppressing this, it is possible to ensure highly reliable solderability.
[0032]
In addition, it becomes clear that the reliability of the joining is ensured, and there is an effect that it is possible to use inexpensive electroless Ni plating, which greatly contributes to high reliability of the product.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 illustrates the principle of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing problems in the conventional technique.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 Electroless Ni plating electrode 31 Solder paste 311 Solder powder 312 Diffusion suppression alloy powder 313 Flux 32 Sn-Ag-Cu-Zn solder paste 321 Sn-Ag-Cu-Zn solder powder 4 Cu- Zn-Ni compound phase 5 Solder bump 6 Oxide film

Claims (5)

Sn−AgまたはSn−Ag−Cuの少なくとも一つからなるはんだ粉末と、
前記はんだ粉末の2重量パーセントの、Cu−ZnまたはCu−Zn−Snの少なくとも一つからなる拡散抑制合金粉末と、
フラックスと
を含むことを特徴とするはんだペースト。
A solder powder comprising at least one of Sn-Ag or Sn-Ag-Cu;
2 weight percent of the solder powder, a diffusion-inhibiting alloy powder comprising at least one of Cu-Zn or Cu-Zn-Sn;
A solder paste characterized by containing flux.
前記はんだ粉末と、前記拡散抑制合金粉末とのそれぞれの粒径が20μmを超えない
ことを特徴とする請求項1記載のはんだペースト。
2. The solder paste according to claim 1, wherein each of the solder powder and the diffusion-inhibiting alloy powder has a particle size not exceeding 20 μm.
前記拡散抑制合金粉末の粒径が、前記はんだ粉末の粒径よりも小さい
ことを特徴とする請求項1記載のはんだペースト。
The solder paste according to claim 1, wherein a particle size of the diffusion suppressing alloy powder is smaller than a particle size of the solder powder.
請求項1のはんだペーストを用いて形成された突起電極を有する
ことを特徴とする電子回路。
An electronic circuit comprising a protruding electrode formed using the solder paste according to claim 1.
前記突起電極は、Ni電極上に形成されている
ことを特徴とする請求項4記載の電子回路。
5. The electronic circuit according to claim 4 , wherein the protruding electrode is formed on a Ni electrode .
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