JP4135970B2 - イオン交換用完全フッ素置換ポリマーと金属酸化物からゾル−ゲルで生成させた多孔質ミクロ複合体 - Google Patents
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Description
本発明は、ゾル−ゲル方法を用いて製造した、金属酸化物の網状組織内に捕捉されていてその全体に渡って高度に分散している、ペンダント型スルホン酸基および/またはペンダント型カルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(perfluorinated ion−exchange polymers)(PFIEP)を含む多孔質ミクロ複合体(porous microcomposites)に関する。このミクロ複合体は高い表面積と酸官能性を有することから、これらは改良された固体状酸触媒として幅広い利用性を示す。
技術背景
米国特許第5,252,654号には、有機ポリマーと無機ガラス状ポリマーの相互貫入網状組織を含むポリマー複合体および上記複合体の製造方法が開示されている。この開示されている材料は非多孔質であり、そしてペンダント型スルホン酸基またはペンダント型カルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)を用いることは開示されていない。
表題が「ナフィオンを基とするミクロ複合体:酸化ケイ素充填膜」の論評の中でK.A.Mauritz他[Polym.Mater.Sci.Eng.58、1079−1082(1988)]は、予め膨潤させた「ナフィオン(NAFION)(商標)」スルホン酸フィルム内に酸化ケイ素のミクロクラスタ(microclusters)または酸化ケイ素の連続相互貫入網状組織を成長させることでミクロ複合体膜を生じさせることを考察している。
米国特許第5,094,995号には、焼成ショットコークス(shot coke)を含んでいて疎水性表面を有する不活性担体に支持させた、ペンダント型スルホン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)を含む触媒が開示されている。
米国特許第4,038,213号には、多様な支持体に支持させた、ペンダント型スルホン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)を含む触媒の製造が開示されている。
支持型および非支持型の、ペンダント型スルホン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)の触媒利用性は、幅広く再考示されている:G.A.Olah他、Synthesis、513−531(1986)およびF.J.Waller、Catal.Rev.−Sci.Eng.、1−12(1986)。
発明の要約
本発明は、金属酸化物の網状組織内に捕捉されていてその全体に渡って高度に分散しているペンダント型スルホン酸および/またはカルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマーを含む多孔質ミクロ複合体を提供し、ここでは、このミクロ複合体に入れるイオン交換用完全フッ素置換ポリマーの重量パーセントを0.1から90パーセント、好適には5から80パーセントにし、そしてこのミクロ複合体内に存在させる孔の平均細孔直径を0.5nmから75nmにする。
個別の態様において、このミクロ複合体に75nmから1000nmの範囲のより大きな平均細孔直径を有する孔を同時に含有させることができ、ここでは、酸抽出性充填材粒子を生成過程中に導入することでこのより大きな孔を生じさせる。
更に、本発明は、金属酸化物の網状組織内に捕捉されていてその全体に渡って高度に分散しているペンダント型スルホン酸および/またはカルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマーを含む多孔質ミクロ複合体を製造する方法も提供し、ここでは、このミクロ複合体に入れるイオン交換用完全フッ素置換ポリマーの重量パーセントを約0.1から90パーセントにし、そしてこのミクロ複合体内に存在させる孔の大きさを約0.5nmから約75nmにし、そしてここで、上記方法に、
a.該イオン交換用完全フッ素置換ポリマーと1種以上の金属酸化物前駆体を共通溶媒中で混合し、
b.ゲル化を開始させ、
c.この混合物にゲル化および熟成を充分な時間受けさせ、そして
d.該溶媒を除去する、
段階を含める。
好適なさらなる態様では、この方法に更に、段階(a)で酸抽出性充填材粒子を約1から80重量パーセントの量で該混合物に加え、そしてdの後、
e.酸を添加することで段階dの生成物を酸性にし、そして
f.過剰量の酸を該ミクロ複合体から除去する、
ことにより、約75nmから約1000nmの範囲の孔を更に含有するミクロ複合体を生じさせる、
ことを含める。
本発明はまた芳香族化合物の改良ニトロ化方法も提供し、ここでの改良は、上記芳香族化合物を上述した本発明の触媒ミクロ複合体に接触させることを含む。
本発明は更にカルボン酸をオレフィンでエステル化する改良方法も提供し、ここでの改良は、上記カルボン酸を上述した本発明の触媒ミクロ複合体に接触させることを含む。
本発明はまたテトラヒドロフランの改良重合方法も提供し、ここでの改良は、上記テトラヒドロフランを上述した本発明の触媒ミクロ複合体に接触させることを含む。
本発明は更に芳香族化合物をオレフィンでアルキル化する改良方法も提供し、ここでの改良は、上記芳香族化合物を上述した本発明の触媒ミクロ複合体に接触させることを含む。
本発明は芳香族化合物をハロゲン化アシルでアシル化する改良方法も提供し、ここでの改良は、上記芳香族化合物を上述した本発明の触媒ミクロ複合体に接触させることを含む。
本発明は更にアルファ置換スチレンの改良二量化方法も提供し、ここでの改良は、上記アルファ置換スチレンを上述した本発明の触媒ミクロ複合体に接触させることを含む。
本発明は更に上述した如き本発明のミクロ複合体を含む触媒の再生方法も提供し、この方法は、該ミクロ複合体と酸を混合した後、過剰量の酸を除去する段階を含む。
発明の詳細な説明
本発明の有機−無機ポリマーミクロ複合体は、優れた触媒活性を示す高表面積で多孔質のミクロ組成物である。商品である「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPが有する表面積は1グラム当たり約0.01m2であるが、本発明の好適な態様はPFIEPとシリカのミクロ複合体を含み、これは典型的に1グラム当たり50から500m2の表面積を有する。本発明の組成物は現実にガラス様の粒子状固体として存在し、これの大きさは典型的に0.1−4mmであり、そして構造的には乾燥シリカゲルと同様に硬質である。本発明のシリカ網状組織内にイオン交換用完全フッ素置換ポリマー(PFIEP)がその全体に渡って高度に分散しており、このミクロ構造は高度に多孔質である。この材料が多孔質であることは、典型的な孔直径が1−15nmの範囲のガラス様片を測定した時の表面積が高いことから明らかである。別の好適な態様では本発明を粉末形態で用いる。
別の好適な態様では、このミクロ複合体にまたマクロ細孔性(孔サイズが約75から約1000nm)も導入する結果として、ミクロ孔およびメソ孔(mesopores)(0.5−75nm)両方で表面積が高くなっておりかつマクロ孔(75−1000nm)が存在する結果として接近容易性(accessbility)が向上したミクロ複合体が得られる。
本発明で用いる、ペンダント型スルホン酸またはカルボン酸か或はスルホン酸とカルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)は、よく知られている化合物である。例えばWaller他、Chemtech、7月、1987、438−441頁およびそこに引用されている文献、並びに米国特許第5,094,995号(引用することによって本明細書に組み入れられる)を参照のこと。ペンダント型カルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)は米国特許第3,506,635号に記述されており、これもまた引用することによって本明細書に組み入れられる。J.D.Weaver他がCatalysis Today、14(1992)、195−210頁の中で考察したポリマー類もまた本発明で用いるに有用である。本発明で用いるに適切なポリマー類は、実質的にフッ素置換されている炭素鎖(これには実質的にフッ素置換されている側鎖が結合していてもよい)を含む構造を有する。加うるに、このポリマー類は、スルホン酸基またはスルホン酸基の誘導体、カルボン酸またはカルボン酸基の誘導体および/または上記基の混合基を有する。このポリマーは、好適には約500から20,000、最も好適には800から2000の当量重量(equivalent weight)を与えるに充分な数で酸基を含有する。本発明で用いるに適した完全フッ素置換ポリマー類の代表例は「ナフィオン(商標)」PFIEP[デュポン(E.I.du Pont de Nemours and Company)から商業的に入手可能であって産業化学品の製造で用いるに適した系列の触媒]、並びに米国特許第3,282,875;4,329,435;4,330,654;4,358,545;4,417,969;4,610,762;4,433,082;および5,094,995号に開示されているポリマー類またはポリマー類の誘導体である。
適切な完全フッ素置換ポリマー類を、典型的には、フッ素置換炭化水素バックボーン鎖[これに官能基またはペンダント型側鎖(これが今度は官能基を有する)が結合している]を有するスルホニル基含有ポリマー類から誘導する。本発明のミクロ複合体の製造で用いるに有用なフルオロカルボスルホン酸触媒ポリマー類をDow Chemicalが製造しており、これはCatalysis Today、14(1992)、195−210に記述されている。他の完全フッ素置換ポリマースルホン酸触媒をG.I.Olah、P.S.Iyer、G.K.Surya PrakashがSynthesis、513−531(1986)の中で記述している。
また、金属カチオンイオン交換ポリマーに関連した追加的種類のポリマー触媒がいくつか存在しており、これらも本発明のミクロ複合体の製造で用いるに有用である。これらには、1)部分的にカチオン交換されたポリマー、2)完全にカチオン交換されたポリマー、および3)金属カチオンが別の配位子に配位しているカチオン交換ポリマーが含まれる(米国特許第4,414,409号、およびWaller,F.J.著「ポリマー試薬および触媒]、Ford,W.T.編集、ACS Symposium Series 308、American Chemical Society、ワシントンDC、1986、3章参照)。
本発明で用いるに適切で好適なPFIEPにはスルホン酸基を有するPFIEPが含まれる。最も好適なものは「ナフィオン(商標)」PFIEPである。
本発明の文脈内で、イオン交換用完全フッ素置換ポリマー類を溶液形態で用いる。このポリマーを水系アルコールと一緒に高圧オートクレーブの中に入れて約240℃以上に数時間加熱することでこのポリマーを溶解させることができる(米国特許第4,433,082号またはMartin他、Anal.Chem.、54巻、1639−1641頁(1982)参照)。このポリマーの溶解ではまた他の溶媒および混合物も有効であり得る。
通常、この溶媒混合物を、この溶解で用いるポリマー1重量部当たり約4または5重量部の如き少量から約100重量部、好適には20−50重量部用いる。この溶解ポリマーの製造では、この用いるポリマーの当量重量と、この過程の温度と、その使用する溶媒混合物の量および性質と、の間に相互作用が存在する。ポリマーの当量重量が高ければ高いほど通常その使用する温度を高くしそして通常その用いる液状混合物の量を多くする。
その結果として生じる混合物を直接用いることができ、そしてこれを微細フィルター(例えば4−5.5ミクロメートル)に通して濾過することにより、透明であるが恐らくは若干着色した溶液を得る。この過程で得た混合物から水、アルコールおよび揮発性有機副生成物の一部を蒸留で除去することにより、これのさらなる改質を行ってもよい。
本発明の触媒製造ではまた市販のイオン交換用完全フッ素置換ポリマー溶液(例えば、低級脂肪族アルコールと水の混合物の中にイオン交換用完全フッ素置換粉末が5重量%入っている溶液、カタログ番号27,470−4、Aldrich Chemical Company,Inc.、940 West Saint Paul Avenue、ミルウォーキー、WI 53233など)も使用可能である。
「金属酸化物」は金属もしくは半金属の酸化物化合物を示し、これには例えばアルミナ、シリカ、チタニア、ゲルマニア、ジルコニア、アルミノ−シリケート類、ジルコニル−シリケート類、酸化第二クロム、酸化ゲルマニウム、酸化銅、酸化モリブデン、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化バナジウムおよび酸化鉄などが含まれる。シリカが最も好適である。言葉「金属酸化物前駆体」は、最終ミクロ複合体内で最終的に金属酸化物を生じるようにゾル−ゲル過程で初めに添加される金属酸化物形態を指す。例えばシリカの場合、ある範囲のケイ素アルコキサイドは加水分解および縮合でシリカ網状組織を形成し得ることはよく知られている。上記前駆体には、テトラメトキシシラン(オルトケイ酸テトラメチル)、テトラエトキシシラン(オルトケイ酸テトラエチル)、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、並びに金属アルコキサイドの種類の下に入る如何なる化合物も含まれ、この金属アルコキサイド類はケイ素の場合Si(OR)4で表され、ここで、Rにはメチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、s−ブチル、イソ−ブチル、t−ブチルなどが含まれるか、或はRは、ある範囲の有機基、例えばアルキルなどである。また、四塩化ケイ素も前駆体形態として包含される。さらなる前駆体形態には、有機的に改質したシリカ、例えばCH3Si(OCH3)3、PhSi(OCH3)3および(CH3)2Si(OCH3)2などが含まれる。網状組織を形成する他のものには、金属のケイ酸塩、例えばケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸リチウムなどが含まれる。Dowexカチオン交換樹脂を用いてK、NaまたはLiイオンを除去することができるが、この樹脂は多ケイ酸を生じ、これは若干酸性から塩基性のpHでゲル化する。また、本発明のミクロ複合体で「LUDOX(商標)」コロイド状シリカ(デュポン(E.I.du Pont de Nemours and Company、Wilmington、DE))および薫蒸(fumed)シリカ(Cabot Corporation、ボストン、MAが販売している「CAB−O−SIL(商標)」)[これらは、溶液のpHを変化させそして濃度を調整すると、ゲル化し得る]を用いることでも金属酸化物網状組織が得られる。例えば、シリカの典型的な前駆体形態はSi(OCH3)4、Si(OC2H5)4およびNa2SiO3であり、そしてアルミナの典型的な前駆体形態はアルミニウムのトリ第二ブトキサイドAl(OC4H9)3である。
本発明の方法において本ミクロ複合体の中に約75から約1000nmのマクロ孔を導入する目的で用いる「酸抽出性充填材粒子」には、ゲルを生じさせるための予備的溶媒には不溶であるが酸に溶解しそして生じたミクロ複合体から抽出され得る粒子が含まれる。この充填材粒子には、例えばアルカリ金属の炭酸塩またはアルカリ土類の炭酸塩、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどが含まれる。
本発明の材料を調製する方法の第一段階は、ペンダント型スルホン酸基および/またはペンダント型カルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマー類(PFIEP)と1種以上の金属酸化物前駆体の両方が共通溶媒の中に入っているゲル溶液を調製することを伴う。
通常、この溶媒に水と種々の低級脂肪族アルコール類、例えばメタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、混合エーテルおよびn−ブタノールなどを含める。このように、ある場合には、ゲル生成で必要な水を反応溶媒の水で供給することも可能である。選択する個々の金属酸化物前駆体/ポリマーに適切であり得る他の極性溶媒には、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ニトロメタン、テトラヒドロフランおよびアセトンなどが含まれる。また、ある場合には、ポリマーの溶解でトルエン、アルカン類およびフルオロカーボン含有溶媒を用いるのが有効であり得る。
ゲル化はある場合には自己開始型で起こり、例えば水が共通溶媒内に存在している場合か、或は急速乾燥、例えばスプレー乾燥などを行うことを通して、自己開始型で起こり得る。他の場合にはゲル化を開始させる必要があり、これは、選択するポリマーと金属酸化物前駆体と溶媒の初期混合物に応じて数多くの方法で達成可能である。ゲル化は、数多くの要因、例えば加水分解および縮合反応で水が必要であることから、存在する水の量などに依存する。他の要因には温度、溶媒の種類、濃度、pH、圧力、および使用する酸または塩基の性質などが含まれる。pHは数多くの方法で達成可能であり、例えばPFIEP溶液に塩基を添加するか或はPFIEP溶液を塩基に添加するか、或は酸または塩基を用いてpHを調整するのではなく溶液に金属酸化物を添加することなどで達成可能である。添加様式に加えて、pHを達成する別の変法は、使用する塩基の濃度を用いる方法である。また、酸を触媒として用いたゲル化でゲルを生じさせることも可能である。Sol−Gel Science、Brinker,C.J.およびScherer,G.W.、Academic Press、1990参照。ゲル化していないPFIEP/金属酸化物溶液のスプレー乾燥を行うことで乾燥したPFIEP/金属酸化物複合体を得ることも可能である。
このゲル生成反応に必要な時間は、酸性度、温度および濃度などの如き要因に応じて幅広く変化し得る。この時間は実際上瞬時から数日間で変化し得る。
このゲル生成反応は、該溶媒が液状形態である本質的に如何なる温度でも実施可能である。典型的には、この反応を室温で実施する。
このゲル生成反応を行っている間の圧力は決定的でなく、幅広く変化し得る。典型的には、この反応を大気圧下で実施する。このゲル生成反応は、ゲル前駆体に添加する塩基の量に応じて、幅広い範囲の酸性度および塩基性度に渡って実施可能である。
ゲル生成後であるが単離を行う前に、それの反応溶媒をまだ存在させながら、このゲルをある期間に渡って放置してもよい。これを熟成と呼ぶ。
この生成物の乾燥を、室温または高温下のオーブン内で、溶媒を除去するに充分な時間行う。真空下か、空気中か、或は窒素の如き不活性ガスを用いて、乾燥を行うことができる。任意に、熟成および/または溶媒除去を行った後、この堅いガラス様生成物を粉砕してスクリーン、好適には10メッシュのスクリーンに通してもよい。粉砕すると、より小さな粒子が生じ(表面積がより大きくなり)、再び酸性にするのがより容易になる。PFIEPを高い重量パーセントで含有するミクロ複合体の場合に特に粉砕が有効である。
好適には、溶媒を除去しそして任意に粉砕を行った後の材料を再び酸性にし、洗浄した後、濾過を行う。これを数回繰り返してもよい。この材料を再び酸性にすると、例えばパーフルオロスルホン酸のナトリウム塩が活性を示す酸性形態に変化する。適切な酸にはHCl、H2SO4および硝酸が含まれる。
数多くの反応変数、例えば酸性度、塩基性度、温度、熟成、ゲルの乾燥方法および乾燥時間などが孔サイズおよび孔サイズ分布に影響を与えることを見い出した。ゲルのpHを高くするにつれてかつゲルの熟成時間を長くするにつれて(溶媒を除去する前)、乾燥したPFIEP/金属酸化物ゲル内の最終孔サイズがより大きくなる。孔サイズは、この上に記述した変数に応じて幅広い範囲(約0.5から約75nm)に渡って変化し得る。湿っているゲル(溶媒が存在している)の熟成を75℃で数時間行うことでもまた孔サイズが大きくなるが、その範囲はより小さい。このような効果はシリカ型のゲルに特徴的であり、ここでは、熟成効果によって網状組織の架橋度が益々上昇し、これを乾燥させると、収縮に対する抵抗力がより高くなり、その結果として、孔サイズがより大きくなる。例えばテキストSol−Gel Science、Brinker,C.J.およびScherer,G.W.、Academic Press、1990、518−523頁参照。本発明で好適な孔サイズは約0.1nmから約75nm、より好適には約0.5から約50nm、最も好適には約0.5から約30nmである。
また、ミクロ孔、メソ孔およびマクロ孔を含有していて高い表面積を有するマクロ孔(約75から約1000nm)含有ミクロ複合体も本明細書の以下に示す。このような構造物は触媒およびイオン交換目的で高い接近容易性を示す。ゲル化段階を受けさせる前のPFIEP/金属酸化物前駆体溶液にサブミクロンサイズの炭酸カルシウム粒子を添加することを通して、本発明のこのようにユニークなミクロ構造を作り出す。そのガラスゲルを酸性にすると、炭酸カルシウムが溶解して出て行くことで、マトリックス全体に渡ってミクロ孔(約10nm)のサブ構造(sub−structure)と連結した大きな(約500nm)孔が残る。この種類の構造は本ミクロ複合体内に高表面積のPFIEP/金属酸化物網状組織を与え、これは、この全体に渡って高い接近容易性を示す。ゲル化段階を行う前のゾル−ゲル過程に酸抽出性充填材粒子、例えば炭酸カルシウムなどを約1から80重量%(ゲル重量を基準)添加することでマクロ細孔性を達成することができる。
本発明のミクロ複合体の高多孔質構造は多孔チャンネルの連結網状組織内に高度に分散しているPFIEPをその全体に渡って捕捉している金属酸化物の連続相から成ると考えている。例えば溶媒吸収などにより、この材料が多孔性を示すことを容易に実証することができる。本ミクロ複合体が泡を発生することを観察することができるが、この泡は、その多孔質網状組織内から空気が追い出されることで発生する。
金属酸化物内にその全体に渡って捕捉されているPFIEPの分布は非常に微細でサブミクロン規模である。エネルギー分散X線分析を装備した電子顕微鏡を用いてその分布を調べることができ、これにより、元素SiとO(例えばシリカを用いた場合)およびPFIEPフルオロポリマー由来のCとFの分析が得られる。「ナフィオン(商標)」PFIEPが10から40重量%の範囲で入っている組成物に関して、粒子内の破壊された表面およびいくつかの異なる粒子を分析した結果、この調べた領域の全部で、このミクロ複合体粒子の縁から中心に及んでシリカとPFIEPポリマーの両方が存在していることが示され、従って、このミクロ複合体はSiとFの密な混合物であることが示された。全体的にSiが豊富であるか或は全体的にFが豊富である領域は全く観察されず、むしろSiとFが均一に分布していることが分かった。この2成分に関する記述は大きさが0.1ミクロメートルの如き小さい領域でも精密であると考えられる。実施例1で調製する如きミクロ複合体の形態は、再び走査電子顕微鏡で観察されるように、現実にいくらか粒状である。これは、このゾル−ゲル方法で製造されるシリカゲル型材料に典型的である。主要な粒子サイズは5−10nmの位である。また、5−10nmの範囲のドメインサイズを検知する小角x線散乱実験をその材料に関して行うことでも、上記を確認した。このデータは、PFIEPがシリカ内に捕捉されていてその全体に渡って高度に分散していることに一致する。
本発明のミクロ複合体はイオン交換樹脂として用いるに有用であり、そして例えば脂肪族もしくは芳香族炭化水素のアルキル化、有機ヒドロパーオキサイド類、例えばクメンヒドロパーオキサイドなどの分解、有機化合物のスルホン化またはニトロ化、並びにヒドロキシル化合物のオキシアルキル化などを行うための触媒として用いるに有用である。以前のパーフルオロカーボンスルホン酸触媒を商業的に用いようとする時の重大な欠点は、それらのコストが高いことと、触媒活性が比較的低いことであった。本発明は、コストを低くし、触媒活性を高くし、そしてある場合には反応選択性を改良すると言った利点を与える。本発明のPFIEP/シリカ触媒にとって商業的に重要な他の用途には、炭化水素の異性化および重合、カルボニル化およびカルボキシル化反応、加水分解および縮合反応、エステル化およびエーテル化、水和および酸化、芳香族のアシル化、アルキル化およびニトロ化、並びに異性化および複分解反応が含まれる。
本発明は、芳香族化合物の改良ニトロ化方法を提供し、ここでの改良は、この芳香族化合物を触媒としての本発明のミクロ複合体に接触させることを含む。例えば、ベンゼンのニトロ化では、ベンゼンと任意にMgSO4などの如き乾燥剤が入っている溶液を不活性雰囲気下で加熱して典型的に大気圧下で還流させ、そしてニトロ化剤、例えばHNO3などを加える。この過程を通常のニトロ化条件下で実施するが、この条件、例えば温度などは、その使用する芳香族の反応性に依存する。本発明のミクロ複合体をベンゼン溶液内で触媒として用いると、「ナフィオン(商標)」PFIEP単独または触媒の使用なしと比較して、ニトロベンゼンへの変換率および選択率が高くなることが示された(表I、実施例42参照)。この方法に好適な触媒は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーにペンダント型スルホン酸基を含めそして金属酸化物をシリカ、アルミナ、チタニア、ゲルマニア、ジルコニア、アルミノ−シリケート、ジルコニル−シリケート、酸化第二クロムおよび/または酸化鉄にした本発明のミクロ複合体である。最も好適なミクロ複合体は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーを「ナフィオン(商標)」PFIEPにしそして金属酸化物をシリカにしたミクロ複合体である。
更に、本発明は、オレフィンと反応させることでカルボン酸のエステル化を行う改良方法も提供し、ここでの改良は、上記カルボン酸を触媒としての本発明の多孔質ミクロ複合体に接触させることを含む。例えば、酢酸をシクロヘキセンでエステル化すると酢酸シクロヘキシルが生じる。このエステル化を典型的には反応槽内で実施する。酢酸とシクロヘキセンの溶液に典型的には酢酸を過剰量で入れることにより、シクロヘキセンの二量化が起こるのを最小限にする。この反応を一般的には通常のエステル化条件下で行うが、この条件は、使用するカルボン酸およびオレフィンの反応性に依存する。本発明のミクロ複合体を触媒として用いると、他の触媒が示す活性に比べてほとんど1桁高い比活性が得られる(表II、実施例43参照)。この方法に好適な触媒は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーにペンダント型スルホン酸基を含めそして金属酸化物をシリカ、アルミナ、チタニア、ゲルマニア、ジルコニア、アルミノ−シリケート、ジルコニル−シリケート、酸化第二クロムおよび/または酸化鉄にした本発明のミクロ複合体である。最も好適なミクロ複合体は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーを「ナフィオン(商標)」PFIEPにしそして金属酸化物をシリカにしたミクロ複合体である。
また、本発明は、オレフィンで芳香族化合物をアルキル化する改良方法も提供し、ここでの改良は、触媒として本発明のミクロ複合体を用いることを含む。例えば、トルエンをn−ヘプテンでアルキル化する場合、使用前にトルエンとヘプテンを乾燥させた後、混合し、そして例えば約100℃に加熱する。本発明の多孔質ミクロ複合体を含む乾燥触媒を上記トルエン/n−ヘプテン溶液に加えて反応させる。この改良方法を一般的には通常のアルキル化条件下で行うが、この条件は、その使用する芳香族およびオレフィンの反応性に依存する。本発明のミクロ複合体を用いると触媒として「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPを用いた時に比較して変換率が高くなることが分かる。この方法に好適な触媒は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーにペンダント型スルホン酸基を含めそして金属酸化物をシリカ、アルミナ、チタニア、ゲルマニア、ジルコニア、アルミノ−シリケート、ジルコニル−シリケート、酸化第二クロムおよび/または酸化鉄にした本発明のミクロ複合体である。最も好適なミクロ複合体は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーを「ナフィオン(商標)」PFIEPにしそして金属酸化物をシリカにしたミクロ複合体である。
また、本発明は、テトラヒドロフランを重合させてポリテトラヒドロフランを生じさせる改良方法も提供する。この生成物はポリテトラメチレンエーテルアセテート(PTMEA)、即ちポリテトラヒドロフランのジアセテートであり、これは「TERATHANE(商標)」ポリエーテルグリコール(デュポン(E.I.du Pont de Nemours and Company、Wilmington、DE))の製造で用いられ得る。一般に、このテトラヒドロフラン重合方法は、通常、撹拌機が備わっている圧力反応槽内でテトラヒドロフランと無水酢酸と酢酸を溶液の状態で接触させることを含む。この反応は周囲温度で実施可能である。ここでの改良は本発明の多孔質ミクロ複合体を触媒として上記溶液に添加することを含む。接触時間は1時間から24時間の範囲であってもよい。
更に、本発明は、芳香族化合物をハロゲン化アシルでアシル化してアリールケトンを生じさせる改良方法も提供する。芳香族化合物のアシル化方法は、一般に、この化合物をハロゲン化アシルと一緒に加熱することを含む。ここでの改良は本発明の触媒多孔質ミクロ複合体に芳香族化合物を接触させることを含む。このミクロ複合体触媒を粉末にすることにより、このミクロ複合体内で用いるPFIEPの重量%をより高くすることができる。反応を完了させるに充分な時間が経った後、アリールケトン生成物を回収する。
また、本発明は、アルファ置換スチレンの二量化を行う改良方法も提供する。この改良は本発明の触媒多孔質ミクロ複合体にスチレンを接触させることを含む。例えばアルファメチルスチレンを用いる場合、このスチレンを溶液の状態で加熱し、そして本触媒を添加してもよい。この生成物は、不飽和二量体(2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテンおよび2,4−ジフェニル−4−メチル−2−ペンテン)と飽和二量体(1,1,3−トリメチル−3−フェニリダンおよびシスおよびトランス−1,3−ジメチル−1,3−ジフェニルシクロブタン)の混合を含む。
テトラヒドロフランの重合、芳香族化合物のアシル化およびアルファ置換スチレンの二量化に好適な触媒は、イオン交換用完全フッ素置換ポリマーにスルホン酸基を含めそして金属酸化物をシリカ、アルミナ、チタニア、ゲルマニア、ジルコニア、アルミノ−シリケート、ジルコニル−シリケート、酸化第二クロムおよび/または酸化鉄にした本発明のミクロ複合体である。最も好適なミクロ複合体は、PFIEPを「ナフィオン(商標)」PFIEPにしそして金属酸化物をシリカにしたミクロ複合体である。
PFIEP樹脂に関してWallerが記述しているように(Catal.Rev.Sci.Eng.28(1)、1−12(1986))、本発明のミクロ複合体生成物を金属カチオン交換材料に変化させることも可能である。このような材料もまた触媒として用いるに有用である。
本発明のミクロ複合体生成物は上述した如き範囲の触媒反応で用いるに有用である。上記反応のいくつかでは、本触媒がいくらか褐色に着色する可能性がある。酸、例えば硝酸などで処理することにより、本発明の触媒の再生を行うことができる。本ミクロ複合体触媒を酸に接触させた後、約15℃から約100℃の範囲の温度で約1時間から約26時間撹拌する。その後、脱イオン水で洗浄することにより、過剰量の酸を除去する。次に、この触媒の乾燥を好適には真空下約100℃から約200℃の範囲の温度で約1時間から約60時間行うことにより、再生触媒を得る。
実施例
「ナフィオン(商標)」PFIEP溶液はAldrich Chemical Co.、ミルウォーキー、WIから購入可能であるか、或は一般に米国特許第5,094,995号および米国特許第4,433,082号の手順を用いてPFIEP溶液を調製することができる。本実施例で以下に言及する「ナフィオン(商標)」PFIEP溶液は、特に明記しない限り、DuPont NafionR Products、Fayetteville、NCから入手可能な「ナフィオン(商標)」溶液である「ナフィオン(商標)」NR 005である。
実施例1
「ナフィオン(商標)」が40重量%/シリカが60重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」完全フッ素置換樹脂溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)200mLに、0.4MのNaOHを25g加えた後、この溶液を撹拌した。個別に、別のビーカーの中に入っている34gのテトラメトキシシラン[Si(OCH3)4]に蒸留水を5.44gおよび0.04MのHClを0.5g加えた後、この溶液を10分間急速撹拌した。10分後、このケイ素が入っている溶液を上記急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置した。数秒以内(典型的には15秒から1分)にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて24時間放置した後、このカバーを取り外し、そしてこのゲルを90℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更に真空下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させた。上記乾燥させた材料を100mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び100mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(200mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(200mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、140℃で24時間乾燥させた。この収量は約22gであった。最終的に得られた材料は、明黄色でガラス様の微粒子材料であった。「ナフィオン(商標)」PFIEP含有量は約40重量%であった。この固体は、ゾル−ゲルから誘導されるシリカ型材料に典型的な堅い質感を有しており、サイズが数mmに及ぶ片がいくらか存在していた。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり200m2であり、1点細孔容積(single point pore volume)は0.38cc/gであり、そして平均細孔直径は5.59nmであった。
実施例2
「ナフィオン(商標)」PFIEPが40重量%/シリカが60重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」完全フッ素置換樹脂溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)200mLに、0.4MのNaOHを25g加えた後、この溶液を撹拌した。個別に、別のビーカーの中に入っている34gのテトラメトキシシラン[Si(OCH3)4]に蒸留水を5.44gおよび0.04MのHClを0.5g加えた後、この溶液を10分間急速撹拌した。10分後、このケイ素が入っている溶液を上記急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置すると数秒以内(典型的には15秒から1分)にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて75℃のオーブン内に8時間放置し、この時点でカバーを取り外し、そしてこのゲルを90℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更に真空下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させた。上記乾燥させた材料を100mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び100mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(200mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(200mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、140℃で24時間乾燥させた。この収量は約22gであった。最終的に得られた材料は、明黄色のガラス様材料であった。「ナフィオン(商標)」PFIEP含有量は約40重量%であった。この固体は、ゾル−ゲルから誘導されるシリカ型材料に典型的な堅い質感を有していた。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり131m2であり、1点細孔容積は0.36cc/gであり、そして平均細孔直径は8.3nmであった。
実施例3
「ナフィオン(商標)」PFIEPが40重量%/シリカが60重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」完全フッ素置換樹脂溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)100mLに、0.4MのNaOHを15g加えた後、この溶液を撹拌した。この急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液にテトラメトキシシランを17g加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置すると数1分以内にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて75℃のオーブン内に8時間入れ、この時点でカバーを取り外し、そしてこのゲルを75℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更にハウス真空(house vacuum)下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させた。上記乾燥させた材料を75mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び75mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(100mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(100mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、140℃で24時間乾燥させた。この収量は約11gであった。最終的に得られた材料は、明黄色のガラス様材料であった。「ナフィオン(商標)」PFIEP含有量は約40重量%であった。この固体は、ゾル−ゲルから誘導されるシリカ型材料に典型的な堅い質感を有していた。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり134m2であり、1点細孔容積は0.37cc/gであり、そして平均細孔直径は8.2nmであった。
実施例4
「ナフィオン(商標)」PFIEPが40重量%/シリカが60重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」完全フッ素置換樹脂溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)200mLに、0.4MのNaOHを17g加えた後、この溶液を撹拌した。個別に、別のビーカーの中に入っている34gのテトラメトキシシラン[Si(OCH3)4]に蒸留水を5.44gおよび0.04MのHClを0.5g加えた後、この溶液を10分間急速撹拌した。10分後、このケイ素が入っている溶液を上記急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置すると数秒以内(典型的には15秒から2分)にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて24時間放置した後、このカバーを取り外し、そしてこのゲルを90℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更にハウス真空下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させた。上記乾燥させた材料を100mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び100mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(200mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(200mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、140℃で24時間乾燥させた。この収量は約22gであった。最終的に得られた材料は、明黄色のガラス様材料であった。「ナフィオン(商標)」PFIEP含有量は40重量%であった。この固体は、ゾル−ゲルから誘導されるシリカ型材料に典型的な堅い質感を有しており、サイズが数mmに及ぶ片がいくらか存在していた。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり294m2であり、1点細孔容積は0.30cc/gであり、そして平均細孔直径は3.5nmであった。
実施例5
「ナフィオン(商標)」PFIEPが約20重量%/シリカが80重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」完全フッ素置換樹脂溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)100mLに、0.4MのNaOHを25g加えた後、この溶液を撹拌した。個別に、別のビーカーの中に入っている34gのテトラメトキシシラン[Si(OCH3)4]に蒸留水を5.44gおよび0.04MのHClを0.5g加えた後、この溶液を10分間急速撹拌した。10分後、このケイ素が入っている溶液を上記急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置すると数秒以内(典型的には15秒から1分)にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて24時間放置し、この時点でカバーを取り外し、そしてこのゲルを90℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更にハウス真空下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させた。上記乾燥させた材料を100mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び100mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(200mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(200mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、125℃で24時間乾燥させた。最終的に得られた材料は、明黄色のガラス様材料であった。「ナフィオン(商標)」PFIEP含有量は約20重量%であった。この固体は、ゾル−ゲルから誘導されるシリカ型材料に典型的な堅い質感を有していた。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり287m2であり、1点細孔容積は0.63cc/gであり、そして平均細孔直径は6.70nmであった。
実施例6
「ナフィオン(商標)」PFIEPが約10重量%/シリカが90重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」完全フッ素置換樹脂溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)50mLに、0.4MのNaOHを25g加えた後、この溶液を撹拌した。個別に、別のビーカーの中に入っている34gのテトラメトキシシラン[Si(OCH3)4]に蒸留水を5.44gおよび0.04MのHClを0.5g加えた後、この溶液を10分間急速撹拌した。10分後、このケイ素が入っている溶液を上記急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置すると数秒以内(典型的には15秒から1分)にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて24時間放置し、この時点でカバーを取り外し、そしてこのゲルを90℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更にハウス真空下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させた。上記乾燥させた材料を100mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び100mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(200mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(200mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、125℃で24時間乾燥させた。最終的に得られた材料は、明黄色のガラス様材料であった。「ナフィオン(商標)」PFIEP含有量は約10重量%であった。この固体は、ゾル−ゲルから誘導されるシリカ型材料に典型的な堅い質感を有していた。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり270m2であり、1点細孔容積は0.59cc/gであり、そして平均細孔直径は6.50nmであった。
実施例7
大型(約500nm)と小型(約2−15nm)の両方の孔を有する2種多孔度の、「ナフィオン(商標)」PFIEPが40重量%でシリカが60重量%の複合体の製造
「ナフィオン(商標)」溶液(低級アルコールと水の混合物に「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)100mLに、0.4MのNaOHを15g加えた後、この溶液を撹拌した。この塩基性「ナフィオン(商標)」に炭酸カルシウム(約0.5ミクロンの粒子サイズを有する)(Albafil Specialty Mninerals、Adams、MA)を4g加えた後、音波探針(Heat Systems Inc.、Farmingdale、NY)を用いて上記炭酸カルシウム混合物の超音波処理を1分から10分間行った。個別に、別のビーカーの中に入っている17gのテトラメトキシシラン[Si(OCH3)4]に蒸留水を2.7gおよび0.04MのHClを0.25g加えた後、この溶液を10分間急速撹拌した。10分後、このケイ素が入っている溶液を上記急速撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に加え、そして良好な混合を確保する目的で撹拌を約10秒間継続した。この溶液を放置すると数秒以内(典型的には10秒から1分)にゲルが溶液全体に生じることを観察した。このゲルにカバー付けて4時間放置し、この時点でカバーを取り外し、そしてこのゲルを90℃のオーブンの中に入れ、窒素のゆっくした流れを上記オーブンの中に流した。このゲルを15時間乾燥させた。次に、その結果として生じる乾燥したガラス様片を更にハウス真空下140℃で15時間乾燥させた。下記の如く、HClを用いてその得られる材料を再び酸性にすることでパーフルオロスルホン酸を酸性の活性形態に変化させると共にまた炭酸カルシウムを溶解させて出させた。上記乾燥させた材料を100mLの3.5M HClに入れた後、この混合物を1時間撹拌した。この酸を滴下するとガスが多量に発生した(HClを用いるとこの酸が反応することにより)。このHCl溶液を濾過で除去し、その固体を再び100mLの3.5M HClに懸濁させた後、更に1時間撹拌した。この濾過と酸性にする段階を全体で5回繰り返した。最後に、蒸留した脱イオン水(200mL)に上記固体を入れて1時間撹拌し、濾過し、水(200mL)の中に再懸濁させた後、撹拌することにより、過剰量のHClを除去した。この固体を濾過した後、125℃で24時間乾燥させた。最終的に得られた材料は、明黄色のガラス様材料であった。走査電子顕微鏡を用いてこの生成材料のミクロ構造を検査した。顕微鏡写真は、大きさが約0.5−1ミクロンの非常に大きな孔が存在していることを明らかに示していた。また、エネルギー分散x線分析でもCaを全く検出することができず、このことは、炭酸カルシウムの大部分が再酸性化で除去されたことを示している。この材料は高い多孔性を示し、表面積(BET表面積)は1グラム当たり310m2であり、そして1点細孔容積は0.46cc/gであった。
実施例8
n−ヘプテンによるトルエンのアルキル化を利用した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験
ある範囲の反応、例えばアルキル化反応などで固体状酸触媒を触媒として用いることができることは本技術分野でよく知られている。我々はn−ヘプテンによるトルエンのアルキル化で本シリカ/「ナフィオン(商標)」PFIEP複合体を触媒として用いることを記述しそしてガスクロを用いてヘプテンとトルエンの変換率を測定する。
比較として、我々はまたデュポン(E.I.du Pont de Nemours and Company、Wilmington、DE 19898)からペレット形態で入手可能であり(Adrich Chemical Companyが配給)そして「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPとして知られる「ナフィオン(商標)」PFIEP自身の触媒活性も試験した。
典型的な反応を以下に記述する。
トルエンおよびヘプテンの両方を使用前に3Aモレキュラーシーブで乾燥させた(24時間乾燥)。丸底フラスコにトルエンを15.6gおよびn−ヘプテンを8.4g入れ、そして「テフロン(TEFLON)(商標)」被覆磁気撹拌機を入れた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を100℃に加熱した。実施例1に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒(40重量%の「ナフィオン(商標)」PFIEPと60重量%のシリカで構成されている)のサンプル1gを穏やかに粉砕して大きな片を破壊し(サイズが約0.1から1mmの材料を得)た後、この固体を真空下140℃で24乾燥させた。この乾燥させた材料を上記トルエン/n−ヘプテン混合物に加えた後、この溶液を撹拌して正確に2時間反応させた。2時間後、サンプルを取り出し、ガスクロを用いてヘプテンの変換率を測定した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。ヘプテンの測定変換率は90%から95%であり、残存している未反応のヘプテンは10%から5%のみであった。
比較実験として、0.4gの「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPが示す触媒活性を試験した。0.4gは、この上で複合体を用いて試験した場合の「ナフィオン(商標)」PFIEPの重量と同じ重量に相当する。全く同じ手順を用い、「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPを140℃で24時間乾燥させ、そしてこの「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPを、トルエン(15.6g)とヘプテン(8.4g)が入っている撹拌溶液に100℃で加えた。2時間の反応時間後、変換率は約3%であることを確認し、残存する未反応のヘプテンは97%であった。
実施例9
実施例8に記述したのと同じ手順を正確に実施したが、但しこの場合、実施例5に記述した如く調製した20重量%が「ナフィオン(商標)」PFIEP/80重量%がシリカの複合体を触媒活性に関して評価した。触媒を1g用い(そしてトルエンを15.6gおよびヘプテンを8.4g用い)た時に得られたヘプテン変換率は79%であった。比較としてNR 50を0.2g用いた時に得られた変換率は1−2%の範囲であった。
実施例10
実施例8に記述したのと同じ手順を正確に実施したが、但しこの場合、実施例6に記述した如く調製した10重量%が「ナフィオン(商標)」PFIEP/90重量%がシリカの複合体を触媒活性に関して評価した。触媒を1g用い(そしてトルエンを15.6gおよびヘプテンを8.4g用い)た時に得られたヘプテン変換率は75%であった。比較としてNR 50を相当する重量で0.1g用いた時に得られた変換率は1%未満であり、残存する未反応のヘプテンは90%以上であった。
実施例11
シリカ源としてケイ酸ナトリウムを用いた、40重量%が「ナフィオン(商標)」PFIEP/60重量%がシリカの複合体の製造
ケイ酸ナトリウム溶液(シリカが29.6%入っている)を45.6mL取り出してその体積を150mLにするに充分な量で蒸留水を加えることにより、9%のケイ酸ナトリウム溶液150mLを構成させた。測定したpHは約12.5であった。この溶液を氷浴で約10℃に冷却した。この溶液を撹拌しながらpHが2.5に到達するまで約2−3分間かけてDowexカチオン交換樹脂を加えた。この過程で多ケイ酸が生成した。この溶液を濾過で上記樹脂から分離した。上記溶液に急速撹拌しながらアルコール/水混合物中5%の「ナフィオン(商標)」PFIEPを35mL加え、約1分後に撹拌機を停止させた。この溶液にカバー付けて90℃のオーブンに17時間入れ、この時点で固体状のゲルが系全体に生じた。このカバーを取り外し、そしてこの材料を90℃のオーブン内で24時間乾燥させ、そして最終的に真空下140℃で17時間乾燥させた。これにより、シリカゲルに典型的な堅いガラス様片が生じ、これのサイズは約0.1から5mmの範囲であった。この乾燥させたガラスを3.5MのHCl(約100mLの酸)に入れて再び酸性にし、撹拌した後、濾過し、そしてこの過程を5回繰り返した。最後に、この材料を水(100mL)と一緒に撹拌して濾過しそしてこの過程を2回繰り返すことにより、この材料の洗浄を行った。この再び酸性にした材料を140℃で17時間乾燥させることにより、若干褐色のガラス様「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体を得た。
触媒試験
トルエンおよびn−ヘプテンの両方を使用前に3Aモレキュラーシーブで乾燥させた(24時間乾燥)。丸底フラスコにトルエンを15.6gおよびn−ヘプテンを8.4g入れ、そして「テフロン(TEFLON)(商標)」被覆磁気撹拌機を入れた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を100℃に加熱した。この上に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒(10重量%の「ナフィオン(商標)」PFIEPと90重量%のシリカで構成されている)のサンプル1gを穏やかに粉砕して大きな片を破壊し(サイズが約0.1から1mmの材料を得)た後、この固体を真空下140℃で24乾燥させた。この乾燥させた材料を上記トルエン/n−ヘプテン混合物に加えた後、この溶液を撹拌して100℃で正確に2時間反応させた。2時間後、サンプルを取り出し、ガスクロを用いてn−ヘプテンの変換率を測定した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。ヘプテンの測定変換率は36%であった。
実施例12
20重量%が「ナフィオン(商標)」PFIEP/80重量%がアルミナの複合体の製造
362mLの蒸留水に75℃でアルミニウムトリ第二ブトキサイド[Al(OC4H9)3]を49.2g加えた後、この混合物を15分間撹拌した。この撹拌している溶液に、69%濃度の硝酸溶液を1.36g加えた後、この材料を密封ジャーに移し、これを90℃のオーブン内に24時間置いた。自由流れするアルミニウム含有溶液が生じた。B.E.Yoldasが「J.Mat.Sci」、10(1975)1856そしてB.E.Yoldasが「Ceramics Bulletin」、54(1975)289の中で、透明な多孔質アルミナを生じるアルミナゲルの生成を記述している。上記溶液200mLに、「ナフィオン(商標)」PFIEPが5%入っているアルコール/水樹脂溶液を20mL加えた。この材料をホットプレート上で撹拌することで溶液の温度を80℃にし、これを、その溶媒が全部蒸発してガラス様固体が残存するまで継続した。このガラス様固体は約0.1から2mmの範囲の粒子を含有していた。この材料は「ナフィオン(商標)」PFIEPを約20重量%およびアルミナを80重量%含有していた。この材料をジオキサン中4MのHClで再び酸性にした。
実施例13
シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが13.5重量%入っていて孔直径が約10nmのもの
204gのテトラメトキシシラン(TMOS)と33gの蒸留水と3gの0.04M HClを45分間撹拌することで透明な溶液を得た。300mLの「ナフィオン(商標)」溶液(これには「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)に、この「ナフィオン(商標)」溶液を撹拌しながら、0.4MのNaOH溶液を150mL加えた。この水酸化ナトリウム溶液を添加した後に生じる溶液を更に15分間撹拌した。上述した如く調製したケイ素含有溶液を、上記撹拌している「ナフィオン(商標)」含有溶液に急速添加した。約10−15秒後、この溶液はゲル化して固体状塊になった。このゲルをオーブンの中に入れ、約95℃の温度で約2日間に渡って乾燥させた後、真空下で一晩乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は98gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ344m2/g、0.85cc/gおよび9.8nmであった。
実施例14
シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが40重量%入っていて孔直径が約10nmのもの
204gのテトラメトキシシラン(TMOS)と33gの蒸留水と3gの0.04M HClを45分間撹拌することで透明な溶液を得た。1200mLの「ナフィオン(商標)」溶液(これには「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)に、この「ナフィオン(商標)」溶液を撹拌しながら、0.4MのNaOH溶液を150mL加えた。この水酸化ナトリウム溶液を添加した後に生じる溶液を更に15分間撹拌した。上述した如く調製したケイ素含有溶液を、上記撹拌している「ナフィオン(商標)」含有溶液に急速添加した。約10−15秒後、この溶液はゲル化して固体状塊になった。このゲルをオーブンの中に入れ、約95℃の温度で約2日間に渡って乾燥させた後、真空下で一晩乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は130gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ468m2/g、1.05cc/gおよび8.9nmであった。
実施例15
シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが8重量%入っていて孔直径が約10nmのもの
204gのテトラメトキシシラン(TMOS)と33gの蒸留水と3gの0.04M HClを45分間撹拌することで透明な溶液を得た。150mLの「ナフィオン(商標)」溶液(これには「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)に、この「ナフィオン(商標)」溶液を撹拌しながら、0.4MのNaOH溶液を150mL加えた。この水酸化ナトリウムを約1分間かけて加えた。この水酸化ナトリウム溶液を添加した後に生じる溶液を更に15分間撹拌した。上述した如く調製したケイ素含有溶液を、上記撹拌している「ナフィオン(商標)」含有溶液に急速添加した。約10−15秒後、この溶液はゲル化して固体状塊になった。このゲルをオーブンの中に入れ、約95℃の温度で約2日間に渡って乾燥させた後、真空下で一晩乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は82gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ412m2/g、0.84cc/gおよび10.3nmであった。
実施例16
シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが13重量%入っていて孔直径が約20nmのもの
204gのテトラメトキシシラン(TMOS)と33gの蒸留水と3gの0.04M HClを45分間撹拌することで透明な溶液を得た。300mLの「ナフィオン(商標)」溶液(これには「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)に、この「ナフィオン(商標)」溶液を撹拌しながら、0.8MのNaOH溶液を150mL加えた。この水酸化ナトリウム溶液を添加した後に生じる溶液を更に15分間撹拌した。このケイ素含有溶液と「ナフィオン(商標)」含有溶液の両方を氷で冷却して溶液温度を約10℃に下げた。上述した如く調製したケイ素含有溶液を、上記撹拌している「ナフィオン(商標)」含有溶液に急速添加した。約10秒後、この溶液はゲル化して固体状塊になった。このゲルをオーブンの中に入れ、約90℃の温度で約2日間に渡って乾燥させた後、真空下で一晩乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は97gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ123m2/g、0.84cc/gおよび22nmであった。
実施例17
シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが40重量%入っていてサイズが小さい(約10nm)孔と大きい(約0.5μm)孔の両方を含有する2種多孔度ゲル
255gのテトラメトキシシラン(TMOS)と40.75gの蒸留水と3.75gの0.04M HClを45分間撹拌することで透明な溶液を得た。1500mLの「ナフィオン(商標)」溶液(これには「ナフィオン(商標)」PFIEPが5重量%入っている)に、このナフィオン溶液を撹拌しながら、0.4MのNaOH溶液を187mL加えた後、炭酸カルシウム(Albafil Specialty Mineralsが供給している)を187g加えた。水酸化ナトリウム溶液を添加した後の炭酸カルシウムの分散を確保する目的で、Branson超音波探針を用い、その生じる溶液を更に15分間音波処理した。上述した如く調製したケイ素含有溶液を、上記撹拌している「ナフィオン(商標)」含有溶液に急速添加した。約10−15秒後、この溶液はゲル化して固体状塊になった。このゲルをオーブンの中に入れ、約95℃の温度で約2日間に渡って乾燥させた後、真空下で一晩乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は168gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ57m2/g、0.21cc/gおよび13nmであった。
実施例18
シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが13重量%入っていて孔直径が約2.1nmのもの
204gのテトラメトキシシラン(TMOS)と33gの蒸留水と3gの0.04M HClを30分間撹拌することで透明な溶液を得た。300mLの「ナフィオン(商標)」溶液にHClを加えることでHClの濃度を0.01Mにした。上述した如く調製したケイ素含有溶液を、上記撹拌している「ナフィオン(商標)」含有溶液に急速添加した。この容器を密封して65℃に加熱されているオーブンに一晩入れ、この時点で系がゲル化した。その上部を取り除き、フラスコと内容物をオーブンの中に入れて約95℃の温度で約2日間に渡って乾燥させた後、真空下で一晩乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は96gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ563m2/g、0.15cc/gおよび2.1nmであった。
実施例19
TMOS経由でシリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPを42重量%入れて酸加水分解段階を排除したもの
100mLの5%「ナフィオン(商標)」溶液に0.4MのNaOHを15g加えた。この溶液にTMOSを17g加えると15秒以内に溶液がゲル化した。この固体状ゲルを、窒素流で排気されている95℃のオーブン内で2日間乾燥させた後、真空乾燥を140℃で行った。この固体を3.5MのHCl(50mLの酸を用い)で1時間再び酸性にした後、50mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は9gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ330m2/g、0.36cc/gおよび8.3nmであった。
実施例20
シリカを「ナフィオン(商標)」に添加した後NaOHを添加することによりシリカに「ナフィオン(商標)」を8重量%入れたもの
20.4gのTMOSと3.2gの水と0.2gの0.04M HClを30分間撹拌した後、急速撹拌しながら5%「ナフィオン(商標)」溶液を15mL加えた。このシリカと「ナフィオン(商標)」が入っている溶液に、この溶液を急速撹拌しながら、0.4MのNaOHを15g急速添加した。この溶液は約10秒以内に固体状ゲルに変化した。このゲルを98℃で2日間乾燥させた後、真空下100℃で一晩乾燥させた。この固体を3.5MのHCl(150mLの酸を用い)で1時間再び酸性にした後、50mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は9gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ364m2/g、1.06cc/gおよび11.5nmであった。
実施例21
テトラエトキシシランを用いることによる「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体
108gのテトラエトキシシランと28.8gの水と2.4gの0.04M HClを2.5時間撹拌することで透明な溶液を得た。75mLの撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液(5%)に0.4MのNaOH溶液を55mL加えた後、この撹拌を15分間継続した。この撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に上記シリカ溶液を急速添加すると10−15秒以内にその系はゲルを形成した。このゲルを95℃で2日間乾燥させた後、真空下125℃で一晩乾燥させた。このゲルを粉砕して10メッシュのスクリーンに通し、3.5MのHCl(250mLの酸を用い)で1時間再び酸性にした後、250mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は32gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ330m2/g、0.75cc/gおよび7.5nmであった。
実施例22
ケイ酸ナトリウム溶液を用いることによる「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体
100gのケイ酸ナトリウム溶液(これにはシリカが29重量%入っている)に水を210mL加えた。この溶液に300gのDowexカチオン交換樹脂(Dow Chemical、Midland、MIが販売している)を非常に迅速に加えた後、pHが約3に下がるまで(2分以内)急速撹拌した。この溶液を濾過した。この濾液150mLに撹拌しながら5%「ナフィオン(商標)」溶液を30mL加えた。次に、2MのNaOH溶液を5mL加えると、この溶液はゲル化してpHが6.0に近くなった。このゲルを95℃で2日間乾燥させた後、真空下100℃で1日乾燥させた。このゲルを粉砕して10メッシュのスクリーンに通し、3.5MのHCl(250mLの酸を用い)で1時間再び酸性にした後、250mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は15.6gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ350m2/g、0.74cc/gおよび7.1nmであった。
実施例23
ケイ酸ナトリウム溶液を用いることによりシリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPを6重量%入れたもの
20gのケイ酸ナトリウム溶液(これにはシリカが29重量%入っている)に蒸留水を50g加えた。急速撹拌しながら5%「ナフィオン(商標)」溶液を10g加えた。この溶液を約10分かけて滴下した。次に、急速撹拌しながら12.41%HCl溶液を24mL加えるとpHが1.8に降下した。次に、0.4MのNaOHを急速添加することでpHを6に調整すると、この時点でこの溶液はゲルを形成した。このゲルを粉砕して10メッシュのスクリーンに通し、3.5MのHCl(100mLの酸を用い)で1時間再び酸性にした後、100mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は6.5gであった。測定表面積(BETで測定)、細孔容積および細孔直径はそれぞれ387m2/g、0.81cc/gおよび7.1nmであった。
実施例24
「LUDOX(商標)」40コロイド状シリカを用いることによりシリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPを10重量%入れたもの
160mLの5%「ナフィオン(商標)」溶液に「LUDOX(商標)」40(これにはシリカが80g入っている)を200mL加えた。3.5MのHClを用いてpHを6.0に調整した。この溶液を密封ガラス容器の中に入れ、そしてこれを60−70℃のオーブンに入れた。1時間後、この系はゲル化した。この材料を90℃で乾燥させた後、真空乾燥を140℃で行った。このゲルを3.5MのHCl(500mLの酸を用い)で1時間再び酸性にした後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。
実施例25
シリカ内に「ナフィオン(商標)」(NR55)PFIEPが入っている複合体
60mLのイソプロパノールと15mLのメタノールと75mLの水に「ナフィオン(商標)」の5%溶液(スルホン酸とカルボン酸基の両方を有するNR55)を150mL加えた。この溶液に0.4MのNaOHを150g加えた。個別に、204gのTMOSと32.6gの水と3gの0.04M HClを20分間撹拌した後、上記NR55溶液に加えた。生じたゲルを100℃で24時間乾燥させ、粉砕した後、10メッシュのスクリーンに通した。次に、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に1時間撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は92.6gであった。「ナフィオン(商標)」PFIEPの含有量は7.5重量%であった。
実施例26
Si−Al−Zr内に「ナフィオン(商標)」PFIEPが捕捉されている複合体
20.4gのTMOSと3.6gの水と0.3gの0.04M HClを20分間撹拌した後、Gelest、Tullytown、PAから入手可能な混合アルミニウム/ジルコニウム錯体Al2Zr(OR)x、を5g加えた。この混合物を5分間撹拌した。30gの5%「ナフィオン(商標)」溶液と15gの0.4M NaOHを混合した後、上記Si−Al−Zr含有溶液に加え、そしてこの材料を75℃のオーブンに入れ、乾燥を100℃で行った。
実施例27
使用済みまたは有機物混入複合体の硝酸処理
この上に記述した本発明の材料はある範囲の触媒反応で用いられる。ある反応の場合、この触媒はある程度褐色になる可能性がある。酸を用いた処理で触媒の再生を行うことができる。シリカの中に「ナフィオン(商標)」PFIEPが13重量%入っているもの100gを1リットルの35%硝酸と一緒に混合しそしてこの固体を75℃で一晩撹拌する。この得られる白色固体を脱イオン水で洗浄することで過剰量の酸を除去した後、真空下100℃で一晩乾燥させた。
実施例28
n−ヘプテンによるトルエンのアルキル化を利用した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験
ある範囲の反応、例えばアルキル化反応などで固体状酸触媒を触媒として用いることができることは本技術分野でよく知られている。n−ヘプテンによるトルエンのアルキル化で本発明のシリカ/「ナフィオン(商標)」PFIEP複合体を触媒として用いることができ、ここでは、ガスクロを用いてn−ヘプテンの変換率を測定することができる。
比較としてまたデュポン(E.I.du Pont de Nemours and Company、Wilmington、DE)からペレット形態で入手可能でありそして「ナフィオン(商標)」NR 50として知られる「ナフィオン(商標)」PFIEP自身の触媒活性も試験した。
本発明の説明的実施例
トルエンおよびn−ヘプテンの両方を使用前に3Aモレキュラーシーブで乾燥させた(24時間乾燥)。丸底フラスコにトルエンを15.6gおよびn−ヘプテンを8.4g入れ、そしてテフロン被覆磁気撹拌機を入れた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を100℃に加熱した。実施例14に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒のサンプル1gを真空下150℃で15時間乾燥させた。この乾燥させた材料を上記トルエン/n−ヘプテン混合物に加えた後、この溶液を撹拌して正確に2時間反応させた。2時間後、サンプルを取り出し、ガスクロを用いてn−ヘプテンの変換率を測定した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。n−ヘプテンの測定変換率は98%であり、残存している未反応のヘプテン量は2%のみであった。
比較実施例
比較実験として、0.4gの「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPが示す触媒活性を試験した。0.4gは、本発明の複合体を用いてこの上で試験した場合の「ナフィオン(商標)」PFIEPの重量と同じ重量に相当する。全く同じ手順を用い、NR50を150℃で24時間乾燥させ、そしてこのNR50を、トルエン(15.6g)とヘプテン(8.4g)が入っている撹拌溶液に100℃で加えた。2時間の反応時間後、変換率は約3%であることを確認し、残存する未反応のヘプテン量は97%であった。
実施例29
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例13で得られた材料を1g用いた。従って、シリカの中にナフィオンが13重量%入っているものを1g用いた。ヘプテンの変換率は89%であることを確認した。
比較実施例として、「ナフィオン(商標)」NR50を触媒として0.13g用いた(再び、実施例28の比較実施例に記述したのと同じ条件を用いた)。測定ヘプテン変換率は約1%であった。
実施例30
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例15で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は84%であった。
実施例31
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例16で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は94%であった。
実施例32
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例17で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は97%であった。
実施例33
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例18で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は91%であった。
実施例34
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例19で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は83%であった。
実施例35
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例20で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は93%であった。
実施例36
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例21で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は86%であった。
実施例37
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例22で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は82%であった。
実施例38
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例23で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は76%であった。
実施例39
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例24で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は28%であった。
実施例40
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例25で得られた材料を1g用いた。ヘプテンの測定変換率は64%であった。
実施例41
アルファメチルスチレン(AMS)の二量化を利用した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験
「ナフィオン(商標)」PFIEPを用いたアルファ−メチルスチレン(AMS)の二量化は過去に詳細に研究された(B.ChaudhuriおよびM.M.Sharme、Ind.Eng.Chem.Res.、1989、28、1757−1763)。この反応の生成物は、個々の不飽和二量体(2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテンおよび2,4−ジフェニル−4−メチル−2−ペンテン)と飽和二量体(1,1,3−トリメチル−3−フェニルインダンおよびシスおよびトランス−1,3−ジメチル−1,3−ジフェニルシクロブタン)の混合物である。「ナフィオン(商標)」PFIEPを触媒として用いると反応速度が非常に遅いことを確認した。
本発明の説明的実施例
実施例13で製造した固体0.5gを触媒として用いた。5gのアルファメチルスチレンと45gのクメン(溶媒として)を60℃に加熱した。この溶液に触媒を0.5g添加し、試薬と触媒を撹拌しながら60℃に加熱した。30分後、GC分析を用いてアルファメチルスチレンの量を測定した結果、変換率は約99%であり、残存する反応体AMSの量は1%未満であることが示された。200分の反応時間後、AMSの変換率は約100%であった。
比較実施例
0.07gの100%「ナフィオン(商標)」NR50 PFIEPを触媒として用いた。5gのアルファメチルスチレンと45gのクメン(溶媒として)を60℃に加熱した。この溶液に触媒を0.07g添加し、試薬と触媒を撹拌しながら60℃に加熱した。30分後、GC分析を用いてアルファメチルスチレンの量を測定した結果、変換率は1%未満であり、残存する反応体AMSの量は99%以上であることが示された。200分の反応時間後、アルファメチルスチレンの変換率は約5%であり、変化しなかったAMS量は95%であった。
実施例42
ベンゼンのニトロ化でニトロベンゼンを生じさせることを利用した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験
250mLの3つ口フラスコにDean−Stark水分トラップと磁気撹拌機を取り付けた。このフラスコにベンゼンを70−75g、MgSO4(乾燥剤として)を10g、1,3,5−トリクロロベンゼン(内部標準)を5.0gそして適切な酸触媒を7.5g仕込んだ。この混合物を不活性雰囲気下の大気圧下で加熱して還流させた。還流下で約30分後、供給ポンプのスイッチを入れることで90%HNO3を約0.06mL/分の割合で上記反応槽に供給した。この反応混合物を還流下に維持し、そして15−30分間隔でサンプルを取り出してGC分析を行った。実験時間が150分間の時の平均硝酸変換率およびニトロベンゼン選択率を以下の表Iに示す。
実施例43
シクロヘキセンを酢酸で酢酸シクロヘキシルに変化させることを利用した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験
固体状酸触媒を用いた酢酸によるシクロヘキセンのエステル化をFisher−Porter反応槽内の液相中で実施した。この反応槽は、ガス注入口、液体サンプリング口、熱電対および圧力ゲージを取り付けたガラス管から成っていた。この反応槽では、磁気撹拌機を用いて混合を行い、そしてこの反応槽を熱エアガンで加熱した。このガラス反応槽をバッチ様式で運転し、この反応槽に酢酸、シクロヘキセン、シクロオクタン(内部標準)および触媒を仕込んだ後、この反応槽を加圧および加熱して所望運転条件にした。ガスクロ−質量分光測定で反応体と生成物を分析した。
シクロヘキセンの二量化を最小限にする目的で酢酸を過剰量にして反応を実施した(酢酸/シクロヘキセンのモル比5:1)。異なる4種の触媒を、それぞれ、100℃の温度および50psigの圧力下、稼動時間を5時間にして試験した。全く触媒を存在させなくても反応が進行するか否かを確認する目的でまた同じ運転条件下でブランク実験も実施した。この上で述べた運転条件下、触媒を存在させないと、酢酸シクロヘキシルは全くか或はほとんど生成しなかった。
この一連の実験で試験した4種触媒に硫酸化(sulfated)ジルコニア、Amberlyst 15(Rohm and Haas)、「ナフィオン(商標)」NR50(デュポン)、並びに本発明の13.5%「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカミクロ複合体材料(実施例13)を含めた。5時間の稼動時間後に触媒が示す効率を、この触媒がエステル化反応で示す比活性(触媒1g当たり1時間毎に生じる酢酸シクロヘキシルのグラムモルとして測定)を基準にして比較した。この触媒の比活性を表IIに報告する。
このように、13.5重量%「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカミクロ複合体触媒が示す活性はAmberlyst 15および「ナフィオン(商標)」NR50のそれよりもほぼ1桁高くそして硫酸化ジルコニアのそれよりも約40倍高いことを確認した。酢酸シクロヘキシルの選択率は、Amberlyst 15、「ナフィオン(商標)」NR50および13.5重量%「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカミクロ複合体触媒の場合90モル%以上であったが、硫酸化ジルコニアの場合の選択率は50モル%未満であった。
実施例44
「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒を用いた「TERATHANE(商標)」生成
機械的撹拌機、420ミクロンの内部フィルターおよび供給ポンプを取り付けた300mLのParr圧力反応槽(「テフロン(商標)」が内張りしてある)に、実施例18の「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒を9g仕込み、そしてこの過程の残りで、3−メチルテトラヒドロフランが27.9部、テトラヒドロフランが71.1部、無水酢酸が6部および酢酸が0.6部入っている溶液を仕込んだ。この反応槽を組み立て、空気を排出させ、そして反応槽内の平均接触時間が10時間になるように供給を開始した。この反応を周囲温度で実施した。4000Mnのポリマーが5.9%の変換率で生じた。更に触媒(34g)を加えることで全体量を43gにして反応を継続した。3500Mnのポリマーが20%の変換率で生じた。
ポリマーの3−メチルTHF含有量に関する分析は行わなかった。反応体と9gの「ナフィオン(商標)」NR50が入っている上記系を10時間接触させた場合に得られる変換率は45−50%になるであろう。
実施例45
80%が「ナフィオン(商標)」PFIEP/20%がシリカの複合体
40gのTMOSと7gの水と0.6gの0.04M HClを15分間撹拌した。これを1200mLの5%「ナフィオン(商標)」溶液(これには撹拌しながら前以て100mLの0.4M NaOHを15分かけて加えておいた)に加えた。柔らかなゲルが生じ、そしてこのフラスコと内容物を窒素流下の95℃オーブンに入れて乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(500mLの酸を用い)と一緒に撹拌し、続いて500mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は58gであった。
実施例46
有機的改質を受けさせたシリカ/「ナフィオン(商標)」PFIEP複合体
SiO 2 /SiO 3/2 Me/「ナフィオン(商標)」PFIEP
20gのMeSi(OMe)3を3gの水および0.3gの0.04M HClと一緒に混合した。この溶液を約5分間撹拌した。22gのTMOSと3gの水と0.3gの0.04M HClが入っている溶液(これを3分間撹拌した)を上記MeSi含有溶液に加えた。この一緒にした透明なケイ素含有溶液を「ナフィオン(商標)」/NaOH[60mLの5%「ナフィオン(商標)」溶液に30mLの0.4M NaOHを1時間かけて加えることで入れた]に加えると、この系は約3−5分でゲル化した。この材料を窒素流下95℃で乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(100mLの酸を用い)と一緒に撹拌し、続いて100mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。乾燥生成物の収量は約20gであった。実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験ではこの実施例で得られた材料を1g用いた。測定ヘプテン変換率は44%であった。
実施例47
PhSiO 3/2 /MeSiO 3/2 /Me 2 SiO/SiO 2 /「ナフィオン(商標)」PFIEP複合体
5gのPhSi(OMe)3と10gのMeSi(OMe)3と10gのMe2Si(OMe)2を混合した後、4gの水および0.3gの0.04M HClを加えて撹拌した。これに、0.3gの0.04M HClと3gの水と一緒に撹拌した22gのTMOSを加えた後、このケイ素含有溶液を15分間撹拌した。40gの5%「ナフィオン(商標)」溶液に25mLの0.4M NaOHを1分間かけて加えた。次に、この撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に上記ケイ素含有溶液を加えた後、この混合物を放置してゲル化させた。この材料を窒素流下95℃で乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(100mLの酸を用い、これにはまた湿潤を確保する目的でエタノールを25mL入れた)と一緒に1時間撹拌し、続いて100mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験ではこの実施例で得られた材料を1g用いた。測定ヘプテン変換率は48%であった。
実施例48
Me 2 SiO/SiO 2 /「ナフィオン(商標)」PFIEP複合体
20gのMe2Si(OMe)2を混合しながら3gの水および0.3gの0.04M HClを加えて5分間撹拌した。この溶液に、0.3gの0.04M HClと3.5gの水と一緒に撹拌した25gのTMOSを加えた後、このケイ素含有溶液を15分間撹拌した。50gの5%「ナフィオン(商標)」溶液に25mLの0.4M NaOHを1分間かけて加えた。次に、この撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に上記ケイ素含有溶液を加えた後、この混合物を放置すると約30秒でゲル化した。この材料を窒素流下95℃で乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(100mLの酸を用い、これにはまた湿潤を確保する目的でエタノールを25mL入れた)と一緒に1時間撹拌し、続いて100mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験ではこの実施例で得られた材料を1g用いた。測定ヘプテン変換率は37%であった。
実施例49
ポリジメチルシロキサン/Si/「ナフィオン(商標)」PFIEP複合体
0.3gの0.04M HClと一緒に撹拌した25gのTMOSにポリジメチルシロキサンを8g加え、3.5gの水を加えた後、このケイ素含有溶液を15分間撹拌した。50gの5%「ナフィオン(商標)」溶液に25mLの0.4M NaOHを1分間かけて加えた。次に、この撹拌している「ナフィオン(商標)」溶液に上記ケイ素含有溶液を加えた後、この混合物を放置すると約30秒でゲル化した。この材料を窒素流下95℃で乾燥させた。この硬質ガラス様生成物を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(100mLの酸を用い、これにはまた湿潤を確保する目的でエタノールを25mL入れた)と一緒に1時間撹拌し、続いて100mLの脱イオン水で洗浄した。この固体を濾過で集めた。酸性にし、洗浄した後、濾過を行う手順を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験ではこの実施例で得られた材料を1g用いた。測定ヘプテン変換率は49%であった。
実施例50
前成形支持体上に付着させた「ナフィオン(商標)」PFIEPの比較実施例
触媒試験
シリカゲル支持体の上部に付着させた「ナフィオン(商標)」PFIEPのサンプルを米国特許第4,038,213号の説明的態様Iaに従って調製した。使用したシリカは多孔質シリカ(A Dvisionシリカ62)であった。これの表面積は米国特許第4,038,213号に記述されているのと同じく300m2/gであり、そして細孔容積は1.1cc/グラムであった。この多孔質シリカ支持体を「ナフィオン(商標)」のアルコール溶液(5%「ナフィオン(商標)」PFIEP)で処理した後、ロータリーエバポレーターでアルコールを除去することにより、シリカ上に「ナフィオン(商標)」が5%支持されている触媒を残存させた。触媒試験を行う前に、この支持体と「ナフィオン(商標)」を150℃で乾燥させた。
実施例28に記述した如き説明的実施例を実施したが、但しこの触媒実験では実施例50で得られた材料を2g用いた。従って、シリカ中5重量%の「ナフィオン(商標)」を2g用いたことから、触媒の全体量は0.1gであった。測定ヘプテン変換率は24%であった。
比較で、例えば実施例13−23に記述した如くインサイチューで製造した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒(高度に分散していて捕捉されている「ナフィオン(商標)」PFIEPが入っている)を同じ「ナフィオン(商標)」充填率で用いた場合に得られた変換率は典型的に85−99%であった。従って、実施例21で得られた材料1g(「ナフィオン(商標)」PFIEPの全重量は0.1gである)をこの触媒実験で用いた場合のヘプテン変換率は86%であることを確認した。
顕微鏡試験
Norum EDS x線分析を装備したHitachi S−5000SP顕微鏡(Hitachi Instruments、日本から入手可能な走査電子顕微鏡)を用いて顕微鏡測定を実施した。実施例21に従って調製したサイズが約1−2mmの粒子をエポキシ樹脂の中に入れ、これを硬化させた後、この樹脂と粒子を磨くことで、この粒子の研磨された断面(これは粒子の内部を見せる)を得た。EDS x線分析をスポット様式で用いることにより(これで小さいサブミクロン領域を分析する)、Si、F、OおよびCが存在していることが示され、これらは全部、粒子の内部全体に渡って存在していた。粒子内の領域をいくつか分析すると共に異なる粒子もいくつか分析した結果、Siが検出される全ケースでいつもFがまた検出され、このことは、この2つが密に混合していることを示していた。全体にSiが豊富であるか或は全体にFが豊富である領域は全く観察されなかった。SiとFが均一に分布していることを観察した。
米国特許第4,038,213号の説明的実施例Iaに従って調製した粒子は対照的に均一でなかった。Siが検出されるサンプルの大部分において、測定可能な量でFは全く確認されなかった。このシリカの極末端部にFが豊富な材料の帯を確認したが、シリカは全く存在しておらず、このことは、シリカ粒子の外側縁に「ナフィオン(商標)」PFIEPの層が存在していて「ナフィオン(商標)」PFIEPとの密な混合物は存在しないことを示している。このような層は目でも観察でき、その厚さは、約100ミクロンの粒子の場合約0.1から4−5ミクロンで変化し、その範囲内にはフッ素が全く存在していないことが示された。また、この層はある領域(外側のシリカ表面上)には存在していなかった。SiとFが密に混合していることは観察されなった。
上記2つのサンプルに関して元素x線地図(Si、OおよびFに関する)を作成した。実施例21に記述した如き手順を用いてこの3元素全部が均一に分布していることを観察し、そしてこの均一な分布を本発明のミクロ複合体粒子全体内で確認した。
米国特許第4,038,213号に従って調製したサンプルのx線元素地図は、シリカの外側縁にフルオロカーボンの層が存在していることを示し、この材料の大部分はシリカのみであった。
実施例51
ドデセンによるジフェニルエーテルのアルキル化を利用した「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験
本発明の説明的実施例
ジフェニルエーテルおよびドデセンの両方を使用前に3Aモレキュラーシーブで乾燥させた(24時間乾燥)。丸底フラスコにジフェニルエーテルを17gおよびドデセンを8.4g入れ、そしてテフロン被覆磁気撹拌機を入れた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を150℃に加熱した。実施例13に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒のサンプル1gを真空下150℃で15時間乾燥させた。この乾燥させた材料を上記ジフェニルエーテルとドデセンの混合物に加えた後、この溶液を撹拌して150℃で正確に2時間反応させた。2時間後、このドデセンからサンプルを取り出してガスクロで測定した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。ジフェニルエーテルの測定変換率は99%以上であり、残存している未反応のドデセン量は1%未満であった。
比較実施例
比較実験として、0.13gの「ナフィオン(商標)」NR 50が示す触媒活性を試験した。0.13gは、本ミクロ複合体を用いてこの上で試験した場合の「ナフィオン(商標)」PFIEPの重量と同じ重量に相当する。全く同じ手順を用い、NR50を150℃で16時間乾燥させ、そしてこのNR50を、ドデセン(8.4g)とジフェニルエーテル(17g)が入っている撹拌溶液に150℃で加えた。2時間の反応時間後、変換率は約5%であることを確認し、残存する未反応のドデセン量は95%であった。
実施例52
シリカ中60%の「ナフィオン(商標)」PFIEP
「ナフィオン(商標)」が5%入っている溶液1200gに0.8M NaOHを150g加えた後、炭酸カルシウム粉末を150g加えた。ソニックホーン(sonic horn)を用いてこのフラスコと内容物を2分間超音波処理した。個別に、135gのテトラエトキシシランに水を37mLおよび3.5MのHClを0.3g加えた。この溶液を1時間撹拌した。このシリカ溶液を上記「ナフィオン(商標)」含有溶液に加え、この混合物を1時間放置した後、この材料を95℃のオーブン内で2日間乾燥させ(このオーブンの中に窒素流を流しながら)た後、真空乾燥を115℃で1日間行った。この固体を1リットルの3.5MのHClと一緒に一晩撹拌した後、500mLの脱イオン水で洗浄し、そしてこの固体を濾過で集めた。この固体を更に500mLの3.5M HClと一緒に1時間撹拌し、濾過した後、500mLの脱イオン水で洗浄し、そしてこの過程を全体で5回繰り返した。この最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。
アシル化反応
使用前に、塩化ベンゾイルとm−キシレンをモレキュラーシーブで乾燥させた。丸底フラスコにm−キシレンを10.6gおよび塩化ベンゾイルを7g入れ、そして「テフロン(商標)」被覆磁気撹拌機を加えた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を130℃に加熱した。この実施例に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒のサンプル0.17gを真空下150℃で15時間乾燥させた。この乾燥させた材料を上記m−キシレンと塩化ベンゾイルの混合物に加えた後、この溶液を撹拌して130℃で正確に6時間反応させた。6時間後、サンプルを取り出した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。塩化ベンゾイルの測定変換率は75%であった。
比較実施例
比較実験として、0.1gの「ナフィオン(商標)」NR 50 PFIEPが示す触媒活性を試験した。0.1gは、本複合体を用いてこの上で試験した場合の「ナフィオン(商標)」PFIEPの重量と同じ重量に相当する。全く同じ手順を用い、「ナフィオン(商標)」NR50 PFIEPを150℃で16時間乾燥させ、そしてこの「ナフィオン(商標)」NR50 PFIEPを、上記m−キシレンと塩化ベンゾイルが入っている撹拌溶液に130℃で加えた。6時間の反応時間後、変換率は約17%であることを確認した。
実施例53
この実施例では、塩化ベンゾイルによるm−キシレンのアシル化を用いた「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ複合体の触媒試験で、実施例45で調製した触媒を用いた。
使用前に、m−キシレンと塩化ベンゾイルをモレキュラーシーブで乾燥させた。丸底フラスコにm−キシレンを10.6gおよび塩化ベンゾイルを7g入れ、そして「テフロン(商標)」被覆磁気撹拌機を加えた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を130℃に加熱した。乳鉢と乳棒を用いてこの「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ組成物(約5グラム)を約10分間粉砕することで微粉末にした。実施例45に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒のサンプル0.125gを真空下150℃で15時間乾燥させた。この乾燥させた材料を上記m−キシレンと塩化ベンゾイルの混合物に加えた後、この溶液を撹拌して130℃で正確に6時間反応させた。6時間後、サンプルを取り出した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。塩化ベンゾイルの変換率は90%であることを確認し、これに比較して、比較実施例52で上に記述した如き比較実施例の場合の変換率は17%であった。
実施例54
シリカ中40%の「ナフィオン(商標)」PFIEP
1200mLの「ナフィオン(商標)」に150mLの1.2M NaOHを約10分かけて加えた。個別に、204gのテトラメトキシシランと32.6gの水と3gの0.04M HClを45分間混合した後、このケイ素含有溶液を上記「ナフィオン(商標)」含有溶液に加えた。この溶液は約1分でゲル化し、このフラスコと内容物を窒素流下の100℃オーブンに2日間入れた後、真空乾燥を更に1日行った。この固体を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この固体を3.5MのHCl(500mLの酸)と一緒に1時間撹拌し、続いて500mLの脱イオン水で洗浄し、そしてこの固体を濾過で集めた。この過程を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。
アシル化反応
使用前に、m−キシレンと塩化ベンゾイルをモレキュラーシーブで乾燥させた。丸底フラスコにm−キシレンを10.6gおよび塩化ベンゾイルを7g入れ、そして「テフロン(商標)」被覆磁気撹拌機を加えた。このフラスコに還流コンデンサを取り付け、そして水分を最小限にする目的で、還流コンデンサの上部の上に窒素流をゆっくりと流した。このフラスコと内容物を130℃に加熱した。この実施例に記述した如き「ナフィオン(商標)」PFIEP/シリカ触媒のサンプル0.25gを真空下150℃で15時間乾燥させた。この乾燥させた材料を上記m−キシレンと塩化ベンゾイルの混合物に加えた後、この溶液を撹拌して130℃で正確に6時間反応させた。6時間後、サンプルを取り出した。このGC分析ではドデカンを標準として用いた。塩化ベンゾイルの変換率は68%であることを確認したが、これに比較して、比較実施例52で上に記述した如き比較実施例の場合の変換率は17%であった。
実施例55
「ナフィオン(商標)」が5%入っている溶液350mLに8M NaOHを7.5g加えた。この溶液を約2分間撹拌した。個別に、75gのテトラメトキシシランに水を12mLおよび0.04MのHClを1mL加えた。この溶液を45分間撹拌した後、このケイ素含有溶液を上記「ナフィオン(商標)」溶液に加えた。この系は約10秒でゲル化し、このフラスコと内容物を95℃のオーブン内で2日間乾燥させた後、真空乾燥を117℃で更に1日間行った。この固体を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(250mLの酸)と一緒に1時間撹拌し、続いて100mLの脱イオン水で洗浄し、そしてこの固体を濾過で集めた。この過程を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄(1000mLの脱イオン水を用いて)を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。
実施例56
「ナフィオン(商標)」が5%入っている溶液175mLに8M NaOHを2.5g加えた。この溶液を約2分間撹拌した。個別に、42gのテトラメトキシシランに水を6mLおよび0.04MのHClを0.6mL加えた。この溶液を45分間撹拌した後、上記「ナフィオン(商標)」溶液に加えた。この系は約10秒でゲル化し、このフラスコと内容物を95℃のオーブン内で2日間乾燥させた後、真空乾燥を117℃で更に1日間行った。この固体を粉砕して10メッシュのスクリーンに通した後、この材料を3.5MのHCl(250mLの酸)と一緒に1時間撹拌し、続いて100mLの脱イオン水で洗浄し、そしてこの固体を濾過で集めた。この過程を全体で5回繰り返し、そして最終的な洗浄(1000mLの脱イオン水を用いて)を行った後の固体を真空下100℃で24時間乾燥させた。
Claims (11)
- 金属酸化物の網状組織内に捕捉されていてその全体に渡って高度に分散している、ペンダント型スルホン酸および/またはカルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマーを含む、多孔質ミクロ複合体であって、該金属酸化物がシリカ、アルミナ、チタニア、ゲルマニア、ジルコニアおよび/または酸化タンタルから選ばれるものであり、該ミクロ複合体中のイオン交換用完全フッ素置換ポリマーの重量パーセントが0.1から90パーセントでありそして該ミクロ複合体が0.5nmから75nmの範囲の平均細孔直径を有する孔を含んでおりそして該ミクロ複合体が75nmから1000nmの範囲の平均細孔直径を有する孔を更に任意に含むミクロ複合体。
- シリカまたはアルミナの網状組織内に捕捉されていてその全体に渡って高度に分散しているペンダント型スルホン酸および/またはカルボン酸基を有するイオン交換用完全フッ素置換ポリマーを含む多孔質ミクロ複合体で該ミクロ複合体中のイオン交換用完全フッ素置換ポリマーの重量パーセントが0.1から90パーセントでありそして該ミクロ複合体が0.5nmから75nmの範囲の平均細孔直径を有する孔を含んでおりそして該ミクロ複合体が75nmから1000nmの範囲の平均細孔直径を有する孔を更に任意に含む多孔質ミクロ複合体を製造する方法であって、
a.該イオン交換用完全フッ素置換ポリマーと1種以上のシリカまたはアルミナ前駆体を共通溶媒中で混合し、
b.ゲル化を開始させ、
c.この混合物にゲル化および熟成を充分な時間受けさせ、そして
d.該溶媒を除去する、
段階を含む方法。 - 段階dの後、
e.酸を添加することで段階dの生成物を酸性にし、そして
f.過剰量の酸を除去する、
段階を更に含む請求の範囲第2項の方法。 - 段階aにおいて、酸抽出性充填材粒子を1から80重量パーセントの量で該混合物に加え、それによって、上記ミクロ複合体に75nmから1000nmの範囲の平均細孔直径を有する孔を更に含有させ、そして段階dの後、
e.酸を添加することで段階dの生成物を酸性にし、そして
f.過剰量の酸を除去する、
ことを更に含む請求の範囲第2項の方法。 - 芳香族化合物の改良ニトロ化方法であって、ここでの改良が、触媒量の請求項1の多孔質ミクロ複合体に上記芳香族化合物を接触させることから成る方法。
- オレフィンでカルボン酸をエステル化する改良方法であって、ここでの改良が、触媒量の請求項1の多孔質ミクロ複合体に上記カルボン酸を接触させることから成る方法。
- 請求項1の多孔質ミクロ複合体からなる触媒の再生方法であって、
(a)該ミクロ複合体を酸に接触させ、そして
(b)過剰量の酸を除去することで再生触媒を生じさせる、
段階を含む方法。 - アルファ置換スチレンの二量化を行う改良方法であって、ここでの改良が、触媒量の請求項1の多孔質ミクロ複合体に上記アルファ置換スチレンを接触させることから成る方法。
- 芳香族化合物をオレフィンでアルキル化する改良方法であって、ここでの改良が、触媒量の請求項1の多孔質ミクロ複合体に上記芳香族化合物を接触させることから成る方法。
- テトラヒドロフランを重合させてポリテトラメチレンエーテルアセテートを生じさせる改良方法であって、ここでの改良が、触媒量の請求項1の多孔質ミクロ複合体に上記テトラヒドロフランを接触させることから成る方法。
- 芳香族化合物をハロゲン化アシルでアシル化する改良方法であって、ここでの改良が、触媒量の請求項1の多孔質ミクロ複合体に上記芳香族化合物を接触させることから成る方法。
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