JP4097580B2 - 磁束照射装置 - Google Patents

磁束照射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4097580B2
JP4097580B2 JP2003289534A JP2003289534A JP4097580B2 JP 4097580 B2 JP4097580 B2 JP 4097580B2 JP 2003289534 A JP2003289534 A JP 2003289534A JP 2003289534 A JP2003289534 A JP 2003289534A JP 4097580 B2 JP4097580 B2 JP 4097580B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic flux
coil assembly
flux irradiation
power supply
low
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003289534A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005058298A (ja
Inventor
鋼太郎 平山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Ichi High Frequency Co Ltd
Original Assignee
Dai Ichi High Frequency Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Ichi High Frequency Co Ltd filed Critical Dai Ichi High Frequency Co Ltd
Priority to JP2003289534A priority Critical patent/JP4097580B2/ja
Publication of JP2005058298A publication Critical patent/JP2005058298A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4097580B2 publication Critical patent/JP4097580B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electrotherapy Devices (AREA)

Description

本発明は、癌の治療などのために生体の局所を集中的に加熱するために用いる磁束照射装置に関する。
癌細胞を壊死させるために患部を集中的に加熱する局部温熱療法(ハイパーサーミア法)が従来より種々検討されている。この方法は、癌細胞が42.5°C以上の加熱によって壊死するという知見に基づき、患部を正常細胞が侵襲されない程度の温度に加熱して癌細胞のみを選択的に壊死させることを指向したものである。ここで、42.5°Cという温度は、正常細胞を壊死させないまでも、このような加熱が広域に及べば生理機能に障害をもたらす恐れがあるので、加熱をいかに患部本位に行えるかが治療の成否を分けるポイントとなる。
そこで、本出願人は先に、前立腺癌のように、生体の内部にある患部に対して集中的に加熱を行う技術を開発すべく鋭意検討の結果、生体内の要加熱局所に感磁発熱体を導入配置し、該要加熱局所を生体外部に配置した交番磁界発生装置によって交番磁束照射する構成の装置を開発し、特許出願した(特開平11−57031号公報参照)。この装置では、交番磁界発生装置から照射された交番磁束が、感磁発熱体配置領域に集中し、磁気ヒステリシスによる感磁発熱体の発熱量が多くなり、一方、感磁発熱体配置領域を外れた領域では磁束密度が低くなるため、生体に発生する渦電流によるジュール発熱量がきわめて少なくなり、これらの結果、患部中心の集中的な加熱が行えるという利点を有している。
特開平11−57031号公報
しかしながら、この公報に記載の技術にも更に改良すべき点があった。すなわち、上記公報に記載の装置では、生体外に配置した交番磁界発生装置から交番磁束を照射しているため、感磁発熱体によって感磁発熱体配置領域に磁束を集中させることができるとしても、交番磁束照射位置から感磁発熱体配置領域までの距離が大きいため磁束が届きにくく、感磁発熱体配置領域の磁束密度を、加熱に要する磁束密度とするには、交番磁界発生装置の出力を大きくして照射磁束密度を高くしなければならない。このため、交番磁界発生装置における磁束出力端を構成するコイルとして多巻コイルを用い、それを高電圧で駆動することが必要となり、高駆動電圧起因の誘電作用による被施術生体の感電の恐れを生じる。また、出力の大きい交番磁界発生装置を用いるため、コスト高となると言った問題もある。
本発明は、生体内部の患部などの要加熱局所を集中的に、且つ感電等の恐れの少ない低電圧駆動による磁束出力端を用いて加熱することを可能とする磁束照射装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決すべくなされた請求項1に係る発明の磁束照射装置は、生体内の要加熱局所に導入配置した感磁発熱体を発熱させるために、生体の開口部から体腔内に挿入して体腔内から交番磁束照射を行うための磁束照射装置であって、磁束出力端として機能させる低巻数のコイル往復の電路を備えた低インダクタンスの給電路とを連ねて接続したコイルアッセンブリーを配して体腔内挿入部を構成すると共に、この体腔内挿入部にこれを体外から取り扱うための体外把手部を連設一体化して構成した体内挿入形式の磁束照射ガンと、該磁束照射ガンに高周波交流を送給する高周波電源装置と、前記コイルアッセンブリーと高周波電源装置の間に設けられ、高周波電源装置からの高周波交流を低電圧大電流に変換してコイルアッセンブリーに送給する電流増幅トランスを備えており、該電流増幅トランスを前記磁束照射ガンの前記体外把手部に配すると共に、前記コイルアッセンブリーを前記電流増幅トランスに、該電流増幅トランスの2次側と前記コイルアッセンブリーとが連なる閉回路を形成するように接続していることを特徴とする。
請求項に係る発明は、請求項の発明における前記磁束照射ガンにおいて、前記コイルアッセンブリーを構成する低インダクタンスの給電路をパラレル又はペアツイスト給電路で構成し、前記電流増幅トランスの2次巻線を、C字状断面の切欠筒体で構成したものである。
請求項に係る発明は、請求項の発明における前記磁束照射ガンにおいて、前記コイルアッセンブリーを構成する低インダクタンスの給電路を同軸給電路で構成し、前記電流増幅トランスを、その1次巻線がトロイダル形式で巻成されたものであり、2次巻線が、2体の金属製筒体を前記トロイダル形式の1次巻線の内周側と外周側と振り分け配置して構成した同軸形式のものとしたものである。
請求項に係る発明は、請求項1からのいずれか1項に係る発明において、前記磁束照射ガンの、少なくとも前記コイルアッセンブリーを、絶縁材料製のハウジングに収容する構成としたものである。
請求項に係る発明は、請求項1からのいずれか1項に係る発明において、前記磁束照射ガンの、少なくとも前記コイルアッセンブリーに、絶縁材料による被覆を施す構成としたものである。
本発明の磁束照射装置は、体腔内挿入部と体外把手部を備えた磁束照射ガンを備えているので、生体内の局所、例えば前立腺内の局所に導入配置した感磁発熱体に磁束照射するに際し、磁束照射ガンを、その体外把手部をつかんで保持し、体腔内挿入部を、生体の開口部、例えば肛門を通して直腸などの体腔内に挿入し、磁束出力端として機能させる低巻数のコイルを当該局所に近接させ、その位置で磁束を照射することで、磁束の照射を所望の局所に的確に集中させて行うことができる。このように、感磁発熱体を導入配置した局所の至近距離から磁束照射を行うことができるため、局所の加熱効率が良く、小さい照射エネルギーで必要な加熱を行うことができ、磁束照射端が、1〜5巻といった低巻数のコイルで必要な磁束照射を行うことができる。また、磁束出力端として低巻数のコイルを採用したことでこの部分のサイズを小さくでき、体腔内への挿入を容易に行うことができる。更に、低巻数のコイルは低電圧通電によって駆動でき、且つそのコイルには低インダクタンスの給電路を接続して通電する構成としているので、コイルアッセンブリーの生体内に挿入される部位への印加電圧を低く抑えることが可能となり、しかも、コイルアッセンブリーと高周波電源装置の間に高周波交流を低電圧大電流に変換する電流増幅トランスを配置し、コイルアッセンブリーをその電流増幅トランスに、該電流増幅トランスの2次側と前記コイルアッセンブリーとが連なる閉回路が形成されるように接続したことで、コイルアッセンブリーへの印加電圧を前記電流増幅トランスの2次側出力電圧以下の低電圧に抑えた状態で通電し、磁束照射を行うことができ、多巻コイルのような、高駆動電圧起因の誘導作用による被施術生体の感電や非集中的な加熱が施策なしに回避できる。
更に、前記磁束照射ガンの体外把手部に、前記電流増幅トランスを内蔵させる構成としたことにより、磁束照射ガンには小電流を送給すればよいことになり、ひいては、この送給路の発熱が小さくなるため、磁束照射ガンに連なる給電や冷却水供給のためのケーブルが細身のもので済んで、磁束照射ガンの操作性が向上し、また、高周波電源装置を含めた装置規模を小さくできると共に無駄な電力消費を小さくできるという効果をもたらす。
前記磁束照射ガンにおいて、前記コイルアッセンブリーを構成する低インダクタンスの給電路をパラレル又はペアツイスト給電路で構成すると、給電路のインダクタンスを低く抑えることができ、また、電流増幅トランスの2次巻線をC字状断面の切欠筒体で構成すると、電流増幅トランスの構造を簡単且つ小型にすることができると共に大きい巻数比を確保でき、その電流増幅トランスを配した体外把手部のサイズを、手で容易に操作しうるよう小さくすることができる。
また、前記磁束照射ガンにおいて、前記コイルアッセンブリーを構成する低インダクタンスの給電路を同軸給電路で構成すると、給電路のインダクタンスを一層低く抑えることができ、また、電流増幅トランスを、その1次巻線がトロイダル形式で巻成されたものであり、2次巻線が、2体の金属製筒体を前記トロイダル形式の1次巻線の内周側と外周側とに振り分け配置して構成した同軸形式のものとすると、電流増幅トランスの構造を簡単且つ小型にすることができると共に大きい巻数比を確保でき、その電流増幅トランスを配した体外把手部のサイズを、手で容易に操作しうるよう小さくすることができる。また、その電流増幅トランスの2次巻線と同軸給電路の接続構造を簡単なものとすることができる。
前記した磁束照射ガンを、少なくとも前記コイルアッセンブリーが、絶縁材料製のハウジングに収容されている構成とすると、生体内に挿入した際に生体に対する感電等のトラブルを回避でき、またハウジングの形状を生体内への挿入に適した形状としておくことで、挿入を容易とすることができる。
また前記した磁束照射ガンの、少なくとも前記コイルアッセンブリーに、絶縁材料による被覆を施しておく構成とすると、コイルアッセンブリー内におけるショートを回避できると共に生体に対する感電等のトラブルを回避できる。
磁束照射装置による交番磁束照射によって発熱させる感磁発熱体には、酸化鉄微粉などの交番磁界中で磁気ヒステリシスにより発熱する微粒子であって、生体への害が少なく、又、代謝排出されやすい微粒子を主成分とするものが使用される。感磁発熱体の好適な例としては、特開平11−57031号公報に記載されている感磁発熱体を挙げることができる。また、この感磁発熱体を生体内の局所に導入配置する方法は任意であり、患部に生体を切開して埋設する配置手法、血管を通して患部に送り込む手法などを採用すればよい。なお、本発明に使用する感磁発熱体は、磁気ヒステリシス発熱性を有するものに限らず、金属微粉などの誘導加熱発熱性を有するものとしてもよい。
生体内の感磁発熱体導入局所に対して交番磁束照射を行うために用いる磁束照射装置は、磁束出力端を生体の開口部、例えば肛門から体腔内に挿入して要加熱局所に至近近接させることができるものである。以下、その磁束照射装置の好適な実施形態を説明する。
図1は本発明の好適な実施形態に係る磁束照射装置の概略側面図、図2はその回路図である。全体を参照符号1で示す磁束照射装置は、磁束照射ガン2と、商用交流電源などの電源5から入力した電流を高周波交流に変換し、その高周波交流を接続配線4を介して磁束照射ガン2に送給する高周波電源装置3を備えている。磁束照射ガン2は、体腔内に挿入するための体腔内挿入部7と、これを体外から取り扱うための体外把手部8を連設一体化した構造のものである。体腔内挿入部7は、磁束出力端として機能させる低巻数のコイル10aに往複の電路を備えた低インダクタンスの給電路10bを接続したコイルアッセンブリー10と、それを収容した絶縁材料製のハウジング11を備えており、そのハウジング11は体腔内への挿入に適した形状に作られている。体外把手部8は、手で取り扱うのに適した形状の絶縁材料製のハウジング13と、それに内蔵され、高周波電源装置3からの高周波交流を低電圧大電流に変換してコイルアッセンブリー10に供給する電流増幅トランス14を備えている。ハウジング11,13は別部品として作ったものでもよいし、一体構造のものとしてもよい。ハウジング11,13には、プラスチック材料を用いることが好ましく、特に低誘電損失特性を備えたものが、発熱を抑制でき且つエネルギーロスを小さくできるので好ましい。体腔内挿入部7のハウジング11は、体腔内に滑らかに挿入できるよう、フッ素樹脂製とするか又はフッ素樹脂加工を施しておくことが望ましい。体腔内挿入部7の長さは、先端のコイル10aを加熱すべき局所に近接した位置まで挿入することができるように定められるものであり、例えば、前立腺癌の治療に用いる場合には、前立腺と肛門との距離は180mm程度であるので、体腔内挿入部7の長さは180mmより少し長めに定めておけばよい。なお、後述するように、電流増幅トランス14の次巻線には水冷可能なチューブが用いられているので、そのチューブに冷却水を供給できるよう、接続配線4には水冷ケーブルを用いており、その水冷ケーブルに冷却水配管16を接続している。また、コイルアッセンブリー10も水冷式のものが用いられており、そのコイルアッセンブリー10に冷却水を供給できるよう、磁束照射ガン2に冷却水配管17を接続している。
図3は磁束照射ガン2に設けているコイルアッセンブリー10及び電流増幅トランス14を示すものである。コイルアッセンブリー10は、先端の低巻数のコイル10aとそれに給電するための給電路10bを備えたものであり、内部に通水して冷却できるよう銅チューブなどの導電性の良い金属製のチューブ20で一体構造に作られている。ここで、コイル10aを低巻数としたのは、低電圧で駆動することができるようにするため及び小型化して体腔内への挿入を容易とするためであり、その巻数としては1〜5巻が好ましく、1〜2巻が一層好ましい。給電路10bは、往復の電路を形成するチューブ20を平行に近接配置したパラレル給電路で構成されている。この構成により、往復の各電路が発生する磁界が互いに打ち消し合うこととなって、低インダクタンスの給電路を形成できる。なお、パラレル給電路に代えて、可撓性に優れるペアツイスト給電路を用いても良い。コイルアッセンブリー10を形成する金属製のチューブ20の外周面には、エナメルなどの絶縁材料による被覆が施されており、これによってチューブ20同士が接触してもショートを生じることがなく、また、体腔内に挿入した状態で例えハウジング11が破損しても感電することがなく、安全を確保できる。
電流増幅トランス14は、一対のE字状コア(磁心)21を向かい合わせて接合し、中央のコア部分21aの周囲に、銅チューブなどの金属製のチューブからなる1次巻線22を多数回巻き付け、その外側に2次巻線として、銅板等の金属板で作られたC字状断面の切欠筒体23を配置した構造のものであり、その切欠筒体23の向かい合った端部にコイルアッセンブリー10を形成するチューブ20の両端が接続されている。また、そのチューブ20の両端には、冷却水配管17が接続されており、コイルアッセンブリー10に通水して水冷可能としている。1次巻線22を形成するチューブの両端には、水冷ケーブルで形成された接続配線4(図1参照)が接続され、通電及び通水するようになっている。この構成の電流増幅トランス14では、2次巻線の巻数が1となるため、簡単な構造で大きい巻数比を確保できる。
この磁束照射ガン2を用いて生体内の局所、例えば、前立腺を加熱するには、あらかじめ感磁発熱体(例えば酸化鉄微粉)を前立腺の要加熱局所に導入しておき、次いで、磁束照射ガン2の体外把手部8を手で持って、体腔内挿入部7を肛門から直腸内に挿入し、先端の磁束出力端(コイル10a)を要加熱局所に近接した位置とする。この状態で高周波電源装置3から高周波交流を送給し、磁束出力端から磁束照射を行う。これにより、照射された磁束が要加熱局所に導入された感磁発熱体によって集束され、主として要加熱局所を通ることとなり、効率よく感磁発熱体を磁気ヒステリシス発熱させて、効率良く局所加熱を行うことができる。ここで、前立腺と直腸との距離は短いため、直腸に挿入した磁束出力端と前立腺内の要加熱局所との距離を20〜30mm程度とすることができ、磁束出力端からの出力を小さくしても、前立腺治療に必要とする加熱を行うことができる。例えば、磁束出力端のコイル10aのコイル巻数を1とした場合、そのコイル10aへの供給電圧、電流を、30ボルト、200アンペア程度で所望の加熱を行うことができ、コイルアッセンブリー10への印加電圧を低くでき、例え、コイルアッセンブリー10が生体に接触したとしても感電等の問題を生じることがない。また、高周波電源装置3から磁束照射ガン2の電流増幅トランス14への供給電圧、電流は、電流増幅トランス14の巻数比を10:1とすると、300ボルト、20アンペア程度で良いこととなり、このため、磁束照射ガン2に接続した接続配線4は細身のものでよく、磁束照射ガン2の操作性が向上する。また、高周波電源装置3に対する電源5として、商用交流電源を支障なく使用することができる。
以上のように、この磁束照射ガン2を用いることにより、生体内の要加熱局所を効率良く加熱して治療を行うことができ、また、その際の操作性が良いといった利点が得られる。なお、上記実施形態では、感磁発熱体として、磁気ヒステリシス発熱性を有する酸化鉄微粉などを用いる例を示したが、この感磁発熱体が金属微粉などの誘導加熱発熱性を有するものの場合にも本発明は有用である。
次に、本発明の第二の実施形態を説明する。図4は第二の実施形態に用いる磁束照射ガン2Aを示すもので、この磁束照射ガン2Aは、図1に示す磁束照射装置の磁束照射ガン2に代えて使用されるものである。図4に示す磁束照射ガン2Aも、図3に示す磁束照射ガン2と同様に、コイルアッセンブリー10Aを備えた体腔内挿入部7Aと、電流増幅トランス14Aを内蔵した体外把手部8Aを連設一体化した構造のものであり、コイルアッセンブリー10Aも、磁束出力端として機能させる低巻数のコイル10Aaに往復の電路を備えた低インダクタンスの給電路10Abを接続した構造である。しかしながら、図4の実施形態に用いている給電路10Abは同軸状に配置された金属製のチューブ31,32で構成されている。この構成はきわめて低インダクタンスの給電路を形成できる利点を有している。このコイルアッセンブリー10Aにも、エナメル等の絶縁材料の被覆を施しておくことが好ましい。
一方、電流増幅トランス14Aは、多段に積み重ねたトロイダルコア(磁心)34に銅チューブなどの金属製のチューブからなる1次巻線35をトロイダル形式で巻き付け、そのトロイダル形式の1次巻線35の内周側と外周側とに同軸形式で金属製筒体37、38を振り分け配置して2次巻線を構成したものである。内側に配置した筒体37の一端は、コイルアッセンブリー10Aの給電路10Abの内側のチューブ31に接続しており、他端には冷却水配管17を連通させている。外側に配置した筒体38の一端は、コイルアッセンブリー10Aの給電路10Abの外側のチューブ32に接続しており、他端には冷却水配管17を連通させている。この構成により、コイルアッセンブリー10Aを水冷することができる。1次巻線35を形成するチューブの両端には、水冷ケーブルで形成された接続配線4(図1参照)が接続され、通電及び通水するようになっている。この構成の電流増幅トランス14Aでも、2次巻線の巻数が1となるため、簡単な構造で大きい巻数比を確保できる。なお、コイルアッセンブリー10A及び電流増幅トランス14Aの外側には絶縁材料製のハウジング11A,13Aを設けている。
図4に示す構成の磁束照射ガン2Aも、図3に示す磁束照射ガン2と同様に用いることで、生体内の要加熱局所を効率良く加熱して治療を行うことができ、また、その際の操作性が良いといった利点が得られる。
なお、以上に説明した実施形態はいずれも、コイルアッセンブリー10,10A及び電流増幅トランス14、14Aを収容する絶縁材料製のハウジング11,11A,13,13Aを設けているが、これらのハウジングは適宜省略してもよい。例えば、コイルアッセンブリー10,10Aが十分な絶縁性を備えている場合、ハウジング11,11Aを省略するとか、先端のコイル10a,10Aaのみを覆うような小さいハウジングを設けるいった変更を加えても良い。また、図4の実施形態のように、電流増幅トランス14Aが手でつかむのに適した筒状をなしている場合には、その筒体38の外周面に絶縁材料の被覆を施してそのまま把手として用い、ハウジング13Aを省略してもよい。
本発明の好適な実施形態に係る磁束照射装置の概略側面図 図1に示す磁束照射装置の回路図 (a)は図1の実施形態に用いる磁束照射ガンを、ハウジングを外した状態で示す概略側面図、(b)はその磁束照射ガンの電流増幅トランスの概略縦断面図、(c)はその磁束照射ガンの電流増幅トランスの概略横断面図 (a)は、第二の実施形態に用いる磁束照射ガンを、ハウジングを外した状態で示す概略側面図、(b)はその磁束照射ガンの電流増幅トランスを(a)の矢印A−A方向に見た概略断面図
符号の説明
1 磁束照射装置
2,2A 磁束照射ガン
3 高周波電源装置
4 接続配線
5 電源
7,7A 体腔内挿入部
8,8A 体外把手部
10,10A コイルアッセンブリー
10a,10Aa コイル(磁束出力端)
10b,10Ab 給電路
11,11A,13,13A ハウジング
14,14A 電流増幅トランス
16,17 冷却水配管
20 チューブ
21 E字状コア(磁心)
22 1次巻線
23 切欠筒体(2次巻線)
31,32 チューブ
34 トロイダルコア(磁心)
35 1次巻線
37,38 金属製筒体(2次巻線)

Claims (5)

  1. 生体内の要加熱局所に導入配置した感磁発熱体を発熱させるために、生体の開口部から体腔内に挿入して体腔内から交番磁束照射を行うための磁束照射装置であって、磁束出力端として機能させる低巻数のコイル往復の電路を備えた低インダクタンスの給電路とを連ねて接続したコイルアッセンブリーを配して体腔内挿入部を構成すると共に、この体腔内挿入部にこれを体外から取り扱うための体外把手部を連設一体化して構成した体内挿入形式の磁束照射ガンと、該磁束照射ガンに高周波交流を送給する高周波電源装置と、前記コイルアッセンブリーと高周波電源装置の間に設けられ、高周波電源装置からの高周波交流を低電圧大電流に変換してコイルアッセンブリーに送給する電流増幅トランスを備えており、該電流増幅トランスを前記磁束照射ガンの前記体外把手部に配すると共に、前記コイルアッセンブリーを前記電流増幅トランスに、該電流増幅トランスの2次側と前記コイルアッセンブリーとが連なる閉回路が形成されるように接続していることを特徴とする磁束照射装置。
  2. 前記磁束照射ガンにおいて、前記コイルアッセンブリーを構成する低インダクタンスの給電路はパラレル又はペアツイスト給電路であり、前記電流増幅トランスの2次巻線は、C字状断面の切欠筒体で構成されていることを特徴とする請求項1記載の磁束照射装置。
  3. 前記磁束照射ガンにおいて、前記コイルアッセンブリーを構成する低インダクタンスの給電路は同軸給電路であり、前記電流増幅トランスは、その1次巻線がトロイダル形式で巻成されたものであり、2次巻線が、2体の金属製筒体を前記トロイダル形式の1次巻線の内周側と外周側とに振り分け配置して構成した同軸形式のものであることを特徴とする請求項1記載の磁束照射装置。
  4. 前記磁束照射ガンは、少なくとも前記コイルアッセンブリーが、絶縁材料製のハウジングに収容されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の磁束照射装置。
  5. 前記磁束照射ガンの、少なくとも前記コイルアッセンブリーには、絶縁材料による被覆が施されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の磁束照射装置。
JP2003289534A 2003-08-08 2003-08-08 磁束照射装置 Expired - Fee Related JP4097580B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003289534A JP4097580B2 (ja) 2003-08-08 2003-08-08 磁束照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003289534A JP4097580B2 (ja) 2003-08-08 2003-08-08 磁束照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005058298A JP2005058298A (ja) 2005-03-10
JP4097580B2 true JP4097580B2 (ja) 2008-06-11

Family

ID=34367822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003289534A Expired - Fee Related JP4097580B2 (ja) 2003-08-08 2003-08-08 磁束照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4097580B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10342989B2 (en) 2013-09-20 2019-07-09 Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. Magnetic flux irradiation devices and components
US10500409B2 (en) 2015-03-02 2019-12-10 KAIO Therapy, LLC Systems and methods for providing alternating magnetic field therapy
US10576297B2 (en) 2013-09-20 2020-03-03 Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. Magnetic flux irradiation devices and components

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101582988B1 (ko) * 2013-09-30 2016-01-06 (주)휴먼드림 전립선 고주파 치료기

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10342989B2 (en) 2013-09-20 2019-07-09 Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. Magnetic flux irradiation devices and components
US10576297B2 (en) 2013-09-20 2020-03-03 Dai-Ichi High Frequency Co., Ltd. Magnetic flux irradiation devices and components
US10500409B2 (en) 2015-03-02 2019-12-10 KAIO Therapy, LLC Systems and methods for providing alternating magnetic field therapy

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005058298A (ja) 2005-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2833815B1 (en) Induction coil vapor generator
TWI541045B (zh) 深度磁場產生裝置
CA2560420A1 (en) Portable induction heating tool for soldering pipes
WO2005104622A1 (ja) コイル装置及び磁界発生装置
US9833124B2 (en) Treatment tool and endoscope system with inductance elements to power treatment device of treatment tool
JP2010071624A (ja) 流体加熱装置
JP4097580B2 (ja) 磁束照射装置
US6661875B2 (en) Catheter tip x-ray source
JP2008154922A (ja) 磁場発生アプリケータ、及び、磁場発生装置
JP2004228289A (ja) 磁束照射装置
JP2000503160A (ja) 電磁誘導加熱用コイル
JP4724870B2 (ja) 磁界発生装置
US8602960B2 (en) K-Ring electromagnetic treatment apparatus, system and method for tumors, arthritis and other ailments
JP2007080715A (ja) 電磁誘導流体加熱装置
Li et al. Design and Optimization with Litz Wire Version of PCB in Solid-State Transformer
US20080097141A1 (en) K-ring electromagnetic treatment apparatus, system and method for tumors, arthritis and other ailments
JP2007027216A (ja) 小型大電力カレントトランス
TWI462758B (zh) 深度磁場產生模組與電磁熱治療裝置
Prantner et al. Heating power of millimeter-sized implanted coils for tumor ablation: Numerical-analytic analysis and optimization
JP2001340472A (ja) 家庭用電気磁気治療器
KR20100026408A (ko) 대전력 고주파 유도 가열 장치
JPS5837369B2 (ja) 金属管の内面を加熱する方法
JP7246189B2 (ja) より大きな容量における低い高周波での強い磁場の生成を行う装置
JP5818492B2 (ja) 酸化処理装置および酸化処理方法
US2505944A (en) Ultraviolet electrotherapeutic device

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050809

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051007

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20051007

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20051227

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060223

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060228

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20060414

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080311

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4097580

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110321

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110321

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120321

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130321

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130321

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140321

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees