JP4038702B2

JP4038702B2 - Processing method and processing apparatus for developing solution for photosensitive resin plate

Info

Publication number: JP4038702B2
Application number: JP1676798A
Authority: JP
Inventors: 博史柴野; 芳広嘉生; 一雄高橋
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1998-01-29
Filing date: 1998-01-29
Publication date: 2008-01-30
Anticipated expiration: 2018-01-29
Also published as: JPH11212274A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は感光性樹脂を現像する際に生じる現像液の処理方法および処理装置に関し、現像の際に発生する、樹脂を含んだ現像液をメンブレンフィルターで濾過して、分散された樹脂を除去した際に得られる濾液を現像液として再度使用する方法およびそれに用いられる装置に関する。
さらに詳しくは、現像の際に発生する樹脂を含んだ現像液の一部をを連続的または一定期間ごとに濃縮タンクに移送し、濃縮タンクとメンブレンフィルター間で循環運転しながらクロスフロー濾過し、得られた濾液は現像装置に戻して現像液として再度使用し、濃縮タンク内の樹脂含有現像液は樹脂が高濃度になった時に廃棄する、現像を行いながら現像液からの樹脂の除去処理を行う現像液の処理方法において、高い濾過流量を確保しながら、発生する樹脂含有廃液の量を減らすことが可能な感光性樹脂用現像液の処理方法およびその装置である。
【０００２】
【従来の技術】
感光性樹脂を用いた印刷版は従来の印刷版に比較し、操作性、生産性、価格、およびその印刷特性に優れ、近来各種印刷分野で急速に普及している。感光性樹脂版を現像する方法としては、▲１▼圧搾空気などを用いて未露光部を吹き飛ばしてレリーフを形成する方法や▲２▼現像液を版面に一定圧力でスプレーしレリーフを作成する方法や▲３▼現像液中に版を浸漬させブラシ等で未露光部を現像液中にこすり出す方法が考案され実用化されている。
前記▲３▼のような現像方法で感光性樹脂版を洗い出す現像液は、現像後に洗い出された未露光部の樹脂が分散された状態で存在し、多数の感光性樹脂版を洗い出すと現像液中の樹脂の濃度が上昇し、その結果として、現像速度が低下する、分散された樹脂が凝集しスカムとなって版やブラシに付着する、といった問題が生じ、頻繁に使用済みの現像液を廃棄し、新しい現像液を調製する必要があった。
【０００３】
そこで、これらを解決するために、使用済みの現像液から樹脂成分を除去し、現像液として再度利用する方法がいくつか考案された。その一つとして、メンブレンフィルターを用いてクロスフロー濾過することにより、現像液から効率よく樹脂を除去し、濾過された現像液を再度現像に使用する方法がある。この方法は現像液の一部を現像装置から抜き出して濾過処理を行い、濾過された現像液を現像装置に戻すことも可能であるため、現像を行いながら、現像液からの樹脂の除去処理を行い、それを再度現像液として利用する連続型の現像液再生方法が可能である。ところが、このメンブレンフィルターを用いた連続型の現像液再生方法は、濃縮タンク内の現像液樹脂濃度が高くなると、濃縮タンクから現像液を抜き出して廃棄するが、この廃棄量を減らすには、なるべく樹脂が高濃度になるまで濃縮タンク中の樹脂を抜き出さずに運転する必要がある。一方、常に現像装置内の現像液を清浄に保つためには一定以上の濾過流量が必要であるが、濃縮タンク内の現像液の樹脂含有濃度が高くなると、フィルターの単位面積当たりの濾過流量が低下し、現像装置内の現像液を清浄に保つために必要な一定以上の濾過流量が確保出来なくなるものであった。
【０００４】
また、濾過流量を確保するために、樹脂濃度があまり高くならないうちに濃縮タンク内の樹脂含有現像液を抜き出すと、廃棄する樹脂含有現像液量が多くなり、メンブレンフィルターにより現像液を再生するメリットが小さくなったり、装置の面から濾過流量を確保するため、メンブレンフィルターの膜面積を増やすと、大きなポンプが必要で装置が大型、高価格になり、必ずしも満足できるものではなかった。特に、感光性樹脂として、感光性凸版や、中でも感光性フレキソ版においては現像する時に大量の未露光樹脂が現像液中に流出するために、現像装置内の現像液を清浄に保つには高い濾過流量が必要で、かつ廃棄する樹脂含有現像液量も多くなり、上記の問題が大きなものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、前記問題点を解決すること、つまり装置を大型化する必要がなく、現像装置内の現像液を清浄に保ったまま、樹脂含有現像液の廃棄量を最少限にする方法および装置を得ることを課題とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決するため、鋭意、研究、検討した結果、遂に本発明を完成するに到った。すなわち本発明は、現像装置と、濃縮用タンクとメンブレンフィルター間で循環運転することにより濾過を行う現像液再生装置からなる装置を用い、現像装置から濃縮タンクに現像液の一部を連続的または一定間隔ごとに移送し、濃縮用タンク内の樹脂含有現像液を濾過濃縮して、濾液は現像装置に戻し、濃縮タンク内の樹脂含有現像液は樹脂が高濃度になったときに廃棄する、感光性樹脂の現像液の処理方法において、濃縮タンク内の樹脂含有現像液を廃棄する直前に、現像装置から濃縮タンクへの現像液の移送を停止して濃縮タンク内の樹脂含有現像液量を通常運転時の樹脂含有現像液量より少なくして樹脂含有率を上げた後、これを廃棄することを特徴とする感光性樹脂の現像液の処理方法、および少なくとも（１）濃縮タンク、（２）逆浸透膜、限外濾過膜、精密濾過膜、のいずれか１種類以上の濾過膜を具備したメンブレンフィルターモジュール、（３）濃縮タンクからメンブレンフィルターモジュールへ廃液を移送するための循環ポンプ、（４）メンブレンフィルターモジュールから出たクロスフローの循環廃液を濃縮タンクへ移送するための配管、（５）メンブレンフィルターモジュールから出た濾液を現像装置へ移送させるための配管、（６）現像装置から濃縮タンクへオーバーフローにより現像液を移送するための配管、（７）現像装置から濃縮タンクへ現像液を移送するための配管に設置された液の移送を中断するためのバルブ、（８）濃縮タンクに設置された液面計、（９）濃縮タンクの液面が液面計以下になったときに循環ポンプが停止する機能、（１０）濃縮タンクから現像液を抜き出すための配管、を備えたことを特徴とする感光性樹脂版の現像液処理装置である。
【０００７】
本発明において用いられる感光性樹脂版としてはフロン系溶剤や塩素系溶剤や石油系溶剤やアルコール系溶剤といった溶剤を現像液とする溶剤現像型感光性樹脂版でもかまわないが、作業環境面や地域環境面から水、界面活性剤水溶液、アルカリ水溶液、酸水溶液などを現像液とする水現像型感光性樹脂版が好ましい。これら水現像型感光性樹脂組成物としては、ポリアミドを必須成分とするポリアミド系感光性樹脂組成物、ポリビニルアルコールを必須成分とするポリビニルアルコール系感光性樹脂組成物、低分子不飽和基含有ポリエステルを必須成分とするポリエステル系感光性樹脂組成物、アクリル系低分子モノマーを必須成分とするアクリル系感光性樹脂組成物、およびポリウレタンを必須成分とするポリウレタン系感光性樹脂組成物等が挙げられる。
【０００８】
これら感光性樹脂組成物には光重合性不飽和単量体、光増感剤その他が添加されることによって光感光性を付与している。
また最近感光性フレキソ版においても、毒性安全性の面から水系現像液に現像可能なものが提案されており、本発明の感光性樹脂版としてこれらも好ましく用いられる。たとえば、共役ジエン系炭化水素とα、β−エチレン性不飽和カルボン酸またはその塩を必須成分とし、これにモノオレフィン系不飽和化合物とを含む共重合体と光重合性不飽和単量体、光増感剤を含有する感光性樹脂組成物や共役ジエン系炭化水素重合体又は共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化合物との共重合体と親水性高分子化合物、非気体性エチレン性不飽和化合物および光重合開始剤を必須成分として含有する感光性エラストマー組成物やα，β−エチレン性不飽和基を含有する疎水性オリゴマー、エラストマー水膨潤性物質及び光集合開始剤を必須成分として含有する感光性樹脂組成物等がある。他には、刷版の機械的強度、反発弾性等の性能の向上を目的として、硬質の有機微粒子を含有する感光性樹脂組成物や水現像性の付与、水性インク耐性の付与、及び印刷性の向上を目的として、架橋性樹脂微粒子を含有する感光性樹脂組成物や刷版のインキ受容性向上を目的として２相構造を有し、ジアゾ化合物、重クロム酸塩を連続相に含み、分散相が１０μｍ以下の粒子を含有する感光性樹脂組成物等があり、いずれも本発明の感光性樹脂組成物として好ましく用いることができる。
【０００９】
以上のように本発明において用いられる感光性樹脂版には種々の物が挙げられるが、疎水性成分に親水性成分を付与する方法として、疎水性ポリマーをカルボン酸またはその塩類で変性した樹脂を主成分とするもの、疎水性ポリマーを主成分とした疎水性成分と親水性ポリマーを主成分とした親水性成分の混合体を主成分とするもの、疎水性ポリマーと親水性ポリマーを化学的に結合させたものを主成分とするもの、疎水性ポリマーの原料となる疎水性モノマーと親水性ポリマーの原料となる親水性モノマーをブロック共重合体させたポリマーを主成分とするもの等に挙げられるように、疎水性の成分に何らかの形で親水性成分を組み合わせて、水系現像液に分散型の感光性フレキソ版としたタイプのものが特に好ましい例として挙げられる。
【００１０】
以下に本発明の感光性樹脂版として特に好ましく用いられる、水現像型感光性樹脂のフレキソ版を例にとり、本発明の内容を詳しく説明する。
まず感光性樹脂版について説明する。前に挙げた、本発明で用いられるのに特に好ましい感光性フレキソ版に用いられる疎水性ポリマーとは、水に対して溶解または膨潤しない成分であって、主に水に不溶性のポリマー類の組成物を表す。
このような水に不溶性のポリマーとしては、例えば１，４−ポリブタジエン、１，２−ポリブタジエン、アクリロニトリルゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム、クロロプレンゴム、ポリウレタンゴム、ブタジエンスチレンコポリマー、スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー、スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー、ポリアミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ブタジエン−（メタ）アクリル酸コポリマー、ブタジエン−（メタ）アクリル酸−アクリルエステルコポリマー、シリコンゴム、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、等のような版にゴム弾性を与えるポリマーや、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレート、ポリイソプロピル（メタ）アクリレート、ポリｎ−ブチル（メタ）アクリレート等のアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニルやこれらの共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、等のような版に硬度や安定性を与えるポリマーを挙げることができ、これらを単独または必要に合わせて複数組み合わせて疎水性成分として用いられるが、これらに限定するものではない。その他には架橋剤、ラジカル重合性モノマー、光反応開始剤、酸化安定剤、重合禁止剤などを必要に合わせてポリマー類に添加してもかまわない。また、ポリマーは反応性を持たせるため必要に応じて変性しても良い。またこれら樹脂類は、モノマーや架橋剤と、またはポリマー同志で反応できるように変性することも可能である。
【００１１】
親水性成分は、水に可溶または分散または膨潤する成分で、主に親水性ポリマー類の組成物を表す。親水性ポリマー類としては例えば、ポリ（メタ）アクリル酸またはその塩類の重合体、（メタ）アクリル酸またはその塩類−アルキル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸またはその塩類−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸またはその塩類−酢酸ビニル共重合体、（メタ）アクリル酸またはその塩類−アクリロニトリル共重合体、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミド、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、−ＣＯＯＭ基や−ＳＯ₃Ｍ基や−ＳＯ₄Ｍ基や−ＰＯ（ＯＭ）_n（ｎは１−３の整数）基を含有するポリアクリレート、ポリビニル化合物、ポリウレタン、ポリウレアウレタン、ポリエステル、エポキシ化合物、ポリアミドおよびこれらの塩類や誘導体等が挙げられる（なおここに挙げたＭは水素原子、１価の金属原子、２価の金属原子、３価の金属原子、アンモニウム化合物のいずれかを示す）。
また親水性成分も同様に架橋剤、ラジカル重合性モノマー、光反応開始剤、酸化安定剤、重合禁止剤などを必要に合わせて前述のポリマー類に添加してもかまわないし、必要に応じて変性しても良い。
【００１２】
ラジカル重合性モノマーとしては例えば、スチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２ーエチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ポリポリプロピレングリコールモノメチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテルモノ（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，３−ジクロロプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、等が挙げられる。
【００１３】
架橋剤としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールアリロキシジ（メタ）アクリレート、１，１，１−トリスヒドロキシメチルエタンジ（メタ）アクリレート、１，１，１−トリスヒドロキシメチルエタントリ（メタ）アクリレート、、１，１，１−トリスヒドロキシメチルプロパンジ（メタ）アクリレート、１，１，１−トリスヒドロキシメチルプロパントリ（メタ）アクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルテレフタレート、ジアリルフタレート、ジビニルベンゼン、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のような１分子中に２個以上のラジカル重合性エチレン基を持つ化合物が挙げられるが、その他に１分子中にエチレン基、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等、反応性の官能基を複数個持つ化合物も挙げられる。
【００１４】
このような疎水性成分と親水性成分を含有する感光性樹脂組成物の構造としては、疎水性成分が粒子状の分散相で親水性成分がその周りを取り囲み連続相となった構造、疎水性成分がコアで親水性成分がシェルとなったコアシェル粒子をさらに別の疎水性成分が連続相となった構造、親水性成分が粒子状の分散相となり疎水性成分が連続相となった構造、疎水性成分と親水性成分のいずれもが連続相でお互いに絡み合いモザイク状となった構造、疎水性成分と親水性成分が均一に相溶した構造、などが挙げられる。またこれらの構造で、親水性成分および連続相となった疎水性成分は未硬化の状態では化学的に架橋されていないことが好ましい。一方粒子状の疎水性成分は未硬化の状態で架橋されていても架橋されていなくてもかまわない。また、疎水性成分と親水性成分とはお互い化学的に結合されていても結合されていなくてもかまわない。
【００１５】
感光性樹脂組成物の製造方法としては、エマルジョン重合やサスペンション重合によってやポリマーを粉砕するなどして得られた分散相の成分を単独または連続相の成分と共にニーダーや押し出し機で混合後成型する方法、疎水性成分と親水性成分とを塊状のままニーダーや押し出し機で混練りし相分離・分散させた後成型する方法、疎水性成分と親水性成分とを塊状のままニーダーや押し出し機で混練りし均一に相溶させた後成型する方法、など公知の方法が用いられる。
また、親水性成分および疎水性成分のポリマーは予め重合させたものを用いても、感光性樹脂組成物の製造過程でモノマーを配合しそれを重合させても良い。とくに疎水性成分の粒子の周りに親水性成分を配置させるときはエマルション重合などがしばしば用いられる。
【００１６】
以上のようにして、要求される物性に応じて、原材料、構造、製造方法など適宜選択し、目的とする感光性樹脂版を得ることができる。
例えば印刷用刷版に要求される物性物性としては、ＪＩＳＡ硬度が３０−８０度、反発弾性率が２０％以上であることが印刷特性上望ましい。
このような感光性樹脂組成物は紫外線によって硬化させる。硬化させる際に使用される紫外線は１５０〜５００ｎｍの波長、特に３００〜４００ｎｍの波長のものが有効であり、使用される光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、紫外線蛍光灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプが望ましい。
【００１７】
次に本発明において感光性樹脂板は上記光源下で透明画像を有するネガフィルムをあてて紫外線を照射し画像露光させた後、露光されていない非画像部を現像液を用いて除去することによって、レリーフ画像が得られ、一方溶解除去された未硬化の感光性樹脂は乳濁液あるいは懸濁状溶液となって現像槽中に残る。ここでの現像液は水、または水を主成分とする現像液が用いられる。なお水を主成分とする現像液とは、水に界面活性剤、無機や有機のアルカリや酸や塩、その他水に可溶な化合物を添加したものである。
【００１８】
ここで用いられる界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤など幅広く用いることができる。
具体例を挙げると、アニオン系界面活性剤としては、ラウリン酸ソーダやステアリン酸ソーダやオレイン酸ソーダなどの脂肪族カルボン酸塩類、アビエチン酸ソーダやロジン酸ソーダなどの樹脂石鹸類、ラウリル硫酸ソーダやラウリル硫酸トリエタノールアミンなどの１級および２級のアルキル硫酸塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ソーダやポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミンをなどの１級および２級のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ラウリルベンゼンスルホン酸ソーダやステアリルベンゼンスルホン酸ソーダなどのアルキルベンゼンスルホン酸塩類、プロピルナフタレンスルホン酸ソーダやブチルナフタレンスルホン酸ソーダなどのアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンラウリルフェニルエーテルスルホン酸ソーダなどのポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルスルホン酸塩類、硫酸化ひまし油や硫酸化牛油などの硫酸化油類、硫酸化オレイン酸ブチルなどの硫酸化脂肪酸エステル類、ジオクチルスルホ琥珀酸ソーダを代表とするアルキルスルホ琥珀酸塩類、α−オレフィンスルホン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−アルキルタウリン塩類、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド塩類、脂肪酸モノグリセライド硫酸エステル塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、ラウリルアルコール燐酸モノエステルジソーダ塩やラウリルアルコール燐酸ジエステルソーダ塩などのアルキルホスフェートの塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテル燐酸モノエステルジソーダ塩やポリオキシエチレンラウリルエーテル燐酸ジエステルソーダ塩などのポリオキシエチレンアルキルホスフェートの塩類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類、スチレン−無水マレイン酸共重合体部分鹸化物の塩類、オレフィン−無水マレイン酸共重合体部分鹸化物の塩類などが挙げられる。なお、具体例としては主にナトリウム塩を挙げたが、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩なども可能で、特にこれらに限定されるものではない。
【００１９】
カチオン系界面活性剤としては、モノステアリルアンモニウムクロライドやジステアリルアンモニウムクロライドやトリステアリルアンモニウムクロライドなどの１級および２級および３級アミン塩類、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライドやジステアリルジメチルアンモニウムクロライドやステアリルジメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの４級アンモニウム塩類、Ｎ−セチルピリジニウムクロライドやＮ−ステアリルピリジニウムクロライドなどのアルキルピリジニウム塩類、Ｎ，Ｎジアルキルモルホリニウム塩類、ポリエチレンポリアミンの脂肪酸アミド塩類、アミノエチルエタノールアミンとステアリン酸とのアミドの尿素化合物の酢酸塩類、２−アルキル−１−アルキル−１−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムクロライドなどが挙げられる。なお、具体例としては主にクロライドを挙げたが、ブロマイド、アルキルサルフェート、アセテートなども可能で、特にこれらに限定されるものではない。
【００２０】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンオレイルエーテルやポリオキシエチレンラウリルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルやポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール類、ポリエチレングリコールモノステアレートやポリエチレングリコールモノオレートやポリエチレングリコールジラウレートなどの脂肪酸とポリエチレングリコールとのモノおよびジエステル類、ソルビタンモノラウレートやソルビタンモノオレートなどの脂肪酸とソルビタンのエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートやポリオキシエチレンソルビタンモノステアレートやポリオキシエチレンソルビタントリラウレートなどのソルビタンのポリオキシエチレン付加物と脂肪酸とのエステル類、ソルビットモノパルチミテートやソルビットジラウレートなどの脂肪酸とソルビットとのエステル類、ポリオキシエチレンソルビットモノステアレートやポリオキシエチレンソルビットジオレートなどのソルビットのポリオキシエチレン付加物と脂肪酸とのエステル類、ペンタエリスリトールモノステアレートなどの脂肪酸とペンタエリスリトールとのエステル類、グリセリンモノラウレートなどの脂肪酸とグリセリンとのエステル類、砂糖およびしょ糖の脂肪酸エステル類、ラウリン酸ジエタノールアミドやラウリン酸モノエタノールアミドなどの脂肪族アルカノールアミド類、ラウリルジメチルアミンオキサイドなどのアミンオキサイド類、ステアリルジエタノールアミンなどの脂肪族アルカノールアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、トリエタノールアミン脂肪酸エステル類などが挙げられる。
【００２１】
両性界面活性剤としては、ラウリルアミノプロピオン酸ソーダなどのアミノ酸型両面界面活性剤類、ラウリルジメチルベタインやラウリルジヒドロキシエチルベタインなどのカルボキシベタイン型両面界面活性剤類、ステアリルジメチルスルホエチレンアンモニウムエチレンアンモニウムベタインなどのスルホベタイン型両性界面活性剤類、イミダゾリニウムベタイン型両性界面活性剤類、レシチンなどが挙げられる。
無機や有機のアルカリや酸や塩、その他水に可溶な化合物の例としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、モノエタノールアミやジエタノールアミンやトリエタノールアミンといったアルカノールアミン類、等のアルカリや塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、蟻酸、酢酸、シュウ酸、コハク酸、クエン酸、マレイン酸、パラトルエンスルホン酸、等の酸や炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トリポリ燐酸ナトリウム、ピロ燐酸カリウム、珪酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、ほう酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸マグネシウム、クエン酸ナトリウム、琥珀酸ナトリウム等の塩類やベンゼンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム、キシレンスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸ナトリウム、フェノール２，４−ジスルホン酸ナトリウム、メチルスルホン酸ナトリウムなどのスルホン酸塩やアルキル硫酸エステルの塩類、カルボキシメチルセルロースやメチルセルロースといった高分子化合物、等が挙げられる。また、粘度調整剤、分散安定剤、凝集剤、ゼオライト、など各種の添加剤を必要に応じて添加することができる。
【００２２】
また、水系の現像液ではあるが、必要に応じてエタノール、イソプロパノール、セロソルブ、グリセリン、ポリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトンといった水に溶解する他の有機溶媒を混合することもできる。
現像液のｐＨは特に限定されるものではないが、作業上の安全性の面から３〜１２の範囲であることが好ましい。現像時の温度は１０〜５０℃が好ましい。
【００２３】
本発明では、このようにして感光性樹脂版を現像た際に生じる、未露光部の樹脂を分散状態で含んだ現像液から樹脂を除去処理するのに、現像装置と、濃縮用タンクとメンブレンフィルター間で循環運転することにより濾過を行う現像液再生装置からなる装置を用い、現像を行いながら、再生処理を行う。具体的には、現像装置内の樹脂を含んだ現像液の一部を現像装置から濃縮タンクに連続的または一定間隔ごとに移送し、濃縮用タンク内の樹脂含有現像液を濾過濃縮する。濾液は現像装置に戻し、現像液として再利用される。このため、現像液の再生のため現像を停止することなく、連続的に現像−再生が行われ、現像装置内の現像液中の樹脂濃度は常に一定以下に保つことが出来る。
【００２４】
これらメンブレンフィルターの素材としては、ポリスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、酢酸セルロース、エチルセルロース、ニトロセルロース類、等の有機膜やアルミナ、シリカ、酸化チタン、ジルコニアを主成分としたセラミック膜や合金類を焼結した金属膜、等が挙げられるが特に限定するものではない。また、モジュールの形態としては、有機膜では中空糸やチューブラー型、セラミック膜や金属膜ではチューブラー型やマルチルーメン型が好ましく用いられる。本発明での濾過方式は原液を濾過膜のモジュールに循環させて流し、液の一部を濾液として取り出すクロスフロー方式が好ましく用いられる。
【００２５】
本発明において、原液を濾過膜モジュールに流す速度としては、濾過膜に対して原水の流速が０．２ｍ／秒以上になるようにすることが望ましく、これ未満であると濾過膜が閉塞したり、濾過流量の低下が著しい。また、濾過膜にかかる原水の圧力は膜の種類によって異なるが、０．２ｋｇ／ｃｍ²以上であることが望ましい。また、メンブレンフィルターには閉塞による濾過流量低下を防ぐため、一定時間毎に濾液側から圧力をかけて逆洗する機構を備えることも可能である。
【００２６】
なお、この濾過処理運転を通常運転と呼び、この運転中、濃縮タンク内の現像液の樹脂濃度は徐々に上昇する。現像液中の樹脂含有率は通常５〜２０％程度まで行い、この後、現像装置から濃縮タンクへの現像液の移送を停止し、この状態で、メンブレンフィルターによる現像液の再生運転を続ける。その結果、濃縮タンク内の樹脂含有現像液の量は通常運転時の液量より少なくなり、樹脂含有率は上昇する。この運転を追加濃縮運転と呼ぶ。この追加濃縮運転により、濃縮タンク内の樹脂含有量を１５〜５０％まで上げ、現像液量を通常運転の７０〜２０％程度まで減らすことが可能である。その後、この追加濃縮した濃縮タンク内の樹脂含有現像液を廃棄する。本発明の特徴は、濃縮タンク内の樹脂含有現像液を廃棄する直前にこの追加濃縮を行うことである。
【００２７】
この方法によって、通常運転時には、比較的濃縮タンク中の樹脂濃度が低い状態でメンブレン濾過運転が出来るため、高い濾過流量が確保でき、濃縮タンク内の樹脂含有現像液を廃棄する時には高濃度まで濃縮を進めて、廃棄する樹脂含有現像液量を減らす、という相反する要求を満足させることが出来る。一方、この樹脂含有現像液は、抜き出した後、凝集処理、遠心分離、濾過処理、常圧や減圧下での乾燥、といった公知の方法で樹脂を除去した後廃棄したり、吸水材による固形化後廃棄したり、そのまま焼却処理して廃棄する、といったことができる。この場合本発明では、高濃度に濃縮して液量が少ないためこれらの廃棄処理も容易で低コストで行うことが出来る。なお、濃縮廃液を廃棄するため、現像液の全体量は処理後で最初の量より減少する。そのため、長期間現像液の再生をして安定して現像を行なうためには、廃棄した濃縮液に相当する量の水および他の現像薬剤成分を加える必要がある。
【００２８】
【発明の実施の形態】
次に図面を用いて本発明の実施の形態を詳しく説明する。図１は、本発明現像液の処理方法における一実施形態の工程図であり、図２は、本発明現像装置の一実施形態の斜視図である。図１および図２において、現像装置１３からオーバーフローにより配管４を通って送られた現像液は濃縮タンク１に貯められる。濃縮タンク１からは循環ポンプ３により配管５を通ってメンブレンフィルター２に廃液が送られ、配管６を通って濃縮タンク１に戻され、繰り返しこのラインを循環する。一方、メンブレンフィルターモジュール２から出た濾液は配管７を通って現像装置１３に返送される。この通常運転中には濾液として現像装置１３に返送された分だけ、現像装置１３からオーバーフローにより濃縮タンク１に送られるため、濃縮タンク１内の現像液の液面位置は１４でほぼ一定である。
【００２９】
濃縮タンク１中の現像液の樹脂濃度が一定量まで濃くなると、バルブ９を閉め、現像装置１３からの現像液の移送を止め、追加濃縮を行う。これにより、濃縮タンク１内の現像液の液面は徐々に減少し、樹脂濃度が上がる。濃縮タンク１内の現像液の液面が液面計１１以下になると、液面計１１が作動し、ポンプ３が止まり追加濃縮が終了する。濃縮タンク１およびメンブレンフィルターモジュール２、配管５、６内の樹脂含有現像液は濃縮液抜き出しバルブ１０を開いて抜き取られ、廃棄処理される。この後、バルブ１０を閉め、バルブ９を開け、さらに不足分の現像液を追加した後、ポンプ９を動かし、通常濃縮処理を再開する。
【００３０】
なお、これら装置は、本発明に必要最小限の設備を具備したものであるが、濾過モジュールに大きなスカムが流れモジュール内の流路を閉塞するのを防ぐためのプレフィルター、圧力計や流量計や温度計といった測定器類、バイパス配管やポンプやバルブといった配管設備類、ヒーターや冷却装置といった温度調節器類、水や界面活性剤や添加剤を自動で投入する装置など、必要に応じて備えることが出来る。
【００３１】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例におけるメンブレンフィルターは以下Ａ、Ｂ、Ｃで示されるホローファイバー型の以下のものを用い、現像液は以下ａ〜ｆで示される水溶液を用い、追加にもこの現像液を用いた。

【００３２】
実施例１〜１３
感光性フレキソ印刷版（東洋紡績株式会社製、コスモライト、ＣＬＨ厚み１．７ｍｍ）をＡ２の大きさに切り、各線幅の細線やベタ部などを有する適当なネガフィルム（露光部５０％）を密着させ、照度２５Ｗ／m²の水銀灯で、５分間照射を行いパターンを焼き付けた。ネガフィルムを除いた後、図１に示す工程に従い、各種の現像液中で４０℃でレリーフ深度が約１ｍｍになるようにナイロンブラシこすりによる現像を行うことにした。
まず、現像装置内のタンクに現像液５０リットルを入れ、濃縮タンクには２０リットルの同じ現像液を入れ、循環濾過を行った。濾液は配管７を通って現像装置に返送され、現像装置からはオーバーフローにより現像液が濃縮タンク１に送られた。この時濃縮タンク１内には１５リットルの現像液が存在し、メンブレンフィルター２と配管内には３リットルの現像液が存在し、現像装置内にはオーバーフローをするための水面上昇分も合わせて５２リットルの現像液が存在した。
【００３３】
この状態で先ほど準備した感光性フレキソ版を２０分に１枚の割合で現像した。連続で２０枚現像した後、バルブ９を閉め、現像装置からの現像液の移送を止め、追加濃縮を行った。約１０分後、濃縮タンク１内の現像液の液面が液面計１１以下になり、ポンプ３が止まった。濃縮タンク１およびメンブレンフィルター２、配管５、６内の樹脂含有現像液を濃縮液抜き出しバルブ１０を開いて抜き出し、廃棄処理した。この時の廃液量は９リットルであった。この後、バルブ１０を閉め、バルブ９を開け、さらに不足分の現像液を追加した後、ポンプ９を動かし、通常濃縮処理を再開した。この操作を１０回繰り返し、合計で２００枚現像を行った。なお、一連の操作２回目以降の現像開始直後と追加濃縮する直前に、濾過流量、現像装置内のタンク内の現像液の樹脂濃度、濃縮タンク内の現像液の樹脂濃度を測定し、さらに廃棄した現像液の樹脂濃度と量を測定した。その結果を表１に示す。
【００３４】
【表１】

【００３５】
比較例１〜３
実施例１〜１１と同様に露光、現像を行い、２０枚現像後に濃縮タンク内の樹脂含有現像液は追加濃縮することなく廃棄した。この操作を１０回繰り返し、合計で２００枚現像を行った。その結果を表２に示す。
【００３６】
比較例４〜６
実施例１〜１１と同様に露光、現像を行い、実施例の２倍の４０枚現像した。現像液は追加濃縮することなく廃棄した。この操作を５回繰り返し、合計で２００枚現像を行った。その結果を表２に示す。
【００３７】
【表２】

なお、表１および表２の濾過流量、樹脂濃度はそれぞれの２回目以降の操作での測定の平均を、廃液量は２００枚洗い出すまでの合計を示した。
表１より明らかなように、実施例１〜１３では、現像装置内のタンク内の現像液の樹脂濃度は２０枚の現像後でも低く保たれ、また濾過流量の低下も少ない。さらに追加濃縮を行うため廃液量も少なくできたことが判る。
また表２より明らかなように、比較例１〜３では、現像装置内のタンク内の現像液の樹脂濃度は２０枚の現像後でも低く保たれ、また濾過流量の低下も少ないが、追加濃縮を行うわなかったため、廃液量が多く、比較例４〜６では、廃液量は少なかったが、４０枚現像後は濾過流量が低くなったために処理が追いつかず、現像装置内のタンク内の現像液の樹脂濃度が高くなり、ブラシが沈澱してきた樹脂により詰まっていることが判る。
【００３８】
【発明の効果】
以上、かかる構成よりなる本発明装置を用い、本発明方法を採用することにより、現像液廃液の量を減らすことができ、凝集処理などの作業も容易でかつ薬剤の使用量も少なくて済みコスト的にも有利となる。さらには、排水として排出する総量も少ないため、低公害、地域環境保全に大きく貢献することが出来る。また、通常運転中は濾過流量を高く確保できるため、安定して長期間、多数枚の感光性樹脂版の現像作業が可能である等、産業界に寄与すること大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の現像液の処理方法における一実施形態例の工程図である。
【図２】本発明の現像装置の一実施形態例の斜視図である。
【符号の説明】
１．濃縮タンク
２．メンブレンフィルターモジュール
３．循環ポンプ
４．現像装置から濃縮タンクへの配管
５、６．配管（廃液貯蔵タンクとメンブレンフィルター間の循環用）
７．メンブレンフィルターから現像装置への配管
８．圧力計
９．バルブ
１０．濃縮液抜き出しバルブ
１１．液面計
１２．ポンプ制御装置
１３．現像装置
１４．通常運転時の液面位置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a processing method and a processing apparatus for a developer generated when developing a photosensitive resin, and the resin-containing developer generated during development is filtered through a membrane filter to remove the dispersed resin. The present invention relates to a method of reusing the filtrate obtained at that time as a developer and an apparatus used therefor.
More specifically, a part of the developer containing resin generated during development is transferred to the concentration tank continuously or at regular intervals, and is subjected to cross flow filtration while circulating between the concentration tank and the membrane filter. The obtained filtrate is returned to the developing device and used again as a developer. The resin-containing developer in the concentration tank is discarded when the resin becomes high in concentration, and the resin is removed from the developer while developing. In the processing method of the developing solution to perform, it is the processing method and apparatus of the developing solution for photosensitive resins which can reduce the quantity of the resin containing waste liquid to generate | occur | produce, ensuring a high filtration flow rate.
[0002]
[Prior art]
Printing plates using a photosensitive resin are superior in operability, productivity, price, and printing characteristics as compared with conventional printing plates, and are rapidly spreading in various printing fields. As a method for developing the photosensitive resin plate, (1) a method of forming a relief by blowing away unexposed portions using compressed air or the like, and (2) a method of creating a relief by spraying a developer on the plate surface at a constant pressure. And {circle around (3)} a method of immersing a plate in a developer and rubbing an unexposed portion into the developer with a brush or the like has been devised and put into practical use.
The developer for washing out the photosensitive resin plate by the development method as described in the above (3) exists in a state where the unexposed resin washed out after development is dispersed, and when a large number of photosensitive resin plates are washed out, the developer is developed. As a result, the concentration of the resin in the liquid increases, and as a result, the developing speed decreases, the dispersed resin agglomerates and forms scum and adheres to the plate or brush, and the frequently used developer It was necessary to prepare a new developer.
[0003]
In order to solve these problems, several methods have been devised in which the resin component is removed from the used developer and reused as the developer. As one of them, there is a method in which the resin is efficiently removed from the developer by crossflow filtration using a membrane filter, and the filtered developer is used again for development. In this method, a part of the developing solution can be extracted from the developing device and filtered, and the filtered developing solution can be returned to the developing device. Therefore, the resin is removed from the developing solution while developing. It is possible to use a continuous developer regeneration method that is performed and used again as a developer. However, in this continuous developer regenerating method using a membrane filter, when the developer resin concentration in the concentration tank becomes high, the developer is extracted from the concentration tank and discarded. It is necessary to operate without extracting the resin in the concentration tank until the resin has a high concentration. On the other hand, in order to always keep the developer in the developing device clean, a filtration flow of a certain level or more is necessary. However, when the concentration of the resin in the developer in the concentration tank increases, the filtration flow rate per unit area of the filter increases. As a result, the filtration flow rate above a certain level required to keep the developer in the developing device clean cannot be secured.
[0004]
Also, if the resin-containing developer in the concentration tank is withdrawn before the resin concentration becomes too high to secure the filtration flow rate, the amount of resin-containing developer to be discarded increases, and the merit of regenerating the developer with a membrane filter However, when the membrane area of the membrane filter is increased in order to secure a filtration flow rate from the surface of the device, a large pump is required, and the device becomes large and expensive, which is not always satisfactory. In particular, as a photosensitive resin, a large amount of unexposed resin flows into the developer when developing with a photosensitive relief printing plate, especially a photosensitive flexographic plate, so that it is high to keep the developer in the developing device clean. The filtration flow rate is required, and the amount of the resin-containing developer to be discarded is increased, so that the above problem is serious.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, that is, a method for minimizing the waste amount of the resin-containing developer while keeping the developer in the developing device clean without having to increase the size of the device. And obtaining an apparatus.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies, studies, and studies to solve the above problems, the present inventors have finally completed the present invention. That is, the present invention uses a device comprising a developing device and a developer regeneration device that performs filtration by circulating between a concentration tank and a membrane filter, and a part of the developer is continuously or from the developing device to the concentration tank. Transfer at regular intervals, filter and concentrate the resin-containing developer in the concentration tank, return the filtrate to the developing device, and discard the resin-containing developer in the concentration tank when the resin has a high concentration. In the processing method of the photosensitive resin developer, immediately before the resin-containing developer in the concentration tank is discarded, the transfer of the developer from the developing device to the concentration tank is stopped to reduce the amount of the resin-containing developer in the concentration tank. A method for treating a photosensitive resin developer, wherein the resin content is increased after reducing the amount of the resin-containing developer during normal operation, and at least (1) a concentration tank, (2 A membrane filter module equipped with at least one kind of filtration membrane of reverse osmosis membrane, ultrafiltration membrane, microfiltration membrane, (3) circulation pump for transferring waste liquid from the concentration tank to the membrane filter module, (4 ) Pipe for transferring the cross-flow circulating waste liquid from the membrane filter module to the concentration tank, (5) Pipe for transferring the filtrate output from the membrane filter module to the developing device, (6) Concentration tank from the developing device (7) Valve for interrupting the transfer of the liquid installed in the pipe for transferring the developer from the developing device to the concentration tank, (8) Installed in the concentration tank (9) the function of stopping the circulation pump when the liquid level in the concentration tank becomes lower than the liquid level gauge, (10 Pipe for withdrawing a developing solution from the concentrated tank, a developer treatment apparatus of the photosensitive resin plate, characterized in that it comprises a.
[0007]
The photosensitive resin plate used in the present invention may be a solvent developing type photosensitive resin plate using a developer such as a chlorofluorocarbon solvent, a chlorine solvent, a petroleum solvent, or an alcohol solvent as a developing solution. From the viewpoint of the environment, a water-developable photosensitive resin plate using water, an aqueous surfactant solution, an aqueous alkali solution, an aqueous acid solution or the like as a developer is preferable. These water-developable photosensitive resin compositions include polyamide-based photosensitive resin compositions containing polyamide as an essential component, polyvinyl alcohol-based photosensitive resin compositions containing polyvinyl alcohol as an essential component, and low-molecular unsaturated group-containing polyesters. Examples thereof include a polyester-based photosensitive resin composition having an essential component, an acrylic photosensitive resin composition having an acrylic low-molecular monomer as an essential component, and a polyurethane-based photosensitive resin composition having a polyurethane as an essential component.
[0008]
Photosensitivity is imparted to these photosensitive resin compositions by adding a photopolymerizable unsaturated monomer, a photosensitizer and the like.
Recently, photosensitive flexographic plates that can be developed in an aqueous developer from the standpoint of toxicity and safety have been proposed, and these are also preferably used as the photosensitive resin plate of the present invention. For example, a copolymer containing a conjugated diene hydrocarbon and an α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid or salt thereof as essential components, and a monoolefin unsaturated compound and a photopolymerizable unsaturated monomer, Photosensitive resin composition containing photosensitizer, conjugated diene hydrocarbon polymer, copolymer of conjugated diene hydrocarbon and monoolefin unsaturated compound, hydrophilic polymer compound, non-gaseous ethylenic compound A photosensitive elastomer composition containing an unsaturated compound and a photopolymerization initiator as essential components, a hydrophobic oligomer containing an α, β-ethylenically unsaturated group, an elastomer water-swellable substance, and a photoassembly initiator as essential components There are photosensitive resin compositions and the like. In addition, for the purpose of improving the mechanical strength and impact resilience of the printing plate, photosensitive resin compositions containing hard organic fine particles, water developability, water-based ink resistance, and printability With the aim of improving the ink receptivity of photosensitive resin compositions and printing plates containing fine particles of crosslinkable resin, and containing a diazo compound and dichromate in the continuous phase for dispersion There are photosensitive resin compositions containing particles having a phase of 10 μm or less, and any of them can be preferably used as the photosensitive resin composition of the present invention.
[0009]
As described above, there are various types of photosensitive resin plates used in the present invention. As a method for imparting a hydrophilic component to a hydrophobic component, a resin obtained by modifying a hydrophobic polymer with a carboxylic acid or a salt thereof is used. The main component, one composed mainly of a mixture of a hydrophobic component composed mainly of a hydrophobic polymer and a hydrophilic component composed mainly of a hydrophilic polymer, and chemically combines a hydrophobic polymer and a hydrophilic polymer Examples include those mainly composed of bonded substances, and those mainly composed of a block copolymer of a hydrophobic monomer as a raw material for a hydrophobic polymer and a hydrophilic monomer as a raw material for a hydrophilic polymer. As described above, a particularly preferable example is a type in which a hydrophobic component is combined with a hydrophobic component in some form to form a dispersion-type photosensitive flexographic plate in an aqueous developer.
[0010]
The contents of the present invention will be described in detail below, taking as an example a water-developable photosensitive resin flexographic plate that is particularly preferably used as the photosensitive resin plate of the present invention.
First, the photosensitive resin plate will be described. The hydrophobic polymer used in the photosensitive flexographic plate particularly preferred for use in the present invention mentioned above is a component that does not dissolve or swell in water and is mainly composed of water-insoluble polymers. Represents a thing.
Examples of such water-insoluble polymers include 1,4-polybutadiene, 1,2-polybutadiene, acrylonitrile rubber, butadiene acrylonitrile rubber, chloroprene rubber, polyurethane rubber, butadiene styrene copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, and styrene. -Isoprene-styrene block copolymer, polyamide resin, unsaturated polyester resin, butadiene- (meth) acrylic acid copolymer, butadiene- (meth) acrylic acid-acrylic ester copolymer, silicone rubber, polyoxypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, Such as polymers that give rubber elasticity to plates such as polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, polyisopropyl (meth) Acrylic resins such as acrylate and poly-n-butyl (meth) acrylate, polystyrene, polypropylene, polyethylene, chlorinated polyethylene, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate and copolymers thereof, polyurethane resin, polyester resin, polyamide resin Polymers that impart hardness and stability to a plate such as an epoxy resin can be used, and these can be used alone or in combination as needed as a hydrophobic component, but are not limited thereto. In addition, a crosslinking agent, a radical polymerizable monomer, a photoreaction initiator, an oxidation stabilizer, a polymerization inhibitor, and the like may be added to the polymers as necessary. In addition, the polymer may be modified as necessary to have reactivity. These resins can also be modified so that they can react with monomers, cross-linking agents, or polymers.
[0011]
The hydrophilic component is a component that is soluble or dispersed or swells in water, and mainly represents a composition of hydrophilic polymers. Examples of hydrophilic polymers include poly (meth) acrylic acid or a salt thereof polymer, (meth) acrylic acid or a salt thereof-alkyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid or a salt thereof-styrene copolymer. Polymer, (meth) acrylic acid or a salt thereof-vinyl acetate copolymer, (meth) acrylic acid or a salt thereof-acrylonitrile copolymer, polyvinyl alcohol, carboxymethylcellulose, polyacrylamide, hydroxyethylcellulose, polyethylene oxide, polyethyleneimine, -COOM group and -SO _Three M group and -SO _Four M group and -PO (OM) _n (N is an integer of 1-3) Examples include polyacrylates, polyvinyl compounds, polyurethanes, polyureaurethanes, polyesters, epoxy compounds, polyamides, and salts and derivatives thereof (where M is a hydrogen atom) A monovalent metal atom, a divalent metal atom, a trivalent metal atom, or an ammonium compound is indicated).
Similarly, the hydrophilic component may be added to the above-mentioned polymers as necessary, such as a crosslinking agent, radical polymerizable monomer, photoreaction initiator, oxidation stabilizer, polymerization inhibitor, etc., and may be modified as necessary. You may do it.
[0012]
Examples of the radical polymerizable monomer include styrene, vinyl toluene, chlorostyrene, t-butyl styrene, α-methyl styrene, acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and n-propyl. (Meth) acrylate, iso-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meta ) Acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, n-tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, ethylene glycol mono (meth) acrylate Rate, propylene glycol mono (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol monomethyl ether mono (meth) Acrylate, polypolypropylene glycol monomethyl ether mono (meth) acrylate, polyethylene glycol monoethyl ether mono (meth) acrylate, polypropylene glycol monoethyl ether mono (meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate , 2-phenoxypropyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate Relate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, 2,3-dichloropropyl (meth) acrylate, 3-chloro -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, Nt-butylaminoethyl (meth) acrylate, acrylamide, N, N -Dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, etc. are mentioned.
[0013]
Examples of the crosslinking agent include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6 -Hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate Glycerol di (meth) acrylate, glycerol allyloxy di (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethane di (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethanetri (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylpropane di (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylpropane tri (meth) acrylate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, triallyl trimellitate, diallyl terephthalate , Diallyl phthalate, divinyl benzene, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, etc., and a compound having two or more radically polymerizable ethylene groups in one molecule. , Epoxy group, isocyanate group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and also compounds having a plurality of reactive functional groups.
[0014]
The structure of such a photosensitive resin composition containing a hydrophobic component and a hydrophilic component includes a structure in which the hydrophobic component is a particulate dispersed phase and the hydrophilic component is surrounded by a continuous phase. A structure in which the core-shell particle in which the component is a core and the hydrophilic component is a shell, a structure in which another hydrophobic component is a continuous phase, a structure in which the hydrophilic component is a particulate dispersed phase and the hydrophobic component is a continuous phase, Examples include a structure in which both a hydrophobic component and a hydrophilic component are entangled with each other in a continuous phase to form a mosaic, and a structure in which a hydrophobic component and a hydrophilic component are uniformly compatible. In these structures, it is preferable that the hydrophilic component and the hydrophobic component that has become a continuous phase are not chemically crosslinked in an uncured state. On the other hand, the particulate hydrophobic component may be crosslinked in an uncured state or not. Further, the hydrophobic component and the hydrophilic component may be chemically bonded or not bonded to each other.
[0015]
As a method for producing a photosensitive resin composition, a dispersion phase component obtained by emulsion polymerization or suspension polymerization or by pulverizing a polymer is used alone or mixed with a continuous phase component and then molded by a kneader or an extruder. A method in which a hydrophobic component and a hydrophilic component are kneaded with a kneader or an extruder while they are in a lump, phase-separated and dispersed, and then molded. A hydrophobic component and a hydrophilic component are kneaded with a kneader or an extruder as a lump. A known method such as a method of kneading and uniformly dissolving and then molding is used.
Moreover, the polymer of a hydrophilic component and a hydrophobic component may use what was previously polymerized, and may mix | blend a monomer and polymerize it in the manufacture process of the photosensitive resin composition. In particular, emulsion polymerization or the like is often used when a hydrophilic component is arranged around particles of a hydrophobic component.
[0016]
As described above, a desired photosensitive resin plate can be obtained by appropriately selecting raw materials, structures, manufacturing methods, and the like according to required physical properties.
For example, as physical properties required for a printing plate, it is desirable in terms of printing properties that the JIS A hardness is 30 to 80 degrees and the rebound resilience is 20% or more.
Such a photosensitive resin composition is cured by ultraviolet rays. The ultraviolet ray used for curing is effective at a wavelength of 150 to 500 nm, particularly 300 to 400 nm, and the light source used is a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a chemical lamp. Xenon lamps and zirconium lamps are desirable.
[0017]
Next, in the present invention, the photosensitive resin plate is exposed to a negative film having a transparent image under the light source and irradiated with ultraviolet rays to expose the image, and then the unexposed non-image portion is removed by using a developer. A relief image is obtained, while the uncured photosensitive resin dissolved and removed remains in the developing tank as an emulsion or suspension. As the developer here, water or a developer containing water as a main component is used. The developer containing water as a main component is obtained by adding a surfactant, inorganic or organic alkali, acid, salt, or other water-soluble compound to water.
[0018]
As the surfactant used here, an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like can be widely used.
Specific examples include anionic surfactants such as aliphatic carboxylates such as sodium laurate, sodium stearate and sodium oleate, resin soaps such as sodium abietic acid and sodium rosinate, sodium lauryl sulfate, Primary and secondary alkyl sulfates such as lauryl sulfate triethanolamine, and primary and secondary polyoxyethylene alkyl ether sulfates such as polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate and polyoxyethylene lauryl ether sulfate triethanolamine Alkyl benzene sulfonates such as sodium lauryl benzene sulfonate and sodium stearyl benzene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonates such as sodium propylnaphthalene sulfonate and sodium butyl naphthalene sulfonate, Polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfonates such as sodium ethylene lauryl phenyl ether sulfonate, sulfated oils such as sulfated castor oil and sulfated beef oil, sulfated fatty acid esters such as sulfated butyl oleate, dioctyl sulfo Alkyl sulfosuccinates such as sodium oxalate, α-olefin sulfonates, hydroxyalkane sulfonates, N-methyl-N-alkyl taurine salts, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide salts, fatty acid monoglyceride sulfates Alkyl diphenyl ether disulfonates, alkyl phosphate salts such as lauryl alcohol phosphate monoester disodium salt and lauryl alcohol phosphate diester soda salt, polyoxyethylene lauryl ether phosphate monoether Polyoxyethylene alkyl phosphate salts such as stealdisoda salt and polyoxyethylene lauryl ether phosphoric acid diester soda salt, naphthalene sulfonate formalin condensate, styrene-maleic anhydride copolymer partially saponified salt, olefin-maleic anhydride Examples thereof include salts of partially saponified copolymers. In addition, although the sodium salt was mainly mentioned as a specific example, potassium salt, ammonium salt, magnesium salt, calcium salt etc. are also possible, and it is not specifically limited to these.
[0019]
Cationic surfactants include primary and secondary and tertiary amine salts such as monostearyl ammonium chloride, distearyl ammonium chloride and tristearyl ammonium chloride, stearyl trimethyl ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium chloride and stearyl dimethyl benzyl ammonium. Quaternary ammonium salts such as chloride, alkylpyridinium salts such as N-cetylpyridinium chloride and N-stearylpyridinium chloride, N, N dialkylmorpholinium salts, fatty acid amide salts of polyethylene polyamine, aminoethylethanolamine and stearic acid Acetate of urea compound of amide, 2-alkyl-1-alkyl-1-hydroxyethylimidazolinium Roraido and the like. In addition, although the chloride was mainly mentioned as a specific example, a bromide, an alkyl sulfate, an acetate etc. are also possible, and it does not specifically limit to these.
[0020]
Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene oleyl ether and polyoxyethylene lauryl ether, and polyoxyethylene alkylphenyl ethers such as polyoxyethylene nonylphenyl ether and polyoxyethylene octylphenyl ether. , Polyoxyethylene polyoxypropylene glycols, polyethylene glycol monostearate, polyethylene glycol monooleate, polyethylene glycol monolaurate and diesters of polyethylene glycol, fatty acids such as sorbitan monolaurate and sorbitan monooleate and sorbitan Esters of polyoxyethylene sorbitan monolaurate and polyoxyethylene sorbitan mono Esters of sorbitan polyoxyethylene adducts such as stearate and polyoxyethylene sorbitan trilaurate with fatty acids, esters of fatty acids such as sorbite monopalmitate and sorbit dilaurate, and esters of sorbitol, polyoxyethylene sorbite monostearate Esters of fatty acids with sorbite polyoxyethylene adducts such as rate and polyoxyethylene sorbitdiolate, esters of fatty acids such as pentaerythritol monostearate with pentaerythritol, fatty acids such as glycerol monolaurate and glycerin Esters, sugar and sucrose fatty acid esters, aliphatic alkanolamides such as lauric acid diethanolamide and lauric acid monoethanolamide, lauryldimethylamino Amine oxides such as oxides, aliphatic alkanol amines such as stearyl diethanolamine, polyoxyethylene alkyl amines, and triethanolamine fatty acid esters.
[0021]
Amphoteric surfactants include amino acid-type double-sided surfactants such as sodium laurylaminopropionate, carboxybetaine-type double-sided surfactants such as lauryldimethylbetaine and lauryldihydroxyethylbetaine, and stearyldimethylsulfoethyleneammonium ethyleneammonium betaine. Sulfobetaine-type amphoteric surfactants, imidazolinium betaine-type amphoteric surfactants, and lecithin.
Examples of inorganic and organic alkalis, acids, salts, and other water-soluble compounds include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, ammonia, alkanols such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. Acids such as alkalis such as amines, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, oxalic acid, succinic acid, citric acid, maleic acid, paratoluenesulfonic acid, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium tripolyphosphate , Potassium pyrophosphate, sodium silicate, sodium sulfate, sodium chloride, sodium borate, sodium acetate, magnesium acetate, sodium citrate, sodium oxalate, sodium benzenesulfonate, sodium toluenesulfonate, sodium xylenesulfonate Beam, sodium styrene sulfonate, sodium phenol 2,4-disulfonic acid, salts of sulfonates and alkyl sulfates such as sodium methyl sulfonate, a polymer compound such as carboxymethyl cellulose and methyl cellulose, and the like. Various additives such as a viscosity modifier, a dispersion stabilizer, a flocculant, and zeolite can be added as necessary.
[0022]
In addition, although it is an aqueous developer, other organic solvents that are soluble in water such as ethanol, isopropanol, cellosolve, glycerin, polyethylene glycol, dimethylformamide, dimethylacetamide, and acetone can be mixed as necessary.
The pH of the developer is not particularly limited, but is preferably in the range of 3 to 12 from the viewpoint of work safety. The temperature during development is preferably 10 to 50 ° C.
[0023]
In the present invention, a developing device, a concentration tank, and a membrane are used to remove the resin from the developer containing the unexposed resin in a dispersed state, which is generated when the photosensitive resin plate is developed as described above. Regeneration processing is performed while developing using an apparatus composed of a developer regeneration apparatus that performs filtration by circulating between filters. Specifically, a part of the developer containing the resin in the developing device is transferred from the developing device to the concentration tank continuously or at regular intervals, and the resin-containing developer in the concentration tank is filtered and concentrated. The filtrate is returned to the developing device and reused as a developing solution. For this reason, development-regeneration is continuously performed without stopping development for regeneration of the developer, and the resin concentration in the developer in the developing device can always be kept below a certain level.
[0024]
Materials for these membrane filters include organic films such as polysulfone resin, polyimide resin, polyacrylonitrile resin, cellulose acetate, ethyl cellulose, nitrocellulose, etc., and ceramic films and alloys mainly composed of alumina, silica, titanium oxide, zirconia. A metal film obtained by sintering is not particularly limited. Moreover, as a form of the module, a hollow fiber or a tubular type is preferably used for the organic film, and a tubular type or a multi-lumen type is preferably used for the ceramic film or the metal film. As the filtration method in the present invention, a cross flow method is preferably used in which the stock solution is circulated through the module of the filtration membrane and a part of the solution is taken out as a filtrate.
[0025]
In the present invention, it is desirable that the flow rate of the stock solution to the filtration membrane module is such that the flow rate of the raw water is 0.2 m / second or more with respect to the filtration membrane. The reduction of the filtration flow rate is remarkable. The pressure of the raw water applied to the filtration membrane varies depending on the type of membrane, but is 0.2 kg / cm. ² The above is desirable. Further, the membrane filter can be provided with a mechanism for backwashing by applying pressure from the filtrate side every predetermined time in order to prevent a decrease in filtration flow rate due to blockage.
[0026]
This filtration operation is called normal operation, and the resin concentration of the developer in the concentration tank gradually increases during this operation. The resin content in the developer is usually about 5 to 20%. Thereafter, the transfer of the developer from the developing device to the concentration tank is stopped, and in this state, the regeneration operation of the developer by the membrane filter is continued. As a result, the amount of the resin-containing developer in the concentration tank becomes smaller than that during normal operation, and the resin content increases. This operation is called additional concentration operation. By this additional concentration operation, it is possible to increase the resin content in the concentration tank to 15 to 50% and reduce the developer amount to about 70 to 20% of the normal operation. Thereafter, the resin-containing developer in the additional concentration tank is discarded. A feature of the present invention is that this additional concentration is performed immediately before discarding the resin-containing developer in the concentration tank.
[0027]
By this method, during normal operation, membrane filtration can be performed with a relatively low concentration of resin in the concentration tank, so a high filtration flow rate can be secured, and when the resin-containing developer in the concentration tank is discarded, it is concentrated to a high concentration. To satisfy the conflicting requirement of reducing the amount of the resin-containing developer to be discarded. On the other hand, after the resin-containing developer is extracted, the resin is removed by a known method such as agglomeration, centrifugation, filtration, drying under normal pressure or reduced pressure, and then discarded or solidified by a water absorbing material. It can be discarded later or incinerated as it is. In this case, in the present invention, since it is concentrated to a high concentration and the amount of liquid is small, these disposal processes can be performed easily and at low cost. Since the concentrated waste liquid is discarded, the total amount of the developer is reduced from the initial amount after processing. Therefore, in order to regenerate the developer for a long period of time and perform stable development, it is necessary to add an amount of water and other developer chemical components corresponding to the discarded concentrated solution.
[0028]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram of an embodiment of a processing method for a developing solution of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of an embodiment of the developing device of the present invention. 1 and 2, the developer sent from the developing device 13 through the pipe 4 due to overflow is stored in the concentration tank 1. From the concentration tank 1, the waste liquid is sent to the membrane filter 2 through the pipe 5 by the circulation pump 3, and returned to the concentration tank 1 through the pipe 6, and repeatedly circulates in this line. On the other hand, the filtrate discharged from the membrane filter module 2 is returned to the developing device 13 through the pipe 7. During this normal operation, the amount returned to the developing device 13 as the filtrate is sent from the developing device 13 to the concentration tank 1 by overflow, so the level of the developer in the concentration tank 1 is almost constant at 14. .
[0029]
When the resin concentration of the developer in the concentration tank 1 is increased to a certain level, the valve 9 is closed, the transfer of the developer from the developing device 13 is stopped, and additional concentration is performed. Thereby, the liquid level of the developing solution in the concentration tank 1 gradually decreases, and the resin concentration increases. When the level of the developer in the concentration tank 1 becomes the level gauge 11 or less, the level gauge 11 is operated, the pump 3 is stopped, and the additional concentration is completed. The resin-containing developer in the concentration tank 1, the membrane filter module 2, and the

pipes

5 and 6 is extracted by opening the concentration extraction valve 10 and discarded. Thereafter, the valve 10 is closed, the valve 9 is opened, and after a further insufficient amount of developer is added, the pump 9 is moved to resume the normal concentration process.
[0030]
These devices are equipped with the minimum equipment necessary for the present invention, but prefilters, pressure gauges and flow meters for preventing large scum from flowing in the filtration module and blocking the flow path in the module. Measuring equipment such as thermometers, piping equipment such as bypass piping, pumps and valves, temperature regulators such as heaters and cooling devices, and devices that automatically add water, surfactants and additives I can do it.
[0031]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely using an Example, this invention is not limited to these Examples. The membrane filters in the examples and comparative examples are the following hollow fiber types shown below as A, B, and C, and the developers are aqueous solutions shown as a to f below. Was used.

[0032]
Examples 1-13
A photosensitive flexographic printing plate (Toyobo Co., Ltd., Cosmolite, CLH thickness 1.7 mm) is cut to A2 size, and an appropriate negative film (exposure part 50%) having fine lines and solid parts of each line width is obtained. Close contact, illuminance 25W / m ² The pattern was baked by irradiation with a mercury lamp for 5 minutes. After removing the negative film, it was decided to carry out development by rubbing with nylon brush so that the relief depth was about 1 mm at 40 ° C. in various developing solutions according to the process shown in FIG.
First, 50 liters of developer was placed in a tank in the developing device, and 20 liters of the same developer was placed in a concentration tank, and circulation filtration was performed. The filtrate was returned to the developing device through the pipe 7, and the developing solution was sent from the developing device to the concentration tank 1 due to overflow. At this time, 15 liters of developer is present in the

concentration tank

1, 3 liters of developer is present in the membrane filter 2 and the pipe, and the rise in water level for overflowing is also included in the developing device. There was 52 liters of developer.
[0033]
In this state, the photosensitive flexographic plate prepared earlier was developed at a rate of one sheet every 20 minutes. After developing 20 sheets continuously, the valve 9 was closed, the transfer of the developer from the developing device was stopped, and additional concentration was performed. After about 10 minutes, the liquid level of the developer in the concentration tank 1 became 11 or less, and the pump 3 stopped. The resin-containing developer in the concentration tank 1 and the membrane filter 2 and the

pipes

5 and 6 was extracted by opening the concentrated solution extraction valve 10 and discarded. The amount of waste liquid at this time was 9 liters. After this, the valve 10 was closed, the valve 9 was opened, and after a further insufficient amount of developer was added, the pump 9 was moved to resume the normal concentration process. This operation was repeated 10 times to develop a total of 200 sheets. Measure the flow rate of filtration, the resin concentration of the developer in the tank in the developing device, and the resin concentration of the developer in the concentration tank immediately after the start of the second and subsequent developments and immediately before additional concentration. The resin concentration and amount of the developed developer were measured. The results are shown in Table 1.
[0034]
[Table 1]

[0035]
Comparative Examples 1-3
Exposure and development were performed in the same manner as in Examples 1 to 11, and after developing 20 sheets, the resin-containing developer in the concentration tank was discarded without additional concentration. This operation was repeated 10 times to develop a total of 200 sheets. The results are shown in Table 2.
[0036]
Comparative Examples 4-6
Exposure and development were carried out in the same manner as in Examples 1 to 11, and 40 sheets were developed twice as much as in Examples. The developer was discarded without further concentration. This operation was repeated 5 times to develop a total of 200 sheets. The results are shown in Table 2.
[0037]
[Table 2]

In addition, the filtration flow rate and the resin concentration in Tables 1 and 2 indicate the average of the measurement in the second and subsequent operations, and the amount of waste liquid indicates the total until 200 sheets are washed out.
As is apparent from Table 1, in Examples 1 to 13, the resin concentration of the developer in the tank in the developing device is kept low even after the development of 20 sheets, and the decrease in the filtration flow rate is small. It can also be seen that the amount of waste liquid was reduced due to the additional concentration.
Further, as is clear from Table 2, in Comparative Examples 1 to 3, the resin concentration of the developer in the tank in the developing device is kept low even after the development of 20 sheets, and the decrease in the filtration flow rate is small. In Comparative Examples 4 to 6, the amount of waste liquid was small. However, after developing 40 sheets, the filtration flow rate was low, so the processing could not catch up, and the development in the tank in the developing device was not performed. It can be seen that the resin concentration of the liquid is high, and the brush is clogged with the precipitated resin.
[0038]
【The invention's effect】
As described above, by using the apparatus of the present invention having such a configuration and adopting the method of the present invention, the amount of developer waste liquid can be reduced, work such as agglomeration treatment is easy, and the amount of chemical used can be reduced. This is also advantageous. Furthermore, since the total amount discharged as wastewater is small, it can greatly contribute to low pollution and local environmental conservation. Further, since a high filtration flow rate can be secured during normal operation, it is possible to contribute to the industry, such as being able to develop a large number of photosensitive resin plates stably for a long period of time.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a process diagram of an embodiment of a developing solution processing method of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of an embodiment of the developing device of the present invention.
[Explanation of symbols]
1. Concentration tank
2. Membrane filter module
3. Circulation pump
4). Piping from developing device to concentration tank
5,6. Piping (for circulation between waste liquid storage tank and membrane filter)
7). Piping from membrane filter to developing device
8). Pressure gauge
9. valve
10. Concentrated liquid extraction valve
11. Liquid level indicator
12 Pump control device
13. Development device
14 Level position during normal operation

Claims

Using a device that consists of a developer and a developer regeneration device that performs filtration by circulating between the concentration tank and the membrane filter, a part of the developer is transferred from the developer to the concentration tank continuously or at regular intervals. Then, the resin-containing developer in the concentration tank is filtered and concentrated, the filtrate is returned to the developing device, and the resin-containing developer in the concentration tank is discarded when the resin becomes high in concentration. In the liquid processing method, immediately before the resin-containing developer in the concentration tank is discarded, the transfer of the developer from the developing device to the concentration tank is stopped to reduce the amount of the resin-containing developer in the concentration tank. A method for treating a developing solution of a photosensitive resin, which is disposed after the rate is increased.

At least (1) a concentration tank, (2) a membrane filter module having at least one kind of filtration membrane of reverse osmosis membrane, ultrafiltration membrane, microfiltration membrane, (3) waste liquid from the concentration tank to the membrane filter module (4) Piping for transferring the cross-flow circulating waste liquid from the membrane filter module to the concentration tank, (5) Transferring the filtrate from the membrane filter module to the developing device Piping, (6) Piping for transferring developer from the developing device to the concentration tank due to overflow, (7) To interrupt the transfer of the liquid installed in the piping for transferring the developing solution from the developing device to the concentration tank Valve, (8) Level gauge installed in the concentration tank, (9) When the liquid level in the concentration tank falls below the level gauge Function ring pump is stopped, (10) the processing apparatus of a photosensitive resin plate for developer, characterized in that it comprises a pipe for withdrawing the liquid developer from the concentrated reservoir.