JP4036048B2 - 欠陥識別方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶、PDP等の透過性があるガラス基板を用いた製品における表面のパターン欠陥、異物などの検査において、裏面の欠陥が製品の良否に影響しないため表面の欠陥のみを検出すればよい場合などに、検出された欠陥がガラス基板の表面の欠陥か裏面の欠陥かを識別する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の欠陥識別方法について、図8から図9を用いて説明する。
【0003】
図8は従来の欠陥検査装置の概略構成図である。
【0004】
図8において、1は検査対象物、2は検査対象物1に照明光を照射する照明光源、3は照明光源2により照明光を照射された検査対象物1を撮像する画像入力部、4は画像入力部3により入力された画像を処理するための画像処理部である。検査対象物1において、画像入力部3側を表面とし、1aは検査対象物1の表面、1bは検査対象物1の裏面である。
【0005】
従来の欠陥検査は照明光源2により照明光を検査対象物1に照射し、照明光を照射された検査対象物1を画像入力部3により撮像する。画像入力部3により撮像した画像データを画像処理部4により処理し、欠陥の検査を行っていた。
【0006】
しかし、画像入力部3は検査対象物1の表面1aに焦点が合うように調整されており、検査対象物1の裏面1bに存在する欠陥は焦点が合わずコントラストが落ち、欠陥領域中に明るい部分が占める割合が増える。そこで、検出された欠陥の各画素の明るさを表す階調値の平均値を計算し、計算された平均値が設定されたしきい値より大きい場合には該当欠陥を検査対象物1の裏面1bの欠陥とし、計算された平均値が設定されたしきい値以下の場合には当該欠陥を検査対象物1の表面1aの欠陥とすることにより、検査対象物1の表面1aの欠陥か裏面1bの欠陥かを識別するようにしていた。
【0007】
以下、図9を用いて具体的に説明する。
【0008】
画像入力部3により撮像した画像データは画像処理部4において、各画素毎に0〜255の256階調の正数値で明るさを表す。階調値が255に近づくほど画素の明るさは明るく、0に近づくほど画素の明るさは暗いものとする。
【0009】
図9(a)に示すような検査対象物1の表面1aの欠陥は、欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値が75となる。それに対し、図9(b)に示すような検査対象物1の裏面1bの小さな欠陥は、欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値が88となる。検査対象物1の表面1aの欠陥であれば、画像入力部3の焦点が合わせられているため欠陥領域の輪郭がはっきりしており、実験やサンプリングにより欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値は10〜80程度の範囲になっていた。そこで、表面1aの欠陥と裏面1bの欠陥を識別するためのしきい値を80とすることにより、図9(a)の表面1aの欠陥と図9(b)の裏面1bの欠陥は識別が可能であった。ここで、しきい値を80としたが、しきい値は検査対象物1の透過性や欠陥領域の光り方により変化するものであるため、この値に限るものではない。
【0010】
しかし、図9(c)に示すような検査対象物1の裏面1bの大きな欠陥であると、欠陥領域の中央部において各画素の階調値が小さく、欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値が60となる。このような平均値になると、表面1aの欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値と差がなくなり、図9(a)の表面1aの欠陥と図9(c)の裏面1bの欠陥をしきい値で識別することが困難であった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上記に示したように従来の方法では、裏面の欠陥の大きさが大きくなるにしたがって、欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値が表面の欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値に近づいていくため、欠陥領域の明るさを表す階調値の平均値を用いて、しきい値により表面の欠陥か裏面の欠陥かを識別することが困難であった。
【0012】
本発明は、欠陥領域の輪郭を抽出し、欠陥領域の輪郭のコントラストにより検査対象物の表面の欠陥と裏面の欠陥を高精度に識別することが可能となる。これにより、表面の欠陥のみを不良とする、裏面の欠陥のみを不良とする、表面の欠陥、裏面の欠陥それぞれの集計をするといった、実際の製造ラインに即した検査が可能となる。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、透過性がある検査対象物の欠陥を検出する欠陥検査方法において、第一のしきい値以下の暗い欠陥領域または第二のしきい値以上の明るい欠陥領域を検出し、前記欠陥領域について輪郭を抽出し、前記輪郭の画素の階調値と前記輪郭の画素に隣接する画素の階調値との差の最大値を算出し、前記欠陥領域の全輪郭の画素について前記最大値の平均値を算出し、前記平均値と第三のしきい値を比較することにより、前記検査対象物の表面の欠陥か裏面の欠陥かを識別することが可能となる。
【0014】
さらに、最大値の平均値を算出する工程において、欠陥領域の全輪郭の画素について前記最大値を小さい順に並べ、前記最大値について予め設定した個数または割合をもとに小さい方から選択し、前記選択した複数の最大値の平均値を算出することにより、検査対象物の表面の欠陥と裏面の欠陥をより高精度に識別することが可能となる。
【0015】
また、検査対象物上にパターンが存在する場合、欠陥領域を検出する工程の前に、予め登録されたパターンとの差画像データを作成することにより、検査対象物上にパターンが存在する場合にも検査対象物の表面の欠陥と裏面の欠陥を高精度に識別することが可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について、図1から図7を用いて説明する。
【0017】
本発明の実施の形態における欠陥検査装置は、図8に示す従来の欠陥検査装置と同様の装置を用いる。
【0018】
本発明における第一の実施の形態について、図1から図3を用いて説明する。
【0019】
図1は第一の実施の形態におけるフローチャートである。
【0020】
まず、照明光源2により照明光を検査対象物1に照射し、照明光を照射された検査対象物1を画像入力部3により撮像する。画像入力部3により撮像した画像データを画像処理部4に入力する(S11)。
【0021】
次に、S11にて入力した画像データに対して、階調値が第一のしきい値以下の領域を暗い欠陥領域として検出する(S12)。図2は図9の画像データに対して、第一のしきい値を100とし、第一のしきい値以下の領域を欠陥とするときの検出された欠陥領域を示す。図2(a)は図9(a)に対する欠陥領域、図2(b)は図9(c)に対する欠陥領域である。ここで、第一のしきい値を100としたが、第一のしきい値は検査対象物1の透過性や欠陥領域の光り方により変化するものであるため、この値に限るものではない。
【0022】
次に、S12にて検出された暗い欠陥領域の画素について、階調値が第一のしきい値より大きい画素が周囲に存在する画素を欠陥領域の輪郭として抽出する(S13)。図3は図2の欠陥領域に対して、第一のしきい値より大きい画素が周囲に存在する画素を輪郭としたときの欠陥領域の輪郭である。図3(a)は図2(a)に対する輪郭、図3(b)は図2(b)に対する輪郭である。
【0023】
次に、S13にて検出された輪郭について、輪郭の画素の階調値と輪郭の画素の周囲に隣接して存在する画素の階調値との差の最大値を算出する(S14)。例えば、図3(a)における輪郭の画素D1について算出すると、輪郭の画素D1の階調値は100であり、輪郭の画素D1の上側に隣接する画素の階調値は100、輪郭の画素D1の右側に隣接する画素の階調値は200、輪郭の画素D1の下側に隣接する画素の階調値は100、輪郭の画素D1の左側に隣接する画素の階調値は0であるので、輪郭の画素D1の階調値と輪郭の画素D1に隣接する画素の階調値との差の最大値は100となる。また、図3(b)における輪郭の画素D2について算出すると、輪郭の画素D2の階調値は100であり、輪郭の画素D2の上側に隣接する画素の階調値は100、輪郭の画素D2の右側に隣接する画素の階調値は150、輪郭の画素D2の下側に隣接する画素の階調値は100、輪郭の画素D2の左側に隣接する画素の階調値は50であるので、輪郭の画素D2の階調値と輪郭の画素D2に隣接する画素の階調値との差の最大値は50となる。
【0024】
次に、S14にて全輪郭の画素について算出した輪郭の画素の階調値と輪郭の画素に隣接する画素の階調値との差の最大値について、全輪郭の画素における最大値の平均を算出する(S15)。例えば、図3(a)の全輪郭の画素における最大値の平均は100となる。また、図3(b)の全輪郭の画素における最大値の平均は50となる。
【0025】
次に、S15にて算出した平均値が大きいほど、コントラストがはっきりしていることになるため、平均値が第三のしきい値以上であれば検査対象物1の表面1aの欠陥、第三のしきい値より小さければ検査対象物1の裏面1bの欠陥として識別する(S16)。例えば、欠陥識別を行うための第三のしきい値を80とすると、図3(a)では欠陥領域の輪郭における平均値は100であり、第三のしきい値80以上であるので検査対象物1の表面1aの欠陥と識別される。また、図3(b)では欠陥領域の輪郭における平均値は50であり、第三のしきい値80より小さいので検査対象物1の裏面1bの欠陥と識別される。ここで、第三のしきい値を80としたが、第三のしきい値は検査対象物1の透過性により変化するものであるため、この値に限るものではなく、実験やサンプリングにより決定することが望ましい。
【0026】
以上のように本発明の第一の実施の形態によれば、従来の欠陥識別方法では裏面1bの欠陥として識別が困難であった、図9(c)のような裏面1bに存在する大きな欠陥を、裏面1bの欠陥として識別することが可能となり、検査対象物1の表面1aの欠陥と裏面1bの欠陥を高精度に識別することが可能となる。
【0027】
次に、本発明における第二の実施の形態について、図4から図7を用いて説明する。
【0028】
図4は第二の実施の形態におけるフローチャートである。
【0029】
本発明における第二の実施の形態では、検査対象物1上にパターンが存在する場合に、予め登録しておいた良品パターンまたは繰返し性のあるパターンとの差画像を作成し欠陥の検出を行う。
【0030】
まず、画像入力部3により撮像した検査対象物1の画像データを画像処理部4に入力する(S21)。
【0031】
次に、S21にて入力された画像データと予め登録しておいたパターンの画像データより差画像データを作成する(S22)。図5(a)はS21で入力した画像データ、図5(b)は予め登録しておいたパターンの画像データであり、図5(a)と図5(b)を差画像比較し、図5(c)の差画像データを作成する。差画像データを作成する際に、画素の明るさを表す階調値を0〜255の256階調の正数値にしているため、非欠陥領域の階調値を256階調の中心値である128とし画素の明暗を明確にしている。ここでは説明をわかりやすくする目的で非欠陥領域の階調値を120としている。また、マイナス値になる画素の階調値は0としている。
【0032】
次に、S22にて作成した差画像データに対して、欠陥領域を検出する(S23)。図6は図5(c)の差画像データに対して、第一のしきい値を100とし、第一のしきい値以下の領域を欠陥とするときの検出された欠陥領域を示す。ここで、第一のしきい値を100としたが、第一のしきい値は検査対象物1の透過性や欠陥領域の光り方により変化するものであるため、この値に限るものではない。
【0033】
次に、S23にて検出された欠陥領域の輪郭を抽出する(S24)。図7は図6の欠陥領域に対して、第一のしきい値より大きい画素が周囲に存在する画素を輪郭としたときの欠陥領域の輪郭である。
【0034】
次に、S24にて検出された輪郭について、輪郭の画素の階調値と輪郭の画素の周囲に隣接して存在する画素の階調値との差の最大値を算出する(S25)。例えば、図7における輪郭の画素D3について算出すると、輪郭の画素D3の階調値は0であり、輪郭の画素D3の上側に隣接する画素の階調値は120、輪郭の画素D3の右側に隣接する画素の階調値は0、輪郭の画素D3の下側に隣接する画素の階調値は0、輪郭の画素D3の左側に隣接する画素の階調値は0であるので、輪郭の画素D3の階調値と輪郭の画素D3に隣接する画素の階調値との差の最大値は120となる。また、輪郭の画素D4について算出すると、輪郭の画素D4の階調値は80であり、輪郭の画素D4の上側に隣接する画素の階調値は80、輪郭の画素D4の右側に隣接する画素の階調値は120、輪郭の画素D4の下側に隣接する画素の階調値は80、輪郭の画素D4の左側に隣接する画素の階調値は40であるので、輪郭の画素D4の階調値と輪郭の画素D4に隣接する画素の階調値との差の最大値は40となる。
【0035】
次に、S25にて全輪郭の画素について算出した輪郭の画素の階調値と輪郭の画素に隣接する画素の階調値との差の最大値について、予め設定した個数または割合をもとに最大値を小さい方から選択し、選択した複数の最大値の平均を算出する(S26)。例えば、図7においては、全輪郭の画素の個数が28個であり、最大値が40の画素が19個、最大値が80の画素が2個、最大値が120の画素が7個である。予め設定した割合を50%とすると、平均を算出するための最大値の個数は14個であり、最大値が小さい方から14個分の平均は40となる。ここで、予め設定した割合を50%としたが、予め設定する割合は、欠陥と予め登録されているパターンとが重なりあっている場合に、欠陥と予め登録されているパターンとが重なっている部分の影響を軽減するためであり、割合が大きすぎると欠陥の輪郭がパターンの輪郭と重なっている部分が多く含まれ誤判定したり、割合が小さすぎると輪郭がノイズの影響によりコントラストが悪くなっている部分で判定してしまい誤判定してしまったりする。したがって、予め設定する割合は30〜50%の範囲内が好適である。しかし、予め設定する割合は、欠陥の大きさや予め登録されているパターンにより変化するものであるため、この値に限るものではない。
【0036】
次に、S26にて算出した平均値に対して、平均値が第三のしきい値以上であれば検査対象物1の表面1aの欠陥、第三のしきい値より小さければ検査対象物1の裏面1bの欠陥として識別する(S27)。例えば、欠陥識別を行うための第三のしきい値を80とすると、図7では欠陥領域の輪郭における平均値は40であり、第三のしきい値80より小さいので検査対象物1の裏面1bの欠陥と識別される。ここで、第三のしきい値を80としたが、第三のしきい値は検査対象物1の透過性により変化するものであるため、この値に限るものではなく、実験やサンプリングにより決定することが望ましい。
【0037】
以上のように本発明の第二の実施の形態によれば、本発明の第一の実施の形態では裏面1bの欠陥として識別が困難であった、欠陥とパターンが重なった部分が大きい裏面1bに存在する欠陥を、裏面1bの欠陥として識別することが可能となり、検査対象物1上にパターンが存在する場合にも検査対象物1の表面1aの欠陥と裏面1bの欠陥を高精度に識別することが可能となる。
【0038】
また、本発明の実施の形態においては、照明光を検査対象物1の裏面1b側から照射する装置構成を用いたが、検査対象物1の表面1a側から照明光を照射する構成を用いてもよく、検査対象物1の表面1a側から照明光を照射する構成を用いた場合には、検査対象物1の裏面1bの欠陥が光るようになるため、画像処理上は、明暗部が反転するだけであり、欠陥領域検出において、階調値が第二のしきい値以上の領域を明るい欠陥領域として検出するようにすればよい。
【0039】
また、本発明の実施の形態においては、輪郭の画素に隣接する画素を、輪郭の画素に隣接する8つの画素の内、上下左右に隣接する4つの画素としたが、前記4つの画素を除く4つの画素としてもよく、8つの画素全てにしてもよい。
【0040】
また、輪郭の画素の階調値と輪郭の画素に隣接する画素の階調値との差は、2乗値や絶対値などを用いてもよい。
【0041】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、透過性がある検査対象物の表面の欠陥と裏面の欠陥を高精度に識別することが可能となる。
【0042】
さらに、検査対象物上にパターンが存在する場合にも、差画像データを作成することにより検査対象物の表面の欠陥と裏面の欠陥を高精度に識別することが可能となる。
【0043】
これにより、表面の欠陥のみを不良とする、裏面の欠陥のみを不良とする、表面の欠陥、裏面の欠陥それぞれの集計をするといった、実際の製造ラインに即した検査が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態におけるフローチャート
【図2】入力データにおける欠陥領域の概略図
【図3】入力データにおける欠陥領域の輪郭の概略図
【図4】本発明の第二の実施の形態におけるフローチャート
【図5】表面にパターンが存在する欠陥の入力データと差画像データの概略図
【図6】差画像データにおける欠陥領域の概略図
【図7】差画像データにおける欠陥領域の輪郭の概略図
【図8】従来の方法における装置の概略構成図
【図9】従来の方法における表面、裏面の欠陥の入力データの概略図
【符号の説明】
S11 画像入力
S12 欠陥領域検出
S13 輪郭抽出
S14 最大値算出
S15 平均値算出
S16 表面裏面欠陥判別

Claims (5)

  1. 透過性がある検査対象物の欠陥を検出する欠陥検査方法において、第一のしきい値以下の暗い欠陥領域または第二のしきい値以上の明るい欠陥領域を検出し、前記欠陥領域について輪郭を抽出し、前記輪郭の画素の階調値と前記輪郭の画素に隣接する画素の階調値との差の最大値を算出し、前記欠陥領域の全輪郭の画素について前記最大値の平均値を算出し、前記平均値と第三のしきい値を比較し前記検査対象物の表面の欠陥か裏面の欠陥かを識別することを特徴とする欠陥識別方法。
  2. 最大値の平均値を算出する工程において、欠陥領域の全輪郭の画素について前記最大値を小さい順に並べ、前記最大値について予め設定した個数または割合をもとに小さい方から選択し、前記選択した複数の最大値の平均値を算出することを特徴とする請求項1記載の欠陥識別方法。
  3. 検査対象物上にパターンが存在する場合、欠陥領域を検出する工程の前に、予め登録されたパターンとの差画像データを作成することを特徴とする請求項2記載の欠陥識別方法。
  4. 輪郭の画素の階調値と前記輪郭の画素に隣接する画素の階調値との差の算出に用いる前記輪郭の画素に隣接する画素は、前記輪郭の画素に隣接する8つの画素の内、互いに隣接しない4つの画素であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の欠陥識別方法。
  5. 検査対象物が透過性があるガラス基板であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の欠陥識別方法。
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