JP4004659B2 - High voltage input interface circuit and semiconductor integrated circuit - Google Patents

High voltage input interface circuit and semiconductor integrated circuit Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高耐圧入力インタフェース技術に関し、例えば半導体集積回路の一例であるフラッシュメモリに適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
互いに電源電圧が異なる複数のLSIが混在するシステムにおいて、そのようなLSI間で信号のやり取りを可能とするには、LSIに供給される電源電圧よりも大きな入力振幅を受けるための手段が必要となる。そのような手段として、クランプ用のnMOSトランジスタを用いる方法がある。つまり、入力端子と、この入力端子を介して入力された信号を取り込むための入力初段回路との間に、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタを設け、このゲート電極を高電位側電源Vddに結合する。
【0003】
尚、クランプ回路について記載された文献の例としては、平成4年に日経BP社から発行された「日経マイクロデバイス10月号第84頁」がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図2には、本発明にかかる回路の比較対照とされる回路が示される。
【0005】
3個のインバータ22,23,24が直列接続され、そのうちの一つであるインバータ22と入力端子20との間に、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21が設けられる。このクランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21のゲート電極には高電位側電源Vddが供給される。入力端子20には、高電位側電源Vddを越える電圧(これをV1とする)が供給される。
【0006】
入力電圧Vinが0〜Vdd−Vth(ここでVthはクランプ用nチャンネル型MOSトランジスタのスレッショルド電圧)の間は、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタがオンされ、インバータ22の入力端子の電圧Vin’は、入力電圧Vinに等しくなる。入力電圧Vinが、(Vdd−Vth)〜V1の範囲では、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21はオフされ、Vin’=Vdd−Vthとなる。入力初段のインバータ22に加わる電圧Vin’は、入力端子20に高電位側電源Vddを越える電圧V1が供給された場合でも、Vdd−Vthに抑えられる。このようにクランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21の作用により、入力初段のインバータ22の入力ゲートに高電位側電源Vddを越える電圧が印加されるのが防止され、そのような作用により入力初段のインバータ22のゲート耐圧が確保される。ここで、図2に示される回路は、高電位側電源Vddに比べてMOSトランジスタのスレッショルド電圧が十分に小さいときには実用に耐え得るが、LSIの低電圧化が進み、高電位側電源Vddに比べてMOSトランジスタのスレッショルド電圧が十分に小さいといえない場合には、正常な動作が保障されない。
【0007】
例えば、3.3VプロセスのLSIにおいてクランプ用nチャンネル型MOSトランジスタを用いることにより、0〜5Vの入力を受け付ける入出力バッファを形成することができるが、そのようなクランプ回路を、2.5VプロセスのLSIに適用すると、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタの電圧降下を無視することができず、回路の安定動作を保障できない。
【0008】
本発明の目的は、低電圧化されたにもかかわらず、安定動作可能なインタフェース技術を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
【0010】
すなわち、入力端子を介して入力された信号を所定の電圧レベルにクランプするためのクランプ用素子(21)と、上記入力端子からクランプ用素子を介して伝達された信号を取り込むための入力初段回路(22)とを含んで高耐圧入力インタフェース回路が形成されるとき、上記入力初段回路に伝達される信号に応じて、上記入力初段回路の入力端子の電位を電源電圧レベルまで引き上げるためのプルアップ制御回路(30)を設ける。
【0011】
上記した手段によれば、プルアップ制御回路は、上記入力初段回路に伝達される信号に応じて、上記入力初段回路の入力端子の電位を電源電圧レベルまで引き上げる。このことが、低電圧化されたにもかかわらず、上記入力初段回路を構成するpチャンネル型MOSトランジスタを完全にオフすることで回路の安定動作を達成する。
【0012】
このとき、上記プルアップ制御回路は、高電位側電源に結合された抵抗(R)と、上記抵抗と上記入力初段回路の入力端子とに結合されたpチャンネル型MOSトランジスタ(32)と、上記入力初段回路に伝達される信号に応じて上記pチャンネル型MOSトランジスタを制御するためのインバータ(31)とを含んで構成することができる。
【0013】
そして、上記インバータの論理スレッショルド電圧を、上記入力初段回路の論理スレッショルド電圧よりも低く設定することで、プルアップ制御回路の動作タイミングの適正化を図ることができる。
【0014】
上記抵抗とpチャンネル型MOSトランジスタとの結合ノードと低電位側電源との間にキャパシタ(C)を設けることで、波形立ち上がり時の遅延時間特性と、波形立ち下がり時の遅延時間特性とを合わせることができる。
【0015】
さらに、外部から信号を取り込むためのバッファを備えて一つの半導体基板に形成された半導体集積回路において、上記バッファとして、上記高耐圧入力インタフェース回路を適用することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
図4には本発明にかかる半導体集積回路の一例であるフラッシュメモリの全体的な構成例が示される。
【0017】
同図に示されるフラッシュメモリ96は、特に制限されないが、公知の半導体集積回路製造技術によって単結晶シリコン基板のような1個の半導体基板に形成されている。
【0018】
MATUは第1メモリマット1、MATDは第2メモリマット2である。各メモリマット1,2において1本のワード線負荷容量を分散させるために、同一アドレスに配置されるワード線は2分割され、それぞれにサブデコーダ19が割り当てられている。特に制限されないが、このフラッシュメモリは、ディスク装置互換のATAファイルメモリに適用して有効なフラッシュメモリとされる。同一アドレスに配置されるワード線は(2048+128)×2ビットのメモリセルを有し、それは521バイトのセクタと16バイトのセクタ管理エリアに対応される。
【0019】
60で示されるのはカラム系回路である。このカラム系回路60は、センスラッチやY系デコード部を含む(後に詳述する)。カラム選択ゲート6,7はそれぞれ8対のコモンデータ線61とインタフェースされ、カラムデコーダは8対のコモンデータ線61とビット線BLU,BLDとの導通をカラムアドレス信号などに従って制御する。コモンデータ線61は、非反転側コモンデータ線IO0〜7と、反転側コモンデータ線/IO0〜7(/は、ローアクティブ又は信号反転を意味する)を含み、入出力切換え回路62を介してメインアンプ(MA)63及び入出力バッファ64に結合される。入出力バッファ64はボンディングパッドのような外部接続電極(I/O)を介して外部とインタフェースされる。
【0020】
上記入出力バッファ64はメモリデータの入出力、アドレスデータの入力、及びコマンドデータの入力に兼用される。メモリセルへの書き込みデータはにゅ出力切換え回路62を介してコモンデータ線61に供給される。メモリマットからの読み出しデータは入出力切換え回路62を介してメインアンプ63に供給され、そこで増幅されて入出力バッファ64に与えられる。
【0021】
入出力バッファ64に与えられたアドレスデータはアドレスカウンタ65に供給され、アドレスジェネレータ66を経て、メインデコーダ17、ゲートデコーダ18及びカラムデコーダ等に供給される。特に制限されないが、アドレスカウンタ65は初期値がアドレスデータとしてプリセットされ、コマンドにてフラッシュメモリに指示される動作モードに応じて順次インクリメントされる。インクリメントされたアドレスはアドレスジェネレータ65から出力される。メモリマット1,2は図示を省略する冗長ワード線などによって実現された予備ビット有し、冗長ヒューズトリミング回路67のプログラム状態に従って救済回路68が欠陥ビットのアドレスを冗長アドレスに置き換えてアドレスジェネレータ66に与え、これによって欠陥ビットが予備ビットに置き換えられる。アドレスジェネレータ66はその入力に従って内部相補アドレス信号を形成し、アドレス信号をメインデコーダ17、ゲートデコーダ18及びカラムデコーダ等に割り振る。
【0022】
外部からシリアルクリックSCが供給されるデータ入出力制御回路70は、上記メインアンプ63、入出力切換え回路62、及びアドレスカウンタ65と上記入出力バッファ64との間での入出力をシリアルクロックSCに同期化させる。
【0023】
制御信号入力バッファ71には外部制御信号が供給される。外部制御信号は、フラッシュメモリへの情報入力を指示するライトイネーブル信号WEB、フラッシュメモリの動作を指示するチップイネーブル信号CEB,フラッシュメモリの情報出力を指示するアウトプットイネーブル信号OEB、フラッシュメモリに供給されるべき情報がコマンドかデータかを指示する信号CED、及びリセット信号RESBとされる。フラッシュメモリの内部動作はクロックジェネレータ72から出力されるクロック信号に同期される。
【0024】
入出力バッファ64から供給されるコマンドは、コマンドデコーダ73に供給される。コマンドは、メモリセルに対する読み出し(リード)、書き込み(プログラム)及び消去(イレーズ)に関するコマンドである。プログラム及びイレーズコマンドが指示する内容にはベリファイ動作も含む。コマンドに基づく内部制御は所謂マイクロプログラム制御と類似の制御方式とされる。すなわち、ROMはコマンドに応じた処理を規定するための制御コード(ステート情報)の系列をコマンド毎に保有している。コマンドデコーダ73によるコマンドのデコード結果は、そのコマンドに対応される制御コード系列のROM75内の先頭アドレスとされる。このコマンド解読結果がROM75に与えられることにより、そのコマンドに対応される制御コード系列の先頭の制御コードがROM75から読出される。読出された制御コードはROMデコーダ76でデコードされ、書き込み消去判定回路80、直接系制御回路81及び電源制御回路82に動作制御信号を供給する。制御コード系列の第2番目以降の制御コードの指定は上記先頭制御コードのROMアドレスに基づいてROM制御系回路74が行なう。制御コードの実行順序を条件分岐させたりすることを考慮する場合には、マイクロプログラム同様に制御コードに次の制御コードのROMアドレスを保有させるようにしてもよい。
【0025】
上記電源制御回路82はリード、プログラム及びイレーズの動作に必要な各種回路の動作電源の供給制御を行なう。動作電源は、例えばシリコンのバンドギャップ等に基づいて基準電圧を発生する基準電圧発生回路85、この基準電圧発生回路85で形成された基準電圧を用いて−10V等の電源を生成するチャージポンプ回路84、そしてメインデコーダ等の各種回路の動作電源を、リード、イレーズ、プログラム等の動作に応じて切換える電源切換え回路83によって形成される。書き込み消去判定回路80は、書き込み動作や消去動作の完了を判定する回路である。判定結果は、ROM制御系回路74に供給され、一連の書き込み動作又は消去動作の次の制御ステップでの制御内容に反映される。直接系制御回路81はワード線選択タイミングやカラム選択タイミングを制御する。
【0026】
86で示されるのは、ステイタスレジスタ及びテスト系回路であり、このステイタスレジスタ及びテスト系回路86は、フラッシュメモリの内部状態を入出力バッファ64を介して外部に出力可能にされ、また、バッファ87を介してレディー/ビジー・ステータスを外部に出力させる。
【0027】
図1には上記入出力バッファ64における1ビット分の入力バッファの主要部が示される。
【0028】
図1に示される入力バッファは、特に制限されないが、3個のインバータ22,23,24が直列接続され、そのうちの一つであるインバータ22と入力端子20との間に、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21が設けられる。インバータ24の出力信号は、図4に示されるコマンドデコーダ73や入出力切り替え回路62に伝達される。上記クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21のゲート電極には高電位側電源Vddが供給される。また、上記インバータ22に伝達される信号Vin’に応じて、上記入力初段回路の入力端子の電位を電源電圧レベルまで引き上げるためのプルアップ制御回路30が設けられている。
【0029】
上記プルアップ制御回路30は、特に制限されないが、高電位側電源Vddに結合された抵抗Rと、上記抵抗Rとインバータ22の入力端子とに結合されたpチャンネル型MOSトランジスタ32と、上記インバータ22に伝達される信号に応じて上記pチャンネル型MOSトランジスタを制御するためのインバータ31とを含む。
【0030】
そして、インバータ22の論理スレッショルド電圧をVLT1とし、インバータ31の論理スレッショルド電圧をVLT2とするとき、VLT1>VLT2が成立するようにインバータ22,31の論理スレッショルド電圧が設定される。
【0031】
上記の構成において、入力端子20には、高電位側電源Vddを越える電圧(これをV1とする)が供給されるものとする。
【0032】
入力電圧Vinが0〜VLT2の範囲では次のようになる。
【0033】
この場合、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21はオンされ、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32はオフされている。この状態では、インバータ22に入力される電圧Vin’は、入力電圧Vinに等しくなる。つまり、Vin’=Vinとなる。
【0034】
入力電圧Vinが論理スレッショルド電圧VLT2〜Vdd−Vthの範囲では、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21及びプルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32はともにオンされる。このとき、高電位側電源Vddから入力端子20に向かって電流が流れるが、この電流の値は抵抗Rによって制限される。抵抗Rの値が、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21のオン抵抗よりも遙かに大きな値に設定されているため、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21のオン抵抗による電圧降下は無視することができる。よって、Vin’=Vinとなる。
【0035】
入力電圧Vinが(Vdd−Vth)〜V1の範囲では、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21はオフされ、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32はオンされる。プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32がオンされることにより、Vin’=Vddとなる。換言すれば、入力端子20に高電位側電源Vddよりも高いレベルの電圧V1が供給された場合に、インバータ22の入力端子の電位Vin’が高電位側電源Vddのレベルに等しくなるので、インバータ22に貫通電流が流れないで済む。また、電源電圧の低下、あるいはプロセスばらつきに起因してスレッショルド電圧Vth、論理スレッショルド電圧VLTが上昇された場合でも、インバータ31の論理スレッショルド電圧VLT2が十分に低い値に設定されることで、回路の安定動作が保障される。
【0036】
次に、キャパシタCの作用について説明する。
【0037】
キャパシタCが存在しない場合に場合において、入力電圧Vinの立ち上がり時と立ち下がり時とを比較すると、入力電圧Vinの立ち上がり時のほうが、立ち下がり時よりも遅延される傾向にある。しかしそれは、抵抗Rとプルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32との結合ノードと、低電位側電源Vssとの間にキャパシタCが設けられることで次のように回避される。
【0038】
入力端子20にローレベルが入力されているときは、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32はオフされ、キャパシタCに高電位側電源Vddが印加されることで充電される。そして入力端子20に立ち上がり波形が入力され、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32がオンされることで、高電位側電源Vddからインバータ22,21の入力端子に至るノードに電荷が供給されるが、この充電を高電位側電源Vddのみに委ねると、抵抗Rの介在により、インバータ22,21の入力端子に至るノードの充電に時間がかかる。しかしながら、キャパシタCが設けられていると、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32がオフされている状態でキャパシタCに蓄積された電荷が、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32がオンされた際にこのプルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32を介してインバータ22,21の入力端子に至るノードに速やかに供給されるため、入力電圧Vinの立ち上がり時の特性が改善される。このため、入力電圧Vinの立ち上がり時と立ち下がり時とで遅延時間を合わせることができる。
【0039】
図3には、図1に示される回路のシミュレーションによる動作波形である。
【0040】
入力端子20に入力される電圧Vinが高電位側電源Vddよりも高いにもかかわらず、クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ21によってクランプされるとともに、プルアップ制御回路30によってプルアップされることにより、ハイレベルがほぼ高電位側電源Vddレベルに等しくなっている。尚、インバータ22の論理スレッショルド電圧VLT1に比べてインバータ31の論理スレッショルド電圧VLT2のほうが低めに設定されているため、インバータ22よりもインバータ31の方が若干早くハイレベルからローレベルに移行する。この特性図からも、図1に示される回路が安定動作されていることが分かる。
【0041】
図5には上記フラッシュメモリ96が適用されるファイルシステムが示される。
【0042】
90で示されるのは、特に制限されないが、PCカード化されたフラッシュメモリカードであり、ATA(AT Attachment)カードの一種とされる。このフラッシュメモリカード90は、特に制限されないがIDE(Integrated Device Electronics)に準拠した標準バス91を介してパーソナルコンピュータ等のコンピュータ99に図示を省略するコネクタを介して着脱自在に装着可能にされる。
【0043】
フラッシュメモリカード90は、バスインタフェース部92、ライトバッファ93、ECC回路94、マイクロコンピュータ95、フラッシュメモリ96及び管理テーブルメモリ97を有し、それらは内部バス98に共通接続されている。
【0044】
上記バスインタフェース部92はATAカード等の仕様に準拠するように標準バス91との間でのインタフェース制御を行う。ライトバッファ93は標準バス91から供給される書き込みデータを一時的に蓄えるデータバッファであ、フラッシュメモリ96にはライトバッファ93に蓄えられたデータが書き込まれる。上記ECC回路94はフラッシュメモリ96に格納されたデータの精度を向上させるためのエラー検出及びえら訂正機能を有する回路である。上記管理テーブルメモリ97は例えばフラッシュメモリやEEPROMのような電気的に書き換え可能な半導体メモリによって構成され、セクタ管理テーブルと書き換え回数管理テーブルが形成されている。セクタ管理テーブルにはフラッシュメモリ96の不良アドレス等が書き込まれる。特にフラッシュメモリの場合、書き込み/消去を繰り返して行ううちにメモリセルの特性が劣化するのでそのようなアドレスを保持することが必要である。書き換え回数管理テーブルはフラッシュメモリ96におけるメモリセルの書き換え回数を例えばフラッシュメモリのブロック毎に管理する情報を保有する。フラッシュメモリのメモリセルの特性は所定の書き換え回数の範囲内で保証されている。上記マイクロコンピュータ95はフラッシュメモリカード90に対するアクセス要求に従ってカード内部を全体的に制御し、例えばフラッシュメモリに対する動作の指示や上記コマンドを発行してフラッシュメモリ96をアクセス制御したり管理テーブルメモリ97を制御する。
【0045】
上記した例によれば、以下の作用効果を得ることができる。
【0046】
(1)入力端子20に高電位側電源Vddよりも高いレベルの電圧V1が供給された場合に、プルアップ制御回路30の動作により、インバータ22の入力端子の電位Vin’が高電位側電源Vddのレベルに等しくなるので、インバータ22を構成するpチャンネル型MOSトランジスタを完全にオフすることができ、そこでの貫通電流を阻止することができる。これによって、回路の安定動作が達成される。
【0047】
(2)上記インバータの論理スレッショルド電圧を、上記入力初段回路の論理スレッショルド電圧よりも低く設定することで、プルアップ制御回路30の動作タイミングの適正化を図ることができる。
【0048】
(3)抵抗Rとプルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32との結合ノードと、低電位側電源Vssとの間にキャパシタCが設けられているため、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32がオフされている状態でキャパシタCに蓄積された電荷が、プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32がオンされた際にこのプルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ32を介してインバータ22,21の入力端子に至るノードに速やかに供給される。これにより、波形立ち上がり時の遅延時間特性と、波形立ち下がり時の遅延時間特性とを合わせることができる。
【0049】
(4)上記(1)〜(3)の作用効果を有する入出力バッファ64を備えたフラッシュメモリ96においては、電源電圧が例えば2.5Vのように低電圧化されていても、電源電圧が3.3V、あるいは5Vで動作される周辺LSIからの信号を的確に取り込むことができる。
【0050】
以上本発明者によってなされた発明を具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0051】
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるフラッシュメモリ96の入出力バッファ64に適用した場合について説明したが、制御信号を取り込むバッファや、アドレス信号を取り込むバッファなど、各種入力バッファに適用することができる。
【0052】
本発明は、少なくとも入力端子を介して入力された信号を所定の電圧レベルにクランプするためのクランプ用素子を含むことを条件に適用することができる。
【0053】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
【0054】
すなわち、プルアップ制御回路により、入力初段回路の入力端子の電位が電源電圧レベルまで引き上げられるので、入力初段回路を構成するpチャンネル型MOSトランジスタを完全にオフさせることができ、それにより回路の安定動作を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる高耐圧入力インタフェース回路の構成例回路図である。
【図2】上記高耐圧入力インタフェース回路の比較対照とされる回路の構成例回路図である。
【図3】図1に示される高耐圧入力インタフェース回路のシミュレーション結果の特性図である。
【図4】図1に示される高耐圧入力インタフェース回路が適用されるフラッシュメモリの構成例ブロックである。
【図5】図4に示されるフラッシュメモリが適用されるファイルシステムの構成例ブロック図である。
【符号の説明】
20 入力端子
21 クランプ用nチャンネル型MOSトランジスタ
22,23,24,31 インバータ
30 プルアップ制御回路
32 プルアップ用pチャンネル型MOSトランジスタ
R 抵抗
C キャパシタ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a high withstand voltage input interface technology, for example, a technology effective when applied to a flash memory which is an example of a semiconductor integrated circuit.
[0002]
[Prior art]
In a system in which a plurality of LSIs having different power supply voltages are mixed, it is necessary to have means for receiving an input amplitude larger than the power supply voltage supplied to the LSIs in order to enable signal exchange between such LSIs. Become. As such means, there is a method using an nMOS transistor for clamping. That is, an n-channel MOS transistor for clamping is provided between an input terminal and an input first stage circuit for capturing a signal input via the input terminal, and the gate electrode is coupled to the high potential side power supply Vdd. .
[0003]
As an example of a document describing a clamp circuit, there is “Nikkei Microdevice October issue, page 84” issued by Nikkei BP in 1992.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
FIG. 2 shows a circuit to be compared with the circuit according to the present invention.
[0005]
Three inverters 22, 23 and 24 are connected in series, and a clamping n-channel MOS transistor 21 is provided between the inverter 22, which is one of them, and the input terminal 20. The high-potential-side power supply Vdd is supplied to the gate electrode of the n-channel MOS transistor 21 for clamping. The input terminal 20 is supplied with a voltage exceeding the high potential side power supply Vdd (referred to as V1).
[0006]
While the input voltage Vin is 0 to Vdd−Vth (where Vth is the threshold voltage of the clamping n-channel MOS transistor), the clamping n-channel MOS transistor is turned on, and the voltage Vin ′ at the input terminal of the inverter 22 is , Equal to the input voltage Vin. When the input voltage Vin is in the range of (Vdd−Vth) to V1, the clamping n-channel MOS transistor 21 is turned off and Vin ′ = Vdd−Vth. The voltage Vin ′ applied to the inverter 22 at the first input stage is suppressed to Vdd−Vth even when the voltage V1 exceeding the high potential side power supply Vdd is supplied to the input terminal 20. In this manner, the action of the clamping n-channel type MOS transistor 21 prevents a voltage exceeding the high-potential-side power supply Vdd from being applied to the input gate of the inverter 22 at the first input stage. A gate breakdown voltage of 22 is ensured. Here, the circuit shown in FIG. 2 can withstand practical use when the threshold voltage of the MOS transistor is sufficiently small compared to the high-potential side power supply Vdd, but the LSI has been lowered in voltage and compared with the high-potential side power supply Vdd. If the threshold voltage of the MOS transistor is not sufficiently small, normal operation is not guaranteed.
[0007]
For example, by using an n-channel MOS transistor for clamping in an LSI of 3.3V process, an input / output buffer that accepts an input of 0 to 5V can be formed. When applied to this LSI, the voltage drop of the n-channel MOS transistor for clamping cannot be ignored, and the stable operation of the circuit cannot be guaranteed.
[0008]
An object of the present invention is to provide an interface technology capable of stable operation even when the voltage is lowered.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
[0010]
That is, a clamping element (21) for clamping a signal input via the input terminal to a predetermined voltage level, and an input first stage circuit for capturing a signal transmitted from the input terminal via the clamping element (22) includes a pull-up circuit for raising the potential of the input terminal of the input first stage circuit to the power supply voltage level in accordance with a signal transmitted to the input first stage circuit. A control circuit (30) is provided.
[0011]
According to the above means, the pull-up control circuit raises the potential of the input terminal of the input initial stage circuit to the power supply voltage level in accordance with the signal transmitted to the input initial stage circuit. In spite of this, the stable operation of the circuit is achieved by completely turning off the p-channel MOS transistor that constitutes the input first stage circuit, although the voltage is lowered.
[0012]
At this time, the pull-up control circuit includes a resistor (R) coupled to a high potential side power supply, a p-channel MOS transistor (32) coupled to the resistor and an input terminal of the input first stage circuit, An inverter (31) for controlling the p-channel MOS transistor in accordance with a signal transmitted to the input first stage circuit can be configured.
[0013]
The operation timing of the pull-up control circuit can be optimized by setting the logic threshold voltage of the inverter to be lower than the logic threshold voltage of the input first stage circuit.
[0014]
By providing a capacitor (C) between the connection node of the resistor and the p-channel MOS transistor and the low-potential side power supply, the delay time characteristic at the rise of the waveform and the delay time characteristic at the fall of the waveform are matched. be able to.
[0015]
Furthermore, in the semiconductor integrated circuit provided with a buffer for taking in a signal from the outside and formed on one semiconductor substrate, the high withstand voltage input interface circuit can be applied as the buffer.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 4 shows an overall configuration example of a flash memory which is an example of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
[0017]
The flash memory 96 shown in the figure is not particularly limited, but is formed on a single semiconductor substrate such as a single crystal silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.
[0018]
MATU is the first memory mat 1, and MATD is the second memory mat 2. In order to distribute one word line load capacity in each of the memory mats 1 and 2, the word lines arranged at the same address are divided into two, and a sub-decoder 19 is assigned to each. Although not particularly limited, this flash memory is an effective flash memory when applied to a disk device compatible ATA file memory. A word line arranged at the same address has a memory cell of (2048 + 128) × 2 bits, which corresponds to a sector of 521 bytes and a sector management area of 16 bytes.
[0019]
Reference numeral 60 denotes a column circuit. The column system circuit 60 includes a sense latch and a Y system decode unit (described in detail later). Each of the column selection gates 6 and 7 is interfaced with eight pairs of common data lines 61, and the column decoder controls conduction between the eight pairs of common data lines 61 and the bit lines BLU and BLD according to a column address signal or the like. The common data line 61 includes non-inversion side common data lines IO0 to IO7 and inversion side common data lines / IO0 to 7 (/ means low active or signal inversion). A main amplifier (MA) 63 and an input / output buffer 64 are coupled. The input / output buffer 64 is interfaced with the outside via an external connection electrode (I / O) such as a bonding pad.
[0020]
The input / output buffer 64 is also used for input / output of memory data, input of address data, and input of command data. Write data to the memory cell is supplied to the common data line 61 via the output switching circuit 62. Read data from the memory mat is supplied to the main amplifier 63 via the input / output switching circuit 62, amplified there, and supplied to the input / output buffer 64.
[0021]
The address data supplied to the input / output buffer 64 is supplied to the address counter 65, and then supplied to the main decoder 17, the gate decoder 18, the column decoder, etc. via the address generator 66. Although not particularly limited, the address counter 65 has an initial value preset as address data, and is sequentially incremented according to an operation mode instructed to the flash memory by a command. The incremented address is output from the address generator 65. The memory mats 1 and 2 have spare bits realized by redundant word lines (not shown), etc., and the relief circuit 68 replaces the address of the defective bit with a redundant address according to the program state of the redundant fuse trimming circuit 67 to the address generator 66. This replaces defective bits with spare bits. The address generator 66 forms an internal complementary address signal according to the input, and assigns the address signal to the main decoder 17, the gate decoder 18, the column decoder, and the like.
[0022]
The data input / output control circuit 70 to which the serial click SC is supplied from the outside uses the main amplifier 63, the input / output switching circuit 62, and the input / output between the address counter 65 and the input / output buffer 64 as the serial clock SC. Synchronize.
[0023]
An external control signal is supplied to the control signal input buffer 71. The external control signal is supplied to the write enable signal WEB for instructing information input to the flash memory, the chip enable signal CEB for instructing operation of the flash memory, the output enable signal OEB for instructing information output of the flash memory, and the flash memory. A signal CED indicating whether the information to be processed is a command or data, and a reset signal RESB. The internal operation of the flash memory is synchronized with the clock signal output from the clock generator 72.
[0024]
The command supplied from the input / output buffer 64 is supplied to the command decoder 73. The command is a command related to reading (reading), writing (programming), and erasing (erasing) with respect to the memory cell. The contents specified by the program and the erase command include a verify operation. Internal control based on commands is a control method similar to so-called microprogram control. That is, the ROM holds a sequence of control codes (state information) for defining processing according to the command for each command. The decoding result of the command by the command decoder 73 is the head address in the ROM 75 of the control code series corresponding to the command. When the command decoding result is given to the ROM 75, the first control code of the control code series corresponding to the command is read from the ROM 75. The read control code is decoded by the ROM decoder 76, and an operation control signal is supplied to the write / erase determination circuit 80, the direct system control circuit 81, and the power supply control circuit 82. Designation of the second and subsequent control codes of the control code series is performed by the ROM control system circuit 74 based on the ROM address of the head control code. In consideration of conditional branching of the execution order of the control code, the ROM address of the next control code may be stored in the control code like the microprogram.
[0025]
The power control circuit 82 controls the operation power supply of various circuits necessary for the read, program and erase operations. The operation power supply includes, for example, a reference voltage generation circuit 85 that generates a reference voltage based on a band gap of silicon, and the like, and a charge pump circuit that generates a power supply such as −10 V using the reference voltage formed by the reference voltage generation circuit 85 84, and a power supply switching circuit 83 for switching the operation power supply of various circuits such as the main decoder in accordance with operations such as read, erase, and program. The write / erase determination circuit 80 is a circuit that determines completion of a write operation or an erase operation. The determination result is supplied to the ROM control system circuit 74 and reflected in the control contents in the control step next to the series of write operation or erase operation. The direct system control circuit 81 controls the word line selection timing and the column selection timing.
[0026]
Reference numeral 86 denotes a status register and test system circuit. The status register and test system circuit 86 can output the internal state of the flash memory to the outside via the input / output buffer 64, and a buffer 87. The ready / busy status is output to the outside via.
[0027]
FIG. 1 shows the main part of the input buffer for one bit in the input / output buffer 64.
[0028]
The input buffer shown in FIG. 1 is not particularly limited, but three inverters 22, 23, and 24 are connected in series, and an n-channel type for clamping is connected between the inverter 22 and the input terminal 20, which is one of them. A MOS transistor 21 is provided. The output signal of the inverter 24 is transmitted to the command decoder 73 and the input / output switching circuit 62 shown in FIG. A high potential side power supply Vdd is supplied to the gate electrode of the n-channel MOS transistor 21 for clamping. A pull-up control circuit 30 is provided for raising the potential of the input terminal of the input first stage circuit to the power supply voltage level in response to the signal Vin ′ transmitted to the inverter 22.
[0029]
The pull-up control circuit 30 is not particularly limited, but includes a resistor R coupled to the high potential side power supply Vdd, a p-channel MOS transistor 32 coupled to the resistor R and an input terminal of the inverter 22, and the inverter And an inverter 31 for controlling the p-channel MOS transistor in accordance with a signal transmitted to 22.
[0030]
Then, when the logic threshold voltage of the inverter 22 is VLT1 and the logic threshold voltage of the inverter 31 is VLT2, the logic threshold voltages of the inverters 22 and 31 are set so that VLT1> VLT2.
[0031]
In the above configuration, it is assumed that the input terminal 20 is supplied with a voltage exceeding the high potential side power supply Vdd (referred to as V1).
[0032]
When the input voltage Vin is in the range of 0 to VLT2, the following occurs.
[0033]
In this case, the clamping n-channel MOS transistor 21 is turned on and the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned off. In this state, the voltage Vin ′ input to the inverter 22 is equal to the input voltage Vin. That is, Vin ′ = Vin.
[0034]
When the input voltage Vin is in the range of the logic threshold voltages VLT2 to Vdd-Vth, both the clamping n-channel MOS transistor 21 and the pull-up p-channel MOS transistor 32 are turned on. At this time, a current flows from the high potential side power source Vdd toward the input terminal 20, but the value of this current is limited by the resistor R. Since the value of the resistor R is set to be much larger than the on-resistance of the clamping n-channel MOS transistor 21, the voltage drop due to the on-resistance of the clamping n-channel MOS transistor 21 can be ignored. it can. Therefore, Vin ′ = Vin.
[0035]
When the input voltage Vin is in the range of (Vdd−Vth) to V1, the clamping n-channel MOS transistor 21 is turned off and the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned on. When the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned on, Vin ′ = Vdd. In other words, when the voltage V1 having a level higher than that of the high potential side power source Vdd is supplied to the input terminal 20, the potential Vin ′ of the input terminal of the inverter 22 becomes equal to the level of the high potential side power source Vdd. No through current flows through 22. Further, even when the threshold voltage Vth and the logic threshold voltage VLT are increased due to a decrease in power supply voltage or process variations, the logic threshold voltage VLT2 of the inverter 31 is set to a sufficiently low value, so that the circuit Stable operation is guaranteed.
[0036]
Next, the operation of the capacitor C will be described.
[0037]
In the case where the capacitor C is not present, when the rising time and the falling time of the input voltage Vin are compared, the rising time of the input voltage Vin tends to be delayed more than the falling time. However, this is avoided as follows by providing the capacitor C between the connection node between the resistor R and the pull-up p-channel MOS transistor 32 and the low-potential-side power supply Vss.
[0038]
When a low level is input to the input terminal 20, the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned off, and the capacitor C is charged by applying the high potential side power supply Vdd. Then, the rising waveform is input to the input terminal 20 and the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned on, so that charges are supplied to the nodes from the high potential side power supply Vdd to the input terminals of the inverters 22 and 21. If this charging is left to the high potential side power supply Vdd only, it takes time to charge the nodes reaching the input terminals of the inverters 22 and 21 due to the presence of the resistor R. However, if the capacitor C is provided, the charge accumulated in the capacitor C when the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned off is generated when the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned on. In addition, since the voltage is quickly supplied to the nodes reaching the input terminals of the inverters 22 and 21 via the pull-up p-channel MOS transistor 32, the characteristics at the time of rising of the input voltage Vin are improved. Therefore, the delay time can be matched between the rising time and the falling time of the input voltage Vin.
[0039]
FIG. 3 shows operation waveforms by simulation of the circuit shown in FIG.
[0040]
Although the voltage Vin input to the input terminal 20 is higher than the high potential side power supply Vdd, it is clamped by the clamping n-channel MOS transistor 21 and pulled up by the pull-up control circuit 30. The high level is substantially equal to the high potential side power supply Vdd level. Note that, since the logic threshold voltage VLT2 of the inverter 31 is set lower than the logic threshold voltage VLT1 of the inverter 22, the inverter 31 shifts from the high level to the low level slightly earlier than the inverter 22. Also from this characteristic diagram, it can be seen that the circuit shown in FIG. 1 is stably operated.
[0041]
FIG. 5 shows a file system to which the flash memory 96 is applied.
[0042]
Reference numeral 90 denotes a flash memory card formed as a PC card, although not particularly limited, and is a kind of ATA (AT Attachment) card. The flash memory card 90 is detachably attachable to a computer 99 such as a personal computer via a connector (not shown) via a standard bus 91 compliant with IDE (Integrated Device Electronics).
[0043]
The flash memory card 90 includes a bus interface unit 92, a write buffer 93, an ECC circuit 94, a microcomputer 95, a flash memory 96, and a management table memory 97, which are commonly connected to an internal bus 98.
[0044]
The bus interface unit 92 performs interface control with the standard bus 91 so as to comply with the specifications of the ATA card or the like. The write buffer 93 is a data buffer that temporarily stores write data supplied from the standard bus 91, and the data stored in the write buffer 93 is written into the flash memory 96. The ECC circuit 94 is a circuit having an error detection and correction function for improving the accuracy of data stored in the flash memory 96. The management table memory 97 is composed of an electrically rewritable semiconductor memory such as a flash memory or an EEPROM, for example, and forms a sector management table and a rewrite count management table. The defective address of the flash memory 96 is written in the sector management table. In particular, in the case of a flash memory, it is necessary to retain such an address because the characteristics of the memory cell deteriorate while repeated writing / erasing. The rewrite count management table holds information for managing the rewrite count of the memory cell in the flash memory 96 for each block of the flash memory, for example. The characteristics of the memory cell of the flash memory are guaranteed within a predetermined number of rewrites. The microcomputer 95 generally controls the inside of the card in accordance with an access request to the flash memory card 90. For example, the microcomputer 95 issues an operation instruction for the flash memory or the command to control access to the flash memory 96 or control the management table memory 97. To do.
[0045]
According to the above example, the following effects can be obtained.
[0046]
(1) When the input terminal 20 is supplied with a voltage V1 having a level higher than that of the high potential side power source Vdd, the operation of the pull-up control circuit 30 causes the potential Vin ′ of the input terminal of the inverter 22 to be changed to the high potential side power source Vdd. Therefore, the p-channel MOS transistor constituting the inverter 22 can be completely turned off, and a through current can be prevented there. Thereby, stable operation of the circuit is achieved.
[0047]
(2) The operation timing of the pull-up control circuit 30 can be optimized by setting the logic threshold voltage of the inverter lower than the logic threshold voltage of the input first stage circuit.
[0048]
(3) Since the capacitor C is provided between the coupling node of the resistor R and the pull-up p-channel MOS transistor 32 and the low-potential side power supply Vss, the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned off. When the pull-up p-channel MOS transistor 32 is turned on, the electric charge accumulated in the capacitor C in this state is supplied to the input terminals of the inverters 22 and 21 via the pull-up p-channel MOS transistor 32. Supplied promptly to every node. Thereby, the delay time characteristic at the time of waveform rise and the delay time characteristic at the time of waveform fall can be matched.
[0049]
(4) In the flash memory 96 including the input / output buffer 64 having the above-described effects (1) to (3), even if the power supply voltage is lowered to, for example, 2.5 V, the power supply voltage is Signals from peripheral LSIs operating at 3.3V or 5V can be accurately captured.
[0050]
Although the invention made by the present inventor has been specifically described above, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the invention.
[0051]
In the above description, the case where the invention made mainly by the present inventor is applied to the input / output buffer 64 of the flash memory 96, which is the field of use behind it, has been described. However, a buffer for fetching control signals and an address signal are fetched. It can be applied to various input buffers such as buffers.
[0052]
The present invention can be applied on the condition that it includes a clamping element for clamping a signal input via at least an input terminal to a predetermined voltage level.
[0053]
【The invention's effect】
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
[0054]
That is, the pull-up control circuit raises the potential of the input terminal of the input first stage circuit to the power supply voltage level, so that the p-channel MOS transistor constituting the input first stage circuit can be completely turned off, thereby stabilizing the circuit. Operation can be achieved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram of a configuration example of a high voltage input interface circuit according to the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram of a configuration example of a circuit to be compared with the high withstand voltage input interface circuit;
FIG. 3 is a characteristic diagram of a simulation result of the high voltage input interface circuit shown in FIG. 1;
4 is a block diagram illustrating a configuration example of a flash memory to which the high withstand voltage input interface circuit illustrated in FIG. 1 is applied;
5 is a block diagram illustrating a configuration example of a file system to which the flash memory illustrated in FIG. 4 is applied.
[Explanation of symbols]
20 Input terminal 21 Clamping n-channel MOS transistors 22, 23, 24, 31 Inverter 30 Pull-up control circuit 32 Pull-up p-channel MOS transistor R Resistance C Capacitor

Claims (4)

入力端子を介して入力された信号を所定の電圧レベルにクランプするためのnチャンネル型MOSトランジスタと、
上記nチャンネル型MOSトランジスタを介して伝達された信号を取り込むための入力初段回路と
上記入力初段回路に伝達される信号に応じて、上記入力初段回路の入力電位を高電位側電源電圧レベルまで引き上げるためのプルアップ制御回路と、を含み、
上記プルアップ制御回路は、高電位側電源に結合された抵抗と、上記抵抗と上記入力初段回路の入力部とに結合されたpチャンネル型MOSトランジスタと、上記入力初段回路に伝達される信号に応じて上記pチャンネル型MOSトランジスタを制御するためのインバータと、を含み、
上記インバータの論理スレッショルド電圧は、上記入力初段回路の論理スレッショルド電圧よりも低く設定され、
上記nチャンネル型MOSトランジスタのゲート電極は、上記高電位側電源に接続されて成ることを特徴とする高耐圧入力インタフェース回路。
An n-channel MOS transistor for clamping a signal input via the input terminal to a predetermined voltage level;
An input first stage circuit for capturing a signal transmitted through the n-channel MOS transistor ;
Depending on the signal transmitted to the input first stage circuit, wherein the pull-up control circuit for raising the input electric position of the input first stage circuit to the high potential power supply voltage level,
The pull-up control circuit includes a resistor coupled to a high-potential side power supply, a p-channel MOS transistor coupled to the resistor and an input unit of the input first stage circuit, and a signal transmitted to the input first stage circuit. And an inverter for controlling the p-channel MOS transistor in response,
The logic threshold voltage of the inverter is set lower than the logic threshold voltage of the input first stage circuit,
2. A high withstand voltage input interface circuit , wherein a gate electrode of the n-channel MOS transistor is connected to the high potential side power source .
上記高電位側電源の電圧レベルをVddとし、上記高電位側電源を越える電圧をV1とし、上記nチャンネル型MOSトランジスタのスレッショルド電圧をVthとし、上記インバータの論理スレッショルド電圧をVLT2とするとき、
上記入力端子に供給される入力電圧が、VLT2とVdd−Vthとの間の電位レベルのときには、上記nチャンネル型MOSトランジスタと上記pチャンネル型MOSトランジスタとの双方がオンされ、
上記入力端子に供給される入力電圧が、Vdd−VthとV1との間の電位レベルのときには、上記nチャンネル型MOSトランジスタがオフされ、上記pチャンネル型MOSトランジスタがオンされる請求項1記載の高耐圧入力インタフェース回路。
When the voltage level of the high potential side power source is Vdd, the voltage exceeding the high potential side power source is V1, the threshold voltage of the n-channel MOS transistor is Vth, and the logical threshold voltage of the inverter is VLT2.
When the input voltage supplied to the input terminal is at a potential level between VLT2 and Vdd-Vth, both the n-channel MOS transistor and the p-channel MOS transistor are turned on,
2. The n-channel MOS transistor is turned off and the p-channel MOS transistor is turned on when an input voltage supplied to the input terminal is at a potential level between Vdd−Vth and V1 . High voltage input interface circuit.
上記抵抗とpチャンネル型MOSトランジスタとの結合ノードと低電位側電源との間に、上記pチャンネル型MOSトランジスタがオフ状態のときに充電されるキャパシタを設けて成る請求項又は記載の高耐圧入力インタフェース回路。Between the coupling node and the low potential side power supply of the resistor and the p-channel type MOS transistor, the p-channel type MOS transistor is formed by providing a capacitor which is charged according to claim 1 or 2, wherein in the off state high Withstand voltage input interface circuit. 外部から信号を取り込むためのバッファを備えて一つの半導体基板に形成された半導体集積回路において、上記バッファは、請求項1乃至のいずれか1項記載の高耐圧入力インタフェース回路を含んで成ることを特徴とする半導体集積回路。4. A semiconductor integrated circuit formed on a single semiconductor substrate with a buffer for taking in a signal from the outside, wherein the buffer comprises the high withstand voltage input interface circuit according to any one of claims 1 to 3. A semiconductor integrated circuit.
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