JP3951722B2 - Conductive laminate and method for producing the same - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パターニングされた導電性積層体及びその製造方法に関するものである。特に、電子機器等に用いられるプリント配線体等のパターニングされた導電性積層体およびその製造方法に関する。中でも、インクジェット法を用いて、これまでより簡便、安価、且つ、短期間で、さらには、低い熱処理温度で形成されることにより広範な基材に対応可能な導電性積層体およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在まで、電子機器等に用いられる配線基板は、必要不可欠な役割を果たしつつ順調な成長を続けてきた。しかし、近年、電子機器特に情報通信関連機器の高性能化及び市場の増大、細分化に伴い、配線パターンのさらなる微細化が要求されていると共に、多品種化が加速され、さらには製造及び試作の短期間化が求められている。また、プリント配線板が電子機器全体のコストに占める割合は大きく、プリント配線板の低コスト化も最重要課題である。
【0003】
プリント配線板等の導体回路を有する積層体の製造方法としては、銅張積層板の銅箔の不要部分を、例えばエッチングなどにより選択的に除去して導体パターンを形成するエッチドフォイル法が現在主流の方法であるが、その他に、基材上に無電解銅めっきなどを選択的に析出させる方法、導電ペーストを印刷する方法などがある。
【0004】
しかしながら、エッチドフォイル法においては、配線パターンのさらなる微細化には対応可能であるが、レジストの塗布及び現像、加えて銅箔のエッチングなど工程数が多く、製造及び試作期間の短縮及び低コスト化は難しい。また、現在のところ、無電解めっき法においても、レジストの塗布及び現像の工程を要しない方法は実用化されておらず、エッチング工程は省略できるものの、エッチドフォイル法と同様に、製造及び試作期間の短縮及び低コスト化は難しい。将来実用化される可能性が有ると思われる、触媒層のパターンをレジスト塗布及び現像の工程を経ず形成した後、無電解めっき処理により配線パターンを形成する方法においては、触媒層のパターニング法にも依るが、簡便且つ安価な方法が現在のところ実用化されていない。導電ペーストを印刷する方法においては、スクリーン印刷を用いて実用化されており、また、インクジェット法を用いた製造法も提案されているが、現状実用化されている低温焼成可能品においても導電性を確保するためのバインダの除去が必要となるため、最低200℃の焼成工程を経ることが必要であり、基材の選択幅の狭さや、基板に与える影響が問題点として挙げられる。
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであり、基材上に極微細孔を持つ層を設けることにより、バインダを含まない金属微粒子溶液を直接インクジェット法で塗布可能であり、工程数が少なく、安価であり、加えて200℃以上程度の熱処理工程が不要で、導電性積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、無機酸化物微粒子を1種類以上含有した凝集促進層を表面に有する基材上に金属微粒子を溶媒に分散させた金属微粒子溶液をインクジェット法によりパターン状に塗布する工程と、凝集促進層上に形成された金属微粒子溶液を乾燥させパターン状の金属微粒子凝集層を形成する乾燥工程とを備え、前記乾燥工程時および乾燥工程後に200℃以上の熱を加える熱処理工程を有さないことを特徴とする導電性積層体の製造方法である。
【0007】
請求項2に記載の発明は、前記乾燥工程における熱処理温度が、150℃以下であることを特徴とする請求項1記載の導電性積層体の製造方法である。
【0008】
請求項3に記載の発明は、前記凝集促進層と前記基材間に溶媒浸透層を備えることを特徴とする請求項1または2記載の導電性積層体の製造方法である。
【0009】
請求項4に記載の発明は、前記凝集促進層の膜厚を10〜10000nmの範囲で設けることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法である。
【0010】
請求項5に記載の発明は、前記溶媒浸透層の膜厚を1〜100μmの範囲で設けることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法である。
【0011】
請求項6に記載の発明は、前記金属微粒子がAg,Al,Cu,Au,Pt,Pdのいずれか、あるいはそれらの2種類以上の組み合わせまたは合金であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法である。
【0012】
請求項7に記載の発明は、前記金属微粒子溶液がバインダを含まないことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法である。
【0013】
請求項8に記載の発明は、プラスチックフィルムもしくはシートからなる基材上に無機酸化物微粒子を1種類以上含有した凝集促進層を有し、該凝集促進層表面に金属微粒子が凝集し、かつパターニングされている金属微粒子凝集層が形成されていることを特徴とする導電性積層体である。
【0014】
請求項9に記載の発明は、前記凝集促進層の無機酸化物微粒子の総含有量が、20重量%以上であることを特徴とする請求項9に記載の導電性積層体である。
【0015】
請求項10に記載の発明は、前記凝集促進層と前記基材間に、無機酸化物微粒子を1種類以上含有した溶媒浸透層を1層以上設けることを特徴とする請求項8または請求項9に記載の導電性積層体である。
【0016】
請求項11に記載の発明は、前記溶媒浸透層の無機酸化物微粒子の総含有量が、20重量%以上であることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載の導電性積層体である。
【0017】
請求項12に記載の発明は、前記溶媒浸透層の層中に含まれる無機酸化物微粒子の種類及び組成比が、前記凝集促進層に含まれる無機酸化物微粒子の種類及び/または組成比とは異なることを特徴とする請求項8乃至11のいずれか1項に記載の導電性積層体である。
【0018】
請求項13に記載の発明は、前記凝集促進層の膜厚が、10〜10000nm範囲であることを特徴とする請求項8乃至12のいずれか1項に記載の導電性積層体である。
【0019】
請求項14に記載の発明は、前記溶媒浸透層の膜厚が、1〜100μmであることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載の導電性積層体である。
【0020】
請求項15に記載の発明は前記金属微粒子が、Ag,Al,Cu,Au,Pt,Pdのいずれか、あるいはそれらの2種類以上の組み合わせまたは合金であることを特徴とする請求項8乃至14のいずれか1項に記載の導電性積層体である。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、本発明における実施の形態を具体的に説明する。
【0025】
まず、図1に示すように、本発明は、基材4に、無機酸化物微粒子を含む1層以上の凝集促進層2を形成し、この凝集促進層2上に、配線パターン状の金属微粒子凝集層1を形成した導電性積層体である。ここで、前記凝集促進層2は、全面に形成しても、または部分的に形成してもよい。
本発明の凝集促進層とは、金属微粒子溶液を塗布することにより、金属微粒子を凝集促進層上又は表面付近に凝集させるための層である。
また、前記凝集促進層は、基材上に設けてもよいが、基材自身が凝集促進層を含んでいてもよい。
【0026】
このように、凝集促進層上に、バインダを含まない金属微粒子溶液をインクジェット法により、パターン状に塗布することにより、無機酸化物微粒子自体に存在する細孔や無機酸化物微粒子間の隙間から成る細孔を持つ凝集促進層へ主として溶媒が選択的に浸透に、それに伴い表面に近い部分に金属微粒子の凝集が促進され、目的のパターン状に適切な金属微粒子凝集層が形成される。また、バインダを含まないことでバインダを焼成によりとばす必要がなくなるので、金属微粒子溶液を塗布した後の乾燥に必要な程度の低い熱処理温度で金属微粒子凝集した金属微粒子層が形成することができる。
【0027】
次に、基材1上に、直接、凝集促進層3を設けるだけでなく、溶媒浸透層2を設け、さらに凝集促進層3を設けるのが好ましい。なお、図1においては、溶媒浸透層2と凝集促進層3を、それぞれ1層設けた場合の、プリント配線体の構成を示しているが、この構成に限定されるものではない。
本発明の溶媒浸透層は、溶媒の浸透を促進させるための層である。すなわち、溶媒浸透層層を設けることにより、凝集促進層のみを設ける場合に比べ、溶媒の浸透をしやすくすることができる。
【0028】
ここで、本発明における基材1は、特に限定されるものではなく、プリント配線用基材として用いられている、紙・フェノール樹脂系基材、紙・エポキシ系基材、紙・ポリエステル系基材、ガラス・エポキシ系基材、ガラス・ポリイミド系基材、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリテトラフルオロエチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂などを用いることもできるが、各種ガラス基材をはじめ適当な機械的剛性をもつ公知のプラスチックフィルムもしくはシートの中から適宜選択して用いることができる。また、基材自身が凝集促進層を含む場合は、紙、繊維系の基材であると好ましい。
【0029】
金属微粒子の調製としては、Carey−Leaが1889年に発表した方法(Am.J.Sci.,vol.37,pp.491,1889)に代表される数多くの公知技術により比較的容易に製造可能である。
【0030】
金属微粒子溶液に含まれる金属微粒子の含有量は、1.0〜20重量%が好ましいが、さらには3.0〜10重量%がより好ましい。
【0031】
金属微粒子溶液に用いる、金属微粒子の粒径としては微細加工及びノズル詰まり防止の観点から一次粒径50nm以下のものが好ましい。一次粒径が50nm以上であると、パターン解像度が低下しやすく、また、ノズルが詰まりやすい。
【0032】
また、金属微粒子の金属種としてはAg,Au,Cu,Al,Pd等が挙げられるが、特に導電性とコストの観点からAgもしくはCuを主体とするものが好ましい。また、化学的安定性の向上のため、それら2種以上の合金であっても良い。
【0033】
金属微粒子溶液に用いられる溶媒としては、低粘度であること、安全性に優れること、取り扱いが容易であること、コストが安いこと、臭気が無いことなどの理由から主に水が用いられ、より好ましくは、イオン交換、蒸留などの精製工程を経た純水または超純水が好ましい。
【0034】
また、主溶媒である水に対して、乾燥性、定着性の向上を目的として、エタノール、プロパノール等の高揮発性のアルコール類も少量ならば添加することができる。
【0035】
金属微粒子溶液としては、溶媒以外に、調製時に用いられるクエン酸などの分散剤や、微量に含まれてしまう洗浄しきれていない還元剤やその他添加物が含まれるが、溶液中の金属分散性能劣化や塗布後の導電性劣化の原因となり得るため、また、塗布後焼成処理を行わないと導電性が確保できないため、それ以外の添加剤を加えない方が好ましい。
【0036】
前記のように、金属微粒子溶液への添加剤の添加はしないことが望ましいが、金属微粒子の分散性向上やノズル詰まり防止などの目的で、分散安定化剤や湿潤剤を添加しても良い。
【0037】
前記分散性向上のための分散剤としては、クエン酸、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸などのカルボン酸や、フェニルジアゾスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸などのスルホン酸を用いるのが好ましい。
【0038】
前記ノズル詰まり防止のための湿潤剤としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、2,2‘−チオジエタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の高沸点低揮発性の多価アルコール類が用いられ、あるいはそれらのモノエーテル化物、ジエーテル化物、エステル化物、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が用いられ、その他N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、モノエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の含窒素有機溶剤等を用いることができる。
【0039】
前記溶媒浸透層3としては、無機酸化物微粒子を20重量%以上含むことにより、目的を達成することができ、含有率が高いほどより好ましい。
【0040】
前記溶媒浸透層3に含まれる無機酸化物微粒子は、粒子径があまり小さいと粒子間の隙間がほとんど無くなってしまい、一方、あまり大きいと粒子間の隙間が大きくなり、適切な溶媒の浸透が起こりにくくなり、凝集促進層での金属微粒子の適切な凝集が起こりにくくなるため、粒子径10nm〜100μmの範囲であることが好ましく、特に、100nm〜10μmの範囲であることがより好ましい。
また、無機酸化物微粒子の構造は、フレーク状、羽毛状、板状に近い形状であることが好ましい。
【0041】
前記溶媒浸透層3に含まれる無機酸化物微粒子の無機酸化物種としては、特に限定されるものではなく、一般的な酸化ケイ素微粒子や酸化アルミ微粒子などを用いることができる。
【0042】
前記溶媒浸透層3に含まれる他の成分としては、膜強度の観点から、バインダ及び/またはバインダ前駆体モノマーを含むことが好ましく、バインダとしてはポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂など、プリント配線用基材として用いられている樹脂や、銅張板に用いられている接着剤に含まれている樹脂が挙げられるが、これに限定されるものではなく、例えば、ポリビニルアルコールやポリエチレングリコールなどの水溶性高分子や、各種熱硬化性樹脂及びモノマー、光硬化性樹脂及びモノマーなどを用いることができる。
【0043】
前記溶媒浸透層3に含まれるバインダ及び/またはバインダ前駆体モノマーの含有量としては、あまり多いと無機酸化物微粒子間の隙間が無くなってしまい、あまり少ないと塗布適性及び塗膜強度が乏しくなってしまうことから、無機酸化物微粒子100重量部に対して、1〜100重量部の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、5〜20重量部の範囲である。
【0044】
前記溶媒浸透層3の形成方法としては、無機酸化物微粒子を用いるバインダに練り込んだものを基材に塗布または張り付ける方法が挙げられ、また、無機酸化物微粒子とバインダを溶媒に分散させた塗液を基材に塗布後、必要であれば乾燥及び/もしくはバインダの硬化処理を行う方法も挙げられ、用いるバインダに依って適切な形成方法を選択することが好ましい。
【0045】
前記溶媒浸透層3の膜厚としては、100nm〜100μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは1μm〜50μmの範囲である。
【0046】
前記凝集促進層2としては、無機酸化物微粒子を20重量%以上含むことにより、目的を達成することができ、含有率が高いほどより好ましい。
【0047】
前記凝集促進層2に含まれる無機酸化物微粒子としては、粒子径があまり小さいと粒子間の隙間がほとんど無くなってしまい、あまり大きいと粒子間の隙間が大きくなり、金属微粒子の適切な凝集が起こりにくくなるため、粒子径1nm〜10μmの範囲であることが好ましく、10nm〜1μmの範囲であることがより好ましく、さらには、球形に近い形状であることが好ましい。
【0048】
前記凝集促進層2に含まれる無機酸化物微粒子の無機酸化物種としては、特に限定されるものではなく、一般的な酸化ケイ素微粒子や酸化アルミ微粒子などを用いることができる。
【0049】
前記凝集促進層2に含まれる他の成分としては、膜強度の観点から、バインダ及び/またはバインダ前駆体モノマーを含むことが好ましく、バインダとしてはポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂など、プリント配線用基材として用いられている樹脂や、銅張板に用いられている接着剤に含まれている樹脂が挙げられるが、これに限定されるものではなく、例えば、ポリビニルアルコールやポリエチレングリコールなどの水溶性高分子や、各種熱硬化性樹脂及びモノマー、光硬化性樹脂及びモノマーなどを用いることができる。
【0050】
前記凝集促進層2に含まれるバインダ及び/またはバインダ前駆体モノマーの含有量としては、あまり多いと無機酸化物微粒子間の隙間が無くなってしまい、あまり少ないと塗布適性及び塗膜強度が乏しくなってしまうことから、無機酸化物微粒子100重量部に対して、1〜100重量部の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、5〜20重量部の範囲である。
【0051】
前記凝集促進層2の形成方法としては、無機酸化物微粒子を用いるバインダに練り込んだものを基材に塗布または張り付ける方法が挙げられ、また、無機酸化物微粒子とバインダを溶媒に分散させた塗液を基材に塗布後、必要であれば乾燥及び/もしくはバインダの硬化処理を行う方法も挙げられ、用いるバインダに依って適切な形成方法を選択することが好ましい。
【0052】
前記乾燥時に行う熱処理の熱処理温度が、150℃以下であることが好ましい。この範囲であると、基材に与える熱的な影響が少なく、基材の選択の幅が広がる。
【0053】
前記凝集促進層2の膜厚としては、5nm〜10μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは10nm〜2μmの範囲である。
【0054】
溶媒浸透層3及び凝集促進層2を塗布により形成する場合の塗布方法としては、スピンコート法、インクジェット法、ロールコート法、スプレー法、バーコート法、ディップ法などの通常の成膜方法が使用可能である。
【0055】
パターン状の金属微粒子の凝集体を形成する金属微粒子溶液の塗布方法としては、汎用プリンタを用いることが可能であることや、安価に塗布可能、塗液のロスが少ない、工程数が少ない、汎用コンピュータ及び汎用ソフトを用いて配線パターン形成が可能であることから、インクジェット法が最も適した方法である。
【0056】
凝集促進層とパターン状の金属微粒子の凝集体から成る導電性積層体、もしくは溶媒浸透層、凝集促進層及びパターン状の金属微粒子の凝集体から成るプリント配線体は、基材の片面に形成しても両面に形成しても良く、さらには絶縁層を介して積層しても良い。
【0057】
基材の両面に導電性積層体を形成した場合及び、片面及び/または両面に導電性積層体を形成したものを積層させる場合の、両面に配置された導体の接続方法及び、異なる層の導体の接続方法としては、貫通穴内でのジャンパ線による接続、貫通穴内への導電ペーストの埋め込みなど、既知の方法を用いることができる。
【0058】
【実施例】
A.銀微粒子水溶液の調製
前述のCarey−Leaが1889年に発表した方法(Am.J.Sci.,vol.37,pp.491,1889)により、銀微粒子分散水溶液を調製した。TEM観察により平均一次粒子径は約7nmであった。さらに、Ag濃度が7重量%となるように蒸留水にて希釈し調製した。
【0059】
B.溶媒浸透層形成用塗布液の調製
フレーク状アルミナゾル水溶液(日産化学工業製 アルミナゾル520、アルミナ分20重量%)を25重量部及び、ポリビニルアルコール(クラレ製 PVA217)の10重量%水溶液を5重量部及び、蒸留水を100重量部の割合で混合した溶液を30分間攪拌して調製した。
【0060】
C.凝集促進層形成用塗布液の調製
球状シリカゾル水溶液(日産化学工業製 スノーテックスAk、シリカ分20重量%)を25重量部及び、ポリビニルアルコール(クラレ製 PVA217)の10重量%水溶液を5重量部、及び蒸留水を100重量部の割合で混合した溶液を30分間攪拌して調製した。
【0061】
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績製 A4300)上に、ワイヤーバーコート法により、乾燥後の膜厚が10μmとなるよう溶媒浸透層形成用塗布液を塗布せしめ、120℃で1分間乾燥させ、溶媒浸透層を形成した。この溶媒浸透層上に、ワイヤーバーコート法により、乾燥後の膜厚が0.1μmとなるよう凝集促進層形成用塗布液を塗布せしめ、120℃で1分間乾燥させ、凝集促進層を形成した。さらにこの凝集促進層上に銀微粒子水溶液をインクジェット法により、配線パターン状に塗布せしめた後、120℃で1分間乾燥させ、導電性積層体を作成した。光学顕微鏡により観察したところ、L/S=40μm/40μmの微細パターン部分も精度良く形成されていることが確認された。また、導通試験により導通状態を確認したところ、短絡、断線などが無いことが確認された。
【0062】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、バインダを含まない金属微粒子水溶液を直接インクジェット法で塗布可能であり、バインダなどを焼成する工程が不要であることから熱処理温度が低く、すなわち基材の選択幅を広くすることができ、且つ、微細なパターン形成能を維持しながらも、従来の技術よりも大幅に工程数が少なく、安価な導電性積層体及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の導電性積層体の1例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 配線パターン状の金属微粒子の凝集層
2 凝集促進層
3 溶媒浸透層
4 基材
5 無機酸化物微粒子
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a patterned conductive laminate and a method for manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a patterned conductive laminated body such as a printed wiring body used for an electronic device or the like, and a manufacturing method thereof. In particular, the present invention relates to a conductive laminate that can be applied to a wide range of substrates by being formed at a low heat treatment temperature using an inkjet method in a simpler, cheaper and shorter period of time, and a method for manufacturing the same. .
[0002]
[Prior art]
To date, wiring boards used in electronic devices and the like have continued to grow steadily while playing an indispensable role. However, in recent years, with higher performance of electronic devices, especially information communication related devices, and market expansion and fragmentation, further miniaturization of wiring patterns has been demanded, and a variety of products has been accelerated. There is a need for a shorter period. In addition, the proportion of the printed wiring board in the entire electronic device is large, and the cost reduction of the printed wiring board is the most important issue.
[0003]
As a manufacturing method of a laminate having a conductor circuit such as a printed wiring board, an etched foil method is currently used in which an unnecessary portion of a copper foil of a copper-clad laminate is selectively removed by, for example, etching to form a conductor pattern. Although it is a mainstream method, there are other methods such as a method of selectively depositing electroless copper plating or the like on a substrate and a method of printing a conductive paste.
[0004]
However, the etched foil method can cope with further miniaturization of the wiring pattern, but there are many steps such as resist coating and development, as well as copper foil etching, shortening the manufacturing and prototyping period and reducing the cost. It is difficult to make. At present, even in the electroless plating method, a method that does not require a resist coating and developing process has not been put into practical use, and an etching process can be omitted, but as in the etched foil method, manufacturing and prototyping are possible. It is difficult to shorten the period and reduce the cost. In the method of forming a wiring pattern by electroless plating after forming the pattern of the catalyst layer without undergoing the resist coating and development process, which is likely to be put to practical use in the future, the patterning method of the catalyst layer However, a simple and inexpensive method has not been put into practical use at present. In the method of printing the conductive paste, it has been put into practical use by using screen printing, and a manufacturing method using an inkjet method has been proposed. Therefore, it is necessary to go through a baking process at a minimum of 200 ° C., and there are problems such as the narrow selection range of the base material and the influence on the substrate.
[Problems to be solved by the invention]
[0005]
The present invention has been made in view of the above problems, and by providing a layer having ultrafine pores on a substrate, a metal fine particle solution containing no binder can be directly applied by an ink jet method, and the number of steps is reduced. It is an object of the present invention to provide a conductive laminate and a method for producing the same, which is small and inexpensive and does not require a heat treatment step of about 200 ° C. or higher.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
According to the first aspect of the present invention, a metal fine particle solution in which metal fine particles are dispersed in a solvent is applied in a pattern by an ink jet method on a substrate having an aggregation promoting layer containing one or more types of inorganic oxide fine particles on the surface. And a heat treatment step of drying the metal fine particle solution formed on the aggregation promoting layer to form a patterned metal fine particle aggregation layer, and applying heat at 200 ° C. or higher during the drying step and after the drying step. It is a manufacturing method of the electroconductive laminated body characterized by not having .
[0007]
Invention of Claim 2 is a manufacturing method of the electroconductive laminated body of Claim 1 whose heat processing temperature in the said drying process is 150 degrees C or less .
[0008]
The invention according to claim 3 is the method for producing a conductive laminate according to claim 1 or 2 , wherein a solvent permeation layer is provided between the aggregation promoting layer and the base material .
[0009]
Invention of Claim 4 provides the film thickness of the said aggregation promotion layer in the range of 10-10000 nm, The manufacturing method of the electroconductive laminated body of any one of Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. is there.
[0010]
Invention of Claim 5 provides the film thickness of the said solvent osmosis | permeation layer in the range of 1-100 micrometers, It is a manufacturing method of the electroconductive laminated body of any one of Claims 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. is there.
[0011]
The invention according to claim 6 is characterized in that the fine metal particles are any one of Ag, Al, Cu, Au, Pt, and Pd, or a combination or alloy of two or more kinds thereof. It is a manufacturing method of the conductive laminated body of any one of these .
[0012]
The invention according to claim 7 is the method for producing a conductive laminate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the metal fine particle solution does not contain a binder .
[0013]
The invention according to claim 8 has an aggregation promoting layer containing at least one kind of inorganic oxide fine particles on a substrate made of a plastic film or sheet, the metal fine particles are aggregated on the surface of the aggregation promoting layer, and patterning is performed. The conductive laminate is characterized in that a metal fine particle agglomerated layer is formed .
[0014]
The invention according to claim 9 is the conductive laminate according to claim 9 , wherein the total content of the inorganic oxide fine particles in the aggregation promoting layer is 20% by weight or more .
[0015]
The invention according to claim 10 is characterized in that one or more solvent permeation layers containing one or more kinds of inorganic oxide fine particles are provided between the aggregation promoting layer and the base material. It is an electroconductive laminated body as described in above .
[0016]
The eleventh aspect of the present invention is the conductivity according to any one of the eighth to tenth aspects , wherein the total content of the inorganic oxide fine particles in the solvent permeation layer is 20% by weight or more. It is a laminate .
[0017]
In the invention described in claim 12, the kind and composition ratio of the inorganic oxide fine particles contained in the solvent permeation layer is different from the kind and / or composition ratio of the inorganic oxide fine particles contained in the aggregation promoting layer. It is different, It is an electroconductive laminated body of any one of Claims 8 thru | or 11 characterized by the above-mentioned .
[0018]
A thirteenth aspect of the present invention is the conductive laminate according to any one of the eighth to twelfth aspects , wherein the thickness of the aggregation promoting layer is in the range of 10 to 10,000 nm .
[0019]
The invention according to claim 14 is the conductive laminate according to any one of claims 8 to 13 , wherein the solvent permeation layer has a thickness of 1 to 100 μm .
[0020]
The invention according to claim 15 is characterized in that the metal fine particles are any one of Ag, Al, Cu, Au, Pt, Pd, or a combination or alloy of two or more thereof. It is an electroconductive laminated body of any one of these .
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be specifically described below.
[0025]
First, as shown in FIG. 1, in the present invention, one or more aggregation promoting layers 2 containing inorganic oxide fine particles are formed on a substrate 4, and wiring pattern-shaped metal fine particles are formed on the aggregation promoting layer 2. This is a conductive laminate in which the aggregate layer 1 is formed. Here, the aggregation promoting layer 2 may be formed on the entire surface or partially.
The aggregation promoting layer of the present invention is a layer for aggregating metal fine particles on or near the aggregation promoting layer by applying a metal fine particle solution.
Moreover, although the said aggregation promotion layer may be provided on a base material, the base material itself may contain the aggregation promotion layer.
[0026]
In this way, by applying a metal fine particle solution not containing a binder on the aggregation promoting layer in a pattern by an ink jet method, pores existing in the inorganic oxide fine particles themselves and gaps between the inorganic oxide fine particles are formed. The solvent selectively permeates mainly into the aggregation promoting layer having pores, and accordingly, aggregation of the metal fine particles is promoted in a portion close to the surface, and an appropriate metal fine particle aggregated layer is formed in a target pattern. Further, since the binder does not need to be burned away by firing, a metal fine particle layer in which metal fine particles are aggregated can be formed at a low heat treatment temperature necessary for drying after applying the metal fine particle solution.
[0027]
Next, it is preferable not only to provide the aggregation promoting layer 3 directly on the substrate 1 but also to provide the solvent permeation layer 2 and further provide the aggregation promoting layer 3. In addition, in FIG. 1, although the structure of the printed wiring body when the solvent permeation layer 2 and the aggregation promotion layer 3 are each provided as one layer is shown, it is not limited to this structure.
The solvent permeation layer of the present invention is a layer for promoting the permeation of the solvent. That is, by providing the solvent permeation layer, it is possible to facilitate the permeation of the solvent as compared with the case where only the aggregation promoting layer is provided.
[0028]
Here, the substrate 1 in the present invention is not particularly limited, and is used as a substrate for printed wiring, such as a paper / phenol resin-based substrate, a paper / epoxy-based substrate, and a paper / polyester-based substrate. Materials, glass / epoxy base materials, glass / polyimide base materials, polyimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polytetrafluoroethylene, phenol resin, epoxy resin, polyester resin, etc. However, it can be appropriately selected from known glass films or sheets having appropriate mechanical rigidity including various glass substrates. Further, when the base material itself includes an aggregation promoting layer, it is preferably a paper or fiber base material.
[0029]
The metal fine particles can be prepared relatively easily by a number of known techniques represented by the method published by Carey-Lea in 1889 (Am. J. Sci., Vol. 37, pp. 491, 1889). It is.
[0030]
The content of the metal fine particles contained in the metal fine particle solution is preferably 1.0 to 20% by weight, and more preferably 3.0 to 10% by weight.
[0031]
The particle diameter of the metal fine particles used in the metal fine particle solution is preferably a primary particle diameter of 50 nm or less from the viewpoint of fine processing and prevention of nozzle clogging. When the primary particle size is 50 nm or more, the pattern resolution tends to be lowered, and the nozzles are likely to clog.
[0032]
Further, examples of the metal species of the metal fine particles include Ag, Au, Cu, Al, Pd, and the like, but those mainly composed of Ag or Cu are particularly preferable from the viewpoint of conductivity and cost. Moreover, in order to improve chemical stability, these two or more kinds of alloys may be used.
[0033]
As the solvent used for the metal fine particle solution, water is mainly used because of its low viscosity, excellent safety, easy handling, low cost, no odor, etc. Preferably, pure water or ultrapure water that has undergone a purification step such as ion exchange or distillation is preferred.
[0034]
Further, for the purpose of improving the drying property and the fixing property, water having a high volatility such as ethanol and propanol can be added to water as a main solvent in a small amount.
[0035]
In addition to the solvent, the metal fine particle solution includes a dispersing agent such as citric acid used during preparation, a reducing agent that has not been completely washed out, and other additives, but the metal dispersion performance in the solution. Since it may cause deterioration or conductivity deterioration after coating, and conductivity cannot be ensured without performing post-coating baking treatment, it is preferable not to add other additives.
[0036]
As described above, it is desirable not to add an additive to the metal fine particle solution, but a dispersion stabilizer or a wetting agent may be added for the purpose of improving the dispersibility of the metal fine particles or preventing nozzle clogging.
[0037]
As the dispersant for improving the dispersibility, carboxylic acids such as citric acid, stearic acid, lauric acid and oleic acid, and sulfonic acids such as phenyldiazosulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid are preferably used.
[0038]
Examples of the wetting agent for preventing nozzle clogging include glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1, High-boiling and low-volatile polyhydric alcohols such as 2,4-butanetriol, 2,2′-thiodiethanol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol are used, or monoetherified products, dietherified products, and esterified products thereof such as Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene Glycol monobutyl ether and the like, and other N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone, monoethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, diethanolamine, N- Nitrogen-containing organic solvents such as n-butyldiethanolamine, triisopropanolamine, and triethanolamine can be used.
[0039]
The solvent permeation layer 3 can achieve the purpose by containing 20% by weight or more of inorganic oxide fine particles, and the higher the content, the more preferable.
[0040]
The inorganic oxide fine particles contained in the solvent permeation layer 3 have almost no gaps between the particles when the particle size is too small. On the other hand, when the particles are too large, the gaps between the particles become large and proper solvent penetration occurs. Since it becomes difficult and appropriate aggregation of the metal fine particles in the aggregation promoting layer is difficult to occur, the particle diameter is preferably in the range of 10 nm to 100 μm, and more preferably in the range of 100 nm to 10 μm.
The structure of the inorganic oxide fine particles is preferably a flake shape, a feather shape, or a shape close to a plate shape.
[0041]
The inorganic oxide species of the inorganic oxide fine particles contained in the solvent permeation layer 3 is not particularly limited, and general silicon oxide fine particles and aluminum oxide fine particles can be used.
[0042]
The other component contained in the solvent permeation layer 3 preferably includes a binder and / or a binder precursor monomer from the viewpoint of film strength. The binder includes a polyester resin, an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, and a polyamide. Resins, resins such as polyimide resins used as printed wiring base materials and resins contained in adhesives used for copper-clad boards, but are not limited to this, for example Water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol and polyethylene glycol, various thermosetting resins and monomers, photocurable resins and monomers can be used.
[0043]
As the content of the binder and / or binder precursor monomer contained in the solvent permeation layer 3, if it is too large, there will be no gap between the inorganic oxide fine particles, and if it is too small, the coating suitability and the coating strength will be poor. Therefore, the amount is preferably in the range of 1 to 100 parts by weight, more preferably in the range of 5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles.
[0044]
Examples of the method for forming the solvent permeation layer 3 include a method in which a material kneaded in a binder using inorganic oxide fine particles is applied or pasted to a base material, and the inorganic oxide fine particles and the binder are dispersed in a solvent. A method of drying and / or curing the binder, if necessary, after applying the coating liquid to the substrate is also mentioned, and it is preferable to select an appropriate forming method depending on the binder to be used.
[0045]
The thickness of the solvent permeation layer 3 is preferably in the range of 100 nm to 100 μm, more preferably in the range of 1 μm to 50 μm.
[0046]
The aggregation promoting layer 2 can achieve the object by containing 20% by weight or more of inorganic oxide fine particles, and the higher the content, the more preferable.
[0047]
As the inorganic oxide fine particles contained in the aggregation promoting layer 2, when the particle size is too small, there are almost no gaps between the particles, and when the particle size is too large, the gaps between the particles become large and appropriate aggregation of the metal fine particles occurs. Since it becomes difficult, the particle diameter is preferably in the range of 1 nm to 10 μm, more preferably in the range of 10 nm to 1 μm, and further preferably a shape close to a sphere.
[0048]
The inorganic oxide species of the inorganic oxide fine particles contained in the aggregation promoting layer 2 is not particularly limited, and general silicon oxide fine particles and aluminum oxide fine particles can be used.
[0049]
The other component contained in the aggregation promoting layer 2 preferably includes a binder and / or a binder precursor monomer from the viewpoint of film strength. The binder includes a polyester resin, an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, and a polyamide. Resins, resins such as polyimide resins used as printed wiring base materials and resins contained in adhesives used for copper-clad boards, but are not limited to this, for example Water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol and polyethylene glycol, various thermosetting resins and monomers, photocurable resins and monomers can be used.
[0050]
When the content of the binder and / or binder precursor monomer contained in the aggregation promoting layer 2 is too large, there is no gap between the inorganic oxide fine particles, and when it is too small, the coating suitability and the coating strength are poor. Therefore, the amount is preferably in the range of 1 to 100 parts by weight, more preferably in the range of 5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic oxide fine particles.
[0051]
Examples of the method for forming the aggregation promoting layer 2 include a method in which a material kneaded in a binder using inorganic oxide fine particles is applied or pasted to a base material, and the inorganic oxide fine particles and the binder are dispersed in a solvent. A method of drying and / or curing the binder, if necessary, after applying the coating liquid to the substrate is also mentioned, and it is preferable to select an appropriate forming method depending on the binder to be used.
[0052]
The heat treatment temperature of the heat treatment performed during the drying is preferably 150 ° C. or less. Within this range, there is little thermal effect on the substrate, and the range of substrate selection is expanded.
[0053]
The film thickness of the aggregation promoting layer 2 is preferably in the range of 5 nm to 10 μm, more preferably in the range of 10 nm to 2 μm.
[0054]
As a coating method when the solvent permeation layer 3 and the aggregation promoting layer 2 are formed by coating, a usual film forming method such as a spin coating method, an ink jet method, a roll coating method, a spray method, a bar coating method, or a dip method is used. Is possible.
[0055]
As a coating method of the metal fine particle solution that forms an aggregate of patterned metal fine particles, a general-purpose printer can be used, it can be applied at low cost, the coating liquid loss is low, the number of processes is small, and general-purpose Since a wiring pattern can be formed using a computer and general-purpose software, the inkjet method is the most suitable method.
[0056]
A conductive laminate consisting of an aggregation promoting layer and an aggregate of patterned metal fine particles, or a printed wiring body consisting of a solvent permeation layer, an aggregation promoting layer and an aggregate of patterned metal fine particles is formed on one side of a substrate. Alternatively, they may be formed on both surfaces, and may be further laminated via an insulating layer.
[0057]
A method of connecting conductors arranged on both sides when a conductive laminate is formed on both sides of a substrate and a laminate in which a conductive laminate is formed on one side and / or both sides, and conductors of different layers As the connection method, a known method such as connection by a jumper wire in the through hole or embedding of a conductive paste in the through hole can be used.
[0058]
【Example】
A. Preparation of Silver Fine Particle Aqueous Solution A silver fine particle dispersed aqueous solution was prepared by a method (Am. J. Sci., Vol. 37, pp. 491, 1889) published by Carey-Lea in 1889. The average primary particle diameter was about 7 nm by TEM observation. Furthermore, it diluted with distilled water and prepared so that Ag density | concentration might be 7 weight%.
[0059]
B. Preparation of coating solution for forming solvent permeation layer 25 parts by weight of flaky alumina sol aqueous solution (Alumina sol 520 manufactured by Nissan Chemical Industries, 20% by weight of alumina) and 5 parts by weight of 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA217 manufactured by Kuraray) A solution prepared by mixing distilled water at a ratio of 100 parts by weight was prepared by stirring for 30 minutes.
[0060]
C. Preparation of a coating solution for forming an aggregation promoting layer 25 parts by weight of a spherical silica sol aqueous solution (Snowtex Ak, manufactured by Nissan Chemical Industries, silica content 20% by weight) and 5 parts by weight of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA217, manufactured by Kuraray) And the solution which mixed distilled water in the ratio of 100 weight part was prepared by stirring for 30 minutes.
[0061]
On a polyethylene terephthalate (PET) film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a coating solution for forming a solvent permeation layer was applied by a wire bar coating method so that the film thickness after drying was 10 μm, and dried at 120 ° C. for 1 minute. A solvent permeation layer was formed. On this solvent permeation layer, a coating solution for forming an aggregation promoting layer was applied by wire bar coating so that the film thickness after drying was 0.1 μm, and dried at 120 ° C. for 1 minute to form an aggregation promoting layer. . Further, a silver fine particle aqueous solution was applied on the aggregation promoting layer in the form of a wiring pattern by an ink jet method and then dried at 120 ° C. for 1 minute to prepare a conductive laminate. When observed with an optical microscope, it was confirmed that fine pattern portions of L / S = 40 μm / 40 μm were also formed with high accuracy. Moreover, when the continuity state was confirmed by a continuity test, it was confirmed that there was no short circuit or disconnection.
[0062]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a metal fine particle aqueous solution not containing a binder can be directly applied by an ink jet method, and since a step of baking a binder or the like is unnecessary, a heat treatment temperature is low, that is, a substrate is selected. While being able to widen the width and maintaining a fine pattern forming ability, it is possible to provide an electrically conductive laminate and a method for manufacturing the same that are significantly less in number of steps than conventional techniques.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a conductive laminate according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aggregation layer of metal fine particle of wiring pattern 2 Aggregation promotion layer 3 Solvent permeation layer 4 Base material 5 Inorganic oxide fine particle

Claims (15)

無機酸化物微粒子を1種類以上含有した凝集促進層を表面に有する基材上に金属微粒子を溶媒に分散させた金属微粒子溶液をインクジェット法によりパターン状に塗布する工程と、
凝集促進層上に形成された金属微粒子溶液を乾燥させパターン状の金属微粒子凝集層を形成する乾燥工程とを備え、
前記乾燥工程時および乾燥工程後に200℃以上の熱を加える熱処理工程を有さないことを特徴とする導電性積層体の製造方法。
A step of applying a metal fine particle solution in which metal fine particles are dispersed in a solvent onto a substrate having an aggregation promoting layer containing one or more inorganic oxide fine particles on the surface by an ink jet method ;
A drying step of drying the metal fine particle solution formed on the aggregation promoting layer to form a patterned metal fine particle aggregate layer,
The manufacturing method of the electroconductive laminated body characterized by not having the heat processing process which heats 200 degreeC or more at the time of the said drying process and after a drying process .
前記乾燥工程における熱処理温度が、150℃以下であることを特徴とする請求項1記載の導電性積層体の製造方法。The method for producing a conductive laminate according to claim 1 , wherein a heat treatment temperature in the drying step is 150 ° C. or less. 前記凝集促進層と前記基材間に溶媒浸透層を備えることを特徴とする請求項1または2記載の導電性積層体の製造方法。 The method for producing a conductive laminate according to claim 1, further comprising a solvent permeation layer between the aggregation promoting layer and the base material . 前記凝集促進層の膜厚10〜10000nmの範囲で設けることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法。The method for producing a conductive laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein a thickness of the aggregation promoting layer is provided in a range of 10 to 10,000 nm. 前記溶媒浸透層の膜厚を1〜100μmの範囲で設けることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法。The method for producing a conductive laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein a film thickness of the solvent permeation layer is provided in a range of 1 to 100 µm. 前記金属微粒子がAg,Al,Cu,Au,Pt,Pdのいずれか、あるいはそれらの2種類以上の組み合わせまたは合金であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法。The conductive metal according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal fine particles are any one of Ag, Al, Cu, Au, Pt, and Pd, or a combination or alloy of two or more kinds thereof. For producing a conductive laminate. 前記金属微粒子溶液がバインダを含まないことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の導電性積層体の製造方法。The method for producing a conductive laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the metal fine particle solution does not contain a binder. プラスチックフィルムもしくはシートからなる基材上に無機酸化物微粒子を1種類以上含有した凝集促進層を有し、
該凝集促進層表面に金属微粒子が凝集し、かつパターニングされている金属微粒子凝集層が形成されていることを特徴とする導電性積層体。
Having an aggregation promoting layer containing at least one kind of inorganic oxide fine particles on a substrate made of a plastic film or sheet ;
A conductive laminate in which metal fine particles are aggregated on the surface of the aggregation promoting layer and a patterned metal fine particle aggregate layer is formed .
前記凝集促進層の無機酸化物微粒子の総含有量が、20重量%以上であることを特徴とする請求項9に記載の導電性積層体。The conductive laminate according to claim 9, wherein the total content of the inorganic oxide fine particles in the aggregation promoting layer is 20% by weight or more. 前記凝集促進層と前記基材間に、無機酸化物微粒子を1種類以上含有した溶媒浸透層を1層以上設けることを特徴とする請求項8または請求項9に記載の導電性積層体。The conductive laminate according to claim 8 or 9, wherein at least one solvent permeation layer containing at least one kind of inorganic oxide fine particles is provided between the aggregation promoting layer and the substrate . 前記溶媒浸透層の無機酸化物微粒子の総含有量が、20重量%以上であることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載の導電性積層体。11. The conductive laminate according to claim 8, wherein the total content of the inorganic oxide fine particles in the solvent permeation layer is 20% by weight or more. 前記溶媒浸透層の層中に含まれる無機酸化物微粒子の種類及び組成比が、前記凝集促進層に含まれる無機酸化物微粒子の種類及び/または組成比とは異なることを特徴とする請求項8乃至11のいずれか1項に記載の導電性積層体。 Claim 8 wherein the type and composition ratio of inorganic oxide fine particles contained in the layer of solvent permeation layer, wherein different from the type and / or the composition ratio of the inorganic oxide particles contained in the aggregation-promoting layer The electroconductive laminated body of any one of thru | or 11 . 前記凝集促進層の膜厚が、10〜10000nm範囲であることを特徴とする請求項8乃至12のいずれか1項に記載の導電性積層体。  The conductive laminate according to any one of claims 8 to 12, wherein a thickness of the aggregation promoting layer is in a range of 10 to 10,000 nm. 前記溶媒浸透層の膜厚が、1〜100μmであることを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載の導電性積層体。14. The conductive laminate according to claim 8 , wherein the solvent permeation layer has a thickness of 1 to 100 μm. 前記金属微粒子が、Ag,Al,Cu,Au,Pt,Pdのいずれか、あるいはそれらの2種類以上の組み合わせまたは合金であることを特徴とする請求項8乃至14のいずれか1項に記載の導電性積層体。  The metal fine particles are any one of Ag, Al, Cu, Au, Pt, and Pd, or a combination or alloy of two or more thereof. Conductive laminate.
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