JP3925194B2 - Visible light source, optical scanning device, and digital photo processing device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディジタル写真処理装置の露光装置などに用いられる可視光光源に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ディジタルカメラなどにより撮影されたディジタル画像データを用いて、印画紙上にカラー画像を形成するディジタル写真処理装置が実用化されている。ディジタル写真処理装置の露光装置は、色の三原色に対応する赤(R)、緑(G)及び青(B)用のR光源、G光源及びB光源と、R、G、B各色のビームを印画紙上に走査させるためのポリゴンミラー及びfθレンズなどを含む走査機構などで構成されている。ディジタル写真処理装置では、印画紙は所定の一定速度で所定の方向に搬送され(以下、この方向を「副走査方向」と称する)、各色のビームは、印画紙の感光面上を副走査方向に直交する主走査方向に走査される。各色のビームの強度は、スキャナにより写真やフィルムを読み込んだ画像データ又はディジタルカメラなどにより直接取り込まれた画像データに応じてそれぞれ変調される。その結果、印画紙上にはR、G、B各色の潜像が形成され、所定の現像処理を経ることにより写真が形成される。
【0003】
従来のディジタル写真処理装置の露光装置では、R光源として、波長680nmの赤色レーザビームを出力する半導体レーザを用い、G光源として、例えば波長1064nmの半導体レーザと、そのレーザから出力されたレーザビームを波長532nmの緑色ビームに変換する波長変換素子で構成された光源を用いている。同様に、B光源として、波長946nmのレーザと、その半導体レーザから出力されたレーザビームを波長473nmの青色ビームに変換する波長変換素子で構成された光源を用いている。
【0004】
これらG光源及びB光源は、それぞれSHGレーザ(second harmonic generation from laser)と呼ばれている。また、光情報処理機器用光源として用いるため、このようなSHGレーザには小型化及び低コスト化が要求されており、半導体レーザからのレーザビーム(赤外光)を直接波長変換素子に導入し、可視光を出力する光導波路型SHGレーザの実用化が推められている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、半導体レーザの基本発振波長は温度によりばらつきがあり、発振波長を一定に維持するには1/100℃程度の高精度に温度を制御しなければならない。
【0006】
温度変化と半導体レーザの発振波長のばらつきの一例を図6に示す。なお、温度と発振波長の関係は半導体レーザの種類により異なるため、一般化して表示している(T1<T2<T3)。また、T1とT2の温度差及びT2とT3の温度差はそれぞれ0.1℃程度である。図6に示すように、ごくわずかな温度変化でも半導体レーザの基本発振波長が変化する(f1<f2<f3)。発信周波数f1とf2の差及びf2とf3の差は、それぞれ1nm程度である。
【0007】
上記光導波路型波長変換素子は、半導体レーザの特定の波長光を、例えばその1/2の波長の光に変調するように設計されているため、半導体レーザの基本発振波長が波長変換素子の位相整合波長(第2高調波変換効率のピーク波長)からずれると、波長の整合性がとれず第2高調波の変換効率が低下し、所望するパワーを出力することができないという問題点を有していた。逆に、所望するパワーを出力するには、上記のように高精度に温度制御が可能な環境を用意しなければならず、ディジタル写真処理装置などの民生用機器に搭載するには困難であるという問題点を有していた。
【0008】
また、半導体レーザ及び光導波路型波長変換素子は、それぞれ半導体製造プロセスを利用して量産可能であるが、量産された個々の半導体レーザ及び光導波路型波長変換素子の特性にばらつき(個体差)が生じる。量産された半導体レーザと光導波路型波長変換素子とをランダムに組み合わせると、波長の整合性がとれず所望するパワーが出力できないSHGレーザが発生し、SHGレーザの歩留まりが悪くなるという問題点を有していた。
【0009】
本発明は、上記従来例の問題点を解決するためになされたものであり、比較的緩やかな温度制御環境でも所定のパワーを出力することができ、かつ歩留まりを向上させた可視光光源、それを用いた光走査装置及びディジタル写真処理装置を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の可視光光源は、半導体レーザからの出力光を光導波路型波長変換素子に導入し、第2高調波を発生させる可視光光源であって、前記半導体レーザと前記光導波路型波長変換素子との間に前記出力光を分岐するための光スイッチ素子を設け、前記光導波路型波長変換素子は、それぞれ第2高調波変換効率のピーク波長が異なる複数の光導波路を有し、光スイッチ素子は、前記半導体レーザの温度に応じて前記出力光を導入する光導波路を選択するものであることを特徴とする。
【0011】
上記構成において、前記半導体レーザからの出力光を、前記光導波路型波長変換素子の複数の光導波路に同時に導入し、前記各光導波路により変換された第2高調波を同時に出力することが好ましい。
【0012】
一方、本発明の光走査装置は、所定の第1方向に搬送される被露光媒体に対して、前記第1方向に直交する第2方向にビームを走査させて前記被露光媒体を露光する光走査装置であって、上記いずれかの可視光光源を前記ビームの光源とすることを特徴とする。
【0013】
また、本発明のディジタル写真処理装置は、上記光走査装置を露光装置とすることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明に係る可視光光源、それを用いた光走査装置及び写真処理装置の一実施形態について説明する。
【0015】
本実施形態に係る写真処理装置の外観を図1に示す。この写真処理装置は、印画紙に露光するための露光ユニット20と、印画紙に対して現像、定着、漂白及び安定化処理を施す現像ユニット30と、現像された印画紙を乾燥する乾燥ユニット40を具備する。現像ユニット30の上部には、排出口41から排出された現像処理された写真を、注文(例えばフィルム1本分のコマ数)ごとに積み重ねるための第1搬送ベルト42と、第1搬送ベルト42から移し換えられたフィルム1本分ごとの写真の束を整列させるための第2搬送ベルト43が設けられている。
【0016】
露光ユニット20の内部は暗箱であり、レーザビーム走査ユニット(光走査装置)100と、ロール状に巻回された印画紙を収納したマガジン21と、印画紙を所定サイズの印画紙片に切断するカッタと、マガジン21からカッタまで印画紙を引き出し、切断された印画紙片を露光部を経て現像ユニット30に搬送する搬送機構等を含む。
【0017】
レーザビーム走査ユニット100の詳細な構成を図2に示す。レーザビーム走査ユニット100は、色の三原色である赤(R)、緑(G)及び青(B)にそれぞれ対応する3つの光源、すなわちR光源104R、G光源104G及びB光源104Bを具備する。
【0018】
R光源104Rとしては、基本的に波長680nmの赤色レーザビームを出力する半導体レーザをそのまま用いている。一方、G光源104Gとして、例えば波長1064nmの半導体レーザと、その半導体レーザから出力されたレーザビームを波長532nmの緑色SHG光に変換する波長変換素子で構成されたSHGレーザを用い、B光源104Bとして、波長946nmの半導体レーザと、その半導体レーザから出力されたレーザビームを波長473nmの青色SHG光に変換する波長変換素子で構成されたSHGレーザを用いている。G光源104G及びB光源104Bの詳細については後述する。
【0019】
なお、SHGレーザはレーザを光源としているけれども、波長変換の際に光共振を利用していないのでレーザ光源ではない。また、G光源104G及びB光源104Bからそれぞれ出力される緑色SHG光及び青色SHG光も厳密にはレーザビームではない。しかしながら、便宜上、以下の説明においてレーザ光源及びレーザビームと称する。
【0020】
3組のコリメータレンズ106及び音響光学変調素子108は、各レーザ光源104R、104G及び104Bのレーザビーム出射面の前方に配置されている。各レーザ光源104R、104G及び104Bから出射されたレーザビームの光路上には、レーザビームをポリゴンミラー120の方向に反射するための調節可能ミラー110がそれぞれ設けられている。ポリゴンミラー120は、レーザビームを所定方向に反射するために、例えば矢印Aで示す方向に所定の一定速度で回転されている。ポリゴンミラー120の前方には、fθレンズ121、シリンドリカルレンズ122、1組のミラー124及び126が順に配置されている。レーザビームは、ポリゴンミラー120、fθレンズ121及びシリンドリカルレンズ122により矢印Bで示す主走査方向に偏向され、ミラー124及び126により矢印Cで示す副走査方向に反射される。
【0021】
次に、本実施形態におけるG光源104G及びB光源104B(SHGレーザ)について説明する。本実施形態におけるSHGレーザの第1構成例を図3に示す。
【0022】
第1構成例では、例えば赤外光を出力するDBR(distributed Bragg reflector)半導体レーザ201と、半導体レーザ201から出力されるレーザビームを導入するためのコリメータレンズなどを含むレーザビーム導入素子202と、半導体レーザ201の温度に応じて、導入されたレーザビームの進行方向を分岐させるための光スイッチ素子203と、光スイッチ素子203により分岐されたレーザビームに対応して設けられ、それぞれ位相整合波長(第2高調波変換効率のピーク波長)が異なる複数(例えば3つ)の光導波路型波長変換素子204A、204B、204Cと、各光導波路型波長変換素子204A、204B、204Cにより第2高調波変換されたSHG光を同じ方向に出力するように光導波路が形成された光導波路素子205と、半導体レーザ201の温度を検出するための温度センサ(TS)206と、半導体レーザ201の温度に応じて、光スイッチ素子203の電極203A及び203Bのオン/オフを制御するための制御部(制御回路)207などで構成されている。
【0023】
例えば波長470nmの青色SHG光を出力させようとする場合、半導体レーザ201として、基本発振周波数940nmのDBR半導体レーザを用いる。図6に示したように、一般的に半導体レーザは±1nm程度の範囲で基本発振波長が変化するので、光導波路型波長変換素子204A、204B、204Cの位相整合波長(第2高調波変換効率のピーク波長)をそれぞれ939nm、940nm及び941nmとする。図6に対応させると、f1=939nm、f2=940nm、f3=941nmとなる。
【0024】
なお、光スイッチ素子203によるレーザビームの分岐数は上記3つに限定されず2つ以上であればよい。また、光スイッチ素子203の分岐数に応じて同数の光導波路型波長変換素子204A・・・を用意し、各光導波路型波長変換素子204A・・・の位相整合波長(第2高調波変換効率のピーク波長)を適宜変化させればよい、その際、光スイッチ素子203の分岐数を多くすればするほど半導体レーザ201の基本発振波長の変化に対応が容易になり、温度管理(制御)条件を緩和することができる。
【0025】
光スイッチ素子203は、例えばLiNbO3などの半導体基板上にPLZTなどの強誘電体材料で光導波路を形成し、光導波路の分岐部分に電界を加えるなどして屈折率を変化させ、光の進行方向を切り替えるものである。第1構成例の場合、半導体レーザ201の温度に応じて2つの電極203Aと203Bのオン/オフを制御し、レーザビームを導入する光導波路型波長変換素子204A、204B又は204Cを選択する。なお、光スイッチ素子203はこの構成に限定されず、他の構成のものであっても良い。
【0026】
光導波路型波長変換素子204A・・・は、例えば図4に示すように、LiNbO3基板上に周期的分極反転領域とそれに直交する方向の光導波路を形成したものである。光導波路の幅を変化させることにより、第2高調波変換効率のピーク波長を微調整することができる。また、分極反転領域の周期を変化させることにより、第2高調波変換効率のピーク波長を大きく変化させることができる(例えば、特開平11-160747号公報参照)。
【0027】
光導波路素子205は、例えばLiNbO3などの半導体基板上にPLZTなどの強誘電体材料で光導波路を形成したものであり、光スイッチ機能は有していない。各光導波路型波長変換素子204A・・・により第2高調波変換されたSHG光は、光導波路素子205により同じ場所から同じ方向に出力される。
【0028】
このように、第1構成例によれば、半導体レーザ201の温度を温度センサ206で検出し、その温度における半導体レーザ201の基本発振波長に対応する光導波路型波長変換素子204A、204B及び204Cのいずれかにレーザビームを導入するべく、光スイッチ203の電極203A及び203Bのオン/オフを制御部207により制御するので、半導体レーザ201の基本発振波長のばらつきにかかわらず、高効率で第2高調波変換されたSHG光を出力することができる。なお、半導体レーザ201の基本発振波長のばらつきにより、出力されるSHG光の波長もばらつくが、上記ディジタル写真処理装置において印画紙を感光させる用途の場合、若干の波長のばらつきは特に問題にはならない。
【0029】
次に、本実施形態におけるSHGレーザの第2構成例を図5に示す。第2構成例では、光スイッチ素子203の代わりに光導波路素子208を用い、半導体レーザ201から出力されたレーザビームをほぼ均等に3つの光路に分離し、光導波路型波長変換素子204A、204B及び204Cにそれぞれ同時に導入する。この第2構成例によれば、半導体レーザ201の基本発振波長がばらついても、そのときの基本発振波長に対応するいずれかの光導波路型波長変換素子204A、204B又は204Cにより、高効率で第2高調波変換され、SHG光が出力される。なお、第2構成例では、半導体レーザ201から出力されるレーザビームのうち約1/3しか第2高調波変換に使用されないため、半導体レーザ201のパワーが大きい場合か、出力光であるSHG光に要求されるパワーが小さい場合に適する。
【0030】
なお、上記実施形態では、半導体レーザの温度変化による基本発振波長のばらつきに対応してそれぞれ位相整合波長の異なる複数の光導波路型波長変換素子を用意し、温度変化に応じて最適な光導波路型波長変換素子を選択することにより、一定のパワーを有するSHG光を出力する場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、量産された半導体レーザや光導波路型波長変換素子の個体差に起因するSHG光のパワー低下を矯正する場合にも適用することができる。
【0031】
例えば、ある特定温度における半導体レーザの基本発振波長を940nmとする。実際には、半導体レーザの個体差により当該特定温度における基本発振波長が939nmのものや941nmのものが含まれる可能性がある。このような場合に、それぞれ位相整合波長の異なる複数の光導波路型波長変換素子を用意しておき、光スイッチ素子を操作してSHG光のパワーが最も大きくなる条件を選択すればよい。あるいは、半導体レーザと光導波路型波長変換素子の最適な組み合わせを選択してSHGレーザを組み立てるようにしても良い。光導波路型波長変換素子の個体差に関しても同様である。
【0032】
また、上記実施形態では、それぞれ位相整合波長(第2高調波変換効率のピーク波長)の異なる複数の光導波路型波長変換素子を用意したが、1つの素子上にそれぞれ位相整合波長の異なる複数の光導波路を形成しても良い。なお、上記請求項1では「前記光導波路型波長変換素子は、それぞれ第2高調波変換効率のピーク波長が異なる複数の光導波路を有することを特徴とする」と記載しているが、これは、それぞれ位相整合波長の異なる複数の光導波路型波長変換素子を用意する場合と1つの素子上にそれぞれ位相整合波長の異なる複数の光導波路を形成する場合の両方の場合を含むことは言うまでもない。
【0033】
さらに、上記実施形態では、レーザビーム走査ユニットを写真処理装置に用いたが、これに限定されるものではなく、カラーレーザ処理装置等の露光装置としても使用することができる。
【0034】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の可視光光源は、温度変化により半導体レーザから出力されるレーザビームの基本発振波長がばらついても、ばらついた基本発振波長に対応する光導波路型波長変換素子の導波路を選択することにより、光効率で第2高調波変換されたSHG光を出力することができる。
【0035】
また、半導体レーザの温度に関してある程度の温度変化を許容しうるので、例えば従来±0.1℃程度に管理しなければならなかった温度条件を±0.5℃程度まで緩和することも可能である。その結果、この可視光光源の用途範囲を拡大することができると共に、この可視光光源を用いた装置のコストを低減することも可能である。
【0036】
しかも、光スイッチ素子で前記半導体レーザの温度に応じて前記出力光を導入する光導波路を選択することにより、温度センサや制御回路が必要になるものの、半導体レーザから出力されるレーザビームの利用効率を低下させることなく、常に一定のパワーを有するSHG光を出力することができる。
【0037】
一方、本発明の光走査装置は、所定の第1方向に搬送される被露光媒体に対して、前記第1方向に直交する第2方向にビームを走査させて前記被露光媒体を露光する光走査装置であって、上記いずれかに記載の可視光光源を前記ビームの光源とするので、可視光光源の温度変化をある程度許容しつつ、一定のパワーで被露光媒体(例えば印画紙や感光体ドラムなど)を露光することができる。
【0038】
さらに、本発明のディジタル写真処理装置は、上記光走査装置を露光装置とするので、例えば色の三原色であるR、G及びBの各光源のうち、G光源及びB光源として上記可視光光源を用いることができ、各色のビームを安定したパワーで出力し続けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係るディジタル写真処理装置の外観構成を示す斜視図である。
【図2】 本発明の一実施形態におけるレーザビーム走査ユニット(光走査装置)の構成を示す斜視図である。
【図3】 上記実施形態におけるSHGレーザの第1構成例の構成を示す平面図である。
【図4】 上記実施形態におけるSHGレーザのうち、特に光導波路型波長変換素子の構成を示す斜視図である。
【図5】 上記実施形態におけるSHGレーザの第2構成例の構成を示す平面図である。
【図6】 温度変化と半導体レーザの発振波長のばらつきの一例を示す図である。
【符号の説明】
100 :レーザビーム走査ユニット(光走査装置)
104R:R光源
104G:G光源
104B:B光源
201 :半導体レーザ
202 :レーザビーム導入素子
203 :光スイッチ素子
204A:光導波路型波長変換素子
204B:光導波路型波長変換素子
204C:光導波路型波長変換素子
205 :光導波路素子
206 :温度センサ
207 :制御部(制御回路)
208 :光導波路素子[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a visible light source used in an exposure apparatus of a digital photographic processing apparatus.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, digital photographic processing apparatuses that form color images on photographic paper using digital image data taken by a digital camera or the like have been put into practical use. An exposure apparatus of a digital photographic processing apparatus is provided with an R light source, a G light source and a B light source for red (R), green (G) and blue (B) corresponding to the three primary colors, and beams of R, G and B colors. It comprises a scanning mechanism including a polygon mirror and an fθ lens for scanning on photographic paper. In the digital photographic processing apparatus, the photographic paper is conveyed in a predetermined direction at a predetermined constant speed (hereinafter, this direction is referred to as “sub-scanning direction”), and each color beam passes along the photosensitive surface of the photographic paper in the sub-scanning direction. Is scanned in the main scanning direction orthogonal to the. The intensity of each color beam is modulated in accordance with image data obtained by reading a photograph or film with a scanner or image data directly taken in with a digital camera or the like. As a result, latent images of R, G, and B colors are formed on the photographic paper, and a photograph is formed through a predetermined development process.
[0003]
In an exposure apparatus of a conventional digital photographic processing apparatus, a semiconductor laser that outputs a red laser beam with a wavelength of 680 nm is used as an R light source, and a semiconductor laser with a wavelength of 1064 nm, for example, and a laser beam output from the laser are used as a G light source. A light source composed of a wavelength conversion element that converts a green beam having a wavelength of 532 nm is used. Similarly, a light source composed of a laser having a wavelength of 946 nm and a wavelength conversion element for converting a laser beam output from the semiconductor laser into a blue beam having a wavelength of 473 nm is used as the B light source.
[0004]
These G light source and B light source are each called SHG laser (second harmonic generation from laser). In addition, for use as a light source for optical information processing equipment, such SHG lasers are required to be small and low in cost, and a laser beam (infrared light) from a semiconductor laser is directly introduced into a wavelength conversion element. An optical waveguide type SHG laser that outputs visible light has been put into practical use.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the fundamental oscillation wavelength of a semiconductor laser varies depending on the temperature. In order to maintain the oscillation wavelength constant, the temperature must be controlled with a high accuracy of about 1/100 ° C.
[0006]
An example of the variation in temperature and the variation in the oscillation wavelength of the semiconductor laser is shown in FIG. Since the relationship between temperature and oscillation wavelength differs depending on the type of semiconductor laser, it is generalized and displayed (T 1 <T 2 <T 3 ). The temperature difference between T 1 and T 2 and the temperature difference between T 2 and T 3 are about 0.1 ° C., respectively. As shown in FIG. 6, the fundamental oscillation wavelength of the semiconductor laser changes even with a slight change in temperature (f1 <f2 <f3). The difference between the transmission frequencies f1 and f2 and the difference between f2 and f3 are about 1 nm, respectively.
[0007]
The optical waveguide type wavelength conversion element is designed to modulate a specific wavelength light of the semiconductor laser to, for example, a light having a half wavelength, so that the fundamental oscillation wavelength of the semiconductor laser is the phase of the wavelength conversion element. If it deviates from the matching wavelength (the peak wavelength of the second harmonic conversion efficiency), the wavelength matching cannot be achieved, the second harmonic conversion efficiency is lowered, and the desired power cannot be output. It was. Conversely, in order to output the desired power, it is necessary to prepare an environment capable of temperature control with high accuracy as described above, which is difficult to install in consumer equipment such as a digital photo processing apparatus. It had the problem that.
[0008]
In addition, the semiconductor laser and the optical waveguide type wavelength conversion element can be mass-produced by using a semiconductor manufacturing process, respectively, but there are variations (individual differences) in the characteristics of the individual semiconductor lasers and optical waveguide type wavelength conversion elements that are mass-produced. Arise. When a mass-produced semiconductor laser and an optical waveguide type wavelength conversion element are randomly combined, there is a problem that wavelength matching is not achieved and an SHG laser that cannot output a desired power is generated, and the yield of the SHG laser is deteriorated. Was.
[0009]
The present invention has been made in order to solve the above-described problems of the conventional example. A visible light source capable of outputting a predetermined power even in a relatively moderate temperature control environment and improving the yield, and It is an object of the present invention to provide an optical scanning apparatus and a digital photo processing apparatus using the above.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a visible light source according to the present invention is a visible light source that introduces output light from a semiconductor laser into an optical waveguide type wavelength conversion element to generate a second harmonic , An optical switch element for branching the output light is provided between the optical waveguide type wavelength conversion element and each of the optical waveguide type wavelength conversion elements has a plurality of optical waveguides having different peak wavelengths of second harmonic conversion efficiency. It has a light switching element is characterized in that it is intended to select a waveguide for introducing the output light in accordance with the temperature of the semiconductor laser.
[0011]
In the above configuration, it is preferable that output light from the semiconductor laser is simultaneously introduced into a plurality of optical waveguides of the optical waveguide type wavelength conversion element, and second harmonics converted by the optical waveguides are simultaneously output.
[0012]
On the other hand, the optical scanning device of the present invention scans a beam in a second direction perpendicular to the first direction with respect to the medium to be exposed conveyed in a predetermined first direction, and exposes the medium to be exposed. In the scanning device, any one of the visible light sources described above is used as the light source of the beam.
[0013]
The digital photographic processing apparatus of the present invention is characterized in that the optical scanning device is an exposure device.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of a visible light source according to the present invention, an optical scanning apparatus and a photo processing apparatus using the same will be described.
[0015]
FIG. 1 shows the appearance of the photographic processing apparatus according to this embodiment. This photographic processing apparatus includes an
[0016]
The inside of the
[0017]
A detailed configuration of the laser
[0018]
As the R
[0019]
The SHG laser uses a laser as a light source, but is not a laser light source because it does not use optical resonance at the time of wavelength conversion. Further, the green SHG light and the blue SHG light output from the G
[0020]
Three sets of the
[0021]
Next, the G
[0022]
In the first configuration example, for example, a laser
[0023]
For example, when outputting blue SHG light having a wavelength of 470 nm, a DBR semiconductor laser having a fundamental oscillation frequency of 940 nm is used as the
[0024]
The number of branches of the laser beam by the
[0025]
The
[0026]
For example, as shown in FIG. 4, the optical waveguide type
[0027]
The
[0028]
Thus, according to the first configuration example, the temperature of the
[0029]
Next, a second configuration example of the SHG laser in the present embodiment is shown in FIG. In the second configuration example, the
[0030]
In the above embodiment, a plurality of optical waveguide type wavelength conversion elements each having a different phase matching wavelength corresponding to variations in the fundamental oscillation wavelength due to the temperature change of the semiconductor laser are prepared, and the optimum optical waveguide type according to the temperature change. The case where SHG light having a constant power is output by selecting a wavelength conversion element has been described, but the present invention is not limited to this, and individual differences between mass-produced semiconductor lasers and optical waveguide type wavelength conversion elements are explained. The present invention can also be applied when correcting the resulting power drop of SHG light.
[0031]
For example, the fundamental oscillation wavelength of a semiconductor laser at a specific temperature is set to 940 nm. Actually, there is a possibility that the fundamental oscillation wavelength at the specific temperature is 939 nm or 941 nm due to individual differences of semiconductor lasers. In such a case, a plurality of optical waveguide type wavelength conversion elements each having a different phase matching wavelength may be prepared, and a condition that maximizes the power of SHG light may be selected by operating the optical switch element. Alternatively, an SHG laser may be assembled by selecting an optimal combination of a semiconductor laser and an optical waveguide type wavelength conversion element. The same applies to the individual differences of the optical waveguide type wavelength conversion elements.
[0032]
In the above embodiment, a plurality of optical waveguide wavelength conversion elements each having a different phase matching wavelength (peak wavelength of the second harmonic conversion efficiency) are prepared, but a plurality of different phase matching wavelengths are provided on one element. An optical waveguide may be formed. In addition, in claim 1 described above, “the optical waveguide type wavelength conversion element has a plurality of optical waveguides each having a different peak wavelength of the second harmonic conversion efficiency” is described. Needless to say, this includes both a case where a plurality of optical waveguide type wavelength conversion elements having different phase matching wavelengths are prepared and a case where a plurality of optical waveguides having different phase matching wavelengths are formed on one element.
[0033]
Furthermore, in the above-described embodiment, the laser beam scanning unit is used in the photographic processing apparatus. However, the present invention is not limited to this, and can be used as an exposure apparatus such as a color laser processing apparatus.
[0034]
【The invention's effect】
As described above, the visible light source of the present invention, even if variations in the basic oscillation wavelength of the laser beam output from the semiconductor laser by temperature changes, variations and of the optical waveguide type wavelength conversion element corresponding to the basic oscillation wavelength By selecting a waveguide, it is possible to output SHG light that has been subjected to second harmonic conversion with light efficiency.
[0035]
Further, since a certain amount of temperature change can be allowed with respect to the temperature of the semiconductor laser, it is possible to relax, for example, the temperature condition that has conventionally been controlled to about ± 0.1 ° C. to about ± 0.5 ° C. . As a result, the application range of the visible light source can be expanded, and the cost of the apparatus using the visible light source can be reduced.
[0036]
In addition , by selecting an optical waveguide that introduces the output light according to the temperature of the semiconductor laser by an optical switch element , a temperature sensor and a control circuit are required, but the utilization efficiency of the laser beam output from the semiconductor laser is required. SHG light having a constant power can always be output without lowering.
[0037]
On the other hand, the optical scanning device of the present invention scans a beam in a second direction perpendicular to the first direction with respect to the medium to be exposed conveyed in a predetermined first direction, and exposes the medium to be exposed. Since the visible light source according to any one of the above is a light source of the beam, the medium to be exposed (for example, a photographic paper or a photosensitive member) with a certain power while allowing a temperature change of the visible light source to some extent. Drums, etc.) can be exposed.
[0038]
Furthermore, in the digital photographic processing apparatus of the present invention, since the optical scanning device is an exposure device, the visible light source is used as a G light source and a B light source among R, G, and B light sources that are three primary colors. The beam of each color can be output with stable power.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an external configuration of a digital photo processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a laser beam scanning unit (optical scanning device) in an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a first configuration example of an SHG laser in the embodiment.
FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of an optical waveguide type wavelength conversion element in the SHG laser in the embodiment.
FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a second configuration example of the SHG laser in the embodiment.
FIG. 6 is a diagram showing an example of a variation in temperature and variation in oscillation wavelength of a semiconductor laser.
[Explanation of symbols]
100: Laser beam scanning unit (optical scanning device)
104R: R
208: Optical waveguide device
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