JP3917313B2 - Transfer jig for semiconductor manufacturing products - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、たとえば半導体ウェハ、あるいは液晶パネルなどといった平板型の半導体製造品を製造工程間にて搬送する際に用いられる半導体製造品の搬送治具に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば半導体ウェハ、あるいは液晶パネルなど(以下、これらを総称して「半導体製造品」という)の製造工程においては、各種のプロセス処理が行われ、そのなかの一つには、半導体製造品を回転させた状態で粘性を有する粘液により表面に塗布膜を形成する工程がある。そうした塗布膜形成工程から次の製造工程へと半導体製造品を搬送する際には、図9および図10に示す部材を備えた搬送治具が用いられる。
【0003】
図9は、従来における半導体製造品の搬送治具の一例を示した外観斜視図、図10は、図9に示す搬送治具の主要部を拡大して示した拡大図であって、これらの図に示すように、従来の搬送治具Xにおいては、表面W1に粘液(図示省略)が付着した半導体ウェハWを水平に保ちながら製造工程間を搬送する際、その半導体ウェハWの外周部W2を3箇所にわたって加担支持するガイド部材100が備えられている。各ガイド部材100は、円周方向に沿って互いに等角をなすようにC字型のアーム部材110に固定され、このアーム部材110の内周部X1は、半導体ウェハWを収容すべく開放されている。また、半導体ウェハWに接するガイド部材100の接触面100aは、図10に示すように、下方に向かうにつれて半導体ウェハWの中心側に進出する姿勢の斜辺形状に形成されており、ガイド部材100に接した半導体ウェハWは、上方に向けてガイド部材100から離脱可能とされている。さらに詳しく言えば、ガイド部材100の接触面100aは、円周方向に沿って円弧状に形成され、そうした接触面100aに対して半導体ウェハWの外周部W2が線接触した状態とされる。なお、各ガイド部材100には、半導体ウェハWの下面を支持する補助部材120が一体化されている。
【0004】
つまり、粘液が付着した状態の半導体ウェハWを受け渡しする箇所においては、ガイド部材100に着座した姿勢の半導体ウェハWが水平に保持され、アーム部材110の内周部X1下方から3本のピン130が突き上げられる。すると、半導体ウェハWの下面に各ピン130の先端130aが当接することにより、水平姿勢に維持された半導体ウェハWは、ガイド部材100から離脱してそのまま上方に持ち上げられる。そうした後、アーム部材110と一体となってガイド部材100が取り除かれ、ピン130の先端130aに保持された状態で半導体ウェハWが取り残される。最終的に半導体ウェハWは、図示しない他の搬送機構などによって次の処理工程へと移送され、処理を終えた後、再びピン130の先端130aに載せ置かれた後、先の離脱順序とは逆の手順にてガイド部材100に着座した状態とされる。以上のようにして半導体ウェハWは、搬送治具Xにより各製造工程間を搬送される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の半導体製造品の搬送治具Xでは、粘液が付着した状態の半導体ウェハWを搬送することができるが、このような粘液として高粘度のものが使用される場合がある。この粘液は、搬送時に際して半導体ウェハWの外周部W2まで達し、そうした場合、半導体ウェハWをガイド部材100から離脱させる際、その半導体ウェハWの外周部W2に付着した粘液がガイド部材100の接触面100aに糸引き状に粘り着くので、その離脱に失敗するという難点があった。このように高粘度の粘液がガイド部材100の接触面100aに粘り着く原因は、その接触面100aに対して半導体ウェハWの外周部W2が線接触するためと考えられる。
【0006】
本願発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、粘液が付着した半導体製造品を搬送する際、その粘液の粘性の影響を受けることなく半導体製造品を確実に受け渡しすることができる半導体製造品の搬送治具を提供することをその課題とする。
【0007】
【発明の開示】
上記課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【0008】
すなわち、本願発明により提供される半導体製造品の搬送治具は、粘液が付着した平板型の半導体製造品を水平に保ちながら製造工程間を搬送する際、その半導体製造品の外周部を各所にわたって加担支持するガイド部材を備えた半導体製造品の搬送治具であって、上記半導体製造品の外周部に接する上記ガイド部材の接触部分には、その外周部に沿って交互に凹凸状とした歯列部が複数形成され、そうした歯列部の上下方向に沿う外形は、下方に向かうにつれて上記半導体製造品の中心側に進出するとともに凹に湾曲する姿勢の斜辺形状に形成されていることを特徴としている。
【0009】
上記技術的手段が講じられた本願発明により提供される半導体製造品の搬送治具によれば、外周部に粘液が付着した状態の半導体製造品を搬送する際、その外周部とガイド部材の接触部分とが粘液を介して接触した状態とされる。そうしたガイド部材の接触部分においては、外周部に沿って交互に凹凸状とした歯列部が複数形成されているので、半導体製造品の外周部が歯列部に点接触した状態となって粘液の粘り着く力が弱められることとなり、半導体製造品を上方に押し上げるようにして難なくガイド部材から離脱させることができ、粘液の粘性の影響を受けることなく半導体製造品を確実に受け渡しすることができる。
【0010】
好ましい実施の形態としては、上記半導体製造品を製造工程間にて受け渡しする箇所には、上記ガイド部材に対して上記半導体製造品を着座・離脱可能とするために、その半導体製造品の下面各所に当接して上下動するピンが4本以上設けられている構成とすることができる。
【0011】
このような構成によれば、半導体製造品を受け渡し箇所においては、ガイド部材に着座した姿勢の半導体製造品が水平に保持され、下方から4本以上のピンが突き上げられる。すると、半導体製造品の下面に各ピンの先端が当接することとなり、水平姿勢に保持された状態の半導体製造品は、ガイド部材から離脱してそのまま上方に持ち上げられる。この際、4本以上のピンによっては、最低限必要な3本のピンとした場合に比べてより安定した水平姿勢で半導体製造品を保持することができ、半導体製造品をガイド部材から離脱させた後においても確実に半導体製造品を受け渡しすることができる。
【0012】
本願発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。
【0014】
図1は、本願発明にかかる半導体製造品の搬送治具の一実施形態を示した外観斜視図、図2は、図1に示す搬送治具の主要部を拡大して示した拡大図、図3は、図2に示す主要部の上面を示した平面図、図4は、図1に示すI−I線に沿って切断した主要部断面を示した断面図である。なお、各図においては、本願発明の特徴となる部分のみを明示し、その他の周知とされる部材については図示省略する。
【0015】
図1ないし図4に示すように、本願発明にかかる半導体製造品の搬送治具Aは、互いに一体となったガイド部材10、アーム部材11、および補助部材12と、これらとは別に設けられた4本のピン13とを具備して概略構成されている。
【0016】
各製造工程間にて搬送すべき半導体製造品としては、円形平板型の半導体ウェハWが用いられる。この半導体ウェハWは、所定の製造工程において塗布膜を形成するために、たとえば900cP(センチポアズ)程度の高粘度を有する粘液M(図4参照)が表面W1に回転塗布されたものである。具体的にこのような粘液Mとしては、金めっきバンプ形成のためのフォトレジスト、層間絶縁膜となるSOG(spin on glass)膜形成のための溶液、あるいはパシベーション膜形成のためのポリイミド樹脂などによる溶液が挙げられる。粘液Mが回転塗布された半導体ウェハWは、その塗布工程の後、不要な外周部W2や裏面部分に付着した粘液Mをリンス溶剤によって洗浄されるが、それによっても完全に洗浄することができず、図4に示すようにある程度の粘液Mが外周部W2や裏面部分に残った状態となる。このような洗浄工程から次の焼成工程などへと半導体ウェハWを搬送する際に搬送治具Aが用いられる。
【0017】
搬送治具Aは、粘液Mが付着した半導体ウェハWを水平に保ちながら製造工程間を搬送する際、その半導体ウェハWの外周部W2を3箇所にわたって加担支持するガイド部材10を備えている。各ガイド部材10は、円周方向に沿って互いに等角をなすようにC字型のアーム部材11に固定され、このアーム部材11の内周部A1は、半導体ウェハWを収容すべく開放されている。このようなガイド部材10は、たとえばテフロンなどを材質として構成されている。また、アーム部材11の一部分には、それ自体が水平にスライド移動する際、後述するピン13が内周部A1に位置した状態から外部へと脱出可能となるように、大きく開口した開口部11aが設けられている。このようなアーム部材11は、図示しない基端側に連結された駆動機構などを介して水平にスライド移動可能とされている。さらに、各ガイド部材10の下端側においては、内周部A1側へと延伸する恰好の補助部材12が一体化されており、この補助部材12の先端突起部12aに下面を接した状態で半導体ウェハWが載せ置かれる。一方、ピン13は、アーム部材11などとは別に鉛直方向に沿って上下動可能とされ、各ピン13は、半導体ウェハWを受け渡しする箇所の定位置に配置されている。また、各ピン13の先端13aは、半導体ウェハWの下面と接するために、互いに等しい高さをもってたとえばテフロンなどを材質として構成されている。なお、ピン13は、4本に限る意味はなく、もちろんそれ以上の本数によって構成されていても良い。
【0018】
さらに、要点について詳しく説明すると、半導体ウェハWの外周部W2に接するガイド部材10の接触部分には、図2ないし図4によく示すように、その外周部W2の円弧形状に沿って交互に凸部10aaと凹部10abを並べた円弧状の歯列部10aが形成されている。そうした歯列部10aの上下方向に沿った最外形部分となる凸部10aa先端は、図4によく示すように、下方に向かうにつれて半導体ウェハWの中心側に進出する姿勢で、若干凹状に湾曲した断面斜辺形状に形成されている。これにより、各ガイド部材10に接する半導体ウェハWは、各ガイド部材10の歯列部10aに対して上方から着座可能とされる一方、上方に向けて離脱可能とされている。また、各ガイド部材10に半導体ウェハWが接した状態では、図3および図4によく示すように、上記歯列部10aの凸部10aa先端に半導体ウェハWの外周部W2が点接触した状態とされる。
【0019】
次に、上記構成を有する搬送治具Aの動作について、適宜図面を参照して説明する。
【0020】
図5および図6は、搬送治具Aの動作を説明するために示した説明図であって、各図においては、半導体ウェハWの受け渡し箇所における搬送治具Aの動作状態が示されている。
【0021】
まず、図1に示すように、粘液M(図1においては図示省略)が付着した状態の半導体ウェハWを受け渡しする箇所においては、ガイド部材10に着座した姿勢の半導体ウェハWが水平に保持され状態で、アーム部材11のスライド移動によってピン13の先端13aより上方に搬送されてくる。この際、半導体ウェハWの下面側においては、その下面の4箇所に面して4本のピン13が位置した状態とされる。
【0022】
そうした後、図5に示すように、停止状態とされたアーム部材11の内周部A1下方から各ピン13が同時に突き上げられる。すると、半導体ウェハWの下面に各ピン13の先端13aが当接することにより、水平姿勢に維持された半導体ウェハWは、ガイド部材10から離脱してそのまま上方に持ち上げられる。
【0023】
この際、図4に示すように、半導体ウェハWの外周部W2とガイド部材10の歯列部10aとは、粘液Mを介して接触した状態にあることから、その粘液Mの粘り着く力によって離脱動作が妨げられることとなる。しかしながら、外周部W2と歯列部10aとは点接触した状態にあり、そのような接触部分において粘液Mが点状に付着した状態とされるため、粘液Mによる粘着力が線接触した状態などに比べてはるかに弱められ、半導体ウェハWは、ガイド部材10に接した状態から簡単に上方へと離脱される。また、4本のピン13によって下面を保持される半導体ウェハWは、最低限必要な3本のピンとした場合に比べてより安定した水平姿勢を保ちつつ保持される。
【0024】
さらにその後、図6に示すように、アーム部材11は、図中白抜き矢印で示す方向にスライド移動して後退し、ガイド部材10および補助部材12が一体となって半導体ウェハWの下面から取り除かれる。この際、アーム部材11は、開口部11aを通じて定位置にある各ピン13と接触することなくスライド移動される。そうすると、半導体ウェハWは、各ピン13の先端13aに保持された状態で取り残された状態となる。そうした状態から最終的に半導体ウェハWは、図示しない他の搬送機構などによって次の焼成工程などに移送され、処理を終えた後、再びピン13の先端13aに載せ置かれた後、先の離脱順序とは逆の手順にてガイド部材10に着座した状態とされる。以上のような搬送治具Aの一連の動作により、半導体ウェハWは、各製造工程間をスムーズに安定して搬送されることとなる。
【0025】
したがって、上記構成、動作を有する搬送治具Aによれば、外周部W2に粘液Mが付着した状態の半導体ウェハWを搬送する際、その外周部W2とガイド部材10の歯列部10aとが粘液Mを介して接触した状態とされる。そうしたガイド部材10の歯列部10aにおいては、外周部W2に沿って交互に円弧状とした凸部10aaと凹部10abが形成されているので、半導体ウェハWの外周部W2が凸部10aa先端に点接触した状態となって粘液Mの粘り着く力が弱められ、半導体ウェハWを上方に押し上げるようにして難なくガイド部材10から離脱させることができ、粘液Mの粘性の影響を受けることなく半導体ウェハWを確実に受け渡しすることができる。
【0026】
さらにまた、上記実施形態とは異なる他の実施形態としては、図7または図8に示すような搬送治具B,Cも構成可能である。
【0027】
図7は、本願発明にかかる搬送治具の他の実施形態を示した平面図である。この他の実施形態にかかる搬送治具Bについて簡単に説明すると、搬送治具Bにおいて上記先の実施形態にかかる搬送治具Aと異なる点は、ガイド部材20がアーム部材21に沿って全体に設けられている点にある。このような搬送治具Bにおいては、アーム部材21の開口部21aを除く円周部分に沿って半導体ウェハWの外周部W2とガイド部材20の歯列部20aとが接した状態とされる。こうした連続状の接触状態によっても、上記外周部W2と歯列部20aとは、その歯列部20aが凹凸状とされていることで点接触した状態となり、上記先の実施形態にかかる搬送治具Aと同様の効果を発揮することができる。
【0028】
また、図8は、本願発明にかかる搬送治具のさらに他の実施形態を示した平面図である。この図に示す搬送治具Cについて簡単に説明すると、搬送治具Cは、上記先の実施形態にかかる搬送治具A,Bとは異なり、搬送すべき半導体製造品を矩形平板型の液晶パネルPとしたものである。そのため、上記搬送治具A,Bにおけるガイド部材10,20、およびアーム部材11,21の外形形状の点において若干異なるものとされている。つまり、ガイド部材30は、液晶パネルPの各辺P1〜P4に沿った形状に形成され、各ガイド部材30は、各辺P1〜P4に接して液晶パネルPを安定的に保持するために、矩形枠型のアーム部材31の4辺各部にわたって一体化されている。このような搬送治具Cにおいても、液晶パネルPの各辺P1〜P4とガイド部材30の歯列部30aとは、その歯列部30aが凹凸状とされることで点接触した状態となり、上記先の実施形態にかかる搬送治具A,Bと同様の効果を発揮することができる。なお、搬送治具Cを用いて液晶パネルPを受け渡しする際の動作は、上記搬送治具Aの場合と若干異なり、図示しない複数のピンによって液晶パネルPを持ち上げ、これらピンの先端から液晶パネルPが取り去られた後、アーム部材31の下方までピンが下げられてからアーム部材31がスライド移動可能とされる。
【0029】
なお、上記搬送治具B,Cにおける歯列部20,30の断面形状は、図4に示す断面形状と同一視されるものであり、このことから他の実施形態においても、先の実施形態と同様の効果を発揮するのは明らかといえよう。
【0030】
以上説明した上記各実施形態においては、半導体ウェハWあるいは液晶パネルPを搬送するための搬送治具A,B,Cについて説明したが、搬送すべき半導体製造品をそのようなものに限ることなく、その他の半導体製造品について本願発明を適用できることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明にかかる半導体製造品の搬送治具の一実施形態を示した外観斜視図である。
【図2】図1に示す搬送治具の主要部を拡大して示した拡大図である。
【図3】図2に示す主要部の上面を示した平面図である。
【図4】図1に示すI−I線に沿って切断した主要部断面を示した断面図である。
【図5】搬送治具の動作を説明するために示した説明図である。
【図6】搬送治具の動作を説明するために示した説明図である。
【図7】本願発明にかかる搬送治具の他の実施形態を示した平面図である。
【図8】本願発明にかかる搬送治具のさらに他の実施形態を示した平面図である。
【図9】従来における半導体製造品の搬送治具の一例を示した外観斜視図である。
【図10】図9に示す搬送治具の主要部を拡大して示した拡大図である。
【符号の説明】
10,20,30 ガイド部材
10a,20a,30a 歯列部
11,21,31 アーム部材
12 補助部材
13 ピン
A,B,C 搬送治具
M 粘液
W 半導体ウェハ(半導体製造品)
W2 外周部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor product transport jig used when transporting a flat semiconductor product such as a semiconductor wafer or a liquid crystal panel between manufacturing processes.
[0002]
[Prior art]
For example, in the manufacturing process of semiconductor wafers or liquid crystal panels (hereinafter collectively referred to as “semiconductor manufactured products”), various process treatments are performed, and one of them is the rotation of a semiconductor manufactured product. There is a step of forming a coating film on the surface with a viscous mucus in a state of being allowed to stand. When a semiconductor product is transported from such a coating film forming process to the next manufacturing process, a transport jig having the members shown in FIGS. 9 and 10 is used.
[0003]
FIG. 9 is an external perspective view showing an example of a conventional jig for transporting a semiconductor product, and FIG. 10 is an enlarged view showing an enlarged main part of the transport jig shown in FIG. As shown in the drawing, in the conventional transfer jig X, when the semiconductor wafer W having mucus (not shown) attached to the surface W1 is transferred between manufacturing processes while being kept horizontal, the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W is shown. The guide member 100 is provided to support and support at three locations. Each guide member 100 is fixed to a C-shaped arm member 110 so as to be equiangular with each other along the circumferential direction, and an inner peripheral portion X1 of the arm member 110 is opened to accommodate the semiconductor wafer W. ing. Further, as shown in FIG. 10, the contact surface 100 a of the guide member 100 in contact with the semiconductor wafer W is formed in a hypotenuse shape with a posture that advances toward the center side of the semiconductor wafer W as it goes downward. The contacted semiconductor wafer W can be detached from the guide member 100 upward. More specifically, the contact surface 100a of the guide member 100 is formed in an arc shape along the circumferential direction, and the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W is in line contact with the contact surface 100a. Each guide member 100 is integrated with an auxiliary member 120 that supports the lower surface of the semiconductor wafer W.
[0004]
That is, at the location where the semiconductor wafer W with mucus attached is delivered, the semiconductor wafer W in a posture seated on the guide member 100 is held horizontally, and the three pins 130 from below the inner peripheral portion X1 of the arm member 110 are held. Is pushed up. Then, when the tip 130a of each pin 130 comes into contact with the lower surface of the semiconductor wafer W, the semiconductor wafer W maintained in the horizontal posture is detached from the guide member 100 and lifted upward as it is. After that, the guide member 100 is removed together with the arm member 110, and the semiconductor wafer W is left in a state of being held at the tip 130a of the pin 130. Finally, the semiconductor wafer W is transferred to the next processing step by another transfer mechanism (not shown), and after the processing is finished, the semiconductor wafer W is placed on the tip 130a of the pin 130 again, and then the previous separation order is It is in a state of being seated on the guide member 100 in the reverse procedure. As described above, the semiconductor wafer W is transferred between the manufacturing steps by the transfer jig X.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, although the conventional semiconductor manufacturing product transport jig X can transport the semiconductor wafer W in a state where mucus is adhered, a highly viscous one may be used as such mucus. The mucus reaches the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W during transportation. In such a case, the mucus adhering to the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W contacts the guide member 100 when the semiconductor wafer W is detached from the guide member 100. Since the surface 100a sticks to the surface 100a in a string-like manner, there has been a problem that the separation fails. The reason why the highly viscous mucus sticks to the contact surface 100a of the guide member 100 is considered to be because the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W is in line contact with the contact surface 100a.
[0006]
The present invention has been conceived under the circumstances described above, and when a semiconductor product with mucus adhered is conveyed, the semiconductor product is reliably delivered without being affected by the viscosity of the mucus. It is an object of the present invention to provide a transfer jig for semiconductor manufactured products.
[0007]
DISCLOSURE OF THE INVENTION
In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means.
[0008]
That is, when the semiconductor product transport jig provided by the present invention transports between the manufacturing processes while keeping the flat plate semiconductor product with mucus adhering horizontally, the outer periphery of the semiconductor product is spread over various places. A jig for transporting a semiconductor product having a guide member for supporting and supporting, wherein the contact portion of the guide member that contacts the outer periphery of the semiconductor product has teeth that are alternately uneven along the outer periphery. A plurality of rows are formed, and the outer shape along the vertical direction of the teeth row is formed in a hypotenuse shape with a posture that advances toward the center of the semiconductor product and curves concavely as it goes downward. It is said.
[0009]
According to the semiconductor product transport jig provided by the present invention in which the above technical measures are taken, when transporting a semiconductor product with mucus adhering to the outer periphery, the contact between the outer periphery and the guide member The part is in contact with the mucus. In the contact portion of such a guide member, a plurality of tooth rows that are alternately uneven along the outer periphery are formed, so that the outer periphery of the semiconductor manufactured product is in a point contact state with the tooth row. As a result, the sticking force of the semiconductor product is weakened, and the semiconductor product can be lifted upward without difficulty and can be removed from the guide member without difficulty, and the semiconductor product can be reliably delivered without being affected by the viscosity of the mucus. .
[0010]
As a preferred embodiment, at the place where the semiconductor product is delivered between the manufacturing processes, the semiconductor product is placed on and removed from the guide member so that the semiconductor product can be seated on and removed from the guide member. It is possible to employ a configuration in which four or more pins that move up and down in abutment are provided.
[0011]
According to such a configuration, at the delivery location of the semiconductor product, the semiconductor product in a posture seated on the guide member is held horizontally, and four or more pins are pushed up from below. Then, the tip of each pin comes into contact with the lower surface of the semiconductor manufactured product, and the semiconductor manufactured product held in a horizontal posture is detached from the guide member and lifted upward as it is. At this time, depending on the number of four or more pins, the semiconductor manufactured product can be held in a more stable horizontal posture than in the case where the minimum required three pins are used, and the semiconductor manufactured product is detached from the guide member. Even afterward, it is possible to reliably deliver the semiconductor product.
[0012]
Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
[0014]
FIG. 1 is an external perspective view showing an embodiment of a transport jig for a semiconductor manufactured product according to the present invention. FIG. 2 is an enlarged view showing an enlarged main part of the transport jig shown in FIG. 3 is a plan view showing the top surface of the main part shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing a cross section of the main part taken along the line II shown in FIG. In each drawing, only the part that is a feature of the present invention is clearly shown, and other well-known members are not shown.
[0015]
As shown in FIGS. 1 to 4, a transport jig A for a semiconductor product according to the present invention is provided separately from a guide member 10, an arm member 11, and an auxiliary member 12 that are integrated with each other. It is schematically configured to include four pins 13.
[0016]
A circular flat semiconductor wafer W is used as a semiconductor manufactured product to be transported between manufacturing steps. This semiconductor wafer W is obtained by spin-coating the surface W1 with mucus M (see FIG. 4) having a high viscosity of, for example, about 900 cP (centipoise) in order to form a coating film in a predetermined manufacturing process. Specifically, the mucus M is made of a photoresist for forming gold plating bumps, a solution for forming an SOG (spin on glass) film as an interlayer insulating film, or a polyimide resin for forming a passivation film. A solution. The semiconductor wafer W on which the mucus M has been spin-coated is washed with an unnecessary mucus M adhering to the outer peripheral portion W2 and the back surface portion with a rinsing solvent after the coating process. As shown in FIG. 4, a certain amount of mucus M remains in the outer peripheral portion W2 and the back surface portion. The transfer jig A is used when transferring the semiconductor wafer W from such a cleaning process to the next baking process or the like.
[0017]
The transport jig A includes a guide member 10 that supports and supports the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W at three locations when the semiconductor wafer W to which the mucus M adheres is transported between manufacturing processes while being kept horizontal. Each guide member 10 is fixed to a C-shaped arm member 11 so as to be equiangular with each other along the circumferential direction, and an inner peripheral portion A1 of the arm member 11 is opened to accommodate the semiconductor wafer W. ing. Such a guide member 10 is made of, for example, Teflon. In addition, a part of the arm member 11 has a large opening 11a so that a pin 13 (described later) can escape from a state where the pin 13 is positioned on the inner peripheral part A1 when the arm member 11 slides horizontally. Is provided. Such an arm member 11 can be slid horizontally through a drive mechanism or the like connected to a proximal end (not shown). Further, on the lower end side of each guide member 10, a preferred auxiliary member 12 extending to the inner peripheral portion A1 side is integrated, and the semiconductor is in a state where the lower surface is in contact with the tip protrusion 12a of the auxiliary member 12. A wafer W is placed. On the other hand, the pins 13 can be moved up and down along the vertical direction separately from the arm member 11 and the like, and each pin 13 is disposed at a fixed position at a location where the semiconductor wafer W is delivered. Further, the tip 13a of each pin 13 is made of, for example, Teflon or the like with the same height so as to be in contact with the lower surface of the semiconductor wafer W. Note that the number of pins 13 is not limited to four, and of course, the number of pins 13 may be more than that.
[0018]
Further, the main point will be described in detail. The contact portion of the guide member 10 in contact with the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W protrudes alternately along the arc shape of the outer peripheral portion W2, as well shown in FIGS. An arcuate tooth row portion 10a in which the portion 10aa and the concave portion 10ab are arranged is formed. The tip of the convex portion 10aa, which is the outermost portion along the vertical direction of the tooth row portion 10a, is curved slightly concavely in a posture that advances toward the center of the semiconductor wafer W as it goes downward as shown in FIG. The cross-sectional oblique side shape is formed. Thereby, the semiconductor wafer W in contact with each guide member 10 can be seated from above with respect to the tooth row portion 10a of each guide member 10, and can be detached upward. In the state where the semiconductor wafer W is in contact with each guide member 10, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W is in point contact with the tip of the convex portion 10aa of the tooth row portion 10a. It is said.
[0019]
Next, the operation of the conveying jig A having the above configuration will be described with reference to the drawings as appropriate.
[0020]
5 and 6 are explanatory views shown for explaining the operation of the transfer jig A. In each drawing, the operation state of the transfer jig A at the delivery position of the semiconductor wafer W is shown. .
[0021]
First, as shown in FIG. 1, the semiconductor wafer W seated on the guide member 10 is held horizontally at a location where the semiconductor wafer W with mucus M (not shown in FIG. 1) is delivered. In this state, the arm member 11 is transported upward from the tip 13a of the pin 13 by the sliding movement. At this time, on the lower surface side of the semiconductor wafer W, the four pins 13 are located facing four locations on the lower surface.
[0022]
After that, as shown in FIG. 5, the pins 13 are pushed up simultaneously from below the inner peripheral portion A1 of the arm member 11 in the stopped state. Then, the tip 13a of each pin 13 comes into contact with the lower surface of the semiconductor wafer W, so that the semiconductor wafer W maintained in the horizontal posture is detached from the guide member 10 and lifted up as it is.
[0023]
At this time, as shown in FIG. 4, the outer peripheral portion W <b> 2 of the semiconductor wafer W and the tooth row portion 10 a of the guide member 10 are in contact with each other through the mucus M. The disengagement operation is hindered. However, since the outer peripheral portion W2 and the dentition portion 10a are in a point contact state, and the mucus M is attached in a point-like manner at such a contact portion, the state where the adhesive force by the mucus M is in line contact, etc. The semiconductor wafer W is easily detached from the state in contact with the guide member 10 upward. Further, the semiconductor wafer W whose lower surface is held by the four pins 13 is held while maintaining a more stable horizontal posture as compared with a case where the minimum required three pins are used.
[0024]
Thereafter, as shown in FIG. 6, the arm member 11 slides back in the direction indicated by the white arrow in the figure, and the guide member 10 and the auxiliary member 12 are integrally removed from the lower surface of the semiconductor wafer W. It is. At this time, the arm member 11 is slid and moved without contacting each pin 13 in a fixed position through the opening 11a. If it does so, the semiconductor wafer W will be in the state left behind in the state hold | maintained at the front-end | tip 13a of each pin 13. FIG. From such a state, the semiconductor wafer W is finally transferred to the next baking step or the like by another transfer mechanism (not shown), and after the processing is finished, the semiconductor wafer W is placed on the tip 13a of the pin 13 again, and then the previous separation. The guide member 10 is placed in a state reverse to the order. By the series of operations of the transfer jig A as described above, the semiconductor wafer W is transferred smoothly and stably between the manufacturing steps.
[0025]
Therefore, according to the transport jig A having the above-described configuration and operation, when transporting the semiconductor wafer W with the mucus M attached to the outer peripheral portion W2, the outer peripheral portion W2 and the tooth row portion 10a of the guide member 10 are It is in a state of contact through the mucus M. In the tooth row portion 10a of such a guide member 10, convex portions 10aa and concave portions 10ab alternately formed in an arc shape are formed along the outer peripheral portion W2, so that the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W is at the tip of the convex portion 10aa. The sticking force of the mucus M in a point contact state is weakened, and the semiconductor wafer W can be released from the guide member 10 without difficulty so as to push up the semiconductor wafer W, and the semiconductor wafer is not affected by the viscosity of the mucus M. W can be reliably delivered.
[0026]
Furthermore, as another embodiment different from the above embodiment, conveyance jigs B and C as shown in FIG. 7 or FIG. 8 can be configured.
[0027]
FIG. 7 is a plan view showing another embodiment of the conveying jig according to the present invention. Briefly describing the conveying jig B according to the other embodiment, the difference between the conveying jig B and the conveying jig A according to the previous embodiment is that the guide member 20 is entirely along the arm member 21. It is in the point provided. In such a conveying jig B, the outer peripheral portion W2 of the semiconductor wafer W and the tooth row portion 20a of the guide member 20 are in contact with each other along the circumferential portion excluding the opening 21a of the arm member 21. Even in such a continuous contact state, the outer peripheral portion W2 and the dentition portion 20a are in a point contact state because the dentition portion 20a is uneven, and the conveyance treatment according to the previous embodiment is performed. The same effect as the tool A can be exhibited.
[0028]
FIG. 8 is a plan view showing still another embodiment of the conveying jig according to the present invention. Briefly describing the transfer jig C shown in this figure, the transfer jig C is different from the transfer jigs A and B according to the above-described embodiment, and a semiconductor product to be transferred is a rectangular flat liquid crystal panel. P. For this reason, the guide members 10 and 20 and the arm members 11 and 21 in the conveying jigs A and B are slightly different in terms of the external shapes. That is, the guide member 30 is formed in a shape along each side P1 to P4 of the liquid crystal panel P, and each guide member 30 is in contact with each side P1 to P4 to stably hold the liquid crystal panel P. The rectangular frame-type arm member 31 is integrated over each part of the four sides. Even in such a conveying jig C, the sides P1 to P4 of the liquid crystal panel P and the tooth row portion 30a of the guide member 30 are in a point contact state because the tooth row portion 30a is uneven. The same effects as those of the conveying jigs A and B according to the previous embodiment can be exhibited. The operation when the liquid crystal panel P is delivered using the transport jig C is slightly different from the case of the transport jig A. The liquid crystal panel P is lifted by a plurality of pins (not shown), and the liquid crystal panel is moved from the tips of these pins. After P is removed, the arm member 31 is slidable after the pin is lowered to below the arm member 31.
[0029]
In addition, the cross-sectional shape of the dentition portions 20 and 30 in the conveying jigs B and C is the same as the cross-sectional shape shown in FIG. 4, and therefore, in other embodiments, the previous embodiment It is clear that the same effect is exhibited.
[0030]
In each of the embodiments described above, the transport jigs A, B, and C for transporting the semiconductor wafer W or the liquid crystal panel P have been described. However, the semiconductor manufactured product to be transported is not limited to such. Needless to say, the present invention can be applied to other semiconductor manufactured products.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an external perspective view showing an embodiment of a transport jig for a semiconductor product according to the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view showing an enlarged main part of the conveying jig shown in FIG. 1;
3 is a plan view showing an upper surface of a main part shown in FIG. 2. FIG.
4 is a cross-sectional view showing a cross section of a main part taken along line II shown in FIG. 1. FIG.
FIG. 5 is an explanatory view for explaining the operation of the conveying jig.
FIG. 6 is an explanatory view for explaining the operation of the conveying jig.
FIG. 7 is a plan view showing another embodiment of a conveying jig according to the present invention.
FIG. 8 is a plan view showing still another embodiment of a conveying jig according to the present invention.
FIG. 9 is an external perspective view showing an example of a conventional jig for transporting a semiconductor product.
10 is an enlarged view showing an enlarged main part of the conveying jig shown in FIG. 9;
[Explanation of symbols]
10, 20, 30 Guide members 10a, 20a, 30a Tooth row parts 11, 21, 31 Arm member 12 Auxiliary member 13 Pins A, B, C Transfer jig M Mucus W Semiconductor wafer (semiconductor manufactured product)
W2 outer periphery

Claims (2)

粘液が付着した平板型の半導体製造品を水平に保ちながら製造工程間を搬送する際、その半導体製造品の外周部を各所にわたって加担支持するガイド部材を備えた半導体製造品の搬送治具であって、
上記半導体製造品の外周部に接する上記ガイド部材の接触部分には、その外周部に沿って交互に凹凸状とした歯列部が複数形成され、そうした歯列部の上下方向に沿う外形は、下方に向かうにつれて上記半導体製造品の中心側に進出するとともに凹に湾曲する姿勢の斜辺形状に形成されていることを特徴とする、半導体製造品の搬送治具。
This is a semiconductor manufacturing product transport jig equipped with a guide member that supports the outer peripheral part of the semiconductor manufacturing product in various places when transporting between manufacturing processes while keeping the flat semiconductor product with mucus attached horizontally. And
In the contact portion of the guide member in contact with the outer peripheral portion of the semiconductor manufactured product, a plurality of tooth row portions that are alternately uneven along the outer peripheral portion are formed, and the outer shape along the vertical direction of the tooth row portion is A jig for transporting a semiconductor product, characterized in that the jig is formed in a hypotenuse shape that advances to the center side of the semiconductor product as it goes downward and is curved concavely .
上記半導体製造品を製造工程間にて受け渡しする箇所には、上記ガイド部材に対して上記半導体製造品を着座・離脱可能とするために、その半導体製造品の下面各所に当接して上下動するピンが4本以上設けられている、請求項1に記載の半導体製造品の搬送治具。  In order to allow the semiconductor product to be seated and removed with respect to the guide member, the semiconductor product is moved up and down at locations where the semiconductor product is transferred between manufacturing processes. The semiconductor manufacturing product conveying jig according to claim 1, wherein four or more pins are provided.
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