JP3915253B2 - Method for producing ω-halogenoalkylstyrene derivative - Google Patents

Method for producing ω-halogenoalkylstyrene derivative Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、機能性材料、例えば医薬や農薬を製造する上で重要な有機中間体であるω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法に関する。詳しくは副生するポリマーを効率よく除去することのできるω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、ω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体は、種々の機能剤の原料として使用されている。例えば、医薬(例えば、コレステロール低減剤)、農薬中間体原料、イオン交換樹脂、イオン交換膜、イオン交換繊維、固相合成用担体、コンビナトリアル合成用担体、クロマトグラフィー用(カラム充填剤)担体、キレート樹脂、固定化担体、機能性膜、吸着剤、高性能ポリマー、感光性材料、電導性材料、シランカップリング剤等が挙げられる。
【0003】
ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造法に関しては、多くの提案がなされている。例えば特開平4−349941号公報には、クロロメチルスチレン(CMS)のグリニャール試薬(ビニルベンジルマグネシウムハライド)に1,(ω−1)−ジハロゲノアルカンを作用させ、ω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を合成する方法が、また、J. of Polymer Science and Polymer Chemistry Edition,20巻、1982年 P3015には、クロロスチレンを原料とした3−ブロモプロピルスチレンの合成法が開示されている。
【0004】
しかしながら、この製造法では、目的物のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体は得られるが、目的物のポリマー、ω−ハロゲノアルキルスチレンポリマーがある程度副生する。反応で副生したポリマーを除去する方法としては、通常、カラムクロマトグラフィーや真空蒸留により精製する方法が知られており、これらの方法でも副生ポリマーを除去してハロゲノアルキルスチレン誘導体を高純度で得ることができる。 例えばカラムクロマトグラフィー精製では、ポリマー成分は吸着されるため、溶離した溶液中にはポリマーは含まれない。また真空蒸留精製の場合、通常ポリマー成分はモノマーより沸点が高いため、釜残として最後まで残り簡単に除去することができる。
【0005】
しかしながら、カラム精製では大量に製造する場合には多大の費用(溶媒、充填剤、時間)がかかる。一方、真空蒸留は、ハロゲノアルキルスチレン誘導体を少量取得する場合には可能である。しかし、ハロゲノアルキルスチレンの以下のような性質、つまり、▲1▼スチレン誘導体の沸点が比較的高い、▲2▼スチレン誘導体の熱重合性が高い、▲3▼末端官能基の熱安定性に問題がある、等の性質により、大量に目的物を得るには、(バッチ式)真空蒸留法は好ましくない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
これに対し、薄膜蒸留法はハロゲノアルキルスチレン誘導体のような重合性モノマーを、短い滞留時間で処理するには適している。
しかしながら薄膜蒸留法においてもスチレン誘導体とそのポリマーを分離する工程では、蒸留条件によっては、缶出成分(釜残)にスチレン誘導体が含まれないため、缶出成分の流動性を失い乾固し、ワイパーの攪拌が続けられなくなる。また遠心式薄膜蒸留法でも、濃縮されたポリマーで遠心盤上に液膜が形成しにくくなり、分離性が低下し、蒸留が困難になる。
【0007】
上述した通り公知の方法では、効率よく高純度のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を製造することは困難であった。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ω−ハロゲノアルキルスチレンを製造する方法において、副生するポリマー等の高沸成分を効率よく除去し、ω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を安価で効率的に製造する方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、ω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法において、化学的に安定な高沸点溶媒の存在下に薄膜蒸留精製を行うことにより、釜残成分の流動性を保ちながら、ω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を高純度で回収できることを見い出して本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、高沸成分を含有する下記一般式(1)
【0009】
【化2】
【0010】
(上記一般式中、nは3〜8の整数、Xはハロゲン原子、Rは水素原子、アルキル基或いはハロゲン原子をそれぞれ表す)で表されるω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を、沸点が300℃以上、粘度が25℃で1000cp以下の高沸点溶媒の存在下に薄膜蒸留することを特徴とするω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法、に存する。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体とは、
【0012】
【化3】
【0013】
上記一般式(1)で表される末端にハロゲンを有する直鎖状アルキルスチレン誘導体である。式中の、メチレン鎖数nは3〜8の整数である。式(1)で表される化合物としては、例えば、ブロモプロピルスチレン、ヨードプロピルスチレン、クロロブチルスチレン、ブロモブチルスチレン、クロロペンチルスチレン、ヨードペンチルスチレン、クロロヘキシルスチレン、ブロモヘキシルスチレン、ブロモオクチルスチレン等が挙げられる。
【0014】
これらのスチレン誘導体は、特開平4−349941号公報に開示されている方法等により製造することができる。
例えば、クロロメチル化した母体モノマー(例えばクロルメチルスチレン)に、グリニャール法により、ポリアルキレンジハライドを反応させる方法、またはクロル化した母体モノマー(クロルスチレン)にグリニャール法によりポリアルキレンジハライドを反応する方法等である。
これらの方法により得られる反応物には、目的物のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体とともに、目的物のポリマー、即ちω−ハロゲノアルキルスチレンポリマー等の高沸成分が相当量含有される。
【0015】
本発明においては、上記方法により得られた目的生成物であるハロゲノアルキルスチレン誘導体と副生物であるポリマー等の高沸成分を含有する反応混合物を、薄膜蒸留によりハロゲノアルキルスチレン誘導体を含む溶液とポリマー等の高沸成分とを分離する工程を必須とする。そしてこの薄膜蒸留の際に、薄膜装置の蒸発面で常に液膜が形成できるよう、薄膜装置の蒸発面の塗れ剤として、高沸点溶媒を添加し薄膜蒸留することを特徴とするものである。
【0016】
この目的を達成するため、高沸点溶媒は以下の条件を満たすことが好ましい。
▲1▼高沸点溶媒の沸点が高いこと(少なくとも目的物のスチレン誘導体よりも沸点が高いこと)、▲2▼薄膜蒸留温度・条件(滞留時間)で熱媒体が分解し、更に低沸点化合物が生成しないこと、▲3▼室温でも粘度が低いこと、▲4▼ポリマー成分と熱媒体との相溶性がよいこと、▲5▼高沸点溶媒が安価であること、▲6▼焼却処分する場合には、高沸点溶媒の構成元素はC、H、Oから成ること(程度にもよるが少量のハロゲンを含んでいても良い)等である。
【0017】
▲1▼は、ハロゲノアルキルスチレン誘導体中への高沸点溶媒を混入率を低く抑えるため、高沸点溶媒の沸点はハロゲノアルキルスチレン誘導体中よりはるかに高いことが望ましく、通常300℃以上である。
▲2▼は、高沸成分を除去する際の薄膜蒸留温度(真空度により異なるが、約70℃〜180℃)で高沸点媒体が分解してはならない。
▲3▼は、高沸点媒体を取り扱う際、粘度が低い方が作業性がよく、ハロゲノアルキルスチレン誘導体を含む濃縮液と混合したとき、溶液の粘度を低くするためにも、高沸点溶媒の粘度はできる限り低いことが好ましい。また高沸成分の薄膜蒸留後釜残の粘度を下げるためにも高沸点溶媒の粘度が低いことが好ましい。例えば、25℃における粘度が1000cp以下であることが望ましい。
【0018】
▲4▼は、高沸点溶媒とハロゲノアルキルスチレン誘導体を含む濃縮液を混合したとき、ポリマー成分が析出/沈殿しないように、ポリマー成分に対して相溶性が高くなければならない。例えば、グリセリンエステル、ポリグリコール、セルロース、ポリビニルアルコール等は、極性が高く、これらを添加すると沈殿が析出する。
▲5▼は、ハロゲノアルキルスチレン誘導体を安価に製造するため、重要である。
▲6▼は、高沸成分の薄膜蒸留後の釜残は、燃焼処分される。焼却処分を考え、リン原子、硫黄、窒素原子、ケイ素原子の他、金属原子を含まないことが望ましい。更に、ハロゲノアルキルスチレン誘導体にはハロゲン原子が含まれるが、高沸点溶媒はハロゲン原子を含まないことが望ましい。従って、高沸点溶媒の構成元素は炭素原子、水素原子、必要に応じて酸素原子であることが望ましい。
【0019】
以上の条件を満たすものとして、反応器用熱媒体として使用されているSKオイル(例えば、綜研化学(株)製、商品名:ネオSKオイル1400(沸点391℃、粘度15cp/40℃)、SKオイルL−400(沸点440℃、粘度159cp/0℃)、プラスチックの可塑剤として添加されているフタル酸ジオクチル(沸点386℃)、フタル酸ジイソノニル(粘度55cp/25℃)、フタル酸−2−エチルヘキシル、フタル酸ジイソデシル(沸点420℃)、フタル酸ジイソトリデシル(沸点250℃/2mmHg)、フタル酸ブチルベンジル(沸点370℃)等のフタル酸ジエステル類、トリメリット酸トリス−2−エチルヘキシル(沸点430℃)等のトリメリット酸系可塑剤、リン酸トリクレシル(沸点420℃、粘度57cp/25℃)、リン酸トリス−2−エチルヘキシル(沸点220〜250℃/5mmHg)、リン酸トリクロロエチル(沸点210〜220℃/20mmHg、粘度35cp/25℃))、リン酸トリフェニル(沸点260℃/20mmHg)等のリン酸エステル類、アジピン酸ジ−2−エチルヘキシル、アジピン酸ジオクチル(沸点335℃)、セバシン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸ジオクチル(沸点377℃)、マレイン酸ジ−2−エチルヘキシル(沸点195−207℃/5mmHg、粘度17cp/23℃)等の脂肪酸二塩基酸エステル類、アセチルリシノール酸ブチル等のオキシ酸エステル、その他、塩素化パラフィン、塩素化ビフェニル、ジノニルナフタリン等が挙げられる。この中で、フタル酸ジアルキルの可塑剤が好ましい。例えば、フタル酸ジイソデシル(DIDP)、フタル酸ジイソトリデシル(DTDP)、リン酸トリクレシル等が挙げられる。
【0020】
高沸点溶媒の添加量は、副生するポリマーの分子量により異なるが、含まれるポリマーの重量を基準に、50重量%〜1000重量%が好ましい。更には、100重量%〜400重量%が好ましい。高沸点溶媒の量が少なすぎる場合には薄膜装置の攪拌が困難になったり、缶出液(釜残)の管が閉塞したりする。反対に熱媒体が多すぎる場合には、ハロゲノアルキルスチレン誘導体の生産効率が低下するばかりでなく、回収率も低下する。
【0021】
本発明において高沸点溶媒は、オリゴマー・ポリマー成分を除去する際に存在すればよく、その添加時点は特に限定されない。例えば高沸成分を最初に除去する場合には、この薄膜蒸留の開始時に高沸点溶媒を添加する必要がある。逆に、軽沸成分(溶媒・過剰に使用した増炭剤等)を最初に除去し、高沸成分の除去を薄膜蒸留の最終段階においてする場合には、最初から添加しておいても良いが、高沸成分の除去の際に添加すればよい。
本発明における薄膜蒸留において、滞留時間は、一般に数秒〜5分、好ましくは数秒〜2分程度である。また真空度は0.1〜10mm/Hg、好ましくは0.1〜2mm/Hg程度であり、温度は80〜200℃程度である。。
【0022】
【実施例】
以下に実施例により本発明の具体的な態様を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例によって限定されるものではない。
【0023】
実施例1
4−(4−ブロモブチル)スチレンの製造
窒素ガス導入管、ジムロー冷却管、枝管付き等圧滴下ロート、水銀温度計、温度計用熱電対、攪拌羽根を備えたジャケット付き3L反応缶に金属マグネシウム140.9g(5.40グラム原子、1.45当量/ClSt)を入れ、乾燥窒素ガスで充分置換し、ジャケット温度を20℃に設定した。一方、枝管付き等圧滴下ロートに乾燥脱気THF865g(3.0当量/ClSt)と乾燥脱気トルエン921g(2.5当量/ClSt)、乾燥脱気クロロスチレン(ClSt)(4−クロロスチレンのみ 554g(4.0モル)の溶液を調製した。最初、乾燥THF40mlを張り、ClStのTHF−TL溶液30mlを滴下し、ここに1,2−ジブロモエタンを0.3ml滴下すると、溶液が発泡しエチレンが発生すると同時に、溶液の温度が急激に上昇し、一時的に38℃まで達した。数分後、溶液は淡灰緑色になり、更に10分後には暗緑色溶液となった。反応溶液が25〜29℃になるように3時間かけ連続的に滴下した。滴下終了後、内温が27℃になるようにジャケット温度を調整し、グリニャール試薬を滴下した。滴下終了後、3時間攪拌すると、原料のクロロスチレンは0.1%以下(HPLC分析)にまで減少した。調製したClStのグリニャール試薬を10℃まで冷却し、第2工程のグリニャール反応に用いた。
【0024】
グリニャール反応用に窒素ガス導入管、ジムロー冷却管、水銀温度計、温度記録計用熱電対、攪拌羽根、グリニャール溶液滴下管を備えたジャケット付き5L反応缶を乾燥窒素で置換した。この中へ、THF115g(0.4当量/ClSt)、触媒Li2 CuCl4 13.3g(0.06モル、1.5モル%/ClSt)を入れ溶解すると、濃オレンジ色透明溶液となった。更に、1,4−ジブロモブタン3454g(16.0モル、4.0当量/ClSt)を加え10℃まで冷却した。この中へ、左記に調製したグリニャール試薬を、内温が10℃を越えないようゆっくり3時間かけて滴下した。グリニャール試薬を約20ml滴下すると、溶液は濃オレンジ色から淡黄色溶液、更に無色透明溶液になった。更に滴下を続けると、緑色から暗(黒)緑色透明溶液になった。滴下終了後、15℃で1時間攪拌し反応を終了した。熟成後、溶液中にメタノール20mlを滴下し、反応を完結した。目的物の4−(4−ブロモブチル)スチレンの収率は84%であった。他の成分は、4,4−ジビニルビフェニル0.2%、1,4−ジビニルフェニルブタン6.8%、スチレン2%、ポリマー(ポリブロモブチルスチレン)約4%であった。
脱塩水を加え静置分液し、水相を除去した。減圧下、反応で使用した溶媒のTHF、トルエン、及び反応で一部生成したスチレンを除去した。この濃縮液を、薄膜蒸留で更に精製した。
【0025】
ワイプレン(神鋼パンテック製、2−03型 伝熱表面積:0.034m2 )に、この濃縮液を300g/hrで供給し、75℃/5〜10mmHgで1,4−ジブロモブタンを除去した。1回目の薄膜製造で4−(4−ブロモブチル)スチレンを52%まで濃縮した。更に、この濃縮液を400g/hrで供給し、70℃/1〜2mmHgで1,4−ジブロモブタンを除去した。4−(4−ブロモブチル)スチレンを82%まで濃縮した。更に3回目の薄膜製造は、67℃/0.5〜0.8mmHgで300g/hrで供給し、91%まで濃縮し4−(4−ブロモブチル)スチレン890gを得た。溶液は粘調な溶液になった。
【0026】
この濃縮液に、フタル酸ジイソトリデシル(C13ジエステル)(花王製;ビニサイザー20)105gを室温で添加し溶解した。濃縮液を160℃/0.5mmHgの蒸留条件で、200g/hrで供給し薄膜製造した。留出成分は、4−(4−ブロモブチル)スチレン760g、ジビニルフェニルブタン10.5g、1,4−ジブロモブタン23g、フタル酸ジイソトリデシル0.7gを得た。缶出成分は、フタル酸ジイソトリデシル101g、4−(4−ブロモブチル)スチレン0.6g、ジビニルフェニルブタン21.1g、4−(4−ブロモブチル)スチレンポリマー65gであった。
分析は以下のように行った。
【0027】
・HPLC分析;ODSカラム:Inertsil ODS−2、溶離液:80%MeOH水溶液、流速:2.00ml/min、検出器:UV254nm、カラム温度:25℃
【0028】
なお、可塑剤DTDPは次の条件で行った。Inertsil ODS−2、溶離液:100%MeOH水溶液、流速:1.00ml/min、検出器:UV254nm、カラム温度:25℃
【0029】
・GC分析;GCカラムHP−1(ヒューレットパッカード)又はDB−1(J&W)(ID0.25mmX30m)、50℃(3min 保持)→10℃/min→280℃(3min保持)、検出器:FID、流速2.00ml/min、スプリット比;1/50、定流量プログラム
【0030】
なお、可塑剤DTDPは次の条件で行った。DB−1(J&W)(ID 0.25mmX30m)、300(3min 保持)→5℃/min→350℃(10min保持)、検出器:FID、流速2.00ml/min、スプリット比;1/50、定流量プログラム
【0031】
実施例2
4−(3−クロロプロピル)スチレンの製造
実施例−1において、増炭剤として1,4−ジブロモブタンの代わりに1−ブロモ−3−クロロプロパン1260g(2.0当量/ClSt)を用いた以外は、同様に反応を行った。目的物の4−(3−ブロモプロピル)スチレンの収率は65%であった。脱塩水を加え静置分液し、水相を除去した。減圧下、反応で使用した溶媒のTHF、トルエン、及び反応で一部生成したスチレンを除去した。この濃縮液を、薄膜蒸留で更に精製した。
【0032】
この濃縮液を400g/hrで薄膜蒸留器に供給し、50℃/5mmHgで1−ブロモ−3−クロロプロパンを除去した。2回目の薄膜蒸留の条件は、供給速度350g/hrで50℃/2mmHg、3回目の薄膜蒸留条件は45℃/0.8mmHgで300g/hrで供給し、74%まで濃縮し、620gを得た。溶液は粘調な溶液になった。
【0033】
この濃縮液に、フタル酸ジイソトリデシル(C13ジエステル)(花王製 ビニサイザー20)250gを室温で添加し、溶解した。濃縮液を140℃/0.5mmHgの蒸留条件で、200g/hrで供給し薄膜製造した。留出成分は、4−(3−クロロプロピル)スチレン440g、1−ブロモ−3−クロロプロパン8g、フタル酸ジイソトリデシル0.4gを得た。缶出成分は、フタル酸ジイソトリデシル241g、4−(3−クロロプロピル)スチレン0.6g、ジビニルビフェニル1.1g、4−(3−クロロプロピル)スチレンポリマー142gであった。
【0034】
実施例3
4−(6−ブロモヘキシル)スチレンの製造
実施例1において、増炭剤として1,4−ジブロモブタンの代わりに1,6−ジブロモヘキサン4879g(5当量/ClSt)を用いた以外は、同様に反応を行った。1,6−ジブロモヘキサンを除去するため、薄膜蒸留は、1回目、90℃/5mmHg、2回目85℃/2mmHg、3回目は75℃/0.7mmHgで薄膜蒸留した。 高沸成分は、フタル酸ジイソトリデシル(C13ジエステル)(花王製 ビニサイザー20/協和発酵製)170gを室温で添加し、180℃/0.5mmHgの蒸留条件で、濃縮液を200g/hrで供給し薄膜精製した。留出成分は、4−(6−ブロモヘキシル)スチレン854g、フタル酸ジイソトリデシル(DTDP)0.4gを得た。
【0035】
実施例4
以下の缶出成分の濃縮液を用いて、高沸成分(ポリマー)を除去するための薄膜蒸留の検討を行った。濃縮液の組成は、4−(4−ブロモブチル)スチレン74%、ジビニルフェニルブタン7%、ポリマー19%である。
この缶出成分の濃縮液800gに対し、高沸点溶媒(ネオSK−オイル1400綜研化学製)350gを添加し、表−1〜表−2に示す温度で薄膜蒸留の検討を行った。真空度は0.8〜1.0mmHgの範囲内で検討した。
高沸点溶媒として、表−1はDTDP、表−2はDIDP、表−3はネオSK−オイル1400をそれぞれ用いた薄膜蒸留の検討結果を示す。表内には、軽沸成分(留出成分側)の製品(4−(4−ブロモブチル)スチレン)の回収率と缶出成分(高沸成分側)への製品(4−(4−ブロモブチル)スチレン)の混入率を示した。
【0036】
比較例1
実施例4で使用した缶出成分の濃縮液を用いて、薄膜蒸留条件の検討を行った。真空度は、0.8mmHg〜1.0mmHgとした。
薄膜蒸留温度を140℃に設定し、高沸点溶媒使用することなく濃縮液を供給したところ、30分後には、薄膜蒸留装置内部で異常音(最初はカタカタ・・、次第にガタンガタン…と言う音)が発生し始め下部でポリマーが析出した。更に続けると一部冷却管にポリマーが付着し始め、流出成分中に製品が混入し始めた。更に1時間蒸留を続けるとポリマーが蒸発面下部で析出し、ワイパーが攪拌できなくなり薄膜蒸留を停止した。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】
【表3】
【0040】
【発明の効果】
本発明方法のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法によれば、副生するポリマーを効率よく除去し、目的物であるω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を、安価、高収率で製造することができる。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a ω-halogenoalkylstyrene derivative, which is an organic intermediate important for producing a functional material such as a pharmaceutical or agrochemical. Specifically, the present invention relates to a method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative capable of efficiently removing a by-product polymer.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, ω-halogenoalkylstyrene derivatives have been used as raw materials for various functional agents. For example, pharmaceutical (for example, cholesterol reducing agent), agrochemical intermediate raw material, ion exchange resin, ion exchange membrane, ion exchange fiber, solid phase synthesis carrier, combinatorial synthesis carrier, chromatography (column filler) carrier, chelate Examples thereof include a resin, an immobilization carrier, a functional film, an adsorbent, a high-performance polymer, a photosensitive material, a conductive material, and a silane coupling agent.
[0003]
Many proposals have been made regarding methods for producing halogenoalkylstyrene derivatives. For example, in JP-A-4-349994, 1, (ω-1) -dihalogenoalkane is allowed to act on a Grignard reagent (vinylbenzylmagnesium halide) of chloromethylstyrene (CMS) to synthesize an ω-halogenoalkylstyrene derivative. In addition, J. of Polymer Science and Polymer Chemistry Edition, Vol. 20, 1982, P3015 discloses a method for synthesizing 3-bromopropylstyrene using chlorostyrene as a raw material.
[0004]
However, in this production method, the target ω-halogenoalkylstyrene derivative is obtained, but the target polymer, ω-halogenoalkylstyrene polymer, is produced as a by-product to some extent. As a method for removing the polymer by-produced by the reaction, a method of purification by column chromatography or vacuum distillation is generally known. These methods also remove the by-product polymer to obtain a halogenoalkylstyrene derivative with high purity. Obtainable. For example, in column chromatography purification, the polymer component is adsorbed, so that the polymer is not contained in the eluted solution. In the case of vacuum distillation purification, since the polymer component usually has a boiling point higher than that of the monomer, it can be easily removed to the end as the residue.
[0005]
However, column purification requires a great deal of cost (solvent, packing material, time) when manufacturing in large quantities. On the other hand, vacuum distillation is possible when a small amount of halogenoalkylstyrene derivative is obtained. However, halogenoalkyl styrene has the following properties: (1) the boiling point of the styrene derivative is relatively high, (2) the thermal polymerization of the styrene derivative is high, and (3) the thermal stability of the terminal functional group. The (batch type) vacuum distillation method is not preferred for obtaining a large amount of the target product due to the properties such as
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
On the other hand, the thin film distillation method is suitable for treating a polymerizable monomer such as a halogenoalkylstyrene derivative with a short residence time.
However, even in the thin film distillation method, in the process of separating the styrene derivative and its polymer, depending on the distillation conditions, since the styrene derivative is not included in the bottom component (pot residue), it loses the fluidity of the bottom component and is solidified. The stirring of the wiper cannot be continued. Further, even in the centrifugal thin film distillation method, it becomes difficult to form a liquid film on the centrifuge with the concentrated polymer, the separation performance is lowered, and the distillation becomes difficult.
[0007]
As described above, it has been difficult to efficiently produce a high-purity ω-halogenoalkylstyrene derivative by a known method.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to efficiently remove high-boiling components such as a by-product polymer in a method for producing ω-halogenoalkylstyrene, and to produce an ω-halogenoalkylstyrene derivative. It is to provide a method for efficiently and inexpensively manufacturing a product.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have conducted thin-film distillation purification in the presence of a chemically stable high-boiling solvent in the method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative. The inventors have found that the ω-halogenoalkylstyrene derivative can be recovered with high purity while maintaining the fluidity of the residual component of the kettle, and have reached the present invention.
That is, the gist of the present invention is the following general formula (1) containing a high boiling component.
[0009]
[Chemical 2]
[0010]
(Wherein n represents an integer of 3 to 8, X represents a halogen atom, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, respectively), a boiling point of 300 ° C. or higher. , A method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative, characterized in that thin-film distillation is performed in the presence of a high-boiling solvent having a viscosity of 1000 cp or less at 25 ° C.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
What is an ω-halogenoalkylstyrene derivative in the present invention?
[0012]
[Chemical 3]
[0013]
It is a linear alkylstyrene derivative having a halogen at the terminal represented by the general formula (1). In the formula, the number n of methylene chains is an integer of 3 to 8. Examples of the compound represented by the formula (1) include bromopropyl styrene, iodopropyl styrene, chlorobutyl styrene, bromobutyl styrene, chloropentyl styrene, iodopentyl styrene, chlorohexyl styrene, bromohexyl styrene, bromooctyl styrene, and the like. Is mentioned.
[0014]
These styrene derivatives can be produced by the method disclosed in JP-A-4-349994.
For example, a method in which a polyalkylene dihalide is reacted with a chloromethylated base monomer (for example, chloromethylstyrene) by a Grignard method, or a polyalkylene dihalide is reacted with a chlorinated base monomer (chlorostyrene) by a Grignard method Method.
The reaction product obtained by these methods contains a considerable amount of a high boiling component such as a target polymer, that is, a ω-halogenoalkylstyrene polymer, together with the target ω-halogenoalkylstyrene derivative.
[0015]
In the present invention, a reaction mixture containing a halogenoalkylstyrene derivative, which is a target product obtained by the above-described method, and a high-boiling component such as a polymer, which is a byproduct, is obtained by subjecting a solution and polymer containing the halogenoalkylstyrene derivative to thin film distillation. The process of separating high boiling components such as these is essential. In the thin film distillation, a high boiling point solvent is added as a coating agent for the evaporation surface of the thin film device so that a liquid film can always be formed on the evaporation surface of the thin film device.
[0016]
In order to achieve this object, the high boiling point solvent preferably satisfies the following conditions.
(1) The boiling point of the high-boiling solvent is high (at least the boiling point is higher than the target styrene derivative), (2) The heat medium decomposes at the thin-film distillation temperature and conditions (retention time), and the low-boiling compound (3) Low viscosity even at room temperature, (4) Good compatibility between polymer component and heat medium, (5) High-boiling solvent is inexpensive, and (6) Incineration disposal Is that the constituent element of the high-boiling point solvent is composed of C, H, and O (which may contain a small amount of halogen depending on the degree).
[0017]
In (1), the boiling point of the high-boiling solvent is desirably much higher than that in the halogenoalkylstyrene derivative, and is usually 300 ° C. or higher, in order to keep the high-boiling solvent mixed in the halogenoalkylstyrene derivative low.
In (2), the high boiling point medium should not be decomposed at the thin film distillation temperature (about 70 ° C. to 180 ° C. depending on the degree of vacuum) when removing the high boiling point component.
(3) When handling a high-boiling point medium, the lower the viscosity, the better the workability. When mixed with a concentrated liquid containing a halogenoalkylstyrene derivative, the viscosity of the high-boiling point solvent is reduced. Is preferably as low as possible. In order to lower the viscosity of the kettle residue after thin-film distillation of the high boiling point component, it is preferable that the viscosity of the high boiling point solvent is low. For example, the viscosity at 25 ° C. is desirably 1000 cp or less.
[0018]
(4) must be highly compatible with the polymer component so that the polymer component does not precipitate / precipitate when a concentrated solution containing a high boiling point solvent and a halogenoalkylstyrene derivative is mixed. For example, glycerin ester, polyglycol, cellulose, polyvinyl alcohol, and the like have high polarity, and when these are added, precipitates are deposited.
(5) is important for producing a halogenoalkylstyrene derivative at low cost.
In (6), the residue after thin film distillation of the high boiling point component is disposed of by combustion. Considering incineration, it is desirable not to contain metal atoms in addition to phosphorus atoms, sulfur, nitrogen atoms, and silicon atoms. Further, the halogenoalkylstyrene derivative contains a halogen atom, but the high boiling point solvent preferably does not contain a halogen atom. Therefore, it is desirable that the constituent elements of the high-boiling solvent are carbon atoms, hydrogen atoms, and, if necessary, oxygen atoms.
[0019]
In order to satisfy the above conditions, SK oil used as a heat medium for the reactor (for example, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: Neo SK oil 1400 (boiling point 391 ° C., viscosity 15 cp / 40 ° C.), SK oil L-400 (boiling point 440 ° C., viscosity 159 cp / 0 ° C.), dioctyl phthalate (boiling point 386 ° C.) added as plastic plasticizer, diisononyl phthalate (viscosity 55 cp / 25 ° C.), 2-ethylhexyl phthalate Phthalic acid diesters such as diisodecyl phthalate (boiling point 420 ° C.), diisotridecyl phthalate (boiling point 250 ° C./2 mmHg), butylbenzyl phthalate (boiling point 370 ° C.), tris-2-ethylhexyl trimellitic acid (boiling point 430 ° C.) Trimellitic acid plasticizers such as tricresyl phosphate (boiling point 420 ° C., viscosity 57 p / 25 ° C), tris-2-ethylhexyl phosphate (boiling point 220-250 ° C / 5 mmHg), trichloroethyl phosphate (boiling point 210-220 ° C / 20 mmHg, viscosity 35 cp / 25 ° C)), triphenyl phosphate (boiling point) 260 ° C./20 mmHg) and the like, di-2-ethylhexyl adipate, dioctyl adipate (boiling point 335 ° C.), di-2-ethylhexyl sebacate, dioctyl sebacate (boiling point 377 ° C.), di-maleate Fatty acid dibasic acid esters such as 2-ethylhexyl (boiling point 195-207 ° C./5 mmHg, viscosity 17 cp / 23 ° C.), oxyacid esters such as butyl acetylricinoleate, chlorinated paraffin, chlorinated biphenyl, dinonylnaphthalene Etc. Of these, dialkyl phthalate plasticizers are preferred. Examples thereof include diisodecyl phthalate (DIDP), diisotridecyl phthalate (DTDP), and tricresyl phosphate.
[0020]
The amount of the high-boiling solvent added varies depending on the molecular weight of the by-produced polymer, but is preferably 50% by weight to 1000% by weight based on the weight of the polymer contained. Furthermore, 100 to 400 weight% is preferable. When the amount of the high boiling point solvent is too small, stirring of the thin film apparatus becomes difficult, or the tube of the bottoms (residue) is blocked. On the other hand, when the amount of the heat medium is too large, not only the production efficiency of the halogenoalkylstyrene derivative is lowered, but also the recovery rate is lowered.
[0021]
In the present invention, the high boiling point solvent only needs to be present when the oligomer / polymer component is removed, and the addition point is not particularly limited. For example, when the high boiling point component is removed first, it is necessary to add a high boiling point solvent at the start of the thin film distillation. Conversely, when removing light boiling components (solvents, excess carbon increasing agents, etc.) first and removing high boiling components in the final stage of thin film distillation, they may be added from the beginning. However, what is necessary is just to add in the case of removal of a high boiling component.
In the thin film distillation in the present invention, the residence time is generally several seconds to 5 minutes, preferably about several seconds to 2 minutes. The degree of vacuum is about 0.1 to 10 mm / Hg, preferably about 0.1 to 2 mm / Hg, and the temperature is about 80 to 200 ° C. .
[0022]
【Example】
EXAMPLES Specific examples of the present invention will be described below in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples unless it exceeds the gist.
[0023]
Example 1
Production of 4- (4-bromobutyl) styrene Nitrogen gas inlet tube, Jimloh cooling tube, isobaric dropping funnel with branch tube, mercury thermometer, thermocouple for thermometer, metal magnesium in jacketed 3L reactor equipped with stirring blade 140.9 g (5.40 gram atoms, 1.45 equivalents / ClSt) was added, and the atmosphere was sufficiently replaced with dry nitrogen gas, and the jacket temperature was set to 20 ° C. On the other hand, 865 g (3.0 equivalents / ClSt) of dry degassed THF, 921 g (2.5 equivalents / ClSt) of dry degassed toluene, and dry degassed chlorostyrene (ClSt) (4-chlorostyrene) were added to an equal pressure dropping funnel with a branch pipe. Only 554 g (4.0 mol) of a solution was prepared, initially 40 ml of dry THF was added, 30 ml of ClSt in THF-TL was added dropwise, and 0.3 ml of 1,2-dibromoethane was added dropwise, and the solution foamed. At the same time as ethylene was generated, the temperature of the solution suddenly increased and temporarily reached 38 ° C. After a few minutes, the solution became light grayish green, and after 10 minutes, it became a dark green solution. The solution was continuously added dropwise over 3 hours so that the solution became 25 to 29 ° C. After completion of the addition, the jacket temperature was adjusted so that the internal temperature became 27 ° C., and the Grignard reagent was added dropwise. After stirring for 3 hours, the raw material chlorostyrene decreased to 0.1% or less (HPLC analysis), and the prepared ClSt Grignard reagent was cooled to 10 ° C. and used for the Grignard reaction in the second step.
[0024]
For the Grignard reaction, a jacketed 5 L reactor equipped with a nitrogen gas introduction tube, a Jimroh cooling tube, a mercury thermometer, a thermocouple for a temperature recorder, a stirring blade, and a Grignard solution dropping tube was replaced with dry nitrogen. Into this, 115 g of THF (0.4 eq / ClSt) and 13.3 g of catalyst Li 2 CuCl 4 (0.06 mol, 1.5 mol% / ClSt) were added and dissolved to obtain a deep orange transparent solution. Further, 3454 g (16.0 mol, 4.0 equivalents / ClSt) of 1,4-dibromobutane was added, and the mixture was cooled to 10 ° C. Into this, the Grignard reagent prepared on the left was dropped slowly over 3 hours so that the internal temperature did not exceed 10 ° C. When about 20 ml of Grignard reagent was dropped, the solution became a deep orange to light yellow solution, and further a colorless and transparent solution. When dripping was further continued, the green to dark (black) green transparent solution was obtained. After completion of the dropwise addition, the reaction was completed by stirring at 15 ° C. for 1 hour. After aging, 20 ml of methanol was dropped into the solution to complete the reaction. The yield of the desired 4- (4-bromobutyl) styrene was 84%. The other components were 0.2% 4,4-divinylbiphenyl, 6.8% 1,4-divinylphenylbutane, 2% styrene, and about 4% polymer (polybromobutylstyrene).
Demineralized water was added and the mixture was allowed to stand for liquid separation, and the aqueous phase was removed. Under reduced pressure, the solvent used in the reaction, THF, toluene, and styrene partially produced in the reaction were removed. This concentrate was further purified by thin film distillation.
[0025]
This concentrated liquid was supplied at 300 g / hr to wiperene (manufactured by Shinko Pantech, 2-03 type heat transfer surface area: 0.034 m 2 ), and 1,4-dibromobutane was removed at 75 ° C./5 to 10 mmHg. In the first thin film production, 4- (4-bromobutyl) styrene was concentrated to 52%. Further, this concentrated solution was supplied at 400 g / hr, and 1,4-dibromobutane was removed at 70 ° C./1 to 2 mmHg. 4- (4-Bromobutyl) styrene was concentrated to 82%. In the third thin film production, 300 g / hr was supplied at 67 ° C./0.5 to 0.8 mmHg and concentrated to 91% to obtain 890 g of 4- (4-bromobutyl) styrene. The solution became a viscous solution.
[0026]
To this concentrated solution, 105 g of diisotridecyl phthalate (C13 diester) (manufactured by Kao; Vinicizer 20) was added and dissolved at room temperature. The concentrated solution was supplied at 200 g / hr under distillation conditions of 160 ° C./0.5 mmHg to produce a thin film. As distillate components, 760 g of 4- (4-bromobutyl) styrene, 10.5 g of divinylphenylbutane, 23 g of 1,4-dibromobutane, and 0.7 g of diisotridecyl phthalate were obtained. The bottom component was 101 g of diisotridecyl phthalate, 0.6 g of 4- (4-bromobutyl) styrene, 21.1 g of divinylphenylbutane, and 65 g of 4- (4-bromobutyl) styrene polymer.
The analysis was performed as follows.
[0027]
HPLC analysis; ODS column: Inertsil ODS-2, eluent: 80% MeOH aqueous solution, flow rate: 2.00 ml / min, detector: UV254 nm, column temperature: 25 ° C.
[0028]
The plasticizer DTDP was performed under the following conditions. Inertsil ODS-2, eluent: 100% MeOH aqueous solution, flow rate: 1.00 ml / min, detector: UV254 nm, column temperature: 25 ° C.
[0029]
GC analysis: GC column HP-1 (Hewlett Packard) or DB-1 (J & W) (ID 0.25 mm × 30 m), 50 ° C. (3 min hold) → 10 ° C./min→280° C. (3 min hold), detector: FID, Flow rate 2.00ml / min, split ratio; 1/50, constant flow program
The plasticizer DTDP was performed under the following conditions. DB-1 (J & W) (ID 0.25 mm × 30 m), 300 (3 min hold) → 5 ° C./min→350° C. (10 min hold), detector: FID, flow rate 2.00 ml / min, split ratio: 1/50, Constant flow program [0031]
Example 2
Production of 4- (3-chloropropyl) styrene In Example 1, except that 1260 g (2.0 equivalents / ClSt) of 1-bromo-3-chloropropane was used instead of 1,4-dibromobutane as the carbon-increasing agent. Reacted in the same way. The yield of the desired 4- (3-bromopropyl) styrene was 65%. Demineralized water was added and the mixture was allowed to stand for liquid separation, and the aqueous phase was removed. Under reduced pressure, the solvent used in the reaction, THF, toluene, and styrene partially produced in the reaction were removed. This concentrate was further purified by thin film distillation.
[0032]
This concentrated solution was supplied to a thin film distiller at 400 g / hr, and 1-bromo-3-chloropropane was removed at 50 ° C./5 mmHg. The conditions for the second thin film distillation were 50 ° C./2 mmHg at a supply rate of 350 g / hr, and the third thin film distillation conditions were supplied at 45 ° C./0.8 mm Hg at 300 g / hr and concentrated to 74% to obtain 620 g. It was. The solution became a viscous solution.
[0033]
To this concentrated solution, 250 g of diisotridecyl phthalate (C13 diester) (Kao Vinicizer 20) was added at room temperature and dissolved. The concentrated solution was supplied at 200 g / hr under distillation conditions of 140 ° C./0.5 mmHg to produce a thin film. As distillate components, 440 g of 4- (3-chloropropyl) styrene, 8 g of 1-bromo-3-chloropropane, and 0.4 g of diisotridecyl phthalate were obtained. The bottom component was 241 g of diisotridecyl phthalate, 0.6 g of 4- (3-chloropropyl) styrene, 1.1 g of divinylbiphenyl, and 142 g of 4- (3-chloropropyl) styrene polymer.
[0034]
Example 3
Production of 4- (6-bromohexyl) styrene In Example 1, except that 4879 g of 1,6-dibromohexane (5 equivalents / ClSt) was used instead of 1,4-dibromobutane as the carbon increasing agent. Reaction was performed. In order to remove 1,6-dibromohexane, thin film distillation was performed at 90 ° C./5 mmHg for the first time, 85 ° C./2 mmHg for the second time, and 75 ° C./0.7 mmHg for the third time. As a high boiling component, 170 g of diisotridecyl phthalate (C13 diester) (manufactured by Kao Vinicizer 20 / Kyowa Hakko) is added at room temperature, and a concentrated solution is supplied at 200 g / hr under distillation conditions of 180 ° C./0.5 mmHg. Purified. As distillate components, 854 g of 4- (6-bromohexyl) styrene and 0.4 g of diisotridecyl phthalate (DTDP) were obtained.
[0035]
Example 4
A thin film distillation for removing a high boiling point component (polymer) was examined using a concentrated liquid of the following can components. The composition of the concentrate is 74% 4- (4-bromobutyl) styrene, 7% divinylphenylbutane, and 19% polymer.
350 g of a high-boiling solvent (neo SK-oil 1400, manufactured by Soken Chemical) was added to 800 g of the concentrated liquid of this can component, and thin film distillation was examined at the temperatures shown in Tables 1 to 2. The degree of vacuum was examined within the range of 0.8 to 1.0 mmHg.
Table 1 shows the results of studies on thin-film distillation using DTDP, Table 2 as DIDP, and Table 3 as NeoSK-oil 1400 as high-boiling solvents. In the table, the recovery rate of the light boiling component (distilled component side) product (4- (4-bromobutyl) styrene) and the product to the bottom component (high boiling component side) (4- (4-bromobutyl) The mixing ratio of styrene was shown.
[0036]
Comparative Example 1
The thin film distillation conditions were examined using the concentrate of the bottom component used in Example 4. The degree of vacuum was 0.8 mmHg to 1.0 mmHg.
When the thin film distillation temperature was set to 140 ° C. and the concentrated liquid was supplied without using a high boiling point solvent, 30 minutes later, an abnormal sound was generated inside the thin film distillation apparatus (at first, a rattling sound, gradually sounding angry). Begins to occur and a polymer precipitates at the bottom. When further continued, the polymer began to adhere to some of the cooling pipes, and the product began to mix into the spilled components. When the distillation was continued for another hour, the polymer precipitated at the lower part of the evaporation surface, and the wiper could not be stirred, so that the thin film distillation was stopped.
[0037]
[Table 1]
[0038]
[Table 2]
[0039]
[Table 3]
[0040]
【The invention's effect】
According to the method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative of the method of the present invention, the by-product polymer can be efficiently removed, and the target ω-halogenoalkylstyrene derivative can be produced at a low cost and in a high yield. .

Claims (7)

高沸成分を含有する下記一般式(1)
(上記一般式中、nは3〜8の整数、Xはハロゲン原子、Rは水素原子、アルキル基或いはハロゲン原子をそれぞれ表す)で表されるω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体を、沸点が300℃以上、粘度が25℃で1000cp以下の高沸点溶媒の存在下に薄膜蒸留することを特徴とするω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。
The following general formula (1) containing a high boiling component
(Wherein n represents an integer of 3 to 8, X represents a halogen atom, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, respectively), a boiling point of 300 ° C. or higher. A method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative, comprising thin-film distillation in the presence of a high-boiling solvent having a viscosity of 1000 cp or less at 25 ° C.
高沸点溶媒が、炭素原子、水素原子及び酸素原子を構成元素とするものである請求項1に記載のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。The method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative according to claim 1, wherein the high boiling point solvent contains carbon atoms, hydrogen atoms and oxygen atoms as constituent elements. 高沸点溶媒の添加量が、含有されるポリマーに対して50〜1000重量%である請求項1または2に記載のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。The method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative according to claim 1 or 2 , wherein the amount of the high-boiling solvent added is 50 to 1000% by weight based on the polymer contained. 高沸点溶媒が、フタル酸ジイソトリデシル(DTDP)である請求項1〜のいずれかに記載のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。The method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative according to any one of claims 1 to 3 , wherein the high boiling point solvent is diisotridecyl phthalate (DTDP). 高沸点溶媒が、フタル酸ジイソデシル(DIDP)である請求項1〜のいずれかに記載のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。The method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative according to any one of claims 1 to 3 , wherein the high-boiling solvent is diisodecyl phthalate (DIDP). 高沸点溶媒が、ジベンジルトルエン誘導体である請求項1〜のいずれかに記載のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。The method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative according to any one of claims 1 to 3 , wherein the high-boiling solvent is a dibenzyltoluene derivative. 前記薄膜蒸留の開始時に前記高沸点溶媒を添加する請求項1〜6のいずれかに記載のω−ハロゲノアルキルスチレン誘導体の製造方法。The method for producing an ω-halogenoalkylstyrene derivative according to any one of claims 1 to 6, wherein the high boiling point solvent is added at the start of the thin film distillation.
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