JP3902491B2 - Potential generation circuit - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電位生成回路に関し、特に、分割回路を備える電位生成回路に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、マトリクス型のメモリ素子やDAコンバ−タなどの様々な電子機器において、所定の電位を生成する電位生成回路が用いられている。電位生成回路では、通常、抵抗分割などを用いて電源電圧を等分割することによって、所定の電位を生成している。
【0003】
図6は、従来の抵抗分割によるDAコンバ−タの全体構成を示した回路図である。図6を参照して、従来のDAコンバ−タ100では、一定の抵抗値のn個の抵抗R1〜Rnが直列に接続されている。抵抗R1の一方の端部は、電圧Vrtが印加される第1端子120に接続されており、抵抗Rnの一方の端部は、電圧Vrb(<Vrt)が印加される第2端子130に接続されている。抵抗R1〜Rnの各抵抗間と、第1端子120と、第2端子130とから引き出された信号線は、それぞれ、Din回路101の端子T100〜Tnに接続されている。
【0004】
このDAコンバ−タ100では、外部から入力されたデジタル信号に基づいて、スイッチS100〜Snの任意の1つをオンすることにより、その入力されたデジタル信号に対応する所定のアナログ電位を出力端子Voutから得ることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図6に示した従来のDAコンバ−タ100では、第1端子120から第2端子130に向かって定常的に貫通電流が流れるという不都合があった。その結果、消費電力が大きくなるという問題点があった。
【0006】
また、従来では、電源電圧端子から供給された電位を所定の電位に分割する方法として、フィ−ドバックを用いた方法もある。
【0007】
図7は、従来のフィ−ドバックを用いた電位生成回路の全体構成を示した回路図である。図7を参照して、従来のフィ−ドバックを用いた電位生成回路200では、一定の抵抗値を有する4個の抵抗R201〜R204が直列に接続されている。そして、抵抗R201の一方の端部は、電源電圧端子Vccに接続されており、抵抗R204の一方の端部は、接地端子GNDに接続されている。各抵抗R201〜R204間の接続部からは、信号線がそれぞれ引き出されている。各信号線は、それぞれ、フィ−ドバック回路201a〜201cの入力端子T221〜T223に接続されている。
【0008】
このフィ−ドバック回路201a〜201cは、オペアンプ211と、pチャネルトランジスタPT212と、抵抗R205とを含んでいる。このフィ−ドバック回路201a〜201cは、抵抗を増加したときの応答速度の遅さを補う回路であり、入力端子T221〜T223の入力電圧と、出力端子Voutから出力される出力電圧とが等しくなるように、pチャネルトランジスタPT212と抵抗R205とを用いて調整する。これにより、入力端子T221、T222およびT223に対応する出力端子Voutからは、それぞれ、3/4Vcc、2/4Vccおよび1/4Vccの電圧が出力される。
【0009】
しかしながら、図7に示したフィ−ドバックを用いた電位生成回路200においても、電源電圧端子Vccから接地端子GNDに向かって、定常的な貫通電流が発生するという不都合があった。その結果、消費電流が増大するという問題点があった。
【0010】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、
この発明の1つの目的は、消費電流を低減することが可能な電位生成回路を提供することである。
【0011】
この発明のもう1つの目的は、上記した電位生成回路において、複雑な回路構成を用いることなく、定常的な貫通電流に起因する消費電流を低減することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1における電位生成回路は、各々が、2入力を有するとともに、2入力の電圧を所定の比率に分割することにより1つの出力を発する、第1分割回路および第2分割回路を備え、第1分割回路の出力は、第2分割回路の入力に接続され、第2分割回路の出力は、第1分割回路の入力に接続される。
【0013】
請求項1における電位生成回路では、上記のように構成することによって、所定の電位を生成することにより、複雑な回路構成を用いることなく、電源電圧などを任意に分割した電圧を得ることができる。また、貫通電流の少ない分割回路を用いれば、消費電流を低減することができる。
【0015】
請求項2における電位生成回路は、請求項1の構成において、第1分割回路および第2分割回路は、それぞれ、第1入力端子および第2入力端子と、第1入力端子に接続される第1抵抗と、第2入力端子に接続される第2抵抗と、第1抵抗にゲ−トおよび一方端子が接続され、第1ノ−ドに他方端子が接続される第1nチャネルトランジスタと、第2抵抗にゲ−トおよび一方端子が接続され、第1ノ−ドに他方端子が接続される第1pチャネルトランジスタと、第1入力端子に一方端子が接続され、出力ノ−ドとしての第2ノ−ドに他方端子が接続され、かつ、第1抵抗にゲ−トが接続される第2nチャネルトランジスタと、第2入力端子に一方端子が接続され、第2ノ−ドに他方端子が接続され、かつ、第2抵抗にゲ−トが接続される第2pチャネルトランジスタとを備えている。そして、第2pチャネルトランジスタの基板は、第1入力端子に接続されているとともに、第1pチャネルトランジスタの基板は、第1ノ−ドに接続されている。このように構成すれば、たとえば、第1入力端子に電源電圧端子を接続すれば、第2pチャネルトランジスタのしきい値電圧が高くなるので、第2pチャネルトランジスタは定常的にはオフ状態になるとともに、出力ノ−ドである第2ノ−ドの電位が上昇した時のみオン状態になる。これにより、定常的な貫通電流は流れないので、容易に、低消費電力の分割回路を得ることができる。その結果、低消費電力の分割回路を複数含む低消費電力の電位生成回路を得ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【0017】
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態による電位生成回路の構成を示した概略図である。図2は、図1に示した第1実施形態による電位生成回路に含まれる1/2電位生成回路の内部構成を示した回路図である。図3は、図1に示した第1実施形態による電位生成回路の内部構成を示した回路図である。なお、第1実施形態では、2個の1/2電位生成回路1aおよび1bを組み合わせることにより構成された電位生成回路1について説明する。
【0018】
まず、図1を参照して、第1実施形態による電位生成回路1の全体構成について説明する。この第1実施形態による電位生成回路1は、1/2電位生成回路1aと1/2電位生成回路1bとから構成されている。1/2電位生成回路1aは、第1入力端子2aと、第2入力端子3aと、出力端子4aとを備えている。また、1/2電位生成回路1bは、第1入力端子2bと、第2入力端子3bと、出力端子4bとを備えている。この1/2電位生成回路1aおよび1bは、第1入力端子2aおよび2bと、第2入力端子3aおよび3bとの間に生じた電位差を、それぞれ、1/2に分割して出力端子4aおよび4bに出力する機能を有する。また、1/2電位生成回路1aの第1入力端子2aは、電源電圧端子Vccに接続されており、1/2電位生成回路1bの第2入力端子3bは、接地端子GNDに接続されている。
【0019】
ここで、第1実施形態の電位生成回路1では、1/2電位生成回路1aの出力端子4aは、1/2電位生成回路1bの第1入力端子2bに接続されている。また、1/2電位生成回路1bの出力端子4bは、1/2電位生成回路1aの第2入力端子3aに接続されている。なお、1/2電位生成回路1aおよび1/2電位生成回路1bは、本発明の「分割回路」の一例である。
【0020】
次に、図2および図3を参照して、図1に示した電位生成回路1に含まれる1/2電位生成回路1aおよび1bの内部回路構成について説明する。
【0021】
1/2電位生成回路1a(1b)では、図2に示すように、第1抵抗R1と、第2抵抗R2と、第1nチャネルトランジスタNT1と、第1pチャネルトランジスタPT1と、第2nチャネルトランジスタNT2と、第2pチャネルトランジスタPT2とを備えている。第1抵抗R1の一方端は、第1入力端子2a(2b)に接続されており、第1抵抗R1の他方端は、ノ−ドN3に接続されている。第1nチャネルトランジスタNT1のドレインおよびゲ−トは、ノ−ドN3に接続されており、第1nチャネルトランジスタNT1のソースは、ノ−ド1に接続されている。第1pチャネルトランジスタPT1のソ−スは、ノ−ドN1に接続されており、第1pチャネルトランジスタPT1のゲ−トおよびドレインは、ノ−ドN4に接続されている。第2抵抗R2の一方端は、ノ−ドN4に接続されており、他方端は、第2入力端子3a(3b)に接続されている。
【0022】
また、第2nチャネルトランジスタNT2のドレインは、第1入力端子2a(2b)に接続されており、ソ−ス2はノ−ドN2に接続されている。また、第2nチャネルトランジスタNT2のゲ−トは、ノ−ドN3に接続されている。第2pチャネルトランジスタPT2のソ−スは、ノ−ドN2に接続されており、ドレインは、第2入力端子3a(3b)に接続されている。第2pチャネルトランジスタPT2のゲ−トは、ノ−ドN4に接続されている。また、第1pチャネルトランジスタPT1の基板は、ノ−ドN1に接続されており、第2pチャネルトランジスタPT2の基板は、第1入力端子2a(2b)に接続されている。第1nチャネルトランジスタNT1の基板は、第2nチャネルトランジスタNT2の基板と接続されている。
【0023】
また、第1抵抗R1および第2抵抗R2の抵抗値を十分大きくすることにより、ノ−ドN3の電位が低くなるとともに、ノ−ドN4の電位が高くなる。これにより、ノ−ドN3、ノ−ドN1およびノ−ドN4の電位は、それぞれ、第1nチャネルトランジスタNT1および第1pチャネルトランジスタPT1がカットオフぎりぎりの電位に落ち着く。この場合、ノ−ドN3とノ−ドN4との間の電位差は、第1nチャネルトランジスタNT1のしきい値電圧Vtnと第1pチャネルトランジスタPT1のしきい値電圧Vtpとの和(Vtn+Vtp)になる。
【0024】
また、第1抵抗R1および第2抵抗R2のそれぞれの抵抗値は、ノ−ドN1の電位が第1入力端子2a(2b)と第2入力端子3a(3b)との電位差の2分の1になるように設定されている。これにより、たとえば、第1入力端子2a(2b)にVccの電位を印加するとともに、第2入力端子3a(3b)を接地した場合、ノ−ドN1の電位は、1/2Vccとなる。この場合、ノ−ドN3の電位は、1/2Vcc+Vtnとなり、ノ−ドN4の電位は1/2Vcc−Vtpとなる。ノ−ドN3の電位(1/2Vcc+Vtn)は、第1nチャネルトランジスタNT1のゲ−トと第2nチャネルトランジスタNT2のゲ−トとに印加され、ノ−ドN4の電位(1/2Vcc−Vtp)は、第1pチャネルトランジスタPT1のゲ−トと第2pチャネルトランジスタPT2のゲ−トとに印加される。したがって、第1nチャネルトランジスタNT1と第2nチャネルトランジスタNT2とは同じバイアス条件であり、第1pチャネルトランジスタPT1と第2pチャネルトランジスタPT2とは同じバイアス条件となる。このため、ノ−ドN1とノ−ドN2とは同じ電位になる。
【0025】
第1実施形態に用いる1/2電位生成回路1a(1b)では、上記のように、第1抵抗R1および第2抵抗R2の抵抗値を大きくすることによって、ノ−ドN3、ノ−ドN1、ノ−ドN4の電流経路にほとんど電流が流れないので、消費電流を低減することができる。また、第2pチャネルトランジスタPT2の基板は、高電位側の第1入力端子2a(2b)に接続されているので、ノ−ドN1に基板が接続される第1pチャネルトランジスタPT1よりもしきい値電圧が大きくなる。これにより、第2pチャネルトランジスタPT2は、定常状態ではオンせず、ノ−ドN2の電位が高くなった時のみオンするので、これによっても消費電流を低減することができる。
【0026】
なお、第1実施形態による電位生成回路1は、図3に示すように、1/2電位生成回路1aと1/2電位生成回路1bとを組み合わせることにより構成されている。具体的には、1/2電位生成回路1aのノ−ドN2から引き出された出力端子4aは、1/2電位生成回路1bの第1入力端子2bに接続されている。また、1/2電位生成回路1bの出力端子4bは、1/2電位生成回路1aの第2入力端子3aに接続されている。これにより、1/2電位生成回路1aから出力された電位が、1/2電位生成回路1bに入力され、1/2電位生成回路1bから出力された電位が、1/2電位生成回路1aに入力される。
【0027】
この場合、1/2電位生成回路1aでは、入力端子2aの電圧Vccと、入力端子3aの電圧1/3Vccとが1/2に分割されるので、1/2電位生成回路1aの出力端子Voutでは、(Vcc+1/3Vcc)×1/2=2/3Vccの電位を得ることができる。また、1/2電位生成回路1bでは、入力端子2bの電圧2/3Vccと、入力端子3bの電圧0Vとが1/2に分割されるので、1/2電位生成回路1bの出力端子Voutでは、(2/3Vcc+0)×1/2=1/3Vccの電位を得ることができる。
【0028】
また、上記1/2電位生成回路1aと1/2電位生成回路1bとの組み合わせを一般化すると、以下のようになる。すなわち、電圧を1/k1に分割する第1電位生成回路(出力v1)と、電圧を1/k2に分割する第2電位生成回路(出力v2)とを縦積みにした場合、第1電位生成回路の出力v1および第2電位生成回路の出力v2は、それぞれ、以下の式(1)および式(2)のように示される。
【0029】
v1=v2・(1/k1) ・・・(1)
v2=(Vcc+v1)・(1/k2) ・・・(2)
上記式(1)および式(2)からv1およびv2を求めると、それぞれ、次の式(3)および式(4)のようになる。
【0030】
v1=Vcc・1/(k1k2−1) ・・・(3)
v2=Vcc・k1/(k1k2−1) ・・・(4)
上記式(3)および式(4)にk1およびk2を代入すれば、出力v1およびv2を算出することができる。
【0031】
第1実施形態による電位生成回路1では、上記したように、入力された電位差を1/2に分割して出力する機能を有する2つの1/2電位生成回路1aおよび1bを組み合わせることによって、複雑な回路構成を用いることなく、電源電圧を等分した電圧(2/3Vcc、1/3Vcc)を容易に得ることができる。
【0032】
また、第1実施形態による電位生成回路1では、上記したように、定常的な貫通電流の少ない1/2電位生成回路1aおよび1bを組み合わせることによって、消費電力を低減することができる。
【0033】
図4は、図1に示した第1実施形態による電位生成回路を含むマトリクス型の強誘電体メモリの全体構成を示した回路図である。この単純マトリクス型の強誘電体メモリでは、メモリセルアレイ10は、9個のメモリセル11がマトリクス状に配置されて構成されている。各メモリセル11を構成する強誘電体キャパシタ12の一方の端子は、ワ−ド線WL0〜WL2に接続され、他方の端子は、ビット線BL0〜BL2に接続されている。各ワ−ド線WL0〜WL2は、ロウデコ−ダ14に接続されている。また、各ビット線BL0〜BL2は、カラムデコ−ダ15に接続されている。ロウデコ−ダ14およびカラムデコ−ダ15には、第1実施形態による電位生成回路1が接続されている。
【0034】
外部から指定されたロウアドレスおよびカラムアドレスは、アドレスピン16に入力される。そのロウアドレスおよびカラムアドレスは、アドレスピン16からアドレスラッチ17へ転送される。アドレスラッチ17でラッチされた各アドレスのうち、ロウアドレスは、アドレスバッファ18を介してロウデコ−ダ14へ転送され、カラムアドレスはアドレスバッファ18を介してカラムデコ−ダ15へ転送される。
【0035】
ロウデコ−ダ14は、各ワ−ド線WL0〜WL2のうち、アドレスラッチ17でラッチされたロウアドレスに対応したワ−ド線を選択し、各ワ−ド線の電位を動作モ−ドに対応して制御する。なお、各ワ−ド線WL0〜WL2に印加される電位は、ロウデコ−ダ14に接続された電位生成回路1により生成されている。
【0036】
カラムデコ−ダ15は、各ビット線BL0〜BL2のうち、アドレスラッチ17でラッチされたカラムアドレスに対応するビット線を選択し、各ビット線の電位を動作モ−ドに対応して制御する。なお、各ビット線BL0〜BL2に印加される電位は、カラムデコ−ダ15に接続された電位生成回路1により生成されている。
【0037】
外部から指定されたデ−タは、デ−タピン19に入力される。そのデ−タは、デ−タピン19から入力バッファ20を介してカラムデコ−ダ15へ転送される。カラムデコ−ダ15は、各ビット線BL0〜BL2の電位を、そのデ−タに対応した電位に制御する。なお、各ビット線BL0〜BL2に印加される電位は、カラムデコ−ダ15に接続された電位生成回路1により生成されている。
【0038】
任意のメモリセル11から読み出されたデ−タは、各ビット線BL0〜BL2からカラムデコ−ダ15を介してセンスアンプ21へ転送される。センスアンプ21は電圧センスアンプである。センスアンプ21で判別されたデ−タは、出力バッファ22からデ−タピン19を介して外部へ出力される。
【0039】
なお、上記した各回路(1、14〜22)の動作は、制御コア回路23によって制御される。
【0040】
次に、第1実施形態の強誘電体メモリの書き込み動作について説明する。マトリクス型の強誘電体メモリにおいて、選択された特定のメモリセル11(選択セル13)に0または1のデ−タを書き込む場合、各ワ−ド線WL0〜WL2および各ビット線BL0〜BL2に対して特定の電位の印加を行う。デ−タの書き込み時に、各ワ−ド線WL0〜WL2および各ビット線BL0〜BL2に印加する電位を次の表1に示す。なお、強誘電体キャパシタ12の強誘電体を分極反転させるのに必要な電位をVccとする。また、各ワ−ド線WL0〜WL2および各ビット線BL0〜BL2に印加する電位のうち、2/3Vccおよび1/3Vccは、電位生成回路1により生成する。
【0041】
【表1】
上記表1を参照して、選択セル13にデ−タ「0」を書き込む場合、アドレスピン16に入力されたアドレスにより、ワ−ド線WL1と、ビット線BL1とが選択される。そして、各ワ−ド線WL0〜WL2と各ビット線BL0〜BL2に対して、表1に示した電位を印加する。すなわち、選択されたワ−ド線WL1を接地(GND)するとともに、選択されたビット線BL1にVccの電位を印加する。選択されなかったワ−ド線WL0およびWL2には、2/3Vccの電位を印加するとともに、ビット線BL0およびBL2には、1/3Vccの電位を印加する。これにより、選択されたワ−ド線WL1とビット線BL1とに接続された選択セル13の強誘電体キャパシタ12の両端にVccの電位差が生じるので、強誘電体の分極反転が生じる。これにより、選択セル13にデ−タ「0」が書き込まれる。一方、非選択セルの強誘電体キャパシタ12の両端には、1/3Vccの電位差しか生じないので強誘電体の分極反転が生じない。そのため、非選択セルにはデ−タ「0」は書き込まれない。
【0042】
このように、各ワ−ド線WL0〜WL2と各ビット線BL0〜BL2とに対して、GND、Vcc、2/3Vccまたは1/3Vccのいずれかの電位を表1に示した条件で印加することにより、選択セル13にデ−タ「0」の書き込みを行うことができる。なお、デ−タ「1」を書き込む場合は、表1に示すように、ワ−ド線とビット線に印加する電位を、デ−タ「0」を書き込む場合の条件と入れ替えることにより行う。
【0043】
次に選択セル13からのデ−タの読み込み動作について説明する。デ−タの読み込み時に各ワ−ド線WL0〜WL2および各ビット線BL0〜BL2に印加する電位を次の表2に示す。
【0044】
【表2】
上記表2を参照して、まず、読み込み動作の前に、選択ビット線BL1の電位をプリチャ−ジしてGNDレベルに落とした後、highZ(フロ−ティング)状態にする。次に、選択ワ−ド線WL1に電位Vccを印加する。また、選択されたなかったワ−ド線WL0およびワ−ド線WL2には、1/3Vccの電位を印加し、選択されなかったビット線BL0およびビット線BL2には、2/3Vccの電位を印加する。この場合、選択ワ−ド線WL1に電位Vccを印加した際の選択ビット線BL1の電位変化は、選択セル13に書き込まれていたデ−タに応じて変化する。この電位の変化量をカラムデコ−ダ15を通してセンスアンプ21で読み出すことにより、デ−タの読み出しが行われる。このように、各ワ−ド線WL0〜WL2と各ビット線BL0〜BL2とに対して、GND、Vcc、2/3Vccまたは1/3Vccのいずれかの電位を表2に示した条件で印加することにより、デ−タの読み込みを行うことができる。
【0045】
第1実施形態による電位生成回路1を含むマトリクス型の強誘電体メモリ素子では、上記したように、非選択の各ワ−ド線WL0〜WL2および各ビット線BL0〜BL2に対して、電位生成回路1により生成した2/3Vccまたは1/3Vccのいずれかの電位を印加することにより、デ−タの書き込み、および、読み込みを行うことができる。この場合に、第1実施形態による電位生成回路1を用いて電位を生成することにより、定常的な貫通電流に起因する消費電流を低減することができるので、容易に、低消費電力のマトリクス型の強誘電体メモリを得ることができる。
【0046】
(第2実施形態)
図5は、本発明の第2実施形態によるDAコンバ−タの全体構成を示した概略図である。なお、この第2実施形態では、図1〜図3で示した電位生成回路1に含まれる1/2電位生成回路1aを複数個用いてDAコンバ−タを形成した場合の例について説明する。
【0047】
図5を参照して、第2実施形態によるDAコンバ−タ30の構造について説明する。第2実施形態によるDAコンバ−タ50では、図5に示すように、n個の1/2電位生成回路1a1〜1an(n>1)が直列に接続されている。1/2電位生成回路1a1の第1入力端子2a1は、電源電圧端子Vccおよび端子T0に接続されている。1/2電位生成回路1a1の出力端子4a1は、端子T1に接続されるとともに、上から2番目の1/2電位生成回路1a2の第1入力端子2a2に接続されている。また、上から2番目の1/2電位生成回路1a2の出力端子4a2は、1番上の1/2電位生成回路1a1の第2入力端子3a1と、上から3番目の1/2電位生成回路1a3の第1入力端子2a3とに接続されている。以下、同様に接続されている。1/2電位生成回路1anの第2入力端子3anは、接地端子GNDおよび端子Tnに接続されている。
【0048】
また、Din回路31には、スイッチS0〜Snが設けられている。このスイッチS0〜Snの任意のスイッチをオンすることにより、端子T0〜Tnの任意の端子と、出力端子Voutとを接続することができる。
【0049】
このDAコンバ−タ30では、n個の1/2電位生成回路1a1〜1anを上記のように接続することにより、電源電圧Vccが所定の電位に等分に分割される。そして、Din回路31に入力されたデジタル信号に基づいて、スイッチS0〜Snの任意の一つをオンすることにより、入力されたデジタル信号に応じた所定の電位を出力端子Voutから出力することができる。
【0050】
なお、上記1/2電位生成回路1a1〜1anの組み合わせを一般化すると、以下のようになる。すなわち、複数個(n個)の電位生成回路のうち、m番目の電位生成回路を、電圧を1/kmに分割する電位生成回路とすると、そのm番目の電位生成回路の出力vmは、以下の式(5)のように示される。
【0051】
vm=(v(m+1)+v(m−1))×(1/km) ・・・(5)
この式(5)にm=1〜nを代入して、これらの式を解くことによって、各vmを得ることができる。
【0052】
また、第2実施形態によるDAコンバ−タ30では、上記したように、定常的な貫通電流に起因する消費電力を低減することが可能な1/2電位生成回路1aを複数接続することによって、複雑な回路構成を用いることなく、入力されたデジタル信号に応じたアナログ電圧を得ることができる。これにより、容易に、低消費電力のDAコンバ−タ30を得ることができる。
【0053】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【0054】
たとえば、上記第1実施形態では、2つの1/2電位生成回路1aおよび1/2電位生成回路1bとを接続することにより電位生成回路1を形成したが、本発明はこれに限らず、1/2電位生成回路をm(m≧3)個接続することにより電位生成回路を形成してもよい。この場合、電位生成回路に印加された電圧差がVccの場合、p/(m+1)×Vcc(m≧p≧1)の電位をそれぞれの出力端子から得ることができる。
【0055】
また、上記実施形態では、本発明をマトリクス型の強誘電体メモリまたはDAコンバ−タ30に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限らず、他の電子機器に適用してもよい。たとえば、1Tr(トランジスタ)型強誘電体メモリ、多値フラッシュメモリまたはアナログ混載回路などに適用してもよい。なお、1Tr型強誘電体メモリについては、ビット線とワ−ド線に1/3Vccまたは2/3Vccの電位を印加する必要があり、多値フラッシュメモリについては、書き込みたいデ−タに応じて、ビット線とワ−ド線の電位を制御する必要がある。本発明は、このような目的に特に適している。
【0056】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、消費電流を低減することが可能な電位生成回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態による電位生成回路の構成を示した概略図である。
【図2】図1に示した第1実施形態による電位生成回路に含まれる1/2電位生成回路の内部構成を示した回路図である。
【図3】図1に示した第1実施形態による電位生成回路の内部構成を示した回路図である。
【図4】図1に示した電位生成回路を含むマトリクス型の強誘電体メモリの全体構成を示した回路図である。
【図5】本発明の第2実施形態によるDAコンバ−タの全体構成を示した概略図である。
【図6】従来の抵抗分割によるDAコンバ−タの全体構成を示した回路図である。
【図7】従来のフィ−ドバックを用いた電位生成回路の全体構成を示した回路図である。
【符号の説明】
1 電位生成回路
1a 1/2電位生成回路(第1分割回路)
1b 1/2電位生成回路(第2分割回路)
2a、2b 第1入力端子
3a、3b 第2入力端子
R1 第1抵抗
R2 第2抵抗
N1 ノ−ド(第1ノ−ド)
N2 ノ−ド(第2ノ−ド)
NT1 nチャネルトランジスタ(第1nチャネルトランジスタ)
NT2 nチャネルトランジスタ(第2nチャネルトランジスタ)
PT1 pチャネルトランジスタ(第1pチャネルトランジスタ)
PT2 pチャネルトランジスタ(第1pチャネルトランジスタ)[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a potential generation circuit, and more particularly to a potential generation circuit including a division circuit.
[0002]
[Prior art]
In recent years, a potential generation circuit that generates a predetermined potential has been used in various electronic devices such as a matrix memory element and a DA converter. In a potential generation circuit, a predetermined potential is usually generated by equally dividing a power supply voltage using resistance division or the like.
[0003]
FIG. 6 is a circuit diagram showing the overall configuration of a conventional DA converter using resistance division. Referring to FIG. 6, in
[0004]
In the
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, the
[0006]
Conventionally, as a method of dividing the potential supplied from the power supply voltage terminal into a predetermined potential, there is a method using feedback.
[0007]
FIG. 7 is a circuit diagram showing an overall configuration of a potential generating circuit using a conventional feedback. Referring to FIG. 7, in the
[0008]
The
[0009]
However, the
[0010]
The present invention has been made to solve the above problems,
One object of the present invention is to provide a potential generation circuit capable of reducing current consumption.
[0011]
Another object of the present invention is to reduce current consumption caused by a steady through current without using a complicated circuit configuration in the above-described potential generation circuit.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a potential generation circuit according to
[0013]
In the potential generation circuit according to
[0015]
Claim2The potential generation circuit in claim1'sIn configuration,The first divided circuit and the second divided circuit are respectivelyA gate and one terminal are connected to the first and second input terminals, a first resistor connected to the first input terminal, a second resistor connected to the second input terminal, and the first resistor. A first n-channel transistor having the other terminal connected to the first node, a gate and one terminal connected to the second resistor, and a first p-channel transistor having the other terminal connected to the first node; A second n-channel transistor having one terminal connected to the first input terminal, the other terminal connected to the second node as an output node, and a gate connected to the first resistor; And a second p-channel transistor having one terminal connected to the two input terminals, the other terminal connected to the second node, and a gate connected to the second resistor. The substrate of the second p-channel transistor is connected to the first input terminal, and the substrate of the first p-channel transistor is connected to the first node. With this configuration, for example, if the power supply voltage terminal is connected to the first input terminal, the threshold voltage of the second p-channel transistor is increased, so that the second p-channel transistor is normally turned off. Only when the potential of the second node, which is the output node, rises, it is turned on. Thereby, since a steady through current does not flow, a divided circuit with low power consumption can be easily obtained. As a result, a low power consumption potential generation circuit including a plurality of low power consumption dividing circuits can be obtained.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0017]
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a potential generation circuit according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram showing an internal configuration of a 1/2 potential generation circuit included in the potential generation circuit according to the first embodiment shown in FIG. FIG. 3 is a circuit diagram showing an internal configuration of the potential generating circuit according to the first embodiment shown in FIG. In the first embodiment, a
[0018]
First, the overall configuration of the
[0019]
Here, in the
[0020]
Next, referring to FIGS. 2 and 3, the internal circuit configuration of ½
[0021]
In the 1/2
[0022]
The drain of the second n-channel transistor NT2 is connected to the
[0023]
Further, by sufficiently increasing the resistance values of the first resistor R1 and the second resistor R2, the potential of the node N3 is lowered and the potential of the node N4 is raised. As a result, the potentials of the node N3, the node N1, and the node N4 are respectively settled to the potential just below the cutoff of the first n-channel transistor NT1 and the first p-channel transistor PT1. In this case, the potential difference between the node N3 and the node N4 is the threshold voltage V1 of the first n-channel transistor NT1.tnAnd the threshold voltage V of the first p-channel transistor PT1tpAnd sum (Vtn+ Vtp)become.
[0024]
The resistance values of the first resistor R1 and the second resistor R2 are such that the potential of the node N1 is half of the potential difference between the
[0025]
In the 1/2
[0026]
As shown in FIG. 3, the
[0027]
In this case, in the 1/2
[0028]
Further, the general combination of the 1/2
[0029]
v1 = v2 · (1 / k1) (1)
v2 = (Vcc + v1) · (1 / k2) (2)
When v1 and v2 are obtained from the above equations (1) and (2), the following equations (3) and (4) are obtained, respectively.
[0030]
v1 = Vcc · 1 / (k1k2-1) (3)
v2 = Vcc · k1 / (k1k2-1) (4)
The outputs v1 and v2 can be calculated by substituting k1 and k2 into the above equations (3) and (4).
[0031]
In the
[0032]
Further, in the
[0033]
FIG. 4 is a circuit diagram showing an overall configuration of a matrix type ferroelectric memory including the potential generating circuit according to the first embodiment shown in FIG. In this simple matrix type ferroelectric memory, the
[0034]
A row address and a column address designated from the outside are input to the
[0035]
The
[0036]
The
[0037]
Data designated from the outside is input to the
[0038]
Data read from any
[0039]
The operation of each circuit (1, 14-22) is controlled by the
[0040]
Next, the write operation of the ferroelectric memory according to the first embodiment will be described. In a matrix type ferroelectric memory, when data of 0 or 1 is written to a selected specific memory cell 11 (selected cell 13), each word line WL is written.0~ WL2And each bit line BL0~ BL2A specific potential is applied to. When writing data, each word line WL0~ WL2And each bit line BL0~ BL2The potential applied to is shown in Table 1 below. Note that a potential required to reverse the polarization of the ferroelectric of the
[0041]
[Table 1]
Referring to Table 1, when data “0” is written in the selected
[0042]
Thus, each word line WL0~ WL2And each bit line BL0~ BL2On the other hand, data “0” can be written to the selected
[0043]
Next, an operation of reading data from the selected
[0044]
[Table 2]
Referring to Table 2 above, first, before the read operation, the selected bit line BL1Is precharged and dropped to the GND level, and then set to a highZ (floating) state. Next, the selected word line WL1Is applied with a potential Vcc. Also, the word line WL that was not selected0And word line WL2Is applied with a potential of 1/3 Vcc, and the bit line BL not selected is selected.0And bit line BL2Is applied with a potential of 2/3 Vcc. In this case, the selected word line WL1Bit line BL when a potential Vcc is applied to1The change in the potential changes depending on the data written in the selected
[0045]
In the matrix type ferroelectric memory device including the
[0046]
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a schematic diagram showing the overall configuration of a DA converter according to the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, an example in which a DA converter is formed by using a plurality of ½
[0047]
The structure of the
[0048]
The
[0049]
In the
[0050]
The 1/2
[0051]
vm = (v (m + 1) + v (m−1)) × (1 / km) (5)
Each vm can be obtained by substituting m = 1 to n into this equation (5) and solving these equations.
[0052]
Further, in the
[0053]
The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiment but by the scope of claims for patent, and all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims for patent are included.
[0054]
For example, in the first embodiment, the
[0055]
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to the matrix type ferroelectric memory or the
[0056]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a potential generation circuit capable of reducing current consumption can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a potential generation circuit according to a first embodiment of the present invention.
2 is a circuit diagram showing an internal configuration of a ½ potential generation circuit included in the potential generation circuit according to the first embodiment shown in FIG. 1; FIG.
3 is a circuit diagram showing an internal configuration of the potential generation circuit according to the first embodiment shown in FIG. 1; FIG.
4 is a circuit diagram showing an overall configuration of a matrix type ferroelectric memory including the potential generation circuit shown in FIG. 1; FIG.
FIG. 5 is a schematic diagram showing an overall configuration of a DA converter according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a circuit diagram showing an overall configuration of a conventional DA converter using resistance division.
FIG. 7 is a circuit diagram showing an overall configuration of a potential generating circuit using a conventional feedback.
[Explanation of symbols]
1 Potential generation circuit
2a, 2b 1st input terminal
3a, 3b second input terminal
R1 first resistance
R2 Second resistance
N1 node (first node)
N2 node (second node)
NT1 n-channel transistor (first n-channel transistor)
NT2 n-channel transistor (second n-channel transistor)
PT1 p-channel transistor (first p-channel transistor)
PT2 p-channel transistor (first p-channel transistor)
Claims (2)
前記第1分割回路の出力は、前記第2分割回路の入力に接続され、
前記第2分割回路の出力は、前記第1分割回路の入力に接続される、電位生成回路。 A first divider circuit and a second divider circuit each having two inputs and generating one output by dividing the voltage of the two inputs into a predetermined ratio;
The output of the first divider circuit is connected to the input of the second divider circuit;
The output of the second divider circuit is connected to an input of the first divider circuit, electrostatic position generating circuit.
第1入力端子および第2入力端子と、
前記第1入力端子に接続される第1抵抗と、
前記第2入力端子に接続される第2抵抗と、
前記第1抵抗にゲ−トおよび一方端子が接続され、第1ノ−ドに他方端子が接続される第1nチャネルトランジスタと、
前記第2抵抗にゲ−トおよび一方端子が接続され、前記第1ノ−ドに他方端子が接続される第1pチャネルトランジスタと、
前記第1入力端子に一方端子が接続され、出力ノ−ドとしての第2ノ−ドに他方端子が接続され、かつ、前記第1抵抗にゲ−トが接続される第2nチャネルトランジスタと、
前記第2入力端子に一方端子が接続され、前記第2ノ−ドに他方端子が接続され、かつ、前記第2抵抗にゲ−トが接続される第2pチャネルトランジスタとを備え、
前記第2pチャネルトランジスタの基板は、前記第1入力端子に接続されているとともに、前記第1pチャネルトランジスタの基板は、前記第1ノ−ドに接続されている、請求項1に記載の電位生成回路。 The first divided circuit and the second divided circuit are respectively
A first input terminal and a second input terminal;
A first resistor connected to the first input terminal;
A second resistor connected to the second input terminal;
A first n-channel transistor having a gate and one terminal connected to the first resistor and having the other terminal connected to the first node;
A first p-channel transistor having a gate and one terminal connected to the second resistor and the other terminal connected to the first node;
A second n-channel transistor having one terminal connected to the first input terminal, the other terminal connected to a second node as an output node, and a gate connected to the first resistor;
A second p-channel transistor having one terminal connected to the second input terminal, the other terminal connected to the second node, and a gate connected to the second resistor;
2. The potential generation according to claim 1, wherein a substrate of the second p-channel transistor is connected to the first input terminal, and a substrate of the first p-channel transistor is connected to the first node. circuit.
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