JP3900513B2 - Tuning fork type piezoelectric resonator element, vibrator, oscillator, electronic device, and tuning fork type piezoelectric resonator element - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば水晶等からなる音叉型圧電振動片、この音叉型圧電振動片を有する振動子、この振動子を備える発振器、電子機器及び音叉型圧電振動片の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、振動片である音叉型水晶振動片10は、例えば図16に示すように構成されている。図16は、音叉型水晶振動片10を示す概略図である。図17は、図16のA−A’線概略断面図である。
図16に示すように、音叉型水晶振動片10には、基部11と、この基部11から突出して形成されている2本の音叉腕12,13を有している。そして、この2本の音叉腕12,13には、貫通孔である貫通溝12a,13aが図16及び図17に示すように形成されている。
【0003】
このような貫通溝12a,13aを音叉腕12,13に有する音叉型水晶振動片10には、図17に示すように、貫通溝12a,13aの内側に溝電極12c,13cが配置されている。
また、音叉腕12,13の外側の側面には、図17に示すように側面電極12b、13bが配置されている。
このように、音叉腕12,13の貫通溝12a、13aの内側と音叉腕12,13の外側に配置される溝電極12c、13cと側面電極12b、13bに電流が印加されると、両者の間の音叉腕12,13の内部で電界が発生することになる。
このとき、溝電極12c、13cと側面電極12b、13bは、図17に示すように対向して配置されているため、電界が効果的に発生し、電界効率良く音叉腕12,13を振動させることができるので、振動損失の小さい音叉型水晶振動片10となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このような貫通溝12a,13aを有する音叉型水晶振動片10に電圧を印加し、音叉腕12,13を振動させると、音叉腕12,13に貫通溝12a,13aが形成されているため、音叉腕12,13全体の剛性が不足し、CI値(クリスタルインピーダンス又は等価直列抵抗)が上昇してしまうという問題があった。
また、このような音叉型水晶振動片10の音叉腕12,13を振動させると、図18に示すように、貫通溝12a,13aの両端部が振動するだけで、音叉腕12,13全体の屈曲運動は生じ難くなっている。
このような貫通溝12a,13aの両端部に振動は、例えば16kHz近傍の振動となってしまい、音叉型水晶振動片10が求められる32.768kHzに比べ周波数が著しく低下してしまうという問題もあった。
【0005】
この貫通溝12a、13aの剛性を高めるための工夫として、貫通溝12a、13aに剛性を高めるための連結部であるサイドバー等を形成することも考えられる。
確かに、サイドバーを形成すると音叉腕12,13の剛性が高まり、音叉腕12,13全体の屈曲運動は生じ易くなる。しかし、このサイドバーを形成した部分の溝電極12c、13cは、サイドバーがあるため側面電極12b、13bと対向した位置に配置することができず、電界効率が悪くなり振動損失が大きなるという問題が生じた。
この問題を解決するため、サイドバーにおける溝電極12c、13cの配置を工夫すると、その分、生産工程が増え、生産コストが上昇するという問題が生じた。
【0006】
そこで、本発明は上記問題に鑑み、生産コストを上げずに連結部における電界効率を上昇させCI値を低下させることができる音叉型圧電振動片、振動子、発振器、電子機器及び音叉型圧電振動片の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記目的は、請求項1の発明によれば、基部と、この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片であって、前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする音叉型圧電振動片により達成される。
【0008】
請求項1の構成によれば、前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されているので、溝部に溝電極を形成することで、振動腕部の外側の側面電極との位置関係を対向位置に近づけることができる。
したがって、振動腕部の剛性を高めつつ、振動腕部内の電界効率も高めることができる
また、前記連結部に溝部を形成するだけなので、連結部の全体の厚みをハーフエッチング等で薄くして溝電極を配置する場合等に比べ格段に生産コストを低減させることができる。
【0009】
好ましくは、請求項2の発明によれば、請求項1の構成において、前記サイドバーが前記貫通孔を形成する長辺側と短辺側のうち、長辺側相互間をわたすように形成されるサイドバーあることを特徴とする音叉型圧電振動片である。
請求項2の構成によれば、前記サイドバーが前記貫通孔を形成する長辺側と短辺側のうち、長辺側相互間をわたすように形成されるサイドバーである。このため、最も剛性の不足している部分にサイドバーが配置されることになる。
また、振動の応力を伝達するサイドバーが最も応力が伝わり難い貫通孔の長辺側を連結し、応力を伝えるので、振動腕部全体の屈曲運動が生じ易い構成となる。したがって、CI値(クリスタルインピーダンス又は等価直列抵抗)の上昇を未然に防ぐことができる音叉型圧電振動片である。
【0010】
好ましくは、請求項3の発明によれば、請求項2の構成において、前記サイドバーが前記貫通孔内に複数配置されていることを特徴とする音叉型圧電振動片である。
請求項3の構成によれば、前記サイドバーが前記貫通孔内に複数配置されているので、前記振動腕部の剛性不足をより補うことができる。また、振動の応力を伝達するサイドバーが複数配置されているため、より応力を伝え易くなり、振動腕部全体により効率良く屈曲運動が生じやすくなる、したがって、CI値を低下させることができる音叉型圧電振動片となる。
【0011】
好ましくは、請求項4の発明によれば、請求項1乃至請求項3の構成によれば、前記溝部が前記振動腕部の表面側及び/又は裏面側から前記貫通孔の深さ方向に向かって略V字形に形成されていることを特徴とする音叉型圧電振動片である。
請求項4の構成によれば、前記溝部が前記振動腕部の表面側及び/又は裏面側から前記貫通孔の深さ方向に向かって略V字形に形成されている。このため、例えばハーフエッチング等の特別の工程を経ずに前記溝部を容易に形成できるので生産コストを著しく低減させることができる。
【0012】
好ましくは、請求項5の発明によれば、請求項1乃至請求項4の構成において、前記基部に切り込み部が形成されていることを特徴とする音叉型圧電振動片である。
請求項5の構成によれば、前記基部に切り込み部が形成されているので、前記振動腕部が振動する際に、垂直方向成分を有した振動が生じても、振動腕部の振動が基部側へ漏れるのを、この切り込み部で緩和することができる。したがって、基部を小型化しながら、CI値の音叉型圧電振動片素子間のバラツキを安定化させることができる。
【0013】
好ましくは、請求項6の発明によれば、請求項5の構成において、前記基部には、この音叉型圧電振動片を固定させるための固定領域が設けられていると共に、前記切り込み部は、この固定領域と前記振動腕部との間の基部に設けられていることを特徴とする音叉型圧電振動片である。
請求項6の構成によれば、前記切り込み部は、前記固定領域と前記振動腕部との間の基部に設けられている。したがって、この切り込み部は、前記振動腕部の振動の妨げにならない位置に配置されていると共に、振動漏れが前記固定領域へ伝わり、エネルギーの逃げが生じるのを有効に防止している。このため、CI値の音叉型圧電振動片素子間のバラツキが安定化する。
【0014】
好ましくは、請求項7の発明によれば、請求項1乃至請求項6のいずれかの構成において、前記音叉型圧電振動片が水晶で形成され、略32.768kHzの発振周波数を有する音叉型水晶振動片であることを特徴とする音叉型圧電振動片である。
請求項7の構成によれば、前記音叉型圧電振動片が略32.768kHzで発振する水晶で形成されている音叉型振動片の前記振動腕部の剛性を高めつつ、振動腕部内の電界効率も高めることができる
また、前記サイドバーに前記溝部を形成するだけなので、サイドバーの全体の厚みをハーフエッチング等で薄くして溝電極を配置する場合等に比べ格段に生産コストを低減させることができる。
【0015】
前記目的は、請求項8の発明によれば、基部と、この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片がパッケージ内に収容されている振動子であって、前記音叉型圧電振動片の前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする振動子により達成される。
【0016】
好ましくは、請求項9の発明によれば、請求項8の構成において、前記パッケージが箱状に形成されていることを特徴とする振動子である。
【0017】
好ましくは、請求項10の発明によれば、請求項8の構成において、前記パッケージが所謂シリンダータイプに形成されていることを特徴とする振動子である。
【0018】
請求項8乃至請求項10の構成によれば、前記振動子の前記音叉型圧電振動片の前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されているので、溝部に溝電極を形成することで、振動腕部の外側の側面電極との位置関係を対向位置に近づけることができる。
したがって、振動腕部の剛性を高めつつ、振動腕部内の電界効率も高めることができる
また、前記サイドバーに溝部を形成するだけなので、サイドバーの全体の厚みをハーフエッチング等で薄くして溝電極を配置する場合等に比べ格段に生産コストを低減させることができる振動子となる。
【0019】
前記目的は、請求項11の発明によれば、基部と、この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片と集積回路がパッケージ内に収容されている発振器であって、前記音叉型圧電振動片の前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする発振器により達成される。
【0020】
前記目的は、請求項12の発明によれば、基部と、この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片であり、この音叉型圧電振動片がパッケージ内に収容されている振動子であり、この振動子を制御部に接続して用いている電子機器であって、前記音叉型圧電振動片の前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする電子機器により達成される。
【0021】
請求項11又は請求項12の構成によれば、前記発振器又は電子機器の前記音叉型圧電振動片前の前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、前記サイドバーには溝部が形成されているので、溝部に溝電極を形成することで、振動腕部の外側の側面電極との位置関係を対向位置に近づけることができる。
したがって、振動腕部の剛性を高めつつ、振動腕部内の電界効率も高めることができる
また、前記サイドバーに溝部を形成するだけなので、サイドバーの全体の厚みをハーフエッチング等で薄くして溝電極を配置する場合等に比べ格段に生産コストを低減させることができる発振器又は電子機器となる。
【0022】
前記目的は、請求項13の発明によれば、水晶からなる音叉型圧電振動片の外形と、この音叉型圧電振動片の基部から突出して形成される振動腕部に設けられる貫通孔と、貫通孔内に設けられるサイドバーと、前記サイドバーに設けられる溝部と、を設けるためのレジストパターンを形成するレジストパターニング工程と、このレジストパターンをマスクとして金属膜をエッチングする金属膜エッチング工程と、この金属膜をマスクとして水晶を異方性エッチンングする水晶エッチング工程と、を備え、前記溝部を設けるための前記レジストパターンは、前記水晶エッチング工程において、前記溝部に貫通孔が形成されないような幅を有していることを特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法により達成される。
【0023】
請求項13の構成によれば、水晶からなる音叉型圧電振動片の外形と、この音叉型圧電振動片の基部から突出して形成される振動腕部に設けられる貫通孔と、貫通孔内に設けられるサイドバーと、サイドバーに設けられる溝部と、を設けるためのレジストパターンを形成するレジストパターニング工程を有している。
この溝部を設けるための前記レジストパターンは、前記水晶エッチング工程において、前記溝部に貫通孔が形成されないような幅を有している。そして、この金属膜をマスクとして水晶を異方性エッチンングする水晶エッチング工程を有している。
ところで、水晶に対する異方性エッチングの場合、パターンの幅が狭まると溝部の深さ方向にエッチングストップ現象が生じ、その部分のエッチングは途中で止まり、貫通孔が形成されず、溝部が形成されることになる。
このエッチングストップ現象は、パターンの幅が狭くなればなるほど浅い部分で生じるため、溝部も浅くなる。
このような特性を用いて前記レジストパターンにおける前記溝部を形成する部分のパターンの幅を狭く形成すれば、前記振動腕部に前記貫通孔と前記溝部とを同一の工程で同時に形成できることになる。
したがって、前記サイドバーに設ける溝部を形成するための別のレジストパターニング工程を経る必要がないので、生産工程を増やすことなく前記連結部に前記溝部を形成することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【0025】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る振動片である電極が形成されていない音叉型水晶振動片100を示す図である。
音叉型水晶振動片100は、例えば所謂水晶Z板となるように水晶の単結晶を切り出して形成されている。また、図1に示す音叉型水晶振動片100は例えば発振周波数が32.768kHzの振動片であるため、極めて小型の振動片となっている。
【0026】
このような音叉型水晶振動片100は、図1に示すように、基部110を有して、この基部110から図において上方向に突出するように振動腕部である音叉腕121,122が2本配置されている。
また、この音叉腕121,122には、貫通孔である貫通溝123,124が音叉腕121,122のそれぞれに4カ所ずつ形成され、これら貫通溝123,124の開口部は図1に示すように略長方形を成している。
【0027】
そして、これら音叉腕121,122のそれぞれに4カ所設けられた貫通溝123,124の間には貫通溝123,124を形成したことにより低下した剛性を補強するための連結部であるサイドバー125、126が形成されている。
このサイドバー125,126は、音叉腕121,122と一体と成っており同じ水晶で形成されている。
また、サイドバー125,126は、図1に示すように一定の間隔で音叉腕121,122それぞれに3カ所ずつ形成されている。そして、これらサイドバー125,125は、貫通溝123,124の長辺側(図において縦方向)の左右の端部123a、124a、123b、124b相互間をわたすように形成されている。
【0028】
図2は、図1の矢印Dで示す部分の概略拡大斜視図である。図1に示すようにサイドバー125は、貫通溝123,124の長辺側の左右の端部123a、123b相互間をわたすように形成されている。
また、このサイドバー125には、溝部であるV字溝125aが音叉腕121の表面側に2カ所、裏面側の2カ所、合計4カ所形成されている。
このV字溝125aは、貫通溝123の深さ方向に向かって形成されている。このV字溝125aについては、後述する。
【0029】
ところで、このサイドバー125,126は、貫通溝123,124を形成したために図18に示すように音叉腕121,122の剛性が不足する部分に配置されている。
そして、このサイドバー125,126は、貫通溝123,124内に複数、例えば3カ所配置され、その厚みがV字溝125aの部分を除き音叉腕121、122の厚みと略同様なので(図2参照)、より剛性不足を補うことのできる構成となっている。
【0030】
すなわち、後述のように電流が印加して音叉腕121,122が振動すると、振動の応力がサイドバー125、126によってサイドバー125,126を挟んで配置される両側の音叉腕121,122に伝わり、図3に示すように音叉腕121,122全体の屈曲運動が生じやすい構成となっている。そして、このサイドバー125,126が3カ所形成されていることにより、より応力伝わり易くなっている。
なお、図3は音叉腕121、122の屈曲運動の説明図である。
このように音叉腕121,122の屈曲運動が生じ易くなると、CI値(クリスタルインピーダンス又は等価直列抵抗)が低下し、好適な音叉型水晶振動片100となる。
【0031】
このように音叉腕121,122を振動を生じさせるため、図1には示されていないが、音叉型水晶振動片100の表面には電極が形成される。具体的は図1の貫通溝123,124やサイドバー125,126には、溝電極127が形成される。
また、この音叉腕121,122の図1のおける左右の側面には側面電極128が形成される。
このような溝電極127や側面電極128は、図1の基部に形成される基部電極と接続されており、基部電極を介して溝電極127や側面電極128に電流が供給されるようになっている。
【0032】
図4及び図5は、このように溝電極127や側面電極128が形成された状態における概略断面図である。すなわち、図4は、図1のC−C’線概略断面図であり、図5は図1のB−B’線概略断面図である。音叉腕122も同様の構成であるため、以下、音叉腕121についてのみ説明する。
この図4のC−C’線概略断面図は、音叉腕121の貫通溝123が形成されている部分の概略断面図である。図4に示すように、貫通溝123の内側には溝電極127が形成され、この溝電極127と対向するように音叉腕121の外側には側面電極128が形成されている。
【0033】
したがって、基部電極を介して電流が印加されると、図4の矢印で示すように電界が音叉腕121内に生じ音叉腕121が振動を開始することになる。
この振動の際、図4に示すように音叉腕121内に効率良く電界が発生するため音叉腕121内の電界効率が良好で振動損失の少ない音叉型水晶振動片100となっている。
【0034】
一方、図5のB−B’線概略断面図は、サイドバー125の形成部分の概略断面図である。
図5に示すように側面電極128は、図4と同様に形成されている。しかし、溝電極127は、貫通溝123が形成されていないため、サイドバー125の表面に形成されている。
そして、サイドバー125には、上述のV字溝125aが音叉腕121の表面側に2カ所、裏面側に2カ所形成されているため、このV字溝125aに沿って溝電極127も配置されることになる。
したがって、溝電極127のうちV字溝125aに形成された溝電極127の側面電極128と対向して配置される部分については、図5の矢印で示すように音叉腕121内を電界が効率良く発生することになる。
【0035】
図6は、サイドバー125にV字溝125aを形成しなかった場合の図4と同様の概略断面図である。
図6に示すようにサイドバーの上下に配置される溝電極127と側面電極128との間の電界が発生する部分の距離(図5の矢印)が図4の場合よりも長くなり、これにより電界が弱くなっている。
このように電界が弱くなると上述のCI値が上昇し、振動損失が大きい振動片となってしまう。
【0036】
しかし、本実施の形態の音叉型水晶振動片100は、図5に示すようにV字溝125aが形成されているため、溝電極127と側面電極128との距離が短くなり、電界も強く発生させることができる。したがってサイドバー125形成部分における電界効率を上げることができ、CI値が上昇せず、振動損失が小さい優れた音叉型水晶振動片100となる。
【0037】
すなわち、音叉型水晶振動片100では、貫通溝123、124が形成されている部分の電界効率を上昇させることができ、そして、貫通溝123、124が形成されているために生じる音叉腕121,122の剛性不足は、複数のサイドバー125、126で解消することができる。さらに、サイドバー125、126の形成で生じる、当該部分の電界の弱さは、V字溝125aを設けることにより解消することができるという優れた振動片となっている。
【0038】
ところで、上記音叉型水晶振動片100の基部110は、図1に示すように、その全体が略板状に形成されている。
そして、この基部110には、図1に示すように基部110の両側に切り込み部129が2箇所設けられている。
この切り込み部129、129の位置は、図1に示すように音叉腕121,122の貫通溝123,124の下端部より下方に配置されるので、この切り込み部129、129の存在が、音叉腕部121、122の振動を阻害等することがない。
【0039】
また、図1で斜線で示す部分は、音叉型水晶振動片100をパッケージにおいて固定する際に実際に固定される固定領域111である。
図1に示すように、切り込み部129の下端部は、固定領域111より図1の上方に配置されるので、切り込み部129が固定領域111に影響を及ぼすことがなく、音叉型水晶振動片100のパッケージに対する固定状態に悪影響を与えることがないように構成されている。
【0040】
そして、このような位置に設けられている切り込み部129、129は、音叉腕121,122が振動する際に、垂直成分を有した振動が生じても、その振動が基部110側に漏れエネルギー逃げ等の悪影響が生じるのを、有効に緩和する働きをする。
したがって、本実施の形態の音叉型水晶振動片100は、従来のように基部110を大型化しなくても前記垂直成分の振動による悪影響を抑えることができるので、基部100を小型化し、振動片を小型化することができる。
また、振動片を小型化しても、振動片間のCI値のバラツキを抑え、安定化させることができる。
【0041】
本実施の形態の音叉型水晶振動片100は、以上のように構成されるが、以下その製造工程について説明する。
図7は、本実施の形態に係る音叉型水晶振動片100の製造工程の特徴的部分を示すフローチャートである。
先ず、水晶に金属膜であるAu・Cr膜をスパッタ等で形成し、その上にフォトレジストを載置する。
【0042】
その後、図7のST1に示すように、音叉型水晶振動片100の外形、貫通溝123,124及びサイドバーのV字溝125aを形成すためのレジストパターニング工程を行う。
すなわち、図8に示すように水晶130の上にAu・Cr膜を介して載置されたレジストに所定のマスクを介して露光・現像するフォトレジスト工程を経て、図8の斜線部分のようなレジストパターン131を形成する。このレジストパターン131では説明の便宜上、サイドバー125,126を1カ所のみ設ける構成となっているが、図1のように音叉腕121,122それぞれに3カ所ずつ形成することもできる。
【0043】
このとき、サイドバー125,126形成領域における両側であるV字溝125a形成領域には、レジストが配置されていない。
したがって、この部分は後述するエッチングによりV字溝125aが形成されることになる。
また、V字溝125a形成領域のパターン幅W(図8参照)は、貫通溝123,124形成用のパターン幅W1に比べ少なくとも半分以下の幅となっており、具体的には後述するエッチングストップ現象により図2に示すようなV字溝123aが形成される幅に設定される。
【0044】
次に、図7のST2に示すように、ST1で形成したレジストパターン131をマスクとして、その他の部分のAu・Cr膜をエッチングにより除去する。すなわち、音叉型水晶振動片の外形、貫通溝及びサイドバーのV字溝のAu・Crエッチング工程を行う。この状態を示すのが図9である。
【0045】
次に、図7のST3に示すように、音叉腕水晶振動片の外形、貫通溝及びサイドバーのV字溝の水晶エッチング工程を行う。この状態を示したのが図10である。
具体的には、水晶エッチングはAu・Cr膜をマスクとして異方性エッチングで行われ、図10に示すように音叉型水晶振動片100の外形、貫通溝123、124が形成される。また、サイドバー125,126も形成されるが、このサイドバー125,126には表面及び裏面にV字溝125a、126aが略V字状に形成される。
【0046】
このとき、図8に示すように、V字溝125a、125a形成領域のパターン幅Wは、貫通溝123,124形成用のパターン幅W1に比べ少なくとも半分以下の幅となっており、具体的には後述するエッチングストップ現象により図2に示すようなV字溝123aが形成される幅に設定される。
すなわち、異方性エッチングにおいては、パターン幅が狭まるとエッチングが浅い部分で止まる、所謂エッチングストップ現象が生じる。このエッチングストップ現象はパターン幅によって決まるため、このパターン幅を所定の長さに設定することで、図10に示すようなV字溝125a、126aを形成することができる。
【0047】
このように、本実施の形態では、音叉型水晶振動片100の外形、貫通溝123、124、サイドバー125,126及びV字溝125a、126aの水晶エッチングを一つの工程で行うことができる。
これに対して、従来は、V字溝125a、126aの代わりサイドバー125、126の厚みを薄くするハーフエッチングを行うことがあった。この場合、振動片の外形、貫通溝123,124と同一の工程でサイドバー123、126のハーフエッチングを行うと、サイドバー125,126が外形等と同様、貫通してしまった。
このため、従来は必ず外形等のエッチング工程と、別の工程としてハーフエッチングを行っていた。
これに対して、本実施の形態では、V字溝125a、126aを形成するハーフエッチング図7のと振動片の外形等の貫通エッチングを同一の工程で行うことができるのでフォトリソグラフィー工程が減少し、生産コストが低減すると共に、パターニングの精度も著しく向上することとなる。
【0048】
ところで、図7のST3の後、ST4のAu・Cr膜の剥離工程が行われ、図11に示すように電極形成前の音叉型水晶振動片100が形成される。
その後、表面の溝電極127、128や側面電極128、そして基部電極が形成されて(図7のST5)音叉型水晶振動片100が製造される。
【0049】
(第2の実施の形態)
図12は、本発明の第2の実施の形態に係る振動子であるセラミックパッケージ音叉型振動子300を示す図である。
このセラミックパッケージ音叉型振動子300は、上述の第1の実施の形態の音叉型水晶振動片100を用いている。したがって、音叉型水晶振動片100の構成、作用等については、同一符号を用いて、その説明を省略する。
図12は、セラミックパッケージ音叉型振動子300の構成を示す概略断面図である。図12に示すようにセラミックパッケージ音叉型振動子300は、その内側に空間を有する箱状のパッケージ310を有している。
このパッケージ310には、その底部にベース部311を備えている。このベース部311は、例えばアルミナ等のセラミックス等で形成されている。
【0050】
ベース部311上には、封止部312が設けられており、この封止部312は、ベース部311と同様の材料から形成されている。また、この封止部312の上端部には、蓋体313が載置され、これらベース部311、封止部312及び蓋体313で、中空の箱体を形成することになる。
このように形成されているパッケージ310のベース部311上にはパッケージ側電極314が設けられている。このパッケージ側電極314の上には導電性接着剤等を介して電極を形成された音叉型水晶振動片100の基部110の固定領域111が固定されている。
この音叉型水晶振動片100は、図1に示すように構成されているため、生産コストが上昇せず、振動片121,122内の電界効率が上がり、CI値が上昇しない高精度な振動片となっている。
【0051】
(第3の実施の形態)
図13は、本発明の第3の実施の形態に係る電子機器であるデジタル携帯電話400を示す概略図である。
このデジタル携帯電話400は、上述の第2の実施の形態のセラミックパッケージ音叉型振動子300と音叉型水晶振動片100とを使用している。
したがって、セラミックパッケージ音叉型振動子300と音叉型水晶振動片100の構成、作用等については、同一符号を用いる等して、その説明を省略する。
【0052】
図13はデジタル携帯電話400の回路ブロックを示しているが、図13に示すように、デジタル携帯電話400で送信する場合は、使用者が、自己の声をマイクロフォンに入力すると、信号はパルス幅変調・符号化のブロックと変調器/復調器のブロックを経てトランスミッター、アンテナスイッチを開始アンテナから送信されることになる。
一方、他人の電話から送信された信号は、アンテナで受信され、アンテナスイッチ、受信フィルターを経て、レシーバーから変調器/復調器ブロックに入力される。そして、変調又は復調された信号がパルス幅変調・符号化のブロックを経てスピーカーに声として出力されるようになっている。
【0053】
このうち、アンテナスイッチや変調器/復調器ブロック等を制御するためのコントローラが設けられている。
このコントローラは、上述の他に表示部であるLCDや数字等の入力部であるキー、更にはRAMやROM等も制御するため、高精度であることが求められる。
このような要請に合致するものとして上述のセラミックパッケージ音叉振動子300が用いられている。
【0054】
このセラミックパッケージ音叉型振動子300は、図1に示す音叉型水晶振動片100を有するため、生産コストが上昇せず、振動片121,122内の電界効率が上がり、CI値が上昇しない高精度な振動片となっている。
したがって、このセラミックパッケージ音叉型振動子300を搭載したデジタル携帯電話400も生産コストが上昇せず、振動片121,122内の電界効率が上がり、CI値が上昇しない高精度な振動片を有する高性能なデジタル携帯電話となる。
【0055】
(第4の実施の形態)
図14は、本発明の第4の実施の形態に係る発振器であるデジタル音叉水晶発振器500を示す図である。
このデジタル音叉水晶発振器500は、上述の第2の実施の形態のセラミックパケージ音叉型振動子300と多くの部分で構成が共通している。したがって、セラミックパケージ音叉型振動子300と音叉型水晶振動片100の構成、作用等については、同一符号を用いて、その説明を省略する。
【0056】
図14に示すデジタル音叉水晶発振器500は、図12に示すセラミックパッケージ音叉振動子300の音叉型水晶振動片100の下方で、ベース部311の上に、図14に示すように集積回路510を配置したものである。
すなわち、デジタル音叉水晶発振器500では、その内部に配置された音叉型水晶振動片100が振動すると、その振動は、集積回路510に入力され、その後、所定の周波数信号を取り出すことで、発振器として機能することになる。
すなわち、デジタル音叉水晶発振器500に収容されている音叉型水晶振動片100は、図1に示すように構成されているため、生産コストが上昇せず、振動片121,122内の電界効率が上がり、CI値が上昇しない高精度な振動片となっている。
【0057】
(第5の実施の形態)
図15は、本発明に第5の実施の形態に係る振動子であるシリンダータイプ音叉振動子600を示す図である。
このシリンダータイプ音叉振動子600は、上述の第1の実施の形態の音叉型水晶振動片100を使用している。したがって、音叉型水晶振動片100の構成、作用等については、同一符号を用いる等して、その説明を省略する。
図15は、シリンダータイプ音叉振動子600の構成を示す概略図である。
図15に示すようにシリンダータイプ音叉振動子600は、その内部に音叉型水晶振動片100を収容するための金属製のキャップ630を有している。このキャップ630は、ステム620に対して圧入され、その内部が真空状態に保持されるようになっている。
【0058】
また、キャップ630に収容された音叉型水晶振動片100を保持するためのリード610が2本配置されている。
このようなシリンダータイプ音叉振動子600に外部より電流等を印加すると音叉型水晶振動片100の音叉腕121,122が振動し、振動子として機能することになる。
このとき、音叉型水晶振動片100は、図1に示すように構成されているため、生産コストが上昇せず、振動片121,122内の電界効率が上がり、CI値が上昇しない高精度な振動片なので、この振動片を搭載したシリンダータイプ音叉振動子600も小型で高性能な振動子となる。
【0059】
また、上述の各実施の形態では、32.768kHzの音叉型水晶振動片を例に説明したが、15kHz乃至155kHzの音叉型水晶振動片に適用できることは明らかである。
なお、上述の実施の形態に係る音叉型水晶振動片100は、上述の例のみならず、他の電子機器、携帯情報端末、さらに、テレビジョン、ビデオ機器、所謂ラジカセ、パーソナルコンピュータ等の時計内蔵機器及び時計にも用いられることは明らかである。
さらに、本発明は、上記実施の形態に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。そして、上記実施の形態の構成は、その一部を省略したり、上述していない他の任意の組み合わせに変更することができる。
【0060】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、生産コストを上げずに連結部における電界効率を上昇させCI値を低下させることができる音叉型圧電振動片、振動子、発振器、電子機器及び音叉型圧電振動片の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態に係る振動片である電極が形成されていない音叉型水晶振動片を示す概略図である。
【図2】 図1の矢印Dで示す部分の概略拡大斜視図である。
【図3】 音叉腕の屈曲運動の説明図である。
【図4】 図1のC−C’線概略断面図である。
【図5】 図1のB−B’線概略断面図である。
【図6】 サイドバーにV字溝を形成しなかった場合の図4と同様の概略断面図である。
【図7】 本実施の形態に係る音叉型水晶振動片の製造工程の特徴的部分を示すフローチャートである。
【図8】 水晶にレジストパターンを形成した状態を示す概略図である。
【図9】 音叉型水晶振動片の外形、貫通溝及びサイドバーのV字溝のAu・Crエッチング工程を行った状態を示す概略図である。
【図10】 音叉腕水晶振動片の外形、貫通溝及びサイドバーのV字溝の水晶エッチング工程を行った状態を示す概略図である。
【図11】 Au・Cr膜の剥離工程を行った状態を示す概略図である。
【図12】 本発明の第2の実施の形態に係るセラミックパッケージ音叉型振動子の構成を示す概略断面図である。
【図13】 本発明の第3の実施の形態に係るデジタル携帯電話の回路ブロックを示す概略図である。
【図14】 本発明の第4の実施の形態に係るデジタル音叉水晶発振器の構成を示す概略断面図である。
【図15】 本発明の第5の実施の形態に係るシリンダータイプ音叉振動子の構成を示す概略断面図である。
【図16】 従来の音叉型水晶振動片を示す概略図である。
【図17】 図16のA−A’線概略断面図である。
【図18】 図16の腕部の振動の説明図である。
【符号の説明】
100、200・・・音叉型水晶振動片、110・・・基部、111・・・固定領域、121、122・・・音叉腕、123,124・・・貫通溝、123a、123b、124a、124b・・・端部、125,126・・・サイドバー、125a、125b・・・V字溝、127・・・溝電極、128・・・側面電極、129・・・切り込み部、130・・・水晶、131・・・レジストパターン、200・・・セラミックパッケージ音叉振動子、310・・・パッケージ、311・・・ベース部、312・・・封止部、313・・・蓋体、314・・・パッケージ側電極、400・・・デジタル携帯電話、500・・・デジタル音叉水晶発振器、510・・・集積回路、600・・・シリンダータイプ音叉振動子、610・・・リード、620・・・ステム、630・・・キャップ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention comprises, for example, crystal Tuning fork type piezoelectric Vibrating piece, this Tuning fork type piezoelectric A vibrator having a vibrating piece, an oscillator including the vibrator, an electronic device, and Tuning fork type piezoelectric The present invention relates to a method for manufacturing a resonator element.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a tuning fork type
As shown in FIG. 16, the tuning fork type
[0003]
In the tuning fork type
Further,
As described above, when current is applied to the
At this time, since the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, when a voltage is applied to the tuning fork type
Further, when the tuning fork
The vibrations at both ends of the
[0005]
As a device for increasing the rigidity of the through
Certainly, when the side bars are formed, the rigidity of the
In order to solve this problem, when the arrangement of the
[0006]
Therefore, in view of the above problems, the present invention can increase the electric field efficiency in the connecting portion and decrease the CI value without increasing the production cost. Tuning fork type piezoelectric Vibrating piece, vibrator, oscillator, electronic equipment and Tuning fork type piezoelectric An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a resonator element.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
According to the invention of claim 1, the object has a base and a vibrating arm that is formed to protrude from the base. Tuning fork type piezoelectric It is a vibration piece, and a through-hole is formed in the vibrating arm portion, and the through-hole is for reinforcing rigidity. Side bar Is formed and said Side bar Is characterized in that a groove is formed Tuning fork type piezoelectric This is achieved by the vibrating piece.
[0008]
According to the structure of Claim 1, in the said through-hole, in order to reinforce rigidity Side bar Is formed and said Side bar Since the groove portion is formed in the groove portion, by forming the groove electrode in the groove portion, the positional relationship with the side electrode on the outer side of the vibrating arm portion can be brought closer to the facing position.
Therefore, the electric field efficiency in the vibrating arm can be increased while increasing the rigidity of the vibrating arm.
Further, since only the groove portion is formed in the connecting portion, the production cost can be remarkably reduced as compared with the case where the groove electrode is disposed by reducing the entire thickness of the connecting portion by half etching or the like.
[0009]
Preferably, according to the invention of claim 2, in the configuration of claim 1, the Side bar Is a side bar formed so as to pass between the long sides of the long side and the short side forming the through hole. Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
According to the structure of Claim 2, the said Side bar These are side bars formed so as to extend between the long sides of the long side and the short side forming the through hole. For this reason, a side bar will be arrange | positioned in the part which lacks rigidity most.
Further, since the side bar that transmits the vibration stress connects the long side of the through hole where the stress is hardly transmitted and transmits the stress, the bending motion of the entire vibrating arm portion is likely to occur. Therefore, an increase in CI value (crystal impedance or equivalent series resistance) can be prevented in advance. Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
[0010]
Preferably, according to the invention of claim 3, in the configuration of claim 2, a plurality of the side bars are arranged in the through hole. Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
According to the configuration of the third aspect, since a plurality of the side bars are arranged in the through hole, it is possible to further compensate for insufficient rigidity of the vibrating arm portion. Further, since a plurality of side bars for transmitting vibration stress are arranged, it becomes easier to transmit stress, and bending motion is more likely to be generated more efficiently in the entire vibrating arm portion. Therefore, the CI value can be reduced. Tuning fork type piezoelectric It becomes a vibration piece.
[0011]
Preferably, according to the invention of claim 4, according to the configuration of claims 1 to 3, the groove portion extends from the front surface side and / or the back surface side of the vibrating arm portion in the depth direction of the through hole. It is formed in a substantially V shape Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
According to the structure of Claim 4, the said groove part is formed in the substantially V shape toward the depth direction of the said through-hole from the surface side and / or back surface side of the said vibration arm part. For this reason, since the said groove part can be easily formed, without passing through special processes, such as half etching, for example, production cost can be reduced significantly.
[0012]
Preferably, according to the invention of claim 5, in the structure of claims 1 to 4, a cut portion is formed in the base portion. Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
According to the configuration of the fifth aspect, since the cut portion is formed in the base portion, even when the vibration arm portion vibrates, even if vibration having a vertical component occurs, the vibration of the vibration arm portion is the base portion. Leaking to the side can be mitigated by this notch. Therefore, while reducing the size of the base, the CI value Tuning fork type piezoelectric Variations between the resonator element elements can be stabilized.
[0013]
Preferably, according to the invention of claim 6, in the structure of claim 5, the base portion has this Tuning fork type piezoelectric A fixing region for fixing the resonator element is provided, and the cut portion is provided at a base portion between the fixing region and the vibrating arm portion. Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
According to the structure of Claim 6, the said notch part is provided in the base part between the said fixed area | region and the said vibrating arm part. Therefore, the cut portion is disposed at a position that does not hinder the vibration of the vibrating arm portion, and effectively prevents vibration leakage from being transmitted to the fixed region and energy escape. For this reason, the CI value Tuning fork type piezoelectric The variation between the resonator element is stabilized.
[0014]
Preferably, according to the invention of claim 7, in any one of claims 1 to 6, Tuning fork type piezoelectric The vibrating piece is formed of quartz and is a tuning fork type quartz vibrating piece having an oscillation frequency of approximately 32.768 kHz. Tuning fork type piezoelectric It is a vibrating piece.
According to the structure of Claim 7, the said Tuning fork type piezoelectric It is possible to increase the electric field efficiency in the vibrating arm part while increasing the rigidity of the vibrating arm part of the tuning fork type vibrating piece formed of quartz crystal that oscillates at approximately 32.768 kHz.
Also, the above Side bar Only the groove is formed in Side bar The production cost can be significantly reduced as compared with the case where the groove electrode is arranged with the whole thickness reduced by half etching or the like.
[0015]
According to the invention of claim 8, the object has a base portion and a vibrating arm portion that protrudes from the base portion. Tuning fork type piezoelectric A vibrator in which a resonator element is accommodated in a package, Tuning fork type piezoelectric A through hole is formed in the vibrating arm portion of the vibrating piece, and the through hole is for reinforcing rigidity. Side bar Is formed and said Side bar Is achieved by a vibrator characterized in that a groove is formed.
[0016]
Preferably, according to the invention of claim 9, in the structure of claim 8, the vibrator is characterized in that the package is formed in a box shape.
[0017]
Preferably, according to a tenth aspect of the present invention, there is provided the vibrator according to the eighth aspect, wherein the package is formed in a so-called cylinder type.
[0018]
According to the configuration of claims 8 to 10, the vibrator of the vibrator Tuning fork type piezoelectric In order to reinforce the rigidity in the through hole of the resonator element Side bar Is formed and said Side bar Since the groove portion is formed in the groove portion, by forming the groove electrode in the groove portion, the positional relationship with the side electrode on the outer side of the vibrating arm portion can be brought close to the facing position.
Therefore, the electric field efficiency in the vibrating arm can be increased while increasing the rigidity of the vibrating arm.
Also, the above Side bar Just form a groove in the Side bar As a result, the resonator can be manufactured at a much lower cost compared to the case where the groove electrode is disposed by reducing the overall thickness of the substrate by half etching or the like.
[0019]
According to the invention of
[0020]
According to the invention of
[0021]
According to the configuration of
Therefore, the electric field efficiency in the vibrating arm can be increased while increasing the rigidity of the vibrating arm.
Also, the above Side bar Just form a groove in the Side bar Thus, an oscillator or an electronic device can be obtained that can significantly reduce the production cost as compared with the case where the groove electrode is disposed by reducing the overall thickness of the substrate by half etching or the like.
[0022]
According to the invention of
[0023]
According to the structure of
this The resist pattern for providing the groove has such a width that a through hole is not formed in the groove in the crystal etching step. Then, a crystal etching process for anisotropically etching the crystal using the metal film as a mask is provided.
By the way, in the case of anisotropic etching with respect to quartz, when the width of the pattern is narrowed, an etching stop phenomenon occurs in the depth direction of the groove portion, and the etching of that portion stops halfway, and the through hole is not formed and the groove portion is formed. It will be.
Since this etching stop phenomenon occurs at a shallower portion as the pattern width becomes narrower, the groove portion also becomes shallower.
If the width of the portion of the resist pattern where the groove portion is to be formed is narrowed using such characteristics, the through hole and the groove portion can be simultaneously formed in the vibrating arm portion in the same process.
Therefore, said Side bar Since it is not necessary to go through another resist patterning step for forming the groove portion provided in the groove portion, the groove portion can be formed in the connecting portion without increasing the number of production steps.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is particularly limited in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these forms.
[0025]
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a tuning-fork type
The tuning fork type
[0026]
As shown in FIG. 1, such a tuning fork type
Further, in the
[0027]
Then, the
The side bars 125 and 126 are integrated with the
Further, as shown in FIG. 1, the side bars 125 and 126 are formed at three locations on the
[0028]
FIG. 2 is a schematic enlarged perspective view of a portion indicated by an arrow D in FIG. As shown in FIG. 1, the
Further, the
The V-shaped
[0029]
By the way, the side bars 125 and 126 are disposed at portions where the rigidity of the
The side bars 125 and 126 are disposed in a plurality of, for example, three locations in the through
[0030]
That is, when a current is applied and the
FIG. 3 is an explanatory diagram of the bending motion of the
Thus, when the bending motion of the
[0031]
In order to cause the
Further,
The
[0032]
4 and 5 are schematic cross-sectional views in a state in which the
4 is a schematic cross-sectional view of a portion where the through
[0033]
Therefore, when a current is applied through the base electrode, an electric field is generated in the
During this vibration, as shown in FIG. 4, an electric field is efficiently generated in the
[0034]
On the other hand, the schematic cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
As shown in FIG. 5, the
In the
Therefore, in the portion of the
[0035]
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view similar to FIG. 4 when the V-shaped
As shown in FIG. 6, the distance (arrow in FIG. 5) of the portion where the electric field is generated between the
When the electric field is weakened in this way, the above-described CI value increases, resulting in a vibration piece with large vibration loss.
[0036]
However, since the tuning-fork type
[0037]
That is, in the tuning-fork type
[0038]
By the way, as shown in FIG. 1, the
The
The positions of the
[0039]
Further, a hatched portion in FIG. 1 is a fixing
As shown in FIG. 1, the lower end portion of the
[0040]
The
Therefore, the tuning fork type
In addition, even if the resonator element is downsized, it is possible to suppress and stabilize the CI value variation between the resonator elements.
[0041]
The tuning fork type
FIG. 7 is a flowchart showing the characteristic part of the manufacturing process of the tuning-fork type
First, an Au / Cr film, which is a metal film, is formed on quartz by sputtering or the like, and a photoresist is placed thereon.
[0042]
Thereafter, as shown in ST1 of FIG. 7, a resist patterning process for forming the outer shape of the tuning-fork type
That is, as shown in FIG. 8, after a photoresist process in which a resist placed on the
[0043]
At this time, the resist is not arranged in the V-shaped
Therefore, the V-shaped
Further, the pattern width W (see FIG. 8) of the V-shaped
[0044]
Next, as shown in ST2 of FIG. 7, using the resist
[0045]
Next, as shown in ST3 of FIG. 7, a crystal etching process of the outer shape of the tuning-fork arm crystal vibrating piece, the through groove, and the V-shaped groove of the side bar is performed. FIG. 10 shows this state.
Specifically, the crystal etching is performed by anisotropic etching using the Au / Cr film as a mask, and the outer shape of the tuning-fork type
[0046]
At this time, as shown in FIG. 8, the pattern width W of the V-shaped
That is, in anisotropic etching, when the pattern width is narrowed, a so-called etching stop phenomenon occurs in which etching stops at a shallow portion. Since this etching stop phenomenon is determined by the pattern width, V-shaped
[0047]
As described above, in this embodiment, the outer shape of the tuning-fork type
On the other hand, conventionally, half etching for reducing the thickness of the side bars 125 and 126 instead of the V-shaped
For this reason, conventionally, half etching is always performed as a separate process from the etching process of the outer shape and the like.
On the other hand, in this embodiment, the half etching for forming the V-shaped
[0048]
By the way, after ST3 of FIG. 7, the Au / Cr film peeling process of ST4 is performed, and as shown in FIG. 11, the tuning-fork type
Thereafter,
[0049]
(Second Embodiment)
FIG. 12 is a diagram showing a ceramic package tuning
This ceramic package tuning
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the ceramic package
The
[0050]
A sealing
A package-
Since the tuning fork type
[0051]
(Third embodiment)
FIG. 13 is a schematic diagram showing a digital
This digital
Therefore, the configurations and operations of the ceramic package
[0052]
FIG. 13 shows a circuit block of the digital
On the other hand, a signal transmitted from another person's telephone is received by an antenna, and is input to a modulator / demodulator block from a receiver through an antenna switch and a reception filter. The modulated or demodulated signal is output as a voice to a speaker through a pulse width modulation / coding block.
[0053]
Among these, a controller for controlling an antenna switch, a modulator / demodulator block, and the like is provided.
In addition to the above, this controller is also required to have high precision because it controls the LCD, which is the display unit, the keys, which are input units such as numbers, and the RAM, ROM, and the like.
The ceramic package tuning
[0054]
Since the ceramic package tuning
Therefore, the digital
[0055]
(Fourth embodiment)
FIG. 14 is a diagram showing a digital tuning
The digital tuning
[0056]
In the digital tuning
That is, in the digital tuning
That is, since the tuning fork type
[0057]
(Fifth embodiment)
FIG. 15 is a diagram showing a cylinder-type
This cylinder type tuning
FIG. 15 is a schematic view showing the configuration of a cylinder type tuning
As shown in FIG. 15, the cylinder type tuning
[0058]
Further, two
When an electric current or the like is applied to the cylinder type tuning
At this time, since the tuning fork type
[0059]
In each of the above-described embodiments, the tuning fork type crystal vibrating piece of 32.768 kHz has been described as an example. However, it is obvious that the tuning fork type crystal vibrating piece of 15 kHz to 155 kHz can be applied.
The tuning-fork type
Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the claims. And the structure of the said embodiment can abbreviate | omit a part, or can be changed into the other arbitrary combinations which are not mentioned above.
[0060]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to increase the electric field efficiency in the connecting portion and decrease the CI value without increasing the production cost. Tuning fork type piezoelectric Vibrating piece, vibrator, oscillator, electronic equipment and Tuning fork type piezoelectric A method for manufacturing a resonator element can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a tuning-fork type crystal vibrating piece having no electrode, which is a vibrating piece according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic enlarged perspective view of a portion indicated by an arrow D in FIG.
FIG. 3 is an explanatory diagram of a bending motion of a tuning fork arm.
4 is a schematic cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 1. FIG.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
6 is a schematic cross-sectional view similar to FIG. 4 when no V-shaped groove is formed in the side bar.
FIG. 7 is a flowchart showing a characteristic part of a manufacturing process of the tuning-fork type crystal vibrating piece according to the present embodiment.
FIG. 8 is a schematic view showing a state in which a resist pattern is formed on quartz.
FIG. 9 is a schematic view showing a state in which an Au / Cr etching process is performed on an outer shape of a tuning-fork type crystal vibrating piece, a through groove, and a V-shaped groove of a side bar.
FIG. 10 is a schematic view showing a state in which a crystal etching process of the outer shape of a tuning-fork arm crystal vibrating piece, a through groove and a V-shaped groove of a side bar is performed.
FIG. 11 is a schematic view showing a state in which an Au / Cr film peeling process is performed.
FIG. 12 is a schematic sectional view showing a configuration of a ceramic package tuning fork resonator according to a second embodiment of the invention.
FIG. 13 is a schematic diagram showing a circuit block of a digital mobile phone according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a schematic sectional view showing the configuration of a digital tuning fork crystal oscillator according to a fourth embodiment of the invention.
FIG. 15 is a schematic sectional view showing the configuration of a cylinder type tuning fork vibrator according to a fifth embodiment of the invention.
FIG. 16 is a schematic view showing a conventional tuning-fork type crystal vibrating piece.
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.
18 is an explanatory diagram of the vibration of the arm portion of FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (13)
この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片であって、
前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、
前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、
前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする音叉型圧電振動片。The base,
A tuning fork-type piezoelectric vibrating piece having a vibrating arm portion protruding from the base portion,
A through hole is formed in the vibrating arm portion,
A side bar for reinforcing rigidity is formed in the through hole,
A tuning-fork type piezoelectric vibrating piece characterized in that a groove is formed in the side bar .
この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片がパッケージ内に収容されている振動子であって、
前記音叉型圧電振動片の前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、
前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、
前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする振動子。The base,
A vibrator having a tuning fork-type piezoelectric vibrating piece having a vibrating arm portion protruding from the base portion and housed in a package,
A through hole is formed in the vibrating arm portion of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece,
A side bar for reinforcing rigidity is formed in the through hole,
A vibrator having a groove formed in the side bar .
この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片と集積回路がパッケージ内に収容されている発振器であって、
前記音叉型圧電振動片の前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、
前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、
前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする発振器。The base,
An oscillator in which a tuning fork type piezoelectric vibrating piece and an integrated circuit having a vibrating arm portion protruding from the base portion are housed in a package,
A through hole is formed in the vibrating arm portion of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece,
A side bar for reinforcing rigidity is formed in the through hole,
An oscillator characterized in that a groove is formed in the side bar .
この基部から突出して形成されている振動腕部と、を有する音叉型圧電振動片であり、
この音叉型圧電振動片がパッケージ内に収容されている振動子であり、
この振動子を制御部に接続して用いている電子機器であって、
前記音叉型圧電振動片の前記振動腕部に貫通孔が形成されていると共に、
前記貫通孔内には剛性を補強するためのサイドバーが形成され、
前記サイドバーには溝部が形成されていることを特徴とする電子機器。The base,
A tuning fork-type piezoelectric vibrating piece having a vibrating arm portion protruding from the base portion,
This tuning fork type piezoelectric vibrating piece is a vibrator housed in a package,
An electronic device using this vibrator connected to a control unit,
A through hole is formed in the vibrating arm portion of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece,
A side bar for reinforcing rigidity is formed in the through hole,
An electronic apparatus comprising a groove formed in the side bar .
このレジストパターンをマスクとして金属膜をエッチングする金属膜エッチング工程と、
この金属膜をマスクとして水晶を異方性エッチンングする水晶エッチング工程と、を備え、
前記溝部を設けるための前記レジストパターンは、前記水晶エッチング工程において、前記溝部に貫通孔が形成されないような幅を有していることを特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法。An external shape of a tuning fork type piezoelectric vibrating piece made of quartz, a through hole provided in a vibrating arm portion that protrudes from the base of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, a side bar provided in the through hole, and the side bar A resist patterning step for forming a resist pattern for providing a groove portion to be provided;
A metal film etching step of etching the metal film using the resist pattern as a mask;
A crystal etching process for anisotropically etching the crystal using the metal film as a mask,
The method for manufacturing a tuning-fork type piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein the resist pattern for providing the groove has a width such that a through hole is not formed in the groove in the crystal etching step .
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