JP3877070B2 - Laser repair method for liquid crystal display and structure for laser repair - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示器のレーザ修復方法及びレーザ修復用構造に関わり、特に、液晶表示装置のダミー金属パターンを利用してレーザ修復を行う方法及びレーザ修復用構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
表示器は日常生活中よく見られる。特に、テレビやコンピューターなどの場合、画像を表示器の画面に表示し利用者に見せるために、表示器を備えなくてはならない。
【0003】
一般、陰極線管表示器は、その体積が大きいため、使用上の便利性が欠けている。特に、陰極線管表示器はノートパソコンに応用することができない。このため、例えば、薄膜トランジスタ液晶表示器(thin film transistor liquid crystal display, TFT LCD)などのバイナリアレイ型の平面表示器は提案された。
【0004】
液晶表示器は自身が発光しない表示器である。
【0005】
液晶は、結晶体と液体の間に介在するものであり、電界など外部からのエネルギーを受けるとその分子配列が変わる。液晶分子の配列が変わると、液晶を通る光線の偏極方向が変わる。このような液晶の特性を利用し偏光板を組み込むことにより、ライトゲート(light gate)ができるため、表示素子が形成される。
【0006】
一方、薄膜トランジスタは外部から制御されるものであり、一つの薄膜トランジスタが一つの画素に対応する。薄膜トランジスタから液晶に所定の制御電界を印加することにより、液晶の明暗が制御される。
【0007】
しかしながら、液晶素子、特に薄膜トランジスタの製造中、クリーンルームや製造設備または製造条件の制御不良により薄膜トランジスタに予想外な微粒子が薄膜トランジスタに残留または堆積することがある。このような微粒子の存在により、異常な回路ショートやオープンが生じ、欠陥のある薄トランジスタに応じる画素が常に明るいドットまたは暗いドットになる、即ち、製品の欠陥が発生する恐れがある。
【0008】
前記のように欠陥が発生する場合、欠陥画素の量が少ない場合に、レーザ修復工程を行い、その欠陥画素を修復する
【0009】
図1は従来の薄膜トランジスタ部分の構成及び従来のレーザ修復方法を示す断面図である。
【0010】
図1において、薄膜トランジスタ液晶表示器は、透明基板100(一般的に、ガラス基板である)を備える。透明基板100に、ドットマトリックス状に配列し画像の画素を構成する複数の薄膜トランジスタ102が形成される。複数の薄膜トランジスタ102毎に固有ビットアドレスが割り当てられる。
【0011】
また、透明基板100の縁部に枠状の密封剤106が塗布されている。なお、液晶が充填される前に、密封剤106にて液晶充填用開口が存在する。
【0012】
カラーフィルタ104が密封剤106に付着される。
【0013】
液晶を密封剤106の開口から充填することにより、液晶層108がカラーフィルタ104と透明基板100及び密封剤106からなる空間に形成される。
【0014】
液晶を充填した後に密封剤106の開口を同様な密封剤で密封すると、薄膜トランジスタ液晶表示器の半製品が形成される。
【0015】
続いて、画素毎に明暗状態をチェックしておく。薄膜トランジスタについて不良が発見されたら、レーザ修復工程が行われる。
【0016】
従来のレーザ修復工程は、レーザ装置110から発生されるエネルギーのレーザビーム112を欠陥が発見された薄膜トランジスタに集光させ、薄膜トランジスタの配線を焼き切り、或いは、薄膜トランジスタ自体をレーザにより加熱して除去するように行われる。
【0017】
しかしながら、前記従来のレーザ修復工程によれば、薄膜トランジスタが除去されてしまうため、液晶素子の欠陥画素は永久に暗いドットになる。即ち、欠陥画素は通常に表示すべき色(赤色、青色または緑)を表示することができない。このため、画面上において、該欠陥画素を含む表示点はその周囲の正常な表示点と比べると、明らかに異常な色を呈する。この異常な色は使用者により感知され易い。このため、使用者が製品の質について疑問を抱える問題が生じられる。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
前記のような問題点を解決するため、本発明の目的は従来の液晶表示器のレーザ修復工程による異常な色表示の問題が回避される液晶表示器のレーザ修復方法及びレーザ修復用構造を提供することにある。
【0019】
具体的に、本発明の第一の目的は、一つの欠陥を2回だけのレーザ溶接で修復できる簡単な液晶表示器のレーザ修復方法及びレーザ修復用構造を提供することにある。
【0020】
また、本発明の第二の目的は、修復点における絶縁層の厚みが薄いことを利用しレーザ修復エネルギーを低減すると共に欠陥修復における歩留りを向上させる液晶表示器のレーザ修復方法及びレーザ修復用構造を提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明の液晶表示器のレーザ修復方法は、ソース電極とドレイン電極を有するトランジスタがそれぞれ配置され、それぞれ画素電極を有する複数の画素と、前記各画素に配置された遮光用金属または絶縁層平坦化用金属としてのダミー金属とを有する液晶表示パネルにおいて、欠陥画素を修復する方法であって、前記各画素における前記ダミー金属に、第1の電気接続部を形成し、前記各画素における前記ダミー金属に、第2の電気接続部を形成し、前記各画素におけるトランジスタにおけるソース/ドレイン電極に、絶縁層により前記第1の電気接続部と絶縁される第3の電気接続部を形成し、前記第3の電気接続部を形成したトランジスタを有する画素と隣り合う画素におけるトランジスタのソース/ドレイン電極に、絶縁層により前記第2の電気接続部と絶縁される第4の電気接続部層を形成し、レーザ修復により、前記欠陥画素における第1の電気接続部と前記第3の電気接続部とを電気的に接続させ、前記欠陥画素における前記第2の電気接続部と前記欠陥画素と隣り合う画素における前記第4の電気接続部を電気的に接続させ、前記欠陥画素におけるトランジスタを前記隣り合う画素におけるトランジスタに接続することを特徴とする。
【0022】
また、前記目的を達成するために、本発明の液晶表示器のレーザ修復構造は、ソース電極とドレイン電極を有するトランジスタがそれぞれ配置され、それぞれ画素電極を有する複数の画素と、前記各画素に配置された遮光用金属または絶縁層平坦化用金属としてのダミー金属とを有する液晶表示パネルにおいて、欠陥画素を修復する構造であって、前記各画素における前記ダミー金属に形成された第1の電気接続部と、 前記各画素における前記ダミー金属に形成された第2の電気接続部と、前記各画素におけるトランジスタにおけるソース/ドレイン電極に形成され、絶縁層により前記第1の電気接続部と絶縁される第3の電気接続部と、前記第3の電気接続部を形成したトランジスタを有する画素と隣り合う画素におけるトランジスタのソース/ドレイン電極に形成され、絶縁層により前記第2の電気接続部と絶縁される第4の電気接続部層とを有し、レーザ修復により、前記欠陥画素における第1の電気接続部と前記第3の電気接続部とを電気的に接続させ、前記欠陥画素における第2の電気接続部と前記欠陥画素と隣り合う画素における前記第4の電気接続部とを電気的に接続させ、前記欠陥画素におけるトランジスタを隣り合う画素におけるトランジスタに接続する可能であることを特徴とする。
【0023】
また、前記ダミー金属は透過型LCD基板の隣り合う画素間における光線の漏れを遮蔽するためのダミー金属でありうる。
【0024】
また、前記ダミー金属は反射型LCD基板の絶縁層平坦化用ダミー金属でありうる。
【0025】
また、前記第4の電気接続部は、隣り合う画素間のスキャンニング線をまたがる。
【0026】
また、前記第4の電気接続部は、前記スキャンニング線をまたがる所の幅がその他の部分の幅より小さい
【0027】
【発明の実施の形態】
前記の目的を達成して従来の欠点を除去するための課題を実行する本発明の実施例の構成とその作用を添付図面に基づき詳細に説明する。
【0028】
図2Aは本発明の第一の実施例に係る液晶表示器(LCD)のレーザ修復方法を示す平面図、図2Bは図2Aの一部分の拡大図である。
【0029】
透過型LCDの基板10に複数の横方向に延在するスキャンニング線12と複数の縦方向に延在するデータ線14及びドットマトリックス状に配列する複数の画素領域16がある。ここで、各画素領域16は2本のスキャンニング線12と2本のデータ線14が交差してなる領域である。
【0030】
複数の画素領域16のそれぞれの表面が一つの画素電極18により被覆される。また、複数の画素領域16のそれぞれの内部に一つの薄膜トランジスタが設けられる。
【0031】
また、隣り合う画素領域同士間であってデータ線14(第2金属層)の下方にフローティング・ダミー金属20(第1金属層)のパターンが設けられる。該フローティング・ダミー金属20のパターンは、スキャンニング線12(第1金属層)と同時に形成され、隣り合う画素領域16同士間における光線の漏れを遮蔽する
【0032】
本実施例1では、フローティング・ダミー金属20のパターンには二つの凸出する修復用電気接続部20a、20bが増設される。また、薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極241及び242(第2金属層)のそれぞれにも修復用電気接続部241a、241b及び242a、242bが凸設される。
【0033】
例えば、欠陥22がある場合、この欠陥22を修復するために、A点とB点においてレーザ溶接を行い、元々、電気的接続していない(図示していない絶縁層により隔離される)第1金属層と第2金属層を電気的に接続させる。
【0034】
このため、画像信号は薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極242(第2金属層)の修復用電気接続部242bを介してダミー金属20の修復用電気接続部20b(B点)に伝達、そして、ダミー金属20の修復用電気接続部20aを介して薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極241の修復用電気接続部241a(A点)に伝達される。このため、下の薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極242を介して上の画素電極18(薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極241に対応する画素電極)を同期制御するができる。
【0035】
図3Aは本発明の第二の実施例に係る液晶表示器(LCD)のレーザ修復方法を示す平面図、図3Bは図3Aの一部分の拡大図である。
【0036】
反射型LCDの基板60に複数の横方向に延在するスキャンニング線62と複数の縦横方向に延在するデータ線64及びドットマトリックス状に配列する複数の画素領域66がある。ここで、各画素領域66は2本のスキャンニング線62と2本のデータ線64が交差してなる領域である。
【0037】
複数の画素領域66のそれぞれの表面が一つの画素電極68により被覆される。また、複数の画素領域66のそれぞれの内部に一つの薄膜トランジスタが設けられる。
【0038】
また、絶縁層(図示していない)を平坦化する際良い平坦効果が得られるために、各画素領域66の中央部に複数のフローティング・ダミー金属70(第1金属層)のパターンが設けられる。これらのフローティング・ダミー金属70のパターンがスキャンニング線62(第1金属層)と同時に形成される。
【0039】
本実施例2では、フローティング・ダミー金属70のパターンには二つの凸出する修復用電気接続部70a、70bが増設される。また、薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極741及び742(第2金属層)のそれぞれにも修復用電気接続部741a、741b及び742a、742bが凸設される。
【0040】
例えば、欠陥72がある場合、この欠陥72を修復するために、A点とB点においてレーザ溶接を行い、本来電気的接続していない(図示していない絶縁層により隔離される)第1金属層と第2金属層を電気的に接続させる。
【0041】
このため、画像信号は薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極742の修復用電気接続部742bを介してダミー金属70の修復用電気接続部70b(B点)に伝達、そして、ダミー金属70の修復用電気接続部70aを介して薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極741の修復用電気接続部741a(A点)に伝達される。このため、下の薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極742を介して上の画素電極68(薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極741に対応する画素電極)を同期制御することができる。
【0042】
前記のように、一つの欠陥を修復するために、レーザ溶接は2回だけ行われれば済む。したがって、修復工程が著しく簡単になる。しかも、レーザ溶接を用い、絶縁層(厚みが0.6μm)により隔離される第1金属層と第2金属層を電気的に接続させるという方法を用いる場合、修復の歩留りが90%に達する。これは絶縁層の厚みが薄ければ薄いほど歩留りが高いからである。また、絶縁層の厚みが薄ければ薄いほどレーザ溶接用エネルギーが低減する。
【0043】
なお、薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極(第2金属層)の修復用電気接続部スキャンニング線跨っているため、浮遊容量が増加し、信号遅延が長くなり、LCDの表示品質が劣化する恐れがあるが、スキャンニング線を跨る薄膜トランジスタのソース/ドレイン電極の修復用電気接続部の幅を縮小することにより、浮遊容量を抑えると、信号遅延が長くなりLCDの表示品質が劣化することが解消される。
【0044】
また、第1金属層と第2金属層としては、一般的に、例えばアルミニウムや銅などの導電性金属材料を用いることができるが導電性非金属材料を用いても良い。例えば、トランジスタのゲート材質となる多結晶シリコンや、導電層材質となるインジウム錫酸化物(ITO)などの導電性材料を用いることができる。多結晶シリコンを用いる場合、ドーピングでその導電性を一層向上させることが好ましい。
【0045】
本発明は前記実施例の如く提示されているが、これは本発明を限定するものではなく、当業者は本発明の要旨と範囲内において変形と修正をすることができる。従って、本発明の権利範囲は特許請求の範囲に準じるものである。
【0046】
【発明の効果】
本発明によれば、一つの欠陥を修復するために、レーザ溶接は2回だけ行われれば済む。したがって、修復工程が非常に簡単である。しかも、修復の歩留りが高くて90%に達するし、レーザ溶接用エネルギーも低減する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の液晶表示器のレーザ修復方法を示す断面図である。
【図2A】 本発明の実施例1に係る液晶表示器のレーザ修復方法を示す平面図である。
【図2B】 図2Aの一部分の拡大図である。
【図3A】 本発明の実施例2に係る液晶表示器のレーザ修復方法を示す平面図である。
【図3B】 図3Aの一部分の拡大図である。
【符号の説明】
10,60 基板
12,62 スキャンニング線
14,64 データ線
16,66 画素領域
18,68 画素電極
20,70 ダミー金属
22,72 欠陥
241,242,741,742 ソース/ドレイン電極
20a,20b,70a,70b ダミー金属の修復用電気接続部
241a,241b,242a,242b、741a,741b,742a,742b ソース/ドレイン電極の修復用電気接続部
100 透明基板
102 薄膜トランジスタ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser repair method and a laser repair structure for a liquid crystal display, and more particularly to a laser repair method and a laser repair structure using a dummy metal pattern of a liquid crystal display device.
[0002]
[Prior art]
Indicators are often seen in daily life. In particular, in the case of a television or a computer, a display device must be provided to display an image on the screen of the display device and show it to the user.
[0003]
In general, a cathode ray tube display has a large volume and thus lacks convenience in use. In particular, the cathode ray tube display cannot be applied to a notebook computer. Therefore, for example, a binary array type flat display such as a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) has been proposed.
[0004]
A liquid crystal display is a display that does not emit light.
[0005]
The liquid crystal is interposed between the crystal and the liquid, and its molecular arrangement changes when it receives external energy such as an electric field. As the alignment of the liquid crystal molecules changes, the polarization direction of the light rays passing through the liquid crystal changes. By incorporating a polarizing plate using such liquid crystal characteristics, a light gate can be formed, so that a display element is formed.
[0006]
On the other hand, the thin film transistor is controlled from the outside, and one thin film transistor corresponds to one pixel. By applying a predetermined control electric field from the thin film transistor to the liquid crystal, the brightness of the liquid crystal is controlled.
[0007]
However, during the manufacture of liquid crystal elements, particularly thin film transistors, unexpected fine particles may remain or deposit on the thin film transistors due to poor control of the clean room, manufacturing equipment, or manufacturing conditions. Due to the presence of such fine particles, an abnormal circuit short circuit or open may occur, and the pixels corresponding to the defective thin transistor always become bright dots or dark dots, that is, a product defect may occur.
[0008]
When a defect occurs as described above, when the amount of defective pixels is small , a laser repair process is performed to repair the defective pixels .
[0009]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional thin film transistor portion and a conventional laser repair method.
[0010]
In FIG. 1, the thin film transistor liquid crystal display includes a transparent substrate 100 ( generally a glass substrate). A plurality of thin film transistors 102 which are arranged in a dot matrix and constitute image pixels are formed on the transparent substrate 100. A unique bit address is assigned to each of the plurality of thin film transistors 102.
[0011]
A frame-shaped sealant 106 is applied to the edge of the transparent substrate 100. Note that a liquid crystal filling opening exists in the sealant 106 before the liquid crystal is filled.
[0012]
A color filter 104 is attached to the sealant 106.
[0013]
By filling the liquid crystal from the opening of the sealant 106, the liquid crystal layer 108 is formed in a space composed of the color filter 104, the transparent substrate 100, and the sealant 106.
[0014]
When the opening of the sealant 106 is sealed with a similar sealant after the liquid crystal is filled, a semi-finished product of the thin film transistor liquid crystal display is formed.
[0015]
Subsequently , the light / dark state is checked for each pixel. If a defect is found in the thin film transistor, a laser repair process is performed.
[0016]
Conventional laser repair step, is condensed to high-energy thin film transistor of the laser beam 112 defect is found that are generated from the laser device 110, Ri Setsu baked wiring of a thin film transistor, or by heating a thin film transistor itself by laser Done to remove .
[0017]
However, according to the conventional laser repair process, the thin film transistor is removed, so that the defective pixel of the liquid crystal element becomes a dark dot permanently. That is, a defective pixel cannot display a color (red, blue, or green) that should normally be displayed. For this reason, on the screen, a display point including the defective pixel clearly exhibits an abnormal color as compared with a normal display point around the display point. This abnormal color is easily perceived by the user. This creates a problem where the user has questions about the quality of the product.
[0018]
[Problems to be solved by the invention]
In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a laser repair method and a laser repair structure for a liquid crystal display in which an abnormal color display problem caused by a laser repair process of a conventional liquid crystal display is avoided. There is to do.
[0019]
Specifically, a first object of the present invention is to provide a simple liquid crystal display laser repair method and laser repair structure capable of repairing one defect by laser welding only twice.
[0020]
In addition, the second object of the present invention is to provide a laser repair method and a laser repair structure for a liquid crystal display which uses the thin insulating layer at the repair point to reduce the laser repair energy and improve the yield in defect repair. Is to provide.
[0021]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a method of repairing a laser of a liquid crystal display according to the present invention includes a transistor having a source electrode and a drain electrode, a plurality of pixels each having a pixel electrode, and a pixel disposed in each pixel . In a liquid crystal display panel having a light shielding metal or a dummy metal as an insulating layer flattening metal, a method for repairing a defective pixel, wherein a first electrical connection portion is formed on the dummy metal in each pixel. A second electrical connection portion is formed in the dummy metal in each pixel, and a third electrical insulation is formed on the source / drain electrodes of the transistor in each pixel by the insulating layer from the first electrical connection portion. A source / drain of a transistor in a pixel adjacent to a pixel having a transistor which forms a connection portion and has the third electrical connection portion formed A fourth electrical connection layer that is insulated from the second electrical connection portion by an insulating layer is formed on the pole, and the first electrical connection portion and the third electrical connection portion in the defective pixel are formed by laser repair. And the second electrical connection portion in the defective pixel and the fourth electrical connection portion in the pixel adjacent to the defective pixel are electrically connected, and the transistor in the defective pixel is connected to the adjacent pixel. It is characterized by being connected to a transistor in a matching pixel.
[0022]
In order to achieve the above object, the laser repair structure of the liquid crystal display of the present invention includes a transistor having a source electrode and a drain electrode, a plurality of pixels each having a pixel electrode, and a pixel disposed in each pixel. In a liquid crystal display panel having a light-shielding metal or a dummy metal as an insulating layer flattening metal, the first electrical connection formed in the dummy metal in each pixel is a structure for repairing a defective pixel , A second electrical connection portion formed on the dummy metal in each pixel, and a source / drain electrode in a transistor in each pixel, and insulated from the first electrical connection portion by an insulating layer Transistors in a pixel adjacent to a pixel having a third electrical connection portion and a transistor forming the third electrical connection portion. A fourth electrical connection layer formed on the drain / drain electrode and insulated from the second electrical connection by an insulating layer, and the first electrical connection in the defective pixel and the Electrically connecting a third electrical connection portion, electrically connecting a second electrical connection portion in the defective pixel and the fourth electrical connection portion in a pixel adjacent to the defective pixel, and A transistor in a pixel can be connected to a transistor in an adjacent pixel.
[0023]
The dummy metal may be a dummy metal for shielding light leakage between adjacent pixels of the transmissive LCD substrate.
[0024]
The dummy metal may be a dummy metal for planarizing the insulating layer of the reflective LCD substrate.
[0025]
In addition, the fourth electrical connection portion straddles a scanning line between adjacent pixels.
[0026]
Further, the width of the fourth electrical connection portion across the scanning line is smaller than the width of other portions.
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The configuration and operation of an embodiment of the present invention that accomplishes the above-described object and eliminates the drawbacks of the prior art will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0028]
2A is a plan view showing a laser repair method for a liquid crystal display (LCD) according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2B is an enlarged view of a part of FIG. 2A.
[0029]
A transmissive LCD substrate 10 has a plurality of scanning lines 12 extending in the horizontal direction, a plurality of data lines 14 extending in the vertical direction, and a plurality of pixel regions 16 arranged in a dot matrix. Here, each pixel area 16 is an area where two scanning lines 12 and two data lines 14 intersect.
[0030]
Each surface of the plurality of pixel regions 16 is covered with one pixel electrode 18. One thin film transistor is provided inside each of the plurality of pixel regions 16.
[0031]
A pattern of the floating dummy metal 20 (first metal layer) is provided between adjacent pixel regions and below the data line 14 (second metal layer). The pattern of the floating dummy metal 20 is formed at the same time as the scanning line 12 (first metal layer) and shields light leakage between adjacent pixel regions 16.
[0032]
In the first embodiment, two protruding electrical connection portions 20a and 20b are provided on the floating dummy metal 20 pattern. In addition, repair electrical connection portions 241a, 241b, 242a, and 242b are also provided on the source / drain electrodes 241 and 242 (second metal layer) of the thin film transistor, respectively.
[0033]
For example, if there is a defect 22 in order to repair the defect 22, performs laser welding at the points A and B, originally, not electrically connected (is isolated by not shown insulating layer) first The metal layer and the second metal layer are electrically connected.
[0034]
For this reason, the image signal is transmitted to the repair electrical connection portion 20b (point B) of the dummy metal 20 via the repair electrical connection portion 242b of the source / drain electrode 242 (second metal layer) of the thin film transistor, and the dummy metal 20 is transmitted to the repairing electrical connection part 241a (point A) of the source / drain electrode 241 of the thin film transistor through the repairing electrical connection part 20a. For this reason, the upper pixel electrode 18 (the pixel electrode corresponding to the source / drain electrode 241 of the thin film transistor) can be synchronously controlled via the source / drain electrode 242 of the lower thin film transistor.
[0035]
FIG. 3A is a plan view showing a laser repair method for a liquid crystal display (LCD) according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3B is an enlarged view of a part of FIG. 3A.
[0036]
A reflective LCD substrate 60 has a plurality of scanning lines 62 extending in the horizontal direction, a plurality of data lines 64 extending in the vertical and horizontal directions, and a plurality of pixel regions 66 arranged in a dot matrix. Here, each pixel area 66 is an area where two scanning lines 62 and two data lines 64 intersect.
[0037]
Each surface of the plurality of pixel regions 66 is covered with one pixel electrode 68. One thin film transistor is provided in each of the plurality of pixel regions 66.
[0038]
Further, in order to obtain a good flattening effect when the insulating layer (not shown) is flattened, a pattern of a plurality of floating dummy metals 70 (first metal layer) is provided at the center of each pixel region 66. . The pattern of the floating dummy metal 70 is formed simultaneously with the scanning line 62 (first metal layer).
[0039]
In the second embodiment, two protruding electrical connection portions 70a and 70b are provided in the floating dummy metal 70 pattern. In addition, repair electrical connection portions 741a, 741b, 742a, and 742b are provided so as to protrude from the source / drain electrodes 741 and 742 (second metal layer) of the thin film transistor.
[0040]
For example, if there is a defect 72, laser repair is performed at points A and B to repair the defect 72, and the first metal which is not originally electrically connected (isolated by an insulating layer not shown) The layer and the second metal layer are electrically connected.
[0041]
Therefore, the image signal is transmitted to the repairing electrical connection part 70b (point B) of the dummy metal 70 via the repairing electrical connection part 742b of the source / drain electrode 742 of the thin film transistor, and the electrical connection for repairing the dummy metal 70 is performed. It is transmitted to the repairing electrical connection portion 741a (point A) of the source / drain electrode 741 of the thin film transistor through the portion 70a. For this reason, the upper pixel electrode 68 (pixel electrode corresponding to the source / drain electrode 741 of the thin film transistor) can be synchronously controlled via the source / drain electrode 742 of the lower thin film transistor.
[0042]
As described above, laser welding need only be performed twice to repair a single defect. Therefore, the repair process is significantly simplified. Moreover, when using a method in which laser welding is used to electrically connect the first metal layer and the second metal layer separated by an insulating layer (thickness: 0.6 μm), the repair yield reaches 90%. This is because the thinner the insulating layer, the higher the yield. Further, the thinner the insulating layer, the lower the energy for laser welding.
[0043]
Since the electrical connection for repair of the source / drain electrode (second metal layer) of the thin film transistor straddles the scanning line , stray capacitance increases, signal delay becomes longer, and LCD display quality may deteriorate. However, if the stray capacitance is reduced by reducing the width of the electrical connection for repairing the source / drain electrodes of the thin film transistor that straddles the scanning line , the signal delay becomes longer and the display quality of the LCD deteriorates. Is done.
[0044]
In general, a conductive metal material such as aluminum or copper can be used as the first metal layer and the second metal layer, but a conductive non-metal material may also be used. For example, a conductive material such as polycrystalline silicon used as a gate material of a transistor or indium tin oxide (ITO) used as a material of a conductive layer can be used . When using polycrystalline silicon, it is preferable to further improve the conductivity by doping.
[0045]
Although the present invention has been presented as in the foregoing embodiments, this is not intended to limit the present invention, and those skilled in the art can make variations and modifications within the spirit and scope of the present invention. Therefore, the scope of rights of the present invention is equivalent to the scope of claims.
[0046]
【The invention's effect】
According to the present invention, laser welding need only be performed twice to repair a single defect. Therefore, the repair process is very simple. Moreover, the repair yield is high, reaching 90%, and the energy for laser welding is also reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a conventional laser repair method for a liquid crystal display.
FIG. 2A is a plan view showing a laser repair method for a liquid crystal display according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 2B is an enlarged view of a portion of FIG. 2A.
FIG. 3A is a plan view showing a laser repair method for a liquid crystal display according to Embodiment 2 of the present invention.
FIG. 3B is an enlarged view of a portion of FIG. 3A.
[Explanation of symbols]
10, 60 Substrate 12, 62 Scanning line 14, 64 Data line 16, 66 Pixel area 18, 68 Pixel electrode 20, 70 Dummy metal 22, 72 Defect 241, 242, 741, 742 Source / drain electrode 20a, 20b, 70a , 70b Electrical connection part for repair of dummy metal 241a, 241b, 242a, 242b, 741a, 741b, 742a, 742b Electrical connection part for repair of source / drain electrode 100 Transparent substrate 102 Thin film transistor

Claims (9)

ソース電極とドレイン電極を有するトランジスタがそれぞれ配置され、それぞれ画素電極を有する複数の画素と、前記各画素に配置された遮光用金属または絶縁層平坦化用金属としてのダミー金属とを有する液晶表示パネルにおいて、欠陥画素を修復する方法であって、
前記各画素における前記ダミー金属に、第1の電気接続部を形成し、
前記各画素における前記ダミー金属に、第2の電気接続部を形成し、
前記各画素におけるトランジスタソース/ドレイン電極に、絶縁層により前記第1の電気接続部と絶縁される第3の電気接続部を形成し、
前記第3の電気接続部を形成したトランジスタを有する画素と隣り合う画素におけるトランジスタのソース/ドレイン電極に、絶縁層により前記第2の電気接続部と絶縁される第4の電気接続部層を形成し、
レーザ修復により、前記欠陥画素における第1の電気接続部と前記第3の電気接続部とを電気的に接続させ、前記欠陥画素における前記第2の電気接続部と前記欠陥画素と隣り合う画素における前記第4の電気接続部を電気的に接続させ、前記欠陥画素におけるトランジスタを前記隣り合う画素におけるトランジスタに接続することを特徴とする液晶表示器のレーザ修復方法。
A liquid crystal display panel having transistors each having a source electrode and a drain electrode , each having a plurality of pixels each having a pixel electrode, and a dummy metal serving as a light shielding metal or an insulating layer flattening metal disposed in each pixel In the method of repairing defective pixels,
Forming a first electrical connection on the dummy metal in each pixel;
Forming a second electrical connection on the dummy metal in each pixel;
Forming a third electrical connection portion insulated from the first electrical connection portion by an insulating layer on a source / drain electrode of a transistor in each pixel;
A fourth electrical connection layer that is insulated from the second electrical connection portion by an insulating layer is formed on a source / drain electrode of a transistor in a pixel adjacent to the pixel having the transistor in which the third electrical connection portion is formed. And
The first electrical connection portion and the third electrical connection portion in the defective pixel are electrically connected by laser repair, and the second electrical connection portion in the defective pixel and the pixel adjacent to the defective pixel are connected. A method of repairing a laser of a liquid crystal display, comprising: electrically connecting the fourth electrical connection portion to connect a transistor in the defective pixel to a transistor in the adjacent pixel.
前記ダミー金属は透過型LCD基板の隣り合う画素間における光線の漏れを遮蔽するためのダミー金属であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ修復方法。  The laser repair method according to claim 1, wherein the dummy metal is a dummy metal for shielding light leakage between adjacent pixels of the transmissive LCD substrate. 前記ダミー金属は反射型LCD基板の絶縁層平坦化用ダミー金属であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ修復方法。  The laser repair method according to claim 1, wherein the dummy metal is a dummy metal for planarizing an insulating layer of a reflective LCD substrate. 前記第4の電気接続部が隣り合う画素間のスキャンニング線をまたがることを特徴とする請求項1に記載のレーザ修復方法。  2. The laser repair method according to claim 1, wherein the fourth electrical connection portion extends over a scanning line between adjacent pixels. 3. 前記第4の電気接続部は、前記スキャンニング線をまたがる所の幅がその他の部分の幅より小さいことを特徴とする請求項4に記載のレーザ修復方法。  5. The laser repair method according to claim 4, wherein a width of the fourth electrical connection portion across the scanning line is smaller than a width of other portions. ソース電極とドレイン電極を有するトランジスタがそれぞれ配置され、それぞれ画素電極を有する複数の画素と、前記各画素に配置された遮光用金属または絶縁層平坦化用金属としてのダミー金属とを有する液晶表示パネルにおいて、欠陥画素を修復する構造であって、
前記各画素における前記ダミー金属に形成された第1の電気接続部と、
前記各画素における前記ダミー金属に形成された第2の電気接続部と、
前記各画素におけるトランジスタのソース/ドレイン電極に形成され、絶縁層により前記第1の電気接続部と絶縁される第3の電気接続部と、
前記第3の電気接続部を形成したトランジスタを有する画素と隣り合う画素におけるトランジスタのソース/ドレイン電極に形成され、絶縁層により前記第2の電気接続部と絶縁される第4の電気接続部層と
を有し、
レーザ修復により、前記欠陥画素における第1の電気接続部と前記第3の電気接続部とを電気的に接続させ、前記欠陥画素における第2の電気接続部と前記欠陥画素と隣り合う画素における前記第4の電気接続部とを電気的に接続させ、前記欠陥画素におけるトランジスタを隣り合う画素におけるトランジスタに接続する可能であることを特徴とする液晶表示器のレーザ修復構造。
A liquid crystal display panel having transistors each having a source electrode and a drain electrode , each having a plurality of pixels each having a pixel electrode, and a dummy metal serving as a light shielding metal or an insulating layer flattening metal disposed in each pixel In the structure for repairing defective pixels,
A first electrical connection formed on the dummy metal in each pixel;
A second electrical connection formed on the dummy metal in each pixel;
A third electrical connection formed on a source / drain electrode of the transistor in each pixel and insulated from the first electrical connection by an insulating layer;
A fourth electric connection layer formed on a source / drain electrode of a transistor in a pixel adjacent to the pixel having the transistor forming the third electric connection and insulated from the second electric connection by an insulating layer; And
The first electrical connection portion in the defective pixel and the third electrical connection portion are electrically connected by laser repair, and the second electrical connection portion in the defective pixel and the pixel in the pixel adjacent to the defective pixel are connected. A laser repair structure for a liquid crystal display, characterized in that a fourth electrical connection portion can be electrically connected to connect a transistor in the defective pixel to a transistor in an adjacent pixel.
前記ダミー金属は透過型LCD基板の隣り合う画素間における光線の漏れを遮蔽するためのダミー金属であることを特徴とする請求項6に記載のレーザ修復用構造。  The laser repair structure according to claim 6, wherein the dummy metal is a dummy metal for shielding light leakage between adjacent pixels of the transmissive LCD substrate. 前記ダミー金属は反射型LCD基板の絶縁層平坦化用ダミー金属であることを特徴とする請求項6に記載のレーザ修復用構造。  7. The laser repair structure according to claim 6, wherein the dummy metal is a dummy metal for planarizing an insulating layer of a reflective LCD substrate. 前記第4の電気接続部が隣り合う画素間のスキャンニング線をまたがっており、
前記第4の電気接続部は、前記スキャンニング線をまたがる所の幅がその他の部分の幅より小さいことを特徴とする請求項6に記載のレーザ修復用構造。
The fourth electrical connection spans a scanning line between adjacent pixels;
The laser repair structure according to claim 6, wherein a width of the fourth electrical connection portion across the scanning line is smaller than a width of other portions.
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