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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば半導体ウエハ等の基板を、基板を保持して搬送する基板保持手段と基板を起立状態で支持する基板支持手段との間で受け渡すための基板受渡装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
このような基板受渡装置としては、基板を保持するための複数の保持溝が形成された一対のチャック等の基板保持手段により複数枚の基板を保持すると共に、この基板保持手段を昇降させることにより、そこに保持した複数枚の基板を、各基板を起立状態で支持するための複数の基板支持溝が形成された例えば3個の基板支持アームを有する基板支持手段との間で受け渡す構成を有するものが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このような基板受渡装置においては、基板の受け渡し時において、一対のチャックに保持された各々の基板の端部は、3個の基板支持アームに各々形成された3個の基板支持溝に同時に挿入される。このため、基板の受け渡し時においては、一対のチャックに各々形成された2個の保持溝と3個の基板支持アームに各々形成された3個の基板支持溝との5個の溝が、互いに高精度に位置決めされることが必要となる。
【0004】
すなわち、基板の受け渡し時において、一対のチャックに各々形成された2個の保持溝と3個の基板支持アームに各々形成された3個の基板支持溝との5個の溝の位置が高精度に位置決めされていない場合においては、基板の端部と基板支持溝の側壁とが干渉することにより、基板の端部に損傷が生じたり、基板に歪みを生じたりして、基板にダメージを与えるという問題を生ずる。
【0005】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板保持手段と基板支持手段とをさほど高精度に位置決めしない場合においても、基板の受け渡し時に、基板にダメージを与えることがない基板受渡装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板を保持して搬送する基板保持手段と、基板を起立状態で支持するための基板支持溝が形成された複数の基板支持部を有する基板支持手段と、前記基板保持手段と前記基板支持手段とを相対的に昇降させることにより、前記基板保持手段と前記基板支持手段との間で基板を受け渡す昇降手段とを備えた基板受渡装置において、前記基板保持手段に保持された基板が、前記複数の基板支持部のうちのいずれかの基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させることを特徴とする。
【0007】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記複数の基板支持部のうちの少なくとも一つの基板支持部が移動することにより、前記基板保持手段に保持された基板を、前記複数の基板支持部のうちのいずれかに形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させている。
【0008】
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、基板は、当該基板の外周に沿って配置される3個の基板支持部に各々形成された合計3個の基板支持溝により起立状態で支持されている。
【0009】
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記基板支持手段は、前記3個の基板支持部の端部を連結する連結板と、前記連結板を水平方向を向く軸を中心に一体的に揺動させることにより、前記3個の基板支持部を揺動させるモータとを備え、前記モータの駆動により、前記基板保持手段に保持された基板を、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の2個の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させている。
【0010】
請求項5に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部が昇降可能に構成されることにより、前記基板保持手段に保持された基板を、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の2個の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させている。
【0011】
請求項6に記載の発明は、請求項3に記載の基板受渡装置において、前記基板支持手段による基板の支持位置を前記基板保持手段による基板の保持位置から偏位させることにより、前記基板保持手段に保持された基板を、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の2個の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させている。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る基板受渡装置を適用した浸漬型の基板処理装置の側面概要図である。また、図2はこの基板処理装置における基板昇降ユニット2の要部を示す斜視図であり、図3はこの基板処理装置におけるチャック部4の要部を示す斜視図である。
【0013】
この基板処理装置は、略円形の半導体ウエハからなる基板Wを処理液中に浸漬して処理するものであり、処理液を貯留する処理槽1と、この処理槽1中の処理液に対して基板Wを浸漬し、また、処理液中から基板Wを引き上げるための基板昇降ユニット2と、この基板昇降ユニット2に対して基板Wを受け渡すためのチャック部4とを備える。
【0014】
前記処理槽1は、図1に示すように、処理液を貯留するための処理槽本体11と、この処理槽本体11の下方に配設された一対の処理液噴出管12と、処理槽本体11の上端部よりオーバフローした処理液を受け取るためのオーバフロー部13と、オーバフロー部13に流下した処理液を回収するための処理液回収管14とを有する。これらの処理槽本体11、処理液噴出管12、オーバフロー部13および処理液回収管14は、石英等の材質から構成される。
【0015】
この処理槽1においては、一対の処理液噴出管12における噴出孔15から噴出された処理液は、基板Wの処理に供された後、処理槽本体11の上端部よりオーバフロー部13にオーバフローする。そして、この処理液は、処理液回収管14を介してドレインに排出される。なお、処理液回収管14を介して回収した処理液を再使用するようにしてもよい。
【0016】
前記基板昇降ユニット2は、図2に示すように、この発明に係る基板支持部としての基板Wの外周に沿って配置された3個の基板支持アーム21、22、23と、これらの基板支持アーム21、22、23の両端部を互いに連結する連結板24(図2においては一方のみを図示)と、モータ25を内蔵した筺体27と、この筺体27と支持柱29内に内蔵された図示しない昇降駆動機構とを連結する連結部材28とを備える。
【0017】
3個の基板支持アーム21、22、23の上面には、各々、基板Wを起立状態で支持するための複数の基板支持溝31、32、33が形成されている。このため、複数枚の基板Wが、これら3個の基板支持アーム21、22、23により一括して起立状態で支持される。なお、図2においては、説明の便宜上、1枚の基板Wのみを図示している。
【0018】
これら3個の基板支持アーム21、22、23の両端部を連結する一対の連結板24のうちの一方の連結板24は、水平方向を向く軸26を介してモータ25と連結されている。このため、3個の基板支持アーム21、22、23は、モータ25の駆動により、軸26を中心に揺動可能な構成となっている。
【0019】
モータ25を内蔵した筐体27は、連結部材28を介して、支持柱29内に内蔵された図示しない昇降駆動機構と連結されている。このため、3個の基板支持アーム21、22、23および連結板24は、図示しない昇降駆動機構の駆動により、複数枚の基板Wを支持した状態で、基板Wが処理槽1に貯留された処理液中に浸漬する位置と、処理液液面より上方の位置との間を、昇降可能な構成となっている。
【0020】
前記チャック部4は、この発明に係る基板保持手段として機能するものであり、図3に示すように、一対のチャック41、42を備える。これらのチャック41、42は、各々、図示しないモータの駆動により回転する支軸43、44を介してチャック本体46と連結されており、支軸43、44を中心に、基板Wを保持する基板保持位置と基板を解放する解放位置との間を回動可能な構成となっている。
【0021】
一対のチャック41、42の上面には、基板Wを起立状態で保持するための複数の基板保持溝45が形成されている。このため、複数枚の基板Wが、これら一対のチャック41、42により一括して起立状態で保持される。
【0022】
なお、上記チャック本体46は、図示しない水平駆動機構と連結されている。このため、チャック部4は、複数枚の基板Wを保持した状態で、図3に示す矢印方向に往復移動可能な構成となっている。
【0023】
以上のような構成を有する基板処理装置において、複数枚の基板Wを一括して処理液中に浸漬することによるこれらの基板Wを処理する基板処理動作は、以下のようにして実行される。
【0024】
すなわち、最初に、複数枚の基板Wを一括して保持した一対のチャック41、42を、図1に示す処理槽1の上方の位置に配置する。続いて、図示しない昇降駆動機構の駆動により、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置から上昇させた後、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された複数の基板支持溝31、32、33に各基板Wの端部が挿入された状態で停止させる。
【0025】
そして、一対のチャック41、42を解放位置に移動させることにより、複数枚の基板Wを一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23に移載する。3個の基板支持アーム21、22、23に移載された複数枚の基板Wは、3個の基板支持溝31、32、33の作用により起立状態で支持される。
【0026】
次に、図示しない昇降駆動機構の駆動により、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置まで下降させる。これにより、3個の基板支持アーム21、22、23に支持された複数枚の基板Wは処理槽1に貯留された処理液中に浸漬され、その処理がなされる。
【0027】
基板Wの処理が終了すれば、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置から再度上昇させる。そして、この状態において、一対のチャック41、42を、解放位置から基板Wを保持するための保持位置に復帰させる。しかる後、3個の基板支持アーム21、22、23を下降させることにより、複数枚の基板Wを3個の基板支持アーム21、22、23から一対のチャック41、42に移載する。一対のチャック41、42は、処理の終了した複数枚の基板Wを次行程に向けて搬送する。
【0028】
このような基板処理装置においては、前述したように、複数枚の基板Wを一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23に移載する際に、各々の基板Wに関して、一対のチャック41、42の上面に形成された2個の保持溝45と、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された3個の基板支持溝31、32、33とが互いに高精度の位置決めがされない場合においては、基板Wの端部と基板支持溝31、32、33の側壁とが干渉することにより、基板Wの端部に損傷が生じたり、基板Wに歪みを生じたりして、基板Wにダメージを与えるという問題を生ずる。
【0029】
このため、この基板処理装置においては、上述したモータ25の駆動により、3個の基板支持アーム21、22、23を、軸26を中心に微小角度だけ揺動させることにより、基板Wに対するダメージの発生を防止している。
【0030】
以下、一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作について説明する。図4は、一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作を示す説明図である。なお、この図においては、説明の便宜上、3個の基板支持アーム21、22、23の揺動角度を誇張して図示している。
【0031】
複数枚の基板Wを一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23に移載する場合には、図4(a)に示すように、モータ25の駆動により、3個の基板支持アーム21、22、23を連結板24と共に、図2に示す軸26を中心として微小角度だけ揺動させて傾斜した状態としておく。
【0032】
そして、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置から上昇させる。この場合には、3個の支持アームの傾斜により、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部が挿入される。この状態において、3個の基板支持アーム21、22、23の上昇を停止させる。
【0033】
次に、一対のチャック41、42を、解放位置に向けて支軸43、44を中心に回動させる。これにより、複数枚の基板Wが一対のチャック41、42の基板保持溝45に保持された状態から、3個の基板支持溝31、32、33に支持される状態へと順次移行する。
【0034】
このとき、基板Wは、最初に基板支持溝32に支持された後、この基板支持溝32に案内された状態で他の基板支持溝31および33に順次支持される。すなわち、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32は、基板Wの位置合わせのためのガイドの役割を果たすことになる。
【0035】
このため、一対のチャック41、42の上面に形成された2個の保持溝45と、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された3個の基板支持溝31、32、33とが互いに高精度の位置決めがされない場合においても、基板Wの端部と基板支持溝31、32、33の側壁とが干渉することにより、基板Wの端部に損傷が生じたり、基板Wに歪みを生じたりして、基板Wにダメージを与えるという問題が発生することを有効に防止することが可能となる。
【0036】
一対のチャック41、42が解放位置まで回動すれば、複数枚の基板Wは、一対のチャック41、42から支持アーム21、22、23に完全に移載される。この状態において、モータ25の駆動により、3個の基板支持アーム21、22、23を連結板24と共に微小角度だけ揺動させて、図4(b)に示すように、再度水平状態とする。
【0037】
しかる後、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置まで下降させることにより、3個の基板支持アーム21、22、23に支持された複数枚の基板Wを処理槽1に貯留された処理液中に浸漬する。
【0038】
次に、この発明に係る基板受渡装置の他の実施形態について説明する。図5はこの発明の第2実施形態に係る基板受渡装置の要部を示す正面図であり、図6は一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作を示す説明図である。なお、この図においては、説明の便宜上、後述する基板支持アーム22の昇降距離を誇張して図示している。
【0039】
図1〜図4に示す基板受渡装置においては、3個の基板支持アーム21、22、23をモータ25の駆動で軸26を中心に揺動させることにより、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部を挿入した後、他の支持アーム21、23の上面に形成された基板支持溝31、33に順次基板Wの端部を挿入する構成となっている。
【0040】
これに対し、この第2実施形態に係る基板受渡装置においては、3個の基板支持アーム21、22、23のうちの外側に位置する基板支持アーム22を昇降させることにより、この基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部を挿入した後、他の支持アーム21、23の上面に形成された基板支持溝31、33に順次基板Wの端部を挿入する構成となっている。
【0041】
すなわち、この第2実施形態に係る基板受渡装置においては、3個の基板支持アーム21、22、23のうちの外側に位置する基板支持アーム22は、上述した筐体27内に配設されたエアシリンダ34と連結されており、このエアシリンダ34の駆動により、図5(a)に示す下降位置と図5(b)に示す上昇位置との間を昇降可能に構成されている。また、この実施形態に係る基板受渡装置においては、連結板24は筐体27に固定されており、上述したモータ25は配設されていない。
【0042】
この第2実施形態に係る基板受渡装置において、複数枚の基板Wを一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23に移載する場合には、図6(a)に示すように、エアシリンダ34の駆動により、3個の基板支持アーム21、22、23のうちの外側に位置する基板支持アーム22を上昇位置に配置しておく。
【0043】
そして、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置から上昇させる。この場合には、基板支持アーム22が他の基板支持アーム21、23に対して相対的に上昇していることから、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部が挿入される。この状態において、3個の基板支持アーム21、22、23の上昇を一旦停止させる。
【0044】
次に、エアシリンダ34の駆動により基板支持アーム22を下降させると共に、この下降速度と同一の速度で3個の基板支持アーム21、22、23を連結する連結板24を上昇させる。また、これと並行して、一対のチャック41、42を、解放位置に向けて支軸43、44を中心に回動させる。これにより、複数枚の基板Wが一対のチャック41、42の基板保持溝45に保持された状態から、3個の基板支持溝31、32、33に支持される状態へと順次移行する。
【0045】
このとき、基板Wは、上述した第1実施形態の場合と同様、最初に基板支持溝32に支持された後、この基板支持溝32に案内された状態で他の基板支持溝31および33に順次支持される。すなわち、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32は、基板Wの位置合わせのためのガイドの役割を果たすことになる。
【0046】
このため、一対のチャック41、42の上面に形成された2個の保持溝45と、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された3個の基板支持溝31、32、33とが互いに高精度の位置決めがされない場合においても、基板Wの端部と基板支持溝31、32、33の側壁とが干渉することにより、基板Wの端部に損傷が生じたり、基板Wに歪みを生じたりして、基板Wにダメージを与えるという問題が発生することを有効に防止することが可能となる。
【0047】
一対のチャック41、42が解放位置まで回動すれば、複数枚の基板Wは、一対のチャック41、42から支持アーム21、22、23に完全に移載される。この状態においては、図6(b)に示すように、基板支持アーム22は下降位置に復帰している。
【0048】
しかる後、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置まで下降させることにより、3個の基板支持アーム21、22、23に支持された複数枚の基板Wを処理槽1に貯留された処理液中に浸漬する。
【0049】
なお、この第2実施形態においては、基板支持アーム22の下降位置への移動と一対のチャック41、42の解放位置への移動とを並行して実行しているが、一対のチャック41、42の解放位置への移動が完了した後に、基板支持アーム22を下降位置へ移動させるようにしてもよい。
【0050】
次に、この発明に係る基板受渡装置のさらに他の実施形態について説明する。図7は一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作を示す説明図である。なお、この図においては、説明の便宜上、後述する偏位量を誇張して図示している。
【0051】
上述した第1、第2実施形態に係る基板受渡装置においては、基板支持アーム21、22、23(または基板支持アーム22)の移動により、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部を挿入した後、他の支持アーム21、23の上面に形成された基板支持溝31、33に順次基板Wの端部を挿入する構成となっている。
【0052】
これに対し、この第3実施形態に係る基板受渡装置においては、3個の基板支持アーム21、22、23による基板Wの支持位置を一対のチャック41、42による基板Wの保持位置から偏位させることにより、基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部を挿入した後、他の支持アーム21、23の上面に形成された基板支持溝31、33に順次基板Wの端部を挿入する構成となっている。
【0053】
すなわち、この第3実施形態に係る基板受渡装置においては、図7に示すように、一対のチャック41、42に支持された基板Wの中心と、3個の基板支持アーム21、22、23のうちの中央部に位置する基板支持アームとの位置が、図7における左右方向に互いに偏位している。別の観点から見れば、一対のチャック41、42に支持されるべき基板Wの中心と、3個の基板支持アーム21、22、23により支持されるべき基板Wの中心とが、図7に示す左右方向(基板Wの主面と平行な方向)にずれていることになる。
【0054】
なお、この実施形態に係る基板受渡装置においては、連結板24は筐体27に固定されており、上述したモータ25は配設されていない。また、基板支持アーム22は連結板24に固定されており、上述したエアシリンダ34は配設されていない。
【0055】
この第3実施形態に係る基板受渡装置において、複数枚の基板Wを一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23に移載する場合には、図7(a)に示すように、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置から上昇させる。
【0056】
この場合には、一対のチャック41、42に支持された基板Wの中心が、3個の基板支持アーム21、22、23により支持されるべき基板Wの中心より、図7における左側にずれていることから、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32に最初に各基板Wの端部が挿入される。この状態において、3個の基板支持アーム21、22、23の上昇を一旦停止させる。
【0057】
次に、一対のチャック41、42を、解放位置に向けて支軸43、44を中心に回動させる。これにより、基板Wは図7における右側方向に回転しながら移動し、複数枚の基板Wが一対のチャック41、42の基板保持溝45に保持された状態から、3個の基板支持溝31、32、33に支持される状態へと順次移行する。
【0058】
このとき、基板Wは、上述した第1、第2実施形態の場合と同様、最初に基板支持溝32に支持された後、この基板支持溝32に案内された状態で他の基板支持溝31および33に順次支持される。すなわち、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された基板支持溝31、32、33のうちの外側の基板支持アーム22の上面に形成された基板支持溝32は、基板Wの位置合わせのためのガイドの役割を果たすことになる。
【0059】
このため、一対のチャック41、42の上面に形成された2個の保持溝45と、3個の基板支持アーム21、22、23の上面に形成された3個の基板支持溝31、32、33とが互いに高精度の位置決めがされない場合においても、基板Wの端部と基板支持溝31、32、33の側壁とが干渉することにより、基板Wの端部に損傷が生じたり、基板Wに歪みを生じたりして、基板Wにダメージを与えるという問題が発生することを有効に防止することが可能となる。
【0060】
一対のチャック41、42が解放位置まで回動すれば、図7(b)に示すように、複数枚の基板Wは、一対のチャック41、42から支持アーム21、22、23に完全に移載される。
【0061】
しかる後、3個の基板支持アーム21、22、23を図1に示す位置まで下降させることにより、3個の基板支持アーム21、22、23に支持された複数枚の基板Wを処理槽1に貯留された処理液中に浸漬する。
【0062】
なお、図7においては、一対のチャック41、42に支持されるべき基板Wの中心と、3個の基板支持アーム21、22、23により支持されるべき基板Wの中心との偏位量を誇張して図示しているが、この偏位量は数ミリメートル程度で十分である。このため、基板Wの処理が終了した後、基板Wを3個の基板支持アーム21、22、23から一対のチャック41、42に移載する際に、基板Wの偏位が問題となることはない。
【0063】
但し、基板Wを3個の基板支持アーム21、22、23から一対のチャック41、42に移載する際には、チャック部4を、偏位量に相当する量だけ図3に示す矢印方向に移動させることにより、一対のチャック41、42に支持されるべき基板Wの中心と3個の基板支持アーム21、22、23により支持されるべき基板Wの中心とを一致させるようにしてもよい。
【0064】
上述した第1、第2、第3実施形態においては、いずれも、一対のチャック41、42が固定され、3個の基板支持アーム21、22、23が昇降する構成としているが、これに換えて、3個の基板支持アーム21、22、23を固定し、一対のチャック41、42を昇降させるようにしてもよい。
【0065】
また、上述した第1、第2、第3実施形態においては、いずれも、基板Wの外周に沿って配置された3個の基板支持アーム21、22、23により基板Wを支持しているが、2本または4本以上の支持アームにより基板Wを支持するようにしてもよい。
【0066】
また、第2実施形態に係る基板受渡装置においては、複数の基板支持アームのうち、最初に基板Wの端部を挿入する基板保持溝を有する基板支持アームを上昇動作させることによって当該基板支持アームの基板保持溝に基板Wの端部を挿入する構成としている。しかし、本実施形態としてはこれに限定されるものではなく、例えば、一対のチャック41、42から基板支持アームに対して基板Wを受け渡す際に、最初に基板Wの端部を挿入する基板保持溝を有する当該基板支持アームに対して、他の基板支持アームを相対的に下降動作させることにより、上述の基板Wの端部を最初に挿入する基板保持溝に基板Wの端部を最初に挿入する構成としてもよい。
【0067】
さらに、上述した第1、第2、第3実施形態においては、いずれも、この発明に係る基板受渡装置を、基板Wを処理液中に浸漬して処理する浸漬型の基板処理装置に適用した場合について説明したが、この基板受渡装置をその他の基板処理装置に適用することも可能である。
【0068】
【発明の効果】
請求項1〜請求項6に記載の発明によれば、基板保持手段に保持された基板が、複数の基板支持部のうちのいずれかの基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合した後、他の基板支持部に形成された基板支持溝に係合するようにしていることから、基板保持手段と基板支持手段とをさほど高精度に位置決めしない場合においても、基板の受け渡し時に基板の端部と基板支持溝の側壁とで干渉が生じて基板にダメージを与えるという現象の発生を防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る基板受渡装置を適用した浸漬型の基板処理装置の側面概要図である。
【図2】基板処理装置における基板昇降ユニット2の要部を示す斜視図である。
【図3】基板処理装置におけるチャック部4の要部を示す斜視図である。
【図4】一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作を示す説明図である。
【図5】この発明の第2実施形態に係る基板受渡装置の要部を示す正面図である。
【図6】一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作を示す説明図である。
【図7】一対のチャック41、42から3個の基板支持アーム21、22、23への基板Wの移載動作を示す説明図である。
【符号の説明】
1 処理槽
2 基板昇降ユニット
4 チャック部
21、22、23 基板支持アーム
24 連結板
25 モータ
26 軸
28 連結部材
29 支持柱
31、32、33 基板支持溝
34 エアシリンダ
41、42 チャック
43、44 支軸
45 基板保持溝[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate delivery apparatus for delivering a substrate such as a semiconductor wafer between a substrate holding unit that holds and conveys the substrate and a substrate support unit that supports the substrate in an upright state.
[0002]
[Prior art]
As such a substrate delivery device, a plurality of substrates are held by a pair of substrate holding means such as a pair of chucks in which a plurality of holding grooves for holding the substrate are formed, and the substrate holding means is moved up and down. A configuration in which a plurality of substrates held therein are transferred to and from a substrate support means having, for example, three substrate support arms formed with a plurality of substrate support grooves for supporting each substrate in an upright state. What you have is known.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
In such a substrate delivery device, at the time of substrate delivery, the end portions of each substrate held by the pair of chucks are simultaneously inserted into the three substrate support grooves formed on the three substrate support arms, respectively. Is done. For this reason, at the time of delivery of the substrate, the five grooves of the two holding grooves respectively formed on the pair of chucks and the three substrate supporting grooves formed on the three substrate supporting arms are mutually connected. It is necessary to be positioned with high accuracy.
[0004]
That is, when the substrates are transferred, the positions of the five grooves, that is, the two holding grooves respectively formed on the pair of chucks and the three substrate supporting grooves respectively formed on the three substrate supporting arms, are highly accurate. In the case where the substrate is not positioned, the end of the substrate and the side wall of the substrate support groove interfere with each other, so that the end of the substrate is damaged or the substrate is distorted to damage the substrate. This causes the problem.
[0005]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and even when the substrate holding means and the substrate support means are not positioned with high accuracy, the substrate delivery that does not damage the substrate when the substrate is delivered. An object is to provide an apparatus.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
According to the first aspect of the present invention, there is provided a substrate holding means for holding and transporting a substrate, a substrate supporting means having a plurality of substrate supporting portions formed with substrate supporting grooves for supporting the substrate in an upright state, and Substrate holding means When Said substrate support means And In a substrate delivery apparatus comprising a lifting / lowering means for delivering a substrate between the substrate holding means and the substrate support means by being lifted / lowered relatively, the substrate held by the substrate holding means has the plurality of First engagement with substrate support groove formed in one of the substrate support portions Let After that, engaged with the substrate support groove formed in the other substrate support part Make It is characterized by that.
[0007]
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the substrate held by the substrate holding means by moving at least one of the plurality of substrate support portions. The , First engaging with a substrate support groove formed in any of the plurality of substrate support portions Let After that, engaged with the substrate support groove formed in the other substrate support part Let me Yes.
[0008]
According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the substrate is provided with three substrate support portions arranged along the outer periphery of the substrate. Each Been formed total It is supported in an upright state by three substrate support grooves.
[0009]
The invention according to
[0010]
The invention according to claim 5 is the invention according to claim 3, wherein any one of the three substrate support portions other than the central portion is configured to be movable up and down. Substrate held by substrate holding means The The first engagement with the substrate support groove formed in any one of the three substrate support portions other than the central portion of the three substrate support portions Let After that, it engages with the substrate support groove formed in the other two substrate support parts. Let me Yes.
[0011]
According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate delivery apparatus according to the third aspect, the substrate holding means is deviated from the substrate holding position by the substrate holding means by shifting the substrate supporting position by the substrate supporting means. Held on the board The The first engagement with the substrate support groove formed in any one of the three substrate support portions other than the central portion of the three substrate support portions Let After that, it engages with the substrate support groove formed in the other two substrate support parts. Let me Yes.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic side view of an immersion type substrate processing apparatus to which a substrate delivery apparatus according to the present invention is applied. FIG. 2 is a perspective view showing the main part of the
[0013]
This substrate processing apparatus is for processing a substrate W made of a substantially circular semiconductor wafer by immersing it in a processing liquid. The processing tank 1 for storing the processing liquid and the processing liquid in the processing tank 1 are used. A substrate lifting / lowering
[0014]
As shown in FIG. 1, the processing tank 1 includes a processing tank main body 11 for storing a processing liquid, a pair of processing
[0015]
In the processing tank 1, the processing liquid ejected from the
[0016]
As shown in FIG. 2, the
[0017]
A plurality of
[0018]
One
[0019]
The
[0020]
The
[0021]
A plurality of
[0022]
The
[0023]
In the substrate processing apparatus having the above-described configuration, the substrate processing operation for processing these substrates W by immersing a plurality of substrates W in the processing solution at once is executed as follows.
[0024]
That is, first, a pair of
[0025]
Then, the plurality of substrates W are transferred from the pair of
[0026]
Next, the three
[0027]
When the processing of the substrate W is completed, the three
[0028]
In such a substrate processing apparatus, as described above, when a plurality of substrates W are transferred from the pair of
[0029]
Therefore, in this substrate processing apparatus, the three
[0030]
Hereinafter, the operation of transferring the substrate W from the pair of
[0031]
When a plurality of substrates W are transferred from the pair of
[0032]
Then, the three
[0033]
Next, the pair of
[0034]
At this time, after the substrate W is first supported by the
[0035]
For this reason, two holding
[0036]
When the pair of
[0037]
Thereafter, the three
[0038]
Next, another embodiment of the substrate delivery apparatus according to the present invention will be described. FIG. 5 is a front view showing the main part of the substrate delivery apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 6 shows the substrate W from the pair of
[0039]
In the substrate delivery apparatus shown in FIGS. 1 to 4, the three
[0040]
On the other hand, in the substrate delivery apparatus according to the second embodiment, the
[0041]
That is, in the substrate delivery device according to the second embodiment, the
[0042]
In the substrate delivery apparatus according to the second embodiment, when transferring a plurality of substrates W from the pair of
[0043]
Then, the three
[0044]
Next, the
[0045]
At this time, as in the case of the first embodiment described above, the substrate W is first supported by the
[0046]
For this reason, two holding
[0047]
When the pair of
[0048]
Thereafter, the three
[0049]
In the second embodiment, the movement of the
[0050]
Next, still another embodiment of the substrate delivery apparatus according to the present invention will be described. FIG. 7 is an explanatory view showing the transfer operation of the substrate W from the pair of
[0051]
In the substrate delivery apparatus according to the first and second embodiments described above, the
[0052]
On the other hand, in the substrate delivery apparatus according to the third embodiment, the support position of the substrate W by the three
[0053]
That is, in the substrate delivery apparatus according to the third embodiment, as shown in FIG. 7, the center of the substrate W supported by the pair of
[0054]
In the board delivery device according to this embodiment, the connecting
[0055]
In the substrate delivery apparatus according to the third embodiment, when transferring a plurality of substrates W from the pair of
[0056]
In this case, the center of the substrate W supported by the pair of
[0057]
Next, the pair of
[0058]
At this time, as in the case of the first and second embodiments described above, the substrate W is first supported by the
[0059]
For this reason, two holding
[0060]
When the pair of
[0061]
Thereafter, the three
[0062]
In FIG. 7, the amount of deviation between the center of the substrate W to be supported by the pair of
[0063]
However, when the substrate W is transferred from the three
[0064]
In the first, second, and third embodiments described above, the pair of
[0065]
In each of the first, second, and third embodiments described above, the substrate W is supported by the three
[0066]
Further, in the substrate delivery apparatus according to the second embodiment, the substrate support arm is moved up by moving the substrate support arm having the substrate holding groove into which the end of the substrate W is first inserted among the plurality of substrate support arms. The end portion of the substrate W is inserted into the substrate holding groove. However, the present embodiment is not limited to this. For example, when the substrate W is transferred from the pair of
[0067]
Furthermore, in the first, second, and third embodiments described above, the substrate delivery apparatus according to the present invention is applied to an immersion type substrate processing apparatus that performs processing by immersing the substrate W in a processing solution. Although the case has been described, it is also possible to apply this substrate delivery apparatus to other substrate processing apparatuses.
[0068]
【The invention's effect】
According to the first to sixth aspects of the present invention, the substrate held by the substrate holding means is first engaged with the substrate support groove formed in any one of the plurality of substrate support portions. After the alignment, since the substrate support groove is formed in another substrate support portion, even when the substrate holding means and the substrate support means are not positioned with high accuracy, It is possible to prevent occurrence of a phenomenon in which interference occurs between the end portion of the substrate and the side wall of the substrate support groove to damage the substrate.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic side view of an immersion type substrate processing apparatus to which a substrate delivery apparatus according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a perspective view showing a main part of a
FIG. 3 is a perspective view showing a main part of a
4 is an explanatory view showing an operation of transferring a substrate W from a pair of
FIG. 5 is a front view showing a main part of a substrate delivery device according to a second embodiment of the present invention.
6 is an explanatory view showing an operation of transferring a substrate W from a pair of
7 is an explanatory view showing an operation of transferring a substrate W from a pair of
[Explanation of symbols]
1 treatment tank
2 Substrate lifting unit
4 Chuck part
21, 22, 23 Substrate support arm
24 connecting plate
25 motor
26 axes
28 Connecting members
29 Support pillar
31, 32, 33 Substrate support groove
34 Air cylinder
41, 42 Chuck
43, 44
45 Substrate holding groove
Claims (6)
前記基板保持手段に保持された基板が、前記複数の基板支持部のうちのいずれかの基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させることを特徴とする基板受渡装置。A substrate holding means for holding and transporting the substrate; a substrate supporting means having a plurality of substrate supporting portions formed with substrate supporting grooves for supporting the substrate in an upright state; the substrate holding means and the substrate supporting means ; In a substrate delivery apparatus comprising a raising and lowering means for delivering a substrate between the substrate holding means and the substrate support means by relatively raising and lowering
Substrate held by the substrate holding means, after initially engaging the substrate support groove formed in one of the substrate support of the plurality of substrate supporting portion, it is formed on the other substrate support substrate transfer apparatus characterized by causing engagement to the substrate support grooves.
前記複数の基板支持部のうちの少なくとも一つの基板支持部が移動することにより、前記基板保持手段に保持された基板を、前記複数の基板支持部のうちのいずれかに形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させる基板受渡装置。In the board | substrate delivery apparatus of Claim 1,
By at least one of the substrate support portion of the plurality of substrate support portion moves, the substrate held by the substrate holding unit, the substrate support groove formed in one of said plurality of substrate support first after engagement, the substrate transfer device causes engage the substrate support groove formed on the other substrate support portion.
基板は、当該基板の外周に沿って配置される3個の基板支持部に各々形成された合計3個の基板支持溝により起立状態で支持されている基板受渡装置。In the board | substrate delivery apparatus of Claim 1,
The substrate delivery apparatus, wherein the substrate is supported in an upright state by a total of three substrate support grooves respectively formed on three substrate support portions arranged along the outer periphery of the substrate.
前記基板支持手段は、前記3個の基板支持部の端部を連結する連結板と、前記連結板を水平方向を向く軸を中心に一体的に揺動させることにより、前記3個の基板支持部を揺動させるモータとを備え、
前記モータの駆動により、前記基板保持手段に保持された基板を、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の2個の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させる基板受渡装置。In the board | substrate delivery apparatus of Claim 3,
The substrate support means is configured to integrally support the three substrate supports by swinging a connecting plate that connects the end portions of the three substrate supporting portions and an axis that faces the horizontal direction. A motor for swinging the part,
Engagement by the drive of the motor, the substrate held by the substrate holding unit, the first substrate supporting groove formed in one of the substrate support any other than the central portion of the three substrate support after, the other two substrates supporting substrate transfer device causes engage the substrate support groove formed in part.
前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部が昇降可能に構成されることにより、前記基板保持手段に保持された基板を、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の2個の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させる基板受渡装置。In the board | substrate delivery apparatus of Claim 3,
Of the three substrate support portions, any one of the substrate support portions other than the central portion is configured to be movable up and down, so that the substrate held by the substrate holding means can be moved to the three substrate support portions. after out that initially is engaged with the substrate support groove formed in one of the substrate support any other than the central portion, the substrate transfer causes engage the substrate support groove formed in the other of the two substrate support apparatus.
前記基板支持手段による基板の支持位置を前記基板保持手段による基板の保持位置から偏位させることにより、前記基板保持手段に保持された基板を、前記3個の基板支持部のうち中央部以外のいずれか1個の基板支持部に形成された基板支持溝に最初に係合させた後、他の2個の基板支持部に形成された基板支持溝に係合させる基板受渡装置。In the board | substrate delivery apparatus of Claim 3,
By deviating the support position of the substrate by the substrate support means from the holding position of the substrate by the substrate holding unit, the substrate held by the substrate holding means, other than the central portion of the three substrate support after initially engaged to any one of the substrate support the substrate support groove formed in the other two substrates supporting substrate transfer device causes engage the substrate support groove formed in part.
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